JP2021056461A - 投影光学系、走査露光装置および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、図14、図15、図16を参照しながら本発明の第2実施形態の露光装置EXにおける投影光学系POについて説明する。第2実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従う。第1屈折光学系D1は、第1反射面T1で反射され凹反射面Mo1に向かう光束の主光線が凹反射面Mo1と凸反射面Mtとの間の光軸O−O’に近づくように、正の屈折力を有する。他の観点では、第1屈折光学系D1は、第1反射面T1で反射され凹反射面Mo1に向かう光束の主光線が光軸O−O’に近づき、かつ、凹反射面Mo1で反射され第2反射面T2に向かう光束の主光線が光軸O−O’から遠ざかるように、正の屈折力を有する。
Claims (17)
- 物体面における光軸外の円弧状良像域からの光束を第1屈折光学系、凹反射面、凸反射面、前記凹反射面、第2屈折光学系を順に経由させて像面における円弧状良像域に結像させる等倍の投影光学系であって、
前記第1屈折光学系および前記第2屈折光学系の各々は、2つのレンズを含み、前記2つのレンズは、非球面を有する、
ことを特徴とする投影光学系。 - 前記像面における前記円弧状良像域において像高を一方向に変化させたときに前記投影光学系の収差を表すツェルニケ多項式のC17項の符号が反転する、
ことを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。 - 前記第1屈折光学系および前記第2屈折光学系の各々は、前記2つのレンズが有する前記非球面を含む複数の非球面を有し、
前記複数の非球面のうち第1非球面が前記投影光学系に与える収差のうちツェルニケ多項式のC17項の成分と、前記複数の非球面のうち前記第1非球面以外の非球面が前記投影光学系に与える収差のうちツェルニケ多項式のC17項の成分と、の差分が0である像高が、前記像面の前記円弧状良像域の中にある、
ことを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。 - 物体面における光軸外の円弧状良像域からの光束を第1屈折光学系、凹反射面、凸反射面、前記凹反射面、第2屈折光学系を順に経由させて像面における円弧状良像域に結像させる等倍の投影光学系であって、
前記第1屈折光学系および前記第2屈折光学系の各々は、複数の非球面を有し、
前記像面における前記円弧状良像域において像高を一方向に変化させたときに前記投影光学系の収差を表すツェルニケ多項式のC17項の符号が反転する、
ことを特徴とする投影光学系。 - 物体面における光軸外の円弧状良像域からの光束を第1屈折光学系、凹反射面、凸反射面、前記凹反射面、第2屈折光学系を順に経由させて像面における円弧状良像域に結像させる等倍の投影光学系であって、
前記第1屈折光学系および前記第2屈折光学系の各々は、複数の非球面を有し、
前記複数の非球面のうち第1非球面が前記投影光学系に与える収差のうちツェルニケ多項式のC17項の成分と、前記複数の非球面のうち前記第1非球面以外の非球面が前記投影光学系に与える収差のうちツェルニケ多項式のC17項の成分と、の差分が0である像高が、前記像面の前記円弧状良像域の中にある、
ことを特徴とする投影光学系。 - 前記非球面は、回転対称非球面である、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 前記第1屈折光学系と前記凹反射面との間に配置され光路を曲げる第1反射面と、
前記凹反射面と前記第2屈折光学系との間に配置され光路を曲げる第2反射面と、
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 前記投影光学系は、前記物体面および前記像面においてテレセントリックであり、
前記第1屈折光学系は、前記第1反射面で反射され前記凹反射面に向かう光束の主光線が前記凹反射面と前記凸反射面との間の光軸に近づくように、正の屈折力を有する、
ことを特徴とする請求項7に記載の投影光学系。 - 前記投影光学系は、前記物体面および前記像面においてテレセントリックであり、
前記第1屈折光学系は、前記第1反射面で反射され前記凹反射面に向かう光束の主光線が前記凹反射面と前記凸反射面との間の光軸に近づき、かつ、前記凹反射面で反射され前記第2反射面に向かう光束の主光線が前記光軸から遠ざかるように、正の屈折力を有する、
ことを特徴とする請求項7に記載の投影光学系。 - 前記第1反射面で反射された後に前記凹反射面に1回目に入射する光束と前記凹反射面に2回目に入射する光束とが前記凹反射面において部分的に重なる、
ことを特徴とする請求項8又は9に記載の投影光学系。 - 前記第1反射面で反射され前記凹反射面に向かう光束のテレセントリシティが15mrad以上である、
ことを特徴とする請求項8又は9に記載の投影光学系。 - 前記第1反射面で反射され前記凹反射面に向かう光束のテレセントリシティが15mrad以上であり、前記凹反射面で反射され前記第2反射面に向かう光束のテレセントリシティが15mrad以上である、
ことを特徴とする請求項9に記載の投影光学系。 - 前記第1屈折光学系は、前記物体面の近傍に配置され、前記第2屈折光学系は、前記像面の近傍に配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 前記凹反射面および前記凸反射面の少なくとも一方が非球面である、
ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 前記凸反射面と前記凹反射面との間であって、前記凹反射面よりも前記凸反射面に近い位置に配置された屈折光学部材を更に備え、
前記屈折光学部材は、非球面を有する、
ことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 請求項1乃至15のいずれか1項に記載の投影光学系を備え、
前記物体面に配置された原版および前記像面に配置された基板を走査しながら前記投影光学系によって前記原版のパターンを前記基板に投影し、これにより前記基板を走査露光する、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 請求項16に記載の走査露光装置によって、フォトレジスト膜が塗布された基板を露光する露光工程と、
前記露光工程の後に前記フォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程の後に前記レジストパターンを利用して前記基板を処理する処理工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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