JP2021505561A - ホスホネート及びアニオン性基含有ポリマーを含む口腔ケア組成物 - Google Patents

Abstract

二価カチオンの目標利用を有し、二価カチオンを有する表面を有する、ホスホネート及びスルホネート基を含有するポリマー組成物の口腔ケア組成物を開示する。これらの化合物を使用して、カチオン形質を、カルシウムヒドロキシアパタイトなどの表面に送達することができる。

Description

本発明は、ホスホネート及びアニオン性基含有ポリマーを含む口腔ケア組成物に関する。

溶液中での多価カチオン、及び多価カチオンを含有する表面と相互作用する化学構造は、これらの系での操作に有用である。例えば、ポリホスフェート及びピロホスフェートは、口腔ケア業界で用いられており、非晶質カルシウム表面、及びカルシウムヒドロキシアパタイトを標的にすることにより、歯石を制御し、歯のペリクル層の厚みを低減するのに役立ち、結果として、滑らかな歯の感触をもたらす。同様に、ビスホスホネート、及びヒドロキシビスホスホネートは、カルシウムヒドロキシアパタイト表面との強力な相互作用のため、骨粗鬆症薬剤での活性成分であり、食器洗浄液体及びボイラーシステムにおける結晶成長抑制剤としても使用されている。これらの例はそれぞれ、固有の制限をきたす。ポリホスフェートは、あらゆるｐＨの水溶液にて、経時的に分解を受けやすく、最終的に、溶液中でのオルトホスフェートの増加をもたらす。しかしポリホスフェートは概ね、摂取しても安全であり、様々な食品での用途が見出されている。逆に、ビスホスホネート及びヒドロキシビスホスホネートは、長時間水中で安定し、ビスホスホネート炭素に結合した有機基の性質に応じて、有機系に非常に溶解性のものになり得る。しかし、ビスホスホネートは骨表面に対して活性であり、それ故に、その強力な薬効に起因して、これらが偶然摂取される可能性のある食品又は他の系で使用することができない。腸壁を通過しない十分な分子量のビスホスホネートを含有するポリマーであれば、骨活性のものではないと考えられるが、あらゆる低分子量の残留モノマー又はオリゴマーは、腸壁を通過する可能性があるため、潜在的に摂取され得る状況において、このようなポリマーの使用は禁止される。更に、ビスホスホネートは速やかに分解しないため、使用後の状態でこれらの活性は持続する可能性がある。

したがって、水に安定性でもあり、かつ人の摂取にも安全であり、かつその表面に効果、例えば汚れ防止を付与することができる、多価カチオン含有表面、例えば口腔ケア用途におけるカルシウムヒドロキシアパタイトを効果的に標的とすることができる材料が依然として必要とされている。

驚くべきことに、口腔ケア用途で使用するために、ポリマーのホスホネート化学基が、特に、ポリマーがホスホネートに加えて、スルホネートなどのアニオン性基もまた含有する場合に、ポリホスフェート（水安定性ではない）及びビスホスホネート（骨粗鬆症活性）の懸念を改善することが見出されている。ホスホネート基は、カルシウムヒドロキシアパタイトなどのカルシウム表面と弱い相互作用もまた有するが、ビスホスホネートほど強くはない。ビスホスホネートは骨活性であり、溶液が摂取され得る場合においては口腔ケア用途で用いることができないため、このことは有利である。ポリマー内での、アニオン性基を加えたこの組み合わせにより、口腔ケア系への配合が可能となり、摂取の非有害作用及び水の安定性が絶対事項である場合における、汚れ予防などの効果を付与することができる。

特定の実施形態において、本発明は、ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物に関し、上記ホスホネート基は、式１：

［式中、
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
Ｒ_１は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
Ｒ_２は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される］
の構造を有し、
上記アニオン性基はポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつスルホネートである。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、ホスホネート基を含む。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、アニオン性基を含む。別の実施形態では、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、上記ホスホネート基を含む。別の実施形態では、ホスホネート基は、重合後修飾の間に添加される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２：

［式中、
βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
Ｒ_３は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
Ｌ_１は、化学結合、アレーンジイル及び式３：

〈式中、
αは、式２のアルケニル基への結合部位であり、
βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
Ｘは、式４〜１０：

（式中、
Ｒ_４は、−Ｈ、アルキル_{（Ｃ１〜８）}及びホスホノアルキルからなる群から選択される）の構造からなる群から選択され、
Ｙは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される］
の構造を有する。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含み、かつ上記少なくとも１つのモノマーが式２の構造を有する場合、Ｌ_１は共有結合である。

特定の実施形態において、Ｒ_１は−Ｈ、Ｎａ又はＫカチオンを有する金属塩からなる群から選択され、Ｒ_２は−Ｈ、Ｎａ又はＫカチオンを有する金属塩からなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、式１１：

［式中、
Ｒ_５は、Ｈ又はＣＨ_３からなる群から選択され、Ｌ_２はアニオン性基への連結基である］の構造のアルケニル基を更に含む。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、式１２：

［式中、
Ｒ_６は、Ｈ及びアルキルからなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｌ_３は、化学結合、アレーンジイル及び式１３：

〈式中、
γは、アルケニル基への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｗは、式１４〜２０：

（式中、
Ｒ_７は、−Ｈ及びアルキル_{（Ｃ１〜８）}からなる群から選択される）の構造から選択され、
Ｖは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択される］
の構造のアルケニル基を更に含む。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、かつ、少なくとも１つのモノマーが式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は共有結合である。特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、かつ、上記少なくとも１つのモノマーが式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｗは式１４、式１７、及び式１９からなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、ビニルホスホネート及びメチルビニルホスホネートからなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、ビニルスルホネート、メチルビニルスルホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンスルホネート、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホネート（ＡＭＰＳ）及び２−スルホプロピルアクリレート（ＳＰＡ）からなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートである。特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートである。特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートである。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９９．９：０．１〜０．１：９９．９である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９９：１〜１：９９である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９０：１０〜１０：９０である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比率はそれぞれ、７０：３０〜３０：７０である。

前述の概要は、本発明の態様の全てを定めることを意図するものではなく、更なる態様が、発明を実施するための形態などの他のセクションで記載される。更に、本発明は、本明細書で説明する特定の段落で定めた変更形態から、いずれかの方法で範囲を限定した本発明の全ての実施形態を、更なる態様として含む。例えば、ある属について記載された本発明の特定の態様は、属の全ての成員が、独立して本発明の態様となるものと理解されるべきである。また、ある属について記載されるか、又はある属の成員を選択する態様は、その属の２種類以上の成員の組み合わせをも包含するものと理解されるべきである。

本発明のこれら及び他の特徴、態様、及び利点は、本開示を読むことにより当業者に明らかとなるであろう。

ポリマー性能を示すチャートである。 ポリマー性能を示すチャートである。

本明細書は、本発明を具体的に指摘しかつ明確に請求する「特許請求の範囲」を結論とするが、以下の記述により、本発明がより深く理解されると考えられる。

本明細書における全ての百分率は、特に指示しない限り、組成物のモルによる。

特に指示しない限り、全ての比はモル比である。

本明細書で言及される成分の全ての百分率、比、及び濃度は、特に指示がない限り、モルによる成分の実際の量に基づき、市販製品として上記の成分と組み合わせられ得る溶媒、充填剤又は他の材料を含まない。

本明細書で使用するとき、「含む」とは、最終結果に影響を及ぼさない他の工程及び他の成分を加えることができることを意味する。この用語は、「からなる」及び「から本質的になる」という用語を包含する。

引用する参照文献は全て、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。いかなる参照文献の引用も、特許請求される本発明に対する先行技術としての利用可能性の決定に関する容認ではない。

定義
用語「部位」又は「結合部位」又は「結合点」とは全て、単純なダッシュ（−）、又はギリシャアルファベットの小文字と、それに続くダッシュ又は線（例えばα−、β−など）の記号で表され、そのように示された原子が、化学結合を通して、個別の化学基内の別の原子に接続することを表す、化学基内に自由原子価、又は画定された構造エンティティを有する原子を意味する。

は、結合をまたいで垂直に描かれている場合

もまた、化学基の結合点を表す。結合点は典型的には、この方法では、その結合が延びる原子への結合点を読者が識別するのを明確に補助するために、より大きな化学基に関してのみ識別されることに注意されたい。第１の化学基又は画定された構造エンティティでの結合部位又は点は、接続した原子の通常の価数を満たすために、単共有結合、二重共有結合、又は三重共有結合のいずれかを介して、第２の化学基又は画定された構造エンティティでの結合部位又は点に接続する。

化学基と共に用いられる用語「ラジカル」とは、より大きな分子の一部である、メチル基、カルボキシル基、又は、ホスホネート基などの原子の、接続された任意の基を示す。

化学基に関連して用いる場合、「水素」とは−Ｈを意味し、「ヒドロキシ」とは、−ＯＨを意味し、「オキソ」とは＝Ｏを意味し、「カルボニル」とは−Ｃ（＝Ｏ）−を意味し、「カルボキシ」及び「カルボキシレート」とは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ（−ＣＯＯＨ若しくは−ＣＯ２Ｈとも記載される）、又はこれらの脱プロトン化形態を意味し、「アミノ」とは−ＮＨ_２を意味し、「ヒドロキシアミノ」とは−ＮＨＯＨを意味し、「ニトロ」とは−ＮＯ_２を意味し、「イミノ」とは＝ＮＨを意味し、「アミンオキシド」とはＮ^＋Ｏ⁻（Ｎは、Ｏ以外の原子への、３つの共有結合を有する）を意味し、「ヒドロキサム」又は「ヒドロキサメート」とは、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＯＨ又はその脱プロトン化形態を意味し、一価に関連して、「ホスフェート」とは、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２又はその脱プロトン化形態を意味し、二価に関連して、「ホスフェート」とは、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）Ｏ−又は脱プロトン化形態を意味し、「ホスホネート」とは、Ｃ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２又はその脱プロトン化形態（式中、Ｃは、Ｐ以外の原子への、通常の価数の４つ及び３つの共有結合有する）を意味し、「ホスホネート」とは、ホスホノモノホスフェートＣ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、ホスホノジホスフェートＣ−Ｐ（Ｏ）（ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、ホスホノシクロジホスフェート

ホスホノピロホスフェートＣ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、及び、ホスホノポリホスフェートＣ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ））_ｎＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２［式中、ｎは１〜１００の整数である］、又はこれらの脱プロトン化形態（Ｃは、Ｐ以外の原子への、通常の価数の４つ及び３つの共有結合を有する）が挙げられるがこれらに限定されない、共有された酸素原子を介して、少なくとも１つのホスフェートに化学結合した、ホスホネートを意味し、「ホスフィネート」とは、Ｃ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）（Ｃ）又はその脱プロトン化形態（両方のＣは、Ｐ以外の原子への、通常の価数の４つ及び３つの更なる結合を有する）を意味し、「サルフェート」とは、−ＯＳ（Ｏ）_２ＯＨ又はその脱プロトン化形態を意味し、「スルホネート」とは、ＣＳ（Ｏ）_２ＯＨ又はその脱プロトン化形態（Ｃは、Ｓ以外の原子への、通常の価数の４つ及び３つの追加の結合を有する）を意味し、「スルフィネート」とは、ＣＳ（Ｏ）ＯＨ又はその脱プロトン化形態（Ｃは、Ｓ以外の原子への、通常の価数の４つ及び３つの追加の結合を有する）を意味し、「メルカプト」とは−ＳＨを意味し、「チオ」とは＝Ｓを意味し、「スルホニル」とは−Ｓ（Ｏ）_２−を意味し、「スルフィニル」とは−Ｓ（Ｏ）−を意味する。

以下の化学基及びクラスに関して、以下の括弧付きの文字が更に、以下のとおりに化学基／クラスを定義する：「（Ｃｎ）」は、化学基／クラス内の炭素原子の正確な数（ｎ）を定義する。「（Ｃ≦ｎ）」は、化学基／クラス内で可能な、最大数（ｎ）の炭素原子を定義し、最小数は、問題の化学基において可能な限り小さいものである。例えば、化学基「アルケニル_{（Ｃ≦８）}」又は化学クラス「アルケン_{（Ｃ≦８）}」における炭素原子の最小数は２であると理解される。例えば、「アルコキシ_{（Ｃ≦８）}」とは、１〜８個の炭素原子を有するこれらのアルコキシ基を表す。（Ｃｎ−ｎ’）は、化学基における、炭素原子の最小（ｎ）及び最大数（ｎ’）の両方を定義する。同様に、アルキル_{（Ｃ２〜８）}は、２〜８個の炭素原子（これらを含む）を有するこれらのアルキル基を表す。

用語「カチオン」とは、単一及び複数の荷電種を含む、全体が正味の正電荷を有する原子、分子、又は化学基を意味する。カチオンは、個別の原子、例えば金属（非限定例としては、Ｎａ^＋若しくはＣａ^２＋が挙げられる）、個別の分子（非限定例としては、（ＣＨ_３）_４Ｎ^＋が挙げられる）、又は、化学基（非限定例としては、−Ｎ（ＣＨ_３）_３ ^＋が挙げられる）であることができる。用語「アミンカチオン」とは、形態がＮＲ_４ ^＋（４つの置換Ｒ部分は、Ｈ及びアルキルから独立して選択することができる）の、特定の分子カチオンを意味し、非限定例としては、ＮＨ_４ ^＋（アンモニウム）、ＣＨ_３ＮＨ_３ ^＋（メチルアンモニウム）、ＣＨ_３ＣＨ_２ＮＨ−_３ ^＋（エチルアンモニウム）、（ＣＨ_３）_２ＮＨ−_２ ^＋（ジメチルアンモニウム）、（ＣＨ_３）_３ＮＨ^＋（トリメチルアンモニウム）、及び、（ＣＨ_３）_４Ｎ^＋（テトラメチルアンモニウム）が挙げられる。

用語「アニオン」とは、単一及び複数の荷電種を含む、全体が正味の負電荷を有する原子、分子、又は化学基を意味する。アニオンは、個別の原子、例えば、これらに限定されないが、ハロゲン化物Ｆ⁻、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、個別の分子（非限定例としては、ＣＯ_３ ^−２、Ｈ_２ＰＯ_４ ⁻、ＨＰＯ_４ ^−２、ＰＯ_４ ^−３、ＨＳＯ_４ ⁻、ＳＯ_４ ^−２が挙げられる）、又は化学基（非限定例としてはサルフェート、ホスフェート、スルホネート、ホスホネート、ホスフィネート、スルホネート、メルカプト、カルボキシレート、アミンオキシド、ヒドロキサメート、及びヒドロキシルアミノが挙げられる）であることができる。前で定義された化学基の脱プロトン化形態は、プロトンを除去することで正味の負電荷になるのであれば、アニオン性基と考えられる。溶液中では、ヘンダーソン・ハッセルバルヒの式（ｐＨ＝ｐＫａ＋ｌｏｇ_１０（［Ａ⁻］／［ＨＡ］）；式中、［ＨＡ］は、非解離酸のモル濃度であり、［Ａ⁻］は、この酸の共役塩基のモル濃度である）に従い、化学基はプロトンを失い、ｐＨに応じてアニオン性となることができる。溶液のｐＨが、官能基のｐＫａ値に等しいとき、官能基の５０％がアニオン性である一方、残りの５０％はプロトンを有する。典型的には、溶液中の官能基は、ｐＨが官能基のｐＫａにあるか、又はそれ以上である場合、アニオン性であると考えられ得る。

用語「塩」又は「塩類」とは、１つ以上のアニオンとカチオンとの、電荷が中性となる組み合わせを意味する。例えば、Ｒがカルボキシレート基（−ＣＯＯＲ）に対する塩として示される場合、カルボキシレート（−ＣＯＯ−）は、負電荷−１を有するアニオンであり、Ｒが、電荷−１の１つのアニオンと電荷が中性のエンティティを形成する、＋１の正電荷を有するカチオンである、又は、Ｒは、両方が−１の電荷を有する２つのカチオンと、電荷が中性のエンティティを形成する、＋２の正電荷を有するカチオンであると理解されている。

本明細書で使用する場合、用語「飽和」とは、そのように修飾された化学化合物又は基が、以下で述べる場合を除き、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合を有しないことを意味する。飽和化学基の置換版の場合、１つ以上の炭素−酸素二重結合、又は炭素−窒素二重結合は存在してよい。このような結合が存在する場合、ケト−エノール互変異性、又はイミン／エナミン互変異性の一部として生じ得る炭素−炭素二重結合は除外されない。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「脂肪族」とは、そのように修飾された化学化合物／基が非環式又は環式であり、かつ、非芳香族炭化水素化学化合物又は基であることを意味する。脂肪族化合物／基において、炭素原子は直鎖、分枝鎖、又は非芳香環（脂環式）内で合わせて結合されることができる。脂肪族化合物／基は飽和している、即ち、単結合（アルカン／アルキル）により結合されていることができる、又は、１つ以上の二重結合（アルケン／アルケニル）、若しくは１つ以上の三重結合（アルキン／アルキニル）を有する不飽和であることができる。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキル」とは、結合点としての炭素原子を有し、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、かつ炭素及び水素以外の原子を有しない、一価の飽和脂肪族を意味する。したがって、本明細書で使用する場合、シクロアルキルとは、結合点を形成する炭素原子もまた、１つ以上の非芳香族環状構造となっている、アルキルの部分集合であり、このシクロアルキル基は、炭素及び水素以外の原子を含まずに構成される。本明細書で使用する場合、この用語は、環又は環系に結合した、１つ以上のアルキル基（炭素数の限定が可能である）の存在を除外しない。基−ＣＨ_３（Ｍｅ）、−ＣＨ_２ＣＨ_３（Ｅｔ）、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３（ｎ−Ｐｒ又はプロピル）、−ＣＨ（ＣＨ_３）_２（ｉ−Ｐｒ、‘Ｐｒ、又はイソプロピル）、−ＣＨ（ＣＨ_２）_２（シクロプロピル）、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３（ｎ−Ｂｕ）、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_３（ｓｅｃ−ブチル）、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）_２（イソブチル）、−Ｃ（ＣＨ_３）_３（ｔｅｒｔ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−Ｂｕ、又はｔＢｕ）、−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_３（ネオ−ペンチル）、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロヘキシルメチルが、アルキル基の非限定例である。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルカンジイル」とは、結合点（１つ又は複数）としての、１つ又は２つの飽和炭素原子を有し、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、炭素−炭素二重又は三重結合を有さず、炭素及び水素以外の原子を有しない、二価の飽和脂肪族基を意味する。基−ＣＨ_２−（メチレン）、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、及び−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が、アルカンジイル基の非限定例である。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキリデン」とは、二価の基＝ＣＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ’は独立して水素、アルキルである、又は、Ｒ及びＲ’は合わせて、少なくとも２つの炭素原子を有するアルカンジイルを表す）を意味する。アルキリデン基の非限定例としては、＝ＣＨ_２、＝ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）、及び＝Ｃ（ＣＨ_３）_２が挙げられる。「アルカン」とは、化合物Ｈ−Ｒを意味し、式中、Ｒは、上で定義したアルキルである。これらの用語のいずれかが、「置換
された」という修飾語句と共に用いられる場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−Ｓ（Ｏ）_２（ＯＨ）、又は−ＯＳ（Ｏ）_２（ＯＨ）により置換されている。以下の基が、置換アルキル基の非限定例である：−ＣＨ_２ＯＨ、−ＣＨ_２Ｃｌ、−ＣＦ_３、−ＣＨ_２ＣＮ、−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３、−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＯＣＨ_３、−ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃｌ、−ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２（ＯＨ）、及び−ＣＨ_２ＯＳ（Ｏ）_２（ＯＨ）。用語「ハロアルキル」とは、１つ以上の水素原子がハロ基で置換されており、炭素、水素、及びハロゲン以外の原子が存在しない、置換アルキルの部分集合である。基−ＣＨ_２Ｃｌは、ハロアルキルの非限定例である。用語「フルオロアルキル」とは、１つ以上の水素がフルオロ基で置換されており、炭素、水素、及びフッ素以外の原子が存在しない、置換アルキルの部分集合である。基−ＣＨ_２Ｆ、−ＣＦ_３、及び−ＣＨ_２ＣＦ_３が、フルオロアルキル基の非限定例である。

用語「ホスホノアルキル」は、水素の１つ以上がホスホネート基で置換されており、炭素、水素、リン、及び酸素以外の原子が存在しない、置換アルキルの部分集合である。基−ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、及び−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、並びにこれらの対応する脱プロトン化形態は、ホスホノアルキルの非限定例である。

用語「ホスホノ（ホスフェート）アルキル」とは、水素の１つ以上がホスホネート基で置換されており、炭素、水素、リン、及び酸素以外の原子が存在しない、置換アルキルの部分集合である。基−ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、及び−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、並びにこれらの対応する脱プロトン化形態が、ホスホノ（ホスフェート）アルキルの非限定例である。

用語「スルホノアルキル」とは、１つ以上の水素がスルホネート基で置換されており、炭素、水素、硫黄、及び酸素以外の原子が存在しない、置換アルキルの部分集合である。基−ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２ＯＨ、及び−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２ＯＨ、並びにこれらの対応する脱プロトン化形態が、スルホノアルキルの非限定例である。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルケニル」とは、結合点としての炭素原子を有し、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有し、炭素−炭素三重結合を有さず、かつ、炭素及び水素以外の原子を有しない、一価の不飽和脂肪族基を意味する。アルケニル基の非限定例としては、−ＣＨ＝ＣＨ_２（ビニル）、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２（メチル−ビニル）、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（アリル）、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３、及び−ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ_２が挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルケンジイル」とは、結合点としての２つの炭素原子を有し、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有し、炭素−炭素三重結合を有さず、炭素及び水素以外の原子を有しない、二価の不飽和脂肪族基を意味する。基＞Ｃ＝ＣＨ_２（ビニリデン）、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、及び−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２−が、アルケンジイルの非限定例である。アルケンジイル基が脂肪族であるとき、両端にて接続されると、この基は芳香族構造体の一部を形成することから除外されないことに注意する。用語「アルケン」又は「オレフィン」は同義であり、式Ｈ−Ｒ（式中、Ｒは上記で定義したアルケニルである）を有する化合物を意味する。「末端アルケン」とは、１つだけの炭素−炭素二重結合（この結合は、分子の一端でビニル基を形成する）を有するアルケンを意味する。これらの用語のいずれかが「置換された」という修飾語句と共に用いられている場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。基−ＣＨ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＨＣｌ、及び−ＣＨ＝ＣＨＢｒが、置換アルケニルの非限定例である。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキニル」とは、結合点としての炭素原子を有し、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、少なくとも１つの炭素−炭素三重結合を有し、炭素及び水素以外の原子を有しない、一価の不飽和脂肪族基を意味する。本明細書で使用する場合、用語「アルキニル」は、１つ以上の非芳香族炭素−炭素二重結合の存在を除外しない。基−Ｃ≡ＣＨ、−Ｃ≡ＣＣＨ_３、及び−ＣＨ_２Ｃ≡ＣＣＨ_３が、アルキニル基の非限定例である。「アルキン」とは、化合物Ｈ−Ｒ（式中Ｒはアルキニルである）を意味する。これらの用語のいずれかが「置換された」という修飾語句と共に用いられている場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アリール」とは、結合点としての芳香族炭素原子を有し、上記炭素原子が、１つ以上の６員芳香環構造を形成し、この環原子が全て炭素であり、炭素及び水素以外の原子で構成されない、一価の不飽和芳香族基を意味する。２つ以上の環が存在する場合、環は縮合していてもよいし、縮合していなくてもよい。本明細書で使用する場合、この用語は、第１の芳香環、又は存在する追加の任意の芳香環に結合した、１つ以上のアルキル又はアラルキル基（炭素数の限定が可能である）の存在を除外しない。アリール基の非限定例としては、フェニル（−Ｐｈ）、メチルフェニル、（ジメチル）フェニル、−Ｃ_６Ｈ_４ＣＨ_２ＣＨ_３（エチルフェニル）、ナフチル、及びビフェニルに由来する一価の基が挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アレーンジイル」とは、結合点としての２つの芳香族炭素原子を有し、上記炭素原子が１つ以上の６員芳香環の一部を形成し、この環原子が全て炭素であり、一価の基が炭素及び水素以外の原子で構成されない、二価の芳香族基を意味する。本明細書で使用する場合、この用語は、第１の芳香環、又は存在する追加の任意の芳香環に結合した、１つ以上のアルキル、アリール、又はアラルキル基（炭素数の限定が可能である）の存在を除外しない。２つ以上の環が存在する場合、環は縮合していてもよいし、縮合していなくてもよい。非縮合環は、以下の１つ以上を介して接続されることができる：共有結合、アルカンジイル、又はアルケンジイル基（炭素数の限定が可能である）。アレーンジイル基の非限定的例としては、以下が挙げられる：

「アレーン」とは、化合物Ｈ−Ｒ（式中、Ｒは、上で定義したアリールである）を意味する。ベンゼン及びトルエンが、アレーンの非限定例である。これらの用語のいずれかが「置換された」という修飾語句と共に用いられている場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アシル」とは、基−Ｃ（Ｏ）Ｒ（式中、Ｒは、上で定義した水素、アルキル、アリール、アラルキル、又はヘテロアリールである）を意味する。基−ＣＨＯ（ホルミル）、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３（アセチル、Ａｃ）、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_２）_２、−Ｃ（Ｏ）Ｃ_６Ｈ_５、−Ｃ（Ｏ）Ｃ_６Ｈ_４ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５、−Ｃ（Ｏ）（イミダゾリル）が、アシル基の非限定例である。「チオアシル」は、基−Ｃ（Ｏ）Ｒの酸素原子が硫黄原子で置換されている−Ｃ（Ｓ）Ｒであることを除いて、類似の方法で定義される。用語「アルデヒド」は、上で定義したアルカンに対応し、少なくとも１つの水素原子が−ＣＨＯ基で置換されている。これらの用語のいずれかが「置換された」という修飾語句と共に用いられている場合、１つ以上の水素原子（存在する場合、カルボニル又はチオカルボニル基に直接結合した水素原子を含む）は、独立して−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。基−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＦ_３、−ＣＯ_２Ｈ（カルボキシル）、−ＣＯ_２ＣＨ_３（メチルカルボキシル）、−ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２（カルバモイル）、及び−ＣＯＮ（ＣＨ_３）_２が、置換アシル基の非限定例である。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルコキシ」とは、基−ＯＲ（式中、Ｒは上で定義したアルキルである）を意味する。アルコキシ基の非限定例としては、−ＯＣＨ_３（メトキシ）、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３（エトキシ）、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２（イソプロポキシ）、−Ｏ（ＣＨ_３）_３（ｔｅｒｔ−ブトキシ）、−ＯＣＨ（ＣＨ_２）_２、−Ｏ−シクロペンチル、及び−Ｏ−シクロヘキシルが挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルケニルオキシ」、「アルキニルオキシ」、「アリールオキシ」、「アラルコキシ」、「ヘテロアリールオキシ」、「ヘテロシクロアルコキシ」及び「アシルオキシ」とは、−ＯＲ（式中、Ｒはそれぞれ、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、及びアシルである）で定義される基を意味する。用語「アルコキシジイル」とは、二価の基である−Ｏ−アルカンジイル−、−Ｏ−アルカンジイル−Ｏ−−、又は−アルカンジイル−Ｏ−アルカンジイル−を意味する。用語「アルカンジイル−アルコキシ」とは、−アルカンジイル−Ｏ−アルキルを意味する。アルカンジイル−アルコキシの非限定例は、ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_３である。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキルチオ」及び「アシルチオ」とは、基−ＳＲ（式中、Ｒはそれぞれ、アルキル及びアシルである）を意味する。用語「アルコール」とは、上で定義したアルカンに対応し、少なくとも１つの水素原子が、ヒドロキシ基で置換されている。用語「エーテル」とは、上で定義したアルカンに対応し、少なくとも１つの水素原子がアルコキシ基で置換されている。これらの用語のいずれかが、「置換された」という修飾語句と共に用いられる場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキルアミノ」とは、基−ＮＨＲ（式中、Ｒは上で定義したアルキルである）を意味する。アルキルアミノ基の非限定例としては、−−ＮＨＣＨ_３及び−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３が挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「ジアルキルアミノ」とは、基−ＮＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ’は同一又は異なるアルキル基であることができる、あるいは、Ｒ及びＲ’は合わせてアルカンジイルを表すことができる）を意味する。ジアルキルアミノ基の非限定例としては、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）、及びＮ−ピロリジニルが挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の、用語「アルコキシアミノ」、「アルケニルアミノ」、「アルキニルアミノ」、「アリールアミノ」、「アラルキルアミノ」、「ヘテロアリールアミノ」、「ヘテロシクロアルキルアミノ」、及び「アルキルスルホニルアミノ」とは、−ＮＨＲ（式中、Ｒはそれぞれ、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、及びアルキルスルホニルである）として定義される基を意味する。アリールアミノ基の非限定例は、−−ＮＨＣ_６Ｈ_５である。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アミド」（アシルアミノ）とは、基−−ＮＨＲ（式中、Ｒは上で定義したアシルである）を意味する。アミド基の非限定例は、−−ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ_３である。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキルイミノ」とは、二価の基＝ＮＲ（式中、Ｒは上で定義したアルキルである）を意味する。用語「アルキルアミノジイル」とは、二価の基である−ＮＨ−アルカンジイル−、−ＮＨ−アルカンジイル−ＮＨ−、又は−アルカンジイル−ＮＨ−−アルカンジイル−を意味する。これらの用語のいずれかが、「置換された」という修飾語句と共に用いられる場合、１つ以上の水素原子は、独立して−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。基−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ_３及び−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ_３が、置換アミド基の非限定例である。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキルスルホニル」及び「アルキルスルフィニル」とは、それぞれ、基−Ｓ（Ｏ）_２Ｒ及び−Ｓ（Ｏ）Ｒ（式中、Ｒは、上で定義したアルキルである）を意味する。用語「アルケニルスルホニル」、「アルキニルスルホニル」、「アリールスルホニル」、「アラルキルスルホニル」、「ヘテロアリールスルホニル」、及び「ヘテロシクロアルキルスルホニル」は、類似の方法で定義される。これらの用語のいずれかが、「置換された」という修飾語句と共に用いられる場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ２、−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。

「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「アルキルホスフェート」とは、基−−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＲ）又はその脱プロトン化形態（式中、Ｒは上で定義されるアルキルである）を意味する。アルキルホスフェート基の非限定例としては、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＭｅ）及び−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＥｔ）が挙げられる。「置換された」という修飾語句を伴わずに用いられる場合の用語「ジアルキルホスフェート」とは、基−−ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ）（ＯＲ’）（式中、Ｒ及びＲ’は同一又は異なるアルキル基であることができる、あるいは、Ｒ及びＲ’は合わせてアルカンジイルを表すことができる）を意味する。ジアルキルホスフェート基の非限定例としては、−−ＯＰ（Ｏ）（ＯＭｅ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＥｔ）（ＯＭｅ）、及び−ＯＰ（Ｏ）（ＯＥｔ）_２が挙げられる。これらの用語のいずれかが、「置換された」という修飾語句と共に用いられる場合、１つ以上の水素原子は独立して、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＨ_２、−−ＮＯ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＣＯ_２ＣＨ_３、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_３、−ＮＨＣＨ_２ＣＨ_３、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３、又は−Ｓ（Ｏ）_２ＮＨ_２で置換されている。

連結基とは、２つの別の定義された基の間の共有結合、又は、２つの別の定義された基を接続する一続きの共有結合した原子であって、その一続きの共有結合した原子が、２つの別の定義された基への結合部位以外の開いた価数を有しない、一続きの共有結合した原子のいずれかを意味する。連結基の非限定例としては、共有結合、アルカンジイル、アルケンジイル、アレーンジイル、アルコキシジイル、及びアルキルアミノジイルが挙げられる。

本明細書で使用する場合、「キラル補助基」とは、反応の立体選択性に影響を及ぼすことができる、除去可能なキラル基を意味する。当業者はこのような化合物に精通しており、多くが市販されている。

本明細書で使用する他の略称は、以下のとおりである：ＤＭＳＯ、ジメチルスルホキシド；ＤＭＦ、ジメチルホルムアミド；ＭｅＣＮ、アセトニトリル；ＭｅＯＨ、メタノール；ＥｔＯＨ、エタノール；ＥｔＯＡｃ、酢酸エチル；ｔＢｕＯＨ、ｔｅｒｔ−ブタノール；ｉＰｒＯＨ、イソプロパノール；ｃＨｅｘＯＨ、シクロヘキサノール；Ａｃ_２Ｏ、無水酢酸；ＡｃＯＯＨ、過酢酸；ＨＣＯ_２Ｅｔ、ギ酸エチル；ＴＨＦ、テトラヒドロフラン；ＭＴＢＥ、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル；ＤＭＥ、ジメトキシエタン；ＮＢＳ、Ｎ−ブロモスクシンイミド；ＣＤＩ、カルボニルジイミダゾール；ＤＩＥＡ、ジイソプロピルエチルアミン；ＴＥＡ、トリエチルアミン；ＤＭＡＰ、ジメチルアミノピリジン；ＮａＯＨ、水酸化ナトリウム；ＡＡＰＨ、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド；ＣＴＡ、１−オクタンチオール；ＡＰＳ、過硫酸アンモニウム；ＴＭＰ、リン酸トリメチル；ＶＰＡ、ビニルホスホン酸；ＶＰＰ、ビニルホスホノモノホスフェート；ＶＰＰＰ、ビニルホスホノピロホスフェート、ＭＶＰＰ、メチル−ビニルホスホノモノホスフェート；ＳＶＳ、ナトリウム又はビニルスルホネート；ＡＭＰＳ、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム；ＳＰＡ、３−スルホプロピルアクリレートカリウム塩；２２Ａ２ＭＰＡ２ＨＣｌ、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド；ＶＢＰＰ、（４−ビニルベンジル）モノホスホノ−ホスフェート；ＶＳＭＥ、ビニルスルホネートメチルエステル；ＮａＯＭｅ、ナトリウムメトキシド；ＮａＣｌ、塩化ナトリウム；ＤＭＶＰ、ジメチルビニルホスホネート；

「モノマー分子」とは、国際純正・応用化学連合（ＩＵＰＡＣ）により、「重合を受け、巨大分子の本質的な構造への構成単位に寄与することができる分子」として定義されている。ポリマーは、巨大分子である。

「ポリマー主鎖」又は「主鎖」とはＩＵＰＡＣにより、「他の全ての鎖（長鎖若しくは短鎖、又はその両方）がペンダントであると認識され得る鎖」として、「２つ以上の鎖が主鎖であると等しく考えられる場合においては、分子の最も簡単な表現を導くものが選択される」という注釈と共に定義されている。生成される出発原料に応じて、主鎖は異なる化学的組成を有することができる。化学的及び生物学的に合成したポリマーの通常の主鎖としては、アルカン（典型的にはビニル若しくはメチルビニル重合、又はカチオン重合及びアニオン重合から）、ポリエステル（縮合重合から）、アミド化反応を伴う重合からの、ポリペプチドなどのポリアミド、並びに、エポキシド開環からのポリエトキシレートが挙げられる。

「ペンダント基」又は「側基」は、ＩＵＰＡＣにより、「鎖からの、オリゴマーでもポリマーでもない側枝」として定義されている。このような側基は、直鎖の繰り返し単位を含まない。

「ポリマー側鎖」又は「ペンダント鎖」は、ＩＵＰＡＣにより、「巨大分子鎖からのオリゴマー又はポリマー側枝」として、「オリゴマー分枝は短鎖分枝と呼ばれ得る」及び「ポリマー分枝は長鎖分枝と呼ばれ得る」という注釈と共に定義されている。

「重合後修飾」は、重合後に生じる、ポリマーのあらゆる反応又は処理として定義されている。重合後修飾としては、ポリマー主鎖、ペンダント基、又はポリマー側鎖内の、又はこれらに結合した化学基への反応が挙げられる。

「パーソナルケア組成物」とは、通常の使用過程において、身体表面への適用により又は身体表面への接触により有益な効果を提供する、製品を意味する。身体表面には、皮膚、例えば、真皮又は粘膜が含まれる。身体表面にはまた、身体表面と関連付けられる構造、例えば、毛髪、歯、又は爪が含まれる。パーソナルケア組成物の例としては、外観の改善、洗浄、及び悪臭抑制、又は一般美容のために人体に適用される製品が挙げられる。パーソナルケア組成物の非限定的な例としては、歯磨剤、口内洗浄剤、ムース、発泡体、マウススプレー、トローチ、咀しゃく錠、チューイングガム、歯科用ホワイトニングストリップ、フロス、及びフロスコーティング、口臭消臭溶解性ストリップ、入れ歯ケア製品、義歯粘着剤製品などの口腔ケア組成物、アフターシェービングジェル及びクリーム、プレシェービング製造品、シェービンングジェル、クリーム、又は発泡体、保湿剤及びローション、咳及び冷たい組成物、ゲル、ゲルキャップ、スロートスプレー；リーブオンスキンローション及びクリーム、シャンプー、ボディーソープ、ヴィックスヴェポラッブなどのボディー用塗り薬、ヘアコンディショナー、染毛及び毛髪脱色組成物、ムース、シャワージェル、固形石鹸、制汗剤、脱臭剤、脱毛剤、リップスティック、ファンデーション、マスカラ、サンレスタンナー、及び日焼け止めローション、吸収性物品を対象としたローション及びローション組成物などの女性用ケア組成物、吸収性物品又は使い捨て物品を対象としたベビーケア組成物、並びに犬及び猫などの動物用口内洗浄組成物が挙げられる。

本明細書で使用するとき、用語「歯磨剤」は、特に指示がない限り、歯用又は歯肉縁下用ペースト、ゲル、又は液体配合物を包含する。歯磨剤組成物は、単相組成物であってもよく、又は２つ以上の別個の歯磨剤組成物の組み合わせであってもよい。歯磨剤組成物は、深い縞状、表面的な縞状、多層状、ペーストをゲルで包囲した状態、又はこれらのいずれかの組み合わせなど、任意の所望の形態であってもよい。２つ以上の別個の歯磨剤組成物を含む歯磨剤中の各歯磨剤組成物は、ディスペンサの物理的に分離された区画内に収容され、同時に分注されてもよい。

本明細書で使用するとき、用語「ディスペンサ」とは、歯磨剤などの組成物を分注するのに好適なあらゆるポンプ、チューブ、又は容器を意味する。

本明細書で使用するとき、「歯」という用語は、天然歯、並びに人工歯又は歯科補綴物を指す。

用語「経口で受容可能なキャリア又は賦形剤」とは、フッ化物イオン源、抗結石又は抗歯石剤、緩衝剤、シリカなどの研磨剤、アルカリ金属重炭酸塩、増粘物質、保湿剤、水、界面活性剤、二酸化チタン、香味料、甘味剤、キシリトール、着色剤、及びこれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない、口腔ケア組成物に使用される安全かつ有効な物質及び従来の添加剤を含む。

本明細書において、用語「歯石（tartar）」及び「歯石（calculus）」とは、同じ意味で用いられ、石化した歯垢バイオフィルムを指す。

本発明で使用する場合、用語「又は」とは、２つ以上の要素の接続詞として使用される場合に、要素を個々に、及び組み合わせで含むことを意味し、例えば、Ｘ又はＹは、Ｘ若しくはＹ、又はこれら両方を意味する。

特許請求の範囲、及び／又は明細書内で、用語「を含む」と共に用いられる場合、語句「ａ」又は「ａｎ」の使用は、「１つ」を意味し得るが、これは「１つ以上の」、「少なくとも１つの」、及び「１つ又は２つ以上」の意味とも一致する。

本出願を通して、用語「約」は、値が、その値を測定するために用いられるデバイス、方法についての固有の誤差の変動、又は、研究対象間で存在する変動を含むことを示すために使用される。

用語「を含む（comprise）」、「を有する（have）」、及び「を含む（include）」は、オープンエンドの結合動詞である。これらの動詞の１つ以上の任意の形態又はテンス、例えば「を含む（comprises）」、「を含む（comprising）、「を有する（has）」、「を有する（having）」、「を含む（includes）」、及び「を含む（including）」もまた、オープンエンドである。例えば、１つ以上の工程を「含む（comprises）」、「有する（has）」、又は「含む（includes）」任意の方法は、これらの１つ以上の工程のみを有するものに限定されず、列挙されてない他の工程もまたカバーする。

上記の定義は、本明細書に参照により組み込まれているあらゆる参考文献における、矛盾する定義から取り替えられる。しかし、特定の用語が定義されているという事実は、定義されてないあらゆる用語が不定のものであることを示すものとして考えられてはならない。むしろ、使用される全ての用語は、当業者が本発明の範囲及び実践を理解することができるような用語で、本明細書を説明すると考えられる。

ホスホネート及びアニオン含有ポリマー
本発明は、口腔ケア用途で用いるための、ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーに関する。ホスホネート基は、それがある置換基、及び、この基が配置される環境に応じて、本質的にはアニオン性であり得ることが認識されている。明確にするために、本出願におけるアニオン性基とは、ホスホネート以外のアニオン性基を指す。口腔ケア用途で用いるための、ポリビニルホスホネートなどの、ホスホネートポリマーのホモポリマーは以前に説明されている（米国特許出願公開第２００５０２７１６０２（Ａ１）号を参照のこと）。ここで示すように、ポリマー中で、ホスホネートに加えて、スルホネートなどのアニオン性基を組み合わせることにより、ヒドロキシアパタイト、及び成長する歯垢での汚れを防止することができる。この防止は、ホスホネート含有ポリマーそれ自体で見られるものよりも、相当良好である。

特定の実施形態において、本発明は、ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物に関し、上記ホスホネート基は、式１：

［式中、
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
Ｒ_１は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
Ｒ_２は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される］
の化学構造を有し、
上記アニオン性基はポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつスルホネートである。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、ホスホネート基を含む。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、アニオン性基を含む。別の実施形態では、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーは、上記ホスホネート基を含む。別の実施形態では、ホスホネート基は、重合後修飾の間に添加される。

ポリマーの特定の実施形態において、Ｒ_１及びＲ_２は、Ｈ、Ｎａ塩、及びＫ塩からなる群から独立して選択される。ポリマーの特定の実施形態において、Ｒ_１及びＲ_２は独立して、Ｈ、Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｚｎ塩、Ｃａ塩、Ｓｎ塩、及びアミンカチオン塩からなる群から独立して選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２：

［式中、
βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
Ｒ_３は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
Ｌ_１は、化学結合、アレーンジイル及び式３：

〈式中、
αは、式２のアルケニル基への結合部位であり、
βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
Ｘは、式４〜１０：

（式中、
Ｒ_４は、−Ｈ、アルキル_{（Ｃ１〜８）}及びホスホノアルキルからなる群から選択される）の構造からなる群から選択され、
Ｙは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される］
の構造を有する。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含み、式２の構造を有するとき、式２のＲ_３はＨである。特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含み、式２の構造を有するとき、式２のＲ_３はＣＨ_３である。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含み、かつ上記少なくとも１つのモノマーが式２の構造を有する場合、Ｌ_１は共有結合である。

別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含み、かつ上記少なくとも１つのモノマーが式２の構造を有する場合、Ｌ_１は式３の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、かつ、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘの構造は、式４、式７、及び式９からなる群から選択される。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式４の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式７の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式９の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式５の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式４の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式７の構造を有し、Ｙはアルカンジイル及びアルコキシジイルからなる群から選択される。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式９の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは式２の構造を有し、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式５の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、式１１：

［式中、
Ｒ_５は、Ｈ又はＣＨ_３からなる群から選択され、Ｌ_２はアニオン性基への連結基である］の構造のアルケニル基を更に含む。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１１の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_５はＨである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１１の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_５はＣＨ_３である。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、式１２：

［式中、
Ｒ_６は、Ｈ及びアルキルからなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｌ_３は、化学結合、アレーンジイル及び式１３：

〈式中、
γは、アルケニル基への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｗは、式１４〜２０：

（式中、
Ｒ_７は、−Ｈ及びアルキル_{（Ｃ１〜８）}からなる群から選択される）の構造から選択され、
Ｖは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択される］
の構造のアルケニル基を更に含む。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_６はＨである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_６はＣＨ_３である。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は共有結合である。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_６はＨであり、Ｌ_３は共有結合である。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｒ_６はＣＨ_３であり、Ｌ_３は共有結合である。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１４の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１７の構造を有する。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１９の構造を有する。特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１４の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１７の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。別の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１９の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含み、上記少なくとも１つのモノマーが、式１２の構造のアルケニル基を更に含むとき、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１４、式１７、及び式１９からなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、ビニルホスホネート及びメチルビニルホスホネートからなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーは、ビニルスルホネート、メチルビニルスルホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンスルホネート、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホネート（ＡＭＰＳ）及び２−スルホプロピルアクリレート（ＳＰＡ）からなる群から選択される。

特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがホスホネート基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートである。特定の実施形態において、ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーがアニオン性基を含むとき、上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートである。特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートである。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９９．９：０．１〜０．１：９９．９である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９９：１〜１：９９である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、９０：１０〜１０：９０である。

特定の実施形態において、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記アニオン性基を含み、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが上記ホスホネート基を含むとき、上記アニオン性基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される上記少なくとも１つのモノマーはビニルスルホネートであり、上記ホスホネート基を含む、上記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーはビニルホスホネートであり、ビニルホスホネートに対するビニルスルホネートの比はそれぞれ、７０：３０〜３０：７０である。

本発明の別の実施形態は、本文脈において、二量体、三量体、及び四量体などのオリゴマーを含むことを意味するポリマーを含む、口腔ケア組成物である。ポリマーは、式２３：

［式中、
Ｒ_１は、−Ｈ、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
Ｒ_２は、−Ｈ、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
Ｒ_３は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
Ｌ_１は、化学結合、アレーンジイル及び式３：

〈式中、
αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
Ｘは、式４〜１０：

（式中、
Ｒ_４は、−Ｈ、アルキル_{（Ｃ１〜８）}、ホスホノアルキル及びホスホノ（ホスフェート）アルキルからなる群から選択される）の構造からなる群から選択され、
Ｙは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択され、
Ｒ_５は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｌ_３は、化学結合、アレーンジイル及び式１３：

〈式中、
γは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Ｗは、式１４〜２０：

（式中、
Ｒ_７は、−Ｈ及びアルキル_{（Ｃ１〜８）}からなる群から選択される）の構造から選択され、
Ｖは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造から選択され、
Ｒ_８は、ポリマー反応開始から得られる化学基であり、
Ｒ_９は、連鎖停止により得られる化学基である］の構造を有するホスホネート基及びアニオン性基を含む。

ポリマーの一実施形態では、Ｒ_１及びＲ_２は独立して、Ｈ、Ｎａ塩、及びＫ塩からなる群から選択される。ポリマーの一実施形態では、Ｒ_１及びＲ_２は、Ｈ、Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｚｎ塩、Ｃａ塩、Ｓｎ塩、及びアミンカチオン塩からなる群から独立して選択される。

ポリマーの一実施形態では、Ｒ_３はＨである。別の実施形態では、Ｒ_３はＣＨ_３である。

ポリマーの一実施形態では、Ｌ_１は共有結合である。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘの構造は、式４、式７、及び式９からなる群から選択される。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式４の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式７の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式９の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式５の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式４の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式７の構造を有し、Ｙはアルカンジイル及びアルコキシジイルからなる群から選択される。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式９の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。別の実施形態において、Ｌ_１は式３の構造を有し、Ｘは式５の構造を有し、Ｙはアルカンジイルである。

ポリマーの一実施形態では、上記アニオン性基は、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート、又はカルボキシレートからなる群から選択される。別の実施形態において、上記アニオン性基はスルホネートである。別の実施形態において、上記アニオン性基はカルボキシレートである。別の実施形態において、上記アニオン性基はホスホネートである。

ポリマーの一実施形態では、Ｒ_５はＨである。別の実施形態において、Ｒ_５はＣＨ_３である。別の実施形態において、Ｌ_３は共有結合である。別の実施形態において、Ｒ_５はＨであり、Ｌ_３は共有結合である。別の実施形態において、Ｒ_５はＣＨ_３であり、Ｌ_３は共有結合である。

一実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１４の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１７の構造を有する。別の実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１９の構造を有する。一実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１４の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。別の実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１７の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。別の実施形態において、Ｌ_３は式１３の構造を有し、Ｗは式１９の構造を有し、Ｖはアルカンジイルである。

化合物の一実施形態において、ポリマー反応開始から得られる化学基のＲ_８は、式２２〜２６：

［式中、
Ｒ_１０は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
τは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
Ｑは、重合で使用したモノマーの非オレフィン残基である］の構造から選択される。

更なる実施形態において、Ｑは式２７：

［式中、Ｌ_１、Ｒ_１、及びＲ_２は以前に記載したとおりであり、κは、式２６への結合部位を示す］の構造を有する。

更なる実施形態において、Ｑは式２８：

［式中、Ｌ_３、及びδは以前に記載したとおりであり、κは、式２６への結合部位を示す］の構造を有する。

更なる実施形態において、Ｑはホスホネートである。更なる実施形態において、Ｑはスルホネートである。

化合物の一実施形態において、ポリマー停止から得られる化学基のＲ_９は、−Ｈからなる群から選択される。化合物の一実施形態において、ポリマー停止から得られる化学基のＲ_９は、頭部−頭部結合した別のポリマー鎖である。

化合物の好ましい一実施形態において、Ｒ_１及びＲ_２は、Ｈ、Ｎａ塩、Ｋ塩、及びアミンカチオン塩からなる群から独立して選択され、Ｒ_３はＨであり、Ｌ_１は共有結合であり、Ｌ_３は共有結合であり、アニオン性基はスルホネートであり、Ｒ_８は式２２〜２６の構造から選択され、Ｑは式２７又は式２８の構造であり、Ｒ_９はＨである。

ポリマーの製造方法、及び得られる構造
本発明の実施形態を、以下のこれらの通常の方法を用いて行うことができる。

本発明のポリマーは、バルク、溶液、乳化、又は懸濁重合を含む広範な技術によって製造することができる。重合方法及び重合技術は、概して、参照により本明細書に援用されるＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），Ｖｏｌ．７，ｐｐ．３６１−４３１（１９６７）及びＫｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｖｏｌ １８，ｐｐ．７４０−７４４，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），１９８２に記載されている。Ｓｏｒｅｎｓｏｎ，Ｗ．Ｐ．ａｎｄ Ｃａｍｐｂｅｌｌ，Ｔ．Ｗ．，Ｐｒｅｐａｒａｔｉｖｅ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙも参照されたい。２ｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），１９６８，ｐｐ．２４８−２５１も参照されたい。一例では、ポリマーは、水溶性反応開始剤を用いて、フリーラジカル共重合によって製造される。好適なフリーラジカル反応開始剤としては、熱反応開始剤、酸化還元対、及び光化学反応開始剤が挙げられるが、これらに限定されない。酸化還元及び光化学反応開始剤は、約３０℃未満の温度で開始される重合プロセスに用いることができる。このような反応開始剤は、一般的に、参照により本明細書に援用されるＫｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），Ｖｏｌ．１３，ｐｐ．３５５−３７３（１９８１）に記載されている。３０℃以下でラジカルを提供し得る典型的な水溶性反応開始剤としては、過硫酸カリウム／硝酸銀、及びアスコルビン酸／過酸化水素等の酸化還元対が挙げられる。一例では、方法は、４０℃超で実施される重合プロセスにおいて熱反応開始剤を利用する。４０℃以上でラジカルを提供し得る水溶性反応開始剤を用いてよい。これらとしては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、及び２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロリドが挙げられるが、これらに限定されない。一実施例では、水溶性出発モノマーを、反応開始剤として過硫酸アンモニウムを使用して、６０℃にて水中で重合させる。

直鎖ポリマーの末端における化学官能基の同一性は、そのポリマー鎖の重合がどのように開始され終了したかに応じて変化する。フリーラジカル重合に関して、系の中のあらゆるフリーラジカルが新しい鎖を開始することができる。このフリーラジカルは、ペルサルフェートなどのサルフェートラジカル、又はアゾ型開始剤（２，２’アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロリドなどがあるがこれに限定されない）からのアルキルラジカルなどの、開始剤の直接誘導体であることができる。フリーラジカルは、例えば、ヒドロキシルラジカルを生み出すための水と別のラジカルとの、又は、ホスフェートラジカルを生み出すためのホスフェートと別のラジカルとの、連鎖移動反応の結果であることもまたできる。得られるこれらの構造の非限定例を以下に示し、ここで、Ｒは、Ｈ、又は、Ｎａ、Ｋ、若しくはアミンなどの適切な対イオンを表し、τは、ポリマーの結合部位を表す。

フリーラジカルは連鎖移動反応の結果であることもでき、ここで、ラジカルは生長するポリマー鎖から連鎖移動され、新しい鎖を開始する。連鎖移動は、ビニルホスホネートモノマーの重合において明示的に記載されている。本明細書に参照により組み込まれるＢｉｎｇｏｌ ｅｔ ａｌ．Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ２００８，４１，１６３４−１６３９）は、ビニルホスホネートのアルキルエステルの重合により、アルキル基上でどのように連鎖移動がもたらされるのかについて記載している。この移動は最終的に、開始末端に化学基を含有するオレフィンを有する、新しいポリマー鎖を開始する。

ポリマーの結合部位を表すために、以前用いたτを用いる命名法を用いることで、初期官能基を以下のとおりに記載することができる。この機構は、同一炭素原子上に２つのプロトンを有するビニル基を生成することに留意すべきである。

ポリマー鎖の終了末端上の化学基は、その鎖がどのように終了するかに応じて変化する。通常最も多い終了は、前述の連鎖移動、バックバイティング（backbiting）、それに続くβ開裂、連結及び不均化である。連鎖移動及びバックバイティングにおいて、末端基は通常水素である。連結において、２つの鎖上の伝播ラジカルが反応して、新しい鎖を形成する。この反応により、結合点において「頭部−頭部（head to head）」構成が引き起こされる。

不均化において、水素があるラジカル鎖から別のラジカル鎖へと交換される。結果として、ある鎖は不飽和である一方で、別の鎖は飽和する。なお、得られる不飽和基はビニル基ではない。不飽和の中の各炭素は、１個のみの水素を有する。

ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーは、ポリマー主鎖に直接、側基又は側鎖に結合した、ホスホネート及びアニオン性基を有することができる。このホスホネート基は、ホスホネート基を有するモノマーの重合か、又は、ホスホネート基を有しないモノマーの重合、そして得られるポリマーの重合後修飾によりホスホネート基を加えるかのいずれかにより、ポリマーに組み込まれることができる。同様に、アニオン性基は、アニオン性基を有するモノマーの重合か、又は、アニオン性基を有しないモノマーの重合、そして得られるポリマーの重合後修飾によりアニオン性基を加えるかのいずれかにより、ポリマーに組み込まれることができる。

ホスホネート含有ポリマーの使用
本発明によるホスホネート及びスルホネート含有ポリマーは、様々な組成物に組み込むことができる。これらの組成物は、水性組成物及び非水性組成物の両方を含む。組成物は、歯、及び他の口腔ケア表面を治療するのに有用である。特定の実施形態において、ホスホネート及びスルホネート含有ポリマーを含む組成物は非水性である。別の実施形態において、組成物は水性である。

口腔ケア組成物
本発明は更に、ホスホネート基及びアニオン性基を含む本発明のポリマーを含む、口腔ケア組成物に関する。本発明の口腔ケア組成物は、高分子鉱質表面剤、金属イオン塩、水、湿潤剤、フッ化物源、緩衝剤、抗結石剤、砥粒研磨物質、増粘剤、界面活性剤、二酸化チタン、着色剤、風味剤、抗菌剤、及びこれらの混合物などの追加の成分を更に含むことができる。

好ましい高分子鉱質界面活性剤はポリホスフェートである。ポリホスフェートは概ね、主に直鎖構造に配置された２つ以上のリン酸分子からなると理解されているが、いくつかの環状誘導体が存在する場合もある。ピロホスフェートは理論的にはポリホスフェートであるが、所望のポリホスフェートは、有効濃度での表面吸着により十分な非結合のホスフェート官能基を生成し、これが陰イオン性表面電荷及び表面の親水性特徴を強化するように、およそ３つ以上のホスフェート分子を有するものである。ピロホスフェートは、追加の抗結石剤の下で別途論じられる。所望の無機ポリホスフェート塩としては、特に、トリポリホスフェート、テトラポリホスフェート、及びヘキサメタホスフェートが挙げられる。非晶質ガラス状材料として、通常、テトラポリホスフェートより大きいポリホスフェートが発生する。本発明では、次式：
ＸＯ（ＸＰＯ_３）_ｎＸ
［式中、Ｘはナトリウム又はカリウムであり、ｎは平均約３〜約１２５である］を有する直鎖状「ガラス質」ポリホスフェートが好ましい。好ましいポリホスフェートは、平均約６〜約２１のｎを有するもの、例えば、ＦＭＣ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎにより製造され、Ｓｏｄａｐｈｏｓ（ｎ≒６）、Ｈｅｘａｐｈｏｓ（ｎ≒１３）、及びＧｌａｓｓ Ｈ（ｎ≒２１）として市販されているものである。特に好ましいポリホスフェートは、Ｇｌａｓｓ Ｈなどの、平均約２１のｎを有する。これらのポリホスフェートは単独で使用することもでき、又はこれらの組み合わせで使用することもできる。

ポリホスフェートを含む口腔用組成物は例えば、米国特許第５，９３９，０５２号、同第６，１９０，６４４号、同第６，１８７，２９５、及び同第６，３５０，４３６号（全てＴｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏ．に譲渡）に開示されている。これらの組成物において、ポリホスフェートは、歯石防止、並びに、スズなどの他の活性物質により引き起こされる渋味及び汚れなどの、審美的マイナス要素を低下させるという利点を提供するものとして開示されている。歯牙侵食を防止するためにポリホスフェートを使用することは開示されていない。ポリホスフェート源は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｖｏｌｕｍｅ １８，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（１９９６）にもより詳細に記載されている。高分子鉱質界面活性剤の有効量は典型的には、全口腔用組成物の約１重量％〜約３５重量％、好ましくは約２重量％〜約３０重量％、より好ましくは約５重量％〜約２５重量％、及び最も好ましくは約６重量％〜約２０重量％である。

本発明での使用に好適な金属イオンは、エナメル質表面に対して強力な親和性を有し、スズ、銅、及び亜鉛イオンが挙げられる。これらのイオンは、歯面のイオン及び／又は組成物のその他の成分と反応して、表面上に非常に不溶性の化合物を生成することにより、表面保護効果を提供する。更に、これらの金属イオンは唾液のｐＨ条件下にて酸化及び加水分解を受け、歯面に不溶性堆積物を生成する。本組成物は、スズイオン、亜鉛イオン、銅イオン、又はこれらの混合物を提供する、金属イオン源を含んでもよい。金属イオン源は、無機若しくは有機対イオンを有する、スズ、亜鉛、又は銅の可溶性又は難溶性化合物であることが可能である。例としては、スズ、亜鉛、及び銅のフッ化物、塩化物、塩化フッ化物、酢酸塩、ヘキサフルオロジルコニウム酸、硫酸塩、酒石酸塩、グルコン酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩、グリシン酸塩、ピロリン酸塩、メタリン酸塩、シュウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩、及び酸化物が挙げられる。フッ化第一スズ又は塩化スズなどのスズ塩が好ましい。

スズ、亜鉛及び銅イオンは、歯肉炎、歯垢、過敏の低減、及び改善された呼気効果に役立つことが示されている。スズ塩、特にフッ化第一スズ及び塩化スズを含有する歯磨剤は、米国特許第５，００４，５９７号（Ｍａｊｅｔｉら）に記載されている。スズ塩の他の記載は、Ｐｒｅｎｃｉｐｅらに対して発行された米国特許第５，５７８，２９３号、及びＬｕｋａｃｏｖｉｃらに対して発行された同第５，２８１，４１０号に見出される。

複合金属イオン源（複数を含む）は、最終組成物の約０．１重量％〜約１１重量％の量で存在する。好ましくは、金属イオン源は、約０．５〜約７％、より好ましくは約１％〜約５％の量で存在する。好ましくは、スズ塩は、合計組成物の約０．１〜約７重量％、より好ましくは約１重量％〜約５重量％、及び最も好ましくは約１．５重量％〜約３重量％の量で存在し得る。

本組成物の調製において、水及び／又は湿潤剤を組成物に添加することが望ましい。本明細書で望ましい組成物の別の任意構成成分は、湿潤剤である。保湿剤は練り歯磨き剤組成物の空気中への曝露による硬化を回避するのに役立ち、特定の保湿剤はまた練り歯磨き剤組成物に所望の甘味風味を付与することができる。本発明に用いるのに適した湿潤剤には、グリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、及び他の食用多価アルコールが挙げられる。湿潤剤は、概ね組成物の約０重量％〜７０重量％、及び好ましくは約１５重量％〜５５重量％含まれる。

水は通常、本明細書の組成物の約５重量％〜約７０重量％、及び好ましくは約１０重量％〜約５０重量％を占める。通常、水の量は口腔用組成物の、最大で約５０重量％、好ましくは約５重量％〜約３０重量％、より好ましくは約１０重量％〜約２５重量％である。水の量は、添加された遊離水に加えて、ソルビトール、シリカ、界面活性剤溶液及び／又は着色溶液のような他の材料に伴って導入された遊離水を包含する。

本発明の口腔用組成物は、遊離フッ化物イオンを提供可能な可溶性フッ化物源を組み込むことができる。フッ化物イオン源は、安定性を補助するために、高分子界面活性剤中ではなく個別の相に存在するのが好ましい場合がある。好ましい可溶性フッ化物イオン源には、フッ化ナトリウム、フッ化第一スズ、フッ化インジウム、フッ化アミン及びモノフルオロリン酸ナトリウムが挙げられる。フッ化ナトリウム及びフッ化第一スズが、最も好ましい可溶性フッ化物イオン源である。フッ化第一スズ及び安定化の方法は、Ｍａｊｅｔｉらに発行された米国特許第５，００４，５９７号、及びＰｒｅｎｃｉｐｅらに発行された同第５，５７８，２９３号に記載されており、更に、他の資料である、１９６０年７月２６日に発行された米国特許第２，９４６，７２５号（Ｎｏｒｒｉｓら）、及び１９７２年７月１８日に発行された同第３，６７８，１５４号（Ｗｉｄｄｅｒら）が、他のものと同様、このようなフッ化物イオン源について開示している。

本組成物は緩衝剤を含有してもよい。本明細書で使用するとき、緩衝剤とは、組成物のｐＨをｐＨ約４〜ｐＨ約１０の範囲に調整するために用いることができる剤を指す。高分子鉱質界面活性剤を含有する口腔用組成物は典型的には、ｐＨが約４〜約１０、好ましくは約４．５〜約８、より好ましくは約５．５〜約７のスラリーを有する。緩衝剤としては、アルカリ金属水酸化物、炭酸塩、セスキ炭酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、イミダゾール、及びこれらの混合物を挙げることができる。具体的な緩衝剤には、リン酸一ナトリウム、リン酸三ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、炭酸ナトリウム、イミダゾール、ピロリン酸塩、クエン酸、及びクエン酸ナトリウムが挙げられる。緩衝剤は、本組成物の約０．１重量％〜約３０重量％、好ましくは約１重量％〜約１０重量％、より好ましくは約１．５重量％〜約３重量％の濃度で用いられる。

ピロホスフェート塩は、抗結石剤として本発明において使用され得る。本発明の組成物で有用なピロリン酸塩としては、ジアルカリ金属ピロリン酸塩、テトラアルカリ金属ピロリン酸塩、及びこれらの混合物が挙げられる。非水和形態及び水和形態のピロリン酸二水素二ナトリウム（Ｎａ_２Ｈ_２Ｐ_２Ｏ_７）、ピロリン酸四ナトリウム（Ｎａ_４Ｐ_２Ｏ_７）、及びピロリン酸四カリウム（Ｋ_４Ｐ_２Ｏ_７）が好ましい化学種である。これらの組成物の製造に有用なピロリン酸塩の量は、歯石抑制に有効な任意の量であり、概ね、組成物の約１．５重量％〜約１５重量％、好ましくは約２重量％〜約１０重量％、最も好ましくは約２．５重量％〜約８重量％である。ピロリン酸塩は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｖｏｌｕｍｅ １７，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（１９８２）により詳細に記載されている。

砥粒研磨物質も、口腔用組成物中に含まれてよい。本発明の組成物への使用が考えられる砥粒研磨物質は、象牙質を過度に磨耗しない任意の物質であることができる。砥粒研磨物質は、フッ化第一スズなどの任意の成分の安定性を損なわないように、口腔用組成物中で配合されなければならない。典型的な砥粒研磨物質としてはシリカゲル及び沈殿物；アルミナ、オルトリン酸塩、ポリメタリン酸塩、及びピロリン酸塩を含むリン酸塩、並びにこれらの混合物が挙げられる。具体的な例としては、ジカルシウムオルトリン酸二水和物、ピロリン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、ポリメタリン酸カルシウム、不溶性ポリメタリン酸ナトリウム、水和アルミナ、βピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、並びに尿素及びホルムアルデヒドの粒子状縮合生成物などの樹脂性研磨剤材料、並びに米国特許第３，０７０，５１０号（Ｃｏｏｌｅｙら、１９６２年１２月２５日発行）に開示のような他のものが挙げられる。研磨剤の混合物が使用されてもよい。様々な種類のシリカ歯科用研磨剤は、歯のエナメル質又は象牙質を過度に研磨させない優れた歯の洗浄及び艶出性能という独特の効果があるので好ましい。本明細書に説明されている歯磨剤組成物の研磨剤は、通常、組成物の約６重量％〜約７０重量％の量で存在する。好ましくは、歯磨剤は、歯磨剤組成物の約１０重量％〜約５０重量％の研磨剤を含む。

本発明はアルカリ金属重炭酸塩もまた包含してよい。アルカリ金属重炭酸塩類は水溶性であり、安定化されていない限り、水溶液系で二酸化炭素を放出する傾向がある。重炭酸ナトリウムは、重曹としても知られ、好ましいアルカリ金属重炭酸塩である。アルカリ金属重炭酸塩は、緩衝剤としても機能する。本発明の組成物は、歯磨剤組成物の約０．５重量％〜約５０重量％、好ましくは約０．５重量％〜約３０重量％、より好ましくは約２重量％〜約２０重量％、最も好ましくは約５重量％〜約１８重量％のアルカリ金属重炭酸塩を含有してもよい。

本発明は、錬り歯磨き、歯磨剤、歯磨き粉、局所用口腔ゲル、マウスリンス、義歯製品、マウススプレー、ロゼンジ、口腔タブレット、及びチューインガムの形態の組成物を提供する。典型的には、これらの組成物は、所望の稠度を付与するための、いくつかの増粘材料又は結合剤を含有する。好ましい増粘剤は、カルボキシビニルポリマー、カラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース、並びにカルボキシメチルセルロースナトリウム及びヒドロキシエチルセルロースナトリウムのようなセルロースエーテルの水溶性塩である。カラヤゴム、キサンタンガム、アラビアゴム、及びトラガカントゴムのような、天然ゴムも使用することができる。更に質感を改善するために、コロイド状ケイ酸アルミニウムマグネシウム、又は超微粒子状シリカを、増粘剤の一部として使用できる。増粘剤は、歯磨剤組成物の約０．１重量％〜約１５重量％の量で使用できる。

本組成物はまた、一般的に起泡剤とも呼ばれる界面活性剤を含んでもよい。好適な界面活性剤は、広いｐＨ範囲にわたって、適度に安定かつ発泡性であるものである。界面活性剤は、アニオン性、非イオン性、両性、双極性、カチオン性、又はこれらの混合物であってよい。本明細書で有用なアニオン性界面活性剤としては、アルキル基中に８個〜２０個の炭素原子を有するアルキルサルフェートの水溶性塩（例えば、アルキル硫酸ナトリウム）、及び８個〜２０個の炭素原子を有する脂肪酸のスルホン化モノグリセリドの水溶性塩が挙げられる。ラウリル硫酸ナトリウム及びココナツモノグリセリドスルホン酸ナトリウムは、この種類のアニオン性界面活性剤の例である。他の好適なアニオン性界面活性剤は、ラウロイルサルコシン酸ナトリウム、タウレート、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、ラウロイルイセチオン酸ナトリウム、ラウレスカルボン酸ナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのサルコシネートである。アニオン性界面活性剤の混合物も使用することができる。多数の好適な陰イオン性界面活性剤が、米国特許第３，９５９，４５８号（Ａｇｒｉｃｏｌａら、１９７６年５月２５日発行）に開示されている。本発明の組成物に用いることができる非イオン性界面活性剤は、アルキレンオキシド基（本質的には親水性）と、本質的には脂肪族又はアルキル−芳香族であってもよい有機疎水性化合物との縮合によって生成される化合物として広く定義できる。好適な非イオン性界面活性剤の例としては、ポロキサマー（商品名Ｐｌｕｒｏｎｉｃとして販売）、ポリオキシエチレン、ポリオキシエチレンソルビタンエステル（商標名Ｔｗｅｅｎｓとして販売）、脂肪族アルコールエトキシレート、アルキルフェノールのポリエチレンオキシド縮合物、プロピレンオキシド及びエチレンジアミンの反応生成物とエチレンオキシドとの縮合から得られる生成物、脂肪族アルコールのエチレンオキシド縮合物、長鎖三級アミンオキシド、長鎖三級ホスフィンオキシド、長鎖ジアルキルスルホキシド、及びこのような物質の混合物が挙げられる。本発明において有用な両性界面活性剤は、脂肪族二級及び三級アミンの誘導体として広く記載されることができ、そこで、脂肪族基は直鎖であっても分枝鎖であってもよく、脂肪族置換基の１つは約８〜約１８個の炭素原子を含有し、１つはアニオン性水溶性基、例えばカルボキシレート、スルホネート、サルフェート、ホスフェート、又はホスホネートを含有する。他の好適な両性界面活性剤はベタイン、特に、コカミドプロピルベタインである。両性界面活性剤の混合物も使用できる。これらの好適な非イオン性及び両性の界面活性剤の多くは、１９７７年９月２７日に発行されたＧｉｅｓｋｅらの米国特許第４，０５１，２３４号に開示されている。本組成物は、典型的には、１つ以上の界面活性剤を各々が組成物の約０．２５重量％〜約１２重量％、好ましくは約０．５重量％〜約８重量％、及び最も好ましくは約１重量％〜約６重量％の濃度で含む。

二酸化チタンもまた本発明の組成物に添加されてもよい。二酸化チタンは、組成物に不透明度を加える白色粉末である。二酸化チタンは、概ね、組成物の約０．２５重量％〜約５重量％含まれる。

着色剤もまた、本発明の組成物に添加されてもよい。着色剤は、水性溶液、好ましくは１％の着色剤水溶液の形態であってよい。着色溶液は、概ね組成物の約０．０１重量％〜約５重量％を構成する。

風味剤系も組成物に添加できる。好適な風味成分としては、冬緑油、ペパーミント油、スペアミント油、クローブバッド油、メントール、アネトール、メチルサリチレート、ユーカリプトール、カッシア、１−メンチルアセテート、セージ、オイゲノール、パセリ油、オキサノン、α−イリソン、マジョラム、レモン、オレンジ、プロペニルグエトール、桂皮、バニリン、エチルバニリン、ヘリオトロピン、４−シス−ヘプテナール、ジアセチル、メチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセテート、キシリトール、及びこれらの混合物が挙げられる。清涼剤も風味剤系の一部であってもよい。本組成物に好ましい清涼剤は、Ｎ−エチル−ｐ−メンタン−３−カルボキサミド（商業的に「ＷＳ−３」として知られる）のようなパラメンタンカルボキシアミド剤及びこれらの混合物である。風味剤系は、概ね組成物中で、組成物の約０．００１重量％〜約５重量％の濃度で用いられる。

本組成物は、抗菌剤などのその他の活性剤を含んでもよい。これらの剤は、歯磨剤組成物の約０．０１重量％〜約１．５重量％の濃度で存在してもよい。

本発明の口腔用組成物は、錬り歯磨き、歯磨剤、局所用口腔ゲル、マウスリンス、義歯製品、マウススプレー、ロゼンジ、口腔タブレット、又はチューインガムの形態である。歯磨剤組成物は、ペースト、ゲル、若しくは任意の形状、又はこれらの組み合わせであってもよい。

以下の実施例は、本発明の範囲内にある好ましい実施形態を更に説明及び実証する。これら実施例は、説明の目的のためのみに提示するものであって、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、多くの変更が可能であるので、本発明を限定するものと解釈すべきではない。成分は化学名で識別し、そうでない場合には以下で定義する。

粉末汚れ防止モデル（ＰＳＰＭ）
粉末汚れ防止モデル（ＰＳＰＭ）は、ヒドロキシアパタイト粉末（ＨＡＰ）が、汚れ蓄積用基質として用いられる場合のスクリーニング技術である。この技術の通常の目的は、口腔ケアで用いられる化学薬剤の、汚れ防止能力又は汚れ潜在力を示し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、茶の色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤の形態のいずれかでの口腔ケア活性物質でＨＡＰを前処理することにより、これらの色原体がＨＡＰ表面に結合することを遮断又は向上させる、活性物質の能力に応じて、異なる度合いの汚れ蓄積がもたらされる。汚れの規模を次に、画像解析により定量化することができる。ＰＳＰＭに関する工程を以下に記載する。

１．ＨＡＰの前処理
２００ｍｇ〜２１０ｍｇのＨＡＰ粉末（ＢｉｏＧｅｌ（登録商標）ＨＴＰ−Ｇｅｌカタログ番号１３０−０４２１，Ｂｉｏ−Ｒａｄ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ，Ｃａｌｉｆ．））を５０ｍＬの遠心管に入れて測定する。各管に２０ｍＬの処理剤を加える。単純なポリマーに対しては、処理剤は、用いた１００％活性ベースで、ポリマーの２重量％である。歯磨剤配合物のために、練り歯磨きのそれぞれを８ｇ秤量し、標識した丸底の５０ｇ遠心管に入れる。２４ｇの脱イオン水を管に入れる（スラリー比は１：３となる）。１分間撹拌して十分混合し、練り歯磨きの塊がないスラリーを調製する。遠心分離器を用いてスラリーを１５分間１５，０００ｒｐｍで遠心分離し、処理剤として２０ｍＬの上澄みを使用する。管を３０秒管撹拌し、処理剤にＨＡＰを完全に懸濁させた後、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離する。遠心分離後、上澄みをデカントして、２５ｍＬの水を加え、渦動し、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離し、デカントすることによりペレットで再分配する−このとき、ペレット剤が渦動中に分離するようにする。洗浄工程を更に２回繰り返す。

２．ＨＡＰの汚れ
最後の水での洗浄後、２０ｍＬの濾過済み茶（１００ｍＬの湯当たり１枚のＬｉｐｔｏｎティーバッグ、５分間浸み出し、濾過して５０℃にて使用）を各ペレット剤に添加し、３０秒間渦動して、茶内にＨＡＰを完全に懸濁させる。粉末懸濁液を１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離し、デカントする。約２５ｍＬの水を管に添加した後、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離する。液体をデカントし、洗浄サイクルを更に２回繰り返す。

３．色分析のためのＨＡＰ調製
完全に懸濁するまで、約１０ｍＬの水の中でペレット剤を渦動した後、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅフィルターディスク（膜フィルター、４．５ｔｍ、４７ｍｍ、カタログ番号ＨＡＷＰＯ４７００，Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｂｅｄｆｏｒｄ，Ｍａｓｓ．）上で、真空下にて濾過する。約２００ｍｇの未処理・未汚染ＨＡＰを用いて、対照ディスクを調製する。次に、フィルターディスクを平坦な配置で一晩乾燥させ、その後積層する。

４．汚れたＨＡＰの色分析
白光システム：ＨＡＰディスク（未処理ＨＡＰ対照及びＨＡＰ処理）を、安定化させたサンプルホルダーに配置する。偏光フィルターを装着したレンズを有するデジタルカメラ（アダプタ付きＮＩＫＯＮ ５５ｍｍマイクロＮＩＫＫＯＲレンズ搭載、Ｃａｎｏｎ Ｉｎｃ．，（Ｍｅｌｖｉｌｌｅ，ＮＹ）からの、カメラモデル番号ＣＡＮＯＮ ＥＯＳ ７０Ｄ）を使用して、色を測定する。光系は、（それを通して光が他方へと出る、ガラスレンズのうち１つの外側円形表面の中央から測定して）約３０ｃｍ離れて配置された、１５０ワット、２４Ｖ電球モデル番号（Ｗｅｎｏｐｈｏｔモデル番号ＨＬ Ｘ６４６４０）を装着し、４５度にて照準される、Ｄｅｄｏライト（モデル番号ＤＬＨ２）により提供され、それにより、光路がＨＡＰディスク上で出会う。Ｕｌｔｒａｇｒａｂ、Ｏｐｔｉｍａｓ、及びＧｉａｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇソフトウェアを備えたＷｈｉｔｅｌｉｇｈｔを用いて、画像解析を実施する。

５．対照
単一ポリマーであるＰＳＰＭに対する通常の対照は、茶への露光後の処理剤としての水、及び、茶への露光をしない水である。更に、ピロホスフェート及びポリホスフェートを内部対照として実施する。

６．結果
Ｌ^＊（輝度）、ａ^＊（赤（＋）／緑（−））、ｂ^＊（黄（−）／青（＋））、及びＥ（全色）の変化を、以下のとおりに計算する：

結果を、平均ΔＬ、Δａ、Δｂ、及び／又はΔＥ、並びに、汚れ（ＡＬ及びＡＥ）対陰性対照の防止率として報告する。

粉末汚れ除去モデル（ＰＳＲＭ）
粉末汚れ除去モデル（ＰＳＲＭ）は、ヒドロキシアパタイト粉末（ＨＡＰ）が、汚れ蓄積用基質として用いられる場合のスクリーニング技術である。この技術の目的は、口腔ケアで用いられる化学薬剤の汚れ除去特性を示し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、茶の色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤形態のいずれかでの口腔ケア活性物質で、汚れたＨＡＰを処理することにより、これらの色原体がＨＡＰ表面に結合することを中断させる活性物質の能力に応じて、異なる度合いの汚れ除去がもたらされる。次に、汚れ除去の規模を、画像解析により定量化することができる。このモデルの試験は、３日で完了することができる。ＰＳＲＭに関する工程を以下に記載する。

１．ＨＡＰの汚れ
２００ｍＬの濾過済み茶内で５分間、１０ｇのＨＡＰ粉末を撹拌することにより、大型バッチの茶汚れＨＡＰを調製する。遠心管に分けて、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離する。２５ｍＬの水を添加し、渦動し、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離することによりペレット剤を洗浄し、液体をピペットで取り除く。渦動中にペレットが分離するようにする。洗浄を繰り返す。

対流式オーブン（５５〜６５℃）に一晩遠心管を配置し、汚れたＨＡＰを乾燥させる。乾燥すると、汚れたＨＡＰを合わせてプールして、乳棒及び乳鉢で粉砕して、微細粉末にする。

２．ＨＡＰ処理
２００ｍｇ〜２１０ｍｇのＨＡＰ粉末（ＢｉｏＧｅｌ（登録商標）ＨＴＰ−Ｇｅｌカタログ番号１３０−０４２１，Ｂｉｏ−Ｒａｄ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ，Ｃａｌｉｆ．）を５０ｍＬの遠心管に入れて測定する。各管に２０ｍＬの処理剤を加える。単純なポリマーに対しては、処理剤は、用いた１００％活性ベースで、ポリマーの２重量％である。歯磨剤配合物のために、練り歯磨きのそれぞれを８ｇ秤量し、標識した丸底の５０ｇ遠心管に入れる。２４ｇの脱イオン水を管に入れる（スラリー比は１：３となる）。１分間撹拌して十分混合し、練り歯磨きの塊がないスラリーを調製する。遠心分離器を用いてスラリーを１５分間１５，０００ｒｐｍで遠心分離し、処理剤として２０ｍＬの上澄みを使用する。管をＩ分間渦動し、処理にＨＡＰを完全に懸濁させた後、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離する。遠心分離後、上澄みをデカントして、２５ｍＬの水を加え、渦動し、１５，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離し、デカントすることによりペレットで再分配する−このとき、ペレット剤が渦動中に分離するようにする。洗浄サイクルを更に１回繰り返す。

３．色分析のためのＨＡＰ調製
完全に懸濁するまで、約１０ｍＬの水の中でペレットを撹拌した後、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅフィルターディスク（膜フィルター、４．５ｔｍ、４７ｍｍ、カタログ番号ＨＡＷＰＯ４７００，Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｂｅｄｆｏｒｄ，Ｍａｓｓ．）上で、真空下にて濾過する。約２００ｍｇの未処理の、汚れたＨＡＰを用いて、対照ディスクを調製する。次に、フィルターディスクを平坦な配置で一晩乾燥させ、その後積層する。

４．汚れたＨＡＰの色分析
白光システム：ＨＡＰディスク（未処理ＨＡＰ対照及びＨＡＰ処理）を、安定化させたサンプルホルダーに配置する。偏光フィルターを装着したレンズを有するデジタルカメラカメラ（アダプタ付きＮＩＫＯＮ ５５ｍｍマイクロＮＩＫＫＯＲレンズ搭載、Ｃａｎｏｎ Ｉｎｃ．，（Ｍｅｌｖｉｌｌｅ，ＮＹ）からの、カメラモデル番号ＣＡＮＯＮ ＥＯＳ ７０Ｄ）を使用して、色を測定する。光系は、（それを通して光が他方へと出る、ガラスレンズのうち１つの外側円形表面の中央から測定して）約３０ｃｍ離れて配置された、１５０ワット、２４Ｖ電球モデル番号（Ｗｅｎｏｐｈｏｔモデル番号ＨＬ Ｘ６４６４０）を装着し、４５度にて照準される、Ｄｅｄｏライト（モデル番号ＤＬＨ２）により提供され、それにより、光路がＨＡＰディスク上で出会う。Ｕｌｔｒａｇｒａｂ、Ｏｐｔｉｍａｓ、及びＧｉａｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇソフトウェアを備えたＷｈｉｔｅｌｉｇｈｔを用いて、画像解析を実施する。

５．対照
単一ポリマーであるＰＳＲＭに対する通常の対照は、茶への露光後の処理剤としての水、及び、茶への露光をしない水である。更に、ピロホスフェート及びポリホスフェートを内部対照として実施する。

６．結果
Ｌ^＊（輝度）、ａ^＊（赤（＋）／緑（−））、ｂ^＊（黄（−）／青（＋））、及びＥ（全色）の変化を、以下のとおりに計算する：

結果を、平均ΔＬ、Δａ、Δｂ、及び／又はΔＥ、並びに、汚れ（ＡＬ及びＡＥ）対陰性対照の防止率として報告する。

インビトロペリクル茶汚れモデル（ｉＰＴＳＭ）
歯の着色汚れはフッ化第一スズ組成物の使用に共通する望ましくない副作用である。本明細書に記載の改良されたフッ化第一スズ歯磨剤は、高分子鉱質界面活性剤に結合したスズからの、より効率的なスズ送達により生じる歯の着色汚れ形成の低減を提供する。一般的に第一スズによって引き起こされる歯表面の着色汚れは、臨床的状況において、文献に記載されているロベーネ（Lobene）又はメッケル（Meckel）指数のような着色汚れ指数を用いて測定される。スズが誘発する汚れの緩和を補助する技術を迅速にスクリーニングするために、フッ化第一スズ配合物の汚れ防止能力を定量的に推定する、インビトロラボ法を使用する。ｉＰＴＳＭ（インビトロペリクル汚れモデル）と呼ばれるこの方法は、臨床観察と強く相関することが示されている。

インビトロペリクル茶汚れモデル（ｉＰＴＳＭ）は、インビトロ歯垢バイオマスを、プールしたヒト刺激唾液からガラス棒上に３日間かけて成長させる技法である。歯垢バイオマスを薬剤で処理して、様々な薬剤の潜在的な歯科汚れレベルを測定する。この技法の目的は、化合物が歯の歯垢着色汚れ量に対する直接的な影響を持つか否かを決定するための単純で迅速な方法を提供することである。この方法は、５分間の期間処理し、その後１０分間の茶処理をした、プールしたヒト唾液からの研磨ガラスロッド上で成長した歯垢を利用する。このインビトロモデルの試験は５日間で完了でき、その間に、対照を含む１２個の処理を評価することができる。

１．粗化ガラスロッド
連続して用いた２４０、３２０、４００、及び６００グリットの炭化ケイ素紙を備える、旋盤上の細くなっていない末端から約２５ｍｍの、新しいガラスロッド（５ｍｍ×９０ｍｍ）を研磨する。最初の研磨の後で、各試験の前にだけ、ロッドを６００グリットの紙で研磨する。

２．唾液収集及び調製
パラフィン刺激により、５〜１０名のパネルから毎日唾液を収集し、必要となるまで４℃で冷蔵する。唾液を注意深く（蝋／粘液に注がないように）プールし、完全に混合する。

３．１日目：希ＨＣｌで超音波処理をすることでガラスロッドをきれいにし、すすぎ、乾燥させて、６００グリットの炭化ケイ素紙で研磨する。ＤＩ水で再びロッドをすすぎ、乾燥させる。ロッドをホルダーに挿入し、処理ラック上の深さゲージで深さを調節し、ゴムＯ−リングでロッドを所定位置に固定する。

午後の早い段階で、０．１重量％のスクロースを添加した７ｍＬの唾液をピペットで取り、浸漬ラック中の１６×７５ｍｍに入れる。最初の日だけ、スクロースを唾液に添加する。１ｒｐｍにて１．５ｃｍの深さまで、粗化ガラスロッドを試験管に浸すように設計されたロッドホルダーを、改良した３７℃インキュベータに配置する。ロッドを一晩浸す。インキュベータの設計を、添付ファイル１に完全に示す。上述の歯垢成長媒体を調製し、２日目にオートクレーブする（唾液は、使用前に２日目に添加する）。

４．２日目：朝に唾液を歯垢成長媒体に添加し、完全に混合する。７ｍＬの歯垢成長培地をピペットで、新しい浸漬ラックの新しい１６／７５ｍｍの試験管に移す。使用した管の古いラックを取り外し、新しい浸漬ラックをインキュベータ内に配置し、一晩浸漬するためにロッドを新しい唾液に交換する前に、ロッドを最低６時間浸漬する。

５．３日目：３日目の朝に、１０ｍＬのＤＩ水をピペットで、処理ラックの２番目及び３番目の、１７×１００ｍｍ試験管に移す。これは歯磨剤処理だけに適用する。すすぎ溶液は、処理ラックに水すすぎ管を有していても、有していなくてもよい。プールした新鮮な唾液を浸漬ラックにピペットで移し、取り分ける。５５０ｍＬをガラスビーカーに添加し、１０分間電子レンジで加熱することにより、茶調製を始める。１０分の終わりに、電子レンジからビーカーを注意深く取り出し、電磁撹拌棒に入れ、加熱しすぎた水のコアが存在する可能性をなくした。５枚のＬｉｐｔｏｎティーバッグ、及び摂氏温度計を水に入れ、ホットプレート上で撹拌する。確実に、茶処理を開始するときに５０℃を超えないように、この溶液を監視する必要がある。茶処理を加熱して混合する間に、手持ち式ホモジナイザーを用いて３０秒間、歯磨剤スラリー（３部の水に対して１部の歯磨剤、１：４希釈液とも言う）を調製する。１５分間１００００ｒｐｍでスラリーを遠心分離する。すすぐか、活性溶液を処理してきれいにする。７ｍＬの５０℃茶溶液をピペットで、別の浸漬ラックに移す。処理ラックの最初の列にある、１６×７５ｍｍのガラス試験管に、５ｍＬの上澄み／すすぎ液を添加する。インキュベータ浸漬機械的構造をオフにして、古い唾液浸漬ラックを取り外す。インキュベータから全てのロッドホルダーを取り外し、浸したロッドを古い唾液浸漬ラックに配置し、乾燥するのを防ぐ。一度に１つのロッドホルダーを用いて、処理ラックに５分間浸漬することで処理する。利用可能であれば、処理ラックにＤＩ水を含有する試験管に２×１０秒浸漬して、ロッドを洗浄する。ロッドホルダーを調製した茶溶液浸漬ラックに配置し、１０分間浸漬する。このプロセスを４つ全てのロッドホルダーに繰り返し、ホルダーを浸漬ラックに戻して乾燥を防ぐ。新鮮な唾液浸漬ラックをインキュベータに配置する。処理／茶浸漬の後、ロッドをインキュベータに戻し、最低１時間、新鮮な唾液に浸漬（soak and dip）する。この処理サイクルを、新鮮な処理／茶／唾液溶液で更に２回、合計で１日に３回の処理で繰り返す。最後の処理の後、ロッドをインキュベータに戻し、新鮮な唾液に一晩浸漬する。

６．４日目：４日目の朝に、インキュベータ浸漬機械的構造をオフにし、唾液からロッドを取り出す。ロッドを乾燥させた後、０．１ｍｇ単位で秤量する。重量を記録して平均の乾燥歯垢バイオマス重量、及び標準偏差を計算する。３ｍＬの０．５Ｍ ＫＯＨを含有する、きれいなキャップ閉め可能な試験管の中にロッドを配置し、キャップをきつく閉めて、３７℃にて一晩分解させる。

７．５日目：５日目にインキュベータからロッドを取り外し、冷却する。ガラスロッドを渦動し、全ての堆積物が均質化するようにする。試験管からロッドを取り出し、０．４５μｍの酢酸セルロース注射器フィルターを通して溶液を濾過し、分光光度計で、３８０ｎｍにおける各ロッドの吸光度値を読み取る。結果を記録し、吸光度値を用いて、処理当たりの平均吸光度値、処理当たりの標準偏差、歯垢１ｍｇ当たりの平均吸光度、歯垢１ｍｇ当たりの平均吸光度の標準偏差、及び、以下の式：
汚れ可能性の割合＝（（試験製品吸光度／バイオマス−非スズ対照吸光度／バイオマス）（高スズ対照吸光度／バイオマス−非スズ対照吸光度／バイオマス））^＊１００
に従った、歯垢１ｍｇ／対照ｍｇ当たりの吸光度の増加率を計算する。

実施例１ ビニルホスホン酸（ＶＰＡ）及びビニルスルホン酸ナトリウム（ＳＶＳ）の共重合

ＶＰＡに対するＳＶＳの初期モル比が４５〜５５である、ＶＰＡ（２．０ｇ、１８．５ｍｍｏｌ）、及びＳＶＳ（２５％水溶液、７．９ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）を、丸底フラスコに充填した。フラスコに窒素を１５分間パージし、９０℃まで加熱した。２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド（ＡＡＰＨ、Ａｌｄｒｉｃｈ、１．２ｍＬ水の中に２５．８ｍｇ、添加した全モノマーに対して０．３％のモル基準）、及び１−オクタンチオール（ＣＴＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ、１．２ｍＬ水の中に５５．６ｍｇ、添加した全モノマーに対して１．１％のモル基準）を含有する、２つの別の水溶液もまた、調製した。これらの２つの溶液を次に、６時間にわたり３０分毎に、モノマーを含有する加熱撹拌したフラスコに添加した。最後の添加の後に、得られる溶液を一晩９０℃で撹拌した。

^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲを、粗反応溶液に実施した。ホスホネート基からは、約３１ｐｐｍにて、ブロードなＰポリマーピークを有して、９５〜９９％の典型的なモノマー転換が観察された。

粗反応溶液を水中の１重量％ポリマーに希釈し、ｐＨを６に調節した。これらの溶液を、５〜７日間、逆浸透水に対する２Ｋ分子量カットオフ透析膜により透析した。

真空下にて得られた溶液から水を取り除き、白〜クリーム色の固体を得、これを更に真空オーブン中で一晩乾燥して、２．７４ｇの固体を得た。

Ｄ_２Ｏ中に精製ポリマー及びリン酸トリメチル（ＴＭＰ）を有するＮＭＲサンプルを調製することにより、ポリマー中のホスホネート含有量を測定した。^１Ｈ及び^３１Ｐ−ＮＭＲを行った。これらにより、ポリマーピーク及び水に対する内標準（ＴＭＰ）のＨ及びＰピークから、ホスホネート含有量を計算した。この分析に基づくと、ポリマーは、５５．７ｍｏｌ％の、ＳＶＳから得られる繰り返し単位、及び、４４．３ｍｏｌ％の、ＶＰＡから得られる繰り返し単位を含有した。含水量を計算すると、重量基準で９．６％であった。透析後のポリマーにおける、モノマーの総回収を計算すると、モル基準で５７％であった。

実施例２ ビニルホスホン酸及びビニルスルホン酸ナトリウム（ＳＶＳ）の共重合
実施例１の手順を、異なる出発比率のＶＳＡ及びＶＰＡに対して繰り返した。異なる出発比率から得られたポリマー組成、及び合計収率を、実施例１を含めて下表１に示す。Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｔａｎｄａｒｄｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ（ＰＳＳ）ＭＣＸ １０００Ａカラム、並びにＷｙａｔｔ ＨＥＬＥＯＳ ＩＩ光散乱検出器及びＷｙａｔｔ Ｏｐｔｉｌａｂ示差屈折率検出器の両方を用いる、Ｗｙａｔｔゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）システムを、内部Ｗｙａｔｔ Ａｓｔｒａ ６ソフトウェアを用いる重合体分子量の計算に使用した。

実施例３ ＶＰＡ ＳＶＳコポリマーでのＰＳＰＭ。
ＰｏｌｙＳｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．から購入した、ポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、ＰＳＰＭモデルに従い、実施例２のポリマーを試験した。結果を、ピロホスフェート及びポリホスフェートと共に、図１及び表２（下）に示す。

実施例４ ＶＰＡ ＳＶＳコポリマーでのＰＳＲＭ。
ＰｏｌｙＳｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．から購入した、ポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、ＰＳＲＭモデルに従い、実施例２のポリマーを試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理と共に、図２及び表３（下）に示す。

実施例５−実施例１及び２の、２０〜３０ｇのスケールアップ
１４８ｍｍｏｌのＶＰＰ及び１２２ｍｍｏｌのＶＳＡを用いて、他の試薬及び溶媒も等しく増加させて、実施例１及び２の手順をスケールアップした。透析及び凍結乾燥の後、２６．８ｇのポリマーを回収し、ＳＶＳベースのモノマーを５４％、そしてＶＰＡベースのモノマーを４６％含有することが分かった。ポリマーは、１０％の不純物／水を含み、重量基準で９０％活性であった。このポリマーを、それぞれ１０．２及び２０．２のΔＬの値を有するＰＳＰＭ及びＰＳＲＭモデルにて試験した。ＰＳＰＭに対する対照は、水２８．０、ＨＡＰ対照液０．０、ピロホスフェート１４．３、ポリホスフェート３．１であり、ＰＳＲＭに対する対照は、水２５．０、ＨＡＰ対照液０．０、ピロホスフェート１３．５、ポリホスフェート１０．７であった。

実施例６−実施例５の配合物及び試験
実施例５のポリマーを、歯磨剤配合物中で試験した。この配合物の組成、及び比較対照を表４に示す。ＰＳＲＭ、ＰＳＰＭ、及びｉＰＴＳＭを配合物で実施し、これらの試験からのデータを同様に、表４に含める。

本実施例の全ての割合は、別途注記のない限り重量による。

組成物を以下のとおりに調製した：
組成物１を、Ｃｒｅｓｔ Ｃａｖｉｔｙ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｒｅｇｕｌａｒ Ｆｌａｖｏｒから商業的に購入した。
組成物２を、Ｃｒｅｓｔ ＰｒｏＨｅａｌｔｈ Ｃｌｅａｎ Ｍｉｎｔ Ｓｍｏｏｔｈ Ｆｏｒｍｕｌａから商業的に購入した。
組成物３は、ポリマー実施例５を添加した、組成物２と同じである。組成物２を高速混合ジャーに秤量した。次に、ポリマー実施例５を高速混合ジャーに加え、均質になるまで高速ミキサーで混合した。次に、ｐＨ電極でｐＨを測定し、５０％ ＮａＯＨ溶液を添加して高速ミキサーで混合し、ｐＨを目標の約６に調節した。
約半分のソルビトールをミキサーに加え、タンクの加熱／冷却ジャケットにより６５℃まで加熱し、真空に引くことにより、組成物４をパイロットスケールミキサーで調製した。別の容器で、１重量％のシリカ、及びヒドロキシエチルセルロース全てを、均質になるまでドライブレンドした後、混合容器中に真空に引いた。アンカーアジテータ及び高剪断ロータ／ステータ装置を使用して、混合物を混合して均質化し、ヒドロキシエチルセルロースの均質性及び水和を確保した。均質になると、ロータ／ステータ装置をオフにした。残りのソルビトール、約２５％の水、及び青色染料全てを添加し、アンカーアジテータを用いて均質になるまで混合した。別の容器で、１重量％のシリカ、サッカリン全て、及びカラギーナン全てをドライブレンドし、高剪断ロータ／ステータ装置及びアンカーアジテータを動かしながら、真空下にて主要混合容器に引き出した。均質になると、ロータ／ステータをオフにした。次に、残りのシリカを真空下にて主要混合容器に引き出し、２６インチ以上の水銀の真空にて、アンカーアジテータを用いて混合した。次に、アンカーアジテータで混合を続けながら、加熱／冷却ジャケットにより約４９℃まで、バッチを冷却した。バッチが４９℃に達すると、アンカーアジテータを停止し、ミキサーを開けて香料及びラウリル硫酸ナトリウム溶液を、バッチの上部に添加した。２４インチの水銀まで真空に引き、アンカーアジテータ及びロータ／ステータを、バッチが均質に混合するまでオンにした。混合後、ロータ／ステータをオフにして、２７インチの水銀まで真空に引き空気を取り除いた。別の容器で、残りの７５％の水を６５Ｃまで加熱した。グルコン酸ナトリウムを水に添加し、溶解するまで混合した。次にフッ化第一スズをグルコネート溶液に添加し、溶解するまで混合した。次に塩化スズをグルコネート溶液に添加し、溶解するまで混合した。この溶液を調製したら、真空下にて主要混合容器に加え、アンカーアジテータを用いて、均質になるまで混合した。混合後、水酸化ナトリウムを真空下にて主要混合容器に加え、アンカーアジテータ及びロータ／ステータを使用して、均質に混合した。均質になったら、ロータ／ステータをオフにして、加熱／冷却ジャケットを３０℃に下げて、２６インチの水銀まで真空に引いた。バッチを真空下にて、温度が３５℃に達するまで混合し、主要混合容器からポンプで取り出した。

実施例７−メチルホスホネートからのＶＰＡ及びＶＳＡ残基を含有するポリマーの合成

ジメチルビニルホスホネート、ＤＭＶＰ（１０．６ｇ、７７．９ｍｍｏｌ）、及びビニルスルホン酸ナトリウム溶液、ＳＶＳ（２５％水溶液、４０．５ｇ、７７．９ｍｍｏｌ）を、１００ｍＬ丸底フラスコに充填した。フラスコに窒素を１５分間パージし、６０℃まで加熱した。過硫酸アンモニウムＡＰＳ、８８８ｍｇ、２．５５％の全モノマーを、４ｇの水に入れて窒素で５分間脱気した。ＡＰＳ溶液を、ＤＭＶＰ及びＳＶＳ含有溶液に添加し、得られた溶液を２４時間、窒素下にて６０℃で撹拌した。

^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲを、粗反応溶液に実施し、ホスホネート基からは、約３７ｐｐｍにて、ブロードなＰポリマーピークを有して、９９％の典型的なモノマー転換が観察された。

粗反応溶液を、２０７ｇの水中で１０重量％ポリマーに希釈した。これに３００ｍＬのアセトンを３０分にわたり、撹拌を続けながら室温で添加し、混濁溶液を得た。分液漏斗で３０分間静置した後、下に粘稠のポリマーリッチシロップ、及び上に流体有機層が形成した。下層を収集し、溶媒を窒素下にて一晩、続いて真空下にて２時間（１トール）で蒸発させ、１５．３ｇの粘着性黄褐色固体を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲを、内標準にリン酸トリメチルを用いてこの固体で実施すると、５０：５０の比率の、ＤＭＶＰ：ＳＶＳ由来基を示した。

粘着性黄褐色固体を３０ｇの水、及び４５ｇの濃ＨＣｌ（約３７％）と混合し、乳白色溶液を得た。この混合物を４８時間還流させ、わずかに茶色の透明溶液を得た。６０℃及び２０トールで作動するロータリーエバポレーターにて、水及びＨＣｌを溶液から取り除き、全体積を約２０ｍＬにした。この残りの画分に、更に１００ｍＬの水を添加し、除去を繰り返した後２００ｍＬの水を添加し、サンプルを冷凍及び凍結乾燥させて、１１．８ｇの黄褐色固体を得た。^３１Ｐ−ＮＭＲは、約３７〜約３２ｐｐｍのポリマーくちばしでシフトを示した一方、^１Ｈ−ＮＭＲは、メチルエステルピークに対応する、約３．８ｐｐｍにてピークポリマーピークの消失を示した。内標準による分析では、約４７〜５３の、硫黄含有基に対するＰ含有基の比率、及び８２．４％の重量活性を示した。

実施例８−ホスホネート及びスルホネート基を含有するポリマーの合成
ビニルホスホネート、メチルビニルホスホネート、スチレンホスホネート、ビニルベンゼンホスホネート、（２−アクリルアミドメチル）ホスホネート、（２−（アクリロイルオキシ）エチル）ホスホネート、（２−（メタクリロイルオキシ）エチル）ホスホネート、（３−（メタクリロイルオキシ）プロピル）ホスホネート、（２−（Ｎ−ブチルアクリルアミド）エチル）ホスホネート、及び（２−（ビニルオキシ）エチル）ホスホネートのプロトン又はナトリウム形態から選択されるホスホネートモノマー、並びに、ビニルスルホネート、メチルビニルスルホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンスルホネート、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホネート、及び２−スルホプロピルアクリレートのナトリウム又はカリウム形態から選択されるスルホネートモノマーを、ガラス製反応容器に、ホスホネート：スルホネート＝１０：９０〜９０：１０のモル比で添加する。全固体は、水中で１０〜５０重量％である。系を脱気して酸素を除去し、撹拌する。フリーラジカル開始剤を添加して溶液を加熱する、又は露光して、開始剤を活性化する。モノマーの消費が更に検出されなくなったときに、反応を停止する。溶媒系抽出又は透析のいずれかにより得られた溶液を精製し、精製生成物を得る。ＰＳＰＭでの精製生成物の試験は、対照液に対して汚れの減少を示す。

本明細書に記載された実施例及び実施形態は例示だけが目的であり、それを考慮した様々な修正又は変更が、その精神及び範囲から逸脱することなく当業者に示唆されるであろうことが理解される。

本明細書にて開示された寸法及び値は、列挙された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきではない。その代わりに、特に指示がない限り、このような寸法はそれぞれ、列挙された値とその値を囲む機能的に同等な範囲との両方を意味することが意図されている。例えば、「４０ｍｍ」と開示された寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することが意図される。

相互参照される又は関連する全ての特許又は特許出願、及び本願が優先権又はその利益を主張する任意の特許出願又は特許を含む、本願に引用される全ての文献は、除外又は限定することを明言しない限り、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。いかなる文献の引用も、本明細書中で開示若しくは特許請求される任意の発明に対する先行技術であるとはみなされず、又はそれを単独で若しくは他の任意の参考文献（単数又は複数）と組み合わせたときに、そのような発明全てを教示、示唆若しくは開示するとはみなされない。更に、本文書における用語の任意の意味又は定義が、参照により組み込まれた文献内の同じ用語の意味又は定義と矛盾する場合、本文書におけるその用語に与えられた意味又は定義が適用されるものとする。

本発明の特定の実施形態を例示及び説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び修正を行うことができる点は当業者には明白であろう。したがって、本発明の範囲内にあるそのような全ての変更及び修正を添付の特許請求の範囲に網羅することが意図されている。

Claims (26)

1. ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ホスホネート基が、式１：
   

   

   ［式中、
   εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
   Ｒ_１は、−−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
   Ｒ_２は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される］
   の構造を有し、
   前記アニオン性基が、前記ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつスルホネートである、口腔ケア組成物。
2. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが前記ホスホネート基を含む、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
3. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが前記アニオン性基を含む、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
4. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが前記アニオン性基を含み、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが前記ホスホネート基を含む、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
5. 前記少なくとも１つのモノマーが、式２：
   

   

   ［式中、
   βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
   Ｒ_３は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
   Ｌ_１は、化学結合、アレーンジイル及び式３：
   

   

   〈式中、
   αは、式２のアルケニル基への結合部位であり、
   βは、式１のホスホネート基への結合部位であり、
   Ｘは、式４〜１０：
   

   

   （式中、Ｒ_４は、−Ｈ、アルキル_{（Ｃ１〜８）}及びホスホノアルキルからなる群から選択される）
   の構造からなる群から選択され、
   Ｙは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
   の構造からなる群から選択される］
   の構造を有する、請求項２に記載の口腔ケア組成物。
6. Ｌ_１が共有結合である、請求項５に記載の口腔ケア組成物。
7. Ｒ_１が−−Ｈ、Ｎａ又はＫカチオンを有する金属塩からなる群から選択され、Ｒ_２が−−Ｈ、Ｎａ又はＫカチオンを有する金属塩からなる群から選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
8. 前記少なくとも１つのモノマーが、式１１：
   

   

   ［式中、Ｒ_５はＨ又はＣＨ_３からなる群から選択され、Ｌ_２はアニオン性基への連結基である］
   で表される構造のアルケニル基を更に含む、請求項３に記載の口腔ケア組成物。
9. 前記少なくとも１つのモノマーが、式１２：
   

   

   ［式中、
   Ｒ_６は、Ｈ及びアルキルからなる群から選択され、
   δは、アニオン性基への結合部位であり、
   Ｌ_３は、化学結合、アレーンジイル及び式１３：
   

   

   〈式中、
   γは、アルケニル基への結合部位であり、
   δは、アニオン性基への結合部位であり、
   Ｗは、式１４〜２０：
   

   

   （式中、Ｒ_７は、−Ｈ及びアルキル_{（Ｃ１〜８）}からなる群から選択される）
   の構造から選択され、
   Ｖは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
   の構造からなる群から選択される］
   で表される構造を有する、請求項３に記載の口腔ケア組成物。
10. Ｌ_３が共有結合である、請求項９に記載の口腔ケア組成物。
11. Ｗの構造が、式１４、式１７及び式１９からなる群から選択される、請求項９に記載の口腔ケア組成物。
12. 前記少なくとも１つのモノマーが、ビニルホスホネート及びメチルビニルホスホネートからなる群から選択される、請求項２に記載の口腔ケア組成物。
13. 前記少なくとも１つのモノマーが、ビニルスルホネート、メチルビニルスルホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンスルホネート、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホネート（ＡＭＰＳ）及び２−スルホプロピルアクリレート（ＳＰＡ）からなる群から選択される、請求項３に記載の口腔ケア組成物。
14. 前記少なくとも１つのモノマーがビニルホスホネートである、請求項２に記載の口腔ケア組成物。
15. 前記少なくとも１つのモノマーがビニルスルホネートである、請求項３に記載の口腔ケア組成物。
16. 前記アニオン性基を含む前記ポリマーを生成するために使用される前記少なくとも１つのモノマーが、ビニルスルホネートであり、前記ホスホネート基を含む前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも１つのモノマーが、ビニルホスホネートである、請求項４に記載の口腔ケア組成物。
17. 前記ビニルホスホネートに対する前記ビニルスルホネートの比が、それぞれ、９９．９：０．１〜０．１：９９．９、好ましくは９９：１〜１：９９、より好ましくは７０：３０〜３０：７０の範囲である、請求項１６に記載の口腔ケア組成物。
18. ホスホネート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ポリマーが：
    

    

    ［式中、
    Ｒ_１は、−Ｈ、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    Ｒ_２は、−Ｈ、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＳｎカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    Ｒ_３は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
    Ｌ_１は、化学結合、アレーンジイル及び式３：
    

    

    〈式中、
    αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
    Ｘは、式４〜１０：
    

    

    （式中、Ｒ_４は、−Ｈ、アルキル_{（Ｃ１〜８）}、ホスホノアルキル及びホスホノ（ホスフェート）アルキルからなる群から選択される）
    の構造からなる群から選択され、
    Ｙは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
    からなる群から選択され、
    Ｒ_５は、−Ｈ及び−ＣＨ_３からなる群から選択され、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    Ｌ_３は、化学結合、アレーンジイル及び式１３：
    

    

    〈式中、
    γは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    Ｗは、式１４〜２０：
    

    

    （式中、Ｒ_７は、−Ｈ及びアルキル_{（Ｃ１〜８）}からなる群から選択される）
    の構造から選択され、
    Ｖは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
    の構造から選択され、
    Ｒ_８は、ポリマー反応開始から得られる化学基であり、
    Ｒ_９は、連鎖停止により得られる化学基である］
    の構造を有する、口腔ケア組成物。
19. Ｒ_８が：
    

    

    ［式中、
    Ｒ_１０は、−Ｈ、Ｎａ、Ｋ及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    τは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    Ｑは、重合で用いたモノマーの非オレフィン残基である］
    の構造からなる群から選択される、請求項１８に記載の口腔ケア組成物。
20. Ｒ_９が：
    

    

    の構造を有し、Ｑが：
    

    

    ［式中、κは、式２７の、式２６への結合部位を示す］
    の構造を有する、請求項１９に記載の口腔ケア組成物。
21. Ｒ_９が：
    

    

    の構造を有し、Ｑが：
    

    

    ［式中、κは、式２８の、式２６への結合部位を示す］
    構造を有する、請求項１９に記載の口腔ケア組成物。
22. Ｒ_９が−Ｈである、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
23. Ｒ_９が、頭部−頭部結合を有する別のポリマー鎖である、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
24. 前記組成物が、前記組成物の約５重量％〜約７０重量％の水を更に含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
25. 前記組成物が、前記組成物の約０．１重量％〜約１１重量％の金属イオン塩を更に含む、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
26. 前記金属イオン塩がフッ化第一スズである、請求項２５に記載の口腔ケア組成物。

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