JP2021030363A

JP2021030363A - Processing waste liquid treatment apparatus

Info

Publication number: JP2021030363A
Application number: JP2019152630A
Authority: JP
Inventors: 宏之柏木; Hiroyuki Kashiwagi
Original assignee: Disco Abrasive Systems Ltd
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2019-08-23
Filing date: 2019-08-23
Publication date: 2021-03-01
Anticipated expiration: 2039-08-23
Also published as: JP7446668B2

Abstract

To provide a processing waste liquid treatment apparatus which can reduce a frequency of reproduction processing of an ion exchange resin.SOLUTION: A processing waste liquid treatment apparatus that is connected to a processing device for processing a workpiece and treats a processing waste liquid discharged from the processing device includes: a waste liquid storage tank for storing a processing waste liquid; waste liquid filtration means for filtering the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank; a first flow channel for supplying the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtration means to the processing device; ion exchange means for removing the ions from the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtration means and reproducing pure water; and a second flow channel for supplying the pure water produced by the ion exchange means to the processing device.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、加工装置から排出された加工廃液を処理する加工廃液処理装置に関する。 The present invention relates to a processing waste liquid treatment apparatus that treats a processing waste liquid discharged from the processing apparatus.

デバイスチップの製造工程では、格子状に配列された複数の分割予定ライン（ストリート）によって区画された複数の領域の表面側にそれぞれＩＣ（Integrated Circuit）、ＬＳＩ（Large Scale Integration）等のデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハを分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。ウェーハの分割には、環状の切削ブレードでウェーハを切削する切削装置等が用いられる。 In the device chip manufacturing process, devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed on the surface side of a plurality of regions partitioned by a plurality of scheduled division lines (streets) arranged in a grid pattern. Wafers are used. By dividing this wafer along the planned division line, a plurality of device chips each including a device can be obtained. To divide the wafer, a cutting device or the like that cuts the wafer with an annular cutting blade is used.

また、近年では、電子機器の小型化、薄型化に伴い、デバイスチップにも薄型化が求められている。そこで、ウェーハの分割前にウェーハの裏面側を研削することによって、ウェーハを薄化する工程が実施される。ウェーハの研削加工には、複数の研削砥石が固定された研削ホイールでウェーハを研削する研削装置等が用いられる。 Further, in recent years, as electronic devices have become smaller and thinner, device chips are also required to be thinner. Therefore, a step of thinning the wafer is performed by grinding the back surface side of the wafer before dividing the wafer. For the grinding process of the wafer, a grinding device or the like for grinding the wafer with a grinding wheel to which a plurality of grinding wheels are fixed is used.

上記の切削装置、研削装置等の加工装置によってウェーハを加工する際には、ウェーハに加工液が供給される。この加工液によって、ウェーハと加工工具（切削ブレード、研削ホイール等）とが冷却されるとともに、加工によって発生した屑（加工屑）が洗い流される。また、ウェーハの加工後には、ウェーハに洗浄液を供給してウェーハを洗浄する洗浄工程が実施される。加工液及び洗浄液としては、主に純水が用いられる。そして、加工装置で使用された純水は、加工廃液として加工装置の外部に排出され、処分される。 When a wafer is processed by a processing device such as the above-mentioned cutting device or grinding device, a processing liquid is supplied to the wafer. The processing liquid cools the wafer and the processing tool (cutting blade, grinding wheel, etc.), and at the same time, the waste (processing waste) generated by the processing is washed away. Further, after processing the wafer, a cleaning step of supplying a cleaning liquid to the wafer to clean the wafer is performed. Pure water is mainly used as the processing liquid and the cleaning liquid. Then, the pure water used in the processing apparatus is discharged to the outside of the processing apparatus as a processing waste liquid and disposed of.

加工装置でウェーハを加工及び洗浄する際には、多量の純水が使用される。そのため、加工装置で使用された純水を全て加工廃液として処分してしまうと、コストが増大する。そこで、加工装置から排出された加工廃液を再利用する方法が提案されている。例えば特許文献１には、加工装置から排出された加工廃液をイオン交換樹脂によって精製することにより、純水を生成する加工廃液処理装置が開示されている。 A large amount of pure water is used when processing and cleaning a wafer with a processing apparatus. Therefore, if all the pure water used in the processing apparatus is disposed of as processing waste liquid, the cost increases. Therefore, a method of reusing the processing waste liquid discharged from the processing apparatus has been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a processing waste liquid treatment apparatus that produces pure water by purifying the processing waste liquid discharged from the processing apparatus with an ion exchange resin.

特開２００９−１９０１２８号公報JP-A-2009-190128

イオン交換によって純水を生成する方式としては、混床塔方式と多床塔方式とが知られている。混床塔方式では、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とが混合された状態で充填されたイオン交換塔（ボンベ）を備える加工廃液処理装置が用いられる。一方、多床塔方式では、カチオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔と、アニオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔とが直列に接続された加工廃液処理装置が用いられる。 As a method of generating pure water by ion exchange, a mixed bed tower method and a multi-bed tower method are known. In the mixed bed tower system, a processing waste liquid treatment device equipped with an ion exchange tower (cylinder) filled with a cation exchange resin and an anion exchange resin in a mixed state is used. On the other hand, in the multi-bed tower system, a processing waste liquid treatment device in which an ion exchange tower filled with a cation exchange resin and an ion exchange tower filled with an anion exchange resin are connected in series is used.

加工廃液処理装置の使用を継続すると、イオン交換樹脂のイオン交換能力が徐々に低下し、生成される純水の純度が低下する。そのため、加工廃液処理装置を一定期間使用した後には、イオン交換樹脂を再生し、イオン交換樹脂のイオン交換能力を回復させる処理が行われる。イオン交換樹脂の再生処理は、使用済みのイオン交換塔を加工廃液処理装置から取り外し、このイオン交換塔に薬液を供給することによって行われる。 When the use of the processing waste liquid treatment apparatus is continued, the ion exchange capacity of the ion exchange resin gradually decreases, and the purity of the pure water produced decreases. Therefore, after using the processing waste liquid treatment apparatus for a certain period of time, a process of regenerating the ion exchange resin and recovering the ion exchange ability of the ion exchange resin is performed. The regeneration treatment of the ion exchange resin is performed by removing the used ion exchange tower from the processing waste liquid treatment apparatus and supplying a chemical solution to the ion exchange tower.

イオン交換樹脂の再生処理を行っている間は、予備のイオン交換塔が純水の生成に用いられる。よって、加工廃液処理装置から使用済みのイオン交換塔が取り外された後、加工廃液処理装置に予備のイオン交換塔が装着される。しかしながら、イオン交換塔の交換作業中は、加工廃液処理装置によって純水が生成されず、加工装置への純水の供給も停止される。そのため、イオン交換樹脂の再生処理を行う際には、加工装置の稼働を一時的に停止して加工を中断する必要があり、これによって加工効率が低下する。この純水の生成の停止による加工効率の低下は、イオン交換樹脂の再生処理の頻度が高いほど顕著になる。 During the regeneration process of the ion exchange resin, a spare ion exchange tower is used to generate pure water. Therefore, after the used ion exchange tower is removed from the processing waste liquid treatment apparatus, a spare ion exchange tower is attached to the processing waste liquid treatment apparatus. However, during the replacement work of the ion exchange tower, pure water is not generated by the processing waste liquid treatment device, and the supply of pure water to the processing device is also stopped. Therefore, when the ion exchange resin is regenerated, it is necessary to temporarily stop the operation of the processing apparatus to interrupt the processing, which lowers the processing efficiency. The decrease in processing efficiency due to the suspension of pure water production becomes more remarkable as the frequency of the ion exchange resin regeneration treatment increases.

また、イオン交換樹脂に再生処理が行われると、イオン交換樹脂の体積が減少する。そのため、イオン交換樹脂の再生時には、必要に応じて新たなイオン交換樹脂が補充され、加工廃液が適切に精製されるようにイオン交換樹脂の量が維持される。しかしながら、イオン交換樹脂の再生処理の頻度が高いと、イオン交換樹脂の体積の減少量が大きくなり、イオン交換樹脂の補充量も増大する。これにより、純水の生成コストが増大する。 Further, when the ion exchange resin is regenerated, the volume of the ion exchange resin is reduced. Therefore, when the ion exchange resin is regenerated, a new ion exchange resin is replenished as needed, and the amount of the ion exchange resin is maintained so that the processing waste liquid is appropriately purified. However, when the frequency of the ion exchange resin regeneration treatment is high, the amount of decrease in the volume of the ion exchange resin increases, and the amount of replenishment of the ion exchange resin also increases. This increases the cost of producing pure water.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、イオン交換樹脂の再生処理の頻度を低減することが可能な加工廃液処理装置の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a processing waste liquid treatment apparatus capable of reducing the frequency of regeneration treatment of an ion exchange resin.

本発明の一態様によれば、被加工物を加工する加工装置に接続され、該加工装置から排出された加工廃液を処理する加工廃液処理装置であって、該加工廃液を貯留する廃液貯留タンクと、該廃液貯留タンクから供給された該加工廃液を濾過する廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって濾過された該加工廃液を該加工装置に供給するための第１流路と、該廃液濾過手段によって濾過された該加工廃液からイオンを除去して純水を生成するイオン交換手段と、該イオン交換手段によって生成された該純水を該加工装置に供給するための第２流路と、を備える加工廃液処理装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, it is a processing waste liquid treatment apparatus connected to a processing apparatus for processing a workpiece and treating the processing waste liquid discharged from the processing apparatus, and is a waste liquid storage tank for storing the processing waste liquid. A waste liquid filtration means for filtering the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank, a first flow path for supplying the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means to the processing apparatus, and the waste liquid filtration. An ion exchange means for removing ions from the processing waste liquid filtered by the means to generate pure water, and a second flow path for supplying the pure water generated by the ion exchange means to the processing apparatus. A processing waste liquid treatment apparatus comprising the above is provided.

なお、好ましくは、該廃液濾過手段によって濾過された該加工廃液は、該被加工物の加工に用いられる加工液として、該第１流路を介して該加工装置に供給され、該イオン交換手段によって生成された該純水は、該被加工物の洗浄に用いられる洗浄液として、該第２流路を介して該加工装置に供給される。また、好ましくは、該イオン交換手段は、該加工廃液からイオンをイオン交換樹脂によって除去して該純水を生成するとともに、該イオン交換樹脂を電気透析によって再生する。また、好ましくは、該加工廃液処理装置は、該廃液貯留タンクから供給された該加工廃液の温度を調節する温度調節手段を更に備える。 Preferably, the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means is supplied to the processing apparatus via the first flow path as a processing liquid used for processing the workpiece, and the ion exchange means. The pure water produced by is supplied to the processing apparatus via the second flow path as a cleaning liquid used for cleaning the work piece. Further, preferably, the ion exchange means removes ions from the processing waste liquid with an ion exchange resin to generate the pure water, and regenerates the ion exchange resin by electrodialysis. Further, preferably, the processing waste liquid treatment device further includes a temperature adjusting means for adjusting the temperature of the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank.

本発明の一態様に係る加工廃液処理装置は、廃液濾過手段によって濾過された加工廃液を加工装置に供給するための第１流路と、廃液濾過手段によって濾過された加工廃液からイオンを除去して純水を生成するイオン交換手段と、イオン交換手段によって生成された純水を加工装置に供給するための第２流路と、を備える。 The processing waste liquid treatment apparatus according to one aspect of the present invention removes ions from the first flow path for supplying the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means to the processing apparatus and the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means. It is provided with an ion exchange means for generating pure water and a second flow path for supplying the pure water generated by the ion exchange means to the processing apparatus.

上記の加工廃液処理装置では、廃液濾過手段によって濾過された加工廃液の一部を、イオン交換手段によって精製せずに加工装置に供給できる。これにより、イオン交換手段によって精製される加工廃液の量が低減される。その結果、イオン交換樹脂のイオン交換能力の低下が抑制され、イオン交換樹脂の再生処理の頻度が低減される。 In the above-mentioned processing waste liquid treatment apparatus, a part of the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means can be supplied to the processing apparatus without being purified by the ion exchange means. As a result, the amount of processing waste liquid purified by the ion exchange means is reduced. As a result, the decrease in the ion exchange capacity of the ion exchange resin is suppressed, and the frequency of the regeneration treatment of the ion exchange resin is reduced.

加工廃液処理装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the processing waste liquid processing apparatus. イオン交換手段の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the ion exchange means.

以下、添付図面を参照して本発明の一態様に係る実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る加工廃液処理装置の構成例について説明する。図１は、加工廃液処理装置２を示す模式図である。加工廃液処理装置２は、純水を用いて被加工物を加工する加工装置（不図示）に接続されている。そして、加工廃液処理装置２は、加工装置から排出された廃液を精製して純水を生成し、その純水を加工装置に供給する。 Hereinafter, embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of the processing waste liquid treatment apparatus according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a schematic view showing a processing waste liquid treatment device 2. The processing waste liquid treatment device 2 is connected to a processing device (not shown) that processes a work piece using pure water. Then, the processing waste liquid treatment apparatus 2 purifies the waste liquid discharged from the processing apparatus to generate pure water, and supplies the pure water to the processing apparatus.

加工廃液処理装置２が接続される加工装置の種類に制限はない。加工装置の例としては、環状の切削ブレードで被加工物を切削する加工ユニット（切削ユニット）を備える切削装置、複数の研削砥石が固定された研削ホイールで被加工物を研削する加工ユニット（研削ユニット）を備える研削装置、研磨パッドで被加工物を研磨する加工ユニット（研磨ユニット）を備える研磨装置等が挙げられる。 There is no limitation on the type of processing apparatus to which the processing waste liquid treatment apparatus 2 is connected. Examples of processing equipment include a cutting equipment equipped with a processing unit (cutting unit) that cuts the work piece with an annular cutting blade, and a processing unit (grinding) that grinds the work piece with a grinding wheel to which a plurality of grinding wheels are fixed. Examples thereof include a grinding device provided with a unit), a polishing device provided with a processing unit (polishing unit) for polishing a workpiece with a polishing pad, and the like.

例えば、格子状に配列された複数の分割予定ライン（ストリート）によって区画された複数の領域の表面側にそれぞれＩＣ（Integrated Circuit）、ＬＳＩ（Large Scale Integration）等のデバイスが形成されたシリコンウェーハが、加工装置によって加工される。シリコンウェーハを研削装置及び研磨装置によって薄化した後、切削装置によって分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。 For example, a silicon wafer in which devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed on the surface side of a plurality of regions partitioned by a plurality of scheduled division lines (streets) arranged in a grid pattern. , Processed by processing equipment. After thinning a silicon wafer with a grinding device and a polishing device, the silicon wafer is divided along a planned division line by a cutting device to manufacture a plurality of device chips each including a device.

なお、被加工物の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば被加工物は、シリコン以外の半導体（ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＧａＮ、ＳｉＣ等）、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなるウェーハであってもよい。また、被加工物に形成されるデバイスの種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物にはデバイスが形成されていなくてもよい。また、被加工物は、ＣＳＰ（Chip Size Package）基板、ＱＦＮ（Quad Flat Non-leaded package）基板等のパッケージ基板であってもよい。 There are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the work piece. For example, the workpiece may be a wafer made of a material other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), ceramics, resin, metal, or the like. Further, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of the device formed on the workpiece, and the device may not be formed on the workpiece. Further, the workpiece may be a package substrate such as a CSP (Chip Size Package) substrate or a QFN (Quad Flat Non-leaded package) substrate.

加工装置では、被加工物の加工時に加工ユニット及び被加工物に供給される加工液や、加工後の被加工物を洗浄するための洗浄液が用いられる。この加工液や洗浄液としては、純水等が用いられる。そして、使用済みの加工液及び洗浄液は、加工廃液として加工装置から排出される。 In the processing apparatus, a processing liquid supplied to the processing unit and the work piece at the time of processing the work piece, and a cleaning liquid for cleaning the work piece after processing are used. Pure water or the like is used as the processing liquid or cleaning liquid. Then, the used processing liquid and cleaning liquid are discharged from the processing apparatus as processing waste liquid.

加工廃液処理装置２は、加工装置から排出された加工廃液を貯留する廃液貯留タンク４を備える。廃液貯留タンク４は、配管、チューブ等の流路を介して加工装置に接続されており、加工装置から排出された加工廃液はこの流路を伝って廃液貯留タンク４に供給され、貯留される。なお、加工装置から廃液貯留タンク４に供給される加工廃液には、加工装置によって被加工物を加工した際に生じた屑（加工屑）等の異物や、不純物イオンが含まれている。 The processing waste liquid treatment device 2 includes a waste liquid storage tank 4 for storing the processing waste liquid discharged from the processing device. The waste liquid storage tank 4 is connected to the processing apparatus via a flow path such as a pipe or a tube, and the processing waste liquid discharged from the processing apparatus is supplied to the waste liquid storage tank 4 through this flow path and stored. .. The processing waste liquid supplied from the processing apparatus to the waste liquid storage tank 4 contains foreign matter such as waste (processing waste) generated when the workpiece is processed by the processing apparatus and impurity ions.

廃液貯留タンク４は、廃液供給ポンプ６を介して温度調節手段（温度調節ユニット）８に接続されている。廃液供給ポンプ６は、廃液貯留タンク４に貯留された加工廃液を温度調節手段８に供給するポンプである。この廃液供給ポンプ６によって、廃液貯留タンク４から温度調節手段８に供給される加工廃液の量が制御される。 The waste liquid storage tank 4 is connected to the temperature control means (temperature control unit) 8 via the waste liquid supply pump 6. The waste liquid supply pump 6 is a pump that supplies the processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank 4 to the temperature control means 8. The waste liquid supply pump 6 controls the amount of processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank 4 to the temperature control means 8.

温度調節手段８は、温度調節器等によって構成され、廃液貯留タンク４から供給された加工廃液の温度を調整する。温度調節手段８によって温度が調節された加工廃液は、温度調節手段８に接続された廃液濾過手段（廃液濾過ユニット）１０に供給される。 The temperature controlling means 8 is composed of a temperature controller or the like, and adjusts the temperature of the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank 4. The processing waste liquid whose temperature has been adjusted by the temperature control means 8 is supplied to the waste liquid filtration means (waste liquid filtration unit) 10 connected to the temperature control means 8.

廃液濾過手段１０は、廃液貯留タンク４から温度調節手段８を介して供給された加工廃液を濾過して精製する。具体的には、廃液濾過手段１０は加工廃液を濾過するためのフィルターを備える濾過器によって構成される。廃液濾過手段１０のフィルターとしては、例えば逆浸透膜（ＲＯ膜）が用いられる。このフィルターを加工廃液が通過すると、加工廃液に含まれる異物がフィルターによって捕獲される。これにより、廃液濾過手段１０によって濾過、精製された加工廃液（清水）２０が得られる。 The waste liquid filtration means 10 filters and purifies the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank 4 via the temperature control means 8. Specifically, the waste liquid filtering means 10 is composed of a filter provided with a filter for filtering the processed waste liquid. As the filter of the waste liquid filtering means 10, for example, a reverse osmosis membrane (RO membrane) is used. When the processing waste liquid passes through this filter, foreign matter contained in the processing waste liquid is captured by the filter. As a result, the processed waste liquid (fresh water) 20 filtered and purified by the waste liquid filtering means 10 can be obtained.

廃液濾過手段１０は、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０を精製して純水を生成するイオン交換手段（イオン交換ユニット）１２に接続されている。イオン交換手段１２はイオン交換樹脂を備えており、イオン交換によって加工廃液２０からイオンを除去する。具体的には、イオン交換手段１２は、イオン交換樹脂が収容されたイオン交換塔（ボンベ）によって構成できる。 The waste liquid filtering means 10 is connected to an ion exchange means (ion exchange unit) 12 that purifies the processed waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 to generate pure water. The ion exchange means 12 includes an ion exchange resin, and removes ions from the processing waste liquid 20 by ion exchange. Specifically, the ion exchange means 12 can be configured by an ion exchange tower (cylinder) containing an ion exchange resin.

例えば、イオン交換手段１２として、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とが混合された状態で充填されたイオン交換塔によって構成される、混床式イオン交換手段（混床式イオン交換ユニット）を用いることができる。また、イオン交換手段１２として、カチオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔と、アニオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔とが直列に接続された、多床式イオン交換手段（多床式イオン交換ユニット）を用いることもできる。 For example, as the ion exchange means 12, a mixed bed type ion exchange means (mixed bed type ion exchange unit) composed of an ion exchange tower filled with a cation exchange resin and an anion exchange resin in a mixed state is used. Can be done. Further, as the ion exchange means 12, a multi-bed ion exchange means (multi-bed ion exchange) in which an ion exchange tower filled with a cation exchange resin and an ion exchange tower filled with an anion exchange resin are connected in series. Unit) can also be used.

廃液濾過手段１０からイオン交換手段１２に加工廃液２０が供給されると、加工廃液２０は、イオン交換手段１２が備えるイオン交換塔に充填されたイオン交換樹脂の隙間を通過する。このとき、加工廃液２０に含まれるイオンが、イオン交換樹脂によって除去される。これにより、加工廃液２０が精製され、純水２２が生成される。この純水２２は、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０よりも純度が高い。 When the processing waste liquid 20 is supplied from the waste liquid filtering means 10 to the ion exchange means 12, the processing waste liquid 20 passes through the gaps of the ion exchange resin filled in the ion exchange tower included in the ion exchange means 12. At this time, the ions contained in the processing waste liquid 20 are removed by the ion exchange resin. As a result, the processing waste liquid 20 is purified and pure water 22 is produced. The pure water 22 has a higher purity than the processed waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10.

なお、イオン交換手段１２による加工廃液２０の精製を継続すると、イオン交換手段１２が備えるイオン交換樹脂のイオン交換能力が徐々に低下し、イオン交換手段１２によって生成される純水２２の純度が低下する。そのため、イオン交換手段１２は、一定期間使用された後に、予備のイオン交換手段と交換される。このイオン交換手段１２の交換作業中は、加工廃液処理装置２による純水２２の生成が一時的に停止される。 When the purification of the processing waste liquid 20 by the ion exchange means 12 is continued, the ion exchange ability of the ion exchange resin provided in the ion exchange means 12 gradually decreases, and the purity of the pure water 22 produced by the ion exchange means 12 decreases. To do. Therefore, the ion exchange means 12 is replaced with a spare ion exchange means after being used for a certain period of time. During the replacement work of the ion exchange means 12, the production of pure water 22 by the processing waste liquid treatment device 2 is temporarily stopped.

そして、加工廃液処理装置２から取り外されたイオン交換手段１２が備える使用済みのイオン交換樹脂に対して、再生処理が施される。具体的には、イオン交換樹脂を収容するイオン交換塔に薬液が注入され、イオン交換樹脂が再生される。例えば、カチオン交換樹脂を再生する際は薬液として塩酸等が用いられ、アニオン交換樹脂を再生する際は薬液として水酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。 Then, the used ion exchange resin provided in the ion exchange means 12 removed from the processing waste liquid treatment device 2 is subjected to a regeneration treatment. Specifically, the chemical solution is injected into the ion exchange tower that houses the ion exchange resin, and the ion exchange resin is regenerated. For example, when regenerating a cation exchange resin, hydrochloric acid or the like is used as a chemical solution, and when regenerating an anion exchange resin, an aqueous sodium hydroxide solution or the like is used as a chemical solution.

また、廃液濾過手段１０には、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０が供給される流路（流水路）１４が接続されている。流路１４の一端側は廃液濾過手段１０に接続され、流路１４の他端側は加工廃液を排出した加工装置に接続されている。また、イオン交換手段１２には、イオン交換手段１２によって生成された純水２２が供給される流路（流水路）１６が接続されている。流路１６の一端側はイオン交換手段１２に接続され、流路１６の他端側は加工廃液を排出した加工装置に接続されている。 Further, the waste liquid filtering means 10 is connected to a flow path (flow channel) 14 to which the processed waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 is supplied. One end side of the flow path 14 is connected to the waste liquid filtration means 10, and the other end side of the flow path 14 is connected to a processing device that discharges the processing waste liquid. Further, the ion exchange means 12 is connected to a flow path (flow channel) 16 to which the pure water 22 generated by the ion exchange means 12 is supplied. One end side of the flow path 16 is connected to the ion exchange means 12, and the other end side of the flow path 16 is connected to a processing device that discharges processing waste liquid.

加工廃液処理装置２から加工装置には、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０が流路１４を介して供給されるとともに、イオン交換手段１２によって生成された純水２２が流路１６を介して供給される。なお、流路１４，１６はそれぞれ、例えば金属製の配管や樹脂製のチューブによって構成される。ただし、流路１４，１６の構造や材質に制限はない。 The processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 is supplied from the processing waste liquid treatment device 2 to the processing device via the flow path 14, and the pure water 22 generated by the ion exchange means 12 passes through the flow path 16. Supplied through. The flow paths 14 and 16 are each composed of, for example, a metal pipe or a resin tube. However, there are no restrictions on the structure and material of the flow paths 14 and 16.

ここで、加工装置によって被加工物に施される各種の処理には、被加工物等に液体が供給される処理が含まれる。そして、この液体が供給される処理には、純水の使用が好ましい処理と、純水よりも純度の低い液体を用いても支障がない処理とが含まれる。 Here, the various treatments applied to the work piece by the processing apparatus include a treatment in which a liquid is supplied to the work piece or the like. The treatment to which this liquid is supplied includes a treatment in which pure water is preferably used and a treatment in which a liquid having a purity lower than that of pure water can be used without any problem.

例えば、加工後の被加工物を洗浄する洗浄工程では、被加工物に洗浄液が供給される。この洗浄液に不純物イオンが含まれていると、不純物イオンが洗浄後の被加工物に付着した状態で残存する。その後、被加工物に乾燥処理が施されると、不純物イオンが被加工物に強固に固着して除去が困難な残痕（ウォーターマーク）となり、被加工物の品質低下、被加工物に形成されたデバイスの動作不良等の不都合が生じることがある。そのため、洗浄液としては、イオンが除去された純水が用いられることが好ましい。 For example, in a cleaning process for cleaning a work piece after processing, a cleaning liquid is supplied to the work piece. If the cleaning liquid contains impurity ions, the impurity ions remain attached to the work piece after cleaning. After that, when the work piece is dried, impurity ions firmly adhere to the work piece and become a watermark that is difficult to remove, resulting in deterioration of the quality of the work piece and formation on the work piece. Inconveniences such as malfunction of the device may occur. Therefore, it is preferable to use pure water from which ions have been removed as the cleaning liquid.

一方、例えば被加工物の加工中には、被加工物及び加工ユニットに加工液が供給される。そして、加工液の供給によって、ウェーハと加工ユニットとが冷却されるとともに、加工によって発生した屑（加工屑）が洗い流される。 On the other hand, for example, during processing of a work piece, a processing liquid is supplied to the work piece and the processing unit. Then, the wafer and the processing unit are cooled by the supply of the processing liquid, and the waste (processing waste) generated by the processing is washed away.

この加工液は被加工物の加工中に継続して供給され、被加工物は濡れた状態に維持される。そのため、加工液に不純物イオンが含有されており、この不純物イオンが被加工物に付着しても、ウォーターマークが残存することはない。また、加工後の被加工物に不純物イオンが付着していても、その後に実施される上記の洗浄工程において、不純物イオンが純水によって洗い流される。そのため、加工液には純水よりも純度の低い液体（不純物イオンが多く含まれる液体）を用いることができる。 This working fluid is continuously supplied during the machining of the work piece, and the work piece is kept wet. Therefore, the processing liquid contains impurity ions, and even if the impurity ions adhere to the work piece, the watermark does not remain. Further, even if impurity ions are attached to the work piece after processing, the impurity ions are washed away by pure water in the above-mentioned cleaning step performed thereafter. Therefore, a liquid having a purity lower than that of pure water (a liquid containing a large amount of impurity ions) can be used as the processing liquid.

そこで、加工廃液処理装置２は、純度の異なる２種類の液体、すなわち濾過された加工廃液（清水）２０と純水２２とを生成して、加工装置に供給する。そして、加工装置では、純度の高い液体が必要な処理に純水２２が用いられ、純水２２よりも純度の低い液体によって実施可能な処理に濾過された加工廃液２０が用いられる。例えば、濾過された加工廃液２０は、被加工物の加工に用いられる加工液として、流路１４を介して加工装置に供給される。また、純水２２は、被加工物の洗浄に用いられる洗浄液として、流路１６介して加工装置に供給される。 Therefore, the processing waste liquid treatment apparatus 2 generates two kinds of liquids having different purity, that is, the filtered processing waste liquid (fresh water) 20 and the pure water 22, and supplies them to the processing apparatus. Then, in the processing apparatus, pure water 22 is used for the treatment requiring a liquid having high purity, and the processing waste liquid 20 filtered by the liquid having a purity lower than that of pure water 22 is used. For example, the filtered processing waste liquid 20 is supplied to the processing apparatus via the flow path 14 as a processing liquid used for processing the workpiece. Further, the pure water 22 is supplied to the processing apparatus via the flow path 16 as a cleaning liquid used for cleaning the workpiece.

加工廃液処理装置２から加工装置に加工廃液２０と純水２２とが供給される場合、廃液貯留タンク４に貯留された加工廃液の一部のみがイオン交換手段１２によって精製される。そのため、廃液貯留タンク４に貯留された加工廃液の全てがイオン交換手段１２によって精製される場合と比較して、イオン交換手段１２が備えるイオン交換樹脂によってイオンが除去される加工廃液２０の量が低減される。これにより、イオン交換樹脂のイオン交換能力の低下が抑制される。 When the processing waste liquid 20 and the pure water 22 are supplied from the processing waste liquid treatment device 2 to the processing device, only a part of the processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank 4 is purified by the ion exchange means 12. Therefore, the amount of the processing waste liquid 20 in which the ions are removed by the ion exchange resin included in the ion exchange means 12 is larger than that in the case where all the processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank 4 is purified by the ion exchange means 12. It will be reduced. As a result, a decrease in the ion exchange capacity of the ion exchange resin is suppressed.

イオン交換樹脂のイオン交換能力の低下が抑制されると、イオン交換樹脂の再生処理を実施する頻度が低減される。これにより、イオン交換手段１２の交換作業の頻度が低減され、交換作業によって純水２２の生成が停止される期間が短縮される。また、再生処理によるイオン交換樹脂の体積の減少が抑制され、イオン交換樹脂の補充コストが低減される。 When the decrease in the ion exchange capacity of the ion exchange resin is suppressed, the frequency of carrying out the regeneration treatment of the ion exchange resin is reduced. As a result, the frequency of the replacement work of the ion exchange means 12 is reduced, and the period during which the production of pure water 22 is stopped by the replacement work is shortened. Further, the decrease in the volume of the ion exchange resin due to the regeneration treatment is suppressed, and the replenishment cost of the ion exchange resin is reduced.

なお、上記では、イオン交換樹脂が収容されたイオン交換塔（ボンベ）によってイオン交換手段１２が構成される例について説明した。ただし、イオン交換手段１２は、イオン交換によって加工廃液２０の精製が可能であれば、その構成に制限はない。例えば、イオン交換手段１２として、電気的な作用、具体的には電気透析によってイオン交換樹脂からイオンを除去してイオン交換樹脂を再生する、電気再生式イオン交換手段（電気再生式イオン交換ユニット）であってもよい。 In the above description, an example in which the ion exchange means 12 is configured by an ion exchange tower (cylinder) containing an ion exchange resin has been described. However, the structure of the ion exchange means 12 is not limited as long as the processing waste liquid 20 can be purified by ion exchange. For example, as the ion exchange means 12, an electroregenerative ion exchange means (electroregenerative ion exchange unit) that regenerates an ion exchange resin by removing ions from the ion exchange resin by electrical action, specifically, electrodialysis. It may be.

図２は、イオン交換手段１２の変形例を示す断面図である。図２に示すイオン交換手段１２は、所定の電圧が印加される板状の陽極３０及び陰極３２を備える。陽極３０と陰極３２との間には、イオン交換樹脂３６が収容される複数の脱塩室（精製室）３４が設けられている。この脱塩室３４は、陰極３２側に設けられたカチオン膜３８と、陽極３０側に設けられたアニオン膜４０とによって画定されている。すなわち、脱塩室３４はカチオン膜３８とアニオン膜４０とによって挟まれた領域に相当する。なお、カチオン膜３８は、カチオンを通過させアニオンの通過を阻止するイオン交換膜であり、アニオン膜４０は、アニオンを通過させカチオンの通過を阻止するイオン交換膜である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing a modified example of the ion exchange means 12. The ion exchange means 12 shown in FIG. 2 includes a plate-shaped anode 30 and a cathode 32 to which a predetermined voltage is applied. A plurality of desalting chambers (purification chambers) 34 in which the ion exchange resin 36 is housed are provided between the anode 30 and the cathode 32. The desalting chamber 34 is defined by a cation film 38 provided on the cathode 32 side and an anion film 40 provided on the anode 30 side. That is, the desalting chamber 34 corresponds to a region sandwiched between the cation membrane 38 and the anion membrane 40. The cation membrane 38 is an ion exchange membrane that allows cations to pass through and blocks the passage of anions, and the anion membrane 40 is an ion exchange membrane that allows anions to pass through and blocks the passage of cations.

脱塩室３４には、カチオンを交換するイオン交換樹脂３６（カチオン交換樹脂）と、アニオンを交換するイオン交換樹脂３６（アニオン交換樹脂）とが混合された状態で充填されている。イオン交換樹脂３６が充填された脱塩室３４、カチオン膜３８、アニオン膜４０によって、セル４２が構成される。なお、図２には２組のセル４２が設けられた構成例を示しているが、セル４２の数に制限はない。 The desalting chamber 34 is filled with an ion exchange resin 36 (cation exchange resin) that exchanges cations and an ion exchange resin 36 (anion exchange resin) that exchanges anions in a mixed state. The cell 42 is composed of a desalting chamber 34 filled with an ion exchange resin 36, a cation film 38, and an anion film 40. Although FIG. 2 shows a configuration example in which two sets of cells 42 are provided, the number of cells 42 is not limited.

陽極３０と陽極３０に隣接するセル４２との間には、カチオン膜４４が設けられている。また、陰極３２と陰極３２に隣接するセル４２との間には、アニオン膜４６が設けられている。カチオン膜４４は、カチオンを通過させアニオンの通過を阻止するイオン交換膜であり、アニオン膜４６は、アニオンを通過させカチオンの通過を阻止するイオン交換膜である。 A cation film 44 is provided between the anode 30 and the cell 42 adjacent to the anode 30. Further, an anion film 46 is provided between the cathode 32 and the cell 42 adjacent to the cathode 32. The cation membrane 44 is an ion exchange membrane that allows cations to pass through and blocks the passage of anions, and the anion membrane 46 is an ion exchange membrane that allows anions to pass through and blocks the passage of cations.

互いに隣接するカチオン膜３８，４４とアニオン膜４０，４６との間にはそれぞれ、濃縮室４８が形成されている。この濃縮室４８は、カチオン膜３８，４４とアニオン膜４０，４６とによって挟まれた領域に相当する。また、陽極３０とカチオン膜４４との間、及び、陰極３２とアニオン膜４６との間にはそれぞれ、電極室５０が形成されている。 Concentration chambers 48 are formed between the cation films 38 and 44 adjacent to each other and the anion films 40 and 46, respectively. The concentration chamber 48 corresponds to a region sandwiched between the cation films 38 and 44 and the anion films 40 and 46. Further, an electrode chamber 50 is formed between the anode 30 and the cation film 44 and between the cathode 32 and the anion film 46, respectively.

脱塩室３４の一端側（図２では上側）には、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０が供給される。そして、加工廃液２０は、イオン交換樹脂３６の隙間を通過しながら、脱塩室３４の一端側から他端側（図２では下側）に向かって流れる。このとき、加工廃液２０に含まれるイオンがイオン交換樹脂３６によって除去される。 The processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 is supplied to one end side (upper side in FIG. 2) of the desalting chamber 34. Then, the processing waste liquid 20 flows from one end side to the other end side (lower side in FIG. 2) of the desalting chamber 34 while passing through the gap of the ion exchange resin 36. At this time, the ions contained in the processing waste liquid 20 are removed by the ion exchange resin 36.

具体的には、加工廃液２０に含まれるカチオン５２がカチオン交換樹脂によって捕獲されるとともに、加工廃液２０に含まれるアニオン５４がアニオン交換樹脂によって捕獲される。これにより、加工廃液２０が精製され、純水２２が生成される。生成された純水２２は、脱塩室３４の他端側から流出する。この純水２２が、図１に示す流路１６に供給される。 Specifically, the cation 52 contained in the processing waste liquid 20 is captured by the cation exchange resin, and the anion 54 contained in the processing waste liquid 20 is captured by the anion exchange resin. As a result, the processing waste liquid 20 is purified and pure water 22 is produced. The generated pure water 22 flows out from the other end side of the desalination chamber 34. The pure water 22 is supplied to the flow path 16 shown in FIG.

なお、加工廃液処理装置２の使用を継続すると、イオン交換樹脂３６のイオン交換能力が徐々に低下し、イオン交換手段１２によって生成される純水２２の純度が低下する。そのため、イオン交換樹脂３６を再生させる処理を行うことによって、イオン交換樹脂３６のイオン交換能力が維持される。加工廃液処理装置２では、電気的な作用、具体的には電気透析によって、イオン交換樹脂３６が再生される。 If the processing waste liquid treatment device 2 is continuously used, the ion exchange capacity of the ion exchange resin 36 gradually decreases, and the purity of the pure water 22 produced by the ion exchange means 12 decreases. Therefore, the ion exchange capacity of the ion exchange resin 36 is maintained by performing the process of regenerating the ion exchange resin 36. In the processing waste liquid treatment apparatus 2, the ion exchange resin 36 is regenerated by an electric action, specifically, electrodialysis.

イオン交換樹脂３６の再生を行う際は、図２に示すように、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０の一部が濃縮室４８の一端側（図２では上側）に供給される。そして、加工廃液２０は濃縮室４８の一端側から他端側（図２では下側）に向かって流れる。また、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０の一部が、電極室５０の一端側（図２では上側）に供給される。そして、加工廃液２０は電極室５０の一端側から他端側（図２では下側）に向かって流れる。 When the ion exchange resin 36 is regenerated, as shown in FIG. 2, a part of the processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 is supplied to one end side (upper side in FIG. 2) of the concentration chamber 48. Then, the processing waste liquid 20 flows from one end side to the other end side (lower side in FIG. 2) of the concentration chamber 48. Further, a part of the processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 is supplied to one end side (upper side in FIG. 2) of the electrode chamber 50. Then, the processing waste liquid 20 flows from one end side to the other end side (lower side in FIG. 2) of the electrode chamber 50.

この状態で、陽極３０及び陰極３２にそれぞれ所定の電圧を印加し、陽極３０と陰極３２との間に電位差を生じさせる。その結果、イオン交換樹脂３６に捕獲されたカチオン５２が、カチオン膜３８を通過して陰極３２側に移動する。このカチオン５２はアニオン膜４０，４６を通過せず、濃縮室４８に蓄積される。同様に、イオン交換樹脂３６に捕獲されたアニオン５４が、アニオン膜４０を通過して陽極３０側に移動し、濃縮室４８に蓄積される。これにより、イオン交換樹脂３６に捕獲されたイオンが離脱し、イオン交換樹脂３６が再生される。 In this state, predetermined voltages are applied to the anode 30 and the cathode 32, respectively, to generate a potential difference between the anode 30 and the cathode 32. As a result, the cation 52 captured by the ion exchange resin 36 passes through the cation membrane 38 and moves to the cathode 32 side. The cation 52 does not pass through the anion membranes 40 and 46 and is accumulated in the concentration chamber 48. Similarly, the anion 54 captured by the ion exchange resin 36 passes through the anion film 40, moves to the anode 30 side, and is accumulated in the concentration chamber 48. As a result, the ions captured by the ion exchange resin 36 are released, and the ion exchange resin 36 is regenerated.

上記のように、図２に示すイオン交換手段１２では、陽極３０及び陰極３２に電圧を印加することにより、イオン交換手段１２を加工廃液処理装置２から取り外すことなくイオン交換樹脂３６の再生を実施できる。そのため、イオン交換樹脂３６の再生処理時、イオン交換手段１２の交換作業によって純水２２の生成が中断されることがなく、加工装置への純水２２の供給を継続できる。 As described above, in the ion exchange means 12 shown in FIG. 2, by applying a voltage to the anode 30 and the cathode 32, the ion exchange resin 36 is regenerated without removing the ion exchange means 12 from the processing waste liquid treatment device 2. it can. Therefore, during the regeneration process of the ion exchange resin 36, the generation of pure water 22 is not interrupted by the replacement work of the ion exchange means 12, and the supply of pure water 22 to the processing apparatus can be continued.

また、図２に示すイオン交換手段１２は、加工廃液２０の精製中にもイオン交換樹脂３６を再生できる。すなわち、イオン交換手段１２を用いると、純水２２の生成とイオン交換樹脂３６の再生とを同時進行で実施できる。なお、イオン交換樹脂３６の再生期間は自由に設定できる。例えば、イオン交換樹脂３６の再生は、純水２２が生成されている間、常時実施されてもよいし、所定の間隔で断続的に実施されてもよい。 Further, the ion exchange means 12 shown in FIG. 2 can regenerate the ion exchange resin 36 even during the purification of the processing waste liquid 20. That is, when the ion exchange means 12 is used, the generation of pure water 22 and the regeneration of the ion exchange resin 36 can be carried out simultaneously. The regeneration period of the ion exchange resin 36 can be freely set. For example, the regeneration of the ion exchange resin 36 may be carried out constantly while the pure water 22 is being produced, or may be carried out intermittently at predetermined intervals.

イオン交換樹脂３６の再生を実施すると、脱塩室３４を流れる加工廃液２０から取り出されたイオン（イオン交換樹脂３６に捕獲されたイオン）が濃縮室４８に放出され、濃縮室４８内でイオンが濃縮された濃縮水２４が生成される。また、電極室５０内では、電極室５０を流れる加工廃液２０が電気分解され、電解水２６が生成される。この濃縮水２４及び電解水２６は、例えば加工廃液処理装置２に設けられた排出路を介して、加工廃液処理装置２の外部に排出される。 When the ion exchange resin 36 is regenerated, the ions (ions captured in the ion exchange resin 36) taken out from the processing waste liquid 20 flowing through the desalting chamber 34 are released into the concentration chamber 48, and the ions are generated in the concentration chamber 48. Concentrated water 24 is produced. Further, in the electrode chamber 50, the processing waste liquid 20 flowing through the electrode chamber 50 is electrolyzed to generate electrolyzed water 26. The concentrated water 24 and the electrolyzed water 26 are discharged to the outside of the processing waste liquid treatment device 2 through, for example, a discharge path provided in the processing waste liquid treatment device 2.

以上の通り、本実施形態に係る加工廃液処理装置２は、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０を加工装置に供給するための流路１４と、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０からイオンを除去して純水２２を生成するイオン交換手段１２と、イオン交換手段１２によって生成された純水２２を加工装置に供給するための流路１６と、を備える。 As described above, the processing waste liquid treatment device 2 according to the present embodiment has a flow path 14 for supplying the processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 to the processing device, and the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means 10. The ion exchange means 12 for removing ions from 20 to generate pure water 22 and the flow path 16 for supplying the pure water 22 generated by the ion exchange means 12 to the processing apparatus are provided.

上記の加工廃液処理装置２では、廃液濾過手段１０によって濾過された加工廃液２０の一部を、イオン交換手段１２によって精製せずに加工装置に供給できる。これにより、イオン交換手段１２によって精製される加工廃液２０の量が低減される。その結果、イオン交換樹脂のイオン交換能力の低下が抑制され、イオン交換樹脂の再生処理の頻度が低減される。 In the above-mentioned processing waste liquid treatment apparatus 2, a part of the processing waste liquid 20 filtered by the waste liquid filtering means 10 can be supplied to the processing apparatus without being purified by the ion exchange means 12. As a result, the amount of the processing waste liquid 20 purified by the ion exchange means 12 is reduced. As a result, the decrease in the ion exchange capacity of the ion exchange resin is suppressed, and the frequency of the regeneration treatment of the ion exchange resin is reduced.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as the scope of the object of the present invention is not deviated.

２加工廃液処理装置
４廃液貯留タンク
６廃液供給ポンプ
８温度調節手段（温度調節ユニット）
１０廃液濾過手段（廃液濾過ユニット）
１２イオン交換手段（イオン交換ユニット）
１４，１６流路（流水路）
２０加工廃液（清水）
２２純水
２４濃縮水
２６電解水
３０陽極
３２陰極
３４脱塩室（精製室）
３６イオン交換樹脂
３８カチオン膜
４０アニオン膜
４２セル
４４カチオン膜
４６アニオン膜
４８濃縮室
５０電極室
５２カチオン
５４アニオン 2 Processing waste liquid treatment equipment 4 Waste liquid storage tank 6 Waste liquid supply pump 8 Temperature control means (temperature control unit)
10 Waste liquid filtration means (waste liquid filtration unit)
12 Ion exchange means (ion exchange unit)
14, 16 channels (flow channels)
20 Processing waste liquid (Shimizu)
22 Pure water 24 Concentrated water 26 Electrolyzed water 30 Anode 32 Cathode 34 Desalination chamber (refining chamber)
36 Ion exchange resin 38 cation membrane 40 anion membrane 42 cell 44 cation membrane 46 anion membrane 48 concentration chamber 50 electrode chamber 52 cation 54 anion

Claims

A processing waste liquid treatment device that is connected to a processing device that processes a work piece and processes the processing waste liquid discharged from the processing device.
A waste liquid storage tank for storing the processing waste liquid and
A waste liquid filtration means for filtering the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank, and
A first flow path for supplying the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means to the processing apparatus, and
An ion exchange means for removing ions from the processing waste liquid filtered by the waste liquid filtration means to generate pure water, and an ion exchange means.
A processing waste liquid treatment apparatus including a second flow path for supplying the pure water generated by the ion exchange means to the processing apparatus.

The processing waste liquid filtered by the waste liquid filtering means is supplied to the processing apparatus via the first flow path as a processing liquid used for processing the work piece.
The first aspect of the present invention, wherein the pure water generated by the ion exchange means is supplied to the processing apparatus via the second flow path as a cleaning liquid used for cleaning the workpiece. Processing waste liquid treatment equipment.

The processing according to claim 1 or 2, wherein the ion exchange means removes ions from the processing waste liquid with an ion exchange resin to generate the pure water, and regenerates the ion exchange resin by electrodialysis. Waste liquid treatment equipment.

The processing waste liquid treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a temperature controlling means for adjusting the temperature of the processing waste liquid supplied from the waste liquid storage tank.