JP2021048247A - パッケージ基材、パッケージ、及びパッケージ基材の製造方法 - Google Patents

パッケージ基材、パッケージ、及びパッケージ基材の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】ガラス等の光透過性材料の用途を拡大することを可能としたパッケージ基材、パッケージ、及びパッケージ基材の製造方法を提供する。【解決手段】パッケージ基材11は、主面を有する基体12と、基体12の主面上に設けられた枠体13と、基体12と枠体13とを接合する基体接合部14とを備える。パッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された枠材Fを含む。パッケージ基材11の基体接合部14は、ガラスを含有する。【選択図】図2

Description

本発明は、パッケージ基材、パッケージ、及びパッケージ基材の製造方法に関する。
従来、特許文献1に開示されるように、ガラスセラミックスから構成されたパッケージ基材が知られている。
特開2014−236202号公報
本発明は、パッケージ基材にガラス等の光透過性材料を有効に利用することを見出すことでなされたものである。
本発明の目的は、ガラス等の光透過性材料の用途を拡大することを可能としたパッケージ基材、パッケージ、及びパッケージ基材の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するパッケージ基材は、主面を有する基体と、前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、前記枠体は、光透過性材料から構成された枠材を含み、前記基体接合部は、ガラスを含有する。
この構成によれば、パッケージ基材の枠体は、光透過性材料から構成された枠材の層構造を有するとともに、基体接合部にガラスを用いているため、ガラスの用途を拡大することが可能となる。
上記課題を解決するパッケージ基材は、主面を有する基体と、前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、前記枠体は、光透過性材料から構成された複数の枠材を含む複層構造と、前記複数の枠材の間で前記複数の枠材を接合する枠材接合部とを備え、前記基体接合部及び前記枠材接合部は、ガラスを含有する。
この構成によれば、パッケージ基材の枠体は、光透過性材料から構成された枠材の複層構造を有するとともに、基体接合部及び枠材接合部にガラスを用いているため、ガラスの用途を拡大することが可能となる。
上記パッケージ基材において、前記枠材の前記光透過性材料は、ガラスであってもよい。
上記パッケージ基材において、前記基体は、本体部を備え、前記基体の前記本体部は、ガラスから構成されてもよい。
上記パッケージ基材において、前記枠材の前記光透過性材料は、ガラスであり、前記基体は、本体部を備え、前記基体の前記本体部は、ガラスから構成され、前記基体の前記本体部、及び前記枠材の前記ガラスは、同じ種類のガラスから構成されてもよい。
上記パッケージ基材において、前記基体は、前記基体の前記本体部の表面の少なくとも一部に設けられた機能性膜をさらに備えてもよい。
上記パッケージ基材において、前記基体及び前記枠材の形状は、板状であり、前記基体及び前記枠材の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。
パッケージは、上記パッケージ基材と、前記枠体上に設けられた蓋体と、前記枠体と前記蓋体とを接合する蓋体接合部と、を備える。
上記パッケージにおいて、前記蓋体は、光透過性材料から構成され、前記蓋体接合部は、ガラスを含有することが好ましい。
上記パッケージにおいて、前記蓋体及び前記枠材の前記光透過性材料は、いずれもガラスであり、前記蓋体の前記ガラスは、前記枠材の前記ガラスと同じ種類のガラスから構成されてもよい。
上記パッケージにおいて、前記蓋体の形状は、板状であり、前記蓋体の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。
上記パッケージにおいて、前記枠体に囲まれる収容部に収容された部品を備えてもよい。
パッケージ基材の製造方法は、主面を有する基体と、前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、前記枠体は、光透過性材料から構成された枠材を含み、前記基体接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材の製造方法であって、前記基体と前記枠体との間に配置した接合材を加熱して前記基体接合部を形成する基体接合部形成工程を備える。
パッケージ基材の製造方法は、主面を有する基体と、前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、前記枠体は、光透過性材料から構成された複数の枠材を含む複層構造と、前記複数の枠材の間で前記複数の枠材を接合する枠材接合部とを備え、前記基体接合部及び前記枠材接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材の製造方法であって、前記基体と前記枠材との間に配置した接合材を加熱して前記基体接合部を形成する基体接合部形成工程と、前記複数の枠材の間に配置した接合材を加熱して前記枠材接合部を形成する枠材接合部形成工程と、を備える。
上記パッケージ基材の製造方法において、前記基体接合部形成工程をレーザー光の照射により行うことが好ましい。
上記パッケージ基材の製造方法において、前記基体接合部形成工程と前記枠材接合部形成工程とをレーザー光の照射により行うことが好ましい。
上記パッケージ基材の製造方法において、前記基体接合部形成工程の後に前記枠材接合部形成工程を行うこともできる。
上記パッケージ基材の製造方法において、前記基体接合部形成工程と前記枠材接合部形成工程とを同時に行うこともできる。
本発明によれば、ガラス等の光透過性材料の用途を拡大することが可能となる。
第1実施形態におけるパッケージを示す分解斜視図である。 パッケージを示す断面図である。 基体接合部形成工程を説明する断面図である。 パッケージ基材の製造方法及びパッケージの製造方法を示すフロー図である。 蓋体接合部形成工程を説明する断面図である。 第2実施形態におけるパッケージを示す断面図である。 枠材接合部形成工程を説明する断面図である。 パッケージ基体の製造方法を示すフロー図である。
(第1実施形態)
以下、パッケージ基材、パッケージ、パッケージ基材の製造方法、及びパッケージの製造方法の第1実施形態について図面を参照して説明する。
なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。
<パッケージ基材11>
図1及び図2に示すように、パッケージ基材11は、主面を有する基体12と、基体12の主面上に設けられた枠体13と、基体12と枠体13とを接合する基体接合部14とを備えている。本実施形態のパッケージ基材11の枠体13は、ガラスから構成された枠材Fにより形成されている。
<基体12>
基体12の本体部の材質としては、例えば、ガラス、ガラスセラミックス、セラミックス等が挙げられる。
ガラスとしては、例えば、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、ホウケイ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ホウリン酸塩系ガラス、無アルカリガラス、LAS系結晶化ガラス、ソーダ石灰ガラス、サファイアガラス、石英ガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。
ガラスセラミックスは、ガラスとセラミックスとを含有し、低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics)が例示される。セラミックスとしては、例えば、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、窒化アルミニウム、リン酸ジルコニウム系化合物、ジルコン、ジルコニア、酸化スズ、β−石英固溶体、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン等が挙げられる。セラミックスは、一種又は二種以上を用いることができる。
基体12は、ガラスから構成された本体部を備えることが好ましい。基体12は、本体部のみから構成されてもよいが、上記の材質から構成される本体部と、本体部上に設けられた機能性膜とを有していてもよい。機能性膜としては、例えば、導電膜、酸化被膜等が挙げられる。導電膜としては、例えば、ITO膜、FTO膜、ATO膜等の透明導電膜が挙げられる。例えば、基体12は、本体部であるガラス基板と、ガラス基板上に設けられた導電膜とを有していてもよい。機能性膜は、本体部の表面の少なくとも一部に形成されていてよく、例えば、板状の本体部の一方の主面、両主面、又は全表面に形成される。
また、基体12は、本体部と、本体部に設けられた配線とを有していてもよい。
基体12の形状は、板状以外の形状であってもよいが、本実施形態のように板状であることが好ましい。基体12における板状とは、平板状であってもよいし、例えば、部分的に窪んだ形状の等の凹凸部を有する板状であってもよい。基体12の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。
<枠材F>
枠材Fは、光透過性材料から構成される。光透過性材料としては、例えば、ガラスが挙げられる。枠材Fのガラスとしては、例えば、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、ホウケイ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ホウリン酸塩系ガラス、無アルカリガラス、LAS系結晶化ガラス、ソーダ石灰ガラス、サファイアガラス、石英ガラス等が挙げられる。
枠材Fの形状は、本実施形態のように板状であることが好ましい。枠材Fの厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。上述した基体12の厚さ寸法と、枠材Fの厚さ寸法は、同じであってもよいし、異なってもよい。なお、枠材Fは、板状以外の形状、例えば、厚肉の枠状や、筒状であってもよい。
上述した基体12の本体部、及び枠材Fは、同じ種類のガラスから構成されることが好ましい。なお、本書で言う同じ種類のガラスとは、ガラスを構成する主要成分のうち含有量の多い上位3成分が同じであるものを指す。
<基体接合部14>
パッケージ基材11の基体接合部14は、ガラスを含有している。基体接合部14のガラスとしては、例えば、ケイ酸塩系ガラス、酸化ビスマス系ガラス、リン酸塩系ガラス、酸化鉛系ガラス、酸化テルル系ガラス、酸化バナジウム系ガラス等が挙げられる。
ガラスを含有する基体接合部14は、ガラス粉末を含有する接合材から得ることができる。接合材は、フィラーを含むことが好ましい。フィラーとしては、例えば、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、窒化アルミニウム、リン酸ジルコニウム系化合物、ジルコン、ジルコニア、酸化スズ、β−石英固溶体、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン等が挙げられる。フィラーは、一種又は二種以上を用いることができる。
ガラス粉末のメジアン径(D50)は、2μm未満であることが好ましい。ガラス粉末の99%径(D99)は、15μm未満であることが好ましい。フィラーのメジアン径(D50)は、2μm未満であることが好ましい。フィラーの99%径(D99)は、15μm未満であることが好ましい。
接合材は、ガラス粉末、フィラー、バインダー、溶剤等を混合したペーストを用いて作製することができる。具体的には、ペーストをスクリーン印刷法等の印刷法やディスペンサー等の塗布方法によって、例えば、枠体13に塗布する。このように枠体13等に形成したペーストの塗布膜を接合材としてもよいが、ペーストをさらに熱処理することで、枠体13上に焼結させた焼成膜を接合材とすることが好ましい。なお、接合材は、枠体13に設けずに基体12に設けることもできる。本実施形態において、基体12と枠体13との間に設けられた接合材、すなわち基体接合部14の形状は枠状である。
接合材の厚さは、1μm以上、1000μm以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは2μm以上、100μm以下の範囲内であり、さらに好ましくは3μm以上、10μmの範囲内である。接合材の幅は、例えば、1μm以上、10000μm以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは10μm以上、5000μm以下の範囲内であり、さらに好ましくは50μm以上、1000μm以下の範囲内である。
<パッケージ15>
図1及び図2に示すように、第1実施形態のパッケージ15は、パッケージ基材11と、パッケージ基材11の枠体13上に設けられた蓋体16と、枠体13と蓋体16とを接合する蓋体接合部17とを備えている。パッケージ15は、枠体13に囲まれる収容部に収容された部品18を備えている。
<パッケージ15の蓋体16>
パッケージ15における蓋体16の材質としては、例えば、ガラス、ガラスセラミックス、セラミックス、サファイアガラス、石英ガラス等が挙げられる。蓋体16の材質の具体例としては、上記基体12の本体部の材質、及び枠体13の材質として例示したものを挙げることができる。蓋体16は、ガラスから構成されることが好ましい。パッケージ15の蓋体16、及びパッケージ基材11の枠材Fは、同じ種類のガラスから構成されることが好ましい。
蓋体16の形状は、板状以外の形状であってもよいが、本実施形態のように板状であることが好ましい。板状とは、平板状であってもよいし、例えば、部分的に窪んだ形状の等の凹凸部を有する板状であってもよい。また、蓋体接合部17には、例えば、部品18との配線を通す用途等のために、幅方向又は厚さ方向に貫通する孔が1個又は複数個設けられていてもよい。同様に、基体12、基体接合部14、及び枠材Fの部材から選ばれる少なくとも一種にも、部品18との配線を通す用途等のための貫通孔が設けられていてもよい。
蓋体16の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。
<パッケージ15の蓋体接合部17>
パッケージ15の蓋体接合部17は、ガラスを含有することが好ましい。ガラスを含有する蓋体接合部17は、上述した基体接合部14の接合材と同様の接合材から形成することができる。
<パッケージ15の部品18>
パッケージ15の部品18としては、例えば、レーザーモジュール、LED光源、光センサ、撮像素子、光スイッチ等の光学デバイス、液晶表示部、有機EL表示部等の表示部、太陽電池セル、振動センサ、加速度センサ、電極等が挙げられる。パッケージ15の用途の具体例としては、有機ELディスプレイ、有機EL照明装置等の有機ELデバイス、色素増感型太陽電池、ペロブスカイト型太陽電池、有機薄膜太陽電池、CIGS系薄膜化合物太陽電池等の太陽電池、MEMSパッケージ等のセンサパッケージ、深紫外線等の光を照射するLEDパッケージ等が挙げられる。
<パッケージ基材11及びパッケージ15の製造方法>
図3及び図4に示すように、パッケージ基材11の製造方法は、基体12と枠体13との間に配置した接合材を加熱して基体接合部14を形成する基体接合部形成工程(ステップS11)を備えている。パッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程では、まず、基体12と枠体13との間に接合材Mを配置した第1積層体19を準備する。このとき、基体12及び枠体13に対して接合材Mが密着するように、治具等を用いて第1積層体19を保持することが好ましい。
本実施形態におけるステップS11の基体接合部形成工程は、例えば、レーザー光LBの照射により行われる。すなわち、ステップS11の基体接合部形成工程では、枠体13(枠材F)を透過させたレーザー光LBを用いて接合材Mを加熱することで、接合材Mから基体接合部14を形成する。
なお、本実施形態の基体12には、部品18が搭載されているが、部品18が未搭載の基体12を用いてステップS11の基体接合部形成工程を行った後、部品18を搭載する工程を行ってもよい。
図4及び図5に示すように、パッケージ15の製造方法は、パッケージ基材11と蓋体16との間に配置した接合材Mを加熱して蓋体接合部17を形成する蓋体接合部形成工程(ステップ12)を備えている。パッケージ15の製造方法において、ステップS12の蓋体接合部形成工程では、まず、パッケージ基材11と蓋体16との間に接合材Mを配置した第2積層体20を準備する。このとき、パッケージ基材11及び蓋体16に対して接合材Mが密着するように、治具等を用いて第2積層体20を保持することが好ましい。
本実施形態におけるステップS12の蓋体接合部形成工程は、例えば、レーザー光LBの照射により行われる。すなわち、ステップS12の蓋体接合部形成工程では、蓋体16を透過させたレーザー光LBを用いて接合材Mを加熱することで、接合材Mから蓋体接合部17を形成する。
上述したステップS11の基体接合部形成工程、及びステップS12の蓋体接合部形成工程で用いるレーザー光LBの波長は、接合材Mを加熱することができる波長であれば特に限定されない。レーザー光LBの波長は、例えば、600〜1600nmの範囲内であることが好ましい。レーザー光LBを出射する光源としては、例えば、半導体レーザーを用いることが好ましい。
次に、第1実施形態の作用及び効果について説明する。
(1−1)パッケージ基材11は、主面を有する基体12と、基体12の主面上に設けられた枠体13と、基体12と枠体13とを接合する基体接合部14とを備えている。パッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された枠材Fを含んでいる。パッケージ基材11の基体接合部14は、ガラスを含有している。
この構成によれば、パッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された枠材Fの層構造を有するとともに、基体接合部14にガラスを用いているため、ガラス等の光透過性材料の用途を拡大することが可能となる。
(1−2)パッケージ基材11において、基体12の本体部は、ガラスから構成されることが好ましい。この場合、例えば、材料の入手が容易となる。さらに、パッケージ基材11において、基体12の本体部、及び枠材Fは、同じ種類のガラスから構成されることが好ましい。この場合、例えば、材料の入手がさらに容易となる。
(1−3)パッケージ基材11において、基体12及び枠材Fの形状は、板状であり、基体12及び枠材Fの厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内であることが好ましい。
この場合、基体12の厚さ寸法、及び枠材Fの厚さ寸法が1.0mm以下の場合、熱的な耐衝撃性を高めることができる。基体12の厚さ寸法、及び枠材Fの厚さ寸法が0.05mm以上の場合、機械的な耐衝撃性を高めることができる。
(1−4)パッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程をレーザー光LBの照射により行うことが好ましい。この場合、例えば、比較的短時間で接合材Mから基体接合部14を形成することができる。従って、パッケージ基材11の製造効率を高めることが容易となる。
(1−5)パッケージ15の製造方法において、ステップS12の蓋体接合部形成工程をレーザー光LBの照射により行うことが好ましい。この場合、接合材Mを局所的に加熱することができるため、部品18の耐熱性が低い場合であっても、部品18の性能劣化を回避することができる。
(第2実施形態)
パッケージ基材、パッケージ、パッケージ基材の製造方法、及びパッケージの製造方法の第2実施形態について第1実施形態と異なる点を中心に説明する。
<パッケージ基材11>
図6に示すように、第2実施形態におけるパッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された複数の枠材Fを含む複層構造と、複数の枠材Fの間で複数の枠材Fを接合する枠材接合部21とを備えている。ここでは、第1の枠材F1及び第2の枠材F2からなる2つの枠材Fを備えたパッケージ基材11について説明するが、枠材Fの数は、複数であればよく、3つ以上に変更することができる。パッケージ基材11における枠材接合部21は、ガラスを含有している。パッケージ基材11の枠材接合部21は、第1実施形態で説明した基体接合部14の接合材Mと同様の接合材Mから形成することができる。
第2実施形態において、第2の枠材F2の形状、寸法、材質は、第1の枠材F1と同じである。すなわち、複数の枠材Fとしては、各々同一の形状、寸法、材質から成る枠材を用いることができる。複数の枠材Fは、少なくとも厚み方向に視た場合の枠形状が互いに同一であることが好ましい。
<パッケージ基材11の製造方法及びパッケージ15の製造方法>
図7及び図8に示すように、パッケージ基材11の製造方法は、基体12と第1の枠材F1との間に配置した接合材Mを加熱して基体接合部14を形成する基体接合部形成工程(ステップS11)と、第1の枠材F1と第2の枠材F2との間に配置した接合材Mを加熱して枠材接合部21を形成する枠材接合部形成工程(ステップS21)とを備える。
ステップS11の基体接合部形成工程は、第1実施形態と同様に行うことができる。ステップS21の枠材接合部形成工程は、第1の枠材F1と第2の枠材F2との間に接合材Mを配置した第3積層体22を準備する。このとき、第1の枠材F1及び第2の枠材F2に対して接合材Mが密着するように、治具等を用いて第3積層体22を保持することが好ましい。
本実施形態におけるステップS21の枠材接合部形成工程は、例えば、ステップS11の基体接合部形成工程と同様にレーザー光LBの照射により行われる。すなわち、ステップS21の枠材接合部形成工程では、第2の枠材F2を透過させたレーザー光LBを用いて接合材Mを加熱することで、接合材Mから枠材接合部21を形成する。
なお、パッケージ15は、本実施形態のパッケージ基材11を用いる以外は第1実施形態と同様に、ステップS12の蓋体接合部形成工程により得ることができる。
次に、第2実施形態の作用及び効果について説明する。
(2−1)パッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された複数の枠材Fを含む複層構造と、複数の枠材Fの間で複数の枠材Fを接合する枠材接合部21とを備えている。パッケージ基材11の基体接合部14及び枠材接合部21は、ガラスを含有している。
この構成によれば、パッケージ基材11の枠体13は、光透過性材料から構成された枠材Fの複層構造を有するとともに、基体接合部14及び枠材接合部21にガラスを用いているため、ガラス等の光透過性材料の用途を拡大することが可能となる。
また、例えば、パッケージ基材11の枠材Fの1つ当たりの厚さ寸法をより小さくすることで、枠体13の熱的な耐衝撃性を高めることができる。また、例えば、枠材Fの数の増減によって枠体13全体の厚さ寸法を調整することができる。
(2−2)パッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程と、ステップS21の枠材接合部形成工程とをレーザー光LBの照射により行うことが好ましい。この場合、例えば、比較的短時間で接合材Mから基体接合部14及び枠材接合部21を形成することができる。従って、パッケージ基材11の製造効率を高めることが容易となる。
(2−3)パッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程の後に、ステップS21の枠材接合部形成工程を行っている。
この場合、例えば、第1の枠材F1側からレーザー光LBを接合材Mに照射することで、ステップS11の基体接合部形成工程を行った後、第2の枠材F2側からレーザー光LBを接合材Mに照射することで、ステップS21の枠材接合部形成工程を行うことができる。
従って、例えば、ステップS11の基体接合部形成工程及びステップS21の枠材接合部形成工程の両工程で用いるレーザー光LBの光源を共通化することが可能となるため、パッケージ基材11の製造装置の複雑化を回避することができる。
また、ステップS11の基体接合部形成工程とステップS21の枠材接合部形成工程との両工程を独立して順次行うことで、例えば、基体接合部14及び枠材接合部21の品位をより高めることが可能となる。
(変更例)
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・ステップS11の基体接合部形成工程、ステップS12の蓋体接合部形成工程、及びステップS21の枠材接合部形成工程は、レーザー光LBを用いて接合材Mを加熱する工程に限定されず、例えば、レーザー光LB以外の熱線を用いて加熱する工程であってもよい。
・ステップS11の基体接合部形成工程では、枠材F側から接合材Mにレーザー光LBを照射しているが、基体12の本体部をガラスから構成した場合、基体12側から接合材Mにレーザー光LBを照射することで、ステップS11の基体接合部形成工程を行うこともできる。
・第2実施形態のパッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程とステップS21の枠材接合部形成工程とを同時に行うこともできる。具体的には、例えば、基体12と第1の枠材F1との間、及び第1の枠材F1と第2の枠材F2との間の両位置に接合材Mを配置した積層体を準備し、両位置の接合材Mに同時にレーザー光LBを照射することで、基体接合部14と枠材接合部21とを同時に形成する。レーザー光LBは、第2の枠材F2側のみから照射してもよいし、基体12側のみから照射してもよい。レーザー光LBの焦点を上記両位置の接合材Mに合わせることで、効率的に接合材Mを加熱するという観点から、ステップS11の基体接合部形成工程では、基体12側から接合材Mにレーザー光LBを照射し、ステップS21の枠体接合部形成工程では、第2の枠材F2側から接合材Mにレーザー光LBを照射することが好ましい。
・第2実施形態のパッケージ基材11は、用途等に応じて、複数の枠材Fのうち一部の枠材Fについて他の枠材Fとは形状、寸法、あるいは材質を変更してもよい。例えば、一部の枠材Fの厚みを他の枠材Fより大きくしてもよい。この場合、パッケージ基材11を構成するために必要となる枠材Fの積層数及び枠材接合部21の数を減らすことができ、パッケージ基材11の剛性を高めることができる。また、例えば、部品18が凹凸のある側面形状を有している場合、パッケージ基材11の内面が部品18形状に沿うように各枠材Fの枠内寸法を変更してもよい。この場合、パッケージ基材11内部空間を必要最小限に構成し、不要な空気の封入等を抑制できる。また、複数の枠材Fを、例えば、異種ガラスで構成してもよい。また、ガラスから構成された枠材Fと、ガラス以外の材料から構成された枠材とを組み合わせてもよい。ガラス以外の材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、ステンレス合金等の金属が挙げられる。
・基体接合部14、枠材接合部21、及び蓋体接合部17の形状は、平面視で連続した枠状であってもよいし、不連続の枠状であってもよい。基体接合部14、枠材接合部21、及び蓋体接合部17の形状は、枠体13で囲まれる収容部を気密にする形状に限定されず、それぞれ接合できる形状であればよい。
・パッケージ基材11の枠体13は、例えば、配線等を備えていてもよい。
・パッケージ15は、枠体13と蓋体16とを蓋体接合部17により接合した蓋体16付き枠体13を得た後、その蓋体16付き枠体13と基体12とを基体接合部14により接合することで、製造することもできる。
・パッケージ基材11の製造方法において、ステップS11の基体接合部形成工程では、接合材Mを設けた枠材Fを基体12上に配置することで、基体12と枠材Fとの間に接合材Mを配置しているが、これに限定されない。すなわち、接合材Mを設けた基体12を準備し、その接合材M上に枠材Fを配置することで、基体12と枠材Fとの間に接合材Mを配置することもできる。
・パッケージ基材11の製造方法において、ステップS21の枠材接合部形成工程では、接合材Mを設けた第2の枠材F2を第1の枠材F1上に配置することで、第1の枠材F1と第2の枠材F2との間に接合材Mを配置しているが、これに限定されない。すなわち、接合材Mを設けた第1の枠材F1を準備し、その接合材M上に第2の枠材F2を配置することで、第1の枠材F1と第2の枠材F2との間に接合材Mを配置することもできる。
・パッケージ15の製造方法において、ステップS12の蓋体接合部形成工程では、接合材Mを設けた蓋体16をパッケージ基材11上に配置することで、パッケージ基材11と蓋体16との間に接合材Mを配置しているが、これに限定されない。すなわち、接合材Mを設けた枠体13を準備し、その接合材M上に蓋体16を配置することで、枠体13と蓋体16との間に接合材Mを配置することもできる。
<試験例>
次に、パッケージの試験例を説明する。
(試験例1)
試験例1では、図2に示すパッケージを作製した。基体、枠材、及び蓋体としては、アルカリホウケイ酸ガラスの板材を用いた。基体、枠材、及び蓋体の外形寸法は、縦40mm、横40mm、厚さ0.5mmである。枠材の枠内の寸法は、縦25mm、横25mmである。
接合材のペーストは、ガラスを含有するペーストであり、このペーストは、封着材料、及びビークルを混錬した後、三本ロールミルで封着材料粉末が均一に分散するまで混錬することで得た。
封着材料は、ガラス粉末を74体積%、フィラーの粉末を26体積%の割合で混合することで作製した。ガラス粉末は、酸化ビスマス系ガラスの粉末であり、この粉末のメジアン径(D50)は、1.0μμmであり、99%径(D99)は、3.0μmである。なお、酸化ビスマス系ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi:82%、B+ZnO:13%、MnO+Al+CuO+Fe:5%を含有する。フィラーの粉末は、β−ユークリプタイトの粉末であり、この粉末のメジアン径(D50)は、1.0μmであり、99%径(D99)は、3.0μmである。封着材料の熱膨張係数は、70×10−7/℃であった。熱膨張係数は、押棒式TMA装置を用いて、測定温度範囲を30〜300℃の条件で測定した。
ビークルとしては、グリコールエーテル系溶剤にエチルセルロース樹脂を溶解させたものを使用した。
得られた接合材のペーストを枠材及び蓋体のそれぞれにスクリーン印刷機を用いて塗布し、乾燥及び焼成することで、接合材付き枠材及び接合材付き蓋体を得た。
次に、接合材付き枠材を接合材が基体側となるように重ね合わせることで第1積層体を準備した。続いて、基体接合部形成工程を行った後に、枠材上に接合材付き蓋体を接合材が枠材側となるように重ね合わせることで第2積層体を準備した。続いて、蓋体接合部形成工程を行うことで、試験例1のパッケージを得た。なお、基体接合部形成工程及び蓋体接合部形成工程では、半導体レーザー装置を用いて、波長808nm、2〜10Wのレーザー光を接合材に照射した。基体接合部形成工程では、枠材側からレーザー光を照射し、蓋体接合部形成工程では、蓋体側からレーザー光を照射した。
(試験例2)
試験例2では、図6に示すように複数の枠材を含む複層構造の枠体を備えたパッケージを作製した。試験例2のパッケージにおける枠材の数は、4つであり、基体、枠材、蓋体、及び接合材は、試験例1と同じものを用いた。試験例2では、試験例1の基体接合部形成工程と同じレーザー光を用いて枠材接合部形成工程を3回繰り返すことで、4つの枠材を含む枠体を形成した。
(試験例3)
試験例3では、基体として、縦40mm、横40mm、厚さ1.0mmのガラスセラミックス基板を用いた以外は、試験例2と同様に4つの枠材を含む枠体を備えたパッケージを作製した。
(外観検査)
上記のように得られた試験例1〜3の各パッケージにおける各接合部を光学顕微鏡で観察し、各接合部におけるクラック及び剥離の有無を確認した。各試験例のパッケージは、各接合部におけるクラック及び剥離が確認されず、外観が良好であった。
(気密信頼性の評価)
試験例1〜3のパッケージの気密信頼性を以下の方法で評価した。
まず、試験例1〜3の各パッケージを85℃、85%RHの恒温恒湿環境下に1000時間放置した後、各接合部を光学顕微鏡で観察し、各接合部におけるクラック及び剥離の有無を確認した。その結果、各試験例のパッケージでは、接合部におけるクラック及び剥離が確認されず、気密信頼性が良好であった。
11…パッケージ基材、12…基体、13…枠体、14…基体接合部、15…パッケージ、16…蓋体、17…蓋体接合部、18…部品、21…枠材接合部、F…枠材、F1…第1の枠材、F2…第2の枠材、LB…レーザー光、M…接合材。

Claims (18)

  1. 主面を有する基体と、
    前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、
    前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、
    前記枠体は、光透過性材料から構成された枠材を含み、
    前記基体接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材。
  2. 主面を有する基体と、
    前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、
    前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、
    前記枠体は、光透過性材料から構成された複数の枠材を含む複層構造と、前記複数の枠材の間で前記複数の枠材を接合する枠材接合部とを備え、
    前記基体接合部及び前記枠材接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材。
  3. 前記枠体の前記光透過性材料は、ガラスである、請求項1又は請求項2に記載のパッケージ基材。
  4. 前記基体は、本体部を備え、
    前記基体の前記本体部は、ガラスから構成される、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のパッケージ基材。
  5. 前記枠材の前記光透過性材料は、ガラスであり、
    前記基体は、本体部を備え、前記基体の前記本体部は、ガラスから構成され、
    前記基体の前記本体部、及び前記枠材の前記ガラスは、同じ種類のガラスから構成される、請求項1又は請求項2に記載のパッケージ基材。
  6. 前記基体は、前記基体の前記本体部の表面の少なくとも一部に設けられた機能性膜をさらに備える、請求項4又は請求項5に記載のパッケージ基材。
  7. 前記基体及び前記枠材の形状は、板状であり、前記基体及び前記枠材の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内である、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のパッケージ基材。
  8. 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のパッケージ基材と、
    前記枠体上に設けられた蓋体と、
    前記枠体と前記蓋体とを接合する蓋体接合部と、を備える、パッケージ。
  9. 前記蓋体は、光透過性材料から構成され、
    前記蓋体接合部は、ガラスを含有する、請求項8に記載のパッケージ。
  10. 前記蓋体及び前記枠材の前記光透過性材料は、いずれもガラスであり、前記蓋体の前記ガラスは、前記枠材の前記ガラスと同じ種類のガラスから構成される、請求項9に記載のパッケージ。
  11. 前記蓋体の形状は、板状であり、前記蓋体の厚さ寸法は、0.05mm以上、1.0mm以下の範囲内である、請求項8から請求項10のいずれか一項に記載のパッケージ。
  12. 前記枠体に囲まれる収容部に収容された部品を備える、請求項8から請求項11のいずれか一項に記載のパッケージ。
  13. 主面を有する基体と、
    前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、
    前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、
    前記枠体は、光透過性材料から構成された枠材を含み、
    前記基体接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材の製造方法であって、
    前記基体と前記枠体との間に配置した接合材を加熱して前記基体接合部を形成する基体接合部形成工程を備える、パッケージ基材の製造方法。
  14. 主面を有する基体と、
    前記基体の前記主面上に設けられた枠体と、
    前記基体と前記枠体とを接合する基体接合部と、を備え、
    前記枠体は、光透過性材料から構成された複数の枠材を含む複層構造と、前記複数の枠材の間で前記複数の枠材を接合する枠材接合部とを備え、
    前記基体接合部及び前記枠材接合部は、ガラスを含有する、パッケージ基材の製造方法であって、
    前記基体と前記枠材との間に配置した接合材を加熱して前記基体接合部を形成する基体接合部形成工程と、
    前記複数の枠材の間に配置した接合材を加熱して前記枠材接合部を形成する枠材接合部形成工程と、を備える、パッケージ基材の製造方法。
  15. 前記基体接合部形成工程をレーザー光の照射により行う、請求項14に記載のパッケージ基材の製造方法。
  16. 前記枠材接合部形成工程とをレーザー光の照射により行う、請求項14に記載のパッケージ基材の製造方法。
  17. 前記基体接合部形成工程の後に前記枠材接合部形成工程を行う、請求項14に記載のパッケージ基材の製造方法。
  18. 前記基体接合部形成工程と前記枠材接合部形成工程とを同時に行う、請求項14に記載のパッケージ基材の製造方法。
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