JP2021126716A - 砥石 - Google Patents

Abstract

【課題】加工能力を高めることができる砥石を提供する。【解決手段】砥石は、溝１１ａを有する基材１１と、被加工物を加工し、溝１１ａの内部の側面１１ｂに固定され、被加工物を加工する加工面に交わる方向に延びる砥粒層１３と、を備える。砥粒層１３は、被加工物を加工する際に被加工物に接触する複数の砥粒１７と、複数の砥粒１７を結合する結合材１６と、を備える。結合材１６は、溝１１ａ内における側面１１ｂに対向する位置で複数の砥粒１７を保持する砥粒保持部１６ａと、砥粒保持部１６ａと一体で形成され、基材１１にアンカー効果により固定される固定部１６ｂと、を備える。【選択図】図４

Description

本発明は、砥石に関する。

例えば、特許文献１に記載の砥石は、複数の砥粒と、この複数の砥粒を結合する結合剤とを備える。

特開２０１６−１６５７８６号公報

上記特許文献１に記載の砥石においては、加工量が少なく、加工能力が低かった。

本発明は、上記実状を鑑みてなされたものであり、加工能力を高めることができる砥石を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明に係る砥石は、基材と、被加工物を加工し、前記基材に固定され、前記被加工物を加工する加工面に交わる方向に延びる砥粒層と、を備え、前記砥粒層は、前記被加工物を加工する際に前記被加工物に接触する複数の砥粒と、前記複数の砥粒を結合する結合材と、を備え、前記結合材は、前記複数の砥粒を保持する砥粒保持部と、前記砥粒保持部と一体で形成され、前記基材にアンカー効果により固定される固定部と、を備える。

また、前記基材には溝が形成され、前記砥粒層は、前記溝の内部の側面に固定されるようにしてもよい。

また、前記溝は第１方向に延び、前記溝の内部の２つの前記側面は、前記第１方向に交わる第２方向に対面して設けられ、前記砥粒層は、前記溝の内部の２つの前記側面それぞれに固定されるようにしてもよい。

また、前記砥石は、前記溝の内部に充填される充填材を備えるようにしてもよい。

また、前記基材は円柱状に形成され、複数の前記溝は、前記基材の外周面に形成され、それぞれ前記基材の中心軸に沿って延び、前記基材の周方向に沿って並べられるようにしてもよい。

また、前記基材は多孔質材料により形成され、前記固定部は、前記砥粒保持部と一体で形成され、前記基材の内部の孔に入り込み、前記砥粒は、前記基材の前記孔内への侵入が阻止される粒径に設定されるようにしてもよい。

また、前記砥粒層は、前記砥粒である第１砥粒よりも平均粒径が小さく、前記基材の前記孔内に位置し、前記固定部により結合される複数の第２砥粒を備えるようにしてもよい。

また、前記砥粒層の先端は、前記加工面において前記基材よりも突出するようにしてもよい。

本発明によれば、砥石において、加工能力を高めることができる。

本発明の一実施形態に係る砥石ユニットの斜視図である。 図１の２−２線断面図である。 図２の範囲Ｆ３の拡大図である。 図３の範囲Ｆ４の拡大図である。 本発明の一実施形態に係る砥石により被加工物が加工される際の砥粒層の動作を示す概略図である。 変形例に係る砥石の断面図である。 変形例に係る図３の範囲Ｆ４の拡大図である。 変形例に係る砥石の断面図である。 変形例に係る砥石ユニットの斜視図である。 変形例に係る砥石ユニットの斜視図である。 変形例に係る砥石の断面図である。 変形例に係る砥石の断面図である。 図１２の範囲Ｆ１３の拡大図である。

本発明に係る砥石の一実施形態について図面を参照して説明する。
図１に示すように、砥石ユニット１は、砥石１０と、シャフト２０と、を備える。
シャフト２０は、金属により形成され、砥石１０の回転軸Ｏに沿って延びる円柱状をなす。シャフト２０の先端部には砥石１０が固定されている。シャフト２０は、図示しない駆動部により、砥石１０とともに回転軸Ｏを中心に軸回転する。

砥石１０は円柱状をなす。砥石１０の中心軸にはシャフト２０の先端部が挿通されている。砥石１０は、シャフト２０が回転軸Ｏを中心に軸回転することにより、周方向Ｃに回転する。砥石１０は、周方向Ｃに回転しつつ、砥石１０の加工面１０ａに被加工物Ｗが接触することにより、被加工物Ｗを加工、すなわち、切削、研磨又は研削する。本実施形態では、加工面１０ａは、砥石１０の外周面である。被加工物Ｗは、例えば、セラミックス、シリコンウエハ、半導体基板、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）基板、放熱基板、シリコンカーバイド、アルミナ、サファイア又は金属等である。

図２に示すように、砥石１０は、基材１１と、複数の充填材１２と、複数の砥粒層１３と、を備える。
基材１１は、多孔質材料により、円柱状に形成される。基材１１は、ポーラスの樹脂又はセラミックから形成されてもよいし、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、又は溶融アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）から形成されてもよい。基材１１の炭化ケイ素又は溶融アルミナからなるポーラス砥粒は、加工の際に、脱落して砥粒層１３の後述する結合材１６を削ることにより、砥粒層１３の後述する砥粒１７を目立てする。

図２に示すように、基材１１の外周面には複数の溝１１ａが形成されている。複数の溝１１ａは、それぞれ回転軸Ｏに沿って延び、基材１１の周方向Ｃに等間隔で配置される。
図３に示すように、溝１１ａは、溝１１ａの底面と基材１１の外面を連結する側面１１ｂ，１１ｃを備える。２つの側面１１ｂ，１１ｃは、溝１１ａが延びる方向に対して直交する方向において互いに対面する。溝１１ａの２つの側面１１ｂ，１１ｃには、それぞれ、被加工物を加工する砥粒層１３が固定されている。側面１１ｂ，１１ｃは砥粒層１３が固定される被固定面の一例である。

図３に示すように、砥粒層１３は、砥石１０の加工面１０ａに直交する柱状に形成されている。砥粒層１３の加工面１０ａに露出する先端は被加工物を加工する。砥粒層１３は、砥石１０による被加工物の加工時に、基材１１及び充填材１２よりも削れづらい材料で形成されている。
図４に示すように、砥粒層１３は、複数の砥粒１７と、複数の砥粒１７を結合する結合材１６と、を備える。

複数の砥粒１７は、結合材１６の後述する砥粒保持部１６ａ内に分布している。砥粒１７の平均粒径は、基材１１の孔１１ｄ内に侵入できず、溝１１ａ内における側面１１ｂ，１１ｃに対向して位置するように、孔１１ｄの平均孔径よりも大きく設定される。砥粒１７は、例えば、ダイヤモンドである。なお、砥粒１７は、ダイヤモンドに限らず、立方晶窒化ホウ素（ＣＢＮ）砥粒であってもよいし、ＣＢＮ砥粒とダイヤモンドを混合させてもよい。さらには、複数の砥粒１７は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、又は溶融アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、若しくはこれらを混合したものであってもよい。

結合材１６は、複数の砥粒１７を保持しつつ、基材１１の側面１１ｂ，１１ｃに対応する内部の孔１１ｄ内に充填される。結合材１６は、ニッケル、アルミニウム等の金属、樹脂又はセラミックにより形成される。

詳しくは、図４に示すように、結合材１６は、砥粒保持部１６ａと、固定部１６ｂと、を備える。
砥粒保持部１６ａは、溝１１ａ内の側面１１ｂに対向する位置に設けられ、複数の砥粒１７を保持する。本例では、砥粒保持部１６ａは、複数の砥粒１７を側面１１ｂに沿って１列に並ぶように保持する。例えば、砥粒保持部１６ａの厚さは、砥粒１７の平均粒径よりも大きく設定される。
固定部１６ｂは、砥粒保持部１６ａと一体で形成され、基材１１の内部の孔１１ｄ内に入り込む。固定部１６ｂは、アンカー効果により、砥粒層１３を溝１１ａの側面１１ｂに固定する。固定部１６ｂの厚さＴは、例えば、１０μｍ〜１ｍｍに設定されている。

図３に示すように、各充填材１２は、２つの砥粒層１３が固定された溝１１ａ内に充填される。充填材１２の外周面と基材１１の外周面は加工面１０ａ上に形成される。充填材１２は、溝１１ａ内において側面１１ｂ，１１ｃとの間でそれぞれ砥粒層１３を挟み込む。これにより、砥粒層１３の強度を高めることができる。
充填材１２は、樹脂、セラミック又は金属の何れから形成されてもよい。充填材１２は、例えば、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、又は溶融アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）から形成されてもよい。

次に、砥石ユニット１の作用について説明する。
図１に示すように、砥石１０は、図示しない駆動部によりシャフト２０を介して周方向Ｃに回転する。砥石１０の回転中に加工面１０ａに被加工物Ｗが接触することにより、被加工物Ｗが加工される。図３に示すように、被加工物が砥石１０により加工されると、充填材１２及び基材１１は砥粒層１３よりも削られる量が多くなる。よって、砥粒層１３の加工面１０ａに近い先端は、充填材１２の外周面と基材１１の外周面よりも加工面１０ａに対して外側に突出する。よって、砥粒層１３による被加工物に対する加工圧力が高くなり、砥石１０の加工能力が高くなる。
図３及び図４に示すように、砥石１０は、砥粒１７を有する砥粒層１３と砥粒１７を有しない充填材１２又は基材１１が加工面１０ａの周方向Ｃに沿って交互に配置される。よって、砥石１０が周方向Ｃに回転すると、被加工物Ｗには、被加工物Ｗを加工する砥粒層１３と被加工物Ｗを加工しない充填材１２又は基材１１が交互に接触する。これにより、図５に示すように、砥粒層１３が周方向Ｃに沿って被加工物Ｗに向かって回転し、砥粒層１３の先端が被加工物Ｗに加工量Ｋにて被加工物Ｗに切り込まれるとともに、砥粒層１３の先端が被加工物Ｗに摩擦する。これにより、被加工物Ｗが加工される。
従来の砥石では砥粒が周方向に沿って均一に分布しており、砥粒は被加工物を研磨するのみである。よって、従来の砥石では、本実施形態に比べて、被加工物Ｗに切り込む加工量は少ない。一方、本実施形態の砥石１０の砥粒層１３は、フライス工具の刃先と同様に機能し、被加工物Ｗに切り込まれやすい。これにより、本実施形態の砥石１０は、従来の砥石よりも加工量Ｋを増やすことができる。また、加工時には、砥石１０の砥粒層１３の先端が摩耗する前に砥粒１７が砥粒層１３から脱落し、新たな砥粒１７が砥粒層１３の先端に露出する。よって、砥石１０の加工能力がフライス工具に比べて低下することが抑制される。

（効果）
以上、説明した一実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）砥石１０は、溝１１ａを有する基材１１と、被加工物Ｗを加工し、溝１１ａの内部の側面１１ｂ，１１ｃに固定され、被加工物Ｗを加工する加工面１０ａに交わる方向に延びる砥粒層１３と、を備える。砥粒層１３は、被加工物Ｗを加工する際に被加工物Ｗに接触する複数の砥粒１７と、複数の砥粒１７を結合する結合材１６と、を備える。結合材１６は、溝１１ａの内部における側面１１ｂ，１１ｃに対向する位置で複数の砥粒１７を保持する砥粒保持部１６ａと、砥粒保持部１６ａと一体で形成され、基材１１にアンカー効果により固定される固定部１６ｂと、を備える。
この構成によれば、基材１１に固定される砥粒層１３により被加工物Ｗの加工が行われる。このため、砥石１０による加工量を、基材のみからなる従来の砥石の加工量に比べて増やすことができる。よって、砥石１０の加工能力を高めることができる。
また、砥粒層１３の固定部１６ｂが基材１１にアンカー効果により固定される。よって、砥粒層１３をより強固に基材１１に固定することができる。よって、砥粒層１３が基材１１からずれたり、外れたりすることが抑制される。これにより、砥石１０の加工能力の低下が抑制される。
さらに、砥粒層１３は加工面１０ａに交わる方向に延びる。このため、砥粒層１３が摩耗した場合であっても、砥石１０の加工能力の低下が抑制される。

（２）溝１１ａは第１方向の一例である回転軸Ｏに沿う方向に沿って延びる。２つの側面１１ｂ，１１ｃは、第１方向に交わる第２方向の一例である周方向Ｃに対面して設けられる。砥粒層１３は、溝１１ａの内部の２つの側面１１ｂ，１１ｃそれぞれに固定される。
この構成によれば、砥粒層１３が２つの側面１１ｂ，１１ｃそれぞれにアンカー効果により固定される。よって、砥粒層１３が基材１１からずれたり、外れたりすることが抑制される。これにより、砥石１０の加工能力の低下が抑制される。

（３）基材１１は多孔質材料により形成される。固定部１６ｂは、砥粒保持部１６ａと一体で形成され、基材１１の内部の孔１１ｄに入り込む。
この構成によれば、固定部１６ｂが基材１１の孔１１ｄに入り込む。よって、砥粒層１３を基材１１に確実に固定することができる。砥粒層１３と基材１１の間の線膨張係数の差が固定部１６ｂにより緩和される。よって、温度変化に伴い砥粒層１３が溝１１ａの側面１１ｂ，１１ｃから外れることが抑制される。
また、砥粒１７は、基材１１の孔１１ｄ内への侵入が阻止される粒径に設定される。
この構成によれば、砥粒１７を溝１１ａの内部における側面１１ｂに対向する部位に並べることができる。これにより、砥石１０の加工能力を高めることができる。

（４）砥石１０は、溝１１ａの内部に充填される充填材１２を備える。
この構成によれば、充填材１２により砥粒層１３が溝１１ａの側面１１ｂ，１１ｃに確実に固定される。また、砥石１０の加工面１０ａに凹凸がなくなり、砥石１０はより精度の高い加工を行うことができる。

（５）砥粒層１３は、砥石１０における被加工物Ｗを加工する加工面１０ａに直交する方向に延びる。
この構成によれば、砥粒層１３は加工面１０ａに直交する柱状に形成されている。よって、砥粒層１３の先端が削れても、砥粒層１３の加工面１０ａに直交する方向の長さ分だけ、砥石１０の加工能力が維持される。

（６）基材１１は円柱状に形成される。複数の溝１１ａは、基材１１の外周面に形成され、それぞれ基材１１の中心軸に沿って延び、基材１１の周方向Ｃに沿って並べられる。溝１１ａの２つの側面１１ｂ，１１ｃは周方向Ｃにおいて対面する。基材１１の中心軸は砥石１０の回転軸Ｏに一致する。
この構成によれば、砥石１０は、砥粒１７を有する砥粒層１３と砥粒１７を有しない充填材１２又は基材１１が周方向Ｃに沿って交互に配置される。これにより、図５に示すように、砥粒層１３が周方向Ｃに沿って被加工物Ｗに向かって回転し、砥粒層１３の先端が被加工物Ｗに加工量Ｋにて被加工物Ｗに切り込まれる。よって、砥石１０の加工量Ｋを従来の砥石よりも増やすことができる。

（変形例）
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の形態にて実施することができる。
上記実施形態においては、砥石１０は円柱状に形成されていたが、これに限らず、平板状に形成されてもよい。例えば、図６に示すように、砥石１１０は、複数の溝１１１ａが形成される平板状の基材１１１と、溝１１１ａの両側面１１１ｂ，１１１ｃに固定される砥粒層１１３と、溝１１１ａの内部に充填される充填材１１２と、を備える。砥粒層１１３の構成は、上記実施形態の砥粒層１３と同様である。砥石１１０の加工面１１０ａは、平面状に形成され、砥粒層１１３の先端が位置する。

上記実施形態において、図７に示すように、砥粒層１３は、第１砥粒の一例である砥粒１７とは別に、固定部１６ｂにより結合される複数の第２砥粒の一例である砥粒１８を含んでいてもよい。砥粒１８の平均粒径は、砥粒１７の平均粒径よりも小さく、かつ、基材１１の孔１１ｄ内に進入可能に設定される。複数の砥粒１８は、基材１１の孔１１ｄ内に位置し、孔１１ｄ内に充填された固定部１６ｂ内に分布する。これにより、粒径の小さい砥粒１８を基材１１の孔１１ｄ内に位置させ、砥粒保持部１６ａ内に分布する複数の砥粒１７の粒径のバラツキを小さくすることができる。

上記実施形態においては、各砥粒層１３は、砥石１０の加工面１０ａに対して直交する方向に延びていた。しかし、これに限らず、各砥粒層１３は、図８に示すように、砥石１０の加工面１０ａに対して直交以外の角度に延びていてもよい。これにより、各砥粒層１３のすくい角αを設定することができ、砥石１０の加工能力を高めることができる。
上記変形例に係る平板状の砥石１１０においても、各砥粒層１１３は、加工面１１０ａに対して直交以外の角度に延びていてもよい。

上記実施形態においては、砥石１０の外周面が加工面１０ａであったが、これに限らず、円柱状の砥石１０の端面が加工面であってもよい。この場合、この砥石１０の端面に溝が形成され、溝の側面に砥粒層１３が固定される。
さらに、図９に示すように、砥石１０は、砥石１０の外周面である加工面１０ａに加えて、砥石１０の端面である加工面１０ｂを備えていてもよい。この場合、基材１１の端面に溝１１ｅが形成される。砥粒層１３は溝１１ｅの側面に固定される。溝１１ｅの内部には充填材１２が充填される。複数の溝１１ｅは、それぞれ径方向Ｒに沿って延び、周方向Ｃに沿って並べられる。２つの加工面１０ａ，１０ｂにより、１つの砥石１０で多彩な加工を実現することができる。例えば、加工面１０ａにより被加工物の側面を加工し、加工面１０ｂにより被加工物の平面を加工してもよい。
基材１１の端面に形成される溝１１ｅは、基材１１の外周面に形成される溝１１ａに連続するように形成されてもよい。連続する溝１１ａ，１１ｅは一体でＬ字状をなす。これにより、砥石１０を製造する際、基材１１の溝１１ａ，１１ｅの加工が容易となる。
また、図１０に示すように、砥石１０は、砥石１０の外周面である加工面１０ａと砥石１０の端面である加工面１０ｂを繋ぐ傾斜面である加工面１０ｃを備えていてもよい。加工面１０ｃは、加工面１０ａから加工面１０ｂに近づくにつれて縮径するリング状をなす。基材１１の傾斜面には溝１１ｆが形成される。砥粒層１３は溝１１ｆの側面に固定される。溝１１ｆの内部には充填材１２が充填される。複数の溝１１ｆは、それぞれ回転軸Ｏに沿って延び、周方向Ｃに沿って並べられる。３つの加工面１０ａ，１０ｂ，１０ｃにより、１つの砥石１０で多彩な加工を実現することができる。例えば、加工面１０ａにより被加工物の側面を加工し、加工面１０ｂにより被加工物の平面を加工し、加工面１０ｃにより被加工物の角部を加工してもよい。
溝１１ｆは、溝１１ｅと溝１１ａを繋げるように形成されてもよい。これにより、砥石１０を製造する際、基材１１の溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆの加工が容易となる。

上記実施形態及び上記変形例においては、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆの２つの側面１１ｂ，１１ｃの両方に砥粒層１３が固定されていたが、これに限らず、２つの側面１１ｂ，１１ｃの何れか一方にのみ砥粒層１３が固定されてもよい。

上記実施形態及び上記変形例における複数の充填材１２のうち少なくとも何れかは省略されてもよい。これにより、被加工物Ｗに対する砥石１０の接触圧力を高めることができ、加工能力を高めることができる。さらに、充填材１２が充填されない溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆが切り粉を保持するポケットとして機能する。このため、切り粉による砥石１０，１１０の加工能力の低下が抑制される。

上記実施形態及び上記変形例においては、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆは、回転軸Ｏに沿って延びるように形成されていたが、これに限らず、回転軸Ｏの周囲に螺旋状に形成されてもよい。

上記実施形態及び上記変形例において、充填材１２は、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆの底面から基材１１，１１１の内部の孔内に進入させてもよい。これにより、充填材１２はアンカー効果により基材１１，１１１に確実に固定される。

上記実施形態及び上記変形例において、充填材１２が省略され、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆの両側面１１ｂ，１１ｃは、１つの砥粒層１３を砥粒層１３の厚さ方向から挟むように形成されてもよい。この場合、砥粒層１３の厚さ方向の両側がアンカー効果により溝１１ａの両側面１１ｂ，１１ｃに固定される。

上記実施形態及び上記変形例においては、基材１１，１１１には、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆ，１１１ａが形成されていたが、溝１１ａ，１１ｅ，１１ｆ，１１１ａは省略されてもよい。この場合、例えば、図１１に示すように、砥石２１０は、柱状に形成される基材２１１と、基材２１１の側面２１１ｂ，２１１ｃに固定される砥粒層２１３と、を備える。基材２１１は例えば角柱状に形成される。基材２１１の側面２１１ｂ，２１１ｃは互いに対面する基材２１１の外面である。２つの砥粒層２１３は、それぞれ側面２１１ｂ，２１１ｃに固定され、砥石２１０の加工面２１０ａに直交する方向に延びる。砥粒層２１３は、砥粒層１３と同様に構成される。
なお、基材２１１の形状は角柱状に限らず、円柱状等のその他の形状に形成されてもよい。

上記実施形態及び上記変形例においては、基材１１，１１１，２１１は、内部に孔を有する多孔質体で形成されていたが、内部に孔を有しない樹脂又はセラミックス等の材質により形成されてもよい。この場合、基材の被固定面が凹凸状に形成され、この被固定面に結合材の固定部がアンカー効果により固定される。
以下、図１２及び図１３を参照しつつ変形例について説明する。
図１２に示すように、砥石３１０は、円柱状に形成される基材３１１と、基材３１１に形成される溝３１１ａの内部に固定される砥粒層３１３と、を備える。複数の砥粒層３１３は、基材３１１の周方向Ｃに沿って並べられ、砥石３１０の加工面３１０ａに交わる基材３１１の径方向に沿って延びる。基材３１１の溝３１１ａの内部には、周方向Ｃに対面する２つの側面３１１ｂ，３１１ｃを備える。側面３１１ｂ，３１１ｃは、それぞれ、砥粒層３１３の両面がアンカー効果により固定されるように凹凸状に形成されている。
図１３に示すように、砥粒層３１３の固定部１６ｂが側面３１１ｂの凹部に入り込む。これにより、砥粒層３１３の固定部１６ｂがアンカー効果により基材３１１に固定される。
また、図１２に示すように、砥粒層３１３の先端は、加工面３１０ａにおいて基材３１１よりも砥石３１０の径方向外側に突出するように形成される。これにより、砥石３１０の目立てを行うことなく、砥石３１０を使用可能となる。

１…砥石ユニット、１０，１１０，２１０，３１０…砥石、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１１０ａ，２１０ａ，３１０ａ…加工面、１１，１１１，２１１，３１１…基材、１１ｂ，１１ｃ，１１１ｂ，１１１ｃ，２１１ｂ，２１１ｃ，３１１ｂ，３１１ｃ…側面、１１ａ，１１ｅ，１１ｆ，１１１ａ，３１１ａ…溝、１１ｄ…孔、１２，１１２…充填材、１３，１１３，２１３，３１３…砥粒層、１６…結合材、１６ａ…砥粒保持部、１６ｂ…固定部、１７，１８…砥粒、２０…シャフト、Ｃ…周方向、Ｋ…加工量、Ｏ…回転軸、Ｒ…径方向、Ｗ…被加工物

Claims (8)

1. 基材と、
   被加工物を加工し、前記基材に固定され、前記被加工物を加工する加工面に交わる方向に延びる砥粒層と、を備え、
   前記砥粒層は、
   前記被加工物を加工する際に前記被加工物に接触する複数の砥粒と、
   前記複数の砥粒を結合する結合材と、を備え、
   前記結合材は、
   前記複数の砥粒を保持する砥粒保持部と、
   前記砥粒保持部と一体で形成され、前記基材にアンカー効果により固定される固定部と、を備える、
   砥石。
2. 前記基材には溝が形成され、
   前記砥粒層は、前記溝の内部の側面に固定される、
   請求項１に記載の砥石。
3. 前記溝は第１方向に延び、
   前記溝の内部の２つの前記側面は、前記第１方向に交わる第２方向に対面して設けられ、
   前記砥粒層は、前記溝の内部の２つの前記側面それぞれに固定される、
   請求項２に記載の砥石。
4. 前記溝の内部に充填される充填材を備える、
   請求項２又は３に記載の砥石。
5. 前記基材は円柱状に形成され、
   複数の前記溝は、前記基材の外周面に形成され、それぞれ前記基材の中心軸に沿って延び、前記基材の周方向に沿って並べられる、
   請求項２から４の何れか１項に記載の砥石。
6. 前記基材は多孔質材料により形成され、
   前記固定部は、前記砥粒保持部と一体で形成され、前記基材の内部の孔に入り込み、
   前記砥粒は、前記基材の前記孔内への侵入が阻止される粒径に設定される、
   請求項１から５の何れか１項に記載の砥石。
7. 前記砥粒層は、前記砥粒である第１砥粒よりも平均粒径が小さく、前記基材の前記孔内に位置し、前記固定部により結合される複数の第２砥粒を備える、
   請求項６に記載の砥石。
8. 前記砥粒層の先端は、前記加工面において前記基材よりも突出する、
   請求項１から７の何れか１項に記載の砥石。

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