JP2021149264A - 調整装置、制御システムおよび調整方法 - Google Patents

調整装置、制御システムおよび調整方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2021149264A
JP2021149264A JP2020046315A JP2020046315A JP2021149264A JP 2021149264 A JP2021149264 A JP 2021149264A JP 2020046315 A JP2020046315 A JP 2020046315A JP 2020046315 A JP2020046315 A JP 2020046315A JP 2021149264 A JP2021149264 A JP 2021149264A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
value
adjustment
control
parameter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020046315A
Other languages
English (en)
Inventor
良一 田島
Ryoichi Tajima
良一 田島
康彦 小田
Yasuhiko Oda
康彦 小田
雅人 田中
Masahito Tanaka
雅人 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Azbil Corp filed Critical Azbil Corp
Priority to JP2020046315A priority Critical patent/JP2021149264A/ja
Publication of JP2021149264A publication Critical patent/JP2021149264A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

【課題】マスフローコントローラの高精密な制御特性を維持する。【解決手段】調整装置20は、流体の流量をバルブ5によって調節するマスフローコントローラ10から得られた流量計測値PVが流量設定値SPに整定した状態を検出したときに、この整定状態におけるバルブ5への開度指示信号MVをマスフローコントローラ10の流量制御部9から取得する開度指示信号取得部21と、開度指示信号取得部21によって複数の整定状態が検出されたときに、各整定状態で取得された開度指示信号MVに基づいて、開度指示信号MVと流量計測値PVとの関係を特徴付ける特徴パラメータを算出するパラメータ算出部22とを備える。【選択図】 図1

Description

本発明は、マスフローコントローラの制御パラメータを調整する調整装置、制御システムおよび調整方法に関するものである。
半導体製造装置では、材料ガスなどを真空チャンバー内に一定流量で導入するために、マスフローコントローラ(MFC)などの流量制御装置が採用されている(特許文献1参照)。図18はMFC10の構成を示す断面図である。図18において、1は本体ブロック、2はセンサパッケージ、3はセンサパッケージ2のヘッド部、4は流量計測部(フローセンサ)、5はバルブ、6は本体ブロック1の内部に形成された流路、7は流路6の入口側の開口、8は流路6の出口側の開口である。
流体は、開口7から流路6に流入してバルブ5を通過し、開口8から排出される。このとき、流量計測部4は流体の流量を計測する。流量計測部4は、センサパッケージ2のヘッダ部3に搭載され、計測対象の流体に晒されるように本体ブロック1に装着される。MFC10の図示しない制御装置は、流量計測部4によって得られた流量計測値と流量設定値とを比較し、この比較結果に基づいてバルブ5への駆動電流を出力する。こうして、バルブ5を駆動することにより、流体の流量が流量設定値と一致するように制御される。
図19は半導体製造装置で使用される真空装置(例えばプラズマエッチング装置)の構成を示す断面図である。このような真空装置は例えば特許文献2、特許文献3、特許文献4に開示されている。図19において、100は真空チャンバー、101は真空チャンバー100の底部に設けられた排気管、102は上部電極として機能するシャワーヘッド、103は下部電極として機能する載置台、104はシャワーヘッド102のガス導入口と接続されたガス供給管、105は真空チャンバー100内に設けられた圧力センサ、106は高周波電源である。ガス供給管104には、図18で説明したMFC10が設けられている。
図19の真空装置の例では、排気管101より真空チャンバー100の内部雰囲気を排気して所定の真空度まで真空引きし、処理ガスをガス供給管104を介してシャワーヘッド102へ導入する。処理ガスは、シャワーヘッド102に設けられた複数の吐出孔(不図示)を介して、載置台103上に載置されたウェハ107に対して均一に吐出され、真空チャンバー100内の圧力が所定の値に維持される。この状態で高周波電源106から高周波電力が載置台103に印加される。これにより、下部電極としての載置台103と上部電極としてのシャワーヘッド102との間に高周波電界が生じ、処理ガスが解離してプラズマ化する。このプラズマにより、ウェハ107にエッチング処理が施される。
半導体製造装置のようにガスの流量精度が重要なアプリケーションでは、定期校正でMFCの計測精度や制御性能が維持されていることを確認することが求められている。
MFCの制御性能を決定する大きな要因として、バルブへの開度指示信号(例えばソレノイドバルブへの電流入力値)と流体の実流量との関係(以下、信号−流量関係とする)に対する制御パラメータ(例えばPIDパラメータなど)の調整状態の適/不適がある。図20は信号−流量関係の1例を示す図である。このような信号−流量関係は、MFCが実用される環境などによって変化するので、実用時の制御性能の劣化の要因になり得る。
半導体製造プロセスゆえの精度要求を満たすために、MFCの高精密な制御特性を維持することは、言うまでもなく重要である。MFCの制御特性維持のために、常に改善が求められている。
特開2008−039588号公報 特開平11−233507号公報 特開2014−207353号公報 特開2018−006380号公報
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、MFCの高精密な制御特性を維持することができる調整装置、制御システムおよび調整方法を提供することを目的とする。
本発明の調整装置は、流体の流量をバルブによって調節するマスフローコントローラから得られた流量計測値が流量設定値に整定した状態を検出したときに、この整定状態における前記バルブへの開度指示信号を前記マスフローコントローラの流量制御部から取得するように構成された開度指示信号取得部と、前記開度指示信号取得部によって複数の整定状態が検出されたときに、各整定状態で取得された前記開度指示信号に基づいて、前記開度指示信号と前記流量計測値との関係を特徴付ける特徴パラメータを算出するように構成されたパラメータ算出部とを備えることを特徴とするものである。
また、本発明の調整装置の1構成例は、前記特徴パラメータに基づいて、前記流量制御部の制御パラメータの調整値を算出するように構成された制御調整値算出部をさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の調整装置の1構成例は、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新するように構成された制御調整実行部をさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の調整装置の1構成例において、前記制御調整実行部は、前記制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとの差の絶対値が予め規定された変化幅を超えたときに、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新することを特徴とするものである。
また、本発明の調整装置の1構成例において、前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に基づいて前記開度指示信号を算出するPID演算を行ない、前記制御調整値算出部によって調整値が算出される制御パラメータは、PIDパラメータである。
また、本発明の調整装置の1構成例において、前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に非線形処理を施した補正偏差に基づいて前記開度指示信号を算出する偏差ギャップ付PID演算を行ない、前記制御調整値算出部によって調整値が算出される制御パラメータは、前記偏差のゼロ付近のギャップ内における前記偏差に対する前記補正偏差の傾きである。
また、本発明の制御システムは、マスフローコントローラと、調整装置とを備え、前記マスフローコントローラの流量制御部は、外部から前記流量設定値を特定の値に変更する指示を受けたときに、前記流量設定値を前記特定の値と異なる値に変更して前記流量計測値を整定させた後に、前記流量設定値を前記特定の値に変更することを特徴とするものである。
また、本発明の調整方法は、流体の流量をバルブによって調節するマスフローコントローラから得られた流量計測値が流量設定値に整定した状態を検出したときに、この整定状態における前記バルブへの開度指示信号を前記マスフローコントローラの流量制御部から取得する第1のステップと、前記第1のステップで複数の整定状態が検出されたときに、各整定状態で取得された前記開度指示信号に基づいて、前記開度指示信号と前記流量計測値との関係を特徴付ける特徴パラメータを算出する第2のステップとを含むことを特徴とするものである。
また、本発明の調整方法の1構成例は、前記特徴パラメータに基づいて、前記流量制御部の制御パラメータの調整値を算出する第3のステップをさらに含むことを特徴とするものである。
また、本発明の調整方法の1構成例は、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新する第4のステップをさらに含むことを特徴とするものである。
また、本発明の調整方法の1構成例において、前記第4のステップは、前記制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとの差の絶対値が予め規定された変化幅を超えたときに、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新するステップを含むことを特徴とするものである。
また、本発明の調整方法の1構成例において、前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に基づいて前記開度指示信号を算出するPID演算を行ない、前記第3のステップで調整値が算出される制御パラメータは、PIDパラメータである。
また、本発明の調整方法の1構成例において、前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に非線形処理を施した補正偏差に基づいて前記開度指示信号を算出する偏差ギャップ付PID演算を行ない、前記第3のステップで調整値が算出される制御パラメータは、前記偏差のゼロ付近のギャップ内における前記偏差に対する前記補正偏差の傾きである。
また、本発明の調整方法の1構成例は、前記流量制御部が、前記第1のステップの前に、外部から前記流量設定値を特定の値に変更する指示を受けたときに、前記流量設定値を前記特定の値と異なる値に変更して前記流量計測値を整定させた後に、前記流量設定値を前記特定の値に変更する第5のステップをさらに含むことを特徴とするものである。
本発明によれば、開度指示信号取得部とパラメータ算出部とを設けることにより、開度指示信号と流量計測値との関係を特徴付ける特徴パラメータを算出することができるので、マスフローコントローラの制御特性の劣化を推測あるいは予測することが可能となり、マスフローコントローラの高精密な制御特性を維持することが可能となる。
また、本発明では、制御調整値算出部を設けることにより、マスフローコントローラの流量制御部の制御パラメータの調整値を算出することができる。
また、本発明では、制御調整実行部を設けることにより、マスフローコントローラの流量制御部の制御パラメータを自動的に調整することができる。
また、本発明では、制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとの差の絶対値が予め規定された変化幅を超えたときに、流量制御部に設定されている制御パラメータを調整値に更新するので、開度指示信号と流量計測値との関係が誤差変動レベルで変化したときに制御パラメータを更新することを避けることができ、制御パラメータの不要な更新を減らすことができる。
また、本発明では、マスフローコントローラの流量制御部が、外部から流量設定値を特定の値に変更する指示を受けたときに、流量設定値を特定の値と異なる値に変更して流量計測値を整定させた後に、流量設定値を特定の値に変更するので、制御パラメータの調整の機会を増やすことができる。
図1は、本発明の実施例に係る制御システムの構成を示すブロック図である。 図2は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの流量制御部の構成を示すブロック図である。 図3は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの流量制御動作を説明するフローチャートである。 図4は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの流量制御部の別の構成を示すブロック図である。 図5は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの別の流量制御動作を説明するフローチャートである。 図6は、本発明の実施例に係る偏差変換部による非線形処理を説明する図である。 図7は、本発明の実施例に係る調整装置の動作を説明するフローチャートである。 図8は、本発明の実施例における流量計測値と操作量の変化の1例を示す図である。 図9は、本発明の実施例における流量計測値と操作量の変化の別の例を示す図である。 図10は、マスフローコントローラの信号−流量関係を特徴付けるパラメータについて説明する図である。 図11は、本発明の実施例におけるパラメータの表示例を示す図である。 図12は、本発明の実施例における流量計測値と操作量の変化の別の例を示す図である。 図13は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの流量制御部の別の構成を示すブロック図である。 図14は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの別の流量制御動作を説明するフローチャートである。 図15は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの流量制御部の別の構成を示すブロック図である。 図16は、本発明の実施例に係るマスフローコントローラの別の流量制御動作を説明するフローチャートである。 図17は、本発明の実施例に係る調整装置を実現するコンピュータの構成例を示すブロック図である。 図18は、マスフローコントローラの構成を示す断面図である。 図19は、真空装置の構成を示す断面図である。 図20は、マスフローコントローラの信号−流量関係の1例を示す図である。
[発明の原理1]
例えばPID制御は典型的な線形制御理論であるため、PIDパラメータの調整においては、制御対象を線形的な特性と見なすことが前提になっている。発明者は、MFCの信号−流量関係が、実用される環境などによって変化した場合でも、多くのケースで直線近似可能な範囲での変化に留まることに着眼した。そして、発明者は、限られた複数の整定状態に基づき、信号−流量関係の代表値を算出し、この代表値をモニタリングすることで、制御特性の劣化を推測あるいは予測することが可能となり、制御パラメータ(例えばPIDパラメータなど)の自動調整が可能になることに想到した。
[発明の原理2]
MFCの信号−流量関係の場合、特有のオフセット領域(不感帯)と傾きとのどちらが変化するかによって、制御パラメータの調整指針が異なってくる。例えば傾きのみが変化したときにPIDパラメータ自体を調整する場合、オフセット領域の影響に対して好適に調整されていた応答特性も変化してしまう。そこで、偏差ギャップ付PID制御を行なう場合、信号−流量関係の傾きのみが変化したときは、偏差ゼロ近傍の傾きを自動調整の対象とするのが好適である。これにより、整定状態に至る間際の安定性のみを調整することが可能になる。
[実施例]
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。図1は本発明の実施例に係る制御システムの構成を示すブロック図である。制御システムは、MFC10と、MFC10の制御パラメータを調整する調整装置20とから構成される。
MFC10の構成は図18と同様である。図1では、MFC10の構成として、制御対象の流体の流量を計測する流量計測部(フローセンサ)4と、流量を調節するバルブ5と、流量設定値SPと流量計測値PVとを入力としてバルブ5への開度指示信号を算出する流量制御部9のみ記載している。
調整装置20は、MFC10から得られた流量計測値PVが流量設定値SPに整定した状態を検出したときに、この整定状態におけるバルブ5への開度指示信号MVをMFC10の流量制御部9から取得する開度指示信号取得部21と、流量設定値SPが異なる複数の整定状態が開度指示信号取得部21によって検出されたときに、各整定状態で取得された開度指示信号MVに基づいて、開度指示信号MVと流量計測値PVとの関係を特徴付ける特徴パラメータを算出するパラメータ算出部22と、特徴パラメータに基づいて流量制御部9の制御パラメータの調整値を算出する制御調整値算出部23と、流量制御部9に設定されている制御パラメータを調整値に更新する制御調整実行部24と、パラメータ算出部22によって算出された特徴パラメータの履歴を表示するパラメータ表示部25とを備えている。
図2はMFC10の流量制御部9の構成を示すブロック図である。流量制御部9は、流量設定値SPと流量計測値PVとの偏差erを算出する偏差算出部90と、偏差erを入力としてバルブ開度を指定する開度指示信号MV(操作量)を算出するPID制御部91と、バルブ5を駆動するバルブ駆動回路92とを備えている。
図3は、流量制御部9として図2の構成を用いる場合のMFC10の流量制御動作を説明するフローチャートである。
偏差算出部90は、例えばオペレータによって設定された流量設定値SPと流量計測部4によって計測された流量計測値PV(制御量)との偏差er=SP−PVを算出する(図3ステップS100)。
PID制御部91は、偏差erが0となるように、例えば以下の伝達関数式のようなPID演算を行って開度指示信号MVの値を算出する(図3ステップS101)。
MV=(α/P){1+(1/Tis)+Tds}er ・・・(1)
式(1)において、Pは比例帯、Tiは積分時間、Tdは微分時間、sはラプラス演算子、αは所定の係数である。
PID制御部91は、算出した開度指示信号MVをバルブ駆動回路92に出力する(図3ステップS102)。バルブ駆動回路92は、開度指示信号MVに応じてバルブ5にバルブ駆動電流を出力する。バルブ駆動電流の出力により、バルブ5は、開度指示信号MVに応じた開度となるように制御される。
こうして、例えばオペレータによってMFC10の動作終了が指示されるまで(図3ステップS103においてYES)、ステップS100〜S102の処理が制御周期毎に実施される。
図4は流量制御部9の別の構成を示すブロック図である。図4の流量制御部9は、偏差算出部90と、PID制御部91と、バルブ駆動回路92と、偏差erに非線形処理を施した補正偏差er’を算出する偏差変換部93とを備えている。
図5は、流量制御部9として図4の構成を用いる場合のMFC10の流量制御動作を説明するフローチャートである。偏差算出部90の動作(図5ステップS200)は、ステップS100と同じである。
偏差変換部93は、偏差erのゼロ付近の領域(ギャップ)内における偏差erに対する補正偏差er’の傾きが、ギャップ外における偏差erに対する補正偏差er’の傾きよりも小さくなるように、補正偏差er’を算出する(図5ステップS201)。
図6は偏差変換部93による非線形処理を説明する図である。図6において、f1は偏差変換部93のer−er’特性を示し、f2は偏差変換部93がない場合のerとer’の関係(er=er’)を示している。Gはギャップ、GW+は正のギャップ幅、GW−は負のギャップ幅である。ここでは、負のギャップ幅GW−が正のギャップ幅GW+よりも大きい例を示している。
PID制御部91は、補正偏差er’が0となるように、例えば以下の伝達関数式のようなPID演算を行って開度指示信号MVの値を算出する(図5ステップS202)。
MV=(α/P){1+(1/Tis)+Tds}er’ ・・・(2)
PID制御部91は、算出した開度指示信号MVをバルブ駆動回路92に出力する(図5ステップS203)。
こうして、例えばオペレータによってMFC10の動作終了が指示されるまで(図5ステップS204においてYES)、ステップS200〜S203の処理が制御周期毎に実施される。
次に、本実施例の調整装置20の動作について説明する。図7は調整装置20の動作を説明するフローチャートである。
調整装置20の開度指示信号取得部21は、流量計測値PVが流量設定値SPの特定の第1の値SP1に整定した状態(第1の整定状態)を検出したときに(図7ステップS300においてYES)、この整定状態における開度指示信号MV=MV1を取得する(図7ステップS301)。
本実施例では、SP1=10.0%とする。例えば図8の例では、時刻100msec.において流量設定値SPが0から10.0%に変更された後に600msec.付近で流量計測値PVが流量設定値SP=SP1=10.0%に整定する。このときの開度指示信号MVは45.0%である。したがって、開度指示信号取得部21は、開度指示信号MV=MV1の値として45.0%を取得する。
次に、開度指示信号取得部21は、流量計測値PVが流量設定値SPの特定の第2の値SP2に整定した状態(第2の整定状態)を検出したときに(図7ステップS302においてYES)、この整定状態における開度指示信号MV=MV2を取得する(図7ステップS303)。
本実施例では、SP2=70.0%とする。例えば図9の例では、時刻100msec.において流量設定値SPが0から70.0%に変更された後に500msec.付近で流量計測値PVが流量設定値SP=SP2=70.0%に整定する。このときの開度指示信号MVは75.0%である。したがって、開度指示信号取得部21は、開度指示信号MV=MV2の値として75.0%を取得する。
なお、流量計測値PVと流量設定値SPと開度指示信号MVの単位として、汎用的な意味を持たせるために、本実施例では0−100%のフルスケールに対するパーセンテージ%を採用することにしたが、別の単位を適宜採用してもよいことは言うまでもない。
調整装置20のパラメータ算出部22は、流量設定値SPが異なる複数の整定状態(第1の整定状態と第2の整定状態)を検出できたときに、それら各整定状態で取得された開度指示信号MVと各整定状態における流量設定値SPとに基づいて、信号−流量関係を特徴付ける特徴パラメータの値を算出する(図7ステップS304)。
本実施例では、図10に示すように、特徴パラメータとして、開度指示信号MVに対する流量計測値PVの傾きtanθと、開度指示信号MVに対する流量計測値PVの傾きが0になる不感帯の幅(オフセット量)Deadとを算出する。傾きtanθと不感帯幅Deadの算出式は次のとおりである。
tanθ=(SP1−SP2)/(MV1−MV2) ・・・(3)
Dead=(SP1MV2−SP2MV1)/(SP1−SP2) ・・・(4)
本実施例では、パラメータ算出部22は、tanθ=2.0、Dead=40.0%と算出する。
なお、本実施例の特徴パラメータの算出方法は1例であって、別の算出方法でも構わない。例えば後述のように3つ以上の多数の整定状態を検出して、各制御状態で得られた流量設定値SPと開度指示信号MVの組を基に、最小二乗法により信号−流量特性の直線の近似式を求め、この直線の近似式から傾きtanθと不感帯幅Deadを算出するようにしてもよい。
パラメータ表示部25は、パラメータ算出部22によって算出された特徴パラメータの履歴をオペレータに対して表示する(図7ステップS305)。図11の例では、パラメータ表示部25が表示する画面50に不感帯幅Deadと傾きtanθの履歴がグラフ形式で表示されている。これらの特徴パラメータ値はMFC10の制御特性を示す監視指標になる。オペレータは、画面50に表示された特徴パラメータの変化を見ることで、流量制御部9の制御パラメータの再調整の必要性などを判断することが可能になる。
次に、調整装置20の制御調整値算出部23は、パラメータ算出部22によって算出された特徴パラメータに基づいて、流量制御部9の制御パラメータの調整値を算出する(図7ステップS306)。
MFC10の流量制御部9として図2の構成が使用されている場合、すなわち通常のPID制御を行なう場合、調整対象の制御パラメータとしては例えば比例帯Pがある。制御調整値算出部23は、制御パラメータ(比例帯P)を更新した前回の調整時の特徴パラメータ(傾きtanθ)に対して最新の特徴パラメータ(傾きtanθ)がn倍(nは実数)変化した場合、流量制御部9のPID制御部91に設定されている現在の比例帯Pをn倍した値を最新の調整値とする。
また、MFC10の流量制御部9として図4の構成が使用されている場合、すなわち偏差ギャップ付PID制御を行なう場合、調整対象の制御パラメータとしては、偏差erのゼロ付近のギャップG内における偏差erに対する補正偏差er’の傾きがある。図6に示すように、ギャップG内におけるer−er’特性の直線と偏差erの軸とのなす角をφとすると、ギャップG内における偏差erに対する補正偏差er’の傾きはtanφである。
制御調整値算出部23は、制御パラメータ(傾きtanφ)を更新した前回の調整時の特徴パラメータ(傾きtanθ)に対して最新の特徴パラメータ(傾きtanθ)がn倍変化した場合、流量制御部9の偏差変換部93に設定されている現在の傾きtanφを1/n倍した値を最新の調整値とする。このように信号−流量特性の傾きtanθが変化したときに、偏差erのゼロ付近のギャップG内におけるer−er’特性の傾きtanφのみを調整することは、流量計測値PVが整定状態に至る間際の安定性のみを調整することを意味する。
なお、本実施例の調整値の算出方法は1例であって、別の算出方法でも構わない。
調整装置20の制御調整実行部24は、流量制御部9に設定されている制御パラメータを調整値に更新する。信号−流量関係の誤差変動レベルの変化に対応して制御パラメータの更新を行なうのは、あまり現実的ではない。
そこで、制御調整実行部24は、制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータ(傾きtanθ)と最新の特徴パラメータ(傾きtanθ)との差の絶対値が予め規定された変化幅THを超えたときに(図7ステップS307においてYES)、流量制御部9に設定されている制御パラメータを制御調整値算出部23によって算出された調整値に更新する(図7ステップS308)。変化幅THは、前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとを、前回の調整時の特徴パラメータを100%として規格化したときに、例えばTH=20%と規定されている。
上記のように、MFC10の流量制御部9として図2の構成が使用されている場合、制御調整実行部24は、流量制御部9のPID制御部91に設定されている比例帯Pを制御調整値算出部23によって算出された調整値に更新する。また、MFC10の流量制御部9として図4の構成が使用されている場合、制御調整実行部24は、流量制御部9の偏差変換部93に設定されている傾きtanφを制御調整値算出部23によって算出された調整値に更新する。
こうして、調整装置20は、第1の整定状態と第2の整定状態とが発生する度に図7の処理を行う。
MFC10の流量制御部9の偏差算出部90は、例えばオペレータから流量設定値SPを特定の第2の値SP2に変更する指示が与えられたときに、流量設定値SPを特定の第1の値SP1にいったん変更して流量計測値PVを流量設定値SP=SP1に整定させた後に、流量設定値SPを特定の第2の値SP2に変更するようにしてもよい。この場合の流量設定値SPと流量計測値PVと開度指示信号MVの変化の例を図12に示す。このように2段階の整定方式を採用することにより、制御パラメータの調整の機会を増やすことができる。
2段階の整定方式を採用する場合のMFC10の流量制御部9の構成を図13に示す。図13の流量制御部9は、図2の構成に整定判定部94を追加したものである。
図14は、流量制御部9として図13の構成を用いる場合のMFC10の流量制御動作を説明するフローチャートである。図14のステップS100〜S102の処理は図3で説明したとおりである。
流量制御部9の偏差算出部90は、外部から流量設定値SP=SP2が入力されたとき(図14ステップS104においてYES)、流量計測値PVが流量設定値SP=SP1に整定していない場合には(図14ステップS105においてNO)、流量設定値SPを特定の第1の値SP1にいったん設定して、偏差er=SP1−PVを算出する(図14ステップS105)。図14のステップS107,S108の処理は図3のステップS101,S102と同じである。
次に、流量制御部9の整定判定部94は、流量計測値PVが流量設定値SP=SP1に整定した状態を検出する。
偏差算出部90は、流量計測値PVが流量設定値SP=SP1に整定した後は(ステップS105においてYES)、流量設定値SPを第2の値SP2に設定して、偏差er=SP2−PVを算出する(図14ステップS109)。図14のステップS110,S111の処理は図3のステップS101,S102と同じである。こうして、2段階の整定方式を実現することができる。
2段階の整定方式を採用する場合の流量制御部9の別の構成を図15に示す。図15の流量制御部9は、図4の構成に整定判定部94を追加したものである。
図16は、流量制御部9として図15の構成を用いる場合のMFC10の流量制御動作を説明するフローチャートである。図16のステップS200〜S203の処理は図5で説明したとおりである。
図16のステップS205〜S207の処理は、図14のステップS104〜S106と同じである。図16のステップS208〜S210の処理は、図5のステップS201〜S203と同じである。図16のステップS211の処理は、図14のステップS109と同じである。図16のステップS212〜S214の処理は、図5のステップS201〜S203と同じである。こうして、2段階の整定方式を実現することができる。
なお、本実施例の制御システムの構成要素の全てをMFC10に実装する必要はない。通信機能によりMFC10と接続される上位側のPC(Personal Computer)などに調整装置20の構成を実装し、上位側からMFC10の機器本体内に実装された流量制御部9の制御パラメータを通信機能により更新するようにしてもよい。制御パラメータの調整を上位側のPCなどで行なう場合には、3つ以上の多数の整定状態を検出して、この多数の制御状態で得られた流量設定値SPと開度指示信号MVの組を基に特徴パラメータを算出することにより、統計的に信頼できる特徴パラメータを求めることが可能である。
本実施例の調整装置20は、CPU(Central Processing Unit)と記憶装置とインタフェースとを備えたコンピュータと、これらのハードウェア資源を制御するプログラムによって実現することができる。このコンピュータの構成例を図17に示す。
コンピュータは、CPU200と、記憶装置201と、インタフェース装置(I/F)202とを備えている。I/F202には、MFC10の流量計測部4と流量制御部9などが接続される。このようなコンピュータにおいて、本発明の流量制御方法を実現させるためのプログラムは記憶装置201に格納される。CPU200は、記憶装置201に格納されたプログラムに従って本実施例で説明した処理を実行する。また、MFC10の流量制御部9の偏差算出部90とPID制御部91と偏差変換部93についても、コンピュータによって実現することができる。
本発明は、マスフローコントローラに適用することができる。
4…流量計測部、5…バルブ、9…流量制御部、10…マスフローコントローラ、20…調整装置、21…開度指示信号取得部、22…パラメータ算出部、23…制御調整値算出部、24…制御調整実行部、25…パラメータ表示部、90…偏差算出部、91…PID制御部、92…バルブ駆動回路、93…偏差変換部、94…整定判定部。

Claims (14)

  1. 流体の流量をバルブによって調節するマスフローコントローラから得られた流量計測値が流量設定値に整定した状態を検出したときに、この整定状態における前記バルブへの開度指示信号を前記マスフローコントローラの流量制御部から取得するように構成された開度指示信号取得部と、
    前記開度指示信号取得部によって複数の整定状態が検出されたときに、各整定状態で取得された前記開度指示信号に基づいて、前記開度指示信号と前記流量計測値との関係を特徴付ける特徴パラメータを算出するように構成されたパラメータ算出部とを備えることを特徴とする調整装置。
  2. 請求項1記載の調整装置において、
    前記特徴パラメータに基づいて、前記流量制御部の制御パラメータの調整値を算出するように構成された制御調整値算出部をさらに備えることを特徴とする調整装置。
  3. 請求項2記載の調整装置において、
    前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新するように構成された制御調整実行部をさらに備えることを特徴とする調整装置。
  4. 請求項3記載の調整装置において、
    前記制御調整実行部は、前記制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとの差の絶対値が予め規定された変化幅を超えたときに、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新することを特徴とする調整装置。
  5. 請求項2乃至4のいずれか1項に記載の調整装置において、
    前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に基づいて前記開度指示信号を算出するPID演算を行ない、
    前記制御調整値算出部によって調整値が算出される制御パラメータは、PIDパラメータであることを特徴とする調整装置。
  6. 請求項2乃至4のいずれか1項に記載の調整装置において、
    前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に非線形処理を施した補正偏差に基づいて前記開度指示信号を算出する偏差ギャップ付PID演算を行ない、
    前記制御調整値算出部によって調整値が算出される制御パラメータは、前記偏差のゼロ付近のギャップ内における前記偏差に対する前記補正偏差の傾きであることを特徴とする調整装置。
  7. マスフローコントローラと、
    請求項1乃至6のいずれか1項に記載の調整装置とを備え、
    前記マスフローコントローラの流量制御部は、外部から前記流量設定値を特定の値に変更する指示を受けたときに、前記流量設定値を前記特定の値と異なる値に変更して前記流量計測値を整定させた後に、前記流量設定値を前記特定の値に変更することを特徴とする制御システム。
  8. 流体の流量をバルブによって調節するマスフローコントローラから得られた流量計測値が流量設定値に整定した状態を検出したときに、この整定状態における前記バルブへの開度指示信号を前記マスフローコントローラの流量制御部から取得する第1のステップと、
    前記第1のステップで複数の整定状態が検出されたときに、各整定状態で取得された前記開度指示信号に基づいて、前記開度指示信号と前記流量計測値との関係を特徴付ける特徴パラメータを算出する第2のステップとを含むことを特徴とする調整方法。
  9. 請求項8記載の調整方法において、
    前記特徴パラメータに基づいて、前記流量制御部の制御パラメータの調整値を算出する第3のステップをさらに含むことを特徴とする調整方法。
  10. 請求項9記載の調整方法において、
    前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新する第4のステップをさらに含むことを特徴とする調整方法。
  11. 請求項10記載の調整方法において、
    前記第4のステップは、前記制御パラメータを更新した前回の調整時の特徴パラメータと最新の特徴パラメータとの差の絶対値が予め規定された変化幅を超えたときに、前記流量制御部に設定されている制御パラメータを前記調整値に更新するステップを含むことを特徴とする調整方法。
  12. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載の調整方法において、
    前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に基づいて前記開度指示信号を算出するPID演算を行ない、
    前記第3のステップで調整値が算出される制御パラメータは、PIDパラメータであることを特徴とする調整方法。
  13. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載の調整方法において、
    前記流量制御部は、前記流量設定値と前記流量計測値との偏差に非線形処理を施した補正偏差に基づいて前記開度指示信号を算出する偏差ギャップ付PID演算を行ない、
    前記第3のステップで調整値が算出される制御パラメータは、前記偏差のゼロ付近のギャップ内における前記偏差に対する前記補正偏差の傾きであることを特徴とする調整方法。
  14. 請求項8乃至13のいずれか1項に記載の調整方法において、
    前記流量制御部が、前記第1のステップの前に、外部から前記流量設定値を特定の値に変更する指示を受けたときに、前記流量設定値を前記特定の値と異なる値に変更して前記流量計測値を整定させた後に、前記流量設定値を前記特定の値に変更する第5のステップをさらに含むことを特徴とする調整方法。
JP2020046315A 2020-03-17 2020-03-17 調整装置、制御システムおよび調整方法 Pending JP2021149264A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020046315A JP2021149264A (ja) 2020-03-17 2020-03-17 調整装置、制御システムおよび調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020046315A JP2021149264A (ja) 2020-03-17 2020-03-17 調整装置、制御システムおよび調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2021149264A true JP2021149264A (ja) 2021-09-27

Family

ID=77848819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020046315A Pending JP2021149264A (ja) 2020-03-17 2020-03-17 調整装置、制御システムおよび調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2021149264A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113900455A (zh) * 2021-11-09 2022-01-07 北京七星华创流量计有限公司 半导体工艺设备及其质量流量控制器、流体流量控制方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113900455A (zh) * 2021-11-09 2022-01-07 北京七星华创流量计有限公司 半导体工艺设备及其质量流量控制器、流体流量控制方法
CN113900455B (zh) * 2021-11-09 2023-11-07 北京七星华创流量计有限公司 半导体工艺设备及其质量流量控制器、流体流量控制方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4658200B2 (ja) マスフローコントローラ
KR101840047B1 (ko) 가스 유동 제어기의 인 시투 시험을 위한 방법 및 장치
US20120116596A1 (en) Mass flow controller
KR100621830B1 (ko) 가변 이득 비례 적분 (pi) 제어기용 시스템 및 방법
JP2020038678A (ja) プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法
US8265795B2 (en) Mass flow controller
JP2005196788A (ja) 流体の流量を制御する装置、方法及びシステム
JP2000077394A (ja) 半導体製造装置
KR101116979B1 (ko) 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법
CN110543194B (zh) 压力控制装置和半导体设备
US20240160230A1 (en) Flow rate control device
JP2021149264A (ja) 調整装置、制御システムおよび調整方法
US8056579B2 (en) Mass flow controller
US11550341B2 (en) Mass flow control system, and semiconductor manufacturing equipment and vaporizer including the system
JP2007034550A (ja) マスフローコントローラ
KR20210007854A (ko) 성능 산출 방법 및 처리 장치
JP6680669B2 (ja) 質量流量制御器のバルブペデスタルを自動的に自己調整するシステム及び方法
CN113721673B (zh) 气体质量流量控制方法及装置
US11835974B2 (en) Pressure regulated flow controller
JP2003005802A (ja) 制御方法および制御装置
KR101668483B1 (ko) 매스플로우 컨트롤러
US20240183702A1 (en) Mass flow control device and zero point calibration method for the same
CN114237031B (zh) 空间臭氧浓度控制方法
US20230129479A1 (en) Flow rate control device and flow rate control method
US20050204824A1 (en) Device and system for pressure sensing and control