JP2021018135A - Scintillator panel and radiation detector - Google Patents

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篤也 吉田
Atsuya Yoshida
篤也 吉田
槙子 柳田
Makiko Yanagida
槙子 柳田
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Abstract

To provide a scintillator panel capable of preventing a space between the scintillator panel and an array substrate from occurring, and a radiation detector.SOLUTION: The scintillator panel comprises: a tabular base part including at least one prepreg having a plurality of carbon fibers and capable of transmitting a radiation; a scintillator provided on one surface side of the base part; a reflection part provided between the base part and the scintillator; a protection part provided between the reflection part and the scintillator; and a relaxation part of the base part provided on the side opposite to the side having the reflection part. The reflection part provided on the scintillator side includes a reflective layer capable of reflecting fluorescence generated in the scintillator and a first resin layer provided on the base part side and including a resin. The relaxation part includes a second resin layer including a resin. The thickness of the base part is 0.4 mm or less. The total of the thicknesses of the first resin layer and the thicknesses of the second resin layer is larger than the thickness of the base part.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明の実施形態は、シンチレータパネル、および放射線検出器に関する。 Embodiments of the present invention relate to scintillator panels and radiation detectors.

入射した放射線(例えば、X線)を蛍光(可視光)に変換するシンチレータパネルがある。シンチレータパネルには、基板と、基板の一方の面に設けられた反射層と、反射層を覆う保護層と、保護層の上に設けられ、入射した放射線を蛍光に変換するシンチレータと、が設けられている。 There is a scintillator panel that converts incident radiation (eg, X-rays) into fluorescence (visible light). The scintillator panel is provided with a substrate, a reflective layer provided on one surface of the substrate, a protective layer covering the reflective layer, and a scintillator provided on the protective layer to convert incident radiation into fluorescence. Has been done.

この様なシンチレータパネルは、放射線検出器に用いることができる。例えば、放射線検出器には、シンチレータパネルと、複数の光電変換部を有するアレイ基板とを設けることができる。この場合、シンチレータパネルの蛍光が出射する側は、アレイ基板の、複数の光電変換部が設けられた領域の上に接合することができる。 Such a scintillator panel can be used for a radiation detector. For example, the radiation detector may be provided with a scintillator panel and an array substrate having a plurality of photoelectric conversion units. In this case, the side of the scintillator panel from which the fluorescence is emitted can be bonded onto the region of the array substrate where a plurality of photoelectric conversion units are provided.

ここで、光電変換部には、光電変換素子や薄膜トランジスタなどが設けられている。そのため、これらの素子の厚みのバラツキなどにより、複数の光電変換部が設けられた領域に段差が発生する場合がある。複数の光電変換部が設けられた領域に段差があると、シンチレータパネルをアレイ基板に接合する際に、部分的に隙間が生じる場合がある。この様な隙間は、感度斑の原因となる。
そのため、シンチレータパネルに可撓性を有する基板を設け、シンチレータパネルをアレイ基板に接合する際に、段差に応じてシンチレータパネルを変形させる技術が提案されている。
Here, the photoelectric conversion unit is provided with a photoelectric conversion element, a thin film transistor, or the like. Therefore, a step may occur in a region where a plurality of photoelectric conversion units are provided due to variations in the thickness of these elements. If there is a step in the region where the plurality of photoelectric conversion units are provided, a gap may be partially generated when the scintillator panel is joined to the array substrate. Such gaps cause sensitivity spots.
Therefore, a technique has been proposed in which a flexible substrate is provided on the scintillator panel, and the scintillator panel is deformed according to a step when the scintillator panel is joined to the array substrate.

ところが、基板の一方の面側にシンチレータを形成する際には基板が加熱される。そのため、可撓性を有する基板を用いると、基板の加熱と冷却に伴い、シンチレータパネルに反りや変形が生じ易くなる。この場合、シンチレータと基板との熱膨張率の差により反りなどが発生するのであれば、反りなどの形状は、単純な二次曲面となる。反りなどの形状が単純な二次曲面であれば、シンチレータパネルをアレイ基板に押し付けた際に略平面状に矯正することができるので、シンチレータパネルとアレイ基板との間に隙間が発生するのを抑制することができる。ところが、熱による材料収縮や熱変形により反りなどが発生する場合には、反りなどの形状は不規則な曲面となるので、シンチレータパネルをアレイ基板に押し付けた際に略平面状に矯正することが難しくなる。 However, when the scintillator is formed on one surface side of the substrate, the substrate is heated. Therefore, when a flexible substrate is used, the scintillator panel is likely to be warped or deformed as the substrate is heated and cooled. In this case, if warpage occurs due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the scintillator and the substrate, the shape of the warp or the like becomes a simple quadric surface. If the shape such as warpage is a simple quadric surface, it can be corrected to a substantially flat shape when the scintillator panel is pressed against the array substrate, so that a gap is generated between the scintillator panel and the array substrate. It can be suppressed. However, when warpage occurs due to material shrinkage or thermal deformation due to heat, the shape of the warp or the like becomes an irregular curved surface, so when the scintillator panel is pressed against the array substrate, it can be corrected to a substantially flat shape. It gets harder.

この場合、樹脂の中でも比較的剛性が高い、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、テフロン(登録商標)(PTFE)や、耐熱性が高いポリエーテルエーテルケトン類(PEEK)などを用いて基板を形成しても、前述した材料収縮や熱変形の問題を解決することは困難である。例えば、これらの樹脂から形成された基板の厚みを0.5mm程度としても、前述した材料収縮や熱変形を抑制することは困難である。 In this case, a substrate using polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), Teflon (registered trademark) (PTFE), which has relatively high rigidity among resins, or polyetheretherketone (PEEK), which has high heat resistance, is used. However, it is difficult to solve the above-mentioned problems of material shrinkage and thermal deformation. For example, even if the thickness of the substrate formed from these resins is about 0.5 mm, it is difficult to suppress the above-mentioned material shrinkage and thermal deformation.

すなわち、単に、剛性が高い基板とすれば、前述した段差による隙間が生じるおそれがある。一方、単に、可撓性を有する基板とすれば、シンチレータパネルを製造する際に生じた材料収縮や熱変形による隙間が生じるおそれがある。
そこで、シンチレータパネルとアレイ基板との間に隙間が生じるのを抑制することができる技術の開発が望まれていた。
That is, if the substrate is simply made of high rigidity, there is a possibility that a gap due to the above-mentioned step may occur. On the other hand, if the substrate is simply flexible, there is a possibility that a gap may occur due to material shrinkage or thermal deformation that occurs when the scintillator panel is manufactured.
Therefore, it has been desired to develop a technique capable of suppressing the formation of a gap between the scintillator panel and the array substrate.

特開2012−47487号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-47487

本発明が解決しようとする課題は、シンチレータパネルとアレイ基板との間に隙間が生じるのを抑制することができるシンチレータパネル、および放射線検出器を提供することである。 An object to be solved by the present invention is to provide a scintillator panel and a radiation detector capable of suppressing the formation of a gap between the scintillator panel and the array substrate.

実施形態に係るシンチレータパネルは、板状を呈し、複数の炭素繊維を有するプリプレグを少なくとも1つ有し、放射線を透過可能な基部と、前記基部の一方の面側に設けられたシンチレータと、前記基部と、前記シンチレータと、の間に設けられた反射部と、前記反射部と、前記シンチレータと、の間に設けられた保護部と、前記基部の、前記反射部が設けられた側とは反対側に設けられた緩和部と、を備えている。前記反射部は、前記シンチレータ側に設けられ、前記シンチレータにおいて発生した蛍光を反射可能な反射層と、前記基部側に設けられ、樹脂を含む第1の樹脂層と、を有している。前記緩和部は、樹脂を含む第2の樹脂層を有している。前記基部の厚みは、0.4mm以下である。前記第1の樹脂層の厚みと、前記第2の樹脂層の厚みとの合計は、前記基部の厚みよりも大きい。 The scintillator panel according to the embodiment has a plate-like shape, has at least one prepreg having a plurality of carbon fibers, has a base capable of transmitting radiation, a scintillator provided on one surface side of the base, and the scintillator. The reflective portion provided between the base portion and the scintillator, the protective portion provided between the reflective portion and the scintillator, and the side of the base portion provided with the reflective portion It is equipped with a relaxation section provided on the opposite side. The reflecting portion has a reflecting layer provided on the scintillator side and capable of reflecting the fluorescence generated in the scintillator, and a first resin layer provided on the base side and containing a resin. The relaxation portion has a second resin layer containing a resin. The thickness of the base is 0.4 mm or less. The sum of the thickness of the first resin layer and the thickness of the second resin layer is larger than the thickness of the base portion.

本実施の形態に係るシンチレータパネルおよびX線検出器を例示するための模式斜視図である。It is a schematic perspective view for exemplifying the scintillator panel and the X-ray detector which concerns on this embodiment. シンチレータパネルおよびX線検出器の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of a scintillator panel and an X-ray detector. シンチレータパネルの模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of a scintillator panel. 炭素繊維が伸びる方向と剛性との関係を例示するための模式斜視図である。It is a schematic perspective view for exemplifying the relationship between the direction in which carbon fibers extend and the rigidity. 基部の構成を例示するための模式分解図である。It is a schematic exploded view for exemplifying the structure of a base. (a)、(b)は、緩和部が設けられていない場合を例示するための模式図である。(A) and (b) are schematic views for exemplifying the case where the relaxation portion is not provided. シンチレータパネルおよびX線検出器の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of a scintillator panel and an X-ray detector. シンチレータパネルの模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of a scintillator panel.

以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
本発明の実施形態に係る放射線検出器は、X線のほかにもγ線などの各種放射線に適用させることができる。ここでは、一例として、放射線の中の代表的なものとしてX線に係る場合を例にとり説明をする。したがって、以下の実施形態の「X線」を「他の放射線」に置き換えることにより、他の放射線にも適用させることができる。
Hereinafter, embodiments will be illustrated with reference to the drawings. In each drawing, similar components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted as appropriate.
The radiation detector according to the embodiment of the present invention can be applied to various types of radiation such as γ-rays in addition to X-rays. Here, as an example, the case of X-rays as a typical example of radiation will be described as an example. Therefore, by replacing "X-ray" in the following embodiment with "other radiation", it can be applied to other radiation.

また、以下に例示をするX線検出器1は、放射線画像であるX線画像を検出するX線平面センサとすることができる。X線検出器1は、例えば、一般医療などに用いることができる。ただし、X線検出器1の用途は、一般医療に限定されるわけではない。 Further, the X-ray detector 1 illustrated below can be an X-ray plane sensor that detects an X-ray image which is a radiation image. The X-ray detector 1 can be used, for example, in general medical care. However, the use of the X-ray detector 1 is not limited to general medical care.

図1は、本実施の形態に係るシンチレータパネル10およびX線検出器1を例示するための模式斜視図である。
図2は、シンチレータパネル10およびX線検出器1の模式断面図である。
なお、煩雑となるのを避けるために、図2においては、制御ライン2c1、データライン2c2、回路基板3、画像構成部4などを省いて描いている。
図3は、シンチレータパネル10の模式断面図である。
図1および図2に示すように、X線検出器1には、アレイ基板2、回路基板3、画像構成部4、シンチレータパネル10、および接合部20を設けることができる。
アレイ基板2は、シンチレータパネル10によりX線から変換された蛍光を電荷に変換することができる。
アレイ基板2には、基板2a、光電変換部2b、制御ライン(又はゲートライン)2c1、データライン(又はシグナルライン)2c2、および絶縁層2fなどを設けることができる。なお、光電変換部2b、制御ライン2c1、およびデータライン2c2などの数は例示をしたものに限定されるわけではない。
FIG. 1 is a schematic perspective view for exemplifying the scintillator panel 10 and the X-ray detector 1 according to the present embodiment.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the scintillator panel 10 and the X-ray detector 1.
In addition, in order to avoid complication, in FIG. 2, the control line 2c1, the data line 2c2, the circuit board 3, the image configuration unit 4, and the like are omitted.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the scintillator panel 10.
As shown in FIGS. 1 and 2, the X-ray detector 1 may be provided with an array substrate 2, a circuit board 3, an image component 4, a scintillator panel 10, and a junction 20.
The array substrate 2 can convert the fluorescence converted from X-rays by the scintillator panel 10 into electric charges.
The array substrate 2 may be provided with a substrate 2a, a photoelectric conversion unit 2b, a control line (or gate line) 2c1, a data line (or signal line) 2c2, an insulating layer 2f, and the like. The numbers of the photoelectric conversion unit 2b, the control line 2c1, the data line 2c2, and the like are not limited to those illustrated.

基板2aは、板状を呈し、例えば、無アルカリガラスなどの透光性材料から形成されている。基板2aの平面形状は、例えば、四角形とすることができる。
光電変換部2bは、基板2aの一方の面に複数設けることができる。光電変換部2bは、例えば、矩形状を呈し、制御ライン2c1とデータライン2c2とにより画された領域に設けることができる。複数の光電変換部2bは、マトリクス状に並べて設けることができる。なお、1つの光電変換部2bは、X線画像の1つの画素(pixel)に対応する。
The substrate 2a has a plate shape and is formed of a translucent material such as non-alkali glass. The planar shape of the substrate 2a can be, for example, a quadrangle.
A plurality of photoelectric conversion units 2b may be provided on one surface of the substrate 2a. The photoelectric conversion unit 2b has a rectangular shape, for example, and can be provided in a region defined by the control line 2c1 and the data line 2c2. The plurality of photoelectric conversion units 2b can be provided side by side in a matrix. One photoelectric conversion unit 2b corresponds to one pixel of the X-ray image.

複数の光電変換部2bのそれぞれには、光電変換素子2b1と、スイッチング素子である薄膜トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)2b2を設けることができる。
また、光電変換素子2b1において変換した電荷を蓄積する蓄積キャパシタ2b3を設けることができる。蓄積キャパシタ2b3は、例えば、矩形平板状を呈し、各薄膜トランジスタ2b2の下に設けることができる。ただし、光電変換素子2b1の容量によっては、光電変換素子2b1が蓄積キャパシタ2b3を兼ねることができる。
A photoelectric conversion element 2b1 and a thin film transistor (TFT) 2b2, which is a switching element, can be provided in each of the plurality of photoelectric conversion units 2b.
Further, a storage capacitor 2b3 for accumulating the electric charge converted by the photoelectric conversion element 2b1 can be provided. The storage capacitor 2b3 has, for example, a rectangular flat plate shape, and can be provided under each thin film transistor 2b2. However, depending on the capacity of the photoelectric conversion element 2b1, the photoelectric conversion element 2b1 can also serve as the storage capacitor 2b3.

光電変換素子2b1は、例えば、フォトダイオードなどとすることができる。
薄膜トランジスタ2b2は、蓄積キャパシタ2b3への電荷の蓄積および放出のスイッチングを行うことができる。薄膜トランジスタ2b2は、ゲート電極、ドレイン電極及びソース電極を有することができる。薄膜トランジスタ2b2のゲート電極は、対応する制御ライン2c1と電気的に接続することができる。薄膜トランジスタ2b2のドレイン電極は、対応するデータライン2c2と電気的に接続することができる。薄膜トランジスタ2b2のソース電極は、対応する光電変換素子2b1と蓄積キャパシタ2b3とに電気的に接続することができる。また、光電変換素子2b1のアノード側と蓄積キャパシタ2b3は、グランドに接続することができる。
The photoelectric conversion element 2b1 can be, for example, a photodiode or the like.
The thin film transistor 2b2 can switch the accumulation and emission of electric charges in the storage capacitor 2b3. The thin film transistor 2b2 can have a gate electrode, a drain electrode, and a source electrode. The gate electrode of the thin film transistor 2b2 can be electrically connected to the corresponding control line 2c1. The drain electrode of the thin film transistor 2b2 can be electrically connected to the corresponding data line 2c2. The source electrode of the thin film transistor 2b2 can be electrically connected to the corresponding photoelectric conversion element 2b1 and the storage capacitor 2b3. Further, the anode side of the photoelectric conversion element 2b1 and the storage capacitor 2b3 can be connected to the ground.

制御ライン2c1は、所定の間隔をあけて互いに平行に複数設けることができる。制御ライン2c1は、例えば、行方向に延びるものとすることができる。1つの制御ライン2c1は、基板2aの周縁近傍に設けられた複数の配線パッドのうちの1つと電気的に接続することができる。1つの配線パッドには、フレキシブルプリント基板2e1に設けられた複数の配線のうちの1つを電気的に接続することができる。フレキシブルプリント基板2e1に設けられた複数の配線の他端は、回路基板3に設けられた読み出し回路とそれぞれ電気的に接続することができる。 A plurality of control lines 2c1 may be provided in parallel with each other at predetermined intervals. The control line 2c1 may extend in the row direction, for example. One control line 2c1 can be electrically connected to one of a plurality of wiring pads provided near the peripheral edge of the substrate 2a. One of a plurality of wirings provided on the flexible printed circuit board 2e1 can be electrically connected to one wiring pad. The other ends of the plurality of wirings provided on the flexible printed circuit board 2e1 can be electrically connected to the readout circuit provided on the circuit board 3, respectively.

データライン2c2は、所定の間隔をあけて互いに平行に複数設けることができる。データライン2c2は、例えば、行方向に直交する列方向に延びるものとすることができる。1つのデータライン2c2は、基板2aの周縁近傍に設けられた複数の配線パッドのうちの1つと電気的に接続することができる。1つの配線パッドには、フレキシブルプリント基板2e2に設けられた複数の配線のうちの1つを電気的に接続することができる。フレキシブルプリント基板2e2に設けられた複数の配線の他端は、回路基板3に設けられた信号検出回路とそれぞれ電気的に接続することができる。
制御ライン2c1、およびデータライン2c2は、例えば、アルミニウムやクロムなどの低抵抗金属を用いて形成することができる。
A plurality of data lines 2c2 may be provided in parallel with each other at predetermined intervals. The data line 2c2 can, for example, extend in the column direction orthogonal to the row direction. One data line 2c2 can be electrically connected to one of a plurality of wiring pads provided near the periphery of the substrate 2a. One of a plurality of wirings provided on the flexible printed circuit board 2e2 can be electrically connected to one wiring pad. The other ends of the plurality of wirings provided on the flexible printed circuit board 2e2 can be electrically connected to the signal detection circuits provided on the circuit board 3, respectively.
The control line 2c1 and the data line 2c2 can be formed by using a low resistance metal such as aluminum or chromium.

絶縁層2fは、光電変換部2b、制御ライン2c1、およびデータライン2c2などを覆うことができる。絶縁層2fは、例えば、酸化物絶縁材料、窒化物絶縁材料、酸窒化物絶縁材料、および樹脂の少なくとも1種を含むことができる。 The insulating layer 2f can cover the photoelectric conversion unit 2b, the control line 2c1, the data line 2c2, and the like. The insulating layer 2f can include, for example, at least one of an oxide insulating material, a nitride insulating material, an oxynitride insulating material, and a resin.

回路基板3は、アレイ基板2の、シンチレータパネル10が設けられる側とは反対側に設けることができる。回路基板3には、読み出し回路、および信号検出回路を設けることができる。なお、これらの回路を1つの基板に設けることもできるし、これらの回路を複数の基板に分けて設けることもできる。 The circuit board 3 can be provided on the side of the array board 2 opposite to the side on which the scintillator panel 10 is provided. A read circuit and a signal detection circuit can be provided on the circuit board 3. It should be noted that these circuits can be provided on one substrate, or these circuits can be provided separately on a plurality of substrates.

読み出し回路は、薄膜トランジスタ2b2のオン状態とオフ状態を切り替えることができる。例えば、読み出し回路は、フレキシブルプリント基板2e1を介して、制御信号S1を各制御ライン2c1毎に順次入力することができる。制御ライン2c1に入力された制御信号S1により薄膜トランジスタ2b2がオン状態となり、蓄積キャパシタ2b3からの電荷(画像データ信号S2)が読み出せるようになる。 The readout circuit can switch between the on state and the off state of the thin film transistor 2b2. For example, the readout circuit can sequentially input the control signal S1 for each control line 2c1 via the flexible printed circuit board 2e1. The thin film transistor 2b2 is turned on by the control signal S1 input to the control line 2c1, and the electric charge (image data signal S2) from the storage capacitor 2b3 can be read out.

信号検出回路は、複数の積分アンプ、複数の選択回路、および複数のADコンバータを有することができる。
1つの積分アンプは、1つのデータライン2c2と電気的に接続することができる。積分アンプは、光電変換部2bからの画像データ信号S2を順次受信することができる。そして、積分アンプは、一定時間内に流れる電流を積分し、その積分値に対応した電圧を選択回路へ出力することができる。この様にすれば、所定の時間内にデータライン2c2を流れる電流の値(電荷量)を電圧値に変換することが可能となる。すなわち、積分アンプは、シンチレータパネル10(シンチレータ16)において発生した蛍光の強弱分布に対応した画像データ情報を、電位情報へと変換することができる。
The signal detection circuit can have a plurality of integrating amplifiers, a plurality of selection circuits, and a plurality of AD converters.
One integrating amplifier can be electrically connected to one data line 2c2. The integrating amplifier can sequentially receive the image data signal S2 from the photoelectric conversion unit 2b. Then, the integrating amplifier can integrate the current flowing within a fixed time and output the voltage corresponding to the integrated value to the selection circuit. By doing so, it is possible to convert the value (charge amount) of the current flowing through the data line 2c2 into a voltage value within a predetermined time. That is, the integrating amplifier can convert the image data information corresponding to the intensity distribution of fluorescence generated in the scintillator panel 10 (scintillator 16) into potential information.

選択回路は、読み出しを行う積分アンプを選択し、電位情報へと変換された画像データ信号S2を順次読み出すことができる。
ADコンバータは、読み出された画像データ信号S2をデジタル信号に順次変換することができる。デジタル信号に変換された画像データ信号S2は、画像構成部4に入力することができる。
The selection circuit can select an integrating amplifier to be read out and sequentially read out the image data signal S2 converted into potential information.
The AD converter can sequentially convert the read image data signal S2 into a digital signal. The image data signal S2 converted into a digital signal can be input to the image configuration unit 4.

画像構成部4は、配線4aを介して、回路基板3の読み出し回路(ADコンバータ)と電気的に接続することができる。なお、画像構成部4と回路基板3との間のデータ通信は、無線により行うこともできる。また、画像構成部4と回路基板3とを一体化してもよい。画像構成部4は、複数のADコンバータによりデジタル信号に変換された画像データ信号S2に基づいて、X線画像を構成することができる。構成されたX線画像のデータは、画像構成部4から外部の機器に向けて出力することができる。 The image configuration unit 4 can be electrically connected to the readout circuit (AD converter) of the circuit board 3 via the wiring 4a. Data communication between the image configuration unit 4 and the circuit board 3 can also be performed wirelessly. Further, the image component 4 and the circuit board 3 may be integrated. The image configuration unit 4 can configure an X-ray image based on the image data signal S2 converted into a digital signal by a plurality of AD converters. The configured X-ray image data can be output from the image configuration unit 4 to an external device.

図2および図3に示すように、シンチレータパネル10には、基板11、保護部15、シンチレータ16、および防湿部17を設けることができる。
基板11は、板状を呈し、X線を透過させることができる。基板11は、基部12、反射部13、および緩和部14を有することができる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the scintillator panel 10 may be provided with a substrate 11, a protective portion 15, a scintillator 16, and a moisture-proof portion 17.
The substrate 11 has a plate shape and is capable of transmitting X-rays. The substrate 11 can have a base portion 12, a reflection portion 13, and a relaxation portion 14.

基部12は、例えば、板状を呈し、炭素繊維強化プラスチック(CFRP;Carbon-Fiber-Reinforced Plastic)を含むものとすることができる。後述するように、基部12は、例えば、複数の炭素繊維を有するプリプレグを少なくとも1つ有することができる。この場合、基部12は、複数の炭素繊維121が伸びる方向が異なる複数種類のプリプレグを有することもできる(図5を参照)。複数種類のプリプレグは、厚み方向に積層することができる。プリプレグの平面形状、ひいては、基部12の平面形状は、例えば、四角形とすることができる。プリプレグは、板状を呈し、例えば、複数の炭素繊維121を所望の方向に並べたものに熱硬化性樹脂を含浸させたものとすることができる。プリプレグの厚みは、例えば、0.1mm〜0.12mm程度とすることができる。基部12は、例えば、プリプレグを複数積層し、これを加圧加熱処理することにより形成することができる。 The base 12 may be, for example, plate-shaped and may contain carbon-Fiber-Reinforced Plastic (CFRP). As will be described later, the base 12 can have, for example, at least one prepreg having a plurality of carbon fibers. In this case, the base 12 may have a plurality of types of prepregs in which the plurality of carbon fibers 121 extend in different directions (see FIG. 5). A plurality of types of prepregs can be laminated in the thickness direction. The planar shape of the prepreg, and thus the planar shape of the base 12, can be, for example, a quadrangle. The prepreg has a plate shape, and for example, a plurality of carbon fibers 121 arranged in a desired direction may be impregnated with a thermosetting resin. The thickness of the prepreg can be, for example, about 0.1 mm to 0.12 mm. The base portion 12 can be formed, for example, by laminating a plurality of prepregs and subjecting them to pressure heat treatment.

ここで、プリプレグにおける炭素繊維121が伸びる方向により、プリプレグの剛性が変化する。すなわち、プリプレグにおける炭素繊維121が伸びる方向により、プリプレグの剛性に異方性が生じる。 Here, the rigidity of the prepreg changes depending on the direction in which the carbon fibers 121 in the prepreg extend. That is, the rigidity of the prepreg is anisotropy depending on the direction in which the carbon fibers 121 in the prepreg are stretched.

図4は、炭素繊維121が伸びる方向と剛性との関係を例示するための模式斜視図である。
プリプレグの平面形状を考慮せずに炭素繊維121が伸びる方向のみを考慮すると、炭素繊維121が伸びる方向Aに直交する方向における曲げ強度Bは、炭素繊維121が伸びる方向Aに平行な方向における曲げ強度Cよりも小さくなる。
FIG. 4 is a schematic perspective view for exemplifying the relationship between the extending direction of the carbon fiber 121 and the rigidity.
Considering only the direction in which the carbon fiber 121 is stretched without considering the planar shape of the prepreg, the bending strength B in the direction orthogonal to the direction A in which the carbon fiber 121 is stretched is the bending in the direction parallel to the direction A in which the carbon fiber 121 is stretched. It becomes smaller than the strength C.

一方、プリプレグの平面形状のみを考慮すると、短辺側における曲げ強度Bは、長辺側における曲げ強度Cよりも大きくなる。
そのため、剛性の異方性を小さくするためには、プリプレグの平面形状を考慮して、炭素繊維121が伸びる方向Aを設定することが好ましい。例えば、図4に示すように、プリプレグの平面形状が矩形の場合には、炭素繊維121が伸びる方向Aは、長辺に平行な方向(長手方向)とすることが好ましい。
On the other hand, considering only the planar shape of the prepreg, the bending strength B on the short side is larger than the bending strength C on the long side.
Therefore, in order to reduce the anisotropy of rigidity, it is preferable to set the direction A in which the carbon fiber 121 extends in consideration of the planar shape of the prepreg. For example, as shown in FIG. 4, when the planar shape of the prepreg is rectangular, the direction A in which the carbon fibers 121 extend is preferably a direction parallel to the long side (longitudinal direction).

図5は、基部12の構成を例示するための模式分解図である。
基部12の厚み方向の中心を通る線120(中心部)から最も離れた位置、すなわち、基部12の表面(厚み方向の両端)に設けられているプリプレグ12aの剛性が、基部12の剛性に最も寄与する。そのため、プリプレグ12aの平面形状を考慮して、炭素繊維121が伸びる方向Aを設定することが好ましい。
FIG. 5 is a schematic exploded view for exemplifying the configuration of the base 12.
The rigidity of the prepreg 12a provided on the surface (both ends in the thickness direction) of the base 12 at the position farthest from the line 120 (center) passing through the center of the base 12 in the thickness direction is the most rigid of the base 12. Contribute. Therefore, it is preferable to set the direction A in which the carbon fiber 121 extends in consideration of the planar shape of the prepreg 12a.

また、基部12に設けられるプリプレグの種類(炭素繊維121が伸びる方向の種類)を多くすれば、基部12における剛性の異方性を小さくすることができる。しかしながら、プリプレグの種類を多くしすぎると、プリプレグの数が多くなりすぎて、基部12の製造コストが増大したり、基部12の剛性が大きくなりすぎてアレイ基板2とシンチレータパネル10との間に隙間が発生したりするおそれがある。 Further, by increasing the types of prepregs provided on the base portion 12 (types in the direction in which the carbon fibers 121 extend), the anisotropy of the rigidity at the base portion 12 can be reduced. However, if the number of types of prepregs is increased too much, the number of prepregs becomes too large and the manufacturing cost of the base 12 increases, or the rigidity of the base 12 becomes too large and the space between the array substrate 2 and the scintillator panel 10 increases. There is a risk of gaps.

例えば、図5に示すように、厚みが0.1mm〜0.12mm程度のプリプレグを3つ積層させることができる。この場合、基部12の厚み方向の中心を通る線120(中心部)に対して、線対称となる位置(厚み方向に対称となる位置)に設けられたプリプレグは、複数の炭素繊維121が伸びる方向が略同じとなるようにすることが好ましい。 For example, as shown in FIG. 5, three prepregs having a thickness of about 0.1 mm to 0.12 mm can be laminated. In this case, a plurality of carbon fibers 121 extend from the prepreg provided at a position symmetrical with respect to the line 120 (center portion) passing through the center of the base portion 12 in the thickness direction (position symmetrical with respect to the thickness direction). It is preferable that the directions are substantially the same.

例えば、図5に示すように、プリプレグ12aは、基部12の厚み方向の中心を通る線120から最も離れた位置、すなわち、基部12の表面側と裏面側に設けることができる。基部12の剛性に最も寄与するプリプレグ12aにおける炭素繊維121が伸びる方向は、プリプレグ12a(基部12)の長辺に略平行な方向とすることができる。 For example, as shown in FIG. 5, the prepreg 12a can be provided at a position farthest from the line 120 passing through the center of the base portion 12 in the thickness direction, that is, on the front surface side and the back surface side of the base portion 12. The direction in which the carbon fibers 121 in the prepreg 12a, which most contributes to the rigidity of the base portion 12, extends can be a direction substantially parallel to the long side of the prepreg 12a (base portion 12).

プリプレグ12bは、表面側に設けられたプリプレグ12aと、裏面側に設けられたプリプレグ12aとの間に設けることができる。プリプレグ12bにおける炭素繊維121が伸びる方向は、プリプレグ12b(基部12)の長辺に対して略90°の角度の方向とすることができる。なお、プリプレグ12bにおける炭素繊維121が伸びる方向は、プリプレグ12b(基部12)の長辺に対して0°を超え、90°以下の角度の方向とすることもできる。ただし、プリプレグ12bにおける炭素繊維121が伸びる方向が、プリプレグ12aにおける炭素繊維121が伸びる方向と略直交していれば、基部12の剛性に異方性が生じるのを効果的に抑制することができる。 The prepreg 12b can be provided between the prepreg 12a provided on the front surface side and the prepreg 12a provided on the back surface side. The direction in which the carbon fibers 121 extend in the prepreg 12b can be an angle of approximately 90 ° with respect to the long side of the prepreg 12b (base 12). The direction in which the carbon fibers 121 in the prepreg 12b extend may be an angle of more than 0 ° and 90 ° or less with respect to the long side of the prepreg 12b (base 12). However, if the extending direction of the carbon fibers 121 in the prepreg 12b is substantially orthogonal to the extending direction of the carbon fibers 121 in the prepreg 12a, it is possible to effectively suppress the occurrence of anisotropy in the rigidity of the base 12. ..

以上においては、基部12(プリプレグ12a、12b)の平面形状が矩形の場合を例示したが、基部12の一部を面取りして多角形としたり、基部12の角部にR部やC面取りを施したりすることもできる。 In the above, the case where the plane shape of the base 12 (prepregs 12a and 12b) is rectangular has been illustrated, but a part of the base 12 may be chamfered to form a polygon, or the corners of the base 12 may be chamfered with R or C. It can also be given.

ここで、炭素繊維強化プラスチックから形成された基部12(プリプレグ)は、一般的な耐熱樹脂と比較して、熱による変形が少ない。そのため、基板11に基部12が設けられていれば、基板11の一方の面側にシンチレータ16を形成する際に基板11が加熱されたとしてもシンチレータパネル10に反りや変形が生じるのを抑制することができる。 Here, the base 12 (prepreg) formed of the carbon fiber reinforced plastic is less deformed by heat as compared with a general heat-resistant resin. Therefore, if the substrate 11 is provided with the base portion 12, it is possible to prevent the scintillator panel 10 from being warped or deformed even if the substrate 11 is heated when the scintillator 16 is formed on one surface side of the substrate 11. be able to.

また、一般的な耐熱樹脂の場合には、熱による材料収縮や変形が生じ易いので、反りや変形の形状は不規則な曲面となる。これに対して、炭素繊維強化プラスチックから形成された基部12(プリプレグ)の場合には、反りや変形の形状は、単純な二次曲面となりやすい。そのため、シンチレータパネル10に反りや変形が生じたとしても、シンチレータパネル10をアレイ基板2に押し付けた際に略平面状となるように矯正することが容易となる。 Further, in the case of a general heat-resistant resin, the material shrinks or deforms easily due to heat, so that the shape of the warp or deformation becomes an irregular curved surface. On the other hand, in the case of the base portion 12 (prepreg) formed of carbon fiber reinforced plastic, the shape of the warp or deformation tends to be a simple quadric surface. Therefore, even if the scintillator panel 10 is warped or deformed, it can be easily corrected so that the scintillator panel 10 becomes substantially flat when pressed against the array substrate 2.

すなわち、炭素繊維強化プラスチックから形成された基部12とすれば、シンチレータ16を形成する際に反りや変形が生じるのを抑制することができる。また、反りや変形が生じた場合であっても、シンチレータパネル10に生じる反りや変形の形状を矯正が容易な単純な形状とすることができる。 That is, if the base portion 12 is made of carbon fiber reinforced plastic, it is possible to suppress warpage and deformation when the scintillator 16 is formed. Further, even when warpage or deformation occurs, the shape of the warp or deformation that occurs in the scintillator panel 10 can be made into a simple shape that can be easily corrected.

この場合、例えば、シンチレータ16の形成条件などにより発生する反りや変形の程度が変化する場合がある。そのため、基部12に設けられるプリプレグの数や、プリプレグの種類(炭素繊維121が伸びる方向の種類)は、発生する反りや変形の程度に応じて適宜決定することもできる。 In this case, for example, the degree of warpage or deformation that occurs may change depending on the formation conditions of the scintillator 16. Therefore, the number of prepregs provided on the base 12 and the type of prepreg (the type in the direction in which the carbon fibers 121 extend) can be appropriately determined according to the degree of warpage or deformation that occurs.

例えば、反りや変形がある程度大きくなるのであれば、プリプレグの数やプリプレグの種類を増やすことができる。この様にすれば、基部12の剛性を大きくすることができるので、シンチレータ16を形成する際に反りや変形が生じるのを抑制することができる。 For example, if the warp or deformation becomes large to some extent, the number of prepregs and the types of prepregs can be increased. By doing so, the rigidity of the base portion 12 can be increased, so that warpage and deformation can be suppressed when the scintillator 16 is formed.

例えば、反りや変形をある程度小さくすることができるのであれば、プリプレグの数やプリプレグの種類を減らすことができる。この様にすれば、基部12の剛性を小さくすることができるので、シンチレータパネル10をアレイ基板2に押し付けた際に略平面状となるように矯正することが容易となる。 For example, if the warp and deformation can be reduced to some extent, the number of prepregs and the types of prepregs can be reduced. By doing so, since the rigidity of the base portion 12 can be reduced, it becomes easy to correct the scintillator panel 10 so that it becomes substantially flat when pressed against the array substrate 2.

本発明者の得た知見によれば、X線検出器1が一般医療などに用いられるものの場合には、プリプレグの数を3つ以下にすることが好ましい。例えば、プリプレグの数が3つであれば、図5に例示をしたように、表面側に設けられたプリプレグ12aと、裏面側に設けられたプリプレグ12aとの間にプリプレグ12bを設けることができる。プリプレグの数が2つであれば、例えば、プリプレグ12aとプリプレグ12bを1つずつ設けることができる。プリプレグの数が1つであれば、プリプレグ12aまたはプリプレグ12bを設けることができる。なお、プリプレグの数が1つであれば、プリプレグ12bよりも剛性の大きいプリプレグ12aを設けることが好ましい。 According to the knowledge obtained by the present inventor, when the X-ray detector 1 is used for general medical treatment or the like, the number of prepregs is preferably 3 or less. For example, if the number of prepregs is three, the prepregs 12b can be provided between the prepregs 12a provided on the front surface side and the prepregs 12a provided on the back surface side, as illustrated in FIG. .. If the number of prepregs is two, for example, one prepreg 12a and one prepreg 12b can be provided. If the number of prepregs is one, prepregs 12a or prepregs 12b can be provided. If the number of prepregs is one, it is preferable to provide the prepregs 12a having a higher rigidity than the prepregs 12b.

図2および図3に示すように、反射部13は、基部12の一方の面に設けることができる。反射部13は、例えば、基部12の一方の面の全域を覆うように設けることができる。反射部13は、蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために設けることができる。例えば、反射部13は、シンチレータ16において生じた蛍光のうち、光電変換部2bが設けられた側とは反対側に向かう光を反射させて、光電変換部2bに向かうようにする。すなわち、反射部13は、基部12と、シンチレータ16と、の間に設けられ、シンチレータ16において発生した蛍光を反射可能とすることができる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the reflecting portion 13 can be provided on one surface of the base portion 12. The reflecting portion 13 can be provided, for example, so as to cover the entire area of one surface of the base portion 12. The reflection unit 13 can be provided in order to increase the utilization efficiency of fluorescence and improve the sensitivity characteristics. For example, the reflecting unit 13 reflects the light that is directed to the side opposite to the side where the photoelectric conversion unit 2b is provided among the fluorescence generated in the scintillator 16 so that the light is directed to the photoelectric conversion unit 2b. That is, the reflecting portion 13 is provided between the base portion 12 and the scintillator 16, and can reflect the fluorescence generated in the scintillator 16.

また、図2に示すように、X線は、反射部13を介してシンチレータ16に入射する。そのため、反射部13は、X線を透過し、且つ、蛍光に対する反射率が高いものとすることができる。前述したように、基部12は炭素繊維強化プラスチックから形成されている。そのため、アルミニウムや銀などを含む膜を基部12の表面に直接形成したり、基部12の表面に直接貼り付けたりすることが難しい。そこで、反射部13は、少なくとも、樹脂層13a(第1の樹脂層の一例に相当する)と反射層13cとを含む積層構造体とすることができる。樹脂層13aは、基部12側に設けられ、樹脂を含むものとすることができる。反射層13cは、シンチレータ16側に設けられ、シンチレータ16において発生した蛍光を反射可能なものとすることができる。
例えば、反射部13は、板状を呈し、樹脂層13a、接合層13b、および反射層13cを有するものとすることができる。
Further, as shown in FIG. 2, X-rays are incident on the scintillator 16 via the reflecting portion 13. Therefore, the reflecting unit 13 can transmit X-rays and have a high reflectance to fluorescence. As mentioned above, the base 12 is made of carbon fiber reinforced plastic. Therefore, it is difficult to directly form a film containing aluminum, silver, or the like on the surface of the base 12, or to directly attach the film to the surface of the base 12. Therefore, the reflective portion 13 can be a laminated structure including at least the resin layer 13a (corresponding to an example of the first resin layer) and the reflective layer 13c. The resin layer 13a is provided on the base 12 side and may contain a resin. The reflective layer 13c is provided on the scintillator 16 side, and can reflect the fluorescence generated in the scintillator 16.
For example, the reflective portion 13 may have a plate shape and may have a resin layer 13a, a bonding layer 13b, and a reflective layer 13c.

樹脂層13aは、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂から形成することができる。樹脂層13aが樹脂から形成されていれば、樹脂層13aと、炭素繊維強化プラスチックから形成された基部12とを接合することが容易となる。そのため、反射部13の樹脂層13a側を基部12の表面に接合することが容易となる。反射部13の樹脂層13a側は、例えば、基部12に接着することができる。 The resin layer 13a can be formed of, for example, a resin such as polyethylene terephthalate (PET). If the resin layer 13a is formed of resin, it becomes easy to join the resin layer 13a and the base portion 12 formed of carbon fiber reinforced plastic. Therefore, it becomes easy to join the resin layer 13a side of the reflective portion 13 to the surface of the base portion 12. The resin layer 13a side of the reflective portion 13 can be adhered to, for example, the base portion 12.

接合層13bは、樹脂層13aと反射層13cの間に設けることができる。接合層13bは、例えば、樹脂層13aと反射層13cを接合することができる。接合層13bは、例えば、ポリエステル系樹脂を含む粘着層とすることができる。なお、樹脂層13aと反射層13cとを直接接合することもできる。例えば、オートクレーブ成形法により、板状の樹脂層13aと、板状の反射層13cを一体化することもできる。 The bonding layer 13b can be provided between the resin layer 13a and the reflective layer 13c. As the bonding layer 13b, for example, the resin layer 13a and the reflective layer 13c can be bonded. The bonding layer 13b can be, for example, an adhesive layer containing a polyester resin. The resin layer 13a and the reflective layer 13c can also be directly bonded. For example, the plate-shaped resin layer 13a and the plate-shaped reflective layer 13c can be integrated by an autoclave molding method.

反射層13cは、アルミニウムや銀などの金属を含むものとすることができる。反射層13cは、例えば、アルミニウム箔や銀箔などから形成することができる。 The reflective layer 13c may contain a metal such as aluminum or silver. The reflective layer 13c can be formed from, for example, an aluminum foil or a silver foil.

ここで、反射層13cの厚みを薄くし過ぎるとピンホールが発生したり、反射率が低下したりするおそれがある。一方、反射層13cの厚みを厚くし過ぎると、シンチレータ16を形成する際の熱により発生する熱応力が大きくなり、基部12に反りなどが発生し易くなる。そのため、反射層13cの厚みは、例えば、25μm以上、50μm以下とすることが好ましい。 Here, if the thickness of the reflective layer 13c is made too thin, pinholes may occur or the reflectance may decrease. On the other hand, if the thickness of the reflective layer 13c is made too thick, the thermal stress generated by the heat when forming the scintillator 16 becomes large, and the base 12 is likely to be warped or the like. Therefore, the thickness of the reflective layer 13c is preferably 25 μm or more and 50 μm or less, for example.

緩和部14は、基部12の、反射部13が設けられた側とは反対側の面に設けることができる。ここで、シンチレータ16を形成する際には、基部12および反射部13が加熱されることになる。
図6(a)、(b)は、緩和部14が設けられていない場合を例示するための模式図である。
図6(a)は、シンチレータ16の形成前の状態を表している。
図6(b)は、シンチレータ16の形成後の状態を表している。
基部12および反射部13は熱膨張係数が異なるため、それぞれの熱膨張量が異なるものとなる。そのため、シンチレータ16を形成する際に歪みなどが生じて、図6(b)に示すように、基部12および反射部13に反りなどが発生する場合がある。
The relaxation portion 14 can be provided on the surface of the base portion 12 opposite to the side on which the reflection portion 13 is provided. Here, when the scintillator 16 is formed, the base portion 12 and the reflecting portion 13 are heated.
6 (a) and 6 (b) are schematic views for exemplifying a case where the relaxation unit 14 is not provided.
FIG. 6A shows the state before the formation of the scintillator 16.
FIG. 6B shows the state after the formation of the scintillator 16.
Since the base portion 12 and the reflecting portion 13 have different coefficients of thermal expansion, their respective amounts of thermal expansion are different. Therefore, distortion or the like may occur when the scintillator 16 is formed, and as shown in FIG. 6B, warpage or the like may occur in the base portion 12 and the reflecting portion 13.

基部12の、反射部13側とは反対側の面に緩和部14が設けられていれば、基部12の一方の面側に発生する熱応力を他方の面側に発生する熱応力で相殺することができる。そのため、シンチレータ16を形成する際にシンチレータパネル10に反りや変形などが発生するのを抑制することができる。 If the relaxation portion 14 is provided on the surface of the base portion 12 opposite to the reflection portion 13 side, the thermal stress generated on one surface side of the base portion 12 is canceled by the thermal stress generated on the other surface side. be able to. Therefore, it is possible to prevent the scintillator panel 10 from being warped or deformed when the scintillator 16 is formed.

緩和部14は、例えば、基部12の他方の面の全域に設けることもできるし、基部12の面の所定の領域に設けることもできる。この場合、緩和部14の熱膨張率と剛性は、反射部13の熱膨張率と剛性になるべく近くなるようにすることが好ましい。例えば、図3に示すように、緩和部14の構成は、反射部13の構成と同じとすることができる。 The relaxation portion 14 may be provided, for example, in the entire area of the other surface of the base portion 12, or may be provided in a predetermined region of the surface of the base portion 12. In this case, it is preferable that the coefficient of thermal expansion and rigidity of the relaxation unit 14 are as close as possible to the coefficient of thermal expansion and rigidity of the reflection unit 13. For example, as shown in FIG. 3, the configuration of the relaxation unit 14 can be the same as the configuration of the reflection unit 13.

例えば、緩和部14は、板状を呈し、樹脂層14a(第2の樹脂層の一例に相当する)、接合層14b、および反射層14cを有するものとすることができる。樹脂層14aの厚みおよび材料は、樹脂層13aの厚みおよび材料と同じとすることができる。接合層14bの厚みおよび材料は、接合層13bの厚みおよび材料と同じとすることができる。反射層14cの厚みおよび材料は、反射層13cの厚みおよび材料と同じとすることができる。なお、接合層14bおよび反射層14cの剛性は小さいため、接合層14bおよび反射層14cを省くこともできる。すなわち、緩和部14として接合層14bが設けられていてもよい。ただし、緩和部14の構成が、反射部13の構成と同じであれば、製造工程の簡略化、ひいては製造コストの低減を図ることができる。 For example, the relaxation portion 14 may have a plate shape and may have a resin layer 14a (corresponding to an example of the second resin layer), a bonding layer 14b, and a reflective layer 14c. The thickness and material of the resin layer 14a can be the same as the thickness and material of the resin layer 13a. The thickness and material of the bonding layer 14b can be the same as the thickness and material of the bonding layer 13b. The thickness and material of the reflective layer 14c can be the same as the thickness and material of the reflective layer 13c. Since the rigidity of the bonding layer 14b and the reflective layer 14c is small, the bonding layer 14b and the reflective layer 14c can be omitted. That is, the bonding layer 14b may be provided as the relaxation portion 14. However, if the configuration of the relaxation unit 14 is the same as the configuration of the reflection unit 13, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

ここで、前述したように、光電変換部2bには、光電変換素子2b1や薄膜トランジスタ2b2などが設けられている。そのため、これらの素子の厚みのバラツキなどにより、複数の光電変換部2bが設けられた領域に段差が発生する場合がある。複数の光電変換部2bが設けられた領域に段差があると、シンチレータパネル10をアレイ基板2に接合する際に、部分的に隙間が生じる場合がある。この様な隙間は、感度斑の原因となる。 Here, as described above, the photoelectric conversion unit 2b is provided with a photoelectric conversion element 2b1 and a thin film transistor 2b2. Therefore, a step may occur in the region where the plurality of photoelectric conversion units 2b are provided due to the variation in the thickness of these elements. If there is a step in the region where the plurality of photoelectric conversion units 2b are provided, a gap may be partially generated when the scintillator panel 10 is joined to the array substrate 2. Such gaps cause sensitivity spots.

そのため、基部12の厚みを厚くし過ぎると、基板11の変形、ひいてはシンチレータパネル10の変形がし難くなるので、シンチレータパネル10をアレイ基板2に隙間なく接合するのが困難となる。一方、基部12の厚みを薄くし過ぎると、シンチレータ16を形成する際に、シンチレータパネル10に反りや変形が発生するのを抑制する効果が小さくなる。 Therefore, if the thickness of the base portion 12 is made too thick, it becomes difficult to deform the substrate 11 and eventually the scintillator panel 10, so that it becomes difficult to join the scintillator panel 10 to the array substrate 2 without a gap. On the other hand, if the thickness of the base portion 12 is made too thin, the effect of suppressing warpage or deformation of the scintillator panel 10 when forming the scintillator 16 becomes small.

また、反射部13と緩和部14も基板11の剛性に寄与する。この場合、厚みの薄い接合層13b、反射層13c、接合層14b、および反射層14cは、樹脂層13aおよび樹脂層14aに比べて剛性が低くなる。そのため、基板11の剛性は、基部12の剛性、樹脂層13aの剛性、および樹脂層14aの剛性の影響が大きくなる。 The reflecting portion 13 and the relaxing portion 14 also contribute to the rigidity of the substrate 11. In this case, the thin bonding layer 13b, the reflective layer 13c, the bonding layer 14b, and the reflective layer 14c have lower rigidity than the resin layer 13a and the resin layer 14a. Therefore, the rigidity of the substrate 11 is greatly affected by the rigidity of the base portion 12, the rigidity of the resin layer 13a, and the rigidity of the resin layer 14a.

この場合、基部12の剛性、樹脂層13aの剛性、および樹脂層14aの剛性のバランスを取れば、シンチレータパネル10をアレイ基板2に隙間なく接合するのが容易となり、且つ、シンチレータ16を形成する際に、シンチレータパネル10に反りや変形が発生するのを抑制することができる。 In this case, if the rigidity of the base portion 12, the rigidity of the resin layer 13a, and the rigidity of the resin layer 14a are balanced, it becomes easy to join the scintillator panel 10 to the array substrate 2 without a gap, and the scintillator 16 is formed. At that time, it is possible to prevent the scintillator panel 10 from being warped or deformed.

本発明者の得た知見によれば、基部12の厚みは、0.4mm以下とすることが好ましい。例えば、プリプレグの厚みが、0.1mm〜0.12mm程度で有れば、プリプレグの積層数は3以下とすれば良い。
また、樹脂層13aの厚みと樹脂層14aの厚みの合計は、基部12の厚みよりも大きくすることが好ましい。
According to the knowledge obtained by the present inventor, the thickness of the base 12 is preferably 0.4 mm or less. For example, if the thickness of the prepreg is about 0.1 mm to 0.12 mm, the number of laminated prepregs may be 3 or less.
Further, the total thickness of the resin layer 13a and the thickness of the resin layer 14a is preferably larger than the thickness of the base 12.

反射部13の、基部12側とは反対側の面には、反射層13cが露出している。また、シンチレータ16は、反射部13の、基部12側とは反対側に設けられる。この場合、反射層13cとシンチレータ16とが直接接触すると、例えば、反射層13cに含まれている還元性の高い金属と、シンチレータ16に含まれている酸化力の強いヨウ素と、空気中に含まれている僅かな水蒸気とにより酸化還元反応が生じて、反射層13cに腐食が発生するおそれがある。反射層13cに腐食が発生すると、反射層13cの光沢が減少し反射性能の低下、ひいては感度特性の低下、および解像度特性の低下が生じるおそれがある。 The reflective layer 13c is exposed on the surface of the reflective portion 13 opposite to the base 12 side. Further, the scintillator 16 is provided on the side of the reflecting portion 13 opposite to the base portion 12 side. In this case, when the reflective layer 13c and the scintillator 16 come into direct contact with each other, for example, the highly reducing metal contained in the reflective layer 13c and the highly oxidizing iodine contained in the scintillator 16 are contained in the air. A redox reaction may occur due to the slight amount of water vapor generated, and corrosion may occur in the reflective layer 13c. When corrosion occurs in the reflective layer 13c, the gloss of the reflective layer 13c may decrease, resulting in a decrease in reflection performance, a decrease in sensitivity characteristics, and a decrease in resolution characteristics.

そこで、本実施の形態に係るシンチレータパネル10には、保護部15が設けられている。保護部15は、反射部13の、基部12側とは反対側の面に設けることができる。すなわち、保護部15は、反射部13(反射層13c)と、シンチレータ16との間に設けることができる。保護部15は、例えば。ポリイミド樹脂などの樹脂を含むことができる。保護部15の厚みは、例えば、5μm以上、20μm以下とすることができる。 Therefore, the scintillator panel 10 according to the present embodiment is provided with a protective portion 15. The protective portion 15 can be provided on the surface of the reflective portion 13 opposite to the base 12 side. That is, the protective portion 15 can be provided between the reflective portion 13 (reflective layer 13c) and the scintillator 16. The protection unit 15 is, for example. A resin such as a polyimide resin can be included. The thickness of the protective portion 15 can be, for example, 5 μm or more and 20 μm or less.

保護部15は、例えば、膜状を呈し、熱CVD(thermal chemical vapor deposition)法などにより形成することができる。この場合、図3に示すように、保護部15は、基板11(基部12、反射部13、緩和部14)を覆う様に設けることもできる。 The protective portion 15 has a film shape, and can be formed by a thermal CVD (thermal chemical vapor deposition) method or the like. In this case, as shown in FIG. 3, the protective portion 15 may be provided so as to cover the substrate 11 (base portion 12, reflection portion 13, relaxation portion 14).

シンチレータ16は、保護部15を介して、反射部13の上に設けることができる。シンチレータ16は、入射したX線を蛍光(可視光)に変換することができる。シンチレータ16は、例えば、ヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、あるいはヨウ化ナトリウム(NaI):タリウム(Tl)などを用いて形成することができる。シンチレータ16の厚みは、例えば、100μm〜1500μm程度とすることができる。シンチレータ16は、例えば、真空蒸着法などを用いて形成することができる。真空蒸着法などを用いて、シンチレータ16を形成すれば、柱状結晶の集合体からなるシンチレータ16が形成される。この場合、柱状結晶同士の間には隙間が存在している。 The scintillator 16 can be provided on the reflecting portion 13 via the protective portion 15. The scintillator 16 can convert the incident X-rays into fluorescence (visible light). The scintillator 16 can be formed using, for example, cesium iodide (CsI): thallium (Tl), sodium iodide (NaI): thallium (Tl), or the like. The thickness of the scintillator 16 can be, for example, about 100 μm to 1500 μm. The scintillator 16 can be formed by, for example, a vacuum vapor deposition method or the like. If the scintillator 16 is formed by using a vacuum vapor deposition method or the like, the scintillator 16 composed of an aggregate of columnar crystals is formed. In this case, there is a gap between the columnar crystals.

ここで、シンチレータ16の剛性が大きくなり過ぎると、シンチレータパネル10を変形させた際に、シンチレータ16が基板11から剥離するおそれがある。
本発明者の得た知見によれば、シンチレータ16の理論密度(柱状結晶同士の間に隙間が無いとした場合の密度)をρ(g/cm)、平面視におけるシンチレータ16の投影面積をS(cm)、シンチレータ16の平均厚みをd(cm)、シンチレータ16の重量をW(g)とした場合に、「{W/(ρSd)}≦0.811」となるようにすることが好ましい。この様にすれば、柱状結晶同士の間の隙間が大きくなるので、シンチレータパネル10を変形させた際に、シンチレータ16が基板11から剥離するのを抑制することができる。なお、平面視は、シンチレータ16をX線の入射方向に沿って見た場合である。
Here, if the rigidity of the scintillator 16 becomes too large, the scintillator 16 may peel off from the substrate 11 when the scintillator panel 10 is deformed.
According to the findings obtained by the present inventor, the theoretical density of the scintillator 16 (the density when there is no gap between columnar crystals) is ρ (g / cm 3 ), and the projected area of the scintillator 16 in a plan view is determined. When S (cm 2 ), the average thickness of the scintillator 16 is d (cm), and the weight of the scintillator 16 is W (g), “{W / (ρSd)} ≦ 0.811” is set. Is preferable. By doing so, the gap between the columnar crystals becomes large, so that it is possible to prevent the scintillator 16 from peeling off from the substrate 11 when the scintillator panel 10 is deformed. The plan view is a case where the scintillator 16 is viewed along the incident direction of X-rays.

防湿部17は、空気中に含まれる水蒸気により、シンチレータ16の特性が劣化するのを抑制するために設けることができる。防湿部17は、膜状を呈し、基部12、反射部13、保護部15、シンチレータ16、および緩和部14の露出部分を覆うように設けることができる。防湿部17は、透光性を有し、透湿係数の小さい材料から形成することができる。防湿部17は、例えば、ポリパラキシリレン、ポリモノクロロパラキシリレン、ポリフルオロパラキシリレン、ポリジメチルパラキシリレン、ポリジエチルパラキシリレンなどから形成することができる。防湿部17は、例えば、熱CVD法などを用いて形成することができる。 The moisture-proof portion 17 can be provided in order to suppress deterioration of the characteristics of the scintillator 16 due to water vapor contained in the air. The moisture-proof portion 17 has a film shape and can be provided so as to cover the exposed portions of the base portion 12, the reflection portion 13, the protection portion 15, the scintillator 16, and the relaxation portion 14. The moisture-proof portion 17 can be formed of a material having a light-transmitting property and a small moisture-permeable coefficient. The moisture-proof portion 17 can be formed from, for example, polyparaxylylene, polymonochloroparaxylylene, polyfluoroparaxylylene, polydimethylparaxylylene, polydiethylparaxylylene and the like. The moisture-proof portion 17 can be formed by, for example, a thermal CVD method or the like.

シンチレータ16が柱状結晶の集合体となっている場合に、熱CVD法を用いて防湿部17を形成すれば、柱状結晶同士の間の隙間に、防湿部17をある程度侵入させることができる。そのため、シンチレータ16の表面に、柱状結晶による凹凸があったとしても、ほぼ均一な膜厚を有する防湿部17を形成することができる。 When the scintillator 16 is an aggregate of columnar crystals, if the moisture-proof portion 17 is formed by using the thermal CVD method, the moisture-proof portion 17 can penetrate into the gap between the columnar crystals to some extent. Therefore, even if the surface of the scintillator 16 has irregularities due to columnar crystals, it is possible to form the moisture-proof portion 17 having a substantially uniform film thickness.

接合部20は、アレイ基板2とシンチレータパネル10との間に設けることができる。接合部20は、透光性を有し、アレイ基板2とシンチレータパネル10とを接合することができる。この場合、シンチレータパネル10のシンチレータ16を、アレイ基板2の複数の光電変換部2bが設けられた領域の上に接合することができる。 The joint portion 20 can be provided between the array substrate 2 and the scintillator panel 10. The joining portion 20 has translucency, and can join the array substrate 2 and the scintillator panel 10. In this case, the scintillator 16 of the scintillator panel 10 can be bonded onto the region of the array substrate 2 provided with the plurality of photoelectric conversion units 2b.

接合部20は、例えば、光学両面テープ(OCAテープ(Optical Clear Adhesive Tape))などとすることができる。また、接合部20は、例えば、光学接着剤や光学ジェルなどを硬化させることで形成されたものとすることもできる。この場合、接合部20は、紫外線の照射により硬化したものとすることができる。 The joint portion 20 may be, for example, an optical double-sided tape (OCA tape (Optical Clear Adhesive Tape)) or the like. Further, the joint portion 20 may be formed by curing, for example, an optical adhesive or an optical gel. In this case, the joint portion 20 can be hardened by irradiation with ultraviolet rays.

次に、他の実施形態に係るシンチレータパネル110およびX線検出器1aについて例示する。
図7は、シンチレータパネル110およびX線検出器1aの模式断面図である。
図8は、シンチレータパネル110の模式断面図である。
図7に示すように、X線検出器1aには、アレイ基板2、シンチレータパネル110、および接合部20を設けることができる。なお、前述したX線検出器1と同様に、X線検出器1aには、回路基板3および画像構成部4を設けることができる。
Next, the scintillator panel 110 and the X-ray detector 1a according to another embodiment will be illustrated.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the scintillator panel 110 and the X-ray detector 1a.
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the scintillator panel 110.
As shown in FIG. 7, the X-ray detector 1a may be provided with an array substrate 2, a scintillator panel 110, and a joint portion 20. Similar to the X-ray detector 1 described above, the X-ray detector 1a may be provided with the circuit board 3 and the image constituent unit 4.

シンチレータパネル110には、基板111、シンチレータ16、および防湿部17を設けることができる。
基板111は、板状を呈し、X線を透過させることができる。基板111は、基部12、反射部113、および緩和部114を有することができる。
The scintillator panel 110 may be provided with a substrate 111, a scintillator 16, and a moisture-proof portion 17.
The substrate 111 has a plate shape and is capable of transmitting X-rays. The substrate 111 can have a base 12, a reflecting 113, and a relaxation 114.

反射部113は、基部12の一方の面に設けることができる。反射部113は、例えば、基部12の一方の面の全域を覆うように設けることができる。反射部113は、蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために設けることができる。例えば、反射部113は、シンチレータ16において生じた蛍光のうち、光電変換部2bが設けられた側とは反対側に向かう光を反射させて、光電変換部2bに向かうようにする。すなわち、反射部113は、基部12と、シンチレータ16と、の間に設けられ、シンチレータ16において発生した蛍光を反射可能とすることができる。 The reflecting portion 113 can be provided on one surface of the base portion 12. The reflecting portion 113 can be provided, for example, so as to cover the entire area of one surface of the base portion 12. The reflection unit 113 can be provided in order to increase the utilization efficiency of fluorescence and improve the sensitivity characteristics. For example, the reflection unit 113 reflects light that is directed to the side opposite to the side where the photoelectric conversion unit 2b is provided among the fluorescence generated in the scintillator 16 so that the light is directed to the photoelectric conversion unit 2b. That is, the reflecting portion 113 is provided between the base portion 12 and the scintillator 16, and can reflect the fluorescence generated in the scintillator 16.

また、図7に示すように、X線は、反射部113を介してシンチレータ16に入射する。そのため、反射部113は、X線を透過し、且つ、蛍光に対する反射率が高いものとすることができる。前述したように、基部12は炭素繊維強化プラスチックから形成されている。そのため、アルミニウムや銀などを含む膜を基部12の表面に直接形成したり、基部12の表面に直接貼り付けたりすることが難しい。そこで、反射部113は、板状の樹脂部113aと、樹脂部113aの内部に設けられた複数の光散乱性粒子113bと、を有するものとすることができる。光散乱性粒子113bは、樹脂部113aの内部に分散させることができる。 Further, as shown in FIG. 7, X-rays enter the scintillator 16 via the reflecting portion 113. Therefore, the reflecting unit 113 can transmit X-rays and have a high reflectance to fluorescence. As mentioned above, the base 12 is made of carbon fiber reinforced plastic. Therefore, it is difficult to directly form a film containing aluminum, silver, or the like on the surface of the base 12, or to directly attach the film to the surface of the base 12. Therefore, the reflecting portion 113 may have a plate-shaped resin portion 113a and a plurality of light-scattering particles 113b provided inside the resin portion 113a. The light scattering particles 113b can be dispersed inside the resin portion 113a.

樹脂部113aは、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどから形成することができる。樹脂部113aがポリエチレンテレフタレートを含み、防湿部17が熱CVD法により形成されたポリパラキシリレンなどを含む場合には、反射部113(樹脂部113a)と防湿部17とが接する部分が、水分の侵入に対して高い抑止効果を有するものとなる。そのため、高い防湿性能を有するシンチレータパネル110とすることができる。 The resin portion 113a can be formed from, for example, polyethylene terephthalate. When the resin portion 113a contains polyethylene terephthalate and the moisture-proof portion 17 contains polyparaxylylene or the like formed by the thermal CVD method, the portion where the reflection portion 113 (resin portion 113a) and the moisture-proof portion 17 are in contact with each other has moisture. It has a high deterrent effect against the invasion of. Therefore, the scintillator panel 110 having high moisture-proof performance can be obtained.

光散乱性粒子113bは、例えば、TiOの粒子とすることができる。反射部113が樹脂部113aを有していれば、反射部113と、炭素繊維強化プラスチックから形成された基部12とを接合することが容易となる。反射部113は、例えば、基部12に接着することができる。 The light scattering particles 113b can be, for example, TiO 2 particles. If the reflective portion 113 has the resin portion 113a, it becomes easy to join the reflective portion 113 and the base portion 12 formed of carbon fiber reinforced plastic. The reflective portion 113 can be adhered to, for example, the base portion 12.

また、反射部113には金属が含まれていない。そのため、反射部113の上にシンチレータ16を直接形成しても、反射部113が腐食することがない。そのため、前述した保護部15は省くことができる。 Further, the reflective portion 113 does not contain metal. Therefore, even if the scintillator 16 is directly formed on the reflecting portion 113, the reflecting portion 113 does not corrode. Therefore, the above-mentioned protection unit 15 can be omitted.

緩和部114は、基部12の、反射部113が設けられた側とは反対側の面に設けることができる。前述した緩和部14と同様に、緩和部114は、基部12の一方の面側に発生する熱応力を他方の面側に発生する熱応力で相殺させるために設けることができる。 The relaxation portion 114 can be provided on the surface of the base portion 12 opposite to the side on which the reflection portion 113 is provided. Similar to the relaxation portion 14 described above, the relaxation portion 114 can be provided to cancel the thermal stress generated on one surface side of the base portion 12 with the thermal stress generated on the other surface side.

緩和部114は、例えば、基部12の他方の面の全域に設けることもできるし、基部12の面の所定の領域に設けることもできる。この場合、緩和部114の熱膨張率と剛性は、反射部113の熱膨張率と剛性になるべく近くなるようにすることが好ましい。例えば、緩和部114は、板状の樹脂部114aの内部に光散乱性粒子113bを分散させたものとすることができる。そして、樹脂部114aの材料と厚みは、樹脂部113aの材料と厚みと同じとすることができる。 The relaxation portion 114 may be provided, for example, over the entire other surface of the base portion 12, or may be provided in a predetermined region of the surface of the base portion 12. In this case, it is preferable that the coefficient of thermal expansion and rigidity of the relaxation unit 114 are as close as possible to the coefficient of thermal expansion and rigidity of the reflection unit 113. For example, the relaxation portion 114 may have light-scattering particles 113b dispersed inside the plate-shaped resin portion 114a. The material and thickness of the resin portion 114a can be the same as the material and thickness of the resin portion 113a.

なお、樹脂部114aに含まれている光散乱性粒子113bが剛性に与える影響は小さいため、緩和部114は光散乱性粒子113bを含んでいなくてもよい。すなわち、緩和部114として樹脂部114aが設けられていてもよい。ただし、緩和部114の構成が、反射部113の構成と同じで有れば、製造工程の簡略化、ひいては製造コストの低減を図ることができる。 Since the light scattering particles 113b contained in the resin portion 114a have a small effect on the rigidity, the relaxation portion 114 does not have to include the light scattering particles 113b. That is, the resin portion 114a may be provided as the relaxation portion 114. However, if the configuration of the relaxation unit 114 is the same as that of the reflection unit 113, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

また、前述したシンチレータパネル10の場合と同様に、基部12の厚みは、0.4mm以下とすることが好ましい。また、樹脂部113aの厚みと樹脂部114aの厚みの合計は、基部12の厚みよりも大きくすることが好ましい。この様にすれば、基部12の剛性、樹脂部113aの剛性、および樹脂部114aの剛性のバランスを取るのが容易となる。そのため、シンチレータパネル110をアレイ基板2に隙間なく接合するのが容易となり、且つ、シンチレータ16を形成する際に、シンチレータパネル110に反りや変形が発生するのを抑制することができる。 Further, as in the case of the scintillator panel 10 described above, the thickness of the base portion 12 is preferably 0.4 mm or less. Further, the total thickness of the resin portion 113a and the thickness of the resin portion 114a is preferably larger than the thickness of the base portion 12. In this way, it becomes easy to balance the rigidity of the base portion 12, the rigidity of the resin portion 113a, and the rigidity of the resin portion 114a. Therefore, it becomes easy to join the scintillator panel 110 to the array substrate 2 without a gap, and it is possible to prevent the scintillator panel 110 from being warped or deformed when the scintillator 16 is formed.

以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。 Although some embodiments of the present invention have been illustrated above, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, changes, etc. can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof. In addition, the above-described embodiments can be implemented in combination with each other.

1 X線検出器、1a X線検出器、2 アレイ基板、2a 基板、2b 光電変換部、3 回路基板、4 画像構成部、10 シンチレータパネル、11 基板、12 基部、12a、12b プリプレグ、13 反射部、13a 樹脂層、13b 接合層、13c 反射層、14 緩和部、14a 樹脂層、14b 接合層、14c 反射層、15 保護部、16 シンチレータ、17 防湿部、110 シンチレータパネル、111 基板、113 反射部、113a 樹脂層、113b 光散乱性粒子、114 緩和部、114a 樹脂層 1 X-ray detector, 1a X-ray detector, 2 array board, 2a board, 2b photoelectric conversion part, 3 circuit board, 4 image component part, 10 scintillator panel, 11 board, 12 bases, 12a, 12b prepreg, 13 reflection Part, 13a resin layer, 13b bonding layer, 13c reflective layer, 14 relaxation part, 14a resin layer, 14b bonding layer, 14c reflective layer, 15 protective part, 16 scintillator, 17 moisture-proof part, 110 scintillator panel, 111 substrate, 113 reflection Part, 113a resin layer, 113b light scattering particles, 114 relaxation part, 114a resin layer

Claims (5)

板状を呈し、複数の炭素繊維を有するプリプレグを少なくとも1つ有し、放射線を透過可能な基部と、
前記基部の一方の面側に設けられたシンチレータと、
前記基部と、前記シンチレータと、の間に設けられた反射部と、
前記反射部と、前記シンチレータと、の間に設けられた保護部と、
前記基部の、前記反射部が設けられた側とは反対側に設けられた緩和部と、
を備え、
前記反射部は、
前記シンチレータ側に設けられ、前記シンチレータにおいて発生した蛍光を反射可能な反射層と、
前記基部側に設けられ、樹脂を含む第1の樹脂層と、
を有し、
前記緩和部は、樹脂を含む第2の樹脂層を有し、
前記基部の厚みは、0.4mm以下であり、
前記第1の樹脂層の厚みと、前記第2の樹脂層の厚みとの合計は、前記基部の厚みよりも大きいシンチレータパネル。
A base that is plate-shaped, has at least one prepreg with multiple carbon fibers, and is permeable to radiation,
A scintillator provided on one side of the base and
A reflective portion provided between the base portion and the scintillator,
A protective portion provided between the reflective portion and the scintillator,
A relaxation portion of the base portion provided on the side opposite to the side on which the reflection portion is provided, and a relaxation portion.
With
The reflective part is
A reflective layer provided on the scintillator side and capable of reflecting the fluorescence generated in the scintillator,
A first resin layer provided on the base side and containing a resin,
Have,
The relaxation portion has a second resin layer containing a resin, and has a second resin layer.
The thickness of the base is 0.4 mm or less.
A scintillator panel in which the sum of the thickness of the first resin layer and the thickness of the second resin layer is larger than the thickness of the base portion.
板状を呈し、複数の炭素繊維を有するプリプレグを少なくとも1つ有し、放射線を透過可能な基部と、
前記基部の一方の面側に設けられたシンチレータと、
前記基部と、前記シンチレータと、の間に設けられ、樹脂部と、前記樹脂部の内部に設けられた複数の光散乱性粒子と、を有する反射部と、
前記基部の、前記反射部が設けられた側とは反対側に設けられ、樹脂部を有する緩和部と、
を備え、
前記基部の厚みは、0.4mm以下であり、
前記反射部の樹脂部の厚みと、前記緩和部の樹脂部の厚みとの合計は、前記基部の厚みよりも大きいシンチレータパネル。
A base that is plate-shaped, has at least one prepreg with multiple carbon fibers, and is permeable to radiation,
A scintillator provided on one side of the base and
A reflective portion provided between the base portion and the scintillator and having a resin portion and a plurality of light-scattering particles provided inside the resin portion.
A relaxation portion of the base portion, which is provided on the side opposite to the side where the reflection portion is provided and has a resin portion,
With
The thickness of the base is 0.4 mm or less.
A scintillator panel in which the sum of the thickness of the resin portion of the reflection portion and the thickness of the resin portion of the relaxation portion is larger than the thickness of the base portion.
前記シンチレータの理論密度をρ(g/cm)、平面視における前記シンチレータの投影面積をS(cm)、前記シンチレータの平均厚みをd(cm)、前記シンチレータの重量をW(g)とした場合に、以下の式を満足する請求項1または2に記載のシンチレータパネル。
{W/(ρSd)}≦0.811
The theoretical density of the scintillator is ρ (g / cm 3 ), the projected area of the scintillator in plan view is S (cm 2 ), the average thickness of the scintillator is d (cm), and the weight of the scintillator is W (g). The scintillator panel according to claim 1 or 2, which satisfies the following equation when
{W / (ρSd)} ≤ 0.811
前記基部は、前記複数の炭素繊維が伸びる方向が異なる複数種類の前記プリプレグを有し、
前記複数種類のプリプレグは積層され、
前記基部の厚み方向の中心部に対して、前記厚み方向に対称となる位置に設けられたプリプレグは、前記複数の炭素繊維が伸びる方向が略同じである請求項1〜3のいずれか1つに記載のシンチレータパネル。
The base has a plurality of types of the prepreg in which the plurality of carbon fibers extend in different directions.
The plurality of types of prepregs are laminated and
The prepreg provided at a position symmetrical with respect to the central portion in the thickness direction of the base portion is any one of claims 1 to 3 in which the directions in which the plurality of carbon fibers extend are substantially the same. The scintillator panel described in.
複数の光電変換部を有するアレイ基板と、
前記複数の光電変換部の上に設けられた請求項1〜4のいずれか1つに記載のシンチレータパネルと、
を備えた放射線検出器。
An array board with multiple photoelectric conversion units and
The scintillator panel according to any one of claims 1 to 4 provided on the plurality of photoelectric conversion units.
Radiation detector equipped with.
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