JP2021013013A - 高放射線量時の性能を最適化した太陽電池の設計 - Google Patents
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 55
- 238000013461 design Methods 0.000 title description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- FTWRSWRBSVXQPI-UHFFFAOYSA-N alumanylidynearsane;gallanylidynearsane Chemical compound [As]#[Al].[As]#[Ga] FTWRSWRBSVXQPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 206010011906 Death Diseases 0.000 description 16
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005952 Aluminium phosphide Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N [Ga].[As].[In] Chemical compound [Ga].[As].[In] KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPNXXZIBFHTHDM-UHFFFAOYSA-N aluminium phosphide Chemical compound P#[Al] PPNXXZIBFHTHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009419 refurbishment Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/041—Provisions for preventing damage caused by corpuscular radiation, e.g. for space applications
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- H—ELECTRICITY
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0352—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/0304—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
- H01L31/03046—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds including ternary or quaternary compounds, e.g. GaAlAs, InGaAs, InGaAsP
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
- H01L31/0549—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means comprising spectrum splitting means, e.g. dichroic mirrors
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
- H01L31/056—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means the light-reflecting means being of the back surface reflector [BSR] type
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- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/068—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN homojunction type, e.g. bulk silicon PN homojunction solar cells or thin film polycrystalline silicon PN homojunction solar cells
- H01L31/0687—Multiple junction or tandem solar cells
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- H01L31/0735—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type comprising only AIIIBV compound semiconductors, e.g. GaAs/AlGaAs or InP/GaInAs solar cells
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- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/184—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof the active layers comprising only AIIIBV compounds, e.g. GaAs, InP
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- H01L31/1844—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof the active layers comprising only AIIIBV compounds, e.g. GaAs, InP comprising ternary or quaternary compounds, e.g. Ga Al As, In Ga As P
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- Sustainable Development (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【課題】高放射線量時の性能を最適化した太陽電池を提供する。【解決手段】太陽電池は、基部114Bおよびエミッタ116からなるサブセル112Bを含み、サブセルの基部は約2μmから3μmの厚さを有し、サブセルの基部は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされ、サブセルによって生成される電流を最大化するために、リフレクタ130がサブセルの後ろに挿入される。リフレクタとして分布ブラッグ反射器(DBR)を用い、中央サブセル基部の削減された厚さを補償し、中央サブセルの電流を最大化する。好ましくは、反射率の中心が約870nmの波長に位置する。【選択図】図1
Description
本開示は概して、高放射線量時の性能を最適化した太陽電池の設計に関する。
近年まで、宇宙衛星は、約1e15e−/cm2の全実効放射線量を有する対地同期軌道(GEO)において稼働していた。この数年宇宙飛行は多様化し、GEOの実効放射線量よりも一桁分高い、はるかに高い実効放射線量を有する中高度軌道(MEO)を含むようになってきた。したがって、高放射線宇宙環境における太陽電池の性能は、ますます重要となりつつある。
この問題を解決するための方法は、過去にもあった。かかる方法の1つは、「Monolithic Multiple Solar Cells」と題され、2016年2月2日にMatthias Meusel等に交付された米国特許第9,252,313号に記載されており、Azur Space Solar Power GmbHに譲渡された(以下‘313特許と称する)。
‘313特許は、2つの部分セル同士の間に配置された半導体ミラーの使用について述べており、ミラーを使用することにより、半分に切り分けられたミラー上方の部分セルの厚みでも、部分セルの吸収を大幅に低減することがない。しかし、‘313特許の設計は約1e15e−/cm2以上の高放射線量になると急速に性能が低下する。
よって、高放射線量時の性能を最適化した太陽電池の設計が必要となる。
上記の限界を克服するために、また、本明細書を読み理解したときに明らかになる他の限界を克服するために、本開示は、高放射線量時の性能を最適化した太陽電池である装置、該装置を製造する方法、ならびに該装置を使用して電流を生成する方法を記載する。該太陽電池は、基部およびエミッタからなるサブセルを含み、サブセルの基部は約2〜3μmの厚さを有し、サブセルの基部は約1e14cm−3〜1e16cm−3でドープされ、かつリフレクタがサブセルによって生成される電流を最大化するために、サブセルの後ろに挿入される。
ここで、図面を参照する。各図面を通じて、類似の参照番号は対応する部分を表す。
以下の説明において、本書の一部を形成している添付図面を参照する。これらの図面は、本開示が実践され得る具体例を例示する目的で示されている。他の例も利用され得ること、および、本開示の範囲から逸脱することなく構造的な変更がなされ得ることを、理解されたい。
概要
宇宙放射線に曝露されたあとの標準的な3接合(3J)宇宙太陽電池の出力維持率は、GaAs中央セル(すなわち、中央サブセル)の保持によって最も大きく影響される。光を十分吸収し、中央サブセルの基部のドーピングを低下させるのに必要となるよりも薄く、中央サブセルの基部の厚さを削減することによって、本開示は中央サブセルの出力維持率を著しく向上させる。
宇宙放射線に曝露されたあとの標準的な3接合(3J)宇宙太陽電池の出力維持率は、GaAs中央セル(すなわち、中央サブセル)の保持によって最も大きく影響される。光を十分吸収し、中央サブセルの基部のドーピングを低下させるのに必要となるよりも薄く、中央サブセルの基部の厚さを削減することによって、本開示は中央サブセルの出力維持率を著しく向上させる。
好ましくは、中央サブセルの基部は約2〜3μmの厚さを有し、より好ましくは、中央サブセルの基部は約2.1〜2.3μmの厚さを有し、最も好ましくは、中央サブセルの基部は約2.1μmの厚さを有する。好ましくは、中央サブセルの基部は約1e14cm−3〜1e16cm−3でドープされるp型である。
分布ブラッグ反射器(DBR)などのリフレクタは、中央サブセルの後ろに挿入され、中央サブセル基部の削減された厚さを補償し、中央サブセルの電流を最大化する。好ましくは、反射率の中心が約870nmの波長に位置する。
実験的に、本開示を使用すると、寿命初期(BOL)の太陽電池効率は32%で、既存の業界標準と比較して4%高いことが実証された。さらに、本開示を使用すると、約1e15e−/cm2〜1e16e−/cm2の高電子フルエンスでの太陽電池の寿命末期(EOL)の出力は、過去の最先端の太陽電池と比較して12%上回っている。
装置
図1Aおよび1Bは積層図であり、各々は、基準太陽電池100Aおよび新型のIII−V3J太陽電池100Bをそれぞれ含む装置の断面図を示す。また、該装置を製造する方法および該装置を使用して電流を生成する方法の両方を記載する。
図1Aおよび1Bは積層図であり、各々は、基準太陽電池100Aおよび新型のIII−V3J太陽電池100Bをそれぞれ含む装置の断面図を示す。また、該装置を製造する方法および該装置を使用して電流を生成する方法の両方を記載する。
図1Aは、基準のIII−V3J太陽電池100Aを示す。太陽電池100Aは、p型のドープされたゲルマニウム(p−Ge)基板102を含み、その上には標準の(std)核形成層104、緩衝層106、下側トンネル接合108、中央サブセル(MC)裏面電界(BSF)110、約1e14cm−3〜1e16cm−3のp型ドーピングを伴うガリウムヒ化インジウム(GaInAs)からなり、約3.5μmの厚さを有する基部114Aと、インジウムヒ化ガリウム(InGaAs)からなるエミッタ116とからなる中央サブセル112A、MCウィンドウ118、上側トンネル接合120、上部サブセル(TC)BSF122、GaInPからなる上部サブセル124、アルミニウムリン化インジウム(AlInP)からなるウィンドウ126、およびGaInAsからなるキャップ128が堆積し、かつ/または製造される。太陽電池100Aは、反射防止膜、前面および裏面金属接点など、図示されていない他の特徴を含み得る。
基準太陽電池100Aは、十分吸収力があり、約3.5μmの厚さを有する中央サブセル112A基部114Aを有する。空間電荷領域を増大させるため、中央サブセル112A基部114Ap型ドーピングは低く、約1e14cm−3〜1e16cm−3となっている。空間電荷領域は、放射線障害によって引き起こされる中央サブセル112Aの拡散距離の減少に関わらず、少数キャリヤを収集する。かかる層の設計は、約1e15e−/cm2以下の放射線量に対して最適化される。
図1Bは、本開示による新型のIII−V3J太陽電池100Bを示し、リフレクタ130(すなわち、アルミニウムヒ化ガリウム(AlGaAs)およびヒ化ガリウム(GaAs)からなるDBR130)は、中央サブセル112Bの後ろに挿入されており、緩衝層106と下側トンネル接合108との間に位置し、DBR130は約870nmの波長に反射率の中心を有する。さらに、中央サブセル112Bは、約1e14cm−3〜1e16cm−3のp型ドーピングを伴い、約2.1μmの厚さを有する、GaInAsからなる基部114Bを含む。その他の点では、100Bの構造は、100Aの構造と同一である。
新型太陽電池100Bには、基準太陽電池100Aから2つの主要な変更があり、3.5μmの中央サブセル112A基部114Aを2.1μmの厚さの中央サブセル112B基部114Bに削減し、反射の中心波長が870nmであるDBR130を追加している。
実験結果
DBR130を使用することによって、中央サブセル112Bによって生成される電流を損なうことなく、中央サブセル112B基部114Bを約2.1μmまで薄くすることが可能となる。このことは、3.5μmの厚さの中央サブセル112A基部114Aを有する基準太陽電池100Aと、2.1μmの厚さの中央サブセル112B基部114Bを有する新型太陽電池100Bとの内部量子効率曲線を示すグラフである図2において実証されている。
DBR130を使用することによって、中央サブセル112Bによって生成される電流を損なうことなく、中央サブセル112B基部114Bを約2.1μmまで薄くすることが可能となる。このことは、3.5μmの厚さの中央サブセル112A基部114Aを有する基準太陽電池100Aと、2.1μmの厚さの中央サブセル112B基部114Bを有する新型太陽電池100Bとの内部量子効率曲線を示すグラフである図2において実証されている。
新型太陽電池100Bは、基準太陽電池100Aの中央サブセル112A基部114Aのほぼ半分の厚さの中央サブセル112B基部114Bを有するという事実にも関わらず、内部量子効率(IQE)の曲線は、ほぼ同一であり、積分電流値は誤差の範囲内で同じである。新型太陽電池100Bのより薄い2.1μm中央サブセル112B基部114Bは、新型太陽電池100Bの電圧にも恩恵をもたらす。より厚い3.5μmの中央サブセル112A基部114Aは、基準太陽電池100Aの裏側近くに暗電流を有し、そこでは光度が低い。
部分的に、中央サブセル112Bの高電流(DBR130からの)および中央サブセル112Bのより高い電圧(中央サブセル112B基部114Bがより薄いことによる)が理由の一部となって、新型太陽電池100Bは格別のBOL効率を有する。新型太陽電池100BのBOL LIV特性は、図3に要約されている。
図3は、LIV(光−電流−電圧)データの比較のための4つの実験的分割を示す(基準太陽電池と新型太陽電池との間での、Voc(開回路電圧)、Jsc(短絡回路電流)、Eff(最大電力点における太陽電池効率)およびFF(曲線因子)を含む)。点線300は、既存の最先端の基準太陽電池100Aの対応する電流値を示す。
新型太陽電池100Bは、基準太陽電池100Aよりもほぼ70mV高い。新型太陽電池100Bの電流は、基準太陽電池100Aの電流に一致する。新型太陽電池100Bの総合的なBOL効率は、基準太陽電池100Aよりも4%高い。
新型太陽電池100Bの中央サブセル112B基部114Bの低いp型ドーピング(約1e14cm−3〜1e16cm−3)および新型太陽電池100Bの中央サブセル112B基部114Bの薄さ(約2.1μm)は、EOL性能、特に高放射線レベルにおいて著しい恩恵を受ける。基準太陽電池100Aと新型太陽電池100Bの1MeV電子放射線量(e−dose)(e−/cm2)(電子フルエンス)の関数としての出力維持率(NPmp)のグラフが図4に示されている。図4から、新型太陽電池100Bの出力維持率は、1MeV電子放射線量0〜5e14e−/cm2に関して、基準太陽電池100Aと同様であることが明白である。
しかし、約1e15e−/cm2〜1e16e−/cm2の1MeV電子放射線量では、新型太陽電池100BのNPmpは、放射線量の増加に伴い、基準太陽電池100Aとの差は明らかに大きくなっている。約1e15e−/cm2および1e16e−/cm2の1MeV電子放射線量では、基準太陽電池100Aよりも、1%および8%上回る新型太陽電池100BのNPmpの改善がみられる。
BOL効率の改善とNPmpを組み合わせることにより、EOL効率の改善がもたらされる。ここで、EOL効率=BOL効率×NPmpである。基準太陽電池100Aおよび新型太陽電池100Bの1MeV電子放射線量の関数としてのEOL効率のグラフが、図5に示されている。
図5から、新型太陽電池100BのEOL効率は、全放射線量において、基準太陽電池100Aよりも高いことが明らかである。低い放射線量においては、EOL効率の差は約4%である(BOLでの新型太陽電池100Bの4%の優位性による)。約1e15e−/cm2の1MeV電子放射線量から開始すると、EOL効率における差は、基準太陽電池100Aと比較して新型太陽電池100BがNPmp値が勝っていることにより、約4%高く増加するように展開する。約1e16e−/cm2の1MeV電子放射線量において、EOL効率における差は、約12%である。これは、市場で提供されている他の太陽電池に劣ることのない、著しいEOL効率の増加である。
概要
本開示は、高放射線環境において中央サブセル112B保持を最適化するために、薄い中央サブセル112B基部114Bの低いp型ドーピングを、DBR130と組み合わせる最初のソリューションである。これは、少なくとも2つの優位性をもたらす。
本開示は、高放射線環境において中央サブセル112B保持を最適化するために、薄い中央サブセル112B基部114Bの低いp型ドーピングを、DBR130と組み合わせる最初のソリューションである。これは、少なくとも2つの優位性をもたらす。
第一に、新型太陽電池100Bの有効なDBR130と結合した約2〜3μm、より好ましくは約2.1〜2.3μm、および最も好ましくは約2.1μmの厚さを有する中央サブセル112B基部114Bを使用することにより、DBRを含まない基準太陽電池100Aで約3〜3.5μmの厚さを有する中央サブセル112A基部114Aを完全に吸収するのと同等の有効吸収距離をもたらす。このように、新型太陽電池100Bの中央サブセル112BのBOL電流、および、これによる新型太陽電池100BのBOL効率は損なわれることなく、EOL効率を向上させる。その結果として、新型太陽電池100Bは、既存の最先端の基準太陽電池100Aと比較して4%高い、32%近くのBOL効率レベルを達成することが依然として可能である。
第二に、新型太陽電池100Bの中央サブセル112B基部114Bの低いp型ドーピングと組み合わせることで、新型太陽電池100Bの比較的薄い中央サブセル112B基部114Bは、約1e15e−/cm2〜1e16e−/cm2の放射線量で業界内では比類ない出力維持率をもたらす。結果として、新型太陽電池100Bソリューションの出力維持率およびEOL電力は、これらの放射線量において、既存の最先端の基準太陽電池100Aよりも12%優れている。
本開示の結果は、新型太陽電池100Bの高放射線量時の性能を最適化した設計であり、それはMEOのような約1e16e−/cm2の放射線量を経て、現在の最先端の基準太陽電池100Aの設計よりも12%優れたEOL効率を示す。
[代替例および変更例]
上記の説明は、例示および説明を目的として提示されており、網羅的であること、または説明した例に限定されることを意図するものではない。上述の特定の説明の代わりに、多くの代替例および変更例を使用することができる。
上記の説明は、例示および説明を目的として提示されており、網羅的であること、または説明した例に限定されることを意図するものではない。上述の特定の説明の代わりに、多くの代替例および変更例を使用することができる。
例えば、本開示は広く採用された3接合太陽電池100Bを説明しているが、単一または多接合太陽電池(例えば、単接合太陽電池、2接合太陽電池、もしくは他の多接合太陽電池)を含む太陽電池100Bのいかなる実例をも対象とするよう拡大し得る。
別の例では、中央サブセル112BはInGaAsおよびGaInAsを含むように説明され、DBR130はAlGaAsおよびGaAsを含むように説明されているが、他の材料も使用され得る。
さらに別の例では、本開示は、中央サブセル112Bを説明しているが、基部114BおよびDBR130は、ある種の材料を含むものとして説明され、代替例では、中央サブセル112B、基部114BおよびDBR130がこれらのもしくは他の材料からなるか、または本質的にこれらのもしくは他の材料からなると説明され得る。
さらに別の例では、本開示は任意のサブセルにおいて倒置型メタモルフィック(IMM)装置に適用可能であり、該装置の放射線保持を高める。特に、本開示はその構造内において、GaAs、GaInAs、AlGaAs、AlGaInAs、GaInAsSb、GaInAsN、GaInAsNSb、GaInAsSb、GaAsSb、GaPAsSbのサブセルに適用され得る。
さらに別の例では、サブセル112Bを通る光の第2通過を捕捉するために、DBR130以外のリフレクタが使用され得る。かかるリフレクタは、AlAs/GaAs、AlGaInAs/GaInAs、AlGaAsSb/GaAsSbおよび同様のDBRなどのエピタキシー、または銀、金、アルミニウム、チタン、プラチナ、ニッケルなどの金属層で被覆されたTiOx、SiOx、Al2O3などの低指数材料を含む、サブセル112Bの裏面に適用された金属面、または半導体装置製造における同様の共通金属にはめ込むことが可能である。
通常、サブセルは、p型のゲルマニウム基板には普通であるn−on−pの構成を有する。これは、サブセルのエミッタはn型であり、基部はp型であることを意味する。しかし、他の例は、サブセルのエミッタがp型であり、基部がn型であるp−on−nの構成を含み得る。
同様に、本開示は約1e15e−/cm2〜1e16e−/cm2の放射線量で所望の方法で動作する新型太陽電池100Bを説明しているが、代替例は、約1e15e−/cm2〜1e16e−/cm2の範囲より大きいかあるいは小さい放射線量で所望の方法で動作する新型太陽電池100Bを説明し得る。
航空宇宙用途
本開示の例は、図6Aに示すように、ステップ602〜614を含む、太陽電池、太陽電池パネルおよび/または衛星などの航空宇宙飛行体を製造する方法600に照らして説明することができ、一以上の新型太陽電池100Bのアレイ624からなるパネル622を含む、様々なシステム618および本体620からなる結果として得られる衛星616を、図6Bに示す。
本開示の例は、図6Aに示すように、ステップ602〜614を含む、太陽電池、太陽電池パネルおよび/または衛星などの航空宇宙飛行体を製造する方法600に照らして説明することができ、一以上の新型太陽電池100Bのアレイ624からなるパネル622を含む、様々なシステム618および本体620からなる結果として得られる衛星616を、図6Bに示す。
図6Aに示すように、製造前に、例示的な方法600は、衛星616の仕様および設計602、ならびにそのための資材調達604を含み得る。製造中に、衛星616、パネル622、アレイ624および新型太陽電池100Bの製造を含む、衛星616のコンポーネントおよびサブアセンブリ製造606およびシステムインテグレーション608が行われる。その後、衛星616は、認証および納品610を経て運航612に供され得る。衛星616はまた、打ち上げ前に、保守およびサービス614(改造、再構成、改修等を含む)を予定することができる。
方法600の工程の各々は、システムインテグレータ、第三者および/またはオペレータ(例えば顧客)によって実行または実施され得る。本明細書において、システムインテグレータには、制限なしに任意の数の製造業者および主要なシステム下請け業者を含み得、第三者には、制限なしに任意の数のベンダ、下請業者およびサプライヤを含み得、オペレータは、衛星会社、軍事組織、サービス組織等であり得る。
図6Bに示すように、例示的な方法600によって製造された衛星616には、様々なシステム618および本体620が含まれ得る。衛星616と共に含まれるシステム618の例は、推進システム626、電気システム628、通信システム630および動力システム632のうちの一以上を含むが、それらに限定されるわけではない。他のシステムもいくつでも含めることができる。
機能ブロック図
図7は、一例による、機能ブロック図の形態のパネル622の図である。パネル622は、パネル622に個別に取り付けられた新型太陽電池100Bの一以上からなるアレイ624からなる。太陽電池100Bは、単一または多接合太陽電池100B(例えば、単接合太陽電池100B、2接合太陽電池100B、もしくは他の多接合太陽電池100B)を含み得る。少なくとも1つの新型太陽電池100Bは、基部114Bおよびエミッタ116からなるサブセル112Bを含み、基部114Bは約2〜3μmの厚さを有し、基部114Bは約1e14cm−3〜1e16cm−3でドープされたp型であり、かつDBR130はサブセル112Bによって生成される電流を最大化するために、サブセル112Bの後ろに挿入される。新型太陽電池100Bの各々は、光源702からの光700を吸収し、それに応じて、電気出力704を生成する。
図7は、一例による、機能ブロック図の形態のパネル622の図である。パネル622は、パネル622に個別に取り付けられた新型太陽電池100Bの一以上からなるアレイ624からなる。太陽電池100Bは、単一または多接合太陽電池100B(例えば、単接合太陽電池100B、2接合太陽電池100B、もしくは他の多接合太陽電池100B)を含み得る。少なくとも1つの新型太陽電池100Bは、基部114Bおよびエミッタ116からなるサブセル112Bを含み、基部114Bは約2〜3μmの厚さを有し、基部114Bは約1e14cm−3〜1e16cm−3でドープされたp型であり、かつDBR130はサブセル112Bによって生成される電流を最大化するために、サブセル112Bの後ろに挿入される。新型太陽電池100Bの各々は、光源702からの光700を吸収し、それに応じて、電気出力704を生成する。
さらに、本開示は、以下の条項による実施例を含む。
条項1.高放射線量時の性能を最適化した太陽電池を備える装置であって、前記太陽電池は、基部およびエミッタからなるサブセルを含み、前記サブセルの前記基部は約2μmから3μmの厚さを有し、前記サブセルの前記基部は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされており、前記サブセルによって生成される電流を最大化するために、前記サブセルの後ろにリフレクタが挿入されている、装置。
条項2.前記高放射線量が、約1e15e−/cm2から1e16e−/cm2の放射線量を含む、条項1に記載の装置。
条項3.前記太陽電池が、単接合または多接合太陽電池である、条項1または2に記載の装置。
条項4.前記リフレクタが、アルミニウムヒ化ガリウム(AlGaAs)およびヒ化ガリウム(GaAs)からなる分布ブラッグ反射器である、条項1から3のいずれか一項に記載の装置。
条項5.前記リフレクタが、前記太陽電池の緩衝層と下側トンネル接合との間に位置する、条項1から4のいずれか一項に記載の装置。
条項6.前記リフレクタが、反射率の中心を約870nmの波長に有する、条項1から5のいずれか一項に記載の装置。
条項7.前記サブセルが、前記太陽電池の中央サブセルである、条項1から6のいずれか一項に記載の装置。
条項8.前記サブセルの前記エミッタが、インジウムヒ化ガリウム(InGaAs)からなる、条項1から7のいずれか一項に記載の装置。
条項9.前記サブセルの前記基部が、ガリウムヒ化インジウム(GaInAs)からなる、条項1から8のいずれか一項に記載の装置。
条項10.前記サブセルの前記基部が、約2.1μmから2.3μmの厚さを有する、条項1から9のいずれか一項に記載の装置。
条項11.前記サブセルの前記基部が、約2.1μmの厚さを有する、請求項1から10のいずれか一項に記載の装置。
条項12.より厚いサブセル基部を有し、リフレクタを有さない基準太陽電池と比較して、前記太陽電池が高放射線量時の性能を最適化した、条項1から11のいずれか一項に記載の装置。
条項13.前記太陽電池の1MeV電子放射線量の関数としての出力維持率が、約0から5e14e−/cm2の前記1MeV電子放射線量では、前記基準太陽電池と同等である、条項12に記載の装置。
条項14.前記太陽電池の1MeV電子放射線量の関数としての出力維持率が、約1e15e−/cm2から1e16e−/cm2の前記1MeV電子放射線量では、前記基準太陽電池よりも大きい、条項12に記載の装置。
条項15.前記太陽電池の寿命初期(BOL)効率が全放射線量で前記基準太陽電池よりも大きい、条項12から14のいずれか一項に記載の装置。
条項16.前記太陽電池の寿命(EOL)効率が全放射線量で前記基準太陽電池よりも大きい、条項12から15のいずれか一項に記載の装置。
条項17.前記太陽電池を含むパネルをさらに備える、条項1から16のいずれか一項に記載の装置。
条項18.前記パネルを含む宇宙飛行体をさらに備える、請求項17に記載の装置。
条項19.高放射線量時の性能を最適化した太陽電池を製造することを含む方法であって、前記太陽電池は、基部およびエミッタからなるサブセルを含み、前記サブセルの前記基部は約2μmから3μmの厚さを有し、前記サブセルの前記基部は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされ、前記サブセルによって生成される電流を最大化するために、前記サブセルの後ろにリフレクタが挿入される、方法。
条項20.高放射線量時の性能を最適化した太陽電池を使用する電流を生成することを含む方法であって、前記太陽電池は、基部およびエミッタからなるサブセルを含み、前記サブセルの前記基部は約2μmから3μmの厚さを有し、前記サブセルの前記基部は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされ、前記サブセルによって生成される電流を最大化するために、前記サブセルの後ろにリフレクタが挿入される、方法。
Claims (14)
- 高放射線量時の性能を最適化した太陽電池(100B)を備える装置であって、前記太陽電池(100B)は、
基部(114B)およびエミッタ(116)からなるサブセル(112B)を含み、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約2μmから3μmの厚さを有し、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされており、
前記サブセル(112B)によって生成される電流を最大化するために、前記サブセル(112B)の後ろにリフレクタ(130)が挿入されている、装置。 - 前記高放射線量が、約1e15e−/cm2から1e16e−/cm2の放射線量を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記リフレクタ(130)が、アルミニウムヒ化ガリウム(AlGaAs)およびヒ化ガリウム(GaAs)からなる分布ブラッグ反射器(130)である、請求項1または2に記載の装置。
- 前記リフレクタ(130)が、前記太陽電池(100B)の緩衝層(106)と下側トンネル接合(108)との間に位置する、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記リフレクタ(130)が、反射率の中心を約870nmの波長に有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記サブセル(112B)が、前記太陽電池(100B)の中央サブセル(112B)である、請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記サブセル(112B)の前記基部(114B)が、約2.1μmから2.3μmの厚さを有する、請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
- より厚いサブセル(112A)基部(114A)を有し、リフレクタ(130)を有さない基準太陽電池(100A)と比較して、前記太陽電池(100B)が高放射線量時の性能を最適化した、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記太陽電池(100B)の1MeV電子放射線量の関数としての出力維持率が、約0から5e14e−/cm2の前記1MeV電子放射線量では、前記基準太陽電池(100A)と類似し、かつ/または前記太陽電池(100B)の1MeV電子放射線量の関数としての出力維持率が、約1e15e−/cm2から1e16e−/cm2の前記1MeV電子放射線量では、前記基準太陽電池(100A)よりも大きい、請求項8に記載の装置。
- 前記太陽電池(100B)の寿命初期(BOL)効率が全放射線量で前記基準太陽電池(100A)よりも大きく、かつ/または、前記太陽電池(100B)の寿命(EOL)効率が全放射線量で前記基準太陽電池(100A)よりも大きい、請求項8または9に記載の装置。
- 前記太陽電池(100B)を含むパネル(622)をさらに備える、請求項1から10のいずれか一項に記載の装置。
- 前記パネル(622)を含む宇宙飛行体(616)をさらに備える、請求項11に記載の装置。
- 高放射線量時の性能を最適化した太陽電池(100B)を製造すること(600から614)を含む方法であって、
前記太陽電池(100B)は、
基部(114B)およびエミッタ(116)からなるサブセル(112B)を含み、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約2μmから3μmの厚さを有し、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされ、
前記サブセル(112B)によって生成される電流を最大化するために、前記サブセル(112B)の後ろにリフレクタ(130)が挿入される、方法。 - 高放射線量時の性能を最適化した太陽電池(100B)を使用する電流を生成すること(704)を含む方法であって、
前記太陽電池(100B)は、
基部(114B)およびエミッタ(116)からなるサブセル(112B)を含み、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約2μmから3μmの厚さを有し、
前記サブセル(112B)の前記基部(114B)は約1e14cm−3から1e16cm−3でドープされ、
前記サブセル(112B)によって生成される電流を最大化するために、前記サブセル(112B)の後ろにリフレクタ(130)が挿入される、方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/452,083 US20200411708A1 (en) | 2019-06-25 | 2019-06-25 | Solar cell design optimized for performance at high radiation doses |
US16/452,083 | 2019-06-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021013013A true JP2021013013A (ja) | 2021-02-04 |
Family
ID=70227840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020077855A Pending JP2021013013A (ja) | 2019-06-25 | 2020-04-25 | 高放射線量時の性能を最適化した太陽電池の設計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200411708A1 (ja) |
EP (1) | EP3758072A1 (ja) |
JP (1) | JP2021013013A (ja) |
CN (1) | CN112133776A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112713205A (zh) * | 2021-03-29 | 2021-04-27 | 南昌凯迅光电有限公司 | 一种高抗辐照三结砷化镓太阳电池及其制备方法 |
CN112864282B (zh) * | 2021-04-23 | 2021-11-05 | 南昌凯迅光电有限公司 | 一种抗辐照高效砷化镓太阳电池的制备方法 |
CN113690335B (zh) * | 2021-10-26 | 2022-03-08 | 南昌凯迅光电股份有限公司 | 一种改善型三结砷化镓太阳电池及其制作方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005000767A1 (de) | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Rwe Space Solar Power Gmbh | Monolithische Mehrfach-Solarzelle |
US8609984B2 (en) * | 2009-06-24 | 2013-12-17 | Florida State University Research Foundation, Inc. | High efficiency photovoltaic cell for solar energy harvesting |
CN104617168A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-05-13 | 天津蓝天太阳科技有限公司 | 一种抗辐照三结级联砷化镓太阳电池及制备方法 |
US20170092800A1 (en) * | 2015-08-17 | 2017-03-30 | Solaero Technologies Corp. | Four junction inverted metamorphic solar cell |
US10541345B2 (en) * | 2016-01-12 | 2020-01-21 | The Boeing Company | Structures for increased current generation and collection in solar cells with low absorptance and/or low diffusion length |
WO2019010037A1 (en) * | 2017-07-06 | 2019-01-10 | Solar Junction Corporation | HYBRID MOCVD / MBE EPITAXIAL GROWTH OF MULTI-JUNCTION SOLAR CELLS ADAPTED TO THE HIGH-PERFORMANCE NETWORK |
-
2019
- 2019-06-25 US US16/452,083 patent/US20200411708A1/en active Pending
-
2020
- 2020-04-07 EP EP20168452.9A patent/EP3758072A1/en active Pending
- 2020-04-24 CN CN202010332722.2A patent/CN112133776A/zh active Pending
- 2020-04-25 JP JP2020077855A patent/JP2021013013A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200411708A1 (en) | 2020-12-31 |
CN112133776A (zh) | 2020-12-25 |
EP3758072A1 (en) | 2020-12-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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