JP2021186886A - Cutting blade, cutting blade manufacturing method and electronic material manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、生産効率を向上することが可能な切断用ブレード、切断用ブレード製造方法、電子材料製造方法に関する。 The present invention relates to a cutting blade, a cutting blade manufacturing method, and an electronic material manufacturing method capable of improving production efficiency.
周知のように、半導体材料等の基板を切断してチップ状に個片化する際に、例えば、Cu−Snを主成分とするメタルボンド相を焼結により形成する際に砥粒を分散配置して構成された切断用ブレード(メタルブレード)が用いられている(例えば、特許文献1参照。)。 As is well known, when a substrate such as a semiconductor material is cut into pieces into chips, for example, when a metal bond phase containing Cu—Sn as a main component is formed by sintering, abrasive grains are dispersed and arranged. A cutting blade (metal blade) is used (see, for example, Patent Document 1).
また、半導体材料等の基板を個片化する切断用ブレードとしては、メタルボンド相を備えたメタルブレードの他、レジンボンド相を備えたレジンブレードやビトリファイドボンド相を有するビトリファイドブレードが用いられている(例えば、特許文献2、3参照。)。
Further, as a cutting blade for separating a substrate such as a semiconductor material, a metal blade having a metal bond phase, a resin blade having a resin bond phase, and a vitrified blade having a vitrified bond phase are used. (See, for example,
このような切断用ブレードは、ボンド相(例えば、メタルボンド相)に分散された砥粒が、被切断材に切り込んで切断するようになっており、ボンド相に保持された砥粒が切断負荷や摩耗によって切断用ブレードの外周縁から脱落して切れ刃が自生発刃され、切断用ブレードの切削性能が確保される。 In such a cutting blade, the abrasive grains dispersed in the bond phase (for example, the metal bond phase) cut into the material to be cut and cut, and the abrasive grains held in the bond phase are used for cutting load. The cutting edge is spontaneously generated by falling off from the outer peripheral edge of the cutting blade due to wear or wear, and the cutting performance of the cutting blade is ensured.
しかしながら、被切断材を切断する際には、バリ等が被加工材の表面に突出するのが一般的である。そのため、被加工材を切断した後に、切断した際に被切断材表面に突出したバリ等を除去する必要がある。 However, when cutting the material to be cut, burrs and the like generally protrude on the surface of the material to be cut. Therefore, after cutting the material to be processed, it is necessary to remove burrs and the like protruding from the surface of the material to be cut when the material is cut.
この発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、被加工材として電子材料を切断する際に、基板を切断して効率的に個片化することが可能な切断用ブレード、切断用ブレード製造方法、電子材料製造方法を提供することを目的としている。 The present invention has been made in consideration of such circumstances, and is a cutting blade capable of cutting a substrate and efficiently individualizing it when cutting an electronic material as a work material. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a cutting blade and a method for manufacturing an electronic material.
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
(1)本発明の第1態様は、軸線の廻りに回転されて切れ刃により被加工材を加工する切断用ブレードであって、円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され外周部に切れ刃が配置されたブレード本体と、円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され、前記ブレード本体よりも摩耗速度が大きく設定されるとともに、前記ブレード本体よりも小径に形成され前記被加工材の表面を処理する少なくとも一つの表面処理ブレードと、を備え、前記表面処理ブレードは、前記ブレード本体の前記軸線方向における少なくともいずれか一方の側面に配置されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
(1) The first aspect of the present invention is a cutting blade that is rotated around an axis and processes a work piece by a cutting edge, in which abrasive grains are dispersed and arranged in a bond phase formed in a disk shape. Abrasive grains are dispersedly arranged in the blade body in which the cutting edge is arranged on the outer peripheral portion and the bond phase formed in a disk shape, the wear rate is set higher than that in the blade body, and the diameter is smaller than that in the blade body. The surface-treated blade is provided with at least one surface-treated blade formed on the blade to treat the surface of the material to be processed, and the surface-treated blade is arranged on at least one side surface of the blade body in the axial direction. It is a feature.
本発明に係る切断用ブレードによれば、円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され外周部に切れ刃が配置されたブレード本体と、円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され、ブレード本体よりも摩耗速度が大きく設定されるとともに、ブレード本体よりも小径に形成され被加工材の表面を処理する表面処理ブレードと、を備え、表面処理ブレードはブレード本体の軸線方向における少なくともいずれか一方の側面に配置されているので、被加工材を切断する際に生じたバリ等の突出物を、切断と同時に表面処理(除去)することができる。
その結果、被加工材として電子材料を切断する際に、基板を切断して効率的に個片化することができる。
According to the cutting blade according to the present invention, the blade main body in which the abrasive grains are dispersed and arranged in the bond phase formed in the disk shape and the cutting edge is arranged in the outer peripheral portion, and the bond phase formed in the disk shape. The abrasive grains are distributed and arranged, the wear rate is set higher than that of the blade body, and the surface treatment blade is formed to have a smaller diameter than the blade body and treats the surface of the work material. The surface treatment blade is the blade body. Since it is arranged on at least one side surface in the axial direction of the machine, protrusions such as burrs generated when cutting the work material can be surface-treated (removed) at the same time as cutting.
As a result, when cutting an electronic material as a work material, the substrate can be cut and efficiently separated into individual pieces.
ここで、切断用ブレードは、ブレード本体と表面処理ブレードの接続については任意に設定してもよい。例えば、接続部材(接着材、粘着剤、粘着(両面、片面)テープ)により接続(貼着)してもよいし、締結部材を用いて接続してもよい。また、ブレード本体と表面処理ブレードが一体に形成されていてもよい。 Here, the cutting blade may be arbitrarily set for the connection between the blade body and the surface treatment blade. For example, it may be connected (attached) by a connecting member (adhesive, adhesive, adhesive (double-sided, single-sided) tape), or may be connected by using a fastening member. Further, the blade body and the surface treatment blade may be integrally formed.
また、被加工材の表面を処理(表面処理)とは、例えば、被切断材の表面と接触して突出部(例えば、切断で生じたバリ等)を除去することのほか、バリ等の突出部を被切断材の表面から一定高さ以下にすることをいう。 Further, the treatment of the surface of the material to be processed (surface treatment) means, for example, removing protrusions (for example, burrs generated by cutting) in contact with the surface of the material to be cut, as well as protrusions of burrs and the like. It means to make the part below a certain height from the surface of the material to be cut.
また、表面処理ブレードがブレード本体よりも摩耗速度が大きく設定されるとは、切断用ブレードが被加工材を切断する際に、表面処理ブレードがブレード本体の摩耗に追従することをいい、切断(加工)する際に、表面処理ブレードがブレード本体に先行して摩耗することを意味しない。 Further, the fact that the wear rate of the surface-treated blade is set to be higher than that of the blade body means that the surface-treated blade follows the wear of the blade body when the cutting blade cuts the material to be machined. It does not mean that the surface-treated blade wears prior to the blade body during processing).
また、ブレード本体よりも小径に形成されているとは、ブレード本体の外径(半径)>(被切断材の厚さ)+(表面処理ブレードの外径(半径))、言い換えると、表面処理ブレードの表面からのブレード本体の突出量(=切れ刃の突出量)>被切断材の厚さ、であることをいう。なお、上記構成とすることにより、切断加工において、表面処理ブレードがブレード本体の摩耗に追従することで、切断用ブレードは、寿命を迎える時点でも、ブレード本体の外径(半径)>(被切断材の厚さ)+(表面処理ブレードの外径(半径))が維持されるが、切断用ブレードの寿命については任意に設定することが可能である。 Further, the fact that the diameter is smaller than that of the blade body means that the outer diameter (radius) of the blade body> (thickness of the material to be cut) + (outer diameter (radius) of the surface-treated blade), in other words, the surface treatment. The amount of protrusion of the blade body from the surface of the blade (= amount of protrusion of the cutting edge)> the thickness of the material to be cut. With the above configuration, the surface treatment blade follows the wear of the blade body in the cutting process, so that the cutting blade has the outer diameter (radius) of the blade body> (to be cut) even at the end of its life. The thickness of the material) + (outer diameter (radius) of the surface treatment blade) is maintained, but the life of the cutting blade can be set arbitrarily.
なお、ブレード本体と表面処理ブレードを構成するボンド相は、メタル相、レジン相、ビトリファイド相のうち、異なる種類により形成してもよいし、同種類の材料により形成してもよい。 The bond phase constituting the blade body and the surface treatment blade may be formed of a different type from the metal phase, the resin phase, and the vitrified phase, or may be formed of the same type of material.
(2)上記(1)に記載の切断用ブレードであって、前記表面処理ブレードは、前記軸線方向における前記ブレード本体の両方の側面に配置されていることを特徴とする。 (2) The cutting blade according to (1) above, wherein the surface treatment blade is arranged on both side surfaces of the blade main body in the axial direction.
本発明に係る切断用ブレードによれば、表面処理ブレードは、軸線方向におけるブレード本体の両方の側面に配置されているので、被切断材を切断する場合に、被切断材の切断部の左右両側の表面を効率的に表面処理することができる。
また、切断用ブレードにおける表面処理にともなう荷重を、切断用ブレードの軸線方向両側でバランスを取って安定して切断することができる。
According to the cutting blade according to the present invention, since the surface treatment blades are arranged on both side surfaces of the blade body in the axial direction, when cutting the material to be cut, both the left and right sides of the cut portion of the material to be cut The surface of the surface can be efficiently surface-treated.
In addition, the load associated with the surface treatment of the cutting blade can be balanced and stably cut on both sides in the axial direction of the cutting blade.
(3)上記(1)又は(2)に記載の切断用ブレードであって、前記表面処理ブレードのボンド相は、前記ブレード本体のボンド相よりも硬度が低い材料で形成されていることを特徴とする。 (3) The cutting blade according to (1) or (2) above, wherein the bond phase of the surface-treated blade is made of a material having a hardness lower than that of the bond phase of the blade body. And.
本発明に係る切断用ブレードによれば、表面処理ブレードのボンド相は、ブレード本体のボンド相よりも硬度が低い材料で形成されているので、切断する際に、ブレード本体に追従して摩耗する。したがって、切断に際してブレード本体が摩耗して切り込み量を増加する場合に、表面処理ブレードが被切断材の表面に食い込んで過剰に除去するのを抑制することができる。 According to the cutting blade according to the present invention, since the bond phase of the surface-treated blade is made of a material having a hardness lower than that of the bond phase of the blade body, it wears following the blade body when cutting. .. Therefore, when the blade body is worn during cutting and the cutting amount is increased, it is possible to prevent the surface-treated blade from biting into the surface of the material to be cut and removing it excessively.
ここで、硬度が低いとは、柔らかいことを意図する趣旨であり、例えば、予定される被切断材の表面に表面処理ブレードを(表面処理と同じ条件で)接触させたときの表面処理ブレードの摩耗速度が、被切断材を切断する際の切断用ブレードの摩耗速度よりも小さいことにより検証してもよい。また、例えば、ビッカース硬さ(JIS Z 2244:2009)等を適用してもよい。 Here, low hardness means that it is intended to be soft, for example, when the surface treatment blade is brought into contact with the surface of the planned material to be cut (under the same conditions as the surface treatment), the surface treatment blade is used. It may be verified that the wear rate is smaller than the wear rate of the cutting blade when cutting the material to be cut. Further, for example, Vickers hardness (JIS Z 2244: 2009) or the like may be applied.
(4)上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の切断用ブレードであって、前記ブレード本体のボンド相は、メタルボンド相とされ、前記表面処理ブレードのボンド相は、レジンボンド相とされていることを特徴とする。 (4) The cutting blade according to any one of (1) to (3) above, wherein the bond phase of the blade body is a metal bond phase, and the bond phase of the surface treatment blade is a resin. It is characterized by being a bond phase.
本発明に係る切断用ブレードによれば、ブレード本体のボンド相がメタルボンド相とされ、表面処理ブレードのボンド相がレジンボンド相とされているので、効率的に製造することができる。 According to the cutting blade according to the present invention, since the bond phase of the blade body is a metal bond phase and the bond phase of the surface-treated blade is a resin bond phase, it can be efficiently manufactured.
(5)上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の切断用ブレードであって、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、前記接続部材は、接着剤が硬化した樹脂により構成されていることを特徴とする。 (5) The cutting blade according to any one of (1) to (3) above, comprising a connecting member for connecting the blade main body and the surface treatment blade, and the connecting member is an adhesive. Is characterized by being composed of a cured resin.
本発明に係る切断用ブレードによれば、ブレード本体と表面処理ブレードとが、接着剤が硬化した樹脂により接続されているので、効率的に製造することができる。また、ブレード本体と表面処理ブレードの軸線方向における接続間隔を小さくして、被切断材を安定して切断することができる。 According to the cutting blade according to the present invention, the blade body and the surface-treated blade are connected by a resin having a cured adhesive, so that the blade can be efficiently manufactured. Further, the connection interval between the blade body and the surface-treated blade in the axial direction can be reduced to stably cut the material to be cut.
なお、接着剤としては、経時変化、乾燥、温度等の物理的条件、化学反応等によって硬化することで、ブレード本体と表面処理ブレードとを接続するものをいい、流動性を有する接着樹脂、常温では流動性がなく温度等物理的条件によって流動性を有し硬化することで接着剤として機能するもの、紫外線により硬化する紫外線硬化性樹脂や嫌気性接着剤等が含まれる。
また、接着樹脂部(接着剤)は、導電性物質等の混合物が分散される等、複数の物質により構成されていてもよい。
The adhesive refers to an adhesive that connects the blade body and the surface-treated blade by being cured by physical conditions such as aging, drying, and temperature, chemical reaction, etc., and is an adhesive resin having fluidity and normal temperature. Includes those that do not have fluidity, have fluidity depending on physical conditions such as temperature, and function as an adhesive by being cured, an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet rays, an anaerobic adhesive, and the like.
Further, the adhesive resin portion (adhesive) may be composed of a plurality of substances such that a mixture such as a conductive substance is dispersed.
(6)上記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の切断用ブレードであって、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、前記接続部材は、粘着剤により構成されていることを特徴とする。 (6) The cutting blade according to any one of (1) to (4) above, comprising a connecting member for connecting the blade main body and the surface treatment blade, and the connecting member is an adhesive. It is characterized by being composed of.
本発明に係る切断用ブレードによれば、ブレード本体と表面処理ブレードとが、粘着剤により接続されているので、ブレード本体と表面処理ブレードとを接続する際に硬化させる時間が必要なく効率的に生産することができる。 According to the cutting blade according to the present invention, since the blade main body and the surface treatment blade are connected by an adhesive, it is not necessary to cure the blade main body and the surface treatment blade efficiently. Can be produced.
(7)上記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の切断用ブレードであって、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、前記接続部材は、両面テープにより構成されていることを特徴とする。 (7) The cutting blade according to any one of (1) to (4) above, comprising a connecting member for connecting the blade main body and the surface treatment blade, and the connecting member is a double-sided tape. It is characterized by being composed of.
本発明に係る切断用ブレードによれば、ブレード本体と表面処理ブレードとが、両面テープにより接続されているので、効率的に製造することができる。 According to the cutting blade according to the present invention, since the blade main body and the surface treatment blade are connected by double-sided tape, it can be efficiently manufactured.
ここで、両面テープとは、テープ基材の両面に粘着性を有する樹脂が配置されたもの、粘着性を有する樹脂(以下、粘着性樹脂という)がシート状に形成されることで両側の面に粘着性を有する構成とされたもの、テープ基材の両面に接着剤が配置されたもの、シート状に形成されたシート状接着樹脂等、任意の構成のものが含まれる。 Here, the double-sided tape is a tape in which an adhesive resin is arranged on both sides of a tape base material, and an adhesive resin (hereinafter referred to as an adhesive resin) is formed in a sheet shape on both sides. Includes those having an adhesive structure, those having an adhesive arranged on both sides of a tape base material, those having a sheet-like adhesive resin formed in a sheet shape, and the like.
(8)本発明の第2態様は、上記(5)に記載の切断用ブレード製造方法であって、ブレード本体を形成するブレード本体形成工程と、表面処理ブレードを形成する表面処理ブレード形成工程と、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードの間に嫌気性接着剤を配置(塗布)し、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを同軸に配置して前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを前記軸線方向に押圧することにより、前記ブレード本体に前記表面処理ブレードを貼着する表面処理ブレード接続工程と、を備えることを特徴とする。 (8) The second aspect of the present invention is the cutting blade manufacturing method according to (5) above, wherein the blade main body forming step for forming the blade main body and the surface treatment blade forming step for forming the surface treatment blade An anaerobic adhesive is placed (applied) between the blade body and the surface treatment blade, the blade body and the surface treatment blade are arranged coaxially, and the blade body and the surface treatment blade are aligned with each other. It is characterized by comprising a surface treatment blade connecting step of attaching the surface treatment blade to the blade body by pressing in a direction.
本発明に係る切断用ブレード製造方法によれば、ブレード本体形成工程においてブレード本体を形成し、表面処理ブレード形成工程において表面処理ブレードを形成し、表面処理ブレード接続工程において上記ブレード本体と表面処理ブレードの間に嫌気性接着剤を配置(例えば、塗布)し、ブレード本体と表面処理ブレードとを同軸に配置するとともに、軸線方向に押圧してブレード本体と表面処理ブレードとを貼着するので、切断用ブレードを効率的に製造することができる。 According to the cutting blade manufacturing method according to the present invention, the blade body is formed in the blade body forming step, the surface treatment blade is formed in the surface treatment blade forming step, and the blade body and the surface treatment blade are formed in the surface treatment blade connection step. An anaerobic adhesive is placed (for example, applied) between the blades, the blade body and the surface treatment blade are arranged coaxially, and the blade body and the surface treatment blade are attached by pressing in the axial direction, so that the blade body and the surface treatment blade are cut. Blades can be manufactured efficiently.
ここで、ブレード本体と表面処理ブレードの間に嫌気性接着剤を配置するとは、ブレード本体と表面処理ブレードの対向する面の少なくともいずれか一方に、嫌気性接着剤を配置することをいう。また、嫌気性接着剤を配置する際には、ディスペンサーや印刷、刷毛、ドクターブレード等による引き伸ばしによる塗布の他、スピンコートにより配置すること、スプレー等によって噴霧して配置すること等、種々の手段を適用してもよい。 Here, arranging the anaerobic adhesive between the blade body and the surface-treated blade means arranging the anaerobic adhesive on at least one of the facing surfaces of the blade body and the surface-treated blade. In addition, when arranging the anaerobic adhesive, various means such as coating by stretching with a dispenser, printing, a brush, a doctor blade, etc., arranging by spin coating, spraying by spraying, etc., etc. May be applied.
(9)本発明の第3態様は、上記(1)〜(7)のいずれか1項に記載の切断用ブレードを用いて、個片化された電子材料を製造する電子材料製造方法であって、複数の電子材料が配置された被加工材を準備する被加工材準備工程と、前記被加工材を前記切断用ブレードと加工テーブルとが相対移動するパスラインに合わせて加工テーブルに設置する被加工材設置工程と、前記切断用ブレードの前記表面処理ブレードの外周面を前記被加工材の表面に対して設定高さに設定する切断用ブレード設定工程と、前記切断用ブレードと加工テーブルとを相対移動させて、前記被加工材を厚さ方向に切断しながら前記表面処理ブレードによって前記被加工材を表面処理することを特徴とする。 (9) A third aspect of the present invention is an electronic material manufacturing method for manufacturing an individualized electronic material by using the cutting blade according to any one of (1) to (7) above. Then, the work material preparation process for preparing the work material on which a plurality of electronic materials are arranged and the work material are installed on the work table according to the path line in which the cutting blade and the work table move relative to each other. The work material installation process, the cutting blade setting step of setting the outer peripheral surface of the surface treatment blade of the cutting blade to a set height with respect to the surface of the work material, and the cutting blade and the processing table. The material to be processed is relatively moved to surface-treat the material to be processed by the surface-treated blade while cutting the material to be processed in the thickness direction.
本発明に係る電子材料製造方法によれば、複数の電子材料が配置された被加工材を準備する被加工材準備工程と、被加工材を切断用ブレードと加工テーブルとが相対移動するパスラインに合わせて加工テーブルに設置する被加工材設置工程と、切断用ブレードの表面処理ブレードの外周面を被加工材の表面に対して設定高さに設定する切断用ブレード設定工程と、切断用ブレードと加工テーブルとを相対移動させて、被加工材を厚さ方向に切断しながら表面処理ブレードによって被加工材を表面処理する。
その結果、被加工材として電子材料を切断する際に、基板を切断して効率的に個片化することができる。
According to the electronic material manufacturing method according to the present invention, a work material preparation process for preparing a work material in which a plurality of electronic materials are arranged and a pass line in which a blade for cutting the work material and a processing table move relative to each other. The processing material installation process to be installed on the processing table according to the above, the cutting blade setting process to set the outer peripheral surface of the surface treatment blade of the cutting blade to the set height with respect to the surface of the processing material, and the cutting blade. And the processing table are moved relative to each other, and the material to be processed is surface-treated by the surface treatment blade while cutting the material to be processed in the thickness direction.
As a result, when cutting an electronic material as a work material, the substrate can be cut and efficiently separated into individual pieces.
本発明に係る切断用ブレード、切断用ブレード製造方法、電子材料製造方法によれば、被加工材として電子材料を切断する際に、切断と被加工材の表面処理を同時にすることができる。 According to the cutting blade, the cutting blade manufacturing method, and the electronic material manufacturing method according to the present invention, when cutting an electronic material as a work material, cutting and surface treatment of the work material can be performed at the same time.
〔第1実施形態〕
以下、図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態に係る切断用ブレードについて説明する。図1は第1実施形態に係る切断用ブレードの軸線を含む断面を模式的に示す図であり、図2は切断用ブレードの概略構成を説明する斜視図であり、図3は切断用ブレードの概略構成を説明する部分的に示す拡大図である。
なお、本発明の実施形態の説明に用いる図面は、発明の特徴をわかりやすくするために、要部となる部分、各構成要素の寸法比率を拡大、強調、抜粋して示している場合があるものとする。
[First Embodiment]
Hereinafter, the cutting blade according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section including an axis of the cutting blade according to the first embodiment, FIG. 2 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the cutting blade, and FIG. 3 is a perspective view of the cutting blade. It is an enlarged view partially showing explaining the schematic structure.
In addition, the drawings used for explaining the embodiments of the present invention may be shown by enlarging, emphasizing, or excerpting the main parts and the dimensional ratios of each component in order to make the features of the invention easy to understand. It shall be.
図1〜図3において、符号100は切断用ブレードを、符号10はブレード本体を、符号11は外周面を、符号11Aは切れ刃を、符号15はメタルボンド相を、符号16は超砥粒(砥粒)を、符号20は表面処理ブレードを、符号21は外周面を、符号21Aは表面処理部を、符号25はレジンボンド相を、符号26は超砥粒(砥粒)を、符号30は接着樹脂層(接続部)を示している。
In FIGS. 1 to 3,
第1実施形態に係る切断用ブレード100は、図1、図2に示すように、例えば、軸線Oの廻りに回転される。そして、ブレード本体10が切れ刃11Aによって被切断材(不図示)を切断するとともに、表面処理ブレード20が表面処理部21Aによって被切断材の表面に生じたバリ等を除去(表面処理)して個片化する切断用ブレードである。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
また、切断用ブレード100は、半導体デバイス(電子材料部品)に用いられる例えばガラス、セラミックス、石英等の脆性材料(硬脆材料)、化合物半導体素子や電子部品基板等の被切断材の精密切断加工に使用される。
具体的に、この切断用ブレード100は、被切断材(被加工材)として、例えば、パワーデバイスに用いられる炭化ケイ素(SiC)や車載用LEDのベース材となる高純度アルミナ(Al2O3)や窒化アルミ(AlN)、LEDチップのベース材となるサファイア等、非常に硬度が高く、いわゆる難削材からなる精密切断加工に用いられる。
Further, the
Specifically, the
また、切断用ブレード100は、特に図示しないが、中央の円形穴100Hがフランジを介して切断装置の主軸に取り付けられ、軸線(中心軸)Oの回りに回転されつつ軸線Oに垂直な方向(例えば、高さ方向)に移動されることにより、フランジより径方向外側に突出された外周縁部の切れ刃11Aで被切断材を切断する。その後、表面処理ブレード20により、切断時に被切断材の表面に生じたバリ等を除去(表面処理)する。
ここで、本明細書においては、ブレード本体10の中心軸O方向に沿う方向を厚さ方向又は幅方向といい、中心軸Oに直交する方向を径方向といい、中心軸O回りに周回する方向を周方向という場合がある。
Further, although not particularly shown, the
Here, in the present specification, the direction along the central axis O direction of the blade
切断用ブレード100は、図1〜図3に示すように、例えば、円板状に形成されたブレード本体10と、切れ刃11Aと、円板状に形成された表面処理ブレード20と、表面処理部21Aと、接着樹脂層(接続部材)30と、を備え、表面処理ブレード20はブレード本体10の軸線方向Oの両方の側面12A、12B(12)に接着樹脂層30により接続されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
また、切断用ブレード100を軸線Oに沿ってみたときの中心部には、厚さ方向(軸線O方向)に貫通する円形穴100Hが形成され、略円形リング板状とされている。ここで、本実施形態でいう上記円板状には、円板の中央に穴を有する円環板状が含まれる。
Further, a
そして、円形穴100Hには、切断加工装置の主軸が挿通可能とされていて、円形穴100Hの外周縁部には、切断用ブレード100を切断加工装置の主軸に固定するフランジ部材(不図示)が装着され、切断用ブレード100を軸線O方向両側から押圧して固定するようになっている。
そして、切断用ブレード100は、軸線Oの廻りに回転されて、切れ刃11Aにより被切断材(被加工材、不図示)を切断加工(加工)する。
The main shaft of the cutting machine can be inserted into the
Then, the
ここで、ブレード本体10、表面処理ブレード20、接着樹脂層30の寸法については任意に設定することが可能であるが、この実施形態では、例えば、ブレード本体10は、外径が52.6mm、刃厚(軸線O方向の寸法)が50μm、表面処理ブレード20の寸法は、外径が50.6mm、厚さが150μm、円形穴100Hの内径が40mm、接着樹脂層30の厚さが10μmに形成されている。すなわち、切れ刃11Aの突出量は1mm、切断用ブレード100の全体の厚さ(軸線O方向の寸法)は360μmに設定されている。
Here, the dimensions of the blade
ブレード本体10は、図1〜図3に示すように、例えば、円板状に形成され金属からなるメタルボンド相15と、メタルボンド相15に分散配置されたダイヤモンド超砥粒(砥粒)16と、ブレード本体10の外周面11に形成された切れ刃11Aと、を備えている。また、軸線Oに沿って見たときの中心部には、円形穴100Hが形成されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
メタルボンド相15を構成する金属は任意に設定することが可能であるが、例えば、ニッケル(Ni)又はニッケル合金を主成分とする合金が好適である。また、ニッケルを主成分とする合金としては、例えば、ニッケル−リン(Ni−P)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、ニッケル−ボロン(Ni−B)を適用することが好適である。
The metal constituting the
また、ダイヤモンド超砥粒16は、例えば、3〜10μm(平均粒径5μm)を、集中度は50〜125のダイヤモンドによって構成されている。なお、超砥粒16の平均粒径及び集中度は任意に設定することができる。
また、ダイヤモンド超砥粒16は、図3に示すように、例えば、ブレード本体10の外周部(外周面11及び外周面11近傍の軸線O方向の外側の側面)に約2μm程度露出している。
Further, the
Further, as shown in FIG. 3, the
ここで、「集中度」とは、工具中の砥粒量を表す指標である。切断用ブレードの場合、ブレード本体全体の体積に対して、砥粒の体積が25vol%を占有するとき、集中度100と規定する。(よって、ブレード本体のすべてが砥粒で構成されている場合は、集中度400となる。) Here, the "concentration ratio" is an index showing the amount of abrasive grains in the tool. In the case of a cutting blade, the concentration level is defined as 100 when the volume of the abrasive grains occupies 25 vol% with respect to the volume of the entire blade body. (Therefore, when all of the blade body is composed of abrasive grains, the concentration ratio is 400.)
ここで、上記「平均粒径」とは、多数の超砥粒16の粒径の平均値を表しており、例えば、ある粒径範囲をもった超砥粒16をMicrotrac社(登録商標)製の型式MT3300EXII−SDC等により測定し、平均粒径をメッシュサイズに基づく粒度表示(JIS B 4130:1998を参照)により算出する等の方法が取られる。
Here, the above "average particle size" represents an average value of the particle sizes of a large number of
また、ブレード本体10の加工性、剛性等、種々の機能を向上することを目的として、メタルボンド相15に二硫化モリブデン(MoS2)、シリカバルーンやガラスバルーン等の中空微粒子、炭化ケイ素(SiC)や炭化タングステン(WC)等のフィラー(不図示)を分散させてもよい。メタルボンド相15にフィラー(不図示)を分散させるかどうかや、分散させる場合のフィラーの種類については任意に設定することができる。
Further, for the purpose of improving various functions such as workability and rigidity of the
表面処理ブレード20は、図1〜図3に示すように、例えば、円板状に形成され樹脂からなるレジンボンド相25と、レジンボンド相25に分散されるダイヤモンド超砥粒26と、レジンボンド相25の外周面(外周部)21に形成された表面処理部21Aと、を備えている。また、軸線Oに沿って見たときの中心部には、円形穴100Hが形成されている。
すなわち、表面処理ブレード20は、ブレード本体10よりも硬度が低く柔らかい材料により形成されていて、被加工材を切断する場合に、表面処理ブレード20の方がブレード本体10より摩耗速度が大きくなるように設定されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
That is, the surface-treated
表面処理ブレード20の表面処理部21Aは、図3に示すように、表面処理ブレード20の厚さと等しい幅とされた表面処理ブレード20の外周面21に形成されている。
そして、表面処理部21Aの表面からダイヤモンド超砥粒26が約2μm程度露出した構成とされている。
As shown in FIG. 3, the
The
レジンボンド相25は、例えば、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂により形成されている。図1および図2に示すように、レジンボンド相25は、中心軸Oを中心とする円板状(円環板状)である。
The
また、ダイヤモンド超砥粒26は、例えば、平均粒径0.5〜120μmとされ、集中度は25〜200とされている。なお、特に図示しないが、ダイヤモンド超砥粒(砥粒)26の外面(表面)には、例えばTi等の金属材料が被覆されていてもよい。
なお、ダイヤモンド超砥粒26の平均粒径については上記ダイヤモンド超砥粒16の場合と同様であるので説明を省略する。
また、ダイヤモンド超砥粒26に代えて、例えば、cBNやcBN以外の硬質材料(ただし、レジンボンド相25よりも硬質の材料)を用いてもよい。
Further, the
Since the average particle size of the
Further, instead of the
また、表面処理ブレード20の加工性、剛性等、種々の機能を向上することを目的として、レジンボンド相25に炭化ケイ素(SiC)、炭化タングステン(WC)や酸化亜鉛(ZnO)等のフィラー(不図示)を分散させてもよい。レジンボンド相25にフィラー(不図示)を分散させるかどうかや、分散させる場合のフィラーの種類については任意に設定することができる。
Further, for the purpose of improving various functions such as workability and rigidity of the
接着樹脂層(接続部材)30は、実用性(例えば、切断、表面処理における強度や耐熱、耐水性等)が確保される範囲で任意に設定可能であるが、ブレード本体10と表面処理ブレード20に挟まれた空間で効率的に効果する点で、例えば、嫌気性接着剤が好適である。嫌気性接着剤を用いる場合には、例えば、ブレード本体10の側面12と、表面処理ブレード20の側面22の表面粗さRmax0〜20μm(JIS B0601−1982)のスムースな仕上面とされていることが好適である。
なお、嫌気性接着剤に代えて、例えば、エポキシ樹脂やシアノアクリレート樹脂を主成分とする接着剤や紫外線硬化接着剤等を適用してもよい。この場合には、ブレード本体10の側面12と、表面処理ブレード20の側面22の表面粗さはRmax5〜50μmに形成されていることが好適である。
The adhesive resin layer (connecting member) 30 can be arbitrarily set as long as practicality (for example, strength and heat resistance in cutting and surface treatment, water resistance, etc.) is ensured, but the
Instead of the anaerobic adhesive, for example, an adhesive containing an epoxy resin or a cyanoacrylate resin as a main component, an ultraviolet curable adhesive, or the like may be applied. In this case, it is preferable that the surface roughness of the
また、切断用ブレード100の両側の側面102A、102B(102)にダイヤモンド超砥粒26を露出させるかどうかは任意に設定することができる。
Further, it can be arbitrarily set whether or not the
次に、図4を参照して、第1実施形態に係る切断用ブレードの製造工程の概略の一例を説明する。図4は、第1実施形態に係る切断用ブレードの製造方法の概略を説明するフローチャートである。
第1実施形態に係る切断用ブレード製造工程は、図4に示すように、例えば、ブレード本体形成工程(S01)、表面処理ブレード形成工程(S02)、接着剤塗布工程(S03)、位置合わせ(同軸化)工程(S04)、押圧、固定工程(S05)を備え、これらを経て切断用ブレード100が完成する。
Next, with reference to FIG. 4, an outline example of the manufacturing process of the cutting blade according to the first embodiment will be described. FIG. 4 is a flowchart illustrating an outline of a method for manufacturing a cutting blade according to the first embodiment.
As shown in FIG. 4, the cutting blade manufacturing process according to the first embodiment is, for example, a blade body forming step (S01), a surface treatment blade forming step (S02), an adhesive application step (S03), and alignment ( A coaxialization) step (S04), pressing, and fixing step (S05) are provided, and the
(1)ブレード本体形成工程(S01)
ブレード本体(メタルブレード)の形成は、例えば、SUS台金にダイヤモンド超砥粒16を含有する分散めっきをして、ブレード素材の原板(分散ニッケルめっき層(ダイヤモンド超砥粒が分散されたニッケル層))を形成する。
なお、ニッケルめっき液に代えて、ダイヤモンド超砥粒16を含有するNi−PやNi−Bめっき液を用いてブレード素材の原板を形成してもよい。
また、分散ニッケルめっき層のブレード素材の原板は熱処理が不要である。なお、Ni−PやNi−Bめっき層によりブレード素材の原板を形成する場合には熱処理(例えば、250℃×1hr)が有効である。なお、無電解めっき法により分散ニッケルめっき層を形成してもよい。
そして、ブレード素材の原板をエッチング処理してメタルボンド相15からダイヤモンド超砥粒16を露出(目立て)させる。
その後、エッチング工程で目立てをしたブレード素材の原板の内周部および外周部をそれぞれ所定の径寸法に研削加工することで、ブレード本体10が形成(製造)される。
なお、ブレード本体(メタルブレード)の形成方法は任意に設定することが可能であり、上記に限定されない。また、上記形成方法は、表面処理ブレード(メタルブレード)の形成に適用してもよい。
(1) Blade body forming step (S01)
To form the blade body (metal blade), for example, the SUS base metal is subjected to dispersion plating containing diamond superabrasive
Instead of the nickel plating solution, a Ni-P or Ni-B plating solution containing diamond superabrasive
Further, the original plate of the blade material of the dispersed nickel plating layer does not require heat treatment. When the original plate of the blade material is formed from the Ni-P or Ni-B plating layer, heat treatment (for example, 250 ° C. × 1 hr) is effective. The dispersed nickel plating layer may be formed by an electroless plating method.
Then, the original plate of the blade material is etched to expose (dress) the
After that, the blade
The method for forming the blade body (metal blade) can be arbitrarily set, and is not limited to the above. Further, the above forming method may be applied to the formation of a surface treatment blade (metal blade).
(2)表面処理ブレード形成工程(S02)
表面処理ブレード(レジンブレード)の形成は、例えば、レジンボンド相25の原料となる粉末とダイヤモンド超砥粒26を混合した混合粉を金型(不図示)に充填し、この混合粉を金型内でコールドプレスして、円板状のレジンブレード原板を形成する。そして、このレジンブレード原板をホットプレスして焼結する。
その後、焼結後のレジンブレード原板の内周部および外周部をそれぞれ所定の径寸法に研削加工することで、表面処理ブレード(レジンブレード)20が形成(製造)される。
なお、表面処理ブレード(レジンブレード)の形成方法は任意に設定することが可能であり、上記に限定されない。また、上記形成方法は、ブレード本体(レジンブレード)の形成に適用してもよい。
(2) Surface treatment blade forming step (S02)
For the formation of the surface treatment blade (resin blade), for example, a mixed powder obtained by mixing the powder used as the raw material of the
After that, the surface-treated blade (resin blade) 20 is formed (manufactured) by grinding the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the sintered resin blade original plate to predetermined diameters.
The method for forming the surface treatment blade (resin blade) can be arbitrarily set and is not limited to the above. Further, the above-mentioned forming method may be applied to the formation of a blade main body (resin blade).
(3)接着剤塗布工程(S03)
次いで、例えば、表面処理ブレード20の側面22に接着剤を塗布(配置)する。
表面処理ブレード20の側面22に接着樹脂層30をなす接着剤を塗布する際には、例えば、印刷手段やディスペンサーにより均一な厚さに塗布することが好適である。
なお、接着剤の塗布については、印刷手段やディスペンサーに限定されることなく、刷毛やドクターブレード等による引き伸ばしによる塗布の他、スピンコートにより配置すること、スプレー等によって噴霧等、接着剤の物性(例えば、粘度等)に応じて周知の種々の塗布手段を適用することが可能である。
また、接着剤の種類に応じて、ブレード本体10の側面12、表面処理ブレード20の側面22の表面粗さや表面の性状について、適切な表面処理を施しておくことが好適である。
なお、表面処理ブレード20の側面22に代えて、ブレード本体10の側面12に接着剤を塗布し、又は表面処理ブレード20とブレード本体10の側面22、12の双方に接着剤を塗布してもよい。
(3) Adhesive application step (S03)
Next, for example, an adhesive is applied (arranged) on the
When applying the adhesive forming the
The application of the adhesive is not limited to the printing means and the dispenser, and the physical properties of the adhesive such as application by stretching with a brush or a doctor blade, placement by spin coating, spraying by spraying, etc. ( For example, various well-known coating means can be applied depending on the viscosity and the like.
Further, depending on the type of adhesive, it is preferable to perform appropriate surface treatment on the surface roughness and surface properties of the
Instead of the
(4)位置合わせ(同軸化)工程(S04)
次に、例えば、ジグ(不図示)を用いて、ブレード本体10の軸線Oと表面処理ブレード20の軸線Oを合わせて(同軸にして)、ブレード本体10と表面処理ブレード20を軸線O方向に相対移動して重ね合せる。
ブレード本体10と表面処理ブレード20の同軸化は、ブレード本体10と2枚の表面処理ブレード20の軸線を同時に合わせてもよいし、ブレード本体10と一枚の表面処理ブレード20を合わせた後に、もう一枚の表面処理ブレード20を合わせてもよい。
なお、同軸化の手順にしたがって接着剤の塗布タイミングを調整することが好適である。
(4) Alignment (coaxialization) step (S04)
Next, for example, using a jig (not shown), the axis O of the
To coaxialize the
It is preferable to adjust the adhesive application timing according to the coaxialization procedure.
(5)押圧、固定工程(S05)
次いで、接着剤を塗布して重ね合せた後に、例えば、定盤(不図示)等、安定した平坦部のうえで、ブレード本体10と表面処理ブレード20を軸線O方向に沿って押圧して、貼付、固定する。
ブレード本体10と表面処理ブレード20の押圧は、上記(4)で同軸化した範囲内で実施する。
(5) Pressing and fixing process (S05)
Next, after applying the adhesive and superimposing the layers, the
The pressing of the
(6)切断用ブレード完成
ブレード本体10と表面処理ブレード20とを固定したら、必要に応じて、外径加工、ダイサードレス、検査等を実施して、切断用ブレード100が完成する。
なお、S01〜S05の工程は、一例を示すものであり適宜変更又は省略することが可能である。
また、第1実施形態に係る製造方法は、例えば、接着剤(粘着性樹脂)に代えて粘着剤を用いた切断用ブレードの製造に適用してもよい。
(6) Completion of cutting blade After fixing the
The steps S01 to S05 are shown as an example and can be changed or omitted as appropriate.
Further, the manufacturing method according to the first embodiment may be applied to, for example, manufacturing a cutting blade using an adhesive instead of the adhesive (adhesive resin).
次に、図5A〜図6Bを参照して、切断用ブレードの作用及び電子材料製造方法について説明する。
図5A〜図6Bは、第1実施形態に係る切断用ブレードの作用を説明する概念図であり、図5A、図6Aは、軸線に沿って見た概念図であり、図5B、図6Bは、図5A、図6Aにおいて矢視VB−VB、矢視VIB−VIBで示す断面図である。被加工材が切断される際の状態を切断方向に沿って見た概念図である。
Next, the operation of the cutting blade and the method for manufacturing an electronic material will be described with reference to FIGS. 5A to 6B.
5A to 6B are conceptual diagrams illustrating the operation of the cutting blade according to the first embodiment, FIGS. 5A and 6A are conceptual diagrams viewed along an axis, and FIGS. 5B and 6B are diagrams. 5A and 6A are cross-sectional views shown by arrow VB-VB and arrow VIB-VIB. It is a conceptual diagram which looked at the state at the time of cutting a work material along the cutting direction.
電子材料製造方法は、例えば、被加工材準備工程と、被加工材設置工程と、切断用ブレード設定工程と、切断工程とを備えている。以下、被加工材準備工程、被加工材設置工程、切断用ブレード設定工程、切断工程について説明する。 The electronic material manufacturing method includes, for example, a work material preparation step, a work material installation step, a cutting blade setting step, and a cutting step. Hereinafter, the work material preparation process, the work material installation process, the cutting blade setting process, and the cutting process will be described.
(1)被加工材準備工程
複数の電子材料が配置された被加工材を準備する。
被加工材としては、例えば、パワーデバイスに用いられる炭化ケイ素(SiC)や車載用LEDのベース材となる高純度アルミナ(Al2O3)や窒化アルミ(AlN)、LEDチップのベース材となるサファイア等、非常に硬度が高く、いわゆる難削材を対象とすることができる。また、QFN(quadflatnon−leadedpackage)やIrDA(赤外線データ通信協会)規格の光伝送モジュールのように、切断によりバリが生じやすい被加工材では特に有効である。
(1) Process for preparing a work material A work material in which a plurality of electronic materials are arranged is prepared.
Examples of the work material include silicon carbide (SiC) used for power devices, high-purity alumina (Al 2 O 3 ) and aluminum nitride (AlN) which are base materials for in-vehicle LEDs, and LED chip base materials. It has a very high hardness such as sapphire, and can be used for so-called difficult-to-cut materials. It is also particularly effective for workpieces that are prone to burrs due to cutting, such as QFN (quadflatnon-leaded package) and IrDA (Infrared Data Association) standard optical transmission modules.
(2)被加工材設置工程(S2)
被加工材を切断用ブレード100と加工テーブルとが相対移動するパスラインに合わせて加工テーブルに設置する。
(2) Work material installation process (S2)
The material to be machined is installed on the machining table according to the path line in which the
(3)切断用ブレード設定工程
切断用ブレード100の表面処理ブレード20の表面処理部21Aを被加工材の表面に対して設定高さに設定する。
例えば、バリの高さをゼロする場合には、表面処理部21Aを被加工材の表面に接触するように設定する。また、バリ等の突出物を、許容された範囲で除去する場合には、表面処理部21Aが被切断材の表面から一定高さになるように配置して、被切断材の表面から一定高さ以上に形成されたバリ等が表面処理部21Aと接触して許容された高さ以下になるようにする。
また、表面処理ブレード20に対するブレード本体10の突出量は、被加工材の厚さよりも大きな寸法に設定する。
(3) Cutting blade setting step The
For example, when the height of the burr is set to zero, the
Further, the protrusion amount of the blade
(4)切断工程(S4)
切断用ブレード100と、被加工材が配置された加工テーブルとを水平方向(被加工材の表面に沿った方向)に相対移動させて、ブレード本体10によって被加工材を厚さ方向に切断しながら、表面処理ブレード20によって被加工材を表面処理する。
(4) Cutting step (S4)
The
切断用ブレード100による被加工材の切断は、図5A、図5Bに示すように、例えば、ブレード本体10が矢印R方向に回転しながら矢印T方向に進むことにより、切れ刃11Aが被加工材Wを厚さ方向に切断する。
なお、図5Aに示すように、切断溝Aは、切断用ブレード100の進行方向後方側に形成され、切断溝Aの両側縁部にバリ等の突出部Bが生じる場合がある(図5Aにおいて矢印Sで示す部分等)。
As shown in FIGS. 5A and 5B, for cutting the work material by the
As shown in FIG. 5A, the cutting groove A is formed on the rear side in the traveling direction of the
切断溝Aの両側縁部にバリ等の突出部Bが生じた場合、図6A、図6Bに示すように、表面処理ブレード20は、ブレード本体10の後方を矢印T方向に進行する。
そして、図6Bに示すように、表面処理ブレード20の表面処理部21Aが被加工材Wの表面に接触することによりバリ等の突出部Bが除去される。
When protrusions B such as burrs are formed on both side edges of the cutting groove A, the
Then, as shown in FIG. 6B, the
第1実施形態に係る電子材料製造方法では、以上のように、切断用ブレード100を用いることにより、被加工材Wを切断するとともに被加工Wの切断溝(切断部)Aの両側縁部を表面処理して、個片化された電子材料を製造することができる。
In the electronic material manufacturing method according to the first embodiment, as described above, by using the
したがって、切断用ブレードを用いて切断した後に、別途表面処理する場合には、製造工程が2パス必要とされるが、第1実施形態に係る電子材料製造方法では、1パスで切断とバリ除去が実施されて生産効率を向上することができる。また、生産設備の設置スペースの削減及び設備投資を削減することができる。 Therefore, when a separate surface treatment is performed after cutting with a cutting blade, two manufacturing steps are required, but in the electronic material manufacturing method according to the first embodiment, cutting and deburring are performed in one pass. Can be implemented to improve production efficiency. In addition, it is possible to reduce the installation space of production equipment and the capital investment.
第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、ブレード本体10と、ブレード本体10の側面12に配置された表面処理ブレード20と、を備えているので、被加工材を切断する際に、切断により生じたバリ等の突出物を切断した直後に合わせて表面処理(除去)することができる。
その結果、被加工材として電子材料を切断する際に、基板を効率的に個片化することができる。
According to the
As a result, when cutting an electronic material as a work material, the substrate can be efficiently separated into individual pieces.
第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、表面処理ブレード20は、軸線O方向におけるブレード本体10の両方の側面12に配置されているので、被切断材を切断する場合に、切断溝Aの左右両側の表面を安定して表面処理(バリ除去)することができる。
また、第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、切断用ブレード100における表面処理にともなう荷重を、切断用ブレード100の軸線O方向両側でバランスを取って安定して切断することができる。
According to the
Further, according to the
第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、表面処理ブレード20のボンド相は、ブレード本体10のボンド相よりも硬度が低い樹脂材料で形成されているので、切断する際に、ブレード本体10に追従して摩耗する。したがって、表面処理ブレード20が被切断材の表面に食い込むのを抑制することができる。
According to the
第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、ボンド相がメタルボンド相15とされ、表面処理ブレード20のボンド相がレジンボンド相25とされているので、効率的に製造することができる。
According to the
第1実施形態に係る切断用ブレード100によれば、ブレード本体10と表面処理ブレード20とが、接着剤が硬化した接着樹脂層30により接続されているので、効率的に製造することができる。
また、ブレード本体10と表面処理ブレード20の軸線方向における接続間隔を小さくして、被切断材を安定して切断することができる。
According to the
Further, the connection interval between the blade
第1実施形態に係る電子材料製造方法によれば、被加工材W切断加工と表面処理(バリ除去)を1パスで実施することができるので、生産性を向上することができる。
その結果、設備の設置スペースや設備投資を削減することができる。
According to the electronic material manufacturing method according to the first embodiment, the work material W cutting process and the surface treatment (deburring) can be performed in one pass, so that the productivity can be improved.
As a result, it is possible to reduce the installation space of equipment and capital investment.
〔第2実施形態〕
以下、図1、図2、図7、図8を参照して、本発明の第2実施形態に係る切断用ブレードについて説明する。本発明の第2実施形態に係る切断用ブレードの概略構成を説明する部分的に示す拡大図である。
[Second Embodiment]
Hereinafter, the cutting blade according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, 7, and 8. It is an enlarged view partially showing explaining the schematic structure of the cutting blade which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
図1、図2、図7において、符号200は切断用ブレードを、符号40は両面粘着テープ(両面テープ、接続部)を示している。
In FIGS. 1, 2, and 7,
切断用ブレード200は、図1、図2、図7に示すように、例えば、円板状に形成されたブレード本体10と、切れ刃11Aと、円板状に形成された表面処理ブレード20と、表面処理部21Aと、両面粘着テープ(両面テープ、接続部)40と、を備え、表面処理ブレード20はブレード本体10の軸線方向Oの両方の側面12A、12B(12)に両面粘着テープ(両面テープ、接続部)40により接続されている。
As shown in FIGS. 1, 2, and 7, the
両面粘着テープ(両面テープ、接続部)40は、図7に示すように、例えば、テープ基材41の両面に粘着性を有する粘着剤(粘着樹脂)42が塗布(配置)された構成とされている。
第2実施形態が第1実施形態と異なるのは、接着樹脂層30に代えて、両面粘着テープ(両面テープ、接続部)40を備えている点である。その他は、第1実施形態と同様であるので説明を省略する。
As shown in FIG. 7, the double-sided adhesive tape (double-sided tape, connecting portion) 40 is configured such that, for example, an adhesive (adhesive resin) 42 having adhesiveness is applied (arranged) on both sides of the tape base material 41. ing.
The second embodiment is different from the first embodiment in that the double-sided adhesive tape (double-sided tape, connecting portion) 40 is provided instead of the
次に、図8を参照して、第2実施形態に係る切断用ブレードの製造工程の概略の一例を説明する。図8は、第2実施形態に係る切断用ブレードの製造方法の概略を説明するフローチャートである。
第2実施形態に係る切断用ブレード製造工程は、図8に示すように、例えば、ブレード本体形成工程(S11)、表面処理ブレード形成工程(S12)、両面テープ配置工程(S13)、位置合わせ(同軸化)工程(S14)、押圧、固定工程(S15)を備え、これらを経て切断用ブレードが完成する。
Next, with reference to FIG. 8, an outline example of the manufacturing process of the cutting blade according to the second embodiment will be described. FIG. 8 is a flowchart illustrating an outline of a method for manufacturing a cutting blade according to a second embodiment.
As shown in FIG. 8, the cutting blade manufacturing process according to the second embodiment is, for example, a blade body forming step (S11), a surface treatment blade forming step (S12), a double-sided tape arranging step (S13), and alignment ( A coaxialization) step (S14), pressing, and fixing step (S15) are provided, and the cutting blade is completed through these steps.
(1)ブレード本体形成工程(S11)
(2)表面処理ブレード形成工程(S12)
ブレード本体形成工程(S11)、表面処理ブレード形成工程(S12)は、第1実施形態のブレード本体形成工程(S01)、表面処理ブレード形成工程(S02)と同様であるので説明を省略する。
(1) Blade body forming step (S11)
(2) Surface treatment blade forming step (S12)
Since the blade body forming step (S11) and the surface treatment blade forming step (S12) are the same as the blade body forming step (S01) and the surface treatment blade forming step (S02) of the first embodiment, the description thereof will be omitted.
(3)両面テープ配置工程(S13)
次いで、例えば、治具等を利用して、ブレード本体10と軸線Oを同軸化した表面処理ブレード20の側面22に両面粘着テープ40を貼着(配置)する。
ここで、両面粘着テープ40は、テープ基材の両面に粘着性を有する樹脂が配置されたものをいう。
なお、表面処理ブレード20の側面に両面粘着テープを貼着する場合は、例えば、表面処理ブレード20の側面22及びブレード本体10の側面12の表面粗さRmax0〜20μmとすることが好適である。
なお、表面処理ブレード20の側面22に代えて、ブレード本体10の側面12に両面粘着テープを貼着してもよい。
また、両面粘着テープに代えて、粘着性を有する樹脂(粘着性樹脂)がシート状に形成されることで両側の面に粘着性を有する構成とされたものやテープ基材の両面に接着剤が配置されたもの、シート状に形成されたシート状接着樹脂を適用してもよい。
(3) Double-sided tape placement process (S13)
Next, for example, the double-sided
Here, the double-sided
When the double-sided adhesive tape is attached to the side surface of the surface-treated
Instead of the
Further, instead of the double-sided adhesive tape, an adhesive resin (adhesive resin) is formed in the form of a sheet to have adhesive on both sides, or an adhesive is applied to both sides of the tape base material. A sheet-like adhesive resin formed in the form of a sheet may be applied.
(4)位置合わせ(同軸化)工程(S14)
(5)押圧、固定工程(S15)
位置合わせ(同軸化)工程(S14)、押圧、固定工程(S15)については、第1実施形態における位置合わせ(同軸化)工程(S04)、押圧、固定工程(S05)と同様であるので説明を省略する。
また、第2実施形態に係る製造方法は、例えば、シート状に形成された粘着樹脂やシート状に形成された接着樹脂を用いた切断用ブレードの製造に適用してもよい。
(4) Alignment (coaxialization) step (S14)
(5) Pressing and fixing process (S15)
The alignment (coaxial) step (S14), pressing, and fixing step (S15) are the same as the alignment (coaxial) step (S04), pressing, and fixing step (S05) in the first embodiment. Is omitted.
Further, the manufacturing method according to the second embodiment may be applied to, for example, manufacturing a cutting blade using an adhesive resin formed in a sheet shape or an adhesive resin formed in a sheet shape.
(6)切断用ブレード完成
ブレード本体10と表面処理ブレード20とを固定したら、必要に応じて、外径加工、ダイサードレス、検査等を実施して、切断用ブレード200が完成する。
なお、S11〜S15の工程は、一例を示すものであり適宜変更又は省略することが可能である。
(6) Completion of cutting blade After fixing the
The steps S11 to S15 are shown as an example and can be changed or omitted as appropriate.
第2実施形態に係る切断用ブレードによれば、ブレード本体10と表面処理ブレード20とが、両面粘着テープ40により接続されているので、短時間で効率的に製造することができる。
According to the cutting blade according to the second embodiment, since the blade
以下、表1を参照して、本発明の実施例について説明する。表1は本発明の実施例を説明する表である。
実施例では、比較例1、2、本発明例1〜9を例にして本発明の効果を確認した。
本発明例1〜9では、ニッケルボンド相で形成された厚さ0.050mmのブレード本体の両側面に、フェノールレジンボンド相で形成された表面処理ブレードを接着剤で貼着して切断用ブレードを作成した。
以下、実施例を表1に示す。
Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to Table 1. Table 1 is a table illustrating examples of the present invention.
In Examples, the effects of the present invention were confirmed by taking Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 to 9 of the present invention as examples.
In Examples 1 to 9 of the present invention, a surface-treated blade formed of a phenol resin bond phase is attached to both side surfaces of a blade body having a thickness of 0.050 mm formed of a nickel bond phase with an adhesive for cutting. It was created.
Examples are shown below in Table 1.
また、実施例では、表1に示すように、切断に用いた切断用ブレードの表面処理ブレードの有無、表面処理ブレードの厚さ、砥粒径、集中度、及びブレード本体の突出量を変化させて切断用ブレードを作成した。なお、比較例1は、表1に示すように、表面処理ブレードを備えていない例である。また、比較例2は、ブレード本体及び表面処理ブレードが別々とされた例、すなわち切断した後に表面処理した例である。 Further, in the examples, as shown in Table 1, the presence / absence of the surface-treated blade of the cutting blade used for cutting, the thickness of the surface-treated blade, the abrasive particle size, the degree of concentration, and the amount of protrusion of the blade body are changed. I made a cutting blade. In addition, as shown in Table 1, Comparative Example 1 is an example not provided with a surface treatment blade. Further, Comparative Example 2 is an example in which the blade body and the surface-treated blade are separated, that is, an example in which the surface is treated after cutting.
そして、切断用ブレードを用いて被切断材を切断(加工)して、作業時間比、及び表面のバリ寸法(μm)を確認した。ここで、作業時間比は、切断用ブレードが被加工材を実際に切断している時間の比率である。
また、評価に際しては、作業時間比1で、かつ表面のバリ寸法≦5μmを「○」、作業時間比1で、かつ表面のバリ寸法≦2μmを「◎」、それ以外を「×」とした。
Then, the material to be cut was cut (processed) using a cutting blade, and the working time ratio and the surface burr size (μm) were confirmed. Here, the working time ratio is the ratio of the time during which the cutting blade actually cuts the work material.
In the evaluation, a working time ratio of 1 and a surface burr size of ≤5 μm was set as “◯”, a working time ratio of 1 and a surface burr size of ≦ 2 μm was set as “◎”, and the others were set as “×”. ..
実施例で用いた被切断材、及び切断条件は以下のとおりである。
被切断材:MEMS(3層シリコン)
ブレード周速度:100m/S
ブレード送り速度:2mm/S
The material to be cut and the cutting conditions used in the examples are as follows.
Material to be cut: MEMS (3-layer silicon)
Blade peripheral speed: 100m / S
Blade feed rate: 2 mm / S
〔比較例1〕
比較例1は、表1に示すように、ブレード本体のみを有する切断用ブレードである。比較例1では、本発明例1〜10と同様の条件で被切断材を切断した。
したがって、比較例1の作業時間比は、本発明例1〜10と同様であり、作業時間比は1である。
一方、表面処理をしていないことから切断作業の際に被切断材の表面に20μmのバリが発生して、そのまま残留した。
結果的に、評価は「×」であった。
[Comparative Example 1]
Comparative Example 1 is a cutting blade having only a blade body, as shown in Table 1. In Comparative Example 1, the material to be cut was cut under the same conditions as in Examples 1 to 10 of the present invention.
Therefore, the working time ratio of Comparative Example 1 is the same as that of Examples 1 to 10 of the present invention, and the working time ratio is 1.
On the other hand, since the surface was not treated, burrs of 20 μm were generated on the surface of the material to be cut during the cutting operation and remained as they were.
As a result, the evaluation was "x".
〔比較例2〕
比較例2は、ブレード本体と、表1において比較例2の欄に太枠で示したブレード本体とは別体とされた表面処理ブレードを用いて被切断材を切断した。具体的には、比較例2に係るブレード本体で被加工材を切断した後に、太枠に示した表面処理ブレードで切断溝の両側縁部の表面処理を実施した。
比較例2における表面処理ブレードの回転速度及び送り速度は、本発明例1〜10の回転速度及び送り速度と同じとした。
比較例2における表面のバリ寸法は0μmであったが、切断と表面処理を別々に実施したので作業時間比2であった。
結果的に、作業時間比2であるので、評価は「×」であった。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, the material to be cut was cut using a blade main body and a surface-treated blade which was separated from the blade main body shown by a thick frame in the column of Comparative Example 2 in Table 1. Specifically, after cutting the work material with the blade main body according to Comparative Example 2, the surface treatment of both side edges of the cutting groove was carried out with the surface treatment blade shown in the thick frame.
The rotation speed and feed rate of the surface-treated blade in Comparative Example 2 were the same as the rotation speed and feed rate of Examples 1 to 10 of the present invention.
The burr size of the surface in Comparative Example 2 was 0 μm, but the working time ratio was 2 because cutting and surface treatment were performed separately.
As a result, the working time ratio was 2, so the evaluation was "x".
〔本発明例1〕
本発明例1は、ブレード本体と表面処理ブレードを有する切断用ブレードである。
本発明例1では、表面処理ブレードの厚さ0.15mm、砥粒径30〜40μm、集中度100、ブレード本体の突出量1mmとした。そして、上記条件で、切断と表面処理を同時に実施した。
したがって、作業時間比1、バリ寸法0μmであった。
結果的に、評価は「◎」であった。
[Example 1 of the present invention]
Example 1 of the present invention is a cutting blade having a blade body and a surface-treated blade.
In Example 1 of the present invention, the thickness of the surface-treated blade is 0.15 mm, the grain size is 30 to 40 μm, the concentration ratio is 100, and the protrusion amount of the blade body is 1 mm. Then, under the above conditions, cutting and surface treatment were carried out at the same time.
Therefore, the working time ratio was 1, and the burr size was 0 μm.
As a result, the evaluation was "◎".
〔本発明例2〜9〕
本発明例2〜9は、ブレード本体と表面処理ブレードを有する切断用ブレードである。
本発明例に係る切断用ブレードは、表1に示すとおりである。
そして、本発明例2〜9は、上記条件で、切断と表面処理を同時に実施した。
したがって、作業時間比1であった。
また、バリ寸法3μmであり、基準置である50μm未満であった。
結果的に、評価は「○」であった。
[Examples 2 to 9 of the present invention]
Examples 2 to 9 of the present invention are cutting blades having a blade body and a surface-treated blade.
The cutting blade according to the example of the present invention is as shown in Table 1.
Then, in Examples 2 to 9 of the present invention, cutting and surface treatment were carried out at the same time under the above conditions.
Therefore, the working time ratio was 1.
Further, the burr size was 3 μm, which was less than the standard setting of 50 μm.
As a result, the evaluation was "○".
以上のように、本発明例は、作業時間比、バリ寸法に関して、良好な結果が得られることが確認できた。特に、本発明例1は、バリ寸法が0(ゼロ)でありきわめて良好な効果が確認できた。 As described above, it was confirmed that the example of the present invention obtained good results in terms of working time ratio and burr size. In particular, in Example 1 of the present invention, the burr size was 0 (zero), and an extremely good effect was confirmed.
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、例えば下記に説明するように、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態においては、表面処理ブレードが、ブレード本体10の軸線O方向における両側の側面12A、12B(12)に配置されている場合について説明したが、ブレード本体10のいずれか一方の側面12のみに表面処理ブレード20が配置される構成としてもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, for example, as described below.
For example, in the above embodiment, the case where the surface treatment blades are arranged on the side surfaces 12A and 12B (12) on both sides of the
また、上記実施形態においては、切断用ブレード100が、ブレード本体10と表面処理ブレード20とが接着剤(接着樹脂)30又は両面粘着テープにより接続されている場合について説明したが、例えば、粘着剤、両面接着テープによって接続してもよい。また、例えば、ブレード本体と表面処理ブレードとが締結部材(例えば、ネジ、リベット等)や溶接等により接続されていてもよいし、焼結等により一体に形成されていてもよい。
Further, in the above embodiment, the case where the
また、上記実施形態においては、ブレード本体がメタルボンド相を備え、表面処理ブレードがレジンボンド相を備えた切断用ブレードである場合について説明したが、ブレード本体、表面処理ブレードを形成するボンド相の構成については任意に設定することが可能である。例えば、ブレード本体がメタルボンド相に代えて、レジンボンド相、又は示すビトリファイドボンド相を備えていてもよいし、表面処理ブレードがレジンボンド相に代えて、メタルボンド相又はビトリファイドボンド相を備えていてもよい。
また、切断用ブレードにおけるブレード本体、表面処理ブレードを構成するボンド相の組み合わせについても任意に設定してもよい。
ここで、ビトリファイドボンド相は、多孔質のガラス質からなるボンド相であり、以下の方法により形成することができる。
Further, in the above embodiment, the case where the blade main body is provided with the metal bond phase and the surface treatment blade is a cutting blade provided with the resin bond phase has been described, but the blade main body and the bond phase forming the surface treatment blade are described. The configuration can be set arbitrarily. For example, the blade body may have a resin bond phase or the indicated vitrified bond phase instead of the metal bond phase, or the surface treated blade may have a metal bond phase or a vitrified bond phase instead of the resin bond phase. You may.
Further, the combination of the blade body and the bond phase constituting the surface treatment blade in the cutting blade may be arbitrarily set.
Here, the vitrified bond phase is a bond phase made of a porous glassy substance, and can be formed by the following method.
ボンド相がビトリファイドボンド相のブレード(ブレード本体又は表面処理ブレード)を形成する場合は、ボンド相をなす材料粉末と砥粒とを混合して材料粉末を形成し、この材料粉末を金型にセットして、ビトリファイドボンド成形品を成形して、このビトリファイドボンド成形品を焼結(例えば、焼結炉に入れて加熱)して、多数(複数)の気孔を有し3次元架橋構造とされた多孔質体のビトリファイドボンド相からなるブレード素材を形成する。なお、ビトリファイドボンド相に超砥粒及びフィラーを分散させる場合には、上述の混合時において、結合材、超砥粒及びフィラーを混合する。また、必要に応じて、内径加工、外径加工、ラップ加工等を施す。
なお、ビトリファイドボンド相のブレード(ブレード本体又は表面処理ブレード)の形成方法は任意に設定することが可能であり、上記に限定されない。
When the bond phase forms a blade of a vitrified bond phase (blade body or surface treatment blade), the material powder forming the bond phase and the abrasive grains are mixed to form a material powder, and this material powder is set in a mold. Then, a vitrified bond molded product was formed, and the vitrified bond molded product was sintered (for example, placed in a sintering furnace and heated) to have a large number (plural) pores to form a three-dimensional crosslinked structure. It forms a blade material consisting of a porous vitrified bond phase. When the superabrasive particles and the filler are dispersed in the vitrified bond phase, the binder, the superabrasive particles and the filler are mixed at the time of the above mixing. In addition, if necessary, inner diameter processing, outer diameter processing, wrap processing, etc. are performed.
The method for forming the blade (blade body or surface treatment blade) of the vitrified bond phase can be arbitrarily set, and is not limited to the above.
また、切断用ブレードにおけるブレード本体と表面処理ブレードのボンド相の組み合わせにつき、金属、樹脂、ガラス質のうち、同種類とするか異種材料とするかは任意に設定することが可能である。
すなわち、ブレード本体と表面処理ブレードを異種材料のボンド相の組み合わせ〔ブレード本体のボンド相−表面処理ブレードのボンド相〕とする場合は、メタルボンド相−レジンボンド相に代えて、例えば、メタルボンド相−ビトリファイドボンド相、ビトリファイドボンド相−メタルボンド相、ビトリファイドボンド相−レジンボンド相、レジンボンド相−メタルボンド相、レジンボンド相−ビトリファイドボンド相としてもよい。
また、ブレード本体と表面処理ブレードのボンド相の組み合わせを、メタルボンド相−メタルボンド相、レジンボンド相−レジンボンド相、ビトリファイドボンド相−ビトリファイドボンド相等、同種類のボンド相の組み合わせとしてもよい。
Further, regarding the combination of the bond phase of the blade body and the surface treatment blade in the cutting blade, it is possible to arbitrarily set whether to use the same type or a different material among metal, resin and glass.
That is, when the blade body and the surface-treated blade are a combination of bond phases of different materials [bond phase of the blade body-bond phase of the surface-treated blade], for example, instead of the metal bond phase-resin bond phase, a metal bond is used. It may be a phase-vitrified bond phase, a vitrified bond phase-metal bond phase, a vitrified bond phase-resin bond phase, a resin bond phase-metal bond phase, or a resin bond phase-bitrified bond phase.
Further, the combination of the bond phase of the blade body and the surface treatment blade may be a combination of the same type of bond phase such as metal bond phase-metal bond phase, resin bond phase-resin bond phase, and vitrified bond phase-bitrified bond phase.
また、上記実施形態においては、メタルボンド相(ボンド相)15に分散された砥粒がダイヤモンド超砥粒16である場合について説明したが、砥粒については任意に設定することが可能であり、ダイヤモンド超砥粒16に代えて、例えば、CBN(立方晶窒化ホウ素)等他の砥粒がメタルボンド相15に分散された構成としてもよい。
また、砥粒の平均粒径、集中度については任意に設定することが可能である。
Further, in the above embodiment, the case where the abrasive grains dispersed in the metal bond phase (bond phase) 15 are diamond
Further, the average particle size and the degree of concentration of the abrasive grains can be arbitrarily set.
また、上記実施形態においては、レジンボンド相(ボンド相)25に分散された砥粒がダイヤモンド超砥粒26である場合について説明したが、砥粒については任意に設定することが可能であり、例えば、ダイヤモンド超砥粒26に代えてcBN等他の砥粒がレジンボンド相25に分散された構成としてもよい。また、砥粒の平均粒径、集中度については任意に設定することが可能である。
Further, in the above embodiment, the case where the abrasive grains dispersed in the resin bond phase (bond phase) 25 are diamond
また、上記実施形態においては、レジンボンド相25を構成する樹脂がフェノール樹脂である場合について説明したが、レジンボンド相25を構成する樹脂についてはフェノール樹脂に限定されることなく任意に設定してもよい。
Further, in the above embodiment, the case where the resin constituting the
また、上記実施形態においては、切断用ブレード100が、被切断材として例えばガラス、石英(セラミックス)等の硬脆材料の切断に使用される場合について説明したが、例えば、QFN(quadflatnon−leadedpackage)やIrDA(赤外線データ通信協会)規格の光伝送モジュールやそれ以外の電子部品材料を被切断材として切断するのに用いてもよい。
Further, in the above embodiment, the case where the
その他、本発明の趣旨から逸脱しない範囲において、前述の実施形態、変形例及び尚書き等で説明した各構成(構成要素)を組み合わせてもよく、また、構成の付加、省略、置換、その他の変更が可能である。また本発明は、前述した実施形態によって限定されるものではない。 In addition, as long as it does not deviate from the gist of the present invention, each configuration (component) described in the above-described embodiments, modifications, and notes may be combined, and addition, omission, replacement, and other configurations may be added. It can be changed. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiments.
本発明にかかる本発明に係る切断用ブレード、切断用ブレード製造方法、電子材料製造方法によれば、被加工材として電子材料を切断する際に、基板を切断して効率的に個片化することができるので、産業上の利用可能である。 According to the cutting blade, the cutting blade manufacturing method, and the electronic material manufacturing method according to the present invention according to the present invention, when cutting an electronic material as a work material, the substrate is cut and efficiently individualized. It is industrially available because it can be used.
O 軸線
10 ブレード本体
11 外周面
11A 切れ刃
12、12A、12B 側面(ブレード本体)
15 メタルボンド相(ボンド相)
16 ダイヤモンド超砥粒(砥粒)
20 表面処理ブレード
21 外周面(外周部)
21A 表面処理部
22 側面(表面処理ブレード)
25 レジンボンド相(ボンド相)
26 ダイヤモンド超砥粒(砥粒)
30 接着樹脂層(硬化した接着剤、接続部材)
40 両面粘着テープ(両面テープ、接続部材)
41 テープ基材
42 粘着剤(粘着樹脂)
100、200 切断用ブレード
O-
15 Metal bond phase (bond phase)
16 Diamond super-abrasive grain (abrasive grain)
20
21A
25 Resin bond phase (bond phase)
26 Diamond superabrasive grains (abrasive grains)
30 Adhesive resin layer (cured adhesive, connecting member)
40 Double-sided adhesive tape (double-sided tape, connecting member)
41
100, 200 cutting blade
Claims (9)
円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され外周部に切れ刃が配置されたブレード本体と、
円板状に形成されたボンド相に砥粒が分散配置され、前記ブレード本体よりも摩耗速度が大きく設定されるとともに、前記ブレード本体よりも小径に形成され前記被加工材の表面を処理する表面処理ブレードと、
を備え、
前記表面処理ブレードは、
前記ブレード本体の前記軸線方向における少なくともいずれか一方の側面に配置されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 A cutting blade that is rotated around the axis and processes the work material with a cutting edge.
A blade body in which abrasive grains are dispersedly arranged in a bond phase formed in a disk shape and a cutting edge is arranged in the outer peripheral portion.
Abrasive grains are dispersed and arranged in the bond phase formed in a disk shape, the wear rate is set higher than that of the blade body, and the surface is formed to have a smaller diameter than the blade body and treats the surface of the work piece. With the processing blade,
Equipped with
The surface treatment blade is
A cutting blade, which is arranged on at least one side surface of the blade body in the axial direction.
前記表面処理ブレードは、
前記軸線方向における前記ブレード本体の両方の側面に配置されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to claim 1.
The surface treatment blade is
A cutting blade characterized by being arranged on both sides of the blade body in the axial direction.
前記表面処理ブレードのボンド相は、
前記ブレード本体のボンド相よりも硬度が低い材料で形成されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to claim 1 or 2.
The bond phase of the surface treatment blade is
A cutting blade characterized in that it is made of a material having a hardness lower than that of the bond phase of the blade body.
前記ブレード本体のボンド相は、メタルボンド相とされ、
前記表面処理ブレードのボンド相は、レジンボンド相とされている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to any one of claims 1 to 3.
The bond phase of the blade body is a metal bond phase.
The cutting blade characterized in that the bond phase of the surface treatment blade is a resin bond phase.
前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、
前記接続部材は、
接着剤が硬化した樹脂により構成されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to any one of claims 1 to 4.
A connecting member for connecting the blade body and the surface treatment blade is provided.
The connecting member is
A cutting blade characterized in that the adhesive is composed of a cured resin.
前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、
前記接続部材は、
前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとは、
粘着剤により構成されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to any one of claims 1 to 4.
A connecting member for connecting the blade body and the surface treatment blade is provided.
The connecting member is
The blade body and the surface treatment blade are
A cutting blade characterized by being composed of an adhesive.
前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを接続する接続部材を備え、
前記接続部材は、
両面テープにより構成されている
ことを特徴とする切断用ブレード。 The cutting blade according to any one of claims 1 to 4.
A connecting member for connecting the blade body and the surface treatment blade is provided.
The connecting member is
A cutting blade characterized by being composed of double-sided tape.
ブレード本体を形成するブレード本体形成工程と、
表面処理ブレードを形成する表面処理ブレード形成工程と、
前記ブレード本体と前記表面処理ブレードの間に嫌気性接着剤を配置し、前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを同軸に配置して前記ブレード本体と前記表面処理ブレードとを前記軸線方向に押圧することにより、前記ブレード本体に前記表面処理ブレードを貼着する表面処理ブレード接続工程と、
を備えることを特徴とする切断用ブレード製造方法。 A cutting blade manufacturing method for manufacturing the cutting blade according to claim 5.
The blade body forming process that forms the blade body and
The surface treatment blade forming process for forming the surface treatment blade and
An anaerobic adhesive is placed between the blade body and the surface treatment blade, the blade body and the surface treatment blade are arranged coaxially, and the blade body and the surface treatment blade are pressed in the axial direction. Thereby, in the surface treatment blade connecting step of attaching the surface treatment blade to the blade body,
A method for manufacturing a cutting blade, which comprises.
複数の電子材料が配置された被加工材を準備する被加工材準備工程と、
前記被加工材を前記切断用ブレードと加工テーブルとが相対移動するパスラインに合わせて加工テーブルに設置する被加工材設置工程と、
前記切断用ブレードの前記表面処理ブレードの外周面を前記被加工材の表面に対して設定高さに設定する切断用ブレード設定工程と、
前記切断用ブレードと加工テーブルとを相対移動させて、前記被加工材を厚さ方向に切断しながら前記表面処理ブレードによって前記被加工材を表面処理する
ことを特徴とする電子材料製造方法。 A method for manufacturing an electronic material, which manufactures an individualized electronic material by using the cutting blade according to any one of claims 1 to 7.
A work material preparation process that prepares a work material in which multiple electronic materials are arranged,
The work material installation process of installing the work material on the work table according to the path line where the cutting blade and the work table move relative to each other.
A cutting blade setting step of setting the outer peripheral surface of the surface-treated blade of the cutting blade to a set height with respect to the surface of the work piece, and a cutting blade setting step.
A method for producing an electronic material, which comprises relatively moving the cutting blade and a processing table to surface-treat the material to be processed by the surface-treated blade while cutting the material to be processed in the thickness direction.
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