JP2021005540A - 有機ｅｌデバイス及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供する。【解決手段】発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、基板と、発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される厚み及び幅を有するバンクと、有機層構造部とを含み、有機層構造部は発光領域内に配置される部分（Ａ）とバンクの幅方向における長さＬＢを有してバンク上に配置される部分（Ｂ）とを有し、有機層構造部は部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、式：ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１を満たす部分を含む有機ＥＬデバイスが提供される。【選択図】図２

Description

本発明は、有機ＥＬデバイス及びその製造方法に関する。

有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）デバイスは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を含むデバイスである。
特開２００７−０３５３４７号公報（特許文献１）には、基板上に撥液性の隔壁（バンク）を設け、この隔壁によって区画される領域に機能層を形成したエレクトロルミネッセンス素子が記載されている。

特開２００７−０３５３４７号公報

バンクによって発光領域を規定した面発光の有機ＥＬデバイスにおいては、その発光領域内で発光輝度にムラが生じることがあった。
本発明の目的は、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供することにある。

本発明は、以下に示す有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
［１］ 発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、
基板と、
前記発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される、厚み及び幅を有するバンクと、
有機層構造部と、
を含み、
前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）と、を有し、
前記有機層構造部は、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴ_ＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴ_ＡＣとするとき、下記式：
Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣ≦１．１
を満たす部分を含む、有機ＥＬデバイス。
［２］ 前記部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きい、［１］に記載の有機ＥＬデバイス。
［３］ 前記有機層構造部の全ての端部が前記バンク上に位置している、［１］又は［２］に記載の有機ＥＬデバイス。
［４］ 前記Ｌ_Ｂが２．５ｍｍ以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
［５］ 前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、［１］〜［４］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
［６］ 前記有機層構造部は、第１有機層と、前記第１有機層上に配置される第２有機層とを含み、
前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有し、
前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有し、
前記Ｌ_Ｂ２が前記Ｌ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きい、［５］に記載の有機ＥＬデバイス。
［７］ 前記バンクの少なくとも上面が撥液性を有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
［８］ 前記バンクが単層構造である、［１］〜［７］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
［９］ 前記発光領域は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である方形形状を有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
［１０］ 発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
前記発光領域を規定するための、厚み及び幅を有するバンクを基板上に形成する工程と、
前記バンクの少なくとも上面の撥液性を制御する工程と、
前記バンクが形成された基板上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程と、
を含み、
前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）とを有するように、かつ、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴ_ＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴ_ＡＣとするとき、下記式：
Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣ≦１．１
を満たす部分を含むように形成される、有機ＥＬデバイスの製造方法。
［１１］ 前記有機層構造部は、前記部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きくなるように形成される、［１０］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［１２］ 前記有機層構造部は、前記Ｌ_Ｂが２．５ｍｍ以上となるように形成される、［１０］又は［１１］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［１３］ 前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、［１０］〜［１２］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［１４］ 有機層構造部を形成する工程は、
前記バンクが形成された基板上に、第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程と、
前記第１塗布膜を乾燥させて第１有機層を形成する工程と、
前記第１有機層上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程と、
前記第２塗布膜を乾燥させて第２有機層を形成する工程と、
を含み、
前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有するように形成され、
前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有するように、かつ、前記Ｌ_Ｂ２が前記Ｌ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きくなるように形成される、［１３］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［１５］ 前記撥液性を制御する工程は、前記バンクの少なくとも上面の前記第１有機層形成用の塗布液に対する接触角を１０度未満にする工程を含む、［１０］〜［１４］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。

発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供することができる。

本発明に係る有機ＥＬデバイスが有することができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。 本発明に係る有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。 本発明に係る有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。

以下、実施形態を示しながら本発明について説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない場合がある。

＜有機ＥＬデバイス＞
本発明に係る有機ＥＬデバイス（以下、単に「有機ＥＬデバイス」ともいう。）は、基板と、該基板上に配置されるバンクと、有機層構造部とを含む。バンクは、有機ＥＬデバイスの発光領域を規定するものであり、該発光領域を取り囲むように基板上に配置される。有機ＥＬデバイスの発光領域とは、電圧の印加によって発光する二次元的な区域のうち、上記バンクによって取り囲まれた区域を意味する。
有機ＥＬデバイスは、発光領域を１つのみ有していてもよいし、２以上有していてもよい。
例えば、２以上の発光領域は、基板上に二次元配列（又はマトリックス状）に配置されていてもよい。各列における発光領域の間の間隔、各行における発光領域の間の間隔、発光領域の配置例及び発光領域の数等は、有機ＥＬデバイスの仕様等に応じて適宜設定される。
有機ＥＬデバイスは、トップエミッション型のデバイスでもよいし、ボトムエミッション型のデバイスでもよい。

有機ＥＬデバイスの発光領域には、発光を生じさせるための構造部である発光部が設けられている。発光部は、少なくとも、基板側から順に、第１電極（例えば、陽極）と、有機層構造部と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。有機層構造部は、有機層で構成され、１層又は２層以上の有機層を含んでいてもよい。有機層構造部は、有機ＥＬデバイスの発光に寄与する層である。

有機ＥＬデバイスの構成及び有機ＥＬデバイスの構成要素についてより詳細に説明する。

（１）基板
図１は、本発明に係る有機ＥＬデバイスが有することができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。図１に示されるバンク付き基板１０は、基板１１と、第１電極１２（例えば、陽極）と、バンク１３とを有する。
基板１１は、第１電極１２及びバンク１３を支持する支持体であり、例えば、可視光（波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光）に対して透光性を有する板状の透明部材である。
基板１１の厚みは、例えば３０μｍ以上１１００μｍ以下である。基板１１は、例えばガラス基板又はシリコン基板等のリジッド基板であってもよいし、プラスチック基板又は高分子フィルム等の可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、有機ＥＬデバイスが可撓性を有し得る。

基板１１には発光部を駆動させるための回路が予め形成されていてもよい。基板１１には、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やキャパシタ等があらかじめ形成されていてもよい。

（２）第１電極
第１電極１２は、例えば陽極である。ただし、第１電極１２が陰極であり、第２電極が陽極であってもよい。
第１電極１２の平面視形状（基板１１の厚み方向から見た形状）としては、例えば、長方形、正方形等の四角形、他の多角形、及び、四角形や他の多角形において角部に丸味を付けた形状等が挙げられる。第１電極１２の平面視形状は、円形又は楕円形でもよい。また、第１電極１２の平面視形状は、四角形や他の多角形において、少なくとも１辺を弧状（例えば円弧状）にした形状でもよい。
本明細書において、平面視とは、層等の厚み方向から見ることを意味する。

第１電極１２は、金属酸化物、金属硫化物又は金属等からなる薄膜を用いることができ、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、又は銅等からなる薄膜が用いられる。
有機ＥＬデバイスが基板１１側から光を出射する場合、光透過性を示す第１電極１２が用いられる。

第１電極１２の厚みは、光透過性、電気伝導度等を考慮して適宜決定することができる。第１電極１２の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。

一実施形態において、第１電極１２と基板１１との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。絶縁層等で構成される層を基板１１の一部とみなすこともできる。

（３）バンク
バンク１３は、有機ＥＬデバイスの発光領域１４を規定するための厚み及び幅を有する隔壁であり、換言すれば、発光領域１４を取り囲むように配置される厚み及び幅を有する隔壁である。バンク１３は、基板１１上、より具体的には、基板１１上に形成された第１電極１２上に配置される。この際、第１電極１２と第２電極との短絡防止の観点から、図１に示されるように、第１電極１２の周縁部の少なくとも一部の直上に配置されるようにバンク１３を配置することが好ましい。

バンク１３は、基板１１の表面上において予め設定されている発光領域１４を区画するために、開口を有するようなパターンで基板１１上に設けられる。
図１に示される例において、バンク１３の平面視形状は四角枠形状を有しているが、これに限定されるものではなく、バンク１３が有する開口形状及び外形形状（いずれも平面視形状）は、所望する発光領域１４の形状や基板１１の形状（いずれも平面視形状）等に応じて適宜選択される。
バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は通常、その面積が１ｍｍ^２以上であり、好ましくは５ｍｍ^２以上であり、また、通常１ｍ^２以下である。
一実施形態において、バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は、図１に示されるように、正方形、長方形等の方形形状であり、かつ、その少なくとも１辺の長さは１ｍｍ以上であり、２以上の辺又はすべての辺の長さが１ｍｍ以上であってもよい。辺の長さは、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、さらには２０ｍｍ以上であってもよい。バンク１３が有する開口形状が方形形状である場合において、１辺の長さは、通常１０００ｍｍ以下である。
発光領域１４の面積が大きいほど、発光輝度のムラが視認されやすい傾向にあることから、本発明は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である場合のように発光領域１４の面積が大きい場合にとりわけ有利である。

バンク１３は、例えば、１種類以上の樹脂組成物から構成することができる。
後述する塗布法によって有機層構造部を構成する第１有機層等の有機層を形成する場合、バンク１３は、該バンクによって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、好ましくは、少なくともその上面（基板１１とは反対側の面）が撥液性を有しており、より好ましくは、その上面及びその側面が撥液性を有している。
バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。
本明細書における撥液性とは、塗布法で使用する有機層形成用の塗布液に対する撥液性である。「有機層形成用の塗布液に対する撥液性」における有機層は通常、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）、すなわち、第１有機層である。

少なくともその上面が撥液性を有するバンク１３としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等であるバンク、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等の少なくとも上面に撥液処理を施してなるバンク等が挙げられる。
撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。

発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえでより有利であることから、上記塗布液に対するバンク１３の上面の接触角は、１０度未満であることが好ましく、９度以下であることがより好ましく、８度未満であることがさらに好ましい。同様の理由で、上記塗布液に対するバンク１３の側面の接触角は、１０度未満であることが好ましく、９度以下であることがより好ましく、８度未満であることがさらに好ましい。
上記接触角は、後述する［実施例］に記載の方法に従って測定される。

バンク１３は、単層構造であってもよいし、厚み方向に２以上の層を積層した多層構造をあってもよい。バンク１３の作製がより容易であることから、バンク１３は、好ましくは単層構造である。

バンク１３の断面形状は特に制限されず、例えば、バンク１３の発光領域１４に望む側面は、基板１１の表面に対して直交していてもよいし、鋭角をなすように傾斜していてもよい（順テーパ型）。

バンク１３の厚み（高さ）は、例えば０．３μｍ以上１０μｍ以下程度であり、好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下である。
バンク１３の幅（図１に示されるＷ）は、例えば０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
バンク１３の外形形状（平面視形状）が方形形状である場合、その１辺の長さは、例えば０．５ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度である。

バンク付き基板１０は、例えば、基板１１に予め設定される発光領域１４上に第１電極１２を形成した後、バンク１３を形成することで製造することができる。

バンク１３は、例えば、塗布法を利用して形成することができる。具体的には、バンク１３の材料を含む塗布液を、第１電極１２が形成された基板１１に塗布してなる塗布膜を乾燥させ、必要に応じて硬化処理を施した後、その塗布膜を所定の形状にパターニングすることで形成できる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法等が挙げられる。バンク１３の材料を含む塗布液の溶媒は、バンク１３の材料を溶解できる溶媒であればよい。

また、バンク１３は、例えばインクジェット塗布法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサー塗布法、ノズルコート法等によりパターニングされた塗布膜を形成し、必要に応じて硬化処理を施す直描方式によって形成することもできる。

（４）有機層構造部
上述のように、有機ＥＬデバイスの発光領域には発光部が設けられ、発光部は、少なくとも、第１電極（例えば、陽極）と、有機層構造部と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。第１電極と第２電極との間に、有機層構造部は、有機層で構成され、１層又は２層以上の有機層を含んでいてもよく、通常は、２層以上の有機層が設けられる。
本明細書において、第１有機層とは、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）を意味する。第１有機層は、好ましくは正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層又は電子注入層であり、より好ましくは正孔注入層又は発光層であり、さらに好ましくは正孔注入層である。

第１有機層が正孔注入層、電子輸送層又は電子注入層である場合、発光部は、第１有機層以外の有機層として、少なくとも発光層をさらに有する。
第１有機層が発光層である場合、発光部は有機層として第１有機層のみを有していてもよいが、他の有機層をさらに含むことが好ましい。

正孔注入層は、陽極（例えば、第１電極１２）から発光層への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。
正孔注入層の材料は公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入材料としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム及び酸化アルミニウム等の酸化物；フェニルアミン化合物；スターバースト型アミン化合物；フタロシアニン化合物；アモルファスカーボン；ポリアニリン；ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体が挙げられる。

発光層は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。
発光層は通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、あるいは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。
発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。発光層を構成する発光材料としては、例えば、下記の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料が挙げられる。

色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン若しくはその誘導体、テトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリフェニルアミン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、ピラゾロキノリン若しくはその誘導体、ジスチリルベンゼン若しくはその誘導体、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、ピロール若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、オリゴチオフェン若しくはその誘導体、オキサジアゾールダイマー若しくはその誘導体、ピラゾリンダイマー若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体等が挙げられる。

金属錯体系の発光材料としては、例えば、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属、又はＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体が挙げられる。金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等が挙げられる。

高分子系の発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、ポリアセチレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体の他、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等が挙げられる。

上記発光材料のうち、赤色に発光する材料（以下、「赤色発光材料」ともいう。）としては、例えば、クマリン若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。赤色発光材料としては、特開２０１１−１０５７０１号公報に開示されている材料も挙げられる。

緑色に発光する材料（以下、「緑色発光材料」ともいう。）としては、例えば、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。緑色発光材料としては、特開２０１２−０３６３８８号公報に開示されている材料も挙げられる。

青色に発光する材料（以下、「青色発光材料」ともいう。）としては、例えば、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。青色発光材料としては、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている材料も挙げられる。

ドーパント材料としては、例えば、ペリレン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、ルブレン若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、スクアリウム若しくはその誘導体、ポルフィリン若しくはその誘導体、スチリル色素、テトラセン若しくはその誘導体、ピラゾロン若しくはその誘導体、デカシクレン若しくはその誘導体、フェノキサゾン若しくはその誘導体等が挙げられる。

発光層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。発光層の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

電子注入層は、陰極から発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。
電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。
電子注入層の厚みは、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。

（５）有機層構造部の配置構成及び膜厚
有機層構造部は、発光部を形成する要素であり、基本的には、バンク１３によって規定された発光領域１４（バンク１３の開口部）内に形成されるものであるが、本発明は、有機層構造部が発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有することを特徴とする。

図２は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。
図２に示される例において、有機層構造部１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有する。有機層構造部１が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬ_Ｂであり、Ｌ_Ｂはゼロより大きく、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

塗布法等によって有機層構造部１を形成する場合、有機層構造部１は、バンク１３の発光領域１４側端部近傍において、厚みが最も大きい部分を有する。
本明細書において、有機層構造部１の部分（Ａ）における最大膜厚を「Ｔ_ＡＳ」という。部分（Ａ）が最大膜厚Ｔ_ＡＳを有する位置は、通常、バンク１３の発光領域１４側端部より約１００μｍの位置から、発光領域１４側端部より約１０００μｍの位置までの範囲に存在する。
また、本明細書において、有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚を「Ｔ_ＡＣ」という。中心膜厚Ｔ_ＡＣとは、部分（Ａ）の中心点での膜厚をいう。
部分（Ｂ）を有するように、すなわち、端部がバンク１３上に位置するように有機層構造部１を形成することにより、Ｔ_ＡＳとＴ_ＡＣとの比Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣを１に近づけることができ、これにより、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減することができる。
発光輝度のムラを低減させる観点から、比Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣは、１．０以上１．１以下であり、好ましくは１．０以上１．０５以下であり、より好ましくは１．０である。
部分（Ｂ）を有する有機層構造部１を形成するための方法としては、有機層構造部１を構成する有機層を形成するための塗布液を用いた塗布法が好ましく、より好ましくはインクジェット印刷法である。

発光輝度のムラを低減させる観点から、長さＬ_Ｂは、好ましくは２．５ｍｍ以上であり、より好ましくは３ｍｍ以上である。
長さＬ_Ｂを上記範囲にすることによって、上記数値範囲のＴ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣを実現させやすくなる。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、有機層構造部１は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、有機層構造部１の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。

本明細書において、有機層構造部１の部分（Ｂ）における最大膜厚を「Ｔ_ＢＳ」という。
図２を参照して、有機層構造部１の部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳは、好ましくは、部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きい。このような厚み関係は、有機層構造部１の形成に塗布法を採用したうえで、塗布液の濃度、粘度及び塗布膜乾燥方法等を調整することによって実現することが可能である。
上記厚み関係を充足することは、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえで有利である。

有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣ、部分（Ａ）の最大膜厚Ｔ_ＡＳ、及び、部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳは、作製した有機ＥＬデバイスを注意深く切断することによって露出した断面について、走査型透過電子顕微鏡を用いて画像を取得し、この画像から任意で選択した１点について、上述の定義に従って実測する。
部分（Ｂ）の長さＬ_Ｂ（後述するＬ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２及びＬ_Ｂ３についても同様）は、形成した有機層構造部１（又は有機層）について、精密測長機を用いて測定される。

有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣの値は、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは５０ｎｍ以上５μｍ以下である。

（６）第１有機層
第１有機層は、有機層構造部を構成する有機層であり、有機層構造部が２以上の有機層で構成される場合、これらの有機層のうち最も第１電極１２寄りに配置される有機層である。
第１有機層は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有することが好ましい。第１有機層が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ１）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬ_Ｂ１であり、Ｌ_Ｂ１はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第１有機層は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第１有機層の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。
部分（Ｂ１）を有する第１有機層を形成するための方法としては、第１有機層形成用の塗布液を用いた塗布法が好ましく、より好ましくはインクジェット印刷法である。

第１有機層の部分（Ａ１）における中心膜厚の値は、第１有機層の機能が発現される限り特に制限されず、その機能に応じた厚みであり得る。また、中心膜厚の値は、第１有機層の材料によっても最適値が異なり得る。
例えば第１有機層が正孔注入層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
例えば第１有機層が発光層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上２μｍ以下であり、好ましくは５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
例えば第１有機層が電子注入層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。

（７）第１有機層以外の他の有機層
発光領域１４に形成される有機層構造部１は、第１有機層以外の他の有機層を含むことができる。第１有機層以外の他の有機層としては、第１有機層上（第１有機層における第１電極１２側とは反対側）に隣接して設けられる第２有機層、第２有機層上（第２有機層における第１電極１２側とは反対側）に隣接して設けられる第３有機層等が挙げられる。勿論、有機層構造部１は、４つ以上の有機層を含んでいてもよい。

有機層として第１有機層のみを有する有機層構造部の層構成、及び、第１有機層と第１有機層以外の他の有機層とを含む有機層構造部の層構成としては、例えば、下記の層構成が挙げられる。
（ａ）第１電極／発光層／第２電極
（ｂ）第１電極／正孔注入層／発光層／第２電極
（ｃ）第１電極／正孔注入層／発光層／電子注入層／第２電極
（ｄ）第１電極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極
（ｅ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／第２電極
（ｆ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／第２電極
（ｇ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極
（ｈ）第１電極／発光層／電子注入層／第２電極
（ｉ）第１電極／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極
ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
第１電極は例えば陽極であり、第２電極は例えば陰極である。

正孔輸送層は、陽極又は正孔注入層等から発光層への正孔注入を改善する機能を有する層である。
正孔輸送層の材料には、公知の正孔輸送入材料が用いられ得る。正孔輸送層の材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン若しくはその誘導体、ピラゾリン若しくはその誘導体、アリールアミン若しくはその誘導体、スチルベン若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン若しくはその誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、及びポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。また、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている正孔輸送材料も挙げることができる。

第２有機層が正孔輸送層である場合、第２有機層の中心膜厚（第２有機層の中心での膜厚）は、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。第３有機層が正孔輸送層である場合も同様である。

電子輸送層は、陰極又は電子注入層等からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。
第２有機層が電子輸送層である場合、第２有機層の中心膜厚（第２有機層の中心での膜厚）は、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。第３有機層が電子輸送層である場合も同様である。

図３は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。図３に示される有機ＥＬデバイスは、第１有機層１ａ及び第２有機層１ｂの２層構造からなる有機層構造部１を含む。
図３に示されるように、有機層構造部１が第１有機層１ａと第１有機層１ａ上に配置される第２有機層１ｂとを含む場合、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂは、発光領域１４内に配置される部分（Ａ２）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ２）とを有することが好ましい。第２有機層１ｂが発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ２）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬ_Ｂ２であり、Ｌ_Ｂ２はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２は、第１有機層１ａの部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
長さＬ_Ｂ２と長さＬ_Ｂ１との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
図３に示される有機ＥＬデバイスにおいて、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２は、図２で示される有機層構造部１の部分（Ｂ）の長さＬ_Ｂと同じである。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂは、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第２有機層１ｂの全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。

図示しないが、有機層構造部１が第２有機層１ｂ上に配置される第３有機層をさらに含む場合についても同様であり、この場合、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ３）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ３）とを有することが好ましい。第３有機層が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ３）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬ_Ｂ３であり、Ｌ_Ｂ３はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３は、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
長さＬ_Ｂ３と長さＬ_Ｂ２との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第３有機層の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。

有機層構造部１を構成する各有機層の膜厚や長さは、有機層構造部１の各種膜厚や長さと同様にして測定することができる。

（８）第２電極
第２電極は、例えば陰極である。
陰極は、発光部に含まれる１又は２以上の有機層の上に設けられる。
陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。有機ＥＬデバイスが陽極側から光を取り出す場合には、発光層から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。
具体的には、陰極には、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属又は周期表の１３族金属等を用いることができる。また、陰極として、導電性金属酸化物又は導電性有機物等からなる透明導電性陰極を用いることもできる。

陰極の厚みは、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。

有機ＥＬデバイスが２以上の発光領域１４（したがって、２以上の発光部）を有する場合、発光領域ごとに陰極を設けてもよいし、バンク１３を跨いで、すべての発光領域１４に共通の陰極を１つ設けてもよい。

なお、有機ＥＬデバイスの第２電極上には、通常、封止基板が設けられる。その他、有機ＥＬデバイスは、例えば、有機ＥＬ照明デバイスや有機ＥＬディスプレイが備える公知の他の要素を備え得る。

＜有機ＥＬデバイスの製造方法＞
本発明の一実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法は、下記の工程を含む。
発光領域１４を規定するための、厚み及び幅を有するバンク１３を基板１１上に形成する工程（バンク形成工程）、
バンク１３の上面の撥液性を制御する工程（撥液性制御工程）、
バンク１３が形成された基板１１上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程（有機層構造部形成工程）。
本発明に係る製造方法は、上記本発明に係る有機ＥＬデバイスを製造するための方法として好適である。

有機層構造部形成工程は通常、上述の第１有機層１ａを形成する工程を含む。第１有機層１ａは、下記の工程によって形成することができる。
第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程（第１塗布工程）、及び
第１塗布膜を乾燥させて第１有機層１ａを形成する工程（第１乾燥工程）。

有機層構造部１が第１有機層１ａ上に配置される第２有機層１ｂを含む場合、上記製造方法は、第１乾燥工程の後に、下記の工程をさらに含む。
第１有機層１ａ上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程（第２塗布工程）、及び
第２塗布膜を乾燥させて第２有機層１ｂを形成する工程（第２乾燥工程）。

有機層構造部１が第２有機層１ｂ上に配置される第３有機層を含む場合、上記製造方法は、第２乾燥工程の後に、下記の工程をさらに含む。
第２有機層１ｂ上に、第３有機層形成用の塗布液を塗布して第３塗布膜を形成する工程（第３塗布工程）、及び
第３塗布膜を乾燥させて第３有機層を形成する工程（第３乾燥工程）。

（１）バンク形成工程
バンク形成工程は通常、例えば図１に示されるようなバンク付き基板１０を作製する工程である。バンク付き基板１０を構成する基板１１、第１電極１２及びバンク１３、並びに、バンク付き基板１０の作製方法については上述の記載が引用される。

（２）撥液性制御工程
上述のように、バンク１３によって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、バンク１３の少なくとも上面（基板１１とは反対側の面）は撥液性を有していることが好ましく、上面及び側面が撥液性を有していることがより好ましい。撥液性制御工程は、バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整する工程である。
バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。

バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整（制御）する方法としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成する方法、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成した後、バンク１３の少なくとも上面に撥液処理を施す方法が挙げられる。
前者の場合、撥液性制御工程は、バンク形成工程の一部である。
後者の場合における撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理や、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。

発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえでより有利であることから、撥液性制御工程は、上記塗布液に対するバンク１３の上面の接触角（＜有機ＥＬデバイス＞の項を参照）が好ましくは１０度未満となるように、より好ましくは９度以下となるように、さらに好ましくは８度未満となるようにバンク１３上面の撥液性を調整する工程を含む。好ましくは、この撥液性制御工程によって、上記塗布液に対するバンク１３の側面の接触角が好ましくは１０度未満となるように、より好ましくは９度以下となるように、さらに好ましくは８度未満となるようにバンク１３側面の撥液性が調整される。
上記接触角は通常、第１有機層形成用の塗布液に対する接触角である。

（３）有機層構造部形成工程
有機層構造部１は、塗布液を塗布した後、塗膜を乾燥させる塗布法によって形成することができる。
塗布液の塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法が挙げられる。ただし、バンク１３の開口部に層を形成可能な塗布法であれば他の公知の塗布法、例えば、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、又はノズルプリント法を用いてもよい。

塗布液に含まれる溶媒は、塗布液に含まれる機能材料を溶解できるものである限り特に制限されないが、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩化物溶媒；テトラヒドロフラン、ブチルセロソルブ等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、乳酸ブチル等のエステル溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、２−エチルヘキサノール等のアルコール溶媒等が挙げられる。
溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

塗布膜の乾燥方法は、第１塗布膜を乾燥できる限り特に限定されないが、真空乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。

有機層構造部１は、２以上の有機層で構成されてもよい。この場合、上述の塗布及び乾燥を繰り返すことによって２以上の有機層を形成する。

有機層構造部１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂを有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有するように実施される。長さＬ_Ｂはゼロより大きく、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

部分（Ｂ）を有するように、すなわち、端部がバンク１３上に位置するように有機層構造部１を形成することにより、Ｔ_ＡＳとＴ_ＡＣとの比Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣを１に近づけることができ、これにより、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減することができる。
発光輝度のムラを低減させる観点から、比Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣは、１．０以上１．１以下であり、好ましくは１．０以上１．０５以下であり、より好ましくは１．０である。

発光輝度のムラを低減させる観点から、長さＬ_Ｂは、好ましくは２．５ｍｍ以上であり、より好ましくは３ｍｍ以上である。
長さＬ_Ｂを上記範囲にすることによって、上記数値範囲のＴ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣを実現させやすくなる。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、有機層構造部１は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように形成されることが好ましく、全ての端部がバンク１３上に位置するように形成されることがより好ましい。

有機層構造部１は、部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳが部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きくなるように形成されることが好ましい。このような厚み関係は、塗布液を用いた塗布法において、塗布液の濃度、粘度及び塗布膜乾燥方法等を調整することによって実現することが可能である。
上記厚み関係を充足することは、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえで有利である。

（４）第１有機層の形成
バンク１３が形成された基板１１上、より具体的には、バンク１３の開口部（発光領域１４）に第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成し（第１塗布工程）、次いで第１塗布膜を乾燥させることによって（第１乾燥工程）、第１有機層１ａを形成することができる。
第１有機層形成用の塗布液は、正孔注入材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等であり得る。塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第１塗布工程は、第１乾燥工程を経て得られる第１有機層１ａが、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ１を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬ_Ｂ１はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

（５）第１有機層以外の他の有機層の形成
第１有機層１ａ上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成し（第２塗布工程）、次いで第２塗布膜を乾燥させることによって（第２乾燥工程）、第２有機層１ｂを形成することができる。
第２有機層形成用の塗布液は、正孔輸送材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等であり得る。
第２有機層形成用の塗布液に含まれる溶媒の例、塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層１ｂが、発光領域１４内に配置される部分（Ａ２）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ２を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ２）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬ_Ｂ２はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２は、第１有機層１ａの部分（Ｂ）の長さＬ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
長さＬ_Ｂ２と長さＬ_Ｂ１との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層１ｂにおけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第２有機層１ｂの全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。

第２有機層１ｂ上に、第３有機層形成用の塗布液を塗布して第３塗布膜を形成し（第３塗布工程）、次いで第３塗布膜を乾燥させることによって（第３乾燥工程）、第３有機層を形成することができる。
第３有機層形成用の塗布液は、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液、正孔輸送材料を含む塗布液、正孔注入材料を含む塗布液等であり得る。
第３有機層形成用の塗布液に含まれる溶媒の例、塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層が、発光領域１４内に配置される部分（Ａ３）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ３を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ３）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬ_Ｂ３はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３は、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
長さＬ_Ｂ３と長さＬ_Ｂ２との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。

発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層におけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第３有機層の全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。

有機層構造部１が４以上の有機層を有する場合において、第４以降の有機層も、上記第１〜第３有機層と同様にして形成することができる。

所望の１又は２以上の有機層を形成した後、第２電極（例えば、陰極）を形成する工程を実施することにより有機ＥＬデバイスを得ることができる。第２電極の形成方法としては、例えば、第１電極１２の場合と同様の蒸着法及び塗布法が挙げられる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

下記項目についての測定方法は次のとおりである。
〔ａ〕バンク上面及び側面の接触角
第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角は、「オートディスペンサシステム ＡＤ−３１Ｓ」（協和界面科学（株）製）を用いて、温度２３℃の環境下で測定した。

〔ｂ〕膜厚及び層部分の長さ
有機層構造部の中心膜厚及び最大膜厚は、上述の定義に従って測定した。具体的には、作製した有機ＥＬデバイスを注意深く切断することによって露出した断面について、走査型透過電子顕微鏡を用いて画像を取得し、この画像から任意で選択した１点について、上述の定義に従って中心膜厚及び最大膜厚を実測した。
Ｌ_Ｂ等の層部分の長さは、精密測長機を用いて測定した。下記の表１に示されるＬ_Ｂ、Ｌ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２、Ｌ_Ｂ３及びＬ_Ｂ４の値は、正方形形状に形成された有機層構造部又は有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。

＜実験例１＞
図１に示される構成のバンク付き基板１０を用意した。
基板１１の外形形状は、１辺の長さが約５０ｍｍの正方形であった。基板１１の材質はガラスである。
バンク１３の外形形状は１辺の長さが約３４ｍｍの正方形であり、バンク１３の開口形状は１辺の長さが約２２ｍｍの正方形であり、バンク１３の幅Ｗは約６ｍｍであった。バンク１３は、撥液剤を含有する感光性樹脂組成物を硬化させてなる層（単層構造）であり、該層を形成後、表面（上面及び側面）をＵＶオゾン処理することによって、第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角を約８度程度まで低下させた。
バンク１３は、第１電極１２（陽極）の周縁部の一部の直上に配置されるように位置合わせされている。

上記バンク付き基板１０の発光領域１４（バンク１３の開口部）に、次の手順で第１有機層１ａ（正孔注入層）を形成した。
正孔注入材料を含有する第１有機層形成用の塗布液を用意した。
この塗布液を用いてインクジェット印刷法により発光領域１４に第１塗布膜を形成し、次いで第１塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第１有機層１ａを形成した。
第１有機層１ａの部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１を表１に示す。
本実験例における第１有機層１ａは、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。

次に、第１有機層１ａ上に、次の手順で第２有機層１ｂ（正孔輸送層）を形成した。
正孔輸送材料を含有する第２有機層形成用の塗布液を用意した。
この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第１有機層１ａ上に第２塗布膜を形成し、次いで第２塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第２有機層１ｂを形成した。
第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２を表１に示す。
本実験例における第２有機層１ｂは、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。

次に、第２有機層１ｂ上に、次の手順で第３有機層（発光層）を形成した。
発光材料を含有する第３有機層形成用の塗布液を用意した。
この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第２有機層１ｂ上に第３塗布膜を形成し、次いで第３塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第３有機層を形成した。
第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３を表１に示す。
本実験例における第３有機層は、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。

次に、第３有機層上に第４有機層（電子輸送層）を形成した。電子輸送材料を含有する第４有機層形成用の塗布液を用意した。この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第３有機層上に第４塗布膜を形成し、次いで第４塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第４有機層を形成した。
次に、第４有機層上に電子注入層（無機層）及び陰極を蒸着法により形成して、窒素雰囲気下で封止することにより有機ＥＬデバイスを得た。
第４有機層の部分（Ｂ４）の長さＬ_Ｂ４を表１に示す。

＜実験例２、３＞
第１〜第４有機層の形成条件を調整することによって、有機層構造部の部分（Ａ）の中心膜厚Ｔ_ＡＣ及び最大膜厚Ｔ_ＡＳ、並びに、部分（Ｂ）の最大膜厚Ｔ_ＢＳ及び長さＬ_Ｂを表１に示されるとおりとしたこと以外は実験例１と同様にして有機ＥＬデバイスを作製した。

（発光輝度のムラ評価）
得られた有機ＥＬデバイスについて、同じ電圧を印加して発光領域を発光させ、発光している発光領域の画像を取得した。取得した画像において、発光領域の中央部と周縁部（バンク近傍部）との間の色目を観察し、下記評価基準に従って発光輝度のムラを評価した。
Ａ：色目に相違がないか、又は殆ど相違がない。
Ｂ：色目に明らかな相違がある。

上述のとおり、表１に示されるＬ_Ｂ、Ｌ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２、Ｌ_Ｂ３及びＬ_Ｂ４の値は、正方形形状に形成された有機層構造部又は有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。実験例１〜３の有機ＥＬデバイスは、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ）のいずれの位置においても、表１に示される平均値とほぼ同等のＬ_Ｂの値を有していた。Ｌ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２、Ｌ_Ｂ３及びＬ_Ｂ４についても同様であった。

１ 有機層構造部、１ａ 第１有機層、１ｂ 第２有機層、１０ バンク付き基板、１１ 基板、１２ 第１電極、１３ バンク、１４ 発光領域。

Claims (15)

1. 発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、
   基板と、
   前記発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される、厚み及び幅を有するバンクと、
   有機層構造部と、
   を含み、
   前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）と、を有し、
   前記有機層構造部は、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴ_ＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴ_ＡＣとするとき、下記式：
   Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣ≦１．１
   を満たす部分を含む、有機ＥＬデバイス。
2. 前記部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きい、請求項１に記載の有機ＥＬデバイス。
3. 前記有機層構造部の全ての端部が前記バンク上に位置している、請求項１又は２に記載の有機ＥＬデバイス。
4. 前記Ｌ_Ｂが２．５ｍｍ以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
5. 前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
6. 前記有機層構造部は、第１有機層と、前記第１有機層上に配置される第２有機層とを含み、
   前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有し、
   前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有し、
   前記Ｌ_Ｂ２が前記Ｌ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きい、請求項５に記載の有機ＥＬデバイス。
7. 前記バンクの少なくとも上面が撥液性を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
8. 前記バンクが単層構造である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
9. 前記発光領域は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である方形形状を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
10. 発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
    前記発光領域を規定するための、厚み及び幅を有するバンクを基板上に形成する工程と、
    前記バンクの少なくとも上面の撥液性を制御する工程と、
    前記バンクが形成された基板上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程と、
    を含み、
    前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）とを有するように、かつ、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴ_ＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴ_ＡＣとするとき、下記式：
    Ｔ_ＡＳ／Ｔ_ＡＣ≦１．１
    を満たす部分を含むように形成される、有機ＥＬデバイスの製造方法。
11. 前記有機層構造部は、前記部分（Ｂ）における最大膜厚Ｔ_ＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚Ｔ_ＡＣよりも大きくなるように形成される、請求項１０に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
12. 前記有機層構造部は、前記Ｌ_Ｂが２．５ｍｍ以上となるように形成される、請求項１０又は１１に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
13. 前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
14. 有機層構造部を形成する工程は、
    前記バンクが形成された基板上に、第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程と、
    前記第１塗布膜を乾燥させて第１有機層を形成する工程と、
    前記第１有機層上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程と、
    前記第２塗布膜を乾燥させて第２有機層を形成する工程と、
    を含み、
    前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有するように形成され、
    前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有するように、かつ、前記Ｌ_Ｂ２が前記Ｌ_Ｂ１と同じか又はそれよりも大きくなるように形成される、請求項１３に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
15. 前記撥液性を制御する工程は、前記バンクの少なくとも上面の前記第１有機層形成用の塗布液に対する接触角を１０度未満にする工程を含む、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。

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