KR102153629B1 - A light conversion ink composition, a color filter manufactured by using thereof and an image display device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 광변환 잉크 조성물, 컬러필터 및 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 용제 없이도 양자점의 광특성 및 분산성이 우수하고, 저점도 구현이 가능한 광변환 잉크 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-conversion ink composition, a color filter, and a display device, and more particularly, a photo-conversion ink composition that has excellent optical properties and dispersibility of quantum dots without a solvent, and is capable of realizing a low viscosity, and a color formed using the same It relates to a filter and an image display apparatus including the color filter.
컬러필터는 백색광에서 적색, 녹색 및 청색의 3가지 색을 추출하여 미세한 화소단위로 가능하게 하는 박막 필름형 광학부품으로서, 한 화소의 크기가 수십에서 수백 마이크로미터 정도이다. 이러한 컬러필터는 각각의 화소 사이의 경계부분을 차광하기 위하여 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스 층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B))의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다.A color filter is a thin film-type optical component that extracts three colors of red, green, and blue from white light and enables it in a fine pixel unit, and the size of one pixel is about tens to hundreds of micrometers. Such a color filter includes a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to block light at the boundary between each pixel, and a plurality of colors (typically red (R), green (G) and a plurality of colors) to form each pixel. It has a structure in which pixel portions in which three primary colors of blue (B) are arranged in a predetermined order are sequentially stacked.
최근에는 컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나로서, 안료 분산형의 감광성 수지를 이용한 안료 분산법이 적용되고 있으나, 광원에서 조사된 광이 컬러필터를 투과하는 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되어 광 효율이 저하되고, 또한 색 필터에 포함되어 있는 안료의 특성으로 인하여 색재현이 저하되는 문제점이 발생하고 있다.Recently, as one of the methods of implementing a color filter, a pigment dispersion method using a pigment dispersion type photosensitive resin has been applied. However, a part of the light is absorbed by the color filter while the light irradiated from the light source passes through the color filter. There is a problem in that the efficiency is deteriorated and color reproduction is deteriorated due to the characteristics of the pigment included in the color filter.
특히, 컬러필터가 각종 화상표시장치를 비롯한 다양한 분야에 사용됨에 따라 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 높은 색재현율과 함께 우수한 고휘도, 고명암비와 같은 성능이 요구되고 있는 바, 이러한 문제를 해결하기 위하여, 양자점을 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터 제조 방법이 제안되었다. 예를 들어, 대한민국 공개특허 제10-2009-0036373호는 기존의 컬러필터를 양자점 형광체로 이루어진 발광층으로 대체함으로써 발광 효율을 향상시켜 표시장치의 표시품질을 개선할 수 있다고 개시하고 있다.In particular, as color filters are used in various fields including various image display devices, not only excellent pattern characteristics but also high color reproduction rates and excellent high luminance and high contrast ratio performance are required. To solve this problem, quantum dots are used. A method of manufacturing a color filter using the self-luminous photosensitive resin composition including the present invention has been proposed. For example, Korean Patent Application Publication No. 10-2009-0036373 discloses that the display quality of a display device can be improved by improving luminous efficiency by replacing the existing color filter with a light emitting layer made of a quantum dot phosphor.
이러한 양자점을 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용한 포토리소그래피 방법은 코팅, 노광, 현상 및 경화함으로써 색 필터를 형성하는 방법으로, 색 필터의 정교성과 재현성 측면에서는 우수하지만, 화소를 형성하기 위하여 각각의 색에 대하여 코팅, 노광, 현상 및 경화하는 과정이 각각 요구되어 제조 공정, 시간 및 비용이 늘어나고 공정간 제어 인자가 많아져 수율 관리에 어려움이 있다. The photolithography method using a photosensitive resin composition including such quantum dots is a method of forming a color filter by coating, exposure, development, and curing. Although it is excellent in terms of sophistication and reproducibility of the color filter, each color is applied to each color to form a pixel. On the other hand, the processes of coating, exposure, development, and curing are each required, which increases the manufacturing process, time and cost, and increases the control factor between processes, making it difficult to manage the yield.
이러한 문제점들을 해결하기 위하여, 잉크젯(inkjet) 방법이 제시되었다. 이러한 잉크젯 방법은 잉크젯 헤드(inkjet head)를 사용하여 구획되어 있는 소정 위치에 액체 잉크를 분사하여 각각의 잉크가 착색된 이미지를 구현하는 기술로, 적색, 녹색 및 청색을 포함한 복수의 색을 한번에 착색할 수 있어서 제조 공정, 시간 및 비용이 크게 절감될 수 있다. In order to solve these problems, an inkjet method has been proposed. This inkjet method is a technology in which liquid ink is sprayed at a predetermined position partitioned using an inkjet head to realize an image in which each ink is colored, and a plurality of colors including red, green, and blue are colored at once. So that the manufacturing process, time and cost can be greatly reduced.
최근 모니터, TV 등에서 높은 색재현률(NTSC 대비 색농도)이 요구됨에 따라 양자점의 발광 휘도 향상이 필요하다. 이러한 발광 휘도 향상을 위해서는 막 두께를 두껍게 하는 방법이 있다. 하지만, 양자점 및 용제를 포함한 잉크 조성물로서는 막두께를 두껍게 하는데 한계가 있다. 이에, 용제를 포함하지 않은 양자점 함유 무용제형 잉크 조성물이 요구되고 있다.Recently, as a high color gamut (color density compared to NTSC) is required in monitors and TVs, it is necessary to improve the light emission luminance of quantum dots. In order to improve the light emission luminance, there is a method of increasing the film thickness. However, as an ink composition including quantum dots and a solvent, there is a limit to thickening the film thickness. Accordingly, there is a demand for a non-solvent type ink composition containing quantum dots that does not contain a solvent.
한편, 양자점을 무용제형 조성물로 제조할 경우에는 균일한 분산이 어려워 양자점의 응집을 야기하여 양자점의 광특성이 저하되거나 점도가 높아져 제팅성이 불량할 수 있다.On the other hand, when the quantum dots are prepared as a solvent-free composition, it is difficult to uniformly disperse the quantum dots, causing agglomeration of the quantum dots, resulting in a decrease in optical properties of the quantum dots or an increase in viscosity, resulting in poor jetting properties.
따라서, 용제 없이도 양자점의 광특성 및 분산성이 우수하고, 저점도 구현이 가능한 광변환 잉크 조성물의 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is an urgent need to develop a photo-conversion ink composition capable of achieving excellent optical properties and dispersibility of quantum dots and realizing low viscosity without a solvent.
본 발명의 일 목적은 용제 없이도 양자점의 광특성, 분산성 및 잔막률이 우수하고, 저점도 구현으로 평탄성이 우수한 광변환 잉크 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a photo-conversion ink composition having excellent optical properties, dispersibility and film residual rate of quantum dots without a solvent, and excellent flatness by implementing a low viscosity.
본 발명의 다른 목적은 상기 광변환 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 광변환 화소, 상기 광변환 화소를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a photoconversion pixel including a cured product of the photoconversion ink composition, a color filter including the photoconversion pixel, and an image display device including the color filter.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 양자점, 산란입자, 모노머 및 산화 방지제를 포함하고, 용제를 포함하지 않는 광변환 잉크 조성물로서, 상기 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하고, 상기 산화 방지제는 하기 화학식 2 내지 5로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것인 광변환 잉크 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a photoconversion ink composition comprising quantum dots, scattering particles, monomers and antioxidants, and does not include a solvent, wherein the monomer comprises a compound represented by the following formula (1), and the oxidation The inhibitor provides a light conversion ink composition comprising at least one of the compounds represented by the following Chemical Formulas 2 to 5.
[화학식 1][Formula 1]
(상기 화학식 1에서, (In Formula 1,
A1은 수소원자 또는 메틸기이고, A 1 is a hydrogen atom or a methyl group,
A2는 C1 내지 C20의 알킬렌기, 페닐렌기 또는 C3 내지 C10의 사이클로알킬렌기이며, A 2 is a C1 to C20 alkylene group, a phenylene group or a C3 to C10 cycloalkylene group,
m은 1 내지 15의 정수이다.)m is an integer from 1 to 15.)
[화학식 2][Formula 2]
(상기 화학식 2에서, R1은 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 2, R 1 is a C1 to C10 alkylene group,
R2 내지 R13은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 2 to R 13 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 3][Formula 3]
(상기 화학식 3에서, R21 내지 R29는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)(In Formula 3, R 21 to R 29 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 4][Formula 4]
(상기 화학식 4에서, R31 및 R32는 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 4, R 31 and R 32 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R33 내지 R36은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 33 to R 36 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 5][Formula 5]
(상기 화학식 5에서, R41, R42, R47 및 R48은 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 5, R 41 , R 42 , R 47 and R 48 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R43 내지 R46 및 R49 내지 R52는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 43 to R 46 and R 49 to R 52 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
또한, 본 발명은 상기 광변환 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 광변환 화소를 제공한다.In addition, the present invention provides a photo-conversion pixel including a cured product of the photo-conversion ink composition.
또한, 본 발명은 상기 광변환 화소를 포함하는 컬러필터를 제공 한다. In addition, the present invention provides a color filter including the light conversion pixel.
또한, 본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 화상표시장치를 제공한다.Further, the present invention provides an image display device including the color filter.
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 용제를 포함하지 않으며, 양자점을 함유하고, 산화방지제를 포함함으로써, 주름이 발생되지 않고 평탄성이 우수한 도막 특성을 가지며, 양자점의 광특성 및 분산성이 우수하고, 저점도 구현이 가능한 효과를 제공한다.The photoconversion ink composition according to the present invention does not contain a solvent, contains quantum dots, and contains an antioxidant, so that wrinkles do not occur and have excellent flatness coating properties, and excellent optical properties and dispersibility of quantum dots, It provides an effect that can implement low viscosity.
또한, 본 발명은 상기 광변환 잉크 조성물을 사용함으로써 우수한 휘도 및 광 유지율을 갖는 광변환 화소를 제공한다.In addition, the present invention provides a photoconversion pixel having excellent brightness and light retention by using the photoconversion ink composition.
따라서, 본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 잉크젯 인쇄 방식으로 컬러필터를 제조하는데 효과적으로 사용될 수 있다.Therefore, the photoconversion ink composition according to the present invention can be effectively used to manufacture a color filter by inkjet printing.
도 1은 본 발명에서 도막의 주름 발생 정도를 평가하는 기준을 나타낸 도이다.1 is a diagram showing a criterion for evaluating the degree of occurrence of wrinkles in a coating film in the present invention.
본 발명은 양자점, 산란입자, 모노머 및 산화 방지제를 포함하고, 용제를 포함하지 않는 광변환 잉크 조성물로서, 상기 모노머는 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하고, 상기 산화 방지제는 화학식 2 내지 5로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것인 광변환 잉크 조성물, 이를 이용하여 제조된 광변환 화소, 및 상기 광변환 화소를 포함하는 컬러필터에 관한 것으로, 본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 용제를 포함하지 않음으로써, 이를 사용하여 제조되는 도막의 휘도 및 광유지율을 향상시킬 수 있고, 주름이 발생되지 않으며, 잉크 젯팅 후 잔막률이 우수한 효과를 제공한다.The present invention is a photoconversion ink composition comprising quantum dots, scattering particles, monomers, and antioxidants, and does not contain a solvent, wherein the monomer comprises a compound represented by Formula 1, and the antioxidant is represented by Formulas 2 to 5 A photoconversion ink composition comprising at least one of the compounds to be used, a photoconversion pixel prepared using the same, and a color filter including the photoconversion pixel, wherein the photoconversion ink composition according to the present invention comprises a solvent By not doing this, it is possible to improve the luminance and light retention of the coating film produced by using the same, wrinkles do not occur, and the film residual rate after ink jetting is excellent.
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
<광변환 잉크 조성물><Light conversion ink composition>
양자점Quantum dots
본 발명의 광변환 잉크 조성물에 포함되는 양자점은 나노 크기의 반도체 물질이다. 원자가 분자를 이루고, 분자는 클러스터(cluster)라고 하는 작은 분자들의 집합체를 구성하여 나노 입자를 이루는데, 이러한 나노 입자들이 특히 반도체의 특성을 띠고 있을 때 이를 양자점이라고 한다. 이러한 양자점은 외부에서 에너지를 받아 들뜬 상태에 이르면, 자체적으로 에너지 밴드 갭에 해당하는 에너지를 방출하는 특성을 가지고 있다. 요컨대, 본 발명의 광변환 잉크 조성물은 이러한 양자점을 포함함으로써, 입사된 청색광원을 통해 녹색광 및 적색광으로의 광변환이 가능하다.Quantum dots included in the photo-conversion ink composition of the present invention are nano-sized semiconductor materials. Atoms form molecules, and molecules form an aggregate of small molecules called clusters to form nanoparticles. When these nanoparticles have the characteristics of semiconductors, they are called quantum dots. These quantum dots have the characteristic of releasing energy corresponding to the energy band gap by themselves when they receive energy from the outside and reach an excited state. In short, since the photoconversion ink composition of the present invention includes such quantum dots, light conversion into green light and red light through an incident blue light source is possible.
상기 양자점은 광에 의한 자극으로 발광할 수 있는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 비카드뮴계인 것이 바람직하며, II-VI족 반도체 화합물, III-V족 반도체 화합물, IV-VI족 반도체 화합물, 및 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물 로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. 상기 II-VI족 반도체 화합물은 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, 상기 III-V족 반도체 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The quantum dot is not particularly limited as long as it can emit light by stimulation by light, but it is preferably a non-cadmium type, and a group II-VI semiconductor compound, a group III-V semiconductor compound, a group IV-VI semiconductor compound, and a group IV element Alternatively, one or more selected from compounds containing them may be used. The II-VI group semiconductor compound is a binary compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; Compounds selected from the group consisting of CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnTe, and a mixture of these compounds And CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and a quaternary compound selected from the group consisting of a mixture thereof. The compound is a binary compound selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof; A ternary compound selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; And GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and one selected from the group consisting of a quaternary compound selected from the group consisting of mixtures thereof It can be more than that.
상기 IV-VI족 반도체 화합물은 SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, 및 이들의 혼합물로 이루어 진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The IV-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; A three-element compound selected from the group consisting of SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and may be one or more selected from the group consisting of a quaternary compound selected from the group consisting of mixtures thereof.
상기 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물은 Si, Ge, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 원소 화합물; 및 SiC, SiGe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The group IV element or a compound containing the same is an element compound selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof; And SiC, SiGe, and may be one or more selected from the group consisting of a binary compound selected from the group consisting of a mixture thereof, but is not limited thereto.
상기 양자점은 균질한(homogeneous) 단일 구조; 코어-쉘(coreshell)구조, 그래디언트(gradient) 구조 등과 같은 이중 구조; 또는 이들의 혼합 구조일 수 있다. 예를 들어 상기 코어-쉘(core-shell)의 이중 구조에서, 각각의 코어(core)와 쉘(shell)을 이루는 물질은 상기 언급된 서로 다른 반도체 화합물로 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 코어는 lnP, ZnS, ZnSe, PbSe, AgInZnS 및 ZnO로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 쉘은 ZnSe, ZnS, ZnTe, PbS, TiO, SrSe 및 HgSe으로부터선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dot has a homogeneous single structure; A dual structure such as a core-shell structure and a gradient structure; Or it may be a mixed structure thereof. For example, in the dual structure of the core-shell, the material forming each core and the shell may be made of the above-mentioned different semiconductor compounds. More specifically, the core may include one or more materials selected from lnP, ZnS, ZnSe, PbSe, AgInZnS, and ZnO, but is not limited thereto. The shell may include at least one material selected from ZnSe, ZnS, ZnTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe, but is not limited thereto.
예를 들어, 코어-쉘 구조의 양자점은 InP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeTe/ZnS 및 InP/MnSe/ZnS 등을 들 수 있다.For example, the quantum dots of the core-shell structure include InP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeTe/ZnS and InP/MnSe/ZnS.
상기 양자점은 습식 화학 공정(wet chemical process), 유기금속 화학증착 공정(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition) 또는 분자선 에피텍시 공정(MBE, molecular beam epitaxy)에 의해 합성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dots may be synthesized by a wet chemical process, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), or molecular beam epitaxy (MBE), but is not limited thereto. .
상기 양자점은 입사된 청색광원을 이용하여, 녹색광 및 적색광으로의 광변환을 위해 중심 여기파장이 서로 다른 2종 또는 그 이상의 양자점을 포함 할 수 있다. 이때, 2종 이상의 양자점의 중심 여기파장의 차이는 50nm 이상일 수 있다.The quantum dots may include two or more quantum dots having different central excitation wavelengths for light conversion into green light and red light using an incident blue light source. At this time, the difference between the center excitation wavelengths of two or more types of quantum dots may be 50 nm or more.
상기 양자점은 광변환 잉크 조성물의 고형분 100 중량부에 대하여 1 내지 40 중량부, 바람직하게는 2 내지 35 중량부, 보다 바람직하게는 5 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. The quantum dots may be included in an amount of 1 to 40 parts by weight, preferably 2 to 35 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the photo-conversion ink composition.
상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우 발광 효율이 우수하고, 코팅층의 신뢰성이 우수한 이점이 있다.When the quantum dots are included within the above range, there is an advantage of excellent luminous efficiency and excellent reliability of the coating layer.
산란입자Scattering particles
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 산란입자를 포함한다. The light conversion ink composition according to the present invention includes scattering particles.
상기 산란입자는 통상의 무기 재료를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 평균입경이 50 내지 1000nm인 금속산화물을 포함할 수 있다. 상기 금속산화물은 Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta, In 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 금속을 포함하는 산화물일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 구체적으로 Al2O3, SiO2, ZnO, ZrO2, BaTiO3, TiO2, Ta2O5, Ti3O5, ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb2O3, SnO, MgO 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종이 가능하다. 필요한 경우 아크릴레이트 등의 불포화 결합을 갖는 화합물로 표면처리된 재질도 사용 가능하다. 다만, 본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물이 산란입자를 포함할 경우 상기 산란입자를 통해 양자점에서 방출된 광의 경로를 증가시켜 광변환 코팅층에서의 전체적인 광효율을 높일 수 있어 바람직하다.The scattering particles may use a conventional inorganic material, and preferably include a metal oxide having an average particle diameter of 50 to 1000 nm. The metal oxides are Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, Nb, It may be an oxide containing one metal selected from the group consisting of Ce, Ta, In, and combinations thereof, but is not limited thereto. Specifically, Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO, MgO and One selected from the group consisting of a combination thereof is possible. If necessary, a material treated with a compound having an unsaturated bond such as acrylate may be used. However, when the light conversion ink composition according to the present invention includes scattering particles, it is preferable to increase the overall light efficiency in the light conversion coating layer by increasing the path of light emitted from the quantum dots through the scattering particles.
상기 산란입자는 50 내지 1000nm의 평균입경을 가질 수 있으며, 바람직하기로 100 내지 500nm 범위인 것을 사용한다. 이때 입자 크기가 너무 작으면 양자점으로부터 방출된 빛의 충분한 산란 효과를 기대할 수 없고, 이와 반대로 너무 큰 경우에는 조성물 내에 가라 앉거나 균일한 품질의 자발광층 표면을 얻을 수 없으므로, 상기 범위 내에서 적절히 조절하여 사용한다.The scattering particles may have an average particle diameter of 50 to 1000 nm, and preferably those in the range of 100 to 500 nm are used. At this time, if the particle size is too small, a sufficient scattering effect of the light emitted from the quantum dot cannot be expected, whereas if the particle size is too large, it may sink in the composition or obtain a surface of a uniform quality of the self-luminous layer, so it is appropriately adjusted within the above range. And use it.
상기 산란입자는 상기 광변환 잉크 조성물의 전체 고형분 100 중량부에 대하여 0.5 내지 20 중량부, 바람직하게는 1 내지 15 중량부, 보다 바람직하게는 2 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. The scattering particles may be included in an amount of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the light conversion ink composition.
상기 산란입자가 상기 범위 내로 포함될 경우 발광 세기 증가 효과가 극대화될 수 있어 바람직하다. 상기 산란입자가 상기 범위 미만으로 포함될 경우 얻고자 하는 발광 세기의 확보가 다소 어려울 수 있고, 상기 범위를 초과할 경우 청색 조사광의 투과도가 현저히 저하되어 색재현성에 문제가 발생할 수 있으므로, 상기 범위 내에서 적절하게 사용하는 것이 바람직하다.When the scattering particles are included within the above range, it is preferable that the effect of increasing the light emission intensity can be maximized. If the scattering particles are included within the above range, it may be somewhat difficult to secure the desired luminous intensity, and if the scattering particles exceed the above range, the transmittance of blue irradiation light may be significantly lowered, resulting in a problem in color reproducibility. It is desirable to use it properly.
모노머Monomer
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 모노머를 포함한다. The photoconversion ink composition according to the present invention contains a monomer.
상기 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.The monomer may include a compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서, A1은 수소원자 또는 메틸기일 수 있다. In Formula 1, A 1 may be a hydrogen atom or a methyl group.
또한, 상기 화학식 1에서, A2는 C1 내지 C20의 알킬렌기, 페닐렌기 또는 C3 내지 C10의 사이클로알킬렌기일 수 있으며, 바람직하게는 C1 내지 C20의 알킬렌기, 더욱 바람직하게는 C1 내지 C10의 알킬렌기일 수 있다.In addition, in Formula 1, A 2 may be a C1 to C20 alkylene group, a phenylene group, or a C3 to C10 cycloalkylene group, preferably a C1 to C20 alkylene group, more preferably a C1 to C10 alkyl It could be Rengi.
또한, 상기 화학식 1에서, m은 1 내지 15의 정수일 수 있으며, 바람직하게는 1 내지 10의 정수일 수 있다.In addition, in Formula 1, m may be an integer of 1 to 15, preferably an integer of 1 to 10.
상기 C1 내지 C20의 알킬렌기는 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸렌, 에틸렌, n-프로필렌, 이소프로필렌, n-부틸렌, 이소부틸렌, n-펜틸렌, n-헥실렌, n-헵틸렌, n-옥틸렌, n-노닐렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.The C1 to C20 alkylene group refers to a straight-chain or branched divalent hydrocarbon consisting of 1 to 20 carbon atoms, for example methylene, ethylene, n-propylene, isopropylene, n-butylene, isobutylene, n-pentylene, n-hexylene, n-heptylene, n-octylene, n-nonylene, and the like are included, but are not limited thereto.
상기 C3 내지 C10의 사이클로알킬렌기는 탄소수 3 내지 10개로 구성된 단순 또는 융합 고리형 2가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 사이클로프로필렌, 사이클로부틸렌, 사이클로펜틸렌, 사이클로헥실렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.The C3 to C10 cycloalkylene group refers to a simple or fused cyclic divalent hydrocarbon consisting of 3 to 10 carbon atoms, and includes, for example, cyclopropylene, cyclobutylene, cyclopentylene, cyclohexylene, etc. It does not become.
상기 C1 내지 C20의 알킬렌기, 페닐렌기 및 C3 내지 C10의 사이클로알킬렌기는 한 개 또는 그 이상의 수소가 C1 내지 C6의 알킬기, C2 내지 C6의 알케닐기, C2 내지 C6의 알키닐기, C3 내지 C10의 사이클로알킬기, C3 내지 C10의 헤테로사이클로알킬기, C3 내지 C10의 헤테로사이클로알킬옥시기, C1 내지 C6의 할로알킬기, C1 내지 C6의 알콕시기, C1 내지 C6의 티오알콕시기, 아릴기, 아실기, 히드록시기, 티오(thio)기, 할로겐기, 아미노기, 알콕시카르보닐기, 카르복시기, 카바모일기, 시아노기, 니트로기 등으로 치환될 수 있다.The C1 to C20 alkylene group, phenylene group, and C3 to C10 cycloalkylene group are one or more hydrogens of a C1 to C6 alkyl group, a C2 to C6 alkenyl group, a C2 to C6 alkynyl group, a C3 to C10 Cycloalkyl group, C3 to C10 heterocycloalkyl group, C3 to C10 heterocycloalkyloxy group, C1 to C6 haloalkyl group, C1 to C6 alkoxy group, C1 to C6 thioalkoxy group, aryl group, acyl group, hydroxy group , A thio group, a halogen group, an amino group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a nitro group, and the like.
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 용매를 포함하지 않는 무용제 타입인 것을 특징으로 한다. 이와 같은 무용제 타입의 잉크 조성물을 구현하기 위해 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 모노머를 사용함으로써 우수하게 양자점을 분산 시킬 수 있을 뿐만 아니라, 용매를 포함함으로써 발생되는 젯팅성 저하 문제 및 도막특성의 불량 문제를 개선 가능하다. The photoconversion ink composition according to the present invention is characterized in that it is a solvent-free type that does not contain a solvent. In order to implement such a solvent-free type of ink composition, not only can the quantum dots be excellently dispersed by using a monomer containing the compound represented by Formula 1, but also the problem of lowering the jetting property caused by including a solvent and It is possible to improve the defect problem.
상기 모노머는 점도가 3 내지 50 cP의 저점도의 모노머를 사용하는 것을 특징으로 할 수 있으며, 이 경우 화소부의 강도 및 평활성을 향상시킬 수 있으므로 보다 바람직하다.The monomer may be characterized by using a low-viscosity monomer having a viscosity of 3 to 50 cP, and in this case, it is more preferable because the strength and smoothness of the pixel portion can be improved.
상기 모노머는 상기 광변환 잉크 조성물의 전체 고형분 100 중량부에 대하여 20 내지 90 중량부, 바람직하게는 25 내지 85 중량부, 보다 바람직하게는 30 내지 80 중량부로 포함될 수 있다. The monomer may be included in an amount of 20 to 90 parts by weight, preferably 25 to 85 parts by weight, more preferably 30 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the photoconversion ink composition.
상기 모노머가 상기 범위 내로 포함될 경우 화소부의 강도나 평활성 측면에서 바람직한 이점이 있다. 상기 모노머가 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 화소부의 강도가 다소 저하될 수 있으며, 상기 모노머가 상기 범위를 초과하여 포함되는 경우 평활성이 다소 저하될 수 있으므로 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.When the monomer is included within the above range, there is a desirable advantage in terms of strength and smoothness of the pixel portion. If the monomer is contained within the above range, the intensity of the pixel portion may be slightly lowered, and if the monomer is contained beyond the above range, the smoothness may be slightly lowered. Therefore, it is preferable to be included within the above range.
산화 방지제Antioxidant
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 산화 방지제를 포함한다.The photo-conversion ink composition according to the present invention contains an antioxidant.
상기 산화 방지제는 포스트 베이크시 열에 의해 발생 되는 라디칼을 포획함으로써 라디칼이 양자점과 반응하여 발광효율이 저하되는 것을 효과적으로 억제 및 방지할 수 있으며, 라디칼 포착 효과가 우수하여 적은 함량으로 사용하더라도 충분한 효과를 기대할 수 있다.The antioxidant can effectively inhibit and prevent the reduction of luminous efficiency due to reaction of the radicals with the quantum dots by trapping radicals generated by heat during post-baking.Since the radical trapping effect is excellent, a sufficient effect can be expected even when used in a small amount. I can.
상기 산화 방지제는 하기 화학식 2 내지 5로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The antioxidant may include one or more of the compounds represented by the following Chemical Formulas 2 to 5.
[화학식 2][Formula 2]
(상기 화학식 2에서, R1은 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 2, R 1 is a C1 to C10 alkylene group,
R2 내지 R13은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 2 to R 13 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 3][Formula 3]
(상기 화학식 3에서, R21 내지 R29는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)(In Formula 3, R 21 to R 29 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 4][Formula 4]
(상기 화학식 4에서, R31 및 R32는 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 4, R 31 and R 32 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R33 내지 R36은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 33 to R 36 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[화학식 5][Formula 5]
(상기 화학식 5에서, R41, R42, R47 및 R48은 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,(In Formula 5, R 41 , R 42 , R 47 and R 48 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R43 내지 R46 및 R49 내지 R52는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)R 43 to R 46 and R 49 to R 52 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
상기 C1 내지 C20의 알킬기는 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸-2-펜틸, 3,3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, n-헵틸, 1-메틸헥실, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸, 1-에틸-프로필, 1,1-디메틸-프로필, 이소헥실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.The C1 to C20 alkyl group means a straight-chain or branched monovalent hydrocarbon consisting of 1 to 20 carbon atoms, for example methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl , sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 4-methyl-2 -Pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2-propylpentyl, n-nonyl , 2,2-dimethylheptyl, 1-ethyl-propyl, 1,1-dimethyl-propyl, isohexyl, 2-methylpentyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, and the like, but are not limited thereto.
산기 산화 방지제는 인계 산화 방지제 및 황계 산화 방지제 중에서 선택된 1종 이상을 더 포함할 수 있다.The acidic antioxidant may further include at least one selected from a phosphorus antioxidant and a sulfur antioxidant.
상기 인계 산화 방지제는 3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸, 디이소데실펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸-1-페닐옥시)(2-에틸헥실옥시)포스포러스, 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀, 트리페닐포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페닐디트리데실)포스파이트, 옥타데실포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-)10-옥사이드, 10-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-데실옥시-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸페닐)포스파이트, 2,2-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)옥틸포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)[1,1-비페닐]-4,4'디일비스포스포나이트, 비스[2,4-비스(1,1-디메틸에틸)-6-메틸페닐]에틸에스테르 및 포스폰산 등을 들 수 있다.The phosphorus antioxidant is 3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5] Can, diisodecylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butyl-1- Phenyloxy)(2-ethylhexyloxy)phosphorus, 6-[3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-t -Butyldibenz[d,f][1,3,2]dioxaphosphine, triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, 4,4'-butylidene-bis (3-Methyl-6-t-butylphenylditridecyl) phosphite, octadecyl phosphite, tris(nonylphenyl) phosphite, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-) 10-oxide, 10-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy Cy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite, cyclic neopentanetetraylbis(2, 4-di-t-butylphenyl)phosphite, cyclic neopentanetetraylbis(2,6-di-t-butylphenyl)phosphite, 2,2-methylenebis(4,6-di-t-butyl Phenyl) octylphosphite, tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite, tetrakis(2,4-di-t-butylphenyl)[1,1-biphenyl]-4,4'di Ilbisphosphonite, bis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-6-methylphenyl]ethyl ester, phosphonic acid, etc. are mentioned.
상기 인계 산화 방지제 중 내열성 및 내열 변색 방지 측면에서, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸-1-페닐옥시)(2-에틸헥실옥시)포스포러스, 3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸 및 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀 등이 바람직하다.In terms of heat resistance and heat discoloration prevention among the phosphorus antioxidants, 2,2'-methylenebis(4,6-di-t-butyl-1-phenyloxy)(2-ethylhexyloxy)phosphorus, 3,9 -Bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane and 6-[3-( 3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine And the like are preferred.
상기 황계 산화 방지제는 2,2-비스({[3-(도데실티오)프로피오닐]옥시}메틸)-1,3-프로판디일-비스[3-(도데실티오)프로피오네이트], 2-메르캅토벤즈이미다졸, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리틸-테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트) 및 2-메르캅토벤즈이미다졸 등을 들 수 있다.The sulfur-based antioxidant is 2,2-bis({[3-(dodecylthio)propionyl]oxy}methyl)-1,3-propanediyl-bis[3-(dodecylthio)propionate], 2 -Mercaptobenzimidazole, dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate , Pentaerythrityl-tetrakis(3-laurylthiopropionate), 2-mercaptobenzimidazole, and the like.
상기 황계 산화 방지제 중 내열성 및 내열 변색 방지 측면에서, 2,2-비스({[3(도데실티오)프로피오닐]옥시}메틸)-1,3-프로판디일-비스[3-(도데실티오)프로피오네이트], 2-메르캅토벤즈이미다졸 등이 바람직하다.In terms of heat resistance and heat discoloration prevention among the sulfur-based antioxidants, 2,2-bis({[3(dodecylthio)propionyl]oxy}methyl)-1,3-propanediyl-bis[3-(dodecylthio ) Propionate], 2-mercaptobenzimidazole, and the like are preferable.
상기 산화 방지제는 상기 광변환 잉크 조성물의 전체 고형분 100 중량부에 대하여 1 내지 15 중량부, 바람직하게는 2 내지 10 중량부, 보다 바람직하게는 2 내지 8 중량부로 포함될 수 있다. The antioxidant may be included in an amount of 1 to 15 parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight, more preferably 2 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the photo-conversion ink composition.
상기 산화 방지제가 상기 범위 내로 포함될 경우에는 발광 효율 저하 문제 해결 측면에서 유리하다. 상기 산화 방지제가 상기 범위 미만으로 포함될 경우에는 전술한 바의 효과, 즉, 하드 베이크 공정 이후 양자점의 발광 효율 감소 억제 효과를 확보할 수 없는 문제점이 있으며, 상기 범위를 초과하여 포함될 경우에는 열경화가 완전히 이루어 지지 않는 문제점이 있다.When the antioxidant is included within the above range, it is advantageous in terms of solving the problem of lowering luminous efficiency. When the antioxidant is included below the above range, there is a problem in that the effect as described above, that is, the effect of suppressing the reduction in the luminous efficiency of the quantum dot after the hard bake process cannot be secured, and when it is included in the above range, thermal curing is performed. There is a problem that is not completely achieved.
광 개시제Photoinitiator
본 발명의 광변환 잉크 조성물은 광 개시제를 더 포함할 수 있다. 상기 광 개시제는 광변환 잉크 조성물의 라디칼 반응을 개시시켜, 경화를 일으키고 감도를 향상시키는 역할을 한다. 광 개시제는 광변환 잉크 조성물에 일반적으로 사용되는 광 개시제로서, 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photo-conversion ink composition of the present invention may further include a photo initiator. The photoinitiator serves to initiate a radical reaction of the photoconversion ink composition, causing curing and improving sensitivity. The photoinitiator is a photoinitiator generally used in the photoconversion ink composition, and acetophenone-based, benzophenone-based, triazine-based, thioxanthone-based, oxime-based, benzoin-based, biimidazole-based compound and the like can be used.
아세토페논계 화합물로는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Examples of acetophenone-based compounds include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, and 2-hydroxy-1-[4-(2 -Hydroxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane-1- One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl[4-(1-methylvinyl)phenyl]propane-1- And oligomers of on, preferably 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one.
또한, 상기 아세토페논계 이외의 광 개시제를 조합하여 사용할 수 있다. 아세토페논계 이외의 광 개시제는 빛을 조사함으로써 활성 라디칼을 발생하는 활성 라디칼 발생제, 증감제, 산발생제 등을 들 수 있다. In addition, photoinitiators other than the acetophenone type may be used in combination. Photoinitiators other than the acetophenone type include an active radical generator, a sensitizer, and an acid generator that generate active radicals by irradiation with light.
활성 라디칼 발생제로는, 예를 들면, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다. 벤조인계 화합물로는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조이소부틸에테르 등을 들 수 있다. 벤조페논계 화합물로는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. 티옥산톤계 화합물로는, 예를 들면, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다. 트리아진계 화합물로는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. As an active radical generator, a benzoin type compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, a triazine type compound, etc. are mentioned, for example. Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzo isobutyl ether. As a benzophenone compound, for example, benzophenone, o-benzoyl benzoate methyl, 4-phenylzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra( t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned. As a thioxanthone compound, for example, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 1-chloro- 4-propoxy oxanthone, etc. are mentioned. As a triazine-based compound, for example, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl) -6-(4-methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-tri Azine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl )-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino- 2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5 -Triazine, etc. are mentioned.
상기 활성 라디칼 발생제로는, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2,-비스(o-클로르로페닐)-4,4', 5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 산발생제로는 예를 들면, 4-히드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-히드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐메틸벤질설포늄헥사 플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다. 또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기 화합물 중에는 활성 라디칼과 동시에 산을 발생하는 화합물도 있으며, 예를들면, 트리아진계 광 개시제는 산 발생제로서도 사용된다. Examples of the active radical generator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2,-bis(o-chlorophenyl)-4,4', 5,5'-tetra Phenyl-1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene Compounds and the like can be used. Examples of the acid generator include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, and 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonium Nate, 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfoniumhexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfoniumhexafluoroantimonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, Onium salts, such as diphenyliodonium hexafluoroantimonate, nitrobenzyl tosylate, benzointosylate, etc. are mentioned. In addition, among the above compounds as an active radical generator, some compounds that generate an acid at the same time as the active radical are used. For example, a triazine-based photoinitiator is also used as an acid generator.
상기 광 개시제는 광변환 잉크 조성물 고형분 총 중량에 대하여 0.01 내지 20중량%, 바람직하게는 0.5 내지 15중량% 포함될 수 있다. 상기 범위 내로 광 개시제가 포함될 경우, 패턴 형성이 양호해지고 광변환 잉크 조성물이 고감도화되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The photoinitiator may be included in an amount of 0.01 to 20% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, based on the total weight of the solid content of the photo-conversion ink composition. When a photoinitiator is included within the above range, the pattern formation is good and the photoconversion ink composition is highly sensitive, so that the strength of the pixel portion formed using the composition and the smoothness on the surface of the pixel portion tend to be good, which is preferable. Do.
나아가, 본 발명에서는 광중합 개시 보조제를 사용할 수 있다. 광중합 개시 보조제는 광 개시제와 조합하여 사용되는 경우가 있으며, 광 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진시키기 위해 사용되는 화합물이다. Further, in the present invention, a photopolymerization initiation aid can be used. The photopolymerization initiation aid may be used in combination with a photoinitiator, and is a compound used to accelerate polymerization of a photopolymerizable compound in which polymerization was initiated by a photoinitiator.
상기 광중합 개시 보조제는 예컨대, 아민 화합물, 카르복시산 화합물, 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The photopolymerization initiation aid may preferably be one or more compounds selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group, but is not limited thereto.
상기 아민 화합물로는 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 및 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 사용할 수 있으며, 이들 중에서 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Specifically, examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyl diethanolamine, and triisopropanolamine; And 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N,N-dimethylparatoluidine, 4 , 4'-bis(dimethylamino)benzophenone (common name: Michler's ketone), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, and other aromatic amine compounds can be used, among which an aromatic amine compound is used. It is desirable.
상기 카르복시산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다. The carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, specifically phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, And chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, and the like.
상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예로서는 9-머캅토플루오렌, 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 9-mercaptofluorene, 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, 1,3,5-tris(3- Mercaptobutyloxyethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, trimethylolpropanetris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetra Kiss (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercapto) Propionate) etc. are mentioned.
상기 광중합 개시 보조제는 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 적절히 추가하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiation aid can be appropriately added and used within a range that does not impair the effects of the present invention.
이러한 광 개시제는 단독으로 또는 복수를 조합하여 사용해도 지장이 없다. 또한, 광중합 개시 보조제로써 시판되는 것을 사용할 수 있으며, 시판되는 광중합 개시 보조제로는, 예를 들면, 상품명 「EAB-F」[제조원: 호도가야가가쿠고교가부시키가이샤] 등을 들 수 있다.Even if these photoinitiators are used alone or in combination of a plurality of them, there is no problem. Moreover, what is marketed can be used as a photoinitiation auxiliary agent, and as a commercially available photoinitiation auxiliary agent, a brand name "EAB-F" [manufacturer: Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.] etc. are mentioned, for example.
이들 광중합 개시 보조제를 사용하는 경우, 이의 사용량은 광 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01 ~ 5몰이 바람직하다. 상기의 범위에 있으면 광변환 잉크 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 광변환 화소의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.In the case of using these photopolymerization initiation aids, the amount of the photoinitiator is generally 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol per 1 mol of the photoinitiator. If it is in the above range, the sensitivity of the photoconversion ink composition is further increased, and the productivity of the photoconversion pixel formed using this composition tends to be improved, which is preferable.
첨가제additive
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 필요에 따라 첨가제를 더 포함할 수 있다. The photoconversion ink composition according to the present invention may further include additives as needed.
상기 첨가제는 분산제, 계면활성제, 충진제, 경화제 및 밀착 증진제 등으로 이루어진 군으로부터 선택 되는 1종 이상을 포함할 수 있다. The additive may include at least one selected from the group consisting of dispersants, surfactants, fillers, hardeners, and adhesion promoters.
상기 분산제는 양자점 및 산란입자의 탈 응집 및 안정성 유지를 위해 첨가되는 것으로서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있으며, 상기 분산제의 구체적인 예로는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성계, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The dispersant is added for deaggregation and stability maintenance of quantum dots and scattering particles, and may be used without limitation, which is generally used in the art. Specific examples of the dispersant include cationic, anionic, nonionic, and amphoteric And surfactants such as polyester-based and polyamine-based, and these can be used alone or in combination of two or more.
상기 양이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염 및 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts or quaternary ammonium salts such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride.
상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨 및 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨 및 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨 및 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, and Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.
상기 비이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르 및 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene/oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, and polyoxyethylene alkylamine.
그 외에 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류 및 폴리에틸렌이민류 등을 들 수 있다.In addition, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes and polyethyleneimines are listed. have.
또한, 상기 분산제는 부틸메타아크릴레이트(BMA) 또는 N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트(DMAEMA)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제 (이하, 아크릴레이트계 분산제)를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 아크릴레이트계 분산제의 시판품으로는 DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070 또는 DISPER BYK-2150 등을 들 수 있으며, 상기 아크릴레이트계 분산제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In addition, the dispersant preferably includes an acrylate-based dispersant (hereinafter, an acrylate-based dispersant) including butyl methacrylate (BMA) or N,N-dimethylaminoethyl methacrylate (DMAEMA). Commercially available products of the acrylate-based dispersant include DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, or DISPER BYK-2150, and the acrylate-based dispersants are used alone or in combination of two or more. I can.
상기 분산제는 아크릴레이트계 분산제 이외에 다른 수지 타입의 분산제를 사용할 수도 있다. 상기 다른 수지 타입의 분산제로는 공지된 수지 타입의 분산제, 특히 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트로 대표되는 폴리카르복실산에스테르, 불포화폴리아미드, 폴리카르복실산, 폴리카르복실산의 (부분적)아민 염, 폴리카르복실산의 암모늄 염, 폴리카르복실산의 알킬아민 염, 폴리실록산, 장쇄 폴리아미노아미드 포스페이트 염, 히드록실기-함 폴리카르복실산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물, 또는 프리(free) 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염과 같은 유질의 분산제; (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물; 및 포스페이트 에스테르 등을 들 수 있다. In addition to the acrylate-based dispersant, the dispersant may be a resin type dispersant. As the dispersant of the other resin type, a known dispersant of a resin type, in particular, a polycarboxylic acid ester typified by polyurethane and polyacrylate, an unsaturated polyamide, a polycarboxylic acid, a (partially) amine salt of a polycarboxylic acid , Ammonium salts of polycarboxylic acids, alkylamine salts of polycarboxylic acids, polysiloxanes, long chain polyaminoamide phosphate salts, esters of hydroxyl group-containing polycarboxylic acids and modified products thereof, or free carboxyl groups An oily dispersant such as an amide or a salt thereof formed by reaction of a polyester having a poly(lower alkyleneimine); Water-soluble resins or water-soluble polymer compounds such as (meth)acrylic acid-styrene copolymer, (meth)acrylic acid-(meth)acrylate ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone; Polyester; Modified polyacrylate; Adducts of ethylene oxide/propylene oxide; And phosphate esters.
상기 다른 수지타입의 분산제의 시판품으로는 양이온계 수지 분산제로서는, 예를 들면, BYK(빅) 케미사의 상품명: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162,DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182,DISPER BYK-184; BASF사의 상품명: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48,EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Lubirzol사의 상품명: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204 /10; 카와켄 파인 케미컬사의 상품명: 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 상품명: 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 쿄에이샤 화학사의 상품명: 플로렌 (FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 등을 들 수 있다. Commercially available products of the above other resin type dispersants include cationic resin dispersants, for example, BYK Chemie's brand names: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK -164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF's brand names: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA- 4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Trade names of Lubirzol: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10; Kawaken Fine Chemical's trade names: Hinoact T-6000, Hinoact T-7000, Hinoact T-8000; Ajinomoto's brand names: AJISPUR PB-821, Ajisper PB-822, Ajisper PB-823; Kyoeisha Chemical Co., Ltd. trade names: FLORENE DOPA-17HF, Florene DOPA-15BHF, Floren DOPA-33, Florene DOPA-44, and the like.
상기한 아크릴레이트계 분산제 이외에 다른 수지 타입의 분산제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 아크릴레이트계 분산제와 병용하여 사용할 수도 있다.In addition to the above acrylate-based dispersants, other resin-type dispersants may be used alone or in combination of two or more, or may be used in combination with an acrylate-based dispersant.
상기 분산제는 상기 광변환 잉크 조성물 고형분 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.2 내지 3 중량부로 포함될 수 있다. The dispersant may be included in an amount of 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.2 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the photo-conversion ink composition.
상기 분산제가 상기 범위 내로 포함되는 경우, 양자점 및 산란입자 분산 성이 우수하여 저점도 유지에 용이하여 바람직하다. When the dispersant is included within the above range, it is preferable because it has excellent dispersibility of quantum dots and scattering particles and is easy to maintain low viscosity.
상기 계면 활성제로는 구체적으로 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the surfactants include silicone-based, fluorine-based, ester-based, cationic, anionic, nonionic, amphoteric surfactants, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
상기 계면 활성제로는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3 급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등 외에, 상품명으로 F-554(DIC ㈜ 제조), KP (신에쯔 화학 공업 (주) 제조), 폴리플로우 (쿄에이 화학(주) 제조), 에프톱 (토켐프로덕츠사 제조), 메가팍 (다이닛폰 잉크 화학 공업 (주) 제조), 플로라드 (스미토모쓰리엠 (주)제조), 아사히가드, 사프론 (이상, 아사히가라스 (주) 제조), 소르스파스 (제네카 (주) 제조), EFKA (EFKACHEMICALS 사 제조), PB821 (아지노모토 (주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, In addition to polyethyleneimines, brand names are F-554 (manufactured by DIC Co., Ltd.), KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyei Chemical Co., Ltd.), Ftop (manufactured by Tochem Products) , MegaPak (manufactured by Dai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.), Florade (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Saffron (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Sor Spas (manufactured by Geneva Co., Ltd.) ), EFKA (manufactured by EFKACHEMICALS), PB821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), and the like.
상기 충진제로는 유리, 실리카, 알루미나 등이 사용가능하고, 상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는, 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지; 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.Glass, silica, alumina, etc. may be used as the filler, and specific examples of the other polymer compounds include curable resins such as epoxy resin and maleimide resin; And thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane.
상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로서는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. The curing agent is used to increase deep curing and mechanical strength, and specific examples of the curing agent include an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, and an oxetane compound.
상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로서는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔(공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, noblock epoxy resin, other aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, Glycidyl ester resins, glycidylamine resins, or brominated derivatives of such epoxy resins, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and brominated derivatives thereof, butadiene (co)polymer epoxides, isoprene (co ) Polymer epoxidation, glycidyl (meth)acrylate (co)polymer, triglycidyl isocyanurate, etc. are mentioned.
상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로서는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. 상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다.Specific examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane. The curing agent may be used in combination with a curing agent and a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound.
상기 경화 보조 화합물로서는, 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다. 상기 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the curing auxiliary compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic anhydrides, and acid generators. The carboxylic anhydrides may be commercially available as an epoxy resin curing agent. As the epoxy resin curing agent, for example, a brand name (Adeka Hadona EH-700) (manufactured by Adeka Industries Co., Ltd.), a brand name (Rikashido HH) (manufactured by Shin Nippon Ewha Corporation), and a brand name (MH-700) ( Shin Nippon Ewha Co., Ltd.) and the like. The curing agent exemplified above may be used alone or in combination of two or more.
상기 밀착 증진제로는, 실란계 화합물이 바람직하고, 구체적으로는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.As the adhesion promoter, a silane-based compound is preferable, and specifically, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)- 3-Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-gly Cydoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxy Propyl trimethoxysilane, 3-mercaptopropyl trimethoxysilane, etc. are mentioned.
상기 첨가제는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 당업자가 적절히 추가하여 사용이 가능하다. 예컨대 상기 첨가제는 광변환 잉크 조성물 고형분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.01 내지 8 중량부, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부로 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The above additives may be appropriately added and used by a person skilled in the art within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, the additive may be used in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 8 parts by weight, more preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the photo-conversion ink composition, but is not limited thereto.
<광변환 화소 및 컬러필터><Light conversion pixel and color filter>
본 발명에 따른 광변환 화소는 전술한 광변환 잉크 조성물의 경화물을 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 컬러필터는 상기 광변환 화소를 포함한다.The photoconversion pixel according to the present invention includes a cured product of the photoconversion ink composition described above. In addition, the color filter according to the present invention includes the photo-conversion pixel.
본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물의 패턴 형성 방법은, 상술한 광변환 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 소정 영역에 도포하는 단계 및 상기 도포된 광변환 잉크 조성물을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어진다.A method of forming a pattern of a photo-conversion ink composition according to the present invention includes the steps of applying the above-described photo-conversion ink composition to a predetermined area by an ink jet method and curing the applied photo-conversion ink composition.
먼저, 본 발명의 광변환 잉크 조성물을 잉크젯 분사기에 주입하여 기판의 소정 영역에 프린팅한다. 상기 기판은 특별히 제한되지 않으며, 일례로 유리 기판, 실리콘 기판, 폴리카보 네이트 기판, 폴리에스테르 기판, 방향족 폴리아미드 기판, 폴리아미드이미드 기판, 폴리이미드 기판, Al 기판, GaAs 기판 등의 표면이 평탄한 기판을 들 수 있다. 이들 기판은 실란 커플링제 등의 약품에 의한 약품 처리, 플라스마 처리, 이온 플레이팅 처리, 스퍼터링 처리, 기상반응 처리, 진공증착 처리 등의 전처리를 실시할 수 있다. 기판으로서 실리콘 기판 등을 사용하는 경우, 실리콘 기판 등의 표면에는 전하 결합소자(CCD), 박막 트랜지스터(TFT) 등이 형성될 수 있다. 또한, 격벽 매트릭스가 형성되어 있을 수도 있다.First, the photoconversion ink composition of the present invention is injected into an inkjet sprayer and printed on a predetermined area of a substrate. The substrate is not particularly limited, and for example, a substrate having a flat surface such as a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, a polyamideimide substrate, a polyimide substrate, an Al substrate, a GaAs substrate, etc. Can be mentioned. These substrates can be subjected to pretreatment such as chemical treatment with a chemical such as a silane coupling agent, plasma treatment, ion plating treatment, sputtering treatment, gas phase reaction treatment, and vacuum deposition treatment. When a silicon substrate or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD), a thin film transistor (TFT), or the like may be formed on the surface of the silicon substrate or the like. Further, a partition wall matrix may be formed.
잉크젯 분사기의 일례인 피에조 잉크젯 헤드에서 분사되어 기판 위에서 적절한 상(phase)을 형성하기 위하여, 점도, 유동성, 양자점 입자 등의 특성이 잉크젯 헤드와 균형 있게 맞춰져야 한다. 본 발명에서 사용된 피에조 잉크젯 헤드는 제한되지 않으나, 약 10 내지 100pL, 바람직하게는 약 20 내지 40pL의 액적 크기를 가지는 잉크를 분사한다.In order to form an appropriate phase on a substrate by being jetted from a piezo ink jet head, which is an example of an ink jet sprayer, properties such as viscosity, fluidity, and quantum dot particles must be balanced with the ink jet head. The piezo inkjet head used in the present invention is not limited, but jets ink having a droplet size of about 10 to 100 pL, preferably about 20 to 40 pL.
본 발명의 광변환 잉크 조성물의 점도는 약 3 내지 30cP가 적당하며, 보다 바람직하게는 7 내지 20cP의 범위에서 조절된다.The viscosity of the photoconversion ink composition of the present invention is suitably about 3 to 30 cP, and more preferably is adjusted in the range of 7 to 20 cP.
본 발명의 일 실시형태에 따른 컬러필터는 상기 패턴 형성방법에 의해 형성되는 착색 패턴층을 포함한다. 즉, 컬러필터는 기판 상에 상술한 광변환 잉크 조성물을 소정의 패턴으로 도포한 후 경화시켜 형성되는 착색 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 한다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 당해 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 자세한 설명을 생략한다.A color filter according to an embodiment of the present invention includes a colored pattern layer formed by the pattern forming method. That is, the color filter is characterized in that it includes a colored pattern layer formed by applying the above-described photo-conversion ink composition on a substrate in a predetermined pattern and then curing it. Since the configuration and manufacturing method of the color filter are well known in the art, detailed descriptions are omitted.
<화상표시장치><Image display device>
본 발명에 따른 화상표시장치는 전술한 컬러필터를 포함한다. An image display device according to the present invention includes the above-described color filter.
상기 본 발명의 컬러필터는 통상의 액정표시장치(LCD)뿐만 아니라, 전계발광표시장치(EL), 플라스마표시장치(PDP), 전계방출표시장치(FED), 유기발광소자(OLED) 등 각종 화상표시장치에 적용이 가능하다.The color filter of the present invention is not only a conventional liquid crystal display (LCD), but also various images such as an electroluminescent display (EL), a plasma display (PDP), a field emission display (FED), and an organic light-emitting device (OLED). Applicable to display devices.
본 발명의 화상표시장치는 상술한 컬러필터를 포함하는 것을 제외하고는, 당해 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다.The image display device of the present invention includes a configuration known in the art, except for including the color filter described above.
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다. 또한, 이하의 실시 예, 비교 예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the embodiments of the present invention disclosed below are illustrative only, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the present invention is indicated in the claims, and furthermore, it contains the meanings equivalent to the claims recorded and all modifications within the scope. In addition, in the following Examples and Comparative Examples, "%" and "parts" indicating content are based on mass unless otherwise noted.
합성예: 양자점의 합성Synthesis Example: Synthesis of quantum dots
합성예 1: 양자점(Q-1)의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of quantum dot (Q-1)
인듐 아세테이트(Indium acetate) 0.4mmol(0.058g), 팔미트산(palmitic acid) 0.6mmol(0.15g) 및 1-옥타데센(octadecene) 20mL를 반응기에 넣고 진공 하에 120℃로 가열하였다. 1시간 후 반응기 내 분위기를 질소로 전환하였다. 280℃로 가열한 후, 트리스(트리메틸실릴)포스핀(TMS3P) 0.2mmol(58㎕) 및 트리옥틸포스핀 1.0mL의 혼합 용액을 신속히 주입하고 1분간 반응시켰다.Indium acetate (Indium acetate) 0.4mmol (0.058g), palmitic acid (palmitic acid) 0.6mmol (0.15g) and 1-octadecene (octadecene) 20mL was put into a reactor and heated to 120 ℃ under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was converted to nitrogen. After heating to 280° C., a mixed solution of tris(trimethylsilyl)phosphine (TMS3P) 0.2 mmol (58 μL) and trioctylphosphine 1.0 mL was rapidly injected and reacted for 1 minute.
이어서 아연 아세테이트 2.4mmoL(0.448g), 올레산 4.8mmol 및 트리옥틸아민 20mL를 반응기에 넣고 진공 하에 120℃로 가열하였다. 1시간 후 반응기 내 분위기를 질소로 전환하고 반응기를 280℃로 승온시켰다. 앞서 합성한 InP 코어 용액 2ml를 넣고, 이어서 트리옥틸포스핀 중의 셀레늄(Se/TOP) 4.8mmol을 넣은 후, 최종 혼합물을 2시간 동안 반응시켰다. 상온으로 신속하게 식힌 반응 용액에 에탄 올을 넣고 원심 분리하여 얻은 침전을 감압여과 후 감압 건조하여 InP/ZnSe 코어-쉘을 형성시켰다. Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen and the reactor was heated to 280°C. 2 ml of the previously synthesized InP core solution was added, and then 4.8 mmol of selenium (Se/TOP) in trioctylphosphine was added, and the final mixture was reacted for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution quickly cooled to room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to form an InP/ZnSe core-shell.
이어서, 아연 아세테이트 2.4mmoL(0.448g), 올레산 4.8mmol 및 트리옥틸아민 20mL를 반응기에 넣고 진공 하에 120℃로 가열하였다. 1시간 후 반응기 내 분위기를 질소로 전환하고 반응기를 280℃로 승온시켰다. 앞서 합성한 InP 코어 용액 2 ml를 넣고, 이어서 트리옥틸포스핀 중의 황(S/TOP) 4.8mmol을 넣은 후, 최종 혼합물을 2시간 동안 반응시켰다. 상온으로 신속하게 식힌 반응 용액에 에탄올을 넣고 원심 분리하여 얻은 침전을 감압여과 후 감압 건조하여 InP/ZnSe/ZnS 코어-쉘 구조의 침전물을 수득하였다. 얻어진 나노 양자점의 광발광 스펙트럼의 최대발광 피크는 535nm를 나타내었다. Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen and the reactor was heated to 280°C. 2 ml of the previously synthesized InP core solution was added, and then 4.8 mmol of sulfur (S/TOP) in trioctylphosphine was added, and the final mixture was reacted for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution rapidly cooled to room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to obtain a precipitate having an InP/ZnSe/ZnS core-shell structure. The maximum emission peak of the photoluminescence spectrum of the obtained nano quantum dots was 535 nm.
앞서 수득한 양자점 용액 5mL를 원심분리 튜브에 넣고 에탄올 20mL를 넣어 침전시켰다. 원심분리를 통해 상층액은 버리고 침전물에 2mL의 클로로포름을 넣어 양자점을 분산시킨 다음 0.50g의 (2-부톡시에톡시)아세트산을 넣고 질소분위기 하에서 60℃로 가열하면서 한 시간 동안 반응시켰다.5 mL of the previously obtained quantum dot solution was put into a centrifuge tube, and 20 mL of ethanol was added to precipitate. The supernatant was discarded through centrifugation, and 2 mL of chloroform was added to the precipitate to disperse the quantum dots, and 0.50 g of (2-butoxyethoxy) acetic acid was added and reacted for an hour while heating at 60° C. under a nitrogen atmosphere.
이어서, 반응물에 25mL의 n-헥산을 넣어 양자점을 침전시킨 후 원심분리를 실시하여 양자점(Q-1)을 얻었다.Then, 25 mL of n-hexane was added to the reaction product to precipitate the quantum dots, followed by centrifugation to obtain quantum dots (Q-1).
제조예: 산란입자 분산액 및 양자점 분산액의 제조Preparation Example: Preparation of scattering particle dispersion and quantum dot dispersion
제조예 1: 산란입자 분산액(S-1)의 제조Preparation Example 1: Preparation of scattering particle dispersion (S-1)
산란입자로서 입경 210nm인 TiO2(이시하라사 CR-63) 70.0 중량부, 분산제로서 DISPERBYK-2001(BYK사 제조) 4.0 중량부 및 희석액으로서 저점도 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 26 중량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합 및 분산하여 산란입자 분산액(S-1)을 제조하였다.TiO 2 (Ishihara Corporation CR-63) 70.0 parts by weight as scattering particles, 4.0 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK Corporation) as a dispersant, and 26 parts by weight of low viscosity monomer 1,6-hexanediol diacrylate as a diluent A dispersion of scattering particles (S-1) was prepared by mixing and dispersing for 12 hours by a bead mill.
제조예 2: 양자점 분산액(A-1)의 제조Preparation Example 2: Preparation of quantum dot dispersion (A-1)
양자점(Q-1) 47.6중량부, 분산제로서 DISPERBYK-2001(BYK사 제조) 4.8 중량부 및 희석액으로서 저점도 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 47.6 중량부를 혼합하여 60℃로 가열하면서 4시간 동안 반응시켜, 양자점 분산액 (A-1)을 제조하였다.47.6 parts by weight of quantum dots (Q-1), 4.8 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a dispersant and 47.6 parts by weight of low viscosity monomer 1,6-hexanediol diacrylate as a diluent were mixed and heated to 60°C for 4 hours During the reaction, a quantum dot dispersion (A-1) was prepared.
제조예 3: 양자점 분산액(A-2)의 제조Preparation Example 3: Preparation of quantum dot dispersion (A-2)
양자점(Q-1) 23.4 중량부, 분산제로서 DISPERBYK-2001(BYK사 제조) 3.8 중량부 및 용제로서 PGEMA 72.8 중량부를 혼합하여 상온에서 2시간 동안 반응시켜, 양자점 분산액 (A-2)를 제조하였다.23.4 parts by weight of quantum dots (Q-1), 3.8 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a dispersant and 72.8 parts by weight of PGEMA as a solvent were mixed and reacted at room temperature for 2 hours to prepare a quantum dot dispersion (A-2). .
실시예 및 비교예: 광변환 잉크 조성물의 제조Examples and Comparative Examples: Preparation of light conversion ink composition
하기 표 1의 성분 및 함량(중량부)을 사용하여 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 5의 광변환 잉크 조성물을 제조하였다.Light conversion ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were prepared using the components and contents (parts by weight) of Table 1 below.
1) 제조예 2에서 제조된 양자점 분산액1) Quantum dot dispersion prepared in Preparation Example 2
2) 제조예 3에서 제조된 양자점 분산액2) Quantum dot dispersion prepared in Preparation Example 3
3) 합성예 1에서 합성된 양자점3) Quantum dots synthesized in Synthesis Example 1
4) 1,6-Hexanediol diacrylate (시그마알드리치 社, Cas No. 13048-33-4)4) 1,6-Hexanediol diacrylate (Sigma-Aldrich, Cas No. 13048-33-4)
5) Tetra(ethylene glycol) diacrylate (시그마알드리치 社, Cas No. 17831-71-9)5) Tetra(ethylene glycol) diacrylate (Sigma-Aldrich, Cas No. 17831-71-9)
6) KAYARAD DPHA (닛본가야꾸 제조) 6) KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)
7) DISPERBYK-2001 (빅케미 社)7) DISPERBYK-2001 (Big Chemie)
8) PGMEA8) PGMEA
9) 제조예 1에서 제조된 산란입자 분산액9) Scattering particle dispersion prepared in Preparation Example 1
10) Irganox 1010 (BASF 社)10) Irganox 1010 (BASF company)
11) Sumilizer GP (스미토모화학 社)11) Sumilizer GP (Sumitomo Chemical)
12) Irganox 1035 (BASF 社)12) Irganox 1035 (BASF company)
13) Sumilizer BBM-S (스미토모화학 社)13) Sumilizer BBM-S (Sumitomo Chemical)
14) AO-503 (아데카 社)14) AO-503 (Adeka Corporation)
15) 9-Mercapto fluorene (시그마알드리치 제품 Cas No. 19552-08-0)15) 9-Mercapto fluorene (Sigma-Aldrich Cas No. 19552-08-0)
16) Irgacure-907 (BASF社)16) Irgacure-907 (BASF company)
17) 티옥산톤계 화합물인 DETX-S(니폰 가야쿠 社)17) DETX-S, a thioxanthone-based compound (Nippon Kayaku)
18) Disperbyk-111 (빅케미 社, 인산계 분산제)18) Disperbyk-111 (Bicchemy, phosphoric acid-based dispersant)
19) F-554 (DIC㈜ 社)19) F-554 (DIC Corporation)
실험예Experimental example
<광변환 코팅층의 제조><Production of light conversion coating layer>
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광변환 잉크 조성물을 스핀 코팅법으로 5cmХ5cm 유리 기판 위에 도포한 다음, 자외선 광원으로서 g, h, i 선을 모두 함유하는 1kW 고압 수은등을 사용하여 1000mJ/cm2로 조사 후 180℃의 가열 오븐에서 30분 동안 가열하여 광변환 코팅층을 제조하였다.Each photoconversion ink composition prepared in the above Examples and Comparative Examples was applied on a 5cmХ5cm glass substrate by spin coating, and then 1000mJ/cm using a 1kW high pressure mercury lamp containing all g, h, and i lines as an ultraviolet light source. After irradiation with 2 , it was heated in a heating oven at 180° C. for 30 minutes to prepare a light conversion coating layer.
실험예 1: 휘도 및 광유지율 평가Experimental Example 1: Evaluation of brightness and light retention
450nm 파장, 조도 60 mW/cm2로 설정된 Blue 광원(XLamp XR-E LED, Royal blue 450, Cree 社)의 상부에 상기에서 제조된 광변환 코팅층을 위치 시킨 후 외부의 빛과 공기로부터 차단시키고, 일정 시간마다 휘도 측정기(CAS140CT Spectrometer, Instrument systems 社)를 이용하여 휘도를 측정하였다. 또한, 일정 시간마다 측정된 휘도를 초기 휘도 기준으로 광 유지율을 측정 하였으며, 휘도는 하기 표 2에, 광 유지율은 하기 표 3에 각각 나타내었다. After placing the light conversion coating layer prepared above on the top of a blue light source (XLamp XR-E LED, Royal blue 450, Cree Company) set to 450nm wavelength and illuminance 60 mW/cm 2 , it is blocked from external light and air, The luminance was measured using a luminance meter (CAS140CT Spectrometer, Instrument Systems Co., Ltd.) at regular time intervals. In addition, the light retention was measured based on the initial luminance of the luminance measured at regular time intervals, and the luminance is shown in Table 2 below, and the light retention is shown in Table 3 below.
실험예 2: 도막 주름 평가Experimental Example 2: Evaluation of coating film wrinkles
상기에서 제조된 광변환 코팅층의 상부 도막의 주름 발생 여부를 평가하였다. 도 1은 상기 도막의 주름 발생 여부를 평가하는 기준을 나타낸 도면이다. 노광 후 도막상에 발생하는 주름을 육안으로 관찰하여 주름 발생 여부를 '강, 약 또는 없음'으로 판단하고, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다. It was evaluated whether wrinkles occurred in the upper coating film of the light conversion coating layer prepared above. 1 is a diagram showing a criterion for evaluating whether the coating film is wrinkled. The wrinkles occurring on the coating film after exposure were observed with the naked eye to determine whether wrinkles occurred or not as'strong, weak or absent', and the results are shown in Table 4 below.
실험예 3: 잉크 젯팅 후 잔막률 평가Experimental Example 3: Evaluation of residual film rate after ink jetting
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광변환 잉크 조성물을 15㎛ 격벽에 잉크 젯팅 후 상기 광변환 코팅층과 같이 광을 조사하여 경화시킨 후 막두께를 1차 평가하였다. 그리고, 180℃의 가열 오븐에서 30분 동안 가열 후 막두께를 비교하였다. 이 때 막두께는 잉크젯 방울(drop) 분석장비(UJ 2400C, 유니젯사)를 사용하여 측정하였다. 그 결과는 하기 표 4에 나타내었다. Each of the photo-conversion ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples was ink-jetted on a 15 µm partition wall and then cured by irradiating light with the photo-conversion coating layer, and the film thickness was first evaluated. Then, the film thickness was compared after heating in a heating oven at 180° C. for 30 minutes. At this time, the film thickness was measured using an inkjet drop analyzer (UJ 2400C, Unijet). The results are shown in Table 4 below.
실험예 4: 점도 측정Experimental Example 4: Viscosity Measurement
상기 광변환 잉크 조성물의 점도는 R형 점도계(VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM, 도키 산교 가부시끼가이샤 제품)를 사용하여 회전수 20 rpm, 온도 30℃의 조건에서 측정하였다. 그 결과는 하기 표 4에 나타내었다.The viscosity of the photoconversion ink composition was measured using an R-type viscometer (VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM, manufactured by Toki Sangyo Corporation) at a rotational speed of 20 rpm and a temperature of 30°C. The results are shown in Table 4 below.
실험예 5: 잉크 젯팅 후 평탄성(막단차) 평가 Experimental Example 5: Evaluation of flatness (film level difference) after ink jetting
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광변환 잉크 조성물을 15㎛ 격벽에 잉크 젯팅 후 상기 광변환 코팅층과 같이 광을 조사하여 경화시킨 후 180℃의 가열 오븐에서 30분 동안 가열 하여 도막을 형성 하였다.Each of the photo-conversion ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples was ink-jetted on a 15 µm partition wall, and then cured by irradiating light with the photo-conversion coating layer, followed by heating in a heating oven at 180° C. for 30 minutes to form a coating film. I did.
해당 도막을 스타일러스 프로파일러를 이용하여, 도막 중 가장 두꺼운 부분과 가장 얇은 부분의 막단차를 측정하였다. 단, 도막두께 측정시 도막의 말단부분 즉 글래스와 접하는 부분은 제외하였다. 그 결과는 하기 표 4에 나타내었다.The film level difference between the thickest portion and the thinnest portion of the coating film was measured using a stylus profiler. However, when measuring the film thickness, the end part of the film, that is, the part in contact with the glass was excluded. The results are shown in Table 4 below.
(mPa·s)Viscosity
(mPa·s)
상기 표 4를 참조하면, 본 발명의 실시예 1 내지 6에 따른 광변환 잉크 조성물의 경우 휘도, 광유지율, 도막 주름, 잉크 젯팅 후 잔막률 및 평탄성 평가에서 모두 우수한 효과를 나타내는 점을 확인할 수 있다. Referring to Table 4, it can be seen that the light conversion ink compositions according to Examples 1 to 6 of the present invention exhibit excellent effects in luminance, light retention, coating wrinkles, residual film ratio after ink jetting, and flatness evaluation. .
반면, 산화방지제를 포함하지 않는 비교예 1 및 3에 따른 광변환 잉크 조성물의 경우, 휘도 및 광유지율이 저하되고, 도막 주름이 강하게 발생하는 점을 확인할 수 있으며, 모노머를 대체하여 용제를 포함하는 비교예 2 및 3의 경우, 잉크 젯팅 후 잔막률이 매우 저하되는 점을 확인할 수 있다. On the other hand, in the case of the photoconversion ink compositions according to Comparative Examples 1 and 3 that do not contain an antioxidant, it can be confirmed that the luminance and light retention rate are lowered, and the wrinkles of the coating film are strongly generated, and a solvent is included in place of the monomer. In the case of Comparative Examples 2 and 3, it can be seen that the residual film rate is very low after ink jetting.
또한, 본원발명의 화학식 2 내지 5의 산화 방지제에 해당하지 않는 산화 방지제를 포함하는 비교예 4에 따른 광변환 잉크 조성물의 경우, 잉크 젯팅 후 잔막률 향상이 충분치 못한 점을 확인할 수 있다. In addition, in the case of the photo-conversion ink composition according to Comparative Example 4 containing an antioxidant that does not correspond to the antioxidant of Formulas 2 to 5 of the present invention, it can be confirmed that the improvement of the residual film rate after ink jetting is insufficient.
나아가, 화학식 1로 표시되는 화합물에 해당하지 않는 모노머를 포함하는 비교예 5에 따른 광변환 잉크 조성물의 경우, 점도 측정이 불가하며, 잉크 젯팅 후 화소의 평탄성이 불량한 점을 확인할 수 있다. 즉, 점도가 50cp 이상인 모노머를 포함하는 비교예 5에 따른 광변환 잉크 조성물은 점도가 너무 크기 때문에 잉크 젯팅 방식으로 도막을 제조하는 경우 도막 두께의 고저차가 크게 나타나며, 이에 따라 전반적으로 화소 평탄성이 불량함을 확인 할 수 있다.Further, in the case of the photo-conversion ink composition according to Comparative Example 5 including a monomer not corresponding to the compound represented by Formula 1, it can be confirmed that the viscosity cannot be measured, and the flatness of the pixel after ink jetting is poor. That is, since the photo-conversion ink composition according to Comparative Example 5 containing a monomer having a viscosity of 50 cps or more has a too high viscosity, the difference in height of the coating film thickness is large when the coating film is manufactured by the ink jetting method, and thus overall pixel flatness is poor. It can be confirmed.
따라서, 본 발명에 따른 광변환 잉크 조성물은 용제를 포함하지 않으며, 착색제로서 양자점을 함유하고, 산화방지제를 함께 포함함으로써, 주름이 발생되지 않는 도막 특성을 가질 수 있으며, 양자점의 광특성 및 분산성이 우수하고, 저점도 구현이 가능한 효과를 제공할 수 있다.Therefore, the photoconversion ink composition according to the present invention does not contain a solvent, contains quantum dots as a colorant, and contains an antioxidant together, so that it can have a coating film property that does not cause wrinkles, and optical properties and dispersibility of quantum dots This excellent, low-viscosity implementation can provide an effect possible.
Claims (11)
상기 모노머는 점도가 3 내지 50 cP의 저점도 모노머로서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하고,
상기 산화 방지제는 하기 화학식 2 내지 5로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것인 광변환 잉크 조성물.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서,
A1은 수소원자 또는 메틸기이고,
A2는 C1 내지 C20의 알킬렌기, 페닐렌기 또는 C3 내지 C10의 사이클로알킬렌기이며,
m은 1 내지 15의 정수이다.)
[화학식 2]
(상기 화학식 2에서, R1은 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,
R2 내지 R13은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)
[화학식 3]
(상기 화학식 3에서, R21 내지 R29는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)
[화학식 4]
(상기 화학식 4에서, R31 및 R32는 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,
R33 내지 R36은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)
[화학식 5]
(상기 화학식 5에서, R41, R42, R47 및 R48은 각각 독립적으로 C1 내지 C10의 알킬렌기이고,
R43 내지 R46 및 R49 내지 R52는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C20의 알킬기이다.)
As a photoconversion ink composition containing quantum dots, scattering particles, monomers, and antioxidants, and not containing a solvent,
The monomer is a low viscosity monomer having a viscosity of 3 to 50 cP, and includes a compound represented by the following formula (1),
The antioxidant is a photoconversion ink composition comprising at least one of the compounds represented by the following formulas 2 to 5.
[Formula 1]
(In Formula 1,
A 1 is a hydrogen atom or a methyl group,
A 2 is a C1 to C20 alkylene group, a phenylene group or a C3 to C10 cycloalkylene group,
m is an integer from 1 to 15.)
[Formula 2]
(In Formula 2, R 1 is a C1 to C10 alkylene group,
R 2 to R 13 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[Formula 3]
(In Formula 3, R 21 to R 29 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[Formula 4]
(In Formula 4, R 31 and R 32 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R 33 to R 36 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
[Formula 5]
(In Formula 5, R 41 , R 42 , R 47 and R 48 are each independently a C1 to C10 alkylene group,
R 43 to R 46 and R 49 to R 52 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C20 alkyl group.)
상기 양자점은 비카드뮴계인 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The quantum dot is a photoconversion ink composition, characterized in that the non-cadmium-based.
상기 비카드뮴계 양자점은 InP 코어를 갖는 2종 이상의 양자점을 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 2,
The photoconversion ink composition, wherein the non-cadmium-based quantum dots include two or more types of quantum dots having an InP core.
상기 양자점은 InP, ZnS, ZnSe, PbSe, AgInZnS 및 ZnO로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 코어; 및 ZnSe, ZnS, ZnTe, PbS, TiO, SrSe 및 HgSe으로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 쉘;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 2,
The quantum dots include a core comprising at least one material selected from InP, ZnS, ZnSe, PbSe, AgInZnS and ZnO; And a shell comprising at least one material selected from ZnSe, ZnS, ZnTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe.
상기 양자점은 중심 여기파장이 서로 50nm 이상 차이가 나는 2종 이상의 양자점을 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The quantum dot is a photoconversion ink composition, characterized in that the central excitation wavelength comprises two or more kinds of quantum dots having a difference of 50 nm or more from each other.
상기 산란입자는 Al2O3, SiO2, ZnO, ZrO2, BaTiO3, TiO2, Ta2O5, Ti3O5, ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb2O3, SnO, MgO 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The scattering particles are Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO, A photoconversion ink composition comprising at least one selected from the group consisting of MgO and combinations thereof.
상기 광변환 잉크 조성물의 고형분 100 중량부에 대하여,
상기 양자점 1 내지 40 중량부,
상기 산란입자 0.5 내지 20 중량부,
상기 모노머 20 내지 90 중량부 및
상기 산화 방지제 1 내지 15 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
Based on 100 parts by weight of the solid content of the photo-conversion ink composition,
1 to 40 parts by weight of the quantum dots,
0.5 to 20 parts by weight of the scattering particles,
20 to 90 parts by weight of the monomer and
A photoconversion ink composition comprising 1 to 15 parts by weight of the antioxidant.
상기 광변환 잉크 조성물은 이를 이용하여 형성되는 도막의 주름 개선용인 것을 특징으로 하는 광변환 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The photo-conversion ink composition is a photo-conversion ink composition for improving wrinkles of a coating film formed by using the same.
A photoconversion pixel comprising a cured product of the photoconversion ink composition according to any one of claims 1 to 8.
A color filter comprising the photoconversion pixel according to claim 9.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |