JP2021054677A - Ceramic structure - Google Patents
Ceramic structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021054677A JP2021054677A JP2019179679A JP2019179679A JP2021054677A JP 2021054677 A JP2021054677 A JP 2021054677A JP 2019179679 A JP2019179679 A JP 2019179679A JP 2019179679 A JP2019179679 A JP 2019179679A JP 2021054677 A JP2021054677 A JP 2021054677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic structure
- pores
- surface layer
- less
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- -1 magnesium aluminate Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 62
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 59
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 39
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 20
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 6
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 6
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000145637 Lepturus Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003991 Rietveld refinement Methods 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
Abstract
Description
本開示は、高温の酸やアルカリの溶液に晒されても浸食されにくいとともに、内部からクラックが発生、伸展しにくいセラミック構造体に関する。 The present disclosure relates to a ceramic structure that is hard to be eroded even when exposed to a high-temperature acid or alkaline solution, and is hard to crack and extend from the inside.
酸化アルミニウムを主成分とするセラミック焼結体は、セラミック焼結体の中でも耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性等に優れるとともに、原料としての酸化アルミニウムの粉末が比較的安価であるため、例えば、摺動部材、粉砕部材、構造部材等の工業製品として広く使用されている。 A ceramic sintered body containing aluminum oxide as a main component is excellent in wear resistance, heat resistance, chemical resistance, etc. among ceramic sintered bodies, and aluminum oxide powder as a raw material is relatively inexpensive. Therefore, for example. , Sliding members, crushing members, structural members, etc. are widely used as industrial products.
このようなセラミック焼結体として、本件出願人は、特許文献１で、アルミナ結晶およびマンガンスピネル結晶からなり、マンガンスピネル結晶の含有量が０．２〜５．０体積％であるアルミナ質焼結体を提案している。
As such a ceramic sintered body, the applicant of the present invention in
特許文献１で提案されたアルミナ質焼結体は、１００℃以下の酸やアルカリの溶液に晒されても浸食されにくい。しかしながら、昨今、温度が２００℃以上の酸やアルカリの溶液を使って被洗浄物を洗浄することが求められつつあり、このような要求に応じようとすると、表層領域と内部領域におけるマンガンスピネル結晶の含有量が同等であったり、表層領域よりも内部領域の方がマンガンスピネル結晶の含有量が多かったりすると、マンガンスピネルの方がアルミナよりも線膨張率が大きいことから、酸やアルカリの溶液に繰り返し晒された場合、内部からクラックが発生、伸展して早い段階で破壊に至ることがあった。
The alumina-based sintered body proposed in
本開示は、高温の酸やアルカリの溶液に繰り返し晒されても浸食されにくいとともに、内部からクラックが発生、伸展しにくいセラミック構造体を提供する。 The present disclosure provides a ceramic structure that is less likely to be eroded even when repeatedly exposed to a high-temperature acid or alkali solution, and is less likely to be cracked or stretched from the inside.
本開示のセラミック構造体は、酸化アルミニウムを主成分とし、アルミン酸マグネシウムを含むセラミック構造体であって、内部領域よりも表層領域の方がアルミン酸マグネシウムの含有量が多い。 The ceramic structure of the present disclosure is a ceramic structure containing aluminum oxide as a main component and magnesium aluminate, and the content of magnesium aluminate is higher in the surface layer region than in the internal region.
本開示によれば、高温の酸やアルカリの溶液に晒されても浸食されにくいとともに、内部からクラックが発生、伸展しにくいセラミック構造体を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a ceramic structure that is less likely to be eroded even when exposed to a high-temperature acid or alkali solution, and is less likely to crack or extend from the inside.
以下、図面を参照して、本開示のセラミック構造体について詳細に説明する。 Hereinafter, the ceramic structure of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings.
図１は、本開示のセラミック構造体の一例を示す斜視図である。図２は、本開示のセラミック構造体の他の例を示す斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view showing an example of the ceramic structure of the present disclosure. FIG. 2 is a perspective view showing another example of the ceramic structure of the present disclosure.
図１に示すセラミック構造体２０は、長尺状であり、例えば、長さが２ｍ〜４ｍ、幅が２００ｍｍ〜３００ｍｍ、高さが２０ｍｍ〜８０ｍｍである。
The
また、図２に示すセラミック構造体３０は、大型の円板状であり、例えば、直径が２ｍ〜４ｍ、高さが２０ｍｍ〜８０ｍｍである。セラミック構造体２０、３０は、いずれも相対密度が９５％以上の緻密質体であって、表面１、２から深さ方向に０．７ｍｍ以下の表層領域３、４と、表面から深さ方向に０．７ｍｍより深い内部領域５と、を備えている。
The
セラミック構造体における主成分とは、セラミック構造体を構成する成分１００質量％のうち、８０質量％以上を占める成分をいい、セラミック構造体を構成する各成分は、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折装置による測定結果から同定した後、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）発光分光分析装置または蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）を用いて、元素の含有量を求め、同定された成分の含有量に換算すればよい。 The main component in the ceramic structure means a component that occupies 80% by mass or more of 100% by mass of the components constituting the ceramic structure, and each component constituting the ceramic structure is X-ray diffraction using CuKα rays. After identification from the measurement results by the device, the content of the element can be determined using an ICP (Inductively Coupled Plasma) emission spectroscopic analyzer or a fluorescent X-ray analyzer (XRF) and converted into the content of the identified component. Good.
但し、アルミン酸マグネシウムの含有量については、リートベルト法で求めればよく、アルミン酸マグネシウムの含有量は、０．２質量％以下である。 However, the content of magnesium aluminate may be determined by the Rietveld method, and the content of magnesium aluminate is 0.2% by mass or less.
相対密度は、同定された主成分のセラミック構造体２０、３０の理論密度に対する、ＪＩＳ Ｒ １６３４−１９９８に準拠して求めたセラミック構造体２０、３０の見掛密度の百分率（割合）として表される。
The relative density is expressed as a percentage (ratio) of the apparent density of the
本開示のセラミック構造体は、表面から深さ方向に０．７ｍｍより深い内部領域よりも表面から深さ方向に０．７ｍｍ以下の表層領域の方がアルミン酸マグネシウムの含有量が多い。このような構成であると、表層領域は耐食性の高いアルミン酸マグネシウムの含有量が多いので、高温の酸やアルカリの溶液に晒されても浸食されにくく、内部領域は、酸化アルミニウムより線膨張率の高いアルミン酸マグネシウムの含有量が少ないので、内部からクラックが発生、伸展しにくくなる。 In the ceramic structure of the present disclosure, the content of magnesium aluminate is higher in the surface layer region of 0.7 mm or less in the depth direction from the surface than in the internal region deeper than 0.7 mm in the depth direction from the surface. With such a configuration, since the surface layer region contains a large amount of magnesium aluminate having high corrosion resistance, it is less likely to be eroded even when exposed to a high-temperature acid or alkali solution, and the internal region has a linear expansion rate higher than that of aluminum oxide. Since the content of magnesium aluminate, which has a high content, is low, cracks occur from the inside and it becomes difficult to extend.
特に、表層領域のアルミン酸マグネシウムの含有量との内部領域のアルミン酸マグネシウムの含有量との差が０．１質量％以上であるとよい。 In particular, the difference between the content of magnesium aluminate in the surface layer region and the content of magnesium aluminate in the inner region is preferably 0.1% by mass or more.
図３は、本開示のセラミック構造体の内部領域から取り出した面面を走査型電子顕微鏡で撮影した観察像の一例である。 FIG. 3 is an example of an observation image of a surface surface taken out from the internal region of the ceramic structure of the present disclosure taken with a scanning electron microscope.
このような観察像を得るには、まず、セラミック構造体の内部領域から取り出した面あるいは表層領域の表面を、平均粒径Ｄ５０が３μｍのダイヤモンド砥粒を用いて銅盤にて研磨した後、平均粒径Ｄ５０が０．５μｍのダイヤモンド砥粒を用いて錫盤にて研磨する。観察像は、これらの研磨によって得られる研磨面を、温度を１４８０℃として結晶粒子と粒界層とが識別可能になるまで熱処理することで得られる。熱処理の時間は、例えば、３０分である。 To obtain such observation image, first, the surface of the surface or surface region taken out from the interior area of the ceramic structure, were polished by Doban average particle diameter D 50 using diamond abrasive grains having a 3 [mu] m, polished at tin plate with an average particle diameter D 50 of the diamond abrasive grains 0.5 [mu] m. The observed image is obtained by heat-treating the polished surface obtained by these polishings at a temperature of 1480 ° C. until the crystal grains and the grain boundary layer can be distinguished. The heat treatment time is, for example, 30 minutes.
図３に示すセラミック構造体の観察像は、多数の酸化アルミニウムの結晶粒子８とともに、複数の空隙９によって囲繞されてなるアルミン酸マグネシウムの結晶粒子１０を有している。アルミン酸マグネシウムの結晶粒子１０は、例えば、柱状であり、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）に付設のエネルギー分散型Ｘ線分析器（ＥＤＳ）を用いて、マグネシウム、アルミニウムおよび酸素を検出することによって、アルミン酸マグネシウムの結晶粒子とみなすことができる。
The observation image of the ceramic structure shown in FIG. 3 has a large number of aluminum
アルミン酸マグネシウムの結晶粒子１０が複数の空隙９によって囲繞されていると、酸化アルミニウムよりも線膨張率が大きいアルミン酸マグネシウムが高温の酸やアルカリに晒されても、その膨張を吸収することができるので、酸化アルミニウムの結晶粒子８にクラックが生じにくくなる。
When the
相対密度は、同定された主成分のセラミックスの理論密度に対する、ＪＩＳ Ｒ １６３４−１９９８に準拠して求めたセラミックスの見掛密度の百分率（割合）として表される。 The relative density is expressed as a percentage (ratio) of the apparent density of the ceramics determined in accordance with JIS R 1634-1998 with respect to the theoretical density of the identified main component ceramics.
図４は、図１に示すセラミック構造体の断面であり、（ａ）は表層領域における断面の観察像の一例であり、（ｂ）は表層領域に近い側の内部領域における断面の観察像の一例であり、（ｃ）は表層領域に遠い側の内部領域における断面の観察像の一例である。 4A and 4B are cross-sections of the ceramic structure shown in FIG. 1, FIG. 4A is an example of an observation image of a cross section in a surface layer region, and FIG. 4B is an observation image of a cross section in an internal region near the surface layer region. As an example, (c) is an example of an observation image of a cross section in an internal region on the side far from the surface layer region.
図４（ａ）に示すように、表層領域３には気孔６が、また、図４（ｂ）、（ｃ）に示すように、内部領域５には気孔７が、それぞれ分散して配置されている。表層領域３における気孔６の面積占有率をＡ（％）、内部領域５における気孔７の面積占有率をＢ（％）とした場合、図３（ａ）に示す例では、面積占有率Ａは３．１２％であり、表層領域３に近い側の内部領域５における気孔７の面積占有率Ｂ（％）（以下、この面積占有率Ｂ（％）を面積占有率Ｂ１（％）という。）は３．４６％であり、表層領域３に遠い側の内部領域５における気孔７の面積占有率Ｂ（％）（以下、この面積占有率Ｂ（％）を面積占有率Ｂ２（％）という。）は４．１６％である。
As shown in FIG. 4 (a),
本開示のセラミック構造体の断面の観察像において、比率Ｂ／Ａが１．５以下である。比率Ｂ／Ａがこの範囲であると、内部領域３、４で強度、剛性等の機械的特性を低下させる空隙部分が少なく、機械的特性が低い部分が少ないため、高い機械的特性を有する。特に、比率Ｂ／Ａは、１．４以下であるとよい。
In the observation image of the cross section of the ceramic structure of the present disclosure, the ratio B / A is 1.5 or less. When the ratio B / A is in this range, there are few void portions that reduce mechanical properties such as strength and rigidity in the
図４に示す例では、比率Ｂ１／Ａは１．１であり、比率Ｂ２／Ａは１．３である。なお、セラミック構造体の断面は、セラミック構造体の表層領域から内部領域に向かって研磨して得られる研磨面であり、図４（ａ）は表面１から深さ方向に０．７ｍｍ、図４（ｂ）は表面１から深さ方向に７．５ｍｍ、図４（ｃ）は表面１から深さ方向に１５ｍｍの位置における研磨面である。
In the example shown in FIG. 4, the ratio B 1 / A is 1.1 and the ratio B 2 / A is 1.3. The cross section of the ceramic structure is a polished surface obtained by polishing from the surface layer region of the ceramic structure toward the internal region, and FIG. 4A shows 0.7 mm in the depth direction from the
これらの研磨面は、平均粒径Ｄ５０が４μｍ以上のダイヤモンド砥粒を用いて鋳鉄製定盤にて研磨した後、平均粒径Ｄ５０が２μｍ以上のダイヤモンド砥粒を用いて錫定盤にて、深さ方向にそれぞれ０．７ｍｍ、７．５ｍｍ、１５ｍｍになるまで研磨することによって得られる。これらの研磨面の算術平均粗さＲａは、例えば、５ｎｍ以下である。算術平均粗さＲａは、３Ｄ光学面プロファイラー「ＮＥＷ ＶＩＥＷ」（登録商標 Zygo Corporation）を用いて測定すればよい。 These polished surfaces are polished on a cast iron surface plate using diamond abrasive grains having an average particle size D 50 of 4 μm or more, and then on a tin surface plate using diamond abrasive grains having an average particle size D 50 of 2 μm or more. It is obtained by polishing to 0.7 mm, 7.5 mm, and 15 mm in the depth direction, respectively. The arithmetic mean roughness Ra of these polished surfaces is, for example, 5 nm or less. The arithmetic mean roughness Ra may be measured using a 3D optical surface profiler "NEW VIEW" (registered trademark Zygo Corporation).
また、セラミック構造体は、表層領域３、４および内部領域５のいずれにおいても、気孔６（７）の重心間距離の平均値から気孔６（７）の円相当径の平均値を差し引いた値が５μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。
Further, in the ceramic structure, the value obtained by subtracting the average value of the equivalent circle diameters of the pores 6 (7) from the average value of the distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) in all of the
気孔６（７）の重心間距離の平均値から気孔６（７）の円相当径の平均値を差し引いた値が５μｍ以上であると、空隙部分が密集することなく分散して配置されているので、さらに高い機械的特性を有する。一方、気孔６（７）の重心間距離の平均値から気孔６（７）の円相当径の平均値を差し引いた値が１０μｍ以下であると、表面１、２から深さ方向に研削、研磨等の加工をする場合、良好な加工性が得られるとともに、隣り合う気孔間の間隔が狭くなるので、マイクロクラックの伸展を抑制することができる。また、隣り合う気孔間の間隔が狭くなることによって、帯電を除去する効果が高くなる。
When the value obtained by subtracting the average value of the equivalent circle diameters of the pores 6 (7) from the average value of the distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) is 5 μm or more, the voids are dispersed and arranged without being densely packed. Therefore, it has even higher mechanical properties. On the other hand, if the value obtained by subtracting the average value of the equivalent circle diameters of the pores 6 (7) from the average value of the distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) is 10 μm or less, the
気孔６（７）の円相当径は、以下の方法で求めることができる。まず、デジタルマイクロスコープを用いて上記断面を２００倍の倍率で観察し、例えば、面積が０．１１ｍｍ２（横方向の長さが３８０．７１μｍ、縦方向の長さが２８５．５３μｍ）となる範囲をＣＣＤカメラで撮影して、観察像内の各気孔６（７）の円相当径を求めればよい。なお、画像の明暗を示す指標であるしきい値は、円相当径０．２７μｍ以下を測定の対象外となるように設定すればよい。 The equivalent circle diameter of the pores 6 (7) can be determined by the following method. First, the cross section is observed at a magnification of 200 times using a digital microscope, and the area is, for example, 0.11 mm 2 (length in the horizontal direction is 380.71 μm, length in the vertical direction is 285.53 μm). The range may be photographed with a CCD camera to obtain the equivalent circle diameter of each pore 6 (7) in the observation image. The threshold value, which is an index indicating the brightness of the image, may be set so that the equivalent circle diameter of 0.27 μm or less is excluded from the measurement.
上述した方法で求めた、気孔６（７）の円相当径は、例えば、１μｍ以上３μｍ以下である。 The circle-equivalent diameter of the pore 6 (7) determined by the above method is, for example, 1 μm or more and 3 μm or less.
気孔６（７）の重心間距離は、以下の方法で求めることができる。気孔６（７）の円相当径を求めるために撮影した観察像を対象として、画像解析ソフト「Ａ像くん(ｖｅｒ２
．５２)」（登録商標、旭化成エンジニアリング（株）製、なお、以降に画像解析ソフト
「Ａ像くん」と記した場合、旭化成エンジニアリング（株）製の画像解析ソフトを示すものとする。）を用いて分散度計測の重心間距離法という手法で気孔６（７）の重心間距離を求めればよい。この手法の設定条件としては、例えば、画像の明暗を示す指標であるしきい値を１６５〜１７６、明度を暗、小図形除去面積を０．０５７μｍ２、雑音除去フィルタを有とすればよい。なお、上述の測定に際し、しきい値は１６５〜１７６としたが、観察像の明るさに応じて、しきい値を調整すればよく、明度を明、２値化の方法を手動とし、小図形除去面積を０．０５７μｍ２および雑音除去フィルタを有とした上で、観察像に現れるマーカーが気孔の形状と一致するように、しきい値を調整すればよい。
The distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) can be obtained by the following method. The image analysis software "A image-kun (ver2)" is used for the observation image taken to obtain the equivalent circle diameter of the pore 6 (7).
.. 52) ”(registered trademark, manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd., and when the image analysis software“ A image-kun ”is subsequently described, it means the image analysis software manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.). The distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) may be obtained by a method called the distance between the centers of gravity for measuring the degree of dispersion. As the setting conditions of this method, for example, a threshold value indicating the brightness of the image may be 165 to 176, the brightness may be dark, the small figure removal area may be 0.057 μm 2 , and a noise removal filter may be provided. In the above measurement, the threshold value was set to 165 to 176, but the threshold value may be adjusted according to the brightness of the observed image. After setting the figure removal area to 0.057 μm 2 and having a noise removal filter, the threshold value may be adjusted so that the markers appearing in the observation image match the shape of the pores.
上述した方法で求めた、気孔６（７）の重心間距離は、例えば、７μｍ以上１４μｍ以下である。 The distance between the centers of gravity of the pores 6 (7) determined by the above method is, for example, 7 μm or more and 14 μm or less.
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれにおいても、観察像における気孔６（７）の円相当径の最大値は１０μｍ以下であってもよい。
Further, in the
気孔６（７）の円相当径の最大値が１０μｍ以下であると、表面１、２から深さ方向に研磨しても、局部的に摩耗しやすい部分が減少するので、偏摩耗を抑制することができる。
When the maximum value of the equivalent circle diameter of the pores 6 (7) is 10 μm or less, even if polishing is performed from the
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれにおいても、観察像における円相当径が５μｍ以上の気孔の個数をａ（個）、観察像における円相当径が５μｍ未満の気孔の個数をｂ（個）とした場合、比率ｂ／ａが５０以上であってもよい。
Further, in the
比率ｂ／ａがこの範囲であると、生成過程で生じる気孔が集まってできた大型の気孔がほとんどなく、小さい気孔が分散して配置されているので、昇温および降温が繰り返される環境に置かれ、マイクロクラックが発生しても、その進展が気孔６（７）によって抑制
することができる。
When the ratio b / a is in this range, there are almost no large pores formed by gathering pores generated in the generation process, and small pores are dispersedly arranged, so that the environment is placed in an environment where temperature rise and fall are repeated. Even if microcracks occur, their growth can be suppressed by the pores 6 (7).
比率ｂ／ａは８０以上であってもよく、特に比率ｂ／ａは１００以上であるとよい。 The ratio b / a may be 80 or more, and in particular, the ratio b / a is preferably 100 or more.
気孔６（７）の個数は、デジタルマイクロスコープを用いて上記観察像を対象として求めればよい。 The number of pores 6 (7) may be determined by using a digital microscope for the above-mentioned observation image.
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれにおいても、観察像における気孔６（７）の円相当径の尖度Ｋｕは０．５以上５以下であってもよい。
Further, in the
気孔６（７）の円相当径の尖度Ｋｕがこの範囲であると、気孔６（７）の円相当径の分布が狭く、しかも、異常に大きな円相当径の気孔６（７）が少なくなるので、表面１（２）から深さ方向に研磨しても、偏摩耗を抑制することができる。特に、尖度Ｋｕは２以上４以下であるとよい。 When the kurtosis Ku of the circle-equivalent diameter of the pore 6 (7) is in this range, the distribution of the circle-equivalent diameter of the pore 6 (7) is narrow, and there are few pores 6 (7) having an abnormally large circle-equivalent diameter. Therefore, even if the surface 1 (2) is polished in the depth direction, uneven wear can be suppressed. In particular, the kurtosis Ku is preferably 2 or more and 4 or less.
図４に示す例では、気孔６（７）の円相当径の尖度Ｋｕは、（ａ）が２．７、（ｂ）が３．８、（ｃ）が２．４である。 In the example shown in FIG. 4, the kurtosis Ku of the equivalent circle diameter of the pore 6 (7) is 2.7 for (a), 3.8 for (b), and 2.4 for (c).
ここで、尖度Ｋｕとは、分布のピークと裾が正規分布からどれだけ異なっているかを示す指標（統計量）であり、尖度Ｋｕ＞０である場合、鋭いピークと長く太い裾を有する分布となり、尖度Ｋｕ＝０である場合、正規分布となり、尖度Ｋｕ＜０である場合、分布は丸みがかったピークと短く細い尾を有する分布となる。 Here, kurtosis Ku is an index (statistic) indicating how much the peak and tail of the distribution are different from the normal distribution, and when kurtosis Ku> 0, it has a sharp peak and a long thick tail. When the kurtosis is Ku = 0, the distribution is normal, and when the kurtosis is Ku <0, the distribution has a rounded peak and a short and thin tail.
なお、気孔６（７）の円相当径の尖度Ｋｕは、Excel（登録商標、Microsoft Corporation）に備えられている関数Ｋｕｒｔを用いて求めればよい。 The kurtosis Ku of the diameter equivalent to the circle of the pore 6 (7) may be obtained by using the function Kurt provided in Excel (registered trademark, Microsoft Corporation).
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれにおいても、気孔の円相当径の歪度Ｓｋは０．５以上２以下であってもよい。
Further, in the
気孔６（７）の円相当径の歪度Ｓｋがこの範囲であると、気孔６（７）の円相当径の平均値が小さく、しかも、異常に大きな円相当径の気孔６（７）が少なくなるので、表面１（２）から深さ方向に研磨しても、偏摩耗を抑制することができる。特に、歪度Ｓｋは１以上１．８以下であるとよい。 When the skewness Sk of the circle-equivalent diameter of the pore 6 (7) is in this range, the average value of the circle-equivalent diameter of the pore 6 (7) is small, and the pore 6 (7) having an abnormally large circle-equivalent diameter is formed. Since the amount is reduced, uneven wear can be suppressed even if the surface 1 (2) is polished in the depth direction. In particular, the skewness Sk is preferably 1 or more and 1.8 or less.
図４に示す例では、気孔６（７）の円相当径の歪度Ｓｋは、（ａ）が１．２、（ｂ）が１．４、（ｃ）が１．１である。 In the example shown in FIG. 4, the skewness Sk of the equivalent circle diameter of the pores 6 (7) is 1.2 for (a), 1.4 for (b), and 1.1 for (c).
ここで、歪度Ｓｋとは、分布が正規分布からどれだけ歪んでいるか、即ち、分布の左右対称性を示す指標（統計量）であり、歪度Ｓｋ＞０である場合、分布の裾は右側に向かい、歪度Ｓｋ＝０である場合、分布は左右対称となり、歪度Ｓｋ＜０である場合、分布の裾は左側に向かう。 Here, the skewness Sk is an index (statistic) indicating how much the distribution is distorted from the normal distribution, that is, the left-right symmetry of the distribution, and when the skewness Sk> 0, the tail of the distribution is To the right, when the skewness Sk = 0, the distribution is symmetrical, and when the skewness Sk <0, the tail of the distribution goes to the left.
なお、気孔６（７）の円相当径の歪度Ｓｋは、Excel（登録商標、Microsoft Corporation）に備えられている関数ＳＫＥＷを用いて求めればよい。 The skewness Sk of the diameter equivalent to the circle of the pore 6 (7) may be obtained by using the function SKEW provided in Excel (registered trademark, Microsoft Corporation).
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５の少なくともいずれかは、観察像における結晶粒子の粒径の平均値が１μｍ以上４μｍ以下であってもよい。
Further, in the
結晶粒子の粒径の平均値が１μｍ以上であると、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末等の主成分となる原料を細かく粉砕することによる作製コストを抑制することができる。 When the average value of the particle size of the crystal particles is 1 μm or more, it is possible to suppress the production cost by finely pulverizing the raw material as the main component such as aluminum oxide (Al 2 O 3) powder.
結晶粒子の粒径の平均値が４μｍ以下であると、破壊靭性および剛性等の機械的特性を高くすることができる。 When the average value of the particle size of the crystal particles is 4 μm or less, mechanical properties such as fracture toughness and rigidity can be enhanced.
特に、セラミック構造体２０、３０の表層領域３、４および内部領域５のいずれもが観察像における結晶粒子の粒径の平均値が１μｍ以上４μｍ以下であるとよい。
In particular, it is preferable that the average value of the particle size of the crystal particles in the observation image of each of the
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５の少なくともいずれかは、観察像における結晶粒子の粒径の尖度Ｋｕ２は０以上であってもよい。
Further, in the
結晶粒子の粒径の尖度Ｋｕ２がこの範囲であると、結晶粒子の粒径のばらつきが抑制されるので、気孔の凝集が減少して、気孔の輪郭や内部から生じる脱粒を減らすことができる。 When the kurtosis Ku2 of the particle size of the crystal particles is in this range, the variation in the particle size of the crystal particles is suppressed, so that the aggregation of the pores is reduced and the stomata generated from the contour and the inside of the pores can be reduced. it can.
特に、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれもが観察像における結晶粒子の粒径の尖度Ｋｕ２は５以上であるとよい。
In particular, in the ceramic structures 20 and 30, it is preferable that the kurtosis Ku2 of the particle size of the crystal particles in the observation image of each of the
また、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５の少なくともいずれかは、観察像における結晶粒子の粒径の歪度Ｓｋ２は０以上であってもよい。
Further, the
結晶粒子の粒径の歪度Ｓｋ２がこの範囲であると、結晶粒子の粒径の分布が粒径の小さな方向に移動しているので、気孔の凝集が減少して、気孔の輪郭や内部から生じる脱粒をさらに減らすことができる。 When skewness S k2 particle diameter of the crystal grains is within the above range, since the distribution of the particle size of the crystal grains is moving in small direction of particle size, and aggregation of the pore is reduced, pore contours and internal The shedding resulting from can be further reduced.
特に、セラミック構造体２０、３０は、表層領域３、４および内部領域５のいずれもが観察像における結晶粒子の粒径の歪度Ｓｋ２は１．５以上であるとよい。
In particular, the
ここで、結晶粒子の粒径は、以下のようにして求めることができる。 Here, the particle size of the crystal particles can be determined as follows.
まず、セラミック構造体２０、３０の表面１、２から深さ方向に、例えば、０．６ｍｍおよび５ｍｍにおける各内面を、平均粒径Ｄ５０が３μｍのダイヤモンド砥粒を用いて銅盤にて研磨した後、平均粒径Ｄ５０が０．５μｍのダイヤモンド砥粒を用いて錫盤にて研磨する。これらの研磨によって得られる研磨面を、温度を１４８０℃として結晶粒子と粒界層とが識別可能になるまで熱処理して観察面としての断面を得る。熱処理の時間は、例えば、３０分である。
First, in the depth direction from the
そして、熱処理した面を光学顕微鏡を用いて、倍率を４００倍として撮影する。次に、撮影した画像のうち、面積が４．８７４７×１０３μｍ２の範囲を計測範囲とし、画像解析ソフト（例えば、三谷商事(株)製、Ｗｉｎ ＲＯＯＦ）を用いて解析することによって、個々の結晶粒子の粒径を得ることができる。 Then, the heat-treated surface is photographed using an optical microscope at a magnification of 400 times. Next, among the captured images, the measurement range is set to an area of 4.8747 × 10 3 μm 2 , and the image analysis software (for example, Win ROOF manufactured by Mitani Shoji Co., Ltd.) is used for analysis. The particle size of individual crystal particles can be obtained.
なお、結晶粒子の粒径に相当する円相当径の閾値は、１μｍに設定すればよい。 The threshold value of the circle-equivalent diameter corresponding to the particle size of the crystal particles may be set to 1 μm.
結晶粒子の粒径の平均値、尖度Ｋｕ２および歪度Ｓｋ２はExcel（登録商標、Microsoft
Corporation）に備えられている関数を用いて求めればよい。
The average particle size of crystal particles, kurtosis Ku2 and skewness Sk2 are Excel® (registered trademark, Microsoft).
It may be obtained by using the function provided in Corporation).
次に、本開示のセラミック構造体の製造方法の一例について説明する。 Next, an example of the method for manufacturing the ceramic structure of the present disclosure will be described.
まず、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末、Ｍｇ源として水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末、Ｓｉ源として酸化珪素（ＳｉＯ２）粉末、Ｓｒ源として炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）粉末を準備する。 First, aluminum oxide (Al 2 O 3 ) powder, magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ) powder as the Mg source, silicon oxide (SiO 2 ) powder as the Si source, and strontium carbonate (SrCO 3 ) powder as the Sr source are prepared. To do.
なお、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末１００質量部に対して、それぞれ水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末は０．０３質量部以上０．２質量部以下、酸化珪素（ＳｉＯ２）粉末は０．０２質量部以上０．０４質量部以下、炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）粉末は０．０３質量部以上０．０５質量部以下とする。 Magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ) powder is 0.03 parts by mass or more and 0.2 parts by mass or less, and silicon oxide (SiO 2 ) is 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of aluminum oxide (Al 2 O 3) powder. The powder shall be 0.02 parts by mass or more and 0.04 parts by mass or less, and the strontium carbonate (SrCO 3 ) powder shall be 0.03 parts by mass or more and 0.05 parts by mass or less.
そして、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末、酸化珪素（ＳｉＯ２）粉末および炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）粉末とともに、分散剤、消泡剤、増粘安定剤およびバインダーを混合装置に入れて混合・粉砕してスラリーとした後、真空ポンプを用いて脱泡する。 Then, along with aluminum oxide (Al 2 O 3 ) powder, magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ) powder, silicon oxide (SiO 2 ) powder and strontium carbonate (SrCO 3 ) powder, dispersant, defoaming agent and thickening agent. Stabilizers and binders are placed in a mixing device, mixed and pulverized to form a slurry, and then defoamed using a vacuum pump.
ここで、複数の空隙によって囲繞されてなるアルミン酸マグネシウムの結晶粒子を有するセラミック構造体を得るには、混合・粉砕した粉末の平均粒径Ｄ５０が、例えば、０．５μｍ以上０．７μｍ以下になるようにすればよい。 Here, in order to obtain a ceramic structure having crystal particles of magnesium aluminate surrounded by a plurality of voids, the average particle size D 50 of the mixed / crushed powder is, for example, 0.5 μm or more and 0.7 μm or less. It should be.
ここで、観察像における気孔の重心間距離の平均値から気孔の円相当径の平均値を差し引いた値が５μｍ以上１０μｍ以下であるセラミック構造体を得るには、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末１００質量部に対して、消泡剤を０．０５質量部以上０．０９質量部以下添加すればよい。 Here, in order to obtain a ceramic structure in which the value obtained by subtracting the average value of the equivalent circle diameters of the pores from the average value of the distance between the centers of gravity of the pores in the observation image is 5 μm or more and 10 μm or less, aluminum oxide (Al 2 O 3 ) is used. The defoaming agent may be added in an amount of 0.05 parts by mass or more and 0.09 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the powder.
また、観察像における気孔の円相当径の最大値は１０μｍ以下であるセラミック構造体を得るには、粉砕で発生しやすい増粘を抑制するため、キレート剤を、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末１００質量部に対して、０．０３質量部０．０７質量部を添加すればよい。 Further, in order to obtain a ceramic structure in which the maximum value of the equivalent circle diameter of the pores in the observed image is 10 μm or less, in order to suppress the thickening that tends to occur in pulverization, the chelating agent is aluminum oxide (Al 2 O 3 ). 0.03 parts by mass and 0.07 parts by mass may be added to 100 parts by mass of the powder.
また、比率ｂ／ａが５０以上であるセラミック構造体を得るには、脱泡を３０分以上行えばよい。 Further, in order to obtain a ceramic structure having a ratio b / a of 50 or more, defoaming may be performed for 30 minutes or more.
また、気孔の円相当径の尖度Ｋｕが０．５以上２以下であるセラミック構造体を得るには、キレート剤を上記範囲で添加し、混合・粉砕時間を１０時間以上にすればよい。 Further, in order to obtain a ceramic structure having a pore equivalent diameter of 0.5 or more and a kurtosis of 2 or less, a chelating agent may be added in the above range and the mixing / crushing time may be 10 hours or more.
また、気孔の円相当径の歪度Ｓｋが０．５以上２以下であるセラミック構造体を得るには、キレート剤を上記範囲で添加し、混合・粉砕時間を１５時間以上にすればよい。 Further, in order to obtain a ceramic structure having a skewness Sk of 0.5 or more and 2 or less of the equivalent circle diameter of the pores, a chelating agent may be added in the above range and the mixing / crushing time may be 15 hours or more.
また、表層領域および内部領域の少なくともいずれかの観察像における結晶粒子の粒径の平均値が１μｍ以上４μｍ以下であるセラミック構造体を得るには、混合・粉砕した粉末の平均粒径Ｄ５０が、例えば、０．３μｍ以上０．７μｍ以下になるようにすればよい。 Further, in order to obtain a ceramic structure in which the average value of the particle size of the crystal particles in at least one of the observation images of the surface layer region and the internal region is 1 μm or more and 4 μm or less, the average particle size D 50 of the mixed / pulverized powder is used. For example, the thickness may be 0.3 μm or more and 0.7 μm or less.
また、表層領域および内部領域の少なくともいずれかの観察像における結晶粒子の粒径の尖度Ｋｕ２が０以上であるセラミック構造体を得るには、粉末の粒径の尖度が０以上になるまで、粉砕する時間を延ばせばよい。 In order to obtain a ceramic structure kurtosis K u2 particle diameter of the crystal grains in at least one of the observation image of the surface layer region and the inner region is greater than or equal to 0, the kurtosis of the particle size of the powder is greater than 0 You can extend the crushing time until.
同様に、表層領域および内部領域の少なくともいずれかの観察像における結晶粒子の粒径の歪度Ｓｋ２が０以上であるセラミック構造体を得るには、粉末の粒径の歪度が０以上になるまで、粉砕する時間を延ばせばよい。 Similarly, in order to obtain a ceramic structure skewness S k2 particle diameter of the crystal grains in at least one of the observation image of the surface layer region and the inner region is greater than or equal to 0 is the skewness of the particle size of the powder is 0 or more You can extend the crushing time until it becomes.
このような方法で得られたスラリーを熱伝導性の高い金属等からなる成形型に注入した後、この状態で５０℃以上１００℃以下の温度で固化させて、固化体とする。そして、固化体を脱型した後、温湿度を制御した状態で乾燥させて乾燥体とする。 The slurry obtained by such a method is injected into a molding die made of a metal having high thermal conductivity, and then solidified at a temperature of 50 ° C. or higher and 100 ° C. or lower in this state to obtain a solidified body. Then, after the solidified body is demolded, it is dried in a state where the temperature and humidity are controlled to obtain a dried body.
そして、乾燥体を４００℃以上５５０℃以下で脱脂した後、焼成温度を１５５０℃以上１６５０℃以下として、５時間以上１０時間以下保持した後、降温速度を５℃／時間以上１００℃／時間以下とすることによって、本開示のセラミック構造体を得ることができる。 Then, after degreasing the dried product at 400 ° C. or higher and 550 ° C. or lower, the firing temperature is set to 1550 ° C. or higher and 1650 ° C. or lower, the temperature is maintained for 5 hours or longer and 10 hours or lower, and then the temperature lowering rate is 5 ° C./hour or higher and 100 ° C./hour or lower. By doing so, the ceramic structure of the present disclosure can be obtained.
なお、表層領域のアルミン酸マグネシウムの含有量との内部領域のアルミン酸マグネシウムの含有量との差が０．２質量％以上であるセラミック構造体を得るには、焼成温度を１５５０℃以上１６５０℃以下として、５時間以上１０時間以下保持した後、降温速度を５℃／時間以上５０℃／時間以下とすればよい。 In order to obtain a ceramic structure in which the difference between the content of magnesium aluminate in the surface layer region and the content of magnesium aluminate in the inner region is 0.2% by mass or more, the firing temperature is 1550 ° C. or higher and 1650 ° C. As follows, after holding for 5 hours or more and 10 hours or less, the temperature lowering rate may be 5 ° C./hour or more and 50 ° C./hour or less.
上述した製造方法によって得られたセラミック構造体は、長尺状あるいは大型であっても、機械的特性がほとんど低下することがないので、高い機械的特性が求められる用途、例えば、半導体製造装置用部材、液晶製造装置用部材として用いることができる。 Since the ceramic structure obtained by the above-mentioned manufacturing method has almost no deterioration in mechanical properties even if it is long or large, it is used for applications requiring high mechanical properties, for example, semiconductor manufacturing equipment. It can be used as a member or a member for a liquid crystal manufacturing apparatus.
１、２ ：表面
３、４ ：表層領域
５ ：内部領域
６，７ ：気孔
８ ：酸化アルミニウムの結晶粒子
９ ：空隙
１０ ：アルミン酸マグネシウムの結晶粒子
２０、３０：セラミック構造体
1, 2:
Claims (12)
前記表層領域における気孔の面積占有率をＡ（％）、前記内部領域における気孔の面積占有率をＢ（％）とした場合、比率Ｂ／Ａが１．５以下である、請求項１〜３のいずれかに記載のセラミック構造体。 In the observation image of the cross section
When the area occupancy of the pores in the surface layer region is A (%) and the area occupancy of the pores in the internal region is B (%), the ratio B / A is 1.5 or less, claims 1 to 3. The ceramic structure according to any one of.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019179679A JP2021054677A (en) | 2019-09-30 | 2019-09-30 | Ceramic structure |
| TW109132371A TWI757876B (en) | 2019-09-30 | 2020-09-18 | Ceramic structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019179679A JP2021054677A (en) | 2019-09-30 | 2019-09-30 | Ceramic structure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021054677A true JP2021054677A (en) | 2021-04-08 |
Family
ID=75269765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019179679A Pending JP2021054677A (en) | 2019-09-30 | 2019-09-30 | Ceramic structure |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2021054677A (en) |
| TW (1) | TWI757876B (en) |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4382997A (en) * | 1980-09-04 | 1983-05-10 | The Dow Chemical Company | Spinel surfaced objects |
| JPH07330449A (en) * | 1994-06-06 | 1995-12-19 | Shinagawa Refract Co Ltd | Alumina-spinel monolithic refractory |
| JP2001235283A (en) * | 2000-02-18 | 2001-08-31 | Yotai Refractories Co Ltd | Steel making electric furnace |
| JP2004292230A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Kyocera Corp | Wear resistant alumina sintered compact and method of manufacturing the same |
| JP2007145684A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Shinagawa Refract Co Ltd | Refractory brick |
| JP2017005022A (en) * | 2015-06-05 | 2017-01-05 | 日本特殊陶業株式会社 | Ceramic substrate and ceramic package |
| WO2018124024A1 (en) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 京セラ株式会社 | Corrosion-resistant member |
| WO2018155030A1 (en) * | 2017-02-22 | 2018-08-30 | 黒崎播磨株式会社 | Refractory for casting steel, and plate for sliding nozzle device |
| WO2019188148A1 (en) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 日本碍子株式会社 | Composite sintered body, semiconductor manufacturing device member, and method for manufacturing composite sintered body |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5932506A (en) * | 1998-02-23 | 1999-08-03 | Bogan; Jeffrey E. | Alumina-silicon carbide-carbon refractory castable containing magnesium aluminate spinel |
| EP3274317A4 (en) * | 2015-03-24 | 2018-11-21 | HRL Laboratories LLC | Thermal and environmental barrier coating for ceramic substrates |
| CN106977185B (en) * | 2017-05-26 | 2019-05-21 | 景德镇陶瓷大学 | A kind of aluminium oxide ceramics and preparation method thereof |
-
2019
- 2019-09-30 JP JP2019179679A patent/JP2021054677A/en active Pending
-
2020
- 2020-09-18 TW TW109132371A patent/TWI757876B/en active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4382997A (en) * | 1980-09-04 | 1983-05-10 | The Dow Chemical Company | Spinel surfaced objects |
| JPH07330449A (en) * | 1994-06-06 | 1995-12-19 | Shinagawa Refract Co Ltd | Alumina-spinel monolithic refractory |
| JP2001235283A (en) * | 2000-02-18 | 2001-08-31 | Yotai Refractories Co Ltd | Steel making electric furnace |
| JP2004292230A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Kyocera Corp | Wear resistant alumina sintered compact and method of manufacturing the same |
| JP2007145684A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Shinagawa Refract Co Ltd | Refractory brick |
| JP2017005022A (en) * | 2015-06-05 | 2017-01-05 | 日本特殊陶業株式会社 | Ceramic substrate and ceramic package |
| WO2018124024A1 (en) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 京セラ株式会社 | Corrosion-resistant member |
| WO2018155030A1 (en) * | 2017-02-22 | 2018-08-30 | 黒崎播磨株式会社 | Refractory for casting steel, and plate for sliding nozzle device |
| WO2019188148A1 (en) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 日本碍子株式会社 | Composite sintered body, semiconductor manufacturing device member, and method for manufacturing composite sintered body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202114963A (en) | 2021-04-16 |
| TWI757876B (en) | 2022-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101155799B1 (en) | Yttria sinter and member for plasma processor | |
| TWI715004B (en) | Component for plasma processing device, plasma processing device provided with the same, and manufacturing method of component for plasma processing device | |
| CN103492327A (en) | Refractory objects including beta alumina and methods of making and using the same | |
| JP7022817B2 (en) | Ceramic structure | |
| JP7062230B2 (en) | Plate-shaped silicon nitride sintered body and its manufacturing method | |
| RU2754616C2 (en) | Dense sintered product | |
| TW201831431A (en) | Rare earth oxyfluoride sintered body and method for producing same | |
| JP2020173089A (en) | Ceramic tray, and heat treatment method and heat treatment device using the same | |
| JP2021054677A (en) | Ceramic structure | |
| TWI706930B (en) | Ceramic article | |
| TWI772910B (en) | Plasma processing device member and plasma processing device having the same | |
| WO2018131600A1 (en) | Mounting member for heat treatment | |
| JP2021054676A (en) | Ceramic structure | |
| KR20230054794A (en) | ceramics spheres | |
| JP7431642B2 (en) | Ceramic tray, heat treatment method using the same, and heat treatment equipment | |
| JP2020173088A (en) | Ceramic tray, and heat treatment method and heat treatment device using the same | |
| JP2021155250A (en) | Ceramic structure and member for liquid crystal panel manufacturing apparatus or member for semiconductor manufacturing apparatus | |
| JP6374207B2 (en) | Silicon nitride-based sintered body and impact wear-resistant member comprising the same | |
| WO2023243542A1 (en) | Sintered body | |
| WO2009104740A1 (en) | Sputtering targets with adjusted proportion of pinholes and manufacturing method thereof | |
| TWI687390B (en) | Meteorite (Grossite) ceramics, kiln utensils using the same, and method of manufacturing meteorite | |
| KR101907038B1 (en) | Alumina-based ceramics and method for the preparation thereof | |
| JP2007033438A (en) | Guide part for probe card, and probe card |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211210 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20220727 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221221 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230620 |