JP2021128342A - Light conversion curable composition, quantum dot light-emitting diode, quantum dot film, cured film formed using the composition and image display device including the cured film - Google Patents

Light conversion curable composition, quantum dot light-emitting diode, quantum dot film, cured film formed using the composition and image display device including the cured film Download PDF

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Abstract

To provide a light conversion curable composition which is excellent in light conversion efficiency, coated film hardness and adhesion, and keeps excellent characteristics in an inkjet method.SOLUTION: There are a light conversion curable composition containing a quantum dot, an antioxidant, scattered particles, a photopolymerizable compound and a photopolymerizable initiator; a cured film formed using the same; a quantum dot light-emitting diode; and an image display device. The quantum dot has a ligand layer thereon, and the ligand layer contains a compound having a specific chemical structure. A light conversion curable composition is excellent in optical characteristics and reliability, and can be effectively applied to various applications such as a quantum dot film, a quantum dot light-emitting diode, a color filter and a light conversion laminated base material, and thereby can provide a high-quality image display device.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光変換硬化性組成物、これを用いて形成される硬化膜、前記硬化膜を含む量子ドット発光ダイオードおよび画像表示装置に関する。 The present invention relates to a photoconversion curable composition, a cured film formed using the same, a quantum dot light emitting diode including the cured film, and an image display device.

発光素子(Light Emitting Diode、LED)をバックライトユニット(Back Light Unit、BLU)として用いるLCD(Liquid Crystal Display)テレビにおいて、LED BLUは光を実際に発する部分であって、LCDテレビにおける最重要部分の一つである。 In an LCD (Liquid Crystal Display) television that uses a light emitting element (Light Emitting Diode, LED) as a backlight unit (Back Light Unit, BLU), the LED BLU is a part that actually emits light and is the most important part in the LCD television. one of.

白色のLED BLUを形成する方法としては、通常、赤色(Red、R)、緑色(Green、G)、および青色(Blue、B)LEDチップを組み合わせて白色のLED BLUを形成するか、青色LEDチップと広い半値幅の発光波長を有する黄色(Yellow、Y)蛍光体との組み合わせを用いて白色を実現している。 As a method for forming a white LED BLU, a white LED BLU is usually formed by combining red (Red, R), green (Green, G), and blue (Blue, B) LED chips, or a blue LED. White is achieved by using a combination of a chip and a yellow (Yello) phosphor having a wide half-width light emitting wavelength.

しかし、赤色、緑色、青色のLEDチップを組み合わせる場合には、LEDチップの個数および複雑な工程によって製造費用が高い問題があり、青色LEDチップに黄色蛍光体を組み合わせる場合には、緑色および赤色の波長が区分されずに色純度に劣り、これによる色再現性低下の問題がある。 However, when combining red, green, and blue LED chips, there is a problem that the manufacturing cost is high due to the number of LED chips and complicated processes, and when combining a blue LED chip with a yellow phosphor, green and red colors are used. The wavelength is not classified and the color purity is inferior, which causes a problem of deterioration in color reproducibility.

最近、生物学的映像やエネルギー変換、そして照明(LED)のような応用分野において量子ドットを用いるための研究が多く行われている。前記量子ドットは、高い発光性と幅の狭い発光スペクトルを有し、1つの励起波長で発光波長を調節することができ、光に対して安定した量子ドット固有の特性を有する。ただし、このような量子ドットは表面の状態に極めて敏感な物質であって、分散している溶媒や周辺環境によって表面から酸化が起こり、結局、発光効率が急激に減少する問題点がある。 Recently, much research has been done on the use of quantum dots in applications such as biological imaging, energy conversion, and lighting (LED). The quantum dots have high luminescence and a narrow emission spectrum, the emission wavelength can be adjusted by one excitation wavelength, and the quantum dots have characteristics peculiar to the quantum dots that are stable with respect to light. However, such quantum dots are extremely sensitive to the state of the surface, and there is a problem that oxidation occurs from the surface due to the dispersed solvent and the surrounding environment, and eventually the luminous efficiency sharply decreases.

このような問題点を克服するために多くの試みがなされてきており、現在、多様な方法が提示されている。その一つが、量子ドットの表面に存在する有機物質を所望の官能基がある分子に置換する官能基置換(ligand exchange)の方法である。この方法は、量子ドットの表面に存在する有機分子を応用しようとするのに適した有機分子と置換する方法であるが、量子ドットの表面に直接的な影響を与えるため、発光効率に致命的な問題点を引き起こすという欠点がある。 Many attempts have been made to overcome these problems, and various methods are currently being presented. One of them is a method of functional group substitution (ligand exchange) in which an organic substance existing on the surface of a quantum dot is replaced with a molecule having a desired functional group. This method replaces the organic molecules existing on the surface of the quantum dots with organic molecules suitable for trying to apply them, but it has a direct effect on the surface of the quantum dots, which is fatal to the luminous efficiency. It has the drawback of causing various problems.

大韓民国公開特許第10−2018−0002716号および大韓民国登録特許第10−1628065号は、表面に配置されるリガンドを含む量子ドットに対して開示しているが、相溶性が低くて分散性に劣り、安定性および信頼性が十分ではなく、時間経過とともに耐光性が減少し、粘度安定性が十分でないなどの問題を解決していないのが現状である。 Republic of Korea Published Patent No. 10-2018-0002716 and Republic of Korea Registered Patent No. 10-1628065 disclose for quantum dots containing ligands placed on the surface, but they have low compatibility and poor dispersibility. At present, problems such as insufficient stability and reliability, reduced light resistance over time, and insufficient viscosity stability have not been solved.

また、大韓民国登録特許第10−1690624号は、高分子樹脂に複数の非カドミウム系量子ドットが分散し、一面または両面がパターン化された高分子レジン層;前記高分子レジン層の一面に形成された第1バリアフィルム;および前記高分子レジン層の他の一面に形成された第2バリアフィルム;を含み、前記高分子レジン層の下部面はプリズムパターン化またはレンズパターン化されたものであり、前記高分子レジン層の下部面がプリズムパターン化の場合、前記プリズムパターンのピッチは20〜70μmであり、頂角は95〜120゜であり、前記パターンの断面は三角形であり、前記高分子レジン層の下部面がレンズパターン化の場合、前記レンズパターンのピッチは20〜70μmであり、ピッチ対高さ比率は4:1〜10:1であり、前記パターンの断面は半円形である光学シートを開示しているが、量子ドットが含まれた発光層の他にバリア層、基材層などを含むことで構造が複雑な上に、これによる量子ドットの発光輝度の低下が発生し、量子ドットが消光する問題点を防止するために、低い工程温度で光学フィルム形態に加工するため、長期信頼性に問題がある。 Further, in the Republic of Korea Registered Patent No. 10-1690624, a polymer resin layer in which a plurality of non-cadmium-based quantum dots are dispersed in a polymer resin and one or both sides are patterned; the polymer resin layer is formed on one surface. A first barrier film; and a second barrier film formed on the other surface of the polymer resin layer; the lower surface of the polymer resin layer is prism-patterned or lens-patterned. When the lower surface of the polymer resin layer is prism-patterned, the pitch of the prism pattern is 20 to 70 μm, the apex angle is 95 to 120 °, the cross section of the pattern is triangular, and the polymer resin. When the lower surface of the layer is a lens pattern, the pitch of the lens pattern is 20 to 70 μm, the pitch to height ratio is 4: 1 to 10: 1, and the cross section of the pattern is a semicircular optical sheet. However, since the structure is complicated by including a barrier layer, a base material layer, etc. in addition to the light emitting layer containing the quantum dots, the emission brightness of the quantum dots is lowered due to this, and the quantum. In order to prevent the problem that the dots are extinguished, the optical film is processed at a low process temperature, so that there is a problem in long-term reliability.

大韓民国公開特許第10−2018−0002716号Republic of Korea Published Patent No. 10-2018-0002716 大韓民国登録特許第10−1690624号Republic of Korea Registered Patent No. 10-1690624

本発明は、光変換効率、塗膜硬度および密着性に優れ、インクジェット方式においても優れた特性を維持する光変換硬化性組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a light conversion curable composition which is excellent in light conversion efficiency, coating film hardness and adhesion, and maintains excellent properties even in an inkjet method.

また、本発明は、粘度安定性および耐光性がさらに向上した光変換硬化性組成物を提供することを目的とする。 Another object of the present invention is to provide a photoconvertible curable composition having further improved viscosity stability and light resistance.

さらに、本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む量子ドット発光ダイオード(Quantum Dot Light−Emitting Diode、QLED)および画像表示装置を提供することを目的とする。 Furthermore, the present invention provides a cured film formed by using the photoconversion curable composition, a quantum dot light emitting diode (QLED) including the cured film, and an image display device. The purpose.

本発明は、量子ドット、酸化防止剤、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤を含み、前記量子ドットは、表面上にリガンド層を有し、前記リガンド層が下記化学式1で表される化合物を含む、光変換硬化性組成物を提供する。 The present invention includes quantum dots, antioxidants, scattered particles, photopolymerizable compounds, and photopolymerizable initiators, the quantum dots having a ligand layer on the surface, and the ligand layer is represented by the following chemical formula 1. Provided is a photoconvertible curable composition containing the compound to be used.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

(前記化学式1において、
Aは、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、炭素数2〜30のアルケニル基、炭素数2〜30のアルカニル基、炭素数2〜30のアルキルエステル基、炭素数4〜30のヘテロ芳香族炭化水素基、チオエーテル基、炭素数1〜30のチオエステル基、シリル基、または炭素数1〜30のシリルエステル基であり、
およびRは、それぞれ独立して、直接結合、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、−OR11−、−OC(=O)R12−、−(OCHCH−、または−(OCHCHCH−であり、
およびLは、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、または−NH−であり、
Dは、酸素原子、硫黄原子、または=NHであり、
Xは、チオール基、カルボキシル基、アミン基、リン酸基、イミダゾール基、またはテトラゾール基であり、
11は、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であり、
12は、炭素数4〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であり、
mおよびlは、それぞれ独立して、1〜150の整数である。
(In the chemical formula 1,
A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, and the like. Alkanyl group with 2 to 30 carbon atoms, alkyl ester group with 2 to 30 carbon atoms, heteroaromatic hydrocarbon group with 4 to 30 carbon atoms, thioether group, thioester group with 1 to 30 carbon atoms, silyl group, or carbon number 1 to 30 silyl ester groups,
R 1 and R 2 are independently bonded, linear or branched alkylene groups having 1 to 30 carbon atoms, −OR 11 −, −OC (= O) R 12 −, − (OCH 2). CH 2 ) m − or − (OCH 2 CH 2 CH 2 ) l
L 1 and L 2 are independently directly bonded, oxygen atoms, sulfur atoms, or -NH-, respectively.
D is an oxygen atom, a sulfur atom, or = NH,
X is a thiol group, a carboxyl group, an amine group, a phosphoric acid group, an imidazole group, or a tetrazole group.
R 11 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms.
R 12 is a linear or branched alkylene group having 4 to 30 carbon atoms.
m and l are independently integers of 1 to 150.

ただし、Aが1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、または炭素数6〜30の芳香族炭化水素基の場合、前記

Figure 2021128342
However, when A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, the above
Figure 2021128342

のなす構造が The structure of the eggplant

Figure 2021128342
Figure 2021128342

であることはない。)
さらに、本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜、量子ドット発光ダイオード、および前記硬化膜を含む画像表示装置を提供する。
It cannot be. )
Furthermore, the present invention provides an image display device including a cured film, a quantum dot light emitting diode, and the cured film formed by using the photoconversion curable composition.

本発明に係る光変換硬化性組成物は、粘度安定性が高くてインクジェット方式による連続工程に適しており、これによって製造された塗膜は、硬度および密着性に優れた効果を示す。 The photoconvertible curable composition according to the present invention has high viscosity stability and is suitable for a continuous process by an inkjet method, and the coating film produced thereby exhibits an excellent effect of hardness and adhesion.

また、本発明に係る光変換硬化性組成物に含まれる量子ドットは、特定の化学式構造で表される化合物をリガンド層として含むことで、量子ドットの表面が保護されて酸化安定性および信頼性に優れ、量子効率の低下が防止され、光特性に優れている。 In addition, the quantum dots contained in the photoconvertible curable composition according to the present invention protect the surface of the quantum dots by containing a compound represented by a specific chemical formula structure as a ligand layer, and have oxidative stability and reliability. Excellent, prevents deterioration of quantum efficiency, and has excellent optical characteristics.

したがって、前記光変換硬化性組成物は、輝度などの光特性、信頼性および工程特性などがすべて向上する効果を提供するため、量子ドットフィルム、カラーフィルタ、光変換積層基材、量子ドット発光ダイオードなどの多様な用途に効果的に適用可能であり、これによって高品質の画像表示装置を提供することができる。 Therefore, in order to provide the effect of improving all the optical characteristics such as brightness, reliability, process characteristics, etc., the optical conversion curable composition includes a quantum dot film, a color filter, an optical conversion laminated substrate, and a quantum dot light emitting diode. It can be effectively applied to various applications such as, and thus a high-quality image display device can be provided.

本発明は、量子ドット、酸化防止剤、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤を含む光変換硬化性組成物、これを用いて形成される硬化膜、前記硬化膜を含む量子ドット発光ダイオード(Quantum Dot Light−Emitting Diode、QLED)および画像表示装置を提供する。 The present invention relates to a photoconversion curable composition containing quantum dots, antioxidants, scattered particles, a photopolymerizable compound, and a photopolymerizable initiator, a cured film formed using the same, and a quantum dot containing the cured film. A light emitting diode (Quantum Dot Light-Emitting Diode, QLED) and an image display device are provided.

本発明の光変換硬化性組成物は、化学式1で表される化合物をリガンド層として含む量子ドットおよび酸化防止剤をともに含むことにより、量子ドット表面の酸化による量子効率の減少を防止可能で、優れた信頼性および光特性を示し、特に粘度安定性および耐光性がさらに向上することを特徴とする。 The photoconvertible curable composition of the present invention can prevent a decrease in quantum efficiency due to oxidation of the quantum dot surface by containing both a quantum dot containing the compound represented by Chemical Formula 1 as a ligand layer and an antioxidant. It exhibits excellent reliability and optical properties, and is characterized by further improved viscosity stability and light resistance.

以下、本発明の構成を詳しく説明する。
<光変換硬化性組成物>
本発明に係る光変換硬化性組成物は、量子ドット、酸化防止剤、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤を含み、必要に応じて、アルカリ可溶性樹脂および溶剤の中から選択される1種以上を含むことができる。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail.
<Light conversion curable composition>
The photoconvertible curable composition according to the present invention contains quantum dots, antioxidants, scattered particles, photopolymerizable compounds, photopolymerizable initiators, and is optionally selected from alkali-soluble resins and solvents. Can include one or more types.

前記光変換硬化性組成物は、光変換インク組成物または光変換樹脂組成物であってもよいし、本発明の一実施形態に係る光変換硬化性組成物は、連続工程性の面から溶剤を含まない無溶剤型であってもよい。前記量子ドットインク組成物は、分散性および粘度安定性が高くてインクジェット方式による連続工程に好適に使用可能である。 The photoconversion curable composition may be a photoconversion ink composition or a photoconversion resin composition, and the photoconversion curable composition according to one embodiment of the present invention is a solvent from the viewpoint of continuous processability. It may be a solvent-free type that does not contain. The quantum dot ink composition has high dispersibility and viscosity stability, and can be suitably used for a continuous process by an inkjet method.

本発明の光変換硬化性組成物の製造方法は特に限定されず、当該技術分野にて公知の方法を用いることができる。 The method for producing the photoconvertible curable composition of the present invention is not particularly limited, and a method known in the art can be used.

量子ドット
量子ドットは光源によって自体発光し、可視光線および赤外線領域の光を発生させるために用いられるものであってもよい。量子ドットは数ナノサイズの結晶構造を有する物質で、数百から数千個程度の原子で構成されるものであってもよい。原子が分子をなし、分子はクラスタ(cluster)という小さな分子の集合体を構成してナノ粒子をなすが、通常、これらのナノ粒子が特に半導体の特性を呈している時、これを量子ドットという。本発明の量子ドットはこのような概念に符合するものであれば特に限定されない。物体がナノサイズ以下と小さくなる場合、その物体のエネルギーバンドギャップ(band gap)が大きくなる現象である量子拘束効果(quantum confinement effect)が現れ、量子ドットが外部からエネルギーを受けて励起状態に達すると、自らエネルギーバンドギャップに相当するエネルギーを放出し、自発光できる。
Quantum dots Quantum dots may be those that emit light by themselves by a light source and are used to generate light in the visible and infrared regions. Quantum dots are substances having a crystal structure of several nanometers, and may be composed of hundreds to thousands of atoms. Atoms form molecules, and molecules form an aggregate of small molecules called clusters to form nanoparticles. Normally, when these nanoparticles exhibit semiconductor characteristics, they are called quantum dots. .. The quantum dots of the present invention are not particularly limited as long as they conform to such a concept. When an object becomes smaller than nano size, the quantum constraint effect, which is a phenomenon in which the energy band gap (band gap) of the object increases, appears, and the quantum dots receive energy from the outside and reach an excited state. Then, the energy corresponding to the energy band gap is emitted by itself, and self-luminous can be performed.

前記量子ドットは、表面上にリガンド層を有し、前記リガンド層が下記化学式1で表される化合物を含むことを特徴とする。これによって量子ドットの表面が保護され、酸化安定性が向上して量子効率の低下が防止され、信頼性が向上できる。 The quantum dot has a ligand layer on the surface, and the ligand layer contains a compound represented by the following chemical formula 1. As a result, the surface of the quantum dots is protected, the oxidative stability is improved, the decrease in quantum efficiency is prevented, and the reliability can be improved.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式1において、Aは、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、炭素数2〜30のアルケニル基、炭素数2〜30のアルカニル基、炭素数2〜30のアルキルエステル基、炭素数4〜30のヘテロ芳香族炭化水素基、チオエーテル基、炭素数1〜30のチオエステル基、シリル基、または炭素数1〜30のシリルエステル基であってもよい。 In the chemical formula 1, A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. 30 alkenyl groups, alkenyl groups with 2 to 30 carbon atoms, alkyl ester groups with 2 to 30 carbon atoms, heteroaromatic hydrocarbon groups with 4 to 30 carbon atoms, thioether groups, thioester groups with 1 to 30 carbon atoms, silyl It may be a group or a silyl ester group having 1 to 30 carbon atoms.

また、前記化学式1において、RおよびRは、それぞれ独立して、直接結合、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、−OR11−、または−OC(=O)R12−、−(OCHCH−、または−(OCHCHCH−であってもよい。前記R11は、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であってもよいし、好ましくは、炭素数1〜20の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であってもよい。前記R12は、炭素数4〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であってもよいし、好ましくは、炭素数4〜20の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であってもよい。 Further, in Formula 1, R 1 and R 2 are each independently a direct bond, a straight or branched chain alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, -OR 11 -, or -OC (= O) It may be R 12 −, − (OCH 2 CH 2 ) m −, or − (OCH 2 CH 2 CH 2 ) l −. The R 11 may be a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and may preferably be a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. .. The R 12 may be a linear or branched alkylene group having 4 to 30 carbon atoms, or may preferably be a linear or branched alkylene group having 4 to 20 carbon atoms. ..

また、前記mおよびlは、それぞれ独立して、1〜150の整数であってもよく、好ましくは、1〜100の整数であってもよい。 Further, m and l may be independently integers of 1 to 150, and preferably integers of 1 to 100.

また、前記化学式1において、LおよびLは、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、または−NH−であってもよい。 Further, in the chemical formula 1, L 1 and L 2 may be directly bonded, an oxygen atom, a sulfur atom, or -NH-, respectively.

また、前記化学式1において、Dは、酸素原子、硫黄原子、または=NHであってもよい。 Further, in the chemical formula 1, D may be an oxygen atom, a sulfur atom, or = NH.

さらに、前記化学式1において、Xは、チオール基、カルボキシル基、アミン基、リン酸基、イミダゾール基、またはテトラゾール基であってもよく、好ましくは、チオール基、カルボキシル基、アミン基、またはリン酸基であってもよい。 Further, in the chemical formula 1, X may be a thiol group, a carboxyl group, an amine group, a phosphoric acid group, an imidazole group, or a tetrazole group, preferably a thiol group, a carboxyl group, an amine group, or a phosphoric acid. It may be a group.

ただし、前記化学式1において、Aが1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、または炭素数6〜30の芳香族炭化水素基の場合、前記

Figure 2021128342
However, in the case of the chemical formula 1, A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
Figure 2021128342

のなす構造が

Figure 2021128342
The structure of the eggplant
Figure 2021128342

であることはない。もし、Aが1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、または炭素数6〜30の芳香族炭化水素基であり、かつ前記

Figure 2021128342
It cannot be. If A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, and said above.
Figure 2021128342

のなす構造が

Figure 2021128342
The structure of the eggplant
Figure 2021128342

に相当する場合、塗膜硬度が減少する問題がある。
本発明の一実施形態において、前記化学式1で表される化合物は、下記化学式1−1〜1−51のいずれか1つで表される化合物であってもよい。
If it corresponds to, there is a problem that the hardness of the coating film is reduced.
In one embodiment of the present invention, the compound represented by the chemical formula 1 may be a compound represented by any one of the following chemical formulas 1-1 to 1-51.

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前記化学式1−10〜1−13において、nは、1〜150の整数であってもよいし、好ましくは1〜100の整数であってもよい。 In the chemical formulas 1-10 to 1-13, n may be an integer of 1 to 150, preferably an integer of 1 to 100.

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本発明の前記化学式1で表される化合物は、有機リガンドとして量子ドットの表面に配位結合して量子ドットを安定化させる役割を果たすことができる。通常、製造された量子ドットは、表面上にリガンド層を有することが一般的であり、製造直後のリガンド層は、オレイン酸(oleic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、およびコハク酸モノ−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]エステルなどからなってもよい。この場合、前記化学式1で表される化合物をリガンド層に含む本発明の量子ドットと比較して、リガンド層と量子ドットとの間のより弱い結合力によって量子ドット表面の非結合欠陥による理由から表面保護効果が低下することがある。また、オレイン酸の場合、高揮発性化合物(VOC;volatile organic compound)であるn−ヘキサンのような不飽和炭化水素系溶剤、クロロホルム、ベンゼンのような芳香族系溶剤によく分散するが、PGMEAのような溶剤への分散性が不良である。 The compound represented by the chemical formula 1 of the present invention can play a role of stabilizing the quantum dots by coordinating and bonding to the surface of the quantum dots as an organic ligand. Generally, the produced quantum dots have a ligand layer on the surface, and the ligand layer immediately after production is oleic acid, lauric acid, 2- (2-methoxy). It may consist of ethoxy) acetic acid, 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] acetic acid, mono- [2- (2-methoxy-ethoxy) -ethyl] ester of succinic acid and the like. In this case, as compared with the quantum dots of the present invention containing the compound represented by the chemical formula 1 in the ligand layer, the weaker binding force between the ligand layer and the quantum dots causes a non-bonding defect on the surface of the quantum dots. The surface protection effect may be reduced. In the case of oleic acid, it disperses well in unsaturated hydrocarbon solvents such as n-hexane, which is a highly volatile compound (VOC), and aromatic solvents such as chloroform and benzene, but PGMEA. Dispersibility in solvents such as is poor.

本発明に係る量子ドットは、リガンド層に前記化学式1で表される化合物を含むことにより、量子ドットの表面が保護されることにより、従来の量子ドットに比べて優れた酸化安定性を示し得るだけでなく、PGMEAのような溶剤への分散性に非常に優れて光特性を向上させる効果がある。 The quantum dots according to the present invention can exhibit superior oxidative stability as compared with conventional quantum dots by containing the compound represented by the chemical formula 1 in the ligand layer to protect the surface of the quantum dots. Not only that, it has an excellent dispersibility in a solvent such as PGMEA and has an effect of improving optical characteristics.

一部の実施例において、本発明に係る量子ドットは、リガンド層に前記化学式1で表される化合物を含むことにより、オレイン酸(oleic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、およびコハク酸モノ−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]エステルなどをさらに含むことができる。 In some examples, the quantum dots according to the present invention contain the compound represented by the chemical formula 1 in the ligand layer, whereby oleic acid, lauric acid, 2- (2- (2-). Further can include methoxyethoxy) acetic acid, 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] acetic acid, mono- [2- (2-methoxy-ethoxy) -ethyl] ester of succinic acid and the like.

本発明に係る量子ドットは、リガンド層にリガンドとして金属化合物を含む場合、光重合性化合物での分散安定性が阻害される問題点をもたらすことがある。したがって、本発明に係る量子ドットは、リガンドとして金属化合物を含まないことが好ましい。前記金属化合物としては、金属有機塩、ハロゲン化金属、ヒドロカルビル金属、ヒドロカルビル金属ハライド、またはこれらの組み合わせが挙げられるが、これに限定されるものではない。 When the ligand layer contains a metal compound as a ligand, the quantum dots according to the present invention may cause a problem that the dispersion stability of the photopolymerizable compound is impaired. Therefore, it is preferable that the quantum dots according to the present invention do not contain a metal compound as a ligand. Examples of the metal compound include, but are not limited to, metal organic salts, metal halides, hydrocarbyl metals, hydrocarbyl metal halides, or combinations thereof.

前記量子ドットは、光または電気による刺激で発光できる量子ドット粒子であれば特に限定されない。例えば、II−VI族半導体化合物;III−V族半導体化合物;IV−VI族半導体化合物;I−III−VI族半導体化合物;II−III−VI族半導体化合物;I−II−IV−VI族半導体化合物;IV族元素またはこれを含む化合物;およびこれらの組み合わせからなる群より選択可能であり、これらは、単独または2種以上混合して使用可能である。例えば、前記II−VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択されてもよいが、これに限定されるものではない。 The quantum dots are not particularly limited as long as they are quantum dot particles that can emit light by stimulation with light or electricity. For example, II-VI group semiconductor compounds; III-V group semiconductor compounds; IV-VI group semiconductor compounds; I-III-VI group semiconductor compounds; II-III-VI group semiconductor compounds; I-II-IV-VI group semiconductors. It can be selected from the group consisting of compounds; group IV elements or compounds containing them; and combinations thereof, and these can be used alone or in combination of two or more. For example, the group II-VI semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSte, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnSe, HgZnS. It may be selected from the group consisting of four elemental compounds selected from the group consisting of CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSte, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSte, and a mixture thereof, but is not limited thereto.

前記III−V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択されてもよいが、これに限定されるものではない。 The Group III-V semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof; A three-element compound selected from the group consisting of GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; and GaAlNAs, GaAlNSb, It may be selected from the group consisting of four element compounds selected from the group consisting of GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and mixtures thereof. It is not limited to.

前記IV−VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1つ以上であってもよいが、同じくこれに限定されない。 The IV-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; A three-element compound selected from the group consisting of SnPbSe, SnPbTe, and a mixture thereof; and one or more selected from a group consisting of a four-element compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and a mixture thereof. It may be, but it is also not limited to this.

前記I−III−VI族半導体化合物は、CuInS、CuInSe、CuInTe、CuGaS、CuGaSe、CuGaTe、AgInS、AgInSe、AgInTe、AgGaS、AgGaSe、AgGaTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにCuInGaS、CuInGaSe、CuInSeS、CuGaSeS、AgInGaS、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1つ以上であってもよいが、これに限定されるものではない。 The group I-III-VI semiconductor compound is a three-element compound selected from the group consisting of CuInS, CuInSe, CuInTe, CuGaS, CuGaSe, CuGaTe, AgInS, AgInSe, AgInTe, AgGaS, AgGaSe, AgGaTe, and mixtures thereof; And, but not limited to, one or more selected from the group consisting of four elemental compounds selected from the group consisting of CuInGaS, CuInGaSe, CuInSeS, CuGaSeS, AgInGaS, and mixtures thereof. ..

前記II−III−VI族半導体化合物は、ZnGaS、ZnAlS、ZnInS、ZnGaSe、ZnAlSe、ZnInSe、ZnGaTe、ZnAlTe、ZnInTe、ZnGaO、ZnAlO、ZnInO、HgGaS、HgAlS、HgInS、HgGaSe、HgAlSe、HgInSe、HgGaTe、HgAlTe、HgInTe、MgGaS、MgAlS、MgInS、MgGaSe、MgAlSe、MgInSe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物から選択される1つ以上であってもよいが、これに限定されるものではない。 The II-III-VI group semiconductor compounds include ZnGaS, ZnAlS, ZnInS, ZnGaSe, ZnAlSe, ZnInSe, ZnGaTe, ZnAlTe, ZnInTe, ZnGaO, ZnAlO, ZnInO, HgGaS, HgAlS, HgInS, HgGaSe, HgGe , HgInTe, MgGaS, MgAlS, MgInS, MgGaSe, MgAlSe, MgInSe, and one or more selected from the three-element compounds selected from the group consisting of mixtures thereof, but is not limited thereto. No.

前記II−III−VI族半導体化合物は、ZnGaS、ZnAlS、ZnInS、ZnGaSe、ZnAlSe、ZnInSe、ZnGaTe、ZnAlTe、ZnInTe、ZnGaO、ZnAlO、ZnInO、HgGaS、HgAlS、HgInS、HgGaSe、HgAlSe、HgInSe、HgGaTe、HgAlTe、HgInTe、MgGaS、MgAlS、MgInS、MgGaSe、MgAlSe、MgInSe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物から選択される1つ以上であってもよいが、これに限定されるものではない。 The II-III-VI group semiconductor compounds include ZnGaS, ZnAlS, ZnInS, ZnGaSe, ZnAlSe, ZnInSe, ZnGaTe, ZnAlTe, ZnInTe, ZnGaO, ZnAlO, ZnInO, HgGaS, HgAlS, HgInS, HgGaSe, HgGe , HgInTe, MgGaS, MgAlS, MgInS, MgGaSe, MgAlSe, MgInSe, and one or more selected from the three-element compounds selected from the group consisting of mixtures thereof, but is not limited thereto. No.

これに限定されないが、前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物からなる群より選択される元素;並びにSiC、SiGe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物からなる群より選択されてもよい。 The group IV element or a compound containing the same is selected from the group consisting of Si, Ge, and a mixture thereof; and the group consisting of SiC, SiGe, and a mixture thereof. It may be selected from the group consisting of two elemental compounds.

量子ドットは、均質な(homogeneous)単一構造;コア−シェル(core−shell)構造およびグラジエント(gradient)構造などのような二重構造;またはこれらの混合構造であってもよいし、本発明において、量子ドットは、光による刺激で発光できるものであれば、その種類を特に限定しない。 Quantum dots may be a homogeneous single structure; a dual structure such as a core-shell structure and a gradient structure; or a mixed structure thereof, or the present invention. In the above, the type of the quantum dot is not particularly limited as long as it can emit light by stimulation with light.

一実施形態によれば、量子ドットは、コア−シェル構造を有し、前記コアは、InP、InZnP、InGaP、CdSe、CdS、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdSeTe、CdZnS、CdSeS、PbSe、PbS、PbTe、AgInZnS、AgInGaS、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InGaN、InAs、およびZnOからなる群より選択される1種以上を含むことができるが、これに限定されない。 According to one embodiment, the quantum dots have a core-shell structure, wherein the cores are InP, InZnP, InGaP, CdSe, CdS, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdSeTe, CdZnS, CdSeS, PbSe, PbS. , PbTe, AgInZnS, AgInGaS, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InGaN, InAs, and ZnO.

また、前記コア−シェル構造において、前記シェルは、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、CdS、CdSe、CdTe、CdO、InP、InS、GaP、GaN、GaO、GaS、InZnP、InGaP、InGaN、InZnSCdSe、PbS、TiO、SrSe、およびHgSeからなる群より選択される1種以上を含むことができるが、これに限定されない。 Further, in the core-shell structure, the shell is ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, CdS, CdSe, CdTe, CdO, InP, InS, GaP, GaN, GaO, GaS, InZnP, InGaP, InGaN, InZnSCdSe, PbS. , TiO, SrSe, and HgSe, including, but not limited to, one or more selected from the group.

一実施形態によれば、前記コア−シェル構造の量子ドットは、AgInGaS/GaS、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnS、およびInP/MnSe/ZnSからなる群より選択される1種以上を含むことができるが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the quantum dots of the core-shell structure are AgInGaS / GaS, InP / ZnS, InP / ZnSe, InP / GaP / ZnS, InP / ZnSe / ZnS, InP / ZnSeTe / ZnS, and InP / It can include, but is not limited to, one or more selected from the group consisting of MnSe / ZnS.

一般的に、量子ドットは、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)、または分子線エピタキシ工程(MBE、molecular beam epitaxy)によって製造できる。 In general, quantum dots can be produced by a wet chemical process, a metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD), or a molecular beam epitaxy (MBE).

本発明に係る量子ドットは、湿式化学工程によって合成できる。
前記湿式化学工程は、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法で、結晶が成長する時、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位して分散剤の役割をして結晶の成長を調節するので、有機金属化学蒸着や分子線エピタキシのような気相蒸着法よりも容易かつ安価な工程により量子ドット粒子の大きさの成長を制御することができる。
The quantum dots according to the present invention can be synthesized by a wet chemical process.
The wet chemical step is a method in which a precursor substance is put into an organic solvent to grow particles. When the crystal grows, the organic solvent naturally coordinates with the surface of the quantum dot crystal and acts as a dispersant. Since the crystal growth is regulated, the growth of the size of the quantum dot particles can be controlled by a process that is easier and cheaper than the vapor phase vapor deposition method such as organic metal chemical vapor deposition or molecular beam epitaxy.

湿式化学工程によって量子ドットを製造する場合、量子ドットの凝集を防止し、量子ドットの粒子サイズをナノ水準に制御するために有機リガンドが使用される。このような有機リガンドとしては、一般的にオレイン酸が使用できる。 When quantum dots are produced by a wet chemical process, organic ligands are used to prevent quantum dot agglutination and control the particle size of the quantum dots to the nano level. As such an organic ligand, oleic acid can generally be used.

本発明の一実施形態において、前記量子ドットの製造過程で使用されたオレイン酸は、前記化学式1で表される化合物によってリガンド交換方法により置き換えられる。 In one embodiment of the present invention, the oleic acid used in the process of producing the quantum dots is replaced by the compound represented by the chemical formula 1 by the ligand exchange method.

前記リガンド交換は、元の有機リガンド、すなわちオレイン酸を有する量子ドットを含有する分散液に、交換しようとする有機リガンド、すなわち化学式1で表される化合物を添加し、これを常温〜200℃で30分〜3時間撹拌して、化学式1で表される化合物が結合した量子ドットを得ることにより行われる。必要に応じて、前記化学式1の化合物が結合した量子ドットを分離し精製する過程を追加的に行ってもよい。 In the ligand exchange, the organic ligand to be exchanged, that is, the compound represented by Chemical Formula 1, is added to the dispersion liquid containing the original organic ligand, that is, the quantum dots having oleic acid, and this is added at room temperature to 200 ° C. It is carried out by stirring for 30 minutes to 3 hours to obtain quantum dots to which the compound represented by Chemical Formula 1 is bonded. If necessary, an additional step of separating and purifying the quantum dots to which the compound of Chemical Formula 1 is bonded may be performed.

本発明の一実施形態に係る量子ドットは、上記のように、常温での簡単な撹拌処理の下、有機リガンド交換方法により製造可能で大量生産が可能であるという利点がある。 As described above, the quantum dots according to the embodiment of the present invention have an advantage that they can be produced by an organic ligand exchange method under a simple stirring treatment at room temperature and can be mass-produced.

また、本発明の一実施形態に係る量子ドットは、15日以降にも初期量子効率に比べて約90%以上の量子効率を維持できて、長期間安定して保管可能で多様な用途に商用化が可能である。 In addition, the quantum dots according to the embodiment of the present invention can maintain a quantum efficiency of about 90% or more of the initial quantum efficiency even after 15 days, can be stably stored for a long period of time, and are commercially available for various purposes. Can be converted.

前記量子ドットは、量子ドットが均一に分散した量子ドット分散液を製造して使用することが好ましい。前記量子ドット分散液は、上述した量子ドットを含み、光重合性化合物および溶剤のうちの1種以上を含み、前記光重合性化合物および溶剤に関する具体的な事項は後述する。 As the quantum dots, it is preferable to manufacture and use a quantum dot dispersion liquid in which the quantum dots are uniformly dispersed. The quantum dot dispersion liquid contains the above-mentioned quantum dots, contains one or more of a photopolymerizable compound and a solvent, and specific matters concerning the photopolymerizable compound and the solvent will be described later.

前記量子ドットは、光変換硬化性組成物の総重量に対して、1〜75重量%含まれ、好ましくは3〜70重量%、より好ましくは5〜60重量%含まれてもよい。前記量子ドットが前記範囲内に含まれる場合、発光効率に優れ、前記光変換硬化性組成物で製造される光変換コーティング層の信頼性に優れるという利点がある。 The quantum dots may be contained in an amount of 1 to 75% by weight, preferably 3 to 70% by weight, more preferably 5 to 60% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. When the quantum dots are included in the range, there are advantages that the luminous efficiency is excellent and the reliability of the light conversion coating layer produced by the light conversion curable composition is excellent.

酸化防止剤
前記酸化防止剤は、工程中に発生しうる酸素ラジカルと反応して、量子ドットが酸化しないように補助する作用をする。
Antioxidant The antioxidant acts to help prevent the quantum dots from oxidizing by reacting with oxygen radicals that may be generated during the process.

前記酸化防止剤は、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、および硫黄系酸化防止剤から選択される1種以上を含むものでもよいし、酸素ラジカルと過酸化物をすべて除去または分解して耐光性を向上させることができ、さらに、量子ドットが凝集するのを防止して粘度安定性を向上させることができる点から、リン系酸化防止剤およびフェノール系酸化防止剤をともに含むことが好ましい。 The antioxidant may contain one or more selected from phosphorus-based antioxidants, phenol-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants, and may remove or decompose all oxygen radicals and peroxides. It is possible to include both a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant from the viewpoint that the light resistance can be improved and the viscosity stability can be improved by preventing the quantum dots from aggregating. preferable.

また、前記酸化防止剤は、下記化学式2−1〜2−7で表される化合物から選択される1種以上を含むことができる。 In addition, the antioxidant may contain one or more selected from the compounds represented by the following chemical formulas 2-1 to 2-7.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−1において、
13は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
14〜R25は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。
In the chemical formula 2-1
R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
R 14 to R 25 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−2において、
26〜R34は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。
In the chemical formula 2-2,
R 26 to R 34 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−3において、
36およびR37は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
38〜R41は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。
In the chemical formula 2-3,
R 36 and R 37 are alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 38 to R 41 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−4において、
42〜R45は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
46〜R53は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。
In the chemical formula 2-4,
R 42 to R 45 are alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 46 to R 53 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−5において、
55〜R57は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数6〜20のアリール基である。
In the chemical formula 2-5,
R 55 to R 57 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms or aryl groups having 6 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−6において、
58は、−(OCHCH−であり、kは、1〜5の整数であり、
59およびR60は、それぞれ独立して、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
61〜R68は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。
In the chemical formula 2-6,
R 58 is − (OCH 2 CH 2 ) k −, and k is an integer of 1 to 5.
R 59 and R 60 are independently alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 61 to R 68 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記化学式2−7において、
69は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
70〜R73は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、
74は、炭素数1〜30のアルキル基である。
In the chemical formula 2-7,
R 69 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
R 70 to R 73 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.
R 74 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

本発明の一実施形態において、前記酸化防止剤は、前記化学式2−1で表される化合物および化学式2−5で表される化合物を含むものであってもよい。この場合、耐光性向上の効果を最大化できるので、好ましい。 In one embodiment of the present invention, the antioxidant may include a compound represented by the chemical formula 2-1 and a compound represented by the chemical formula 2-5. In this case, the effect of improving the light resistance can be maximized, which is preferable.

前記リン系酸化防止剤は、例えば、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、オクタデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−デシルオキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’ジイルビスホスホナイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル、およびホスホン酸などが挙げられ、好ましくは、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンおよびジフェニルイソデシルホスファイトを使用することができるが、これに限定されない。 The phosphorus-based antioxidant is, for example, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5. 5] Undecane, diisodecylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butyl-1-phenyl) Oxy) (2-ethylhexyloxy) phosphorus, 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepine, triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenyl) Ditridecyl) phosphite, octadecylphosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl) -4-Hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide , Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6) -Di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octylphosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tetrakis ( 2,4-Di-t-Butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'diylbisphosphonite, bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl Esters, phosphonic acid and the like, preferably 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz. [D, f] [1,3,2] Dioxaphosfepine and diphenylisodecylphosphite can be used, but are not limited thereto.

前記フェノール系酸化防止剤は、例えば、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエトキシ]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5,−トリメチル−2,4,6,−トリス(3’5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−イソシアヌレート、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−O−クレゾール、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、およびテトラキス[メチレン−3−(3,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]メタンなどが挙げられ、好ましくは、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、オクタデシル−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、およびトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を使用することができるが、これに限定されない。 The phenolic antioxidant is, for example, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethoxy] -2. , 4,8,10-Tetraoxaspiro [5.5] undecane, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5, -trimethyl -2,4,6,-Tris (3'5'-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxy) Phenyl) propionate], 4,4'-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol), tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 1,3 5-Tris (4-t-Butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -isocyanurate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy) Phenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-) t-Butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 2,4 -Bis [(octylthio) methyl] -O-cresol, 1,6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl- [3-( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-) t-Butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-tris (4-hydroxybenzyl) benzene, and tetrakis [methylene- 3- (3,5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenylpropionate)] methane and the like can be mentioned, preferably pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4). -Hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hi) Droxyphenyl) propionate], 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenol), octadecyl- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, And triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] can be used, but is not limited thereto.

前記硫黄系酸化防止剤は、例えば、2,2−ビス({[3−(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)−1,3−プロパンジイル−ビス[3−(ドデシルチオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリトリチル−テトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、および2−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられるが、これらに限定されない。 The sulfur-based antioxidant is, for example, 2,2-bis ({[3- (dodecylthio) propionyl] oxy} methyl) -1,3-propanediyl-bis [3- (dodecylthiodipropionate, dimyristyl-). Examples thereof include 3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, pentaerythrityl-tetrakis (3-laurylthiopropionate), and 2-mercaptobenzimidazole. Not limited to these.

本発明の一実施形態において、前記酸化防止剤は、1分子内にリン原子、硫黄原子、およびフェノール基の中から選択される2以上を含む化合物を使用することができ、その具体例として、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンおよび2,2−チオ−ジエチレンビスチオ)プロピオネート]、2−メルカプトベンズイミダゾール、ジラウリル−3,3’−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などが挙げられるが、これらに限定されない。 In one embodiment of the present invention, as the antioxidant, a compound containing two or more selected from a phosphorus atom, a sulfur atom, and a phenol group in one molecule can be used, and as a specific example thereof, a compound can be used. 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] di Oxaphosphepine and 2,2-thio-diethylenebisthio) propionate], 2-mercaptobenzimidazole, dilauryl-3,3'-[3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate], but is not limited to these.

前記酸化防止剤は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、0.1〜20重量%、好ましくは0.1〜15重量%含まれる。前記酸化防止剤が前記範囲内に含まれる場合、工程中に量子ドットの酸化を効果的に防止して量子効率の減少を最小化できるという利点がある。 The antioxidant is contained in an amount of 0.1 to 20% by weight, preferably 0.1 to 15% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. When the antioxidant is included in the range, there is an advantage that the oxidation of the quantum dots can be effectively prevented during the process and the decrease in quantum efficiency can be minimized.

散乱粒子
前記散乱粒子は、通常の無機材料を使用することができ、好ましくは、平均粒径が30〜1000nmの金属酸化物を含むことができる。
Scattered particles The scattered particles can use ordinary inorganic materials, and preferably contain a metal oxide having an average particle size of 30 to 1000 nm.

前記金属酸化物は、Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、In、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された1種の金属を含む酸化物であってもよいが、これに限定されない。 The metal oxides include Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, It may be, but is not limited to, an oxide containing one metal selected from the group consisting of Nb, Ce, Ta, In, and combinations thereof.

具体的には、Al、SiO、ZnO、ZrO、BaTiO、TiO、Ta、Ti、ITO、IZO、ATO、ZnO−Al、Nb、SnO、MgO、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された1種が可能である。必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。 Specifically, Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTIO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO. , MgO, and one selected from the group consisting of combinations thereof is possible. If necessary, materials surface-treated with compounds having unsaturated bonds, such as acrylates, can also be used.

本発明に係る量子ドット光変換組成物は、散乱粒子を含む場合、前記散乱粒子を介して量子ドットから自発放出された光の経路を増加させて、カラーフィルタにおける全体的な光効率を高めることができて、好ましい。 When the quantum dot light conversion composition according to the present invention contains scattered particles, it increases the path of light spontaneously emitted from the quantum dots through the scattered particles to increase the overall light efficiency of the color filter. Is possible and preferable.

好ましくは、散乱粒子は、30〜1000nmの平均粒径を有することができ、好ましくは100〜500nmの範囲のものを使用する。この時、粒子サイズが小さすぎると、量子ドットから放出された光の十分な散乱効果を期待することができず、これと逆に、大きすぎる場合には、組成物内に沈んだり、均一な品質の自発光層の表面が得られないので、前記範囲内で適宜調節して使用する。 Preferably, the scattered particles can have an average particle size of 30 to 1000 nm, preferably those in the range of 100 to 500 nm. At this time, if the particle size is too small, a sufficient scattering effect of the light emitted from the quantum dots cannot be expected, and conversely, if the particle size is too large, it sinks in the composition or is uniform. Since the surface of the self-luminous layer of quality cannot be obtained, it is used after being appropriately adjusted within the above range.

前記散乱粒子は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、1〜20重量%、好ましくは1〜15重量%含まれる。前記散乱粒子が前記範囲内に含まれる場合、全体的な光効率を効果的に向上させることができるという利点がある。 The scattered particles are contained in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 1 to 15% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. When the scattered particles are included in the range, there is an advantage that the overall light efficiency can be effectively improved.

光重合性化合物
光重合性化合物は、量子ドットの分散性を向上させる作用をする。
Photopolymerizable compound The photopolymerizable compound acts to improve the dispersibility of quantum dots.

前記光重合性化合物は、単官能単量体、2官能単量体、その他の多官能単量体などが挙げられ、好ましくは、2官能以上の単量体を使用することができる。 Examples of the photopolymerizable compound include a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, and other polyfunctional monomers, and a bifunctional or higher functional monomer can be preferably used.

前記単官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートなどが挙げられる。 The type of the monofunctional monomer is not particularly limited, and examples thereof include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate.

前記2官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 The type of the bifunctional monomer is not particularly limited, and is, for example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, and neopentyl. Examples thereof include glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate.

前記多官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 The type of the polyfunctional monomer is not particularly limited, and for example, trimethyl propantri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propanthry (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propanthry (meth) acrylate, and pentaerythritol tri. (Meta) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate ) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like can be mentioned.

前記光重合性化合物の含有量は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、10〜90重量%、好ましくは25〜85重量%含まれる。前記光重合性化合物が上述した範囲内に含まれる場合、量子ドットの分散性特性が良好でコーティングまたはジェッティング特性に優れ、光特性および信頼性に優れているので、好ましい。 The content of the photopolymerizable compound is 10 to 90% by weight, preferably 25 to 85% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above range, it is preferable because the dispersibility characteristics of the quantum dots are good, the coating or jetting characteristics are excellent, and the optical characteristics and reliability are excellent.

光重合開始剤
前記光重合開始剤は、先に説明した光重合性化合物の重合を開始するための化合物で、本発明において特に限定しないが、重合特性、開始効率、吸収波長、入手性、価格などの観点から、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物、チオキサントン系化合物、およびベンゾイン系化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を使用することが好ましい。
Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator is a compound for initiating the polymerization of the photopolymerizable compound described above, and is not particularly limited in the present invention, but has polymerization characteristics, start efficiency, absorption wavelength, availability, and price. From the above viewpoints, it is preferable to use one or more compounds selected from the group consisting of acetphenone-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, oxime-based compounds, thioxanthone-based compounds, and benzoin-based compounds.

前記アセトフェノン系化合物の具体例としては、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、2,2’−ジブトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、4−クロロアセトフェノン、2,2’−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オンなどが挙げられる。 Specific examples of the acetophenone compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, and pt. Examples thereof include −butyldichloroacetophenone, 4-chloroacetophenone, 2,2′-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1-(4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1-one and the like.

前記ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−2−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。 Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylicized benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, and 4,4'-bis (diethylamino). ) Benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone and the like.

前記トリアジン系化合物としては、2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフト1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−4−トリクロロメチル(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジンなどが挙げられる。 Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2- (3', 4'-dimethoxystyryl)-. 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-pipenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, Bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho1-yl) -4 , 6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-4-trichloromethyl (piperonyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine and the like.

前記オキシム系化合物としては、例えば、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミン、N−アセチルオキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセチルオキシ−1−[9−エチル−6−{2−メチル−4−(3,3−ジメチル−2,4−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ)ベンゾイル}−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセチルオキシ−1−[9−エチル6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミン、N−アセチルオキシ−1−[9−(2−エチルヘキシル)−6−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−9H−ベンゾ[i]カルバゾール−3−イル]−3−[1−(2,2,3,3−テトラフルオロプロピルオキシ)フェニル]メタンイミンなどが挙げられる。 Examples of the oxime compound include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butane-1-one-2-imine and N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1. −On-2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) -3-cyclopentylpropane-1-one-2-imine, N-acetyloxy-1- [9-ethyl-6- (9-ethyl-6- ( 2-Methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] ethane-1-imine, N-acetyloxy-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (3,3-dimethyl-2,, 3-dimethyl-2,) 4-Dioxacyclopentanylmethyloxy) benzoyl} -9H-carbazole-3-yl] ethane-1-imine, N-acetyloxy-1- [9-ethyl6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole] -3-yl] -3-cyclopentylpropane-1-imine, N-benzoyloxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] -3-cyclopentylpropane- 1-one-2-imine, N-acetyloxy-1- [9- (2-ethylhexyl) -6- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -9H-benzo [i] carbazole-3-yl]- Examples thereof include 3- [1- (2,2,3,3-tetrafluoropropyloxy) phenyl] methaneimine.

前記チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントンなどが挙げられる。 Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone.

前記ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。 Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

前記例示のほか、カルバゾール系化合物、ジケトン類化合物、スルホニウムボレート系化合物、ジアゾ系、ビイミダゾール系化合物、アシルホスフィン系化合物なども光重合開始剤として使用可能である。 In addition to the above examples, carbazole compounds, diketone compounds, sulfonium borate compounds, diazo compounds, biimidazole compounds, acylphosphine compounds and the like can also be used as photopolymerization initiators.

前記光重合開始剤の含有量は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、0.1〜20重量%、好ましくは1〜15重量%含まれる。前記光重合開始剤が前記範囲内に含まれる場合、パターン形成工程において、露光時に光重合が十分に起こり、光重合後に残る未反応開始剤による透過率の低下を防止できるので、好ましい。 The content of the photopolymerization initiator is 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 15% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, photopolymerization occurs sufficiently during exposure in the pattern forming step, and a decrease in transmittance due to the unreacted initiator remaining after photopolymerization can be prevented, which is preferable.

アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂は、アクリル系アルカリ可溶性樹脂およびカルド系アルカリ可溶性樹脂からなる群より選択される1種以上であってもよい。
Alkali-soluble resin The alkali-soluble resin may be one or more selected from the group consisting of acrylic alkali-soluble resins and cardo-based alkali-soluble resins.

前記アクリル系アルカリ可溶性樹脂またはカルド系アルカリ可溶性樹脂は、光や熱の作用による反応性を有し、量子ドットの分散性を向上させる作用をする。本発明の光変換硬化性組成物に含有されるアクリル系アルカリ可溶性樹脂またはカルド系アルカリ可溶性樹脂は、量子ドットに対するバインダー樹脂として作用し、光変換コーティング層の支持体として使用可能な樹脂であれば特に限定されない。 The acrylic alkali-soluble resin or the cardo-based alkali-soluble resin has a reactivity due to the action of light or heat, and acts to improve the dispersibility of quantum dots. The acrylic alkali-soluble resin or cardo-based alkali-soluble resin contained in the photoconversion curable composition of the present invention acts as a binder resin for quantum dots and can be used as a support for a photoconversion coating layer. There is no particular limitation.

本発明の光変換硬化性組成物がアルカリ可溶性樹脂を含む場合、前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、5〜80重量%、好ましくは10〜70重量%含まれる。前記アルカリ可溶性樹脂が前記範囲内に含まれる場合、画素部分の膜厚の減少が防止可能であり、量子ドットの分散性特性が良好になるので、好ましい。 When the photoconvertible curable composition of the present invention contains an alkali-soluble resin, the content of the alkali-soluble resin is 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. Included in% by weight. When the alkali-soluble resin is contained within the above range, it is possible to prevent a decrease in the film thickness of the pixel portion and improve the dispersibility characteristics of the quantum dots, which is preferable.

溶剤
前記溶剤は、光変換硬化性組成物に含まれる他の成分を溶解させるのに効果的なものであれば、当該分野で通常用いられる溶剤を特に限定なく使用可能である。前記溶剤は、具体例として、エーテル類、アセテート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、およびアミド類などから1種以上を選択して使用することができるが、これに限定するものではない。
Solvent As the solvent, a solvent usually used in the art can be used without particular limitation as long as it is effective in dissolving other components contained in the photoconvertible curable composition. As a specific example, the solvent may be used by selecting one or more from ethers, acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters, amides and the like. It is not limited.

前記エーテル類溶剤は、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;などが挙げられる。
Specifically, the ether solvent is ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether;
Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether;
Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether; and the like.

前記アセテート類溶剤は、具体的には、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、n−ペンチルアセテートなどのアルコキシアルキルアセテート類;などが挙げられる。
Specific examples of the acetate solvent include alkylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate;
Alkoxyalkyl acetates such as methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, and n-pentyl acetate; and the like.

前記芳香族炭化水素類溶剤は、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。 Specific examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene and the like.

前記ケトン類溶剤は、具体的には、メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。 Specific examples of the ketone solvent include methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and the like.

前記アルコール類溶剤は、具体的には、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。 Specific examples of the alcohol solvent include ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin and the like.

前記エステル類溶剤は、具体的には、γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類;3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、エチル3−エトキシプロピオネートなどが挙げられる。 Specific examples of the ester solvent include cyclic esters such as γ-butyrolactone; ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and the like.

前記アミド類溶剤は、具体的には、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。 Specific examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

これらの溶剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用可能である。
本発明の光変換硬化性組成物が前記溶剤を含む場合、溶剤の含有量は、光変換硬化性組成物の総重量に対して、10〜90重量%含まれ、好ましくは20〜80重量%、より好ましくは30〜70重量%含まれてもよい。前記溶剤が上述した範囲内に含まれる場合、量子ドットの分散性特性が良好でコーティングまたはジェッティング特性に優れ、光特性および信頼性に優れているので、好ましい。
These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
When the photoconvertible curable composition of the present invention contains the solvent, the content of the solvent is 10 to 90% by weight, preferably 20 to 80% by weight, based on the total weight of the photoconvertible curable composition. , More preferably 30 to 70% by weight. When the solvent is contained within the above range, it is preferable because the dispersibility characteristics of the quantum dots are good, the coating or jetting characteristics are excellent, and the optical characteristics and reliability are excellent.

<硬化膜>
本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜を提供し、前記硬化膜は、カラーフィルタ、光変換積層基材、または量子ドットフィルムであってもよい。
<Cured film>
The present invention provides a cured film formed using the light conversion curable composition, and the cured film may be a color filter, a light conversion laminated base material, or a quantum dot film.

カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタを形成するパターン形成方法は、当該技術分野にて公知の方法を用いることができる。
Color filter As the pattern forming method for forming the color filter of the present invention, a method known in the art can be used.

一実施形態としては、パターン形成方法は、
a)基板に量子ドットインク組成物または光変換硬化性組成物を塗布するステップと、
b)溶媒を乾燥するプリベークステップと、
c)得られた被膜上にフォトマスクを当てて活性光線を照射して露光部を硬化させるステップと、
d)アルカリ水溶液を用いて未露光部を溶解する現像工程を行うステップと、
e)乾燥およびポストベーク実行ステップとを含むことができる。
In one embodiment, the pattern forming method is
a) The step of applying the quantum dot ink composition or the light conversion curable composition to the substrate, and
b) Pre-baking step to dry the solvent and
c) A step of applying a photomask on the obtained film and irradiating it with active light to cure the exposed part.
d) A step of performing a developing step of dissolving an unexposed portion using an alkaline aqueous solution, and
e) Can include drying and post-baking execution steps.

前記基板は、ガラス基板やポリマー基板が使用できるが、これに限定されない。ガラス基板としては、特に、ソーダ石灰ガラス、バリウムまたはストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、または石英などが好ましく使用できる。また、ポリマー基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフィド、またはポリスルホン基板などが挙げられる。 As the substrate, a glass substrate or a polymer substrate can be used, but the substrate is not limited thereto. As the glass substrate, soda-lime glass, barium or strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, quartz and the like can be preferably used. Examples of the polymer substrate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone substrate.

この時、塗布は、所望の厚さが得られるように、ロールコーター、スピンコーター、スリットアンドスピンコーター、スリットコーター(ダイコーターともいう場合がある)、インクジェットなどの塗布装置を用いた公知の湿式コーティング方法により行われる。 At this time, the coating is performed by a known wet method using a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes referred to as a die coater), or an inkjet so that a desired thickness can be obtained. It is done by the coating method.

プリベークは、オーブン、ホットプレートなどによって加熱することにより行われる。この時、プリベークにおける加熱温度および加熱時間は、使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば、80〜150℃の温度で1〜30分間行われる。 Pre-baking is performed by heating with an oven, a hot plate, or the like. At this time, the heating temperature and the heating time in the prebake are appropriately selected according to the solvent used, and are carried out, for example, at a temperature of 80 to 150 ° C. for 1 to 30 minutes.

また、プリベーク後に行われる露光は、露光器によって行われてフォトマスクを介して露光することにより、パターンに対応する部分のみを感光させる。この時照射する光は、例えば、可視光線、紫外線、X線、および電子線などを用いることができる。 Further, the exposure performed after the prebaking is performed by an exposure device and exposed through a photomask to expose only the portion corresponding to the pattern. As the light to be irradiated at this time, for example, visible light, ultraviolet rays, X-rays, electron beams and the like can be used.

露光後のアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶解する現像工程は、非露光部分の除去されていない部分の感光性樹脂組成物を除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ水溶液を用いた現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液などを使用することができる。特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩を1〜3重量%未満で含有するアルカリ水溶液を用いて、10〜50℃、好ましくは20〜40℃の温度内で現像器または超音波洗浄機などを用いて行うことができる。 The developing step of dissolving the unexposed portion with the alkaline aqueous solution after exposure is performed for the purpose of removing the photosensitive resin composition of the unexposed portion of the unexposed portion, and a desired pattern is formed by this development. NS. As a developing solution suitable for development using this alkaline aqueous solution, for example, an aqueous solution of a carbonate of an alkali metal or an alkaline earth metal can be used. In particular, using an alkaline aqueous solution containing less than 1 to 3% by weight of carbonate such as sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, etc., in a temperature range of 10 to 50 ° C., preferably 20 to 40 ° C., a developer or ultrasonic cleaner. This can be done using a washing machine or the like.

ポストベークは、パターニングされた膜と基板との密着性を高めるために行い、例えば、80〜250℃で10〜120分の条件で熱処理により行われる。ポストベークは、プリベークと同様に、オーブン、ホットプレートなどを用いて行うことができる。 Post-baking is performed in order to improve the adhesion between the patterned film and the substrate, and is performed, for example, by heat treatment at 80 to 250 ° C. for 10 to 120 minutes. Like pre-baking, post-baking can be performed using an oven, a hot plate, or the like.

光変換積層基材
本発明に係る光変換積層基材は、光変換硬化性組成物の硬化物を含む。前記光変換積層基材は、ガラス基材にコーティングできる光変換硬化性組成物を含むことにより、人体有害物質に該当しない溶剤を使用可能で、作業者の安全と製品の生産性を向上させることができる。
Photo-conversion laminated base material The photo-conversion laminated base material according to the present invention contains a cured product of a photo-conversion curable composition. By containing a light conversion curable composition that can be coated on a glass base material, the light conversion laminated base material can use a solvent that does not correspond to a harmful substance to the human body, and improves the safety of workers and the productivity of products. Can be done.

前記光変換積層基材は、シリコン(Si)、シリコン酸化物(SiOx)、または高分子基板であってもよいし、前記高分子基板は、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone、PES)またはポリカーボネート(polycarbonate、PC)などであってもよい。 The photoconversion laminated substrate may be silicon (Si), silicon oxide (SiOx), or a polymer substrate, and the polymer substrate may be a polyether sulfone (PES) or a polycarbonate (polycarbonate,). PC) or the like.

前記光変換積層基材は、前記光変換硬化性組成物を塗布し、熱硬化または光硬化して形成される。 The photoconversion laminated base material is formed by applying the photoconversion curable composition and thermosetting or photocuring.

量子ドットフィルム
本発明の一実施形態に係る量子ドットフィルムは、上述した光変換硬化性組成物を用いて製造することができる。
Quantum dot film The quantum dot film according to the embodiment of the present invention can be produced by using the above-mentioned photoconversion curable composition.

前記量子ドットフィルムは、前記量子ドット分散層の少なくとも一面にバリア層を追加的に含むことができる。 The quantum dot film may additionally include a barrier layer on at least one surface of the quantum dot dispersion layer.

前記バリア層は、0.001cm/m・day・bar以下の酸素透過度と0.001g/m・day以下の水分透過度を有することができ、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、環状オレフィン重合体、またはポリイミドを含むことができる。 The barrier layer can have an oxygen permeability of 0.001 cm 3 / m 2 · bar or less and a water permeability of 0.001 g / m 2 · day or less, for example, polyester, polycarbonate, polyolefin, cyclic. It can contain an olefin polymer or a polyimide.

前記量子ドット分散層の厚さは、10μm〜100μmであり、前記バリア層の厚さは、50μm〜70μmであってもよい。 The thickness of the quantum dot dispersion layer may be 10 μm to 100 μm, and the thickness of the barrier layer may be 50 μm to 70 μm.

本発明の量子ドットフィルムの製造方法は特に限定されず、当該技術分野にて公知の方法を用いることができる。 The method for producing the quantum dot film of the present invention is not particularly limited, and a method known in the art can be used.

一実施形態として、量子ドットフィルムの製造方法は、
a)下部透明基材を用意するステップと、
b)下部透明基材に光変換硬化性組成物を塗布して薄膜を形成するステップと、
c)前記薄膜上に上部透明基材を貼り合わせて量子ドットフィルムを製造するステップとを含むことができる。
As an embodiment, a method for manufacturing a quantum dot film is
a) Steps to prepare the lower transparent base material and
b) The step of applying the photoconversion curable composition to the lower transparent substrate to form a thin film,
c) It can include a step of adhering an upper transparent base material on the thin film to produce a quantum dot film.

<量子ドット発光ダイオード>
本発明の一実施形態に係る量子ドット発光ダイオード(Quantum Dot Light−Emitting Diode、QLED)は、上述した光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜を含むことができる。
<Quantum dot light emitting diode>
The quantum dot light emitting diode (QLED) according to an embodiment of the present invention can include a cured film formed by using the above-mentioned photoconversion curable composition.

前記量子ドット発光ダイオードは、量子ドットを電気的に励起させて光を発するようにする電気発光(Electroluminescence、EL)方式の素子である。 The quantum dot light emitting diode is an electroluminescence (EL) type device that electrically excites quantum dots to emit light.

前記量子ドット発光ダイオードは、両側の電極から注入された電子とホールが量子ドット発光層でエキシトンを形成し、エキシトンの発光再結合(radiative recombination)により光を放出する。これは、有機発光ダイオード(Organic Light−Emitting Diode、OLED)と動作原理が同一であるので、通常のOLEDの電子/ホール注入層および輸送層などをそのまま用いた多層素子構造において発光層のみ有機発光素材の代わりに量子ドットに代替して構成される。 In the quantum dot light emitting diode, electrons and holes injected from the electrodes on both sides form excitons in the quantum dot light emitting layer, and light is emitted by radiation recombination of the excitons. Since this has the same operating principle as an organic light-emitting diode (OLED), only the light emitting layer emits organic light in a multilayer element structure using the electron / hole injection layer and transport layer of an ordinary OLED as they are. It is constructed by substituting quantum dots instead of materials.

本発明の量子ドット発光ダイオードの製造方法は特に限定されず、当該技術分野にて公知の方法を用いることができる。 The method for producing the quantum dot light emitting diode of the present invention is not particularly limited, and a method known in the art can be used.

一実施形態として、量子ドット発光ダイオードの製造方法は、陽極、陰極、電子注入・輸送層、発光層、正孔輸送層、および正孔注入層を順次に積層して製造することができる。 As one embodiment, the method for manufacturing a quantum dot light emitting diode can be manufactured by sequentially laminating an anode, a cathode, an electron injection / transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer.

他の実施例として、量子ドット発光ダイオードの製造方法は、陰極、電子注入・輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、および陽極を順次に積層して製造してもよいし、さらに他の実施例として、量子ドット発光ダイオードの製造方法は、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、電子注入・輸送層、および陰極を順次に積層して製造してもよい。 As another embodiment, the method for manufacturing the quantum dot light emitting diode may be manufactured by sequentially laminating a cathode, an electron injection / transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, and an anode. As yet another embodiment, in the method for manufacturing a quantum dot light emitting diode, an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron block layer, a light emitting layer, an electron injection / transport layer, and a cathode are sequentially laminated. May be manufactured.

この時、前記発光層が上述した光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜を含むことができる。 At this time, the light emitting layer can include a cured film formed by using the above-mentioned photoconversion curable composition.

<画像表示装置>
本発明に係る画像表示装置は、上述した硬化膜すなわち、カラーフィルタ、光変換積層基材、または量子ドットフィルムを含み、上述した量子ドット発光ダイオードを含むことができる。前記画像表示装置は、具体的には、液晶ディスプレイ(液晶表示装置;LCD)、有機ELディスプレイ(有機EL表示装置)、液晶プロジェクタ、ゲーム機用表示装置、携帯電話などの携帯端末用表示装置、デジタルカメラ用表示装置、カーナビゲーション用表示装置などの表示装置などが挙げられ、特にカラー表示装置が好適である。
<Image display device>
The image display device according to the present invention includes the above-mentioned cured film, that is, a color filter, a light conversion laminated base material, or a quantum dot film, and can include the above-mentioned quantum dot light emitting diode. Specifically, the image display device includes a liquid crystal display (liquid crystal display device; LCD), an organic EL display (organic EL display device), a liquid crystal projector, a display device for a game machine, a display device for a mobile terminal such as a mobile phone, and the like. Examples include display devices such as digital camera display devices and car navigation display devices, and color display devices are particularly suitable.

前記画像表示装置は、前記カラーフィルタまたは光変換積層基材を備えたことを除けば、本発明の技術分野における当業者に知られた構成を含み、さらに含んでもよいし、すなわち、本発明は、カラーフィルタ、光変換積層基材、または量子ドットフィルムを適用可能な画像表示装置を含む。 The image display device includes, and may further include, configurations known to those skilled in the art of the present invention, except that it comprises the color filter or a light conversion laminated substrate, that is, the present invention. , Color filters, light conversion laminated substrates, or image display devices to which quantum dot films can be applied.

本発明に係るカラーフィルタを含む画像表示装置は、色再現性、輝度、耐光性および信頼性などにいて優れた特性を有することができる。 The image display device including the color filter according to the present invention can have excellent characteristics in color reproducibility, brightness, light resistance, reliability and the like.

以下、実施例を通じて本発明をより詳しく説明する。しかし、下記の実施例は本発明をさらに具体的に説明するためのものであって、本発明の範囲が下記の実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are for more specific explanation of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following examples.

<実施例>
合成例1:InP/ZnSe/ZnSコア−シェル量子ドットの合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1−オクタデセン(octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を速やかに注入し、0.5分間反応させた。
<Example>
Synthesis Example 1: Synthesis of InP / ZnSe / ZnS core-shell quantum dots Indium acetate 0.4 mmol (0.058 g), palmitic acid 0.6 mmol (0.15 g), and 1-octadecene 20 mL of (octadecene) was placed in a reactor and heated to 120 ° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen. After heating to 280 ° C., a mixed solution of 0.2 mmol (58 μl) of tris (trimethylsilyl) phosphine (TMS3P) and 1.0 mL of trioctylphosphine was rapidly injected and reacted for 0.5 minutes.

次いで、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温に速やかに冷やした反応溶液にエタノールを入れて、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSeコア−シェルを形成させた。 Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120 ° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen and the temperature of the reactor was raised to 280 ° C. 2 mL of the previously synthesized InP core solution was added, then 4.8 mmol of selenium (Se / TOP) in trioctylphosphine was added, and then the final mixture was reacted for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution quickly cooled to room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to form an InP / ZnSe core-shell.

次いで、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で速やかに冷やした反応溶液にエタノールを入れて、遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア−シェル構造の量子ドットを得た後、クロロホルムに分散させた。固形分は10%に調整した。最大発光波長は520nmであった。 Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120 ° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen and the temperature of the reactor was raised to 280 ° C. After adding 2 mL of the previously synthesized InP core solution and then adding 4.8 mmol of sulfur (S / TOP) in trioctylphosphine, the final mixture was reacted for 2 hours. Ethanol is added to a reaction solution that has been rapidly cooled at room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation is filtered under reduced pressure and then dried under reduced pressure to obtain quantum dots having an InP / ZnSe / ZnS core-shell structure, which are then converted to chloroform. Distributed. The solid content was adjusted to 10%. The maximum emission wavelength was 520 nm.

製造例1−1〜1−51および比較例1−1〜1−8:量子ドットの製造
製造例1−1:リガンド置換反応1(LE−1)
合成例1で得られた量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に3mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、1.0gの下記化学式1−1で表される2−Mercaptoethyl methyl glutarate(Alfa Chemistry社)を入れて、窒素雰囲気下で60℃に加熱しながら1時間反応させた。
Production Examples 1-1 to 1-51 and Comparative Examples 1-1 to 1-8: Production of Quantum Dots Production Example 1-1: Ligand Substitution Reaction 1 (LE-1)
5 mL of the quantum dot solution obtained in Synthesis Example 1 was placed in a centrifuge tube, and 20 mL of ethanol was added for precipitation. The upper layer liquid is discarded by centrifugation, 3 mL of chloroform is added to the precipitate to disperse the quantum dots, and then 1.0 g of 2-Mercaptoethyl methyl glulate (Alfa Chemistry) represented by the following chemical formula 1-1 is added. It was put in and reacted for 1 hour while heating at 60 ° C. in a nitrogen atmosphere.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

次いで、反応物に25mLのn−ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して沈殿物を分離して、リガンド置換された量子ドットパウダー(LE−1)を得た。最大発光波長は520nmであった。 Next, 25 mL of n-hexane was added to the reaction product to precipitate quantum dots, and then centrifugation was performed to separate the precipitate to obtain a ligand-substituted quantum dot powder (LE-1). The maximum emission wavelength was 520 nm.

製造例1−2.リガンド置換反応2(LE−2)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−2で表されるallyl−mercaptooctanoate(ChemTik社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-2. Ligand substitution reaction 2 (LE-2)
The procedure was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that allyl-mercaptooctanoate (ChemTik) represented by the following chemical formula 1-2 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−3.リガンド置換反応3(LE−3)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−3で表される4−Oxo−4−(prop−2−yn−1−ylamino)butanoic acid(Combi−Blocks Inc.社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-3. Ligand substitution reaction 3 (LE-3)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 4-Oxo-4- (prop-2-yn-1-ylamino) butanoic acid (Compi-Blocks Inc.) represented by the following chemical formula 1-3 was used. Except for the fact that it was used, the process proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−4.リガンド置換反応4(LE−4)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−4で表されるPropanoic acid、3−(acetylthio)−、carboxymethyl ester(Angene Chemical社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-4. Ligand substitution reaction 4 (LE-4)
Production Example 1-except that propionic acid represented by the following chemical formula 1-4, 3- (acetylthio)-, and carboxymethyl ester (Angene Chemical) were used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner as in 1. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−5.リガンド置換反応5(LE−5)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−5で表されるButanedioic acid、mono[2−(trimethylsilyl)ethyl]ester(ChemTik社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-5. Ligand substitution reaction 5 (LE-5)
Production Example 1-except that a Butanedioic acid represented by the following chemical formula 1-5, mono [2- (trimethylsilyl) ester] ester (ChemTik) was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner as in 1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−6.リガンド置換反応6(LE−6)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−6で表される2−(3−trihydroxysilylpropylcarbamoylamino)acetic acid(ChemTik社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-6. Ligand substitution reaction 6 (LE-6)
The same as in Production Example 1-1, except that 2- (3-trihydroxysilropylcarbamoylamino) acetic acid (ChemTik) represented by the following chemical formula 1-6 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. I made it progress. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−7.リガンド置換反応7(LE−7)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−7で表される6−[(Cyclohexylcarbamoyl)amino]hexanoic acid(Ambeed社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-7. Ligand substitution reaction 7 (LE-7)
Same as in Production Example 1-1, except that 6-[(Cyclohexylcarbamoyl) amino] hexanoic acid (Ambed) represented by the following chemical formula 1-7 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded to. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−8.リガンド置換反応8(LE−8)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−8で表される6−(3−phenylureido)hexanoic acid(Angene Chemical社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-8. Ligand substitution reaction 8 (LE-8)
Same as Production Example 1-1, except that 6- (3-phenylureido) caproic acid (Ange Chemical) represented by the following chemical formula 1-8 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded to. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−9.リガンド置換反応9(LE−9)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−9で表される3−[((benzylthio)carbonothioyl)thio]propanoic acid(TCI社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-9. Ligand substitution reaction 9 (LE-9)
Production Example 1-except that 3-[((benzylthio) carbonothioyl) thio] propionic acid (TCI) represented by the following chemical formula 1-9 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner as in 1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−10.リガンド置換反応10(LE−10)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−10で表されるSH−PEG−Silane(Biochempeg社、M.W.600)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-10. Ligand substitution reaction 10 (LE-10)
With the exception of Production Example 1-1, except that SH-PEG-Silane (Biochemeg, MW600) represented by the following chemical formula 1-10 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−11.リガンド置換反応11(LE−11)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−11で表されるSilane−PEG−NH(Biochempeg社、M.W.1K)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-11. Ligand substitution reaction 11 (LE-11)
Production Example 1-1, except that Silane-PEG-NH 2 (Biochemeg, MW1K) represented by the following chemical formula 1-11 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded in the same way as. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−12.リガンド置換反応12(LE−12)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−12で表されるMonoethoxysilane−PEG−NH(Biochempeg社、M.W.5K)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-12. Ligand substitution reaction 12 (LE-12)
Production Example 1-1, except that Monoethoxysilane-PEG-NH 2 (Biochempeg, MW5K) represented by the following chemical formula 1-12 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded in the same way as. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−13.リガンド置換反応13(LE−13)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−13で表されるSilane−PEG−NH(Nanosoft Polymers社、M.W.1K)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-13. Ligand substitution reaction 13 (LE-13)
Production Example 1-except that Silane-PEG-NH 2 (Nanosoft Polymers, MW1K) represented by the following chemical formula 1-13 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner as in 1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−14.リガンド置換反応14(LE−14)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−14で表されるN−(benzyloxycarbonyl)aminomethylphosphonic acid(Chemspace社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は523nmであった。
Production Example 1-14. Ligand substitution reaction 14 (LE-14)
The procedure was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that N- (benzyloxycarbonyl) aminomethylphosphonic acid (Chemspace) represented by the following chemical formula 1-14 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. rice field. The maximum emission wavelength was 523 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−15.リガンド置換反応15(LE−15)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−15で表されるN−Fmoc−1−aminomethylphosphonic acid(BOC Sciences社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は523nmであった。
Production Example 1-15. Ligand substitution reaction 15 (LE-15)
Similar to Production Example 1-1, except that N-Fmoc-1-aminomethylphosphonic acid (BOC Sciences) represented by the following chemical formula 1-15 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. I made it progress. The maximum emission wavelength was 523 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−16.リガンド置換反応16(LE−16)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−16で表される2−(2’−acetoxypropanoyloxy)propanoic acid(Aurora Fine Chemicals社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-16. Ligand substitution reaction 16 (LE-16)
Production Example 1-1, except that 2- (2'-acetoxypropionic acid) propionic acid (Aurora Fine Chemicals) represented by the following chemical formula 1-16 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded in the same way as. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−17.リガンド置換反応17(LE−17)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−17で表される5−methoxycarbonyl−4−oxopentanoic acid(ChemTik社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-17. Ligand substitution reaction 17 (LE-17)
Proceed in the same manner as in Production Example 1-1, except that 5-methoxycarbonyl-4-oxopentanoic acid (ChemTik) represented by the following chemical formula 1-17 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. I let you. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−18.リガンド置換反応18(LE−18)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−18で表される4−oxo−1,7−heptanedionic acid、monomethyl ester(自体合成;Synthetic Communications,1983,vol.13,#3,p.243−254)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は523nmであった。
Production Example 1-18. Ligand substitution reaction 18 (LE-18)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 4-oxo-1,7-heptanedionic acid, monomethyl ester (self-synthesized; Synthetic Communications, 1983, vol. 13, # 3) represented by the following chemical formula 1-18. , P.243-254), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 523 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−19.リガンド置換反応19(LE−19)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−19で表される2−(2−methoxy−2−oxoacetamido)acetic acid(Debye Scientific Co.,Ltd)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-19. Ligand substitution reaction 19 (LE-19)
Except that 2- (2-methoxy-2-oxoacetic acido) acetic acid (Debye Scientific Co., Ltd) represented by the following chemical formula 1-19 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−20.リガンド置換反応20(LE−20)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−20で表されるmethoxyoxalyl−2−(4−imidazolyl)ethylamide(自体合成;Nucleosides,nucleotides and nucleic acids,2005,vol.24,#9,p.1333−1343)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-20. Ligand substitution reaction 20 (LE-20)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, methyl-2- (4-imidazolyl) ethylamide (self-synthesis; Nucleosides, nucleosides and nucleic acids, 2005, vol.24, #) represented by the following chemical formula 1-20. The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that 9, p.1333-1343) was used. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−21.リガンド置換反応21(LE−21)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−21で表される8−methoxy−6−oxo−octanoic acid(自体合成;Journal of the American Chemical Society,1955,vol.77,p.2534)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-21. Ligand substitution reaction 21 (LE-21)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 8-methoxy-6-oxo-octanoic acid represented by the following chemical formula 1-21 (self-synthesis; Journal of the American Chemical Society, 1955, vol.77, p. The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that .2534) was used. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−22.リガンド置換反応22(LE−22)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−22で表される3−(2−methoxy−ethylcarbamoylsulfanyl)−propionic acid(Angene International Limited社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-22. Ligand substitution reaction 22 (LE-22)
Production Example 1 except that 3- (2-methoxy-ethylcarbamoyl sulfanyl) -propionic acid (Angene International Limited) represented by the following chemical formula 1-22 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. It proceeded in the same manner as -1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−23.リガンド置換反応23(LE−23)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−23で表される(pentanimidoylamino)acetic acid(BOC Sciences社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は523nmであった。
Production Example 1-23. Ligand substitution reaction 23 (LE-23)
The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that instead of the ligand used in Production Example 1-1, an acetic acid (BOC Sciences) represented by the following chemical formula 1-23 was used. .. The maximum emission wavelength was 523 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−24.リガンド置換反応24(LE−24)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−24で表されるmethylcarbamimidoylmercapto−acetic acid(自体合成;Acta Chemica Scandinavica(1947),1967,vol.21,p.843−848;CAS No.16312−22−4)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-24. Ligand substitution reaction 24 (LE-24)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, a methylcarbamimidoylmercapto-acetic acid represented by the following chemical formula 1-24 (self-synthesis; Acta Chemica Scandinavica (1947), 1967, vol.21, p.843-848; CAS). The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that No. 16321-22-4) was used. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−25.リガンド置換反応25(LE−25)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−25で表される(N’−ethylguanidino)acetic acid(自体合成;Organic and Biomolecular Chemistry,2012,vol.10,#5,p.978−987;CAS No.16974−45−1)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-25. Ligand substitution reaction 25 (LE-25)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, an acetic acid (self-synthesized; Organic and Biomolecular Chemistry, 2012, vol.10, # 5, p.) Represented by the following chemical formula 1-25. The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that 978-987; CAS No. 16974-45-1) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−26.リガンド置換反応26(LE−26)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−26で表される2−[2−(1(3)H−imidazol−4−yl)−ethyl]−1−methyl−isothiourea(Angene Chemical社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-26. Ligand substitution reaction 26 (LE-26)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- [2- (1 (3) H-imidazol-4-yl) -ethyl] -1-methyl-isothiourea represented by the following chemical formula 1-26 ( The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that (Angene Chemical) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−27.リガンド置換反応27(LE−27)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−27で表される2−(allyloxy)ethyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-27. Ligand substitution reaction 27 (LE-27)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (allyloxy) ethyl3-mercaptopropanoate represented by the following chemical formula 1-27 (Synthesis itself; J. Med. Chem. 2019, 62, 2, 699-726) Was used, and the process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−28.リガンド置換反応28(LE−28)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−28で表される2−(2−(allyloxy)ethoxy)ethyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-28. Ligand substitution reaction 28 (LE-28)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (2- (allyloxy) ethoxy) ethyl3-mercaptopropanoate (self-synthesized; J. Med. Chem. 2019, 62, 2) represented by the following chemical formula 1-28. , 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−29.リガンド置換反応29(LE−29)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−29で表される2−(2−(2−(allyloxy)ethoxy)ethoxy)ethyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-29. Ligand substitution reaction 29 (LE-29)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (2- (2- (allyloxy) ethoxy) ethyl3-mercaptopropanoate (self-synthesized; J. Med. Chem.) Represented by the following chemical formula 1-29. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that 2019, 62, 2, 699-726) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−30.リガンド置換反応30(LE−30)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−30で表される3,6,9,12−tetraoxapentadec−14−enyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-30. Ligand substitution reaction 30 (LE-30)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12-tetraoxapentadec-14-enyl3-mercaptopropanoate (synthesized by itself; J. Med. Chem. 2019, 62) represented by the following chemical formula 1-30. , 2, 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−31.リガンド置換反応31(LE−31)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−31で表される2−(vinyloxy)ethyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-31. Ligand substitution reaction 31 (LE-31)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (vinyloxy) ethyl3-mercaptopropanoate represented by the following chemical formula 1-31 (Synthesis itself; J. Med. Chem. 2019, 62, 2, 699-726) Was used, and the process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−32.リガンド置換反応32(LE−32)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−32で表される2−(2−(vinyloxy)ethoxy)ethyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-32. Ligand substitution reaction 32 (LE-32)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (2- (vinyloxy) ethoxy) ethyl3-mercaptopropanoate (self-synthesized; J. Med. Chem. 2019, 62, 2) represented by the following chemical formula 1-32. , 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−33.リガンド置換反応33(LE−33)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−33で表される3,6,9,12,15−pentaoxaoctadec−17−enyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-33. Ligand substitution reaction 33 (LE-33)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxyoctadec-17-enyl3-mercaptopropanoate (self-synthesized; J. Med. Chem. 2019) represented by the following chemical formula 1-33. , 62, 2, 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−34.リガンド置換反応34(LE−34)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−34で表される3,6,9,12,15−pentaoxaheptadec−16−enyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-34. Ligand substitution reaction 34 (LE-34)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxaheptadec-16-enyl3-mercaptopropanoate (synthesized by itself; J. Med. Chem. 2019) represented by the following chemical formula 1-34. , 62, 2, 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−35.リガンド置換反応35(LE−35)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−35で表される3−mercapto−N−(3,6,9,12−tetraoxapentadec−14−enyl)propanamide(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-35. Ligand substitution reaction 35 (LE-35)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3-mercapto-N- (3,6,9,12-tetraoxapentadec-14-enyl) propanamide (synthesized by itself; J. et al.) Represented by the following chemical formula 1-35. The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that Med. Chem. 2019, 62, 2, 699-726) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−36.リガンド置換反応36(LE−36)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−36で表される3−mercapto−N−(3,6,9,12,15−pentaoxaoctadec−17−enyl)propanamide(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-36. Ligand substitution reaction 36 (LE-36)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3-mercapto-N- (3,6,9,12,15-pentaoxaoctadec-17-enyl) propanamide (synthesized by itself; The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that J. Med. Chem. 2019, 62, 2, 699-726) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−37.リガンド置換反応37(LE−37)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−37で表される3−(3−(3−(allyloxy)propoxy)propoxy)propyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-37. Ligand substitution reaction 37 (LE-37)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3- (3- (3- (allyloxy) ropoxy) ropoxy) ropyl3-mercaptopropanoate (synthesized by itself; J. Med. Chem. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that 2019, 62, 2, 699-726) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−38.リガンド置換反応38(LE−38)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−38で表される4,8,12,16−tetraoxanonadec−18−enyl3−mercaptopropanoate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-38. Ligand substitution reaction 38 (LE-38)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 4,8,12,16-tetraoxanonedec-18-enyl3-mercaptopropanoate (synthesized by itself; J. Med. Chem. 2019, 62) represented by the following chemical formula 1-38. , 2, 699-726), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−39.リガンド置換反応39(LE−39)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−39で表される2−(2−(allyloxy)ethoxy)ethyl3−aminopropanoate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-39. Ligand substitution reaction 39 (LE-39)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (2- (allyloxy) ethoxy) ethyl3-amipopropanoate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-39 was used. Except, the process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−40.リガンド置換反応40(LE−40)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−40で表される2−(2−(vinyloxy)ethoxy)ethyl3−aminopropanoate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
Production Example 1-40. Ligand substitution reaction 40 (LE-40)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 2- (2- (vinyloxy) ethoxy) ethyl3-amipopropanoate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-40 was used. Except, the process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 520 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−41.リガンド置換反応41(LE−41)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−41で表される3,6,9,12,15−pentaoxaoctadec−17−enyl2−aminoacetate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-41. Ligand substitution reaction 41 (LE-41)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxyoctadec-17-enyl2-aminoacetylate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-41 was used. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that it was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−42.リガンド置換反応42(LE−42)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−42で表される3,6,9,12,15−pentaoxaheptadec−16−enyl2−aminoacetate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-42. Ligand substitution reaction 42 (LE-42)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxaheptadec-16-enyl2-aminoacetylate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-42 was used. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that it was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−43.リガンド置換反応43(LE−43)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−43で表される3,6,9,12,15−pentaoxaheptadec−16−enyl3−aminopropanoate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-43. Ligand substitution reaction 43 (LE-43)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxaheptadec-16-enyl3-aminopropanoate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-43 was used. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that it was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−44.リガンド置換反応44(LE−44)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−44で表される3,6,9,12,15−pentaoxaoctadec−17−enyl3−aminopropanoate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-44. Ligand substitution reaction 44 (LE-44)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3,6,9,12,15-pentaoxyoctadec-17-enyl3-aminopropanoate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-44 was used. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that it was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−45.リガンド置換反応45(LE−45)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−45で表される3−amino−N−(3,6,9,12,15−pentaoxaoctadec−17−enyl)propanamide(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-45. Ligand substitution reaction 45 (LE-45)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 3-amino-N- (3,6,9,12,15-pentaoxaoctadec-17-enyl) propanamide represented by the following chemical formula 1-45 (synthesis itself; The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that Tetrahedron76 (2020) 131127) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−46.リガンド置換反応46(LE−46)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−46で表される4,8,12,16−tetraoxanonadec−18−enyl3−aminopropanoate(自体合成;Tetrahedron76(2020)131127)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-46. Ligand substitution reaction 46 (LE-46)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, 4,8,12,16-tetraoxanonedec-18-enyl3-aminopropanoate (self-synthesized; Tetrahedron76 (2020) 131127) represented by the following chemical formula 1-46 was used. Except for the above, the process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−47.リガンド置換反応47(LE−47)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−47で表されるS−2−(2−methoxyethoxy)ethyl3−mercaptopropanethioate(自体合成;J.Med.Chem.2019,62,2,699−726)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-47. Ligand substitution reaction 47 (LE-47)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, S-2- (2-methoxyethoxy) ethyl3-mercaptoponethioate (synthesized by itself; J. Med. Chem. 2019, 62, 2, 2) represented by the following chemical formula 1-47. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that 699-726) was used. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−48.リガンド置換反応48(LE−48)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−48で表されるS−2,5,8,11−tetraoxatridecan−13−yl3−mercaptopropanethioate(自体合成;Bulletin of the Chemical Society of Japan,1982,vol.55,#7,p.2303−2304)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は521nmであった。
Production Example 1-48. Ligand substitution reaction 48 (LE-48)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, S-2,5,8,11-tetraoxtridecan-13-yl3-mercaptoponethioate (self-synthesized; Bulletin of the Chemical Society of Japan) represented by the following chemical formula 1-48. , 1982, vol.55, # 7, p.2303-2304), and proceeded in the same manner as in Production Example 1-1. The maximum emission wavelength was 521 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−49.リガンド置換反応49(LE−49)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−49で表されるS−2,5,8,11,14−pentaoxahexadecan−16−yl3−mercaptopropanethioate(自体合成;Bulletin of the Chemical Society of Japan,1982,vol.55,#7,p.2303−2304)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-49. Ligand substitution reaction 49 (LE-49)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, S-2,5,8,11,14-pentaoxadecan-16-yl3-mercaptoponethioate (self-synthesis; Bulletin of the Chemical Society) represented by the following chemical formula 1-49. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that of Japan, 1982, vol.55, # 7, p.2303-2304) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−50.リガンド置換反応50(LE−50)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−50で表されるS−5,8,11−trioxa−2−thiatridecan−13−yl3−mercaptopropanethioate(自体合成;Bulletin of the Chemical Society of Japan,1982,vol.55,#7,p.2303−2304)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-50. Ligand substitution reaction 50 (LE-50)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, S-5,8,11-trioxa-2-thriatridecan-13-yl3-mercaptopropanethioate (self-synthesized; Bulletin of the Chemical Society) represented by the following chemical formula 1-50. It proceeded in the same manner as in Production Example 1-1 except that of Japan, 1982, vol.55, # 7, p.2303-2304) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例1−51.リガンド置換反応51(LE−51)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式1−51で表されるS−5,8,11,14−tetraoxa−2−thiahexadecan−16−yl3−mercaptopropanethioate(自体合成;Bulletin of the Chemical Society of Japan,1982,vol.55,#7,p.2303−2304)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。最大発光波長は522nmであった。
Production Example 1-51. Ligand substitution reaction 51 (LE-51)
Instead of the ligand used in Production Example 1-1, S-5,8,11,14-tellaoxa-2-thiahexadecan-16-yl3-mercaptoponethioate (self-synthesized; Bulletin of the) represented by the following chemical formula 1-51. The procedure was the same as in Production Example 1-1, except that Chemical Society of Japan, 1982, vol.55, # 7, p.2303-2304) was used. The maximum emission wavelength was 522 nm.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−1:リガンド交換反応未実施InP/ZnSe/ZnSコア−シェル量子ドット(1P)の用意
オレイン酸が表面に結合している合成例1の量子ドット溶液から量子ドットパウダー(1P)を得た。
Comparative Production Example 1-1: Preparation of InP / ZnSe / ZnS core-shell quantum dots (1P) in which the ligand exchange reaction has not been performed Quantum dot powder (1P) from the quantum dot solution of Synthesis Example 1 in which oleic acid is bonded to the surface. Got

比較製造例1−2:リガンド置換反応52(LE−52)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−1で表される8−Phenyloctanoic acid(Alfa Aesar社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-2: Ligand Substitution Reaction 52 (LE-52)
The process was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that 8-Phynicotropic acid (Alfa Aesar) represented by the following chemical formula 3-1 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−3:リガンド置換反応53(LE−53)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−2で表される6−cyclohexyl−hexanoic acid(BOC Sceince社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-3: Ligand Substitution Reaction 53 (LE-53)
Proceed in the same manner as in Production Example 1-1, except that 6-cyclohexyl-hexanoic acid (BOC Sequence) represented by the following chemical formula 3-2 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. rice field.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−4:リガンド置換反応54(LE−54)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−3で表されるmPEG−AA(Creative PEGWorks社、M.W.350)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-4: Ligand Substitution Reaction 54 (LE-54)
Same as Production Example 1-1 except that mPEG-AA (Creative PEG Works, MW350) represented by the following chemical formula 3-3 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. Proceeded to.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−5:リガンド置換反応55(LE−55)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−4で表されるadipic acid monomethyl ester(シグマアルドリッチ社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-5: Ligand Substitution Reaction 55 (LE-55)
The procedure was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that the adipic acid monomethyl ester (manufactured by Sigma-Aldrich) represented by the following chemical formula 3-4 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−6:リガンド置換反応56(LE−56)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−5で表されるmalonic acid monophenyl ester(Alfa chemistry社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-6: Ligand Substitution Reaction 56 (LE-56)
The procedure was carried out in the same manner as in Production Example 1-1, except that the malonic acid monophenyl ester represented by the following chemical formula 3-5 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−7:リガンド置換反応57(LE−57)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−6で表されるN−phenyl−succinamic acid(Combi−Blocks社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-7: Ligand Substitution Reaction 57 (LE-57)
Proceeding in the same manner as in Production Example 1-1, except that N-phenyl-succinamic acid (Compi-Blocks) represented by the following chemical formula 3-6 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. I let you.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

比較製造例1−8:リガンド置換反応58(LE−58)
製造例1−1で用いたリガンドの代わりに、下記化学式3−7で表される3−(cyclohexylcarbamoyl)propanoic acid(Angene Chemical社)を用いたことを除き、製造例1−1と同様に進行させた。
Comparative Production Example 1-8: Ligand Substitution Reaction 58 (LE-58)
Proceeding in the same manner as in Production Example 1-1, except that 3- (cyclohexylcarbamoyl) propionic acid (Ange Chemical) represented by the following chemical formula 3-7 was used instead of the ligand used in Production Example 1-1. I let you.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

製造例2−1〜2−9および比較製造例2−1〜2−2:量子ドット分散液の製造
下記表1の成分および含有量によって量子ドット分散液を製造した。
Production Examples 2-1 to 2-9 and Comparative Production Examples 2-1 to 2-2: Production of Quantum Dot Dispersion Liquid A quantum dot dispersion liquid was produced according to the components and contents in Table 1 below.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

−LE−27〜LE−41:製造例1−27〜1−41による量子ドットパウダー
−P1:比較製造例1−1による量子ドットパウダー
−LE−54:比較製造例1−4による量子ドットパウダー
−M−1:1,4−Butanediol diacrylate(BDDA)
−M−2:1,6−Hexanediol diacrylate(HDDA)
−M−3:Pentaerithritol triacrylate(PETA)
実施例1〜17および比較例1〜11:光変換硬化性組成物の製造
下記表2および3の成分および含有量によって光変換硬化性組成物を製造した。
-LE-27 to LE-41: Quantum dot powder according to Production Examples 1-27 to 1-41-P1: Quantum dot powder according to Comparative Production Example 1-1-LE-54: Quantum dot powder according to Comparative Production Example 1-4 -M-1: 1,4-Butanediol diacrylate (BDDA)
-M-2: 1,6-Hexanediol dialurate (HDDA)
-M-3: Pentaeritric triacrylate (PETA)
Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 11: Preparation of photoconvertible curable composition A photoconversion curable composition was produced according to the components and contents of Tables 2 and 3 below.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

Figure 2021128342
Figure 2021128342

−A−1〜A−9:製造例2−1〜2−9による量子ドット分散液
−a−1〜a−2:比較製造例2−1〜2−2による量子ドット分散液
−MN−1:ATM−4E(新中村化学社製造)
−MN−2:ペンタエリスリトールトリアクリレート
−PI−1:Irgacure OXE−01(バスフ社製造)
−散乱粒子:TiO(ハンツマン社製造、TR−88、粒径220nm)
−O−1:Irganox1010(フェノール系酸化防止剤、BASF製造)
−O−2:Sumilizer GP(フェノール系およびリン系酸化防止剤、住友化学製造)
−O−3:Irganox1035(フェノール系および硫黄系酸化防止剤、BASF製造)
−O−4:Sumilizer BBM−S(フェノール系酸化防止剤、住友化学製造)
−O−5:135A(リン系酸化防止剤、アデカ製造)
−O−6:AO−50(フェノール系酸化防止剤、アデカ製造)
−O−7:Irganox245(フェノール系酸化防止剤、BASF製造)
実験例
(1)粘度安定性評価
前記実施例1〜17および比較例1〜11による光変換硬化性組成物を、R型粘度計(VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM、東機産業株式会社製品)を用いて、回転数20rpm、温度30℃の条件で、初期粘度、常温で1ヶ月保管後および40℃で2週間保管後の粘度をそれぞれ測定した。これによって計算された粘度変化率から、下記の評価基準により粘度安定性を評価し、その結果を下記表4に示した。
-A-1 to A-9: Quantum dot dispersion according to Production Examples 2-1 to 2-9 -a-1 to a-2: Quantum dot dispersion according to Comparative Production Examples 2-1 to 2-2 -MN- 1: ATM-4E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-MN-2: Pentaerythritol triacrylate-PI-1: Irgacure OXE-01 (manufactured by BASF)
-Scattered particles: TiO 2 (manufactured by Huntsman, TR-88, particle size 220 nm)
-O-1: Irganox 1010 (phenolic antioxidant, manufactured by BASF)
-O-2: Sumilizer GP (phenolic and phosphorus-based antioxidants, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
-O-3: Irganox 1035 (phenolic and sulfur-based antioxidants, manufactured by BASF)
-O-4: Sumilizer BBM-S (phenolic antioxidant, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
-O-5: 135A (Phosphorus-based antioxidant, manufactured by ADEKA)
-O-6: AO-50 (phenolic antioxidant, ADEKA manufactured)
-O-7: Irganox245 (phenolic antioxidant, manufactured by BASF)
Experimental Example (1) Viscosity Stability Evaluation The photoconvertible curable composition according to Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 11 was used with an R-type viscometer (VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). The initial viscosity, the viscosity after storage at room temperature for 1 month, and the viscosity after storage at 40 ° C. for 2 weeks were measured under the conditions of a rotation speed of 20 rpm and a temperature of 30 ° C., respectively. From the viscosity change rate calculated by this, the viscosity stability was evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in Table 4 below.

<粘度安定性の評価基準>
○:粘度変化率105%以下
△:粘度変化率105%超過110%以下
×:粘度変化率110%超過
<Evaluation criteria for viscosity stability>
◯: Viscosity change rate 105% or less Δ: Viscosity change rate 105% excess 110% or less ×: Viscosity change rate 110% excess

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記表4の結果のように、本願の実施例1〜17の光変換硬化性組成物は、常温および40℃での粘度安定性がいずれも優れていることを確認することができるのに対し、比較例1〜11の量子ドット分散液は、粘度安定性が非常に低下し、特に酸化防止剤を含まない比較例1〜9の場合、40℃での粘度安定性が低下することを確認することができる。 As shown in the results of Table 4, it can be confirmed that the photoconvertible curable compositions of Examples 1 to 17 of the present application are excellent in viscosity stability at room temperature and 40 ° C. It was confirmed that the quantum dot dispersions of Comparative Examples 1 to 11 had a very low viscosity stability, and in particular, in the case of Comparative Examples 1 to 9 containing no antioxidant, the viscosity stability at 40 ° C. was lowered. can do.

(2)光変換コーティング層の製造および光変換効率評価
前記実施例1〜17および比較例1〜11の光変換硬化性組成物をインクジェット方式で5cm×5cmのガラス基板上に塗布した後、紫外線光源としてg、h、i線をすべて含む1kWの高圧水銀灯を用いて1000mJ/cmで照射後、180℃の加熱オーブンで30分間加熱して光変換コーティング層を製造した。前記製造された光変換コーティング層を青色(blue)光源(XLamp XR−E LED、Royal blue450、Cree社)の上部に位置させた後、輝度測定器(CAS140CT Spectrometer、Instrument systems社)および下記の数式1を用いて光変換効率を測定および計算し、その結果を下記表5に示した。光変換効率(%)が高いほど、優れた輝度を得ることができる。
(2) Production of Light Conversion Coating Layer and Evaluation of Light Conversion Efficiency After applying the light conversion curable compositions of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 11 on a glass substrate of 5 cm × 5 cm by an inkjet method, ultraviolet rays are emitted. A 1 kW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays as a light source was used to irradiate at 1000 mJ / cm 2 , and then heated in a heating oven at 180 ° C. for 30 minutes to produce a light conversion coating layer. After placing the manufactured light conversion coating layer on top of a blue light source (XLamp XR-E LED, Royal blue450, Cree), a brightness measuring instrument (CAS140CT Spectrometer, Instrument systems) and the following formula The optical conversion efficiency was measured and calculated using No. 1, and the results are shown in Table 5 below. The higher the light conversion efficiency (%), the better the brightness can be obtained.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

(3)連続ジェッティング回数評価
前記実施例1〜17および比較例1〜11の光変換硬化性組成物をユニジェット社のインクジェットプリンティング設備に充填後、ジェッティングヘッドの温度を40℃に固定した後、1分間インク吐出後30分間放置を1回にして、ジェッティングヘッド部のノズル詰まりで吐出されなくなるまで繰り返し行って連続ジェッティング回数を評価し、その結果を下記表4に示した。連続ジェッティング回数が増加するほど、インクジェット連続工程に優れた特性を得ることができる。
(3) Evaluation of Number of Continuous Jettings After filling the light conversion curable compositions of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 11 in an inkjet printing facility manufactured by Unijet, the temperature of the jetting head was fixed at 40 ° C. After that, after ejecting the ink for 1 minute, the ink was left to stand once for 30 minutes, and the number of continuous jettings was evaluated by repeating the process until the ink was not ejected due to the nozzle clogging of the jetting head, and the results are shown in Table 4 below. As the number of continuous jettings increases, excellent characteristics can be obtained in the continuous inkjet process.

(4)塗膜硬度評価
前記製造された光変換コーティング層の硬化度を硬度計(HM500;Fischer社製品)を用いて150℃の高温で測定し、下記の評価基準により塗膜硬度を評価した。その結果は下記表4に示した。
(4) Evaluation of coating film hardness The degree of curing of the manufactured photoconversion coating layer was measured at a high temperature of 150 ° C. using a hardness tester (HM500; Fisher's product), and the coating film hardness was evaluated according to the following evaluation criteria. .. The results are shown in Table 4 below.

<塗膜硬度の評価基準>
○:表面硬度50以上
△:表面硬度30以上50未満
×:表面硬度30未満
(5)耐光性評価
前記製造された光変換コーティング層を青色光源(XLamp XR−E LED、Royal blue450、Cree社)に24時間放置させた後、初期光変換効率に対する維持率(%)を確認して耐光性を評価した。その結果は下記表4に示した。
<Evaluation criteria for coating film hardness>
◯: Surface hardness 50 or more and Δ: Surface hardness 30 or more and less than 50 ×: Surface hardness less than 30 (5) Light resistance evaluation The manufactured light conversion coating layer is a blue light source (XLamp XR-E LED, Royal blue450, Cree). After being left to stand for 24 hours, the maintenance rate (%) with respect to the initial light conversion efficiency was confirmed to evaluate the light resistance. The results are shown in Table 4 below.

Figure 2021128342
Figure 2021128342

前記表5の結果のように、酸化防止剤を含む実施例1〜17による光変換コーティング層は、優れた耐光性を示すことを確認することができる。特に、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをすべて含む実施例10〜17による光変換コーティング層は、耐光性にさらに優れていることを確認することができる。 As shown in the results of Table 5, it can be confirmed that the photoconversion coating layer according to Examples 1 to 17 containing the antioxidant exhibits excellent light resistance. In particular, it can be confirmed that the photoconversion coating layer according to Examples 10 to 17 containing all of the phosphorus-based antioxidant and the phenol-based antioxidant is further excellent in light resistance.

これに対し、酸化防止剤を含まない比較例1〜11の場合、耐光性が低下することを確認することができる。特に、化学式1で表される化合物をリガンドとして含まない量子ドットを用いた比較例10および11の場合、耐光性が著しく低下することを確認することができる。 On the other hand, in the cases of Comparative Examples 1 to 11 containing no antioxidant, it can be confirmed that the light resistance is lowered. In particular, in the cases of Comparative Examples 10 and 11 using quantum dots not containing the compound represented by Chemical Formula 1 as a ligand, it can be confirmed that the light resistance is remarkably lowered.

このように、表面に化学式1で表される化合物をリガンドとして含む量子ドットおよび酸化防止剤をともに使用する場合、量子ドットの表面が保護されて酸化安定性に優れ、量子効率の低下が防止され、粘度安定性および耐光性などの信頼性が向上することを確認することができた。 As described above, when both the quantum dot containing the compound represented by the chemical formula 1 as a ligand and the antioxidant are used on the surface, the surface of the quantum dot is protected, the oxidation stability is excellent, and the decrease in quantum efficiency is prevented. It was confirmed that reliability such as viscosity stability and light resistance was improved.

Claims (18)

量子ドット、酸化防止剤、散乱粒子、光重合性化合物および光重合性開始剤を含み、
前記量子ドットは、表面上にリガンド層を有し、
前記リガンド層が下記化学式1で表される化合物を含む、光変換硬化性組成物。
Figure 2021128342

(前記化学式1において、
Aは、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、炭素数2〜30のアルケニル基、炭素数2〜30のアルカニル基、炭素数2〜30のアルキルエステル基、炭素数4〜30のヘテロ芳香族炭化水素基、チオエーテル基、炭素数1〜30のチオエステル基、シリル基、または炭素数1〜30のシリルエステル基であり、
およびRは、それぞれ独立して、直接結合、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、−OR11−、−OC(=O)R12−、−(OCHCH−、または−(OCHCHCH−であり、
およびLは、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、または−NH−であり、
Dは、酸素原子、硫黄原子、または=NHであり、
Xは、チオール基、カルボキシル基、アミン基、リン酸基、イミダゾール基、またはテトラゾール基であり、
11は、炭素数1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であり、
12は、炭素数4〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基であり、
mおよびlは、それぞれ独立して、1〜150の整数である。
ただし、Aが1〜30の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、炭素数1〜30のシクロアルキル基、または炭素数6〜30の芳香族炭化水素基の場合、前記
Figure 2021128342

のなす構造が
Figure 2021128342

であることはない。)
Includes quantum dots, antioxidants, scattered particles, photopolymerizable compounds and photopolymerizable initiators,
The quantum dots have a ligand layer on the surface and
A photoconvertible curable composition in which the ligand layer contains a compound represented by the following chemical formula 1.
Figure 2021128342

(In the chemical formula 1,
A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, and the like. Alkanyl group with 2 to 30 carbon atoms, alkyl ester group with 2 to 30 carbon atoms, heteroaromatic hydrocarbon group with 4 to 30 carbon atoms, thioether group, thioester group with 1 to 30 carbon atoms, silyl group, or carbon number 1 to 30 silyl ester groups,
R 1 and R 2 are independently bonded, linear or branched alkylene groups having 1 to 30 carbon atoms, −OR 11 −, −OC (= O) R 12 −, − (OCH 2). CH 2 ) m − or − (OCH 2 CH 2 CH 2 ) l
L 1 and L 2 are independently directly bonded, oxygen atoms, sulfur atoms, or -NH-, respectively.
D is an oxygen atom, a sulfur atom, or = NH,
X is a thiol group, a carboxyl group, an amine group, a phosphoric acid group, an imidazole group, or a tetrazole group.
R 11 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms.
R 12 is a linear or branched alkylene group having 4 to 30 carbon atoms.
m and l are independently integers of 1 to 150.
However, when A is a linear or branched alkyl group having 1 to 30, a cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, the above
Figure 2021128342

The structure of the eggplant
Figure 2021128342

It cannot be. )
前記リガンド層は、下記化学式1−1〜1−51で表される化合物から選択される1種以上を含む、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。
Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

(前記化学式1−10〜1−13において、nは、1〜150の整数である。)
Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342


Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342

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Figure 2021128342

Figure 2021128342

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Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342

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Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342
The photoconvertible curable composition according to claim 1, wherein the ligand layer contains one or more selected from the compounds represented by the following chemical formulas 1-1 to 1-51.
Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342

(In the chemical formulas 1-10 to 1-13, n is an integer of 1 to 150.)
Figure 2021128342

Figure 2021128342


Figure 2021128342


Figure 2021128342


Figure 2021128342

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Figure 2021128342

Figure 2021128342

Figure 2021128342
前記リガンド層は、オレイン酸(oleic aicd)、ラウリン酸(lauric acid)、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、およびコハク酸モノ−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]エステルからなる群より選択される1種以上をさらに含む、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The ligand layer consists of oleic acid, lauric acid, 2- (2-methoxyethoxy) acetic acid, 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] acetic acid, and mono- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] acetic acid. The photoconvertible curable composition according to claim 1, further comprising one or more selected from the group consisting of 2- (2-methoxy-ethoxy) -ethyl] esters. 前記酸化防止剤は、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、および硫黄系酸化防止剤から選択される1種以上を含む、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The photoconvertible curable composition according to claim 1, wherein the antioxidant comprises one or more selected from a phosphorus-based antioxidant, a phenol-based antioxidant, and a sulfur-based antioxidant. 前記酸化防止剤は、リン系酸化防止剤およびフェノール系酸化防止剤を含む、請求項4に記載の光変換硬化性組成物。 The photoconvertible curable composition according to claim 4, wherein the antioxidant contains a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant. 前記酸化防止剤は、下記化学式2−1〜2−7で表される化合物から選択される1種以上を含む、請求項4に記載の光変換硬化性組成物。
Figure 2021128342

(前記化学式2−1において、
13は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
14〜R25は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−2において、
26〜R34は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−3において、
36およびR37は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
38〜R41は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−4において、
42〜R45は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
46〜R53は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−5において、
55〜R57は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数6〜20のアリール基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−6において、
58は、−(OCHCH−であり、kは、1〜5の整数であり、
59およびR60は、それぞれ独立して、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
61〜R68は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基である。)
Figure 2021128342

(前記化学式2−7において、
69は、炭素数1〜10のアルキレン基であり、
70〜R73は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、
74は、炭素数1〜30のアルキル基である。)
The photoconvertible curable composition according to claim 4, wherein the antioxidant comprises one or more selected from the compounds represented by the following chemical formulas 2-1 to 2-7.
Figure 2021128342

(In the above chemical formula 2-1
R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
R 14 to R 25 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-2,
R 26 to R 34 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-3,
R 36 and R 37 are alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 38 to R 41 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-4,
R 42 to R 45 are alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 46 to R 53 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-5,
R 55 to R 57 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms or aryl groups having 6 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-6,
R 58 is − (OCH 2 CH 2 ) k −, and k is an integer of 1 to 5.
R 59 and R 60 are independently alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.
R 61 to R 68 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. )
Figure 2021128342

(In the chemical formula 2-7,
R 69 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
R 70 to R 73 are independently hydrogen atoms or substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.
R 74 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. )
前記酸化防止剤は、化学式2−1で表される化合物および化学式2−5で表される化合物を含む、請求項6に記載の光変換硬化性組成物。 The photoconvertible curable composition according to claim 6, wherein the antioxidant comprises a compound represented by the chemical formula 2-1 and a compound represented by the chemical formula 2-5. 前記量子ドットは、コアおよびコアを覆うシェルを含むコア−シェル構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The photoconvertible curable composition according to claim 1, wherein the quantum dots have a core-shell structure including a core and a shell covering the core. 前記コアは、InP、InZnP、InGaP、CdSe、CdS、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdSeTe、CdZnS、CdSeS、PbSe、PbS、PbTe、AgInZnS、AgInGaS、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InGaN、InAs、およびZnOのうちの1種以上を含むことを特徴とする、請求項8に記載の光変換硬化性組成物。 The cores are InP, InZnP, InGaP, CdSe, CdS, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdSeTe, CdZnS, CdSeS, PbSe, PbS, PbTe, AgInZnS, AgInGaS, HgS, HgSe, HgS. The photoconvertible curable composition according to claim 8, which comprises one or more of InGaN, InAs, and ZnO. 前記シェルは、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、CdS、CdSe、CdTe、CdO、InP、InS、GaP、GaN、GaO、GaS、InZnP、InGaP、InGaN、InZnSCdSe、PbS、TiO、SrSe、およびHgSeのうちの1種以上を含むことを特徴とする、請求項8に記載の光変換硬化性組成物。 The shell is among ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, CdS, CdSe, CdTe, CdO, InP, InS, GaP, GaN, GaO, GaS, InZnP, InGaP, InGaN, InZnSCdSe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe. The photoconvertible curable composition according to claim 8, which comprises one or more of the above. 前記量子ドットは、AgInGaS/GaS、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnS、およびInP/MnSe/ZnSからなる群より選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The quantum dot is one selected from the group consisting of AgInGaS / GaS, InP / ZnS, InP / ZnSe, InP / GaP / ZnS, InP / ZnSe / ZnS, InP / ZnSeTe / ZnS, and InP / MnSe / ZnS. The photoconvertible curable composition according to claim 1, which comprises the above. アルカリ可溶性樹脂をさらに含む、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The photoconvertible curable composition according to claim 1, further comprising an alkali-soluble resin. 前記光変換硬化性組成物は、光変換インク組成物または光変換樹脂組成物である、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。 The light conversion curable composition according to claim 1, wherein the light conversion curable composition is a light conversion ink composition or a photo conversion resin composition. 前記光変換硬化性組成物の総重量に対して、
前記量子ドット1〜75重量%;
前記酸化防止剤0.1〜20重量%;
前記散乱粒子1〜20重量%;
前記光重合性化合物10〜90重量%;および
前記光重合開始剤0.1〜20重量%を含む、請求項1に記載の光変換硬化性組成物。
With respect to the total weight of the photoconvertible curable composition
The quantum dots 1 to 75% by weight;
0.1 to 20% by weight of the antioxidant;
1 to 20% by weight of the scattered particles;
The photoconvertible curable composition according to claim 1, which comprises 10 to 90% by weight of the photopolymerizable compound; and 0.1 to 20% by weight of the photopolymerization initiator.
請求項1〜14のいずれか1項に記載の光変換硬化性組成物を用いて形成される、硬化膜。 A cured film formed by using the photoconvertible curable composition according to any one of claims 1 to 14. 前記硬化膜は、カラーフィルタ、光変換積層基材、または量子ドットフィルムである、請求項15に記載の硬化膜。 The cured film according to claim 15, wherein the cured film is a color filter, a light conversion laminated base material, or a quantum dot film. 請求項15に記載の硬化膜を含む量子ドット発光ダイオード(Quantum Dot Light−Emitting Diode、QLED)。 The quantum dot light emitting diode (QLED) including the cured film according to claim 15. 請求項15に記載の硬化膜を含む画像表示装置。 An image display device including the cured film according to claim 15.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023157561A1 (en) * 2022-02-21 2023-08-24 住友化学株式会社 Curable composition, curable film, and display device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023101060A1 (en) * 2021-12-02 2023-06-08 주식회사 제우스 Quantum dots and method for producing same
US20230229087A1 (en) * 2022-01-19 2023-07-20 Nanosys, Inc. Uv-curable quantum dot formulations

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9359453B2 (en) 2013-09-12 2016-06-07 University Of South Carolina Phosphonate and phosphonic acid RAFT agents and monomers, along with methods of their manufacture and use
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JPWO2019208820A1 (en) 2018-04-27 2021-06-24 国立大学法人北海道大学 Intracellular substance transfer system and its use
CN108761894B (en) 2018-07-03 2022-04-15 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate, preparation method thereof, display panel and display device
CN110003486A (en) 2019-03-25 2019-07-12 江苏大学 The gold nanoparticle and preparation method and purposes of Thermo-sensitive sugar-containing polymer modification

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023157561A1 (en) * 2022-02-21 2023-08-24 住友化学株式会社 Curable composition, curable film, and display device

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