JP2021164653A5 - - Google Patents

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  1. 被処理物品を受けるように構成された処理チャンバであって、前記物品を受ける容積を形成する少なくとも1つのコンフォーマブルウォールを含む処理チャンバと、
    前記処理チャンバに操作可能に接続された少なくとも1つのポンプであって、前記処理チャンバ内の周囲空気の一部を前記少なくとも1つのポンプにより除去可能であり、これによって前記コンフォーマブルウォールが潰れ、少なくとも部分的に前記物品に適合させる負圧を形成し、有効容積の空気が前記処理チャンバ内にあるように前記処理チャンバの容積を減じるポンプと、
    前記ポンプが、前記有効容積の少なくとも一部を前記処理チャンバから排出チャンバ内に繰り返し移動し、前記有効容積の一部が前記処理チャンバに戻る前に前記処理チャンバ内に隔離される、前記排出チャンバと、
    前記排出チャンバへ繰り返し移動する際、前記処理チャンバの前記有効容積の一部が、プラズマ発生器を通過し、前記処理チャンバへ繰り返し移動する際、前記有効容積の一部が、前記プラズマ発生器を通過して、前記有効容積の一部が前記プラズマ発生器をそれぞれ通過する間、プラズマ濃度が増大するように、配置されたプラズマ発生器と、
    を含む、
    処理装置。
  2. 請求項1に記載の装置であって、
    材料を入れるように構成されたリザーバと、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記有効容積の一部を前記処理チャンバに移動する際、前記材料をエアロゾル化して、前記エアロゾル化された材料は、前記有効容積により、少なくとも一度、前記処理チャンバへ運ばれて、物品を処理する、ノズルと、
    を含むエアロゾル機構をさらに含む、装置。
  3. 請求項2に記載の装置であって、
    前記材料は、アルコール、水及び過酸化水素のうち少なくとも1つである、装置。
  4. 請求項3に記載の装置であって、
    前記有効容積の一部が、前記プラズマ発生器を通過し、前記排出チャンバへ移動する前に、前記排出チャンバ内の空気を除去するように構成された少なくとも1つのポンプをさらに含む、装置。
  5. 請求項1に記載の装置であって、
    1)前記処理チャンバ内の圧力が所定値に達するまで、2)前記圧力が、前記少なくとも1つのポンプにより得られる最大真空に達するまで、3)ΔP/Δtが安定するまで、又は4)ΔP/Δtが所定値に達するまで、のうち少なくとも1つまで、前記少なくとも1つのポンプは、前記有効容積の一部を、前記排出チャンバへ移動する、装置。
  6. 請求項5に記載の装置であって、
    前記処理チャンバ内の前記所定のΔP/Δtは、0.00PSIV~-14.7PSIV又は-0.001PSIV~-5PSIVである、装置。
  7. 請求項6に記載の装置であって、
    前記有効容積の一部を、前記少なくとも1つのポンプによって、前記排出チャンバに移動する際、前記物品の少なくとも一部を圧縮するコンフォーマブルウォールをさらに含む、装置。
  8. 請求項1に記載の装置であって、
    前記負圧が形成された後、周囲環境からの空気の一部を前記処理チャンバへ移動して、前記有効容積が前記周囲環境からの空気の一部を含むように構成された少なくとも1つのポンプをさらに含む、装置。
  9. 請求項1に記載の装置であって、
    50ml~約500リットル又は200ml~50リットルの容積を有する前記処理チャンバをさらに含む、装置。
  10. 物品を処理する方法であって、
    前記物品を、請求項1に記載の前記処理装置の前記処理チャンバに配置し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記処理チャンバから前記周囲空気の一部を除去して、前記コンフォーマブルウォールを潰し、これによって有効容積の空気が前記処理チャンバ内に残るように、前記処理チャンバの容積を減じる、処理プロセスの第1段階を開始し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記プラズマ発生器を通過することによって、前記有効容積の一部を前記排出チャンバへ移動し、前記プラズマ発生器を通過することによって、前記排出チャンバから前記有効容積を前記処理チャンバへ除去し、前記有効容積の一部が前記処理チャンバへ入って前記物品と接触するようにする、前記処理プロセスの第2段階を開始し、
    前記処理プロセスの前記第2段階を少なくとも1回繰り返して、プラズマの濃度を増大し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記処理チャンバから前記有効容積を除去し、前記処理チャンバ外の空気を前記処理チャンバに移動し、これによって、前記処理チャンバの容積を元に戻すようにする、前記処理プロセスの最終段階を開始する、方法。
  11. 請求項10に記載の方法であって、
    前記有効容積が前記処理チャンバに移動した後、前記第2段階は、少なくとも1つの休止期間を含む、方法。
  12. 請求項10に記載の方法であって、
    前記少なくとも1つのポンプは、前記排出チャンバから周囲空気を除去するように構成され、前記方法は、前記第2段階を開始する前に、前記排出チャンバ内の周囲空気を除去するポンプをさらに含む、方法。
  13. 請求項10に記載の方法であって、
    前記周囲空気の一部を除去した後、前記周囲環境からの空気の一部を前記処理チャンバへ移動して、前記有効容積が、前記周囲環境からの周囲空気の一部を含むようにする、少なくとも1つのポンプをさらに含み、装置。
  14. 請求項10に記載の方法であって、
    材料を入れるように構成されたリザーバと、
    前記材料をエアロゾル化するノズルと
    を含むエアロゾル化機構をさらに含み、
    前記方法は、前記ポンプが前記有効容積を前記処理チャンバに移動する際、前記材料をエアロゾル化して、少なくとも一度、前記有効容積が、前記エアロゾル化された材料を前記処理チャンバへ運ぶようにする、ノズルをさらに含む、方法。
  15. 請求項14に記載の方法であって、
    前記材料は、アルコール、水及び過酸化水素のうち少なくとも1つである、方法。
  16. 被処理物品を受けるように構成された処理チャンバであって、前記物品を受ける容積を形成する少なくとも1つのコンフォーマブルウォールを含む処理チャンバと、
    前記処理チャンバに操作可能に接続された少なくとも1つのポンプであって、前記処理チャンバ内の周囲空気の一部を前記少なくとも1つのポンプにより除去可能であり、これによって前記コンフォーマブルウォールが潰れ、少なくとも部分的に前記物品に適合させる負圧を形成し、有効容積の空気が前記処理チャンバ内に残るように、前記処理チャンバの容積を減じる、ポンプと、
    前記ポンプが、前記有効容積の少なくとも一部を排出チャンバ内に繰り返し移動し、前記少なくとも1つのポンプが前記有効容積の少なくとも一部を前記処理チャンバに戻す前に中に隔離する前記排出チャンバと、
    前記排出チャンバから前記処理チャンバへ、前記少なくとも1つのポンプにより移動する際、前記有効容積の一部に取り込まれる材料をエアロゾル化するエアロゾル化機構と
    を含む、処理装置。
  17. 請求項16に記載の処理装置であって、
    前記有効容積に取り込まれた材料は、殺菌剤である、装置。
  18. 請求項17に記載の処理装置であって、
    前記殺菌剤は、アルコール、水及び過酸化水素のうち少なくとも1つである、装置。
  19. 請求項16に記載の処理装置であって、
    前記有効容積が前記排出チャンバに移動する前に、前記少なくとも1つのポンプは、前記排出チャンバ内の周囲空気を除去するように構成されている、装置。
  20. 請求項16に記載の処理装置であって、
    1)前記処理チャンバ内の圧力が所定値に達するまで、2)前記圧力が、前記少なくとも1つのポンプにより得られる最大真空に達するまで、3)ΔP/Δtが安定するまで、及び4)ΔP/Δtが所定値に達するまで、のうち少なくとも1つまで、前記少なくとも1つのポンプは、前記有効容積を前記排出チャンバへ移動する、装置。
  21. 請求項20に記載の処理装置であって、
    前記処理チャンバ内の前記所定のΔP/Δtは、0.00PSIV~-14.7PSIV又は-0.001PSIV~-5PSIVである、装置。
  22. 請求項21に記載の処理装置であって、
    前記有効容積を前記少なくとも1つのポンプによって、前記排出チャンバに移動する際、前記物品の少なくとも一部を圧縮するコンフォーマブルウォールをさらに含む、装置。
  23. 請求項16に記載の処理装置であって、
    前記負圧が形成された後、周囲環境からの空気の一部を前記処理チャンバへ移動して、前記有効容積が、前記周囲環境からの周囲空気の一部を含むように、少なくとも1つのポンプは構成されている、装置。
  24. 請求項16に記載の処理装置であって、
    50ml~約500リットル又は200ml~50リットルの容積を有する前記処理チャンバをさらに含む、装置。
  25. 物品を処理する方法であって、
    前記物品を、請求項1に記載の前記処理装置の前記処理チャンバに配置し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記処理チャンバから周囲空気の一部を除去して、前記コンフォーマブルウォールを潰し、これによって前記有効容積の空気が前記処理チャンバ内に残るように、前記処理チャンバの容積を減じる、処理プロセスの第1段階を開始し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記有効容積の一部を前記排出チャンバへ移動し、前記排出チャンバからの前記有効容積の一部を、前記処理チャンバへ移動して、前記エアロゾル化機構が、エアロゾル化材料を、前記有効容積の一部に取り込んで、前記物品と接触するようにする、前記処理プロセスの第2段階を開始し、
    前記処理プロセスの前記第2段階を少なくとも1回繰り返し、
    前記少なくとも1つのポンプが、前記処理チャンバからの前記有効容積を除去し、前記処理チャンバ外の空気を前記処理チャンバに移動して、前記処理チャンバの容積を元に戻すようにする、前記処理プロセスの最終段階を開始する、方法。
  26. 請求項25に記載の方法であって、
    前記有効容積が前記処理チャンバに移動した後、前記第2段階は、少なくとも1つの休止期間を含む、
    方法。
  27. 請求項25に記載の方法であって、
    前記材料は、殺菌剤である、方法。
  28. 請求項27に記載の方法であって、
    前記殺菌剤は、アルコール、水及び過酸化水素のうち少なくとも1つである、方法。
  29. 請求項25に記載の方法であって、
    前記有効容積が、前記排出チャンバに移動する前に、前記少なくとも1つのポンプは、前記排出チャンバ内の周囲空気を除去することをさらに含む、方法。
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