JP2021002592A - 積層セラミック電子部品の製造方法及び積層セラミック電子部品の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法は、一軸方向に積層されたセラミックシートと、上記セラミックシートの間に配置された内部電極と、を有する積層シートを準備する工程を含む。
上記一軸方向に凸な曲面で構成された先端部を有する切断刃を用いて上記積層シートを切断することにより、上記内部電極が露出する側面を有する積層チップが作製される。
上記積層チップの上記側面にサイドマージン部が設けられる。
【選択図】図11
Description
上記一軸方向に凸な曲面で構成された先端部を有する切断刃を用いて上記積層シートを切断することにより、上記内部電極が露出する側面を有する積層チップが作製される。
上記積層チップの上記側面にサイドマージン部が設けられる。
これにより、先端部の鋭利さを維持できるとともに、先端部の欠損を効果的に防止することができる。
この構成では、切断刃の第1の面及び第2の面の間に曲面が設けられるため、第1の面及び第2の面の間の角によって切断面(すなわち側面)の引き摺りが起こることを防止することができる。したがって、切断面の引き摺り傷に起因する内部電極間の短絡不良をより効果的に防止することができる。
これにより、切断刃が、非常に硬度の高く、抗折強度及び破壊靭性にも優れた構成となる。
上記テーブルは、一軸方向に積層されたセラミックシートと、上記セラミックシートの間に配置された内部電極と、を有する積層シートを載置する。
上記切断刃は、上記一軸方向に凸な曲面で構成された先端部を有する。
上記駆動部は、上記切断刃を保持し、上記テーブルに対して上記切断刃を上記一軸方向に駆動する。
図面には、適宜相互に直交するX軸、Y軸、及びZ軸が示されている。X軸、Y軸、及びZ軸は全図において共通である。
図1〜3は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10を示す図である。図1は、積層セラミックコンデンサ10の斜視図である。図2は、積層セラミックコンデンサ10の図1のA−A'線に沿った断面図である。図3は、積層セラミックコンデンサ10のB−B'線に沿った断面図である。
なお、素体11の形状はこのような形状に限定されない。例えば、素体11の各面は曲面であってもよく、素体11は全体として丸みを帯びた形状であってもよい。
外部電極14,15は、単層構造であっても複層構造であってもよい。
サイドマージン部17は、X−Z平面に沿って延びる平板状であり、積層チップ16のY軸方向両側面をそれぞれ覆っている。
積層チップ16は、容量形成部18と、カバー部19と、を有する。カバー部19は、X−Y平面に沿って延びる平板状であり、容量形成部18のZ軸方向両主面をそれぞれ覆っている。
サイドマージン部17及びカバー部19は、主に、容量形成部18を保護するとともに、容量形成部18の周囲の絶縁性を確保する機能を有する。
図4は、積層セラミックコンデンサ10の製造方法を示すフローチャートである。図5〜9は、積層セラミックコンデンサ10の製造過程を示す図である。以下、積層セラミックコンデンサ10の製造方法について、図4に沿って、図5〜9を適宜参照しながら説明する。
ステップS01では、容量形成部18を形成するための第1セラミックシート101及び第2セラミックシート102と、カバー部19を形成するための第3セラミックシート103と、を準備する。
ステップS02では、ステップS01で準備したセラミックシート101,102,103をZ軸方向(一軸方向)に積層することにより積層シート104を作製する。
また、積層シート104では、交互に積層されたセラミックシート101,102のZ軸方向最上面及び最下面にそれぞれカバー部19に対応する第3セラミックシート103が積層される。なお、図6に示す例では、第3セラミックシート103がそれぞれ3枚ずつ積層されているが、第3セラミックシート103の枚数は適宜変更可能である。
ステップS03では、ステップS02で得られた積層シート104を切断線Lx,Lyに沿って切断することにより未焼成の積層チップ116を作製する。ステップS03では、積層シート104を押し切りにより切断する。
次に、図7(B)に示すように、切断刃20がテープT1に到達するまで、切断刃20をZ軸方向下方に移動させて、積層シート104を切断する。このとき、テープT1には切断刃20を貫通させず、テープT1が切断されないようにする。
そして、図7(C)に示すように、切断刃20をZ軸方向上方に移動させて、積層シート104から切断刃20を引き抜く。
ステップS03により形成される積層シート104の切断面は、積層チップ116のY軸方向側面P,Q及びX軸方向端面となる。このように、本工程により、内部電極112,113が露出する側面P,Qを有する積層チップ116が作製される。
ステップS04では、ステップS03で得られた積層チップ116の側面Pに、未焼成のサイドマージン部117を形成する。
まず、図8(A)に示すように、平板状の弾性体400の上に、サイドマージンシート117sが配置される。積層チップ116は、側面Pをサイドマージンシート117sに対向させて配置される。
そして、積層チップ116の側面Pをサイドマージンシート117sに押し当てる。これにより、積層チップ116の側面Pによってサイドマージンシート117sが打ち抜かれる。
例えば、予め切断されたサイドマージンシート117sを積層チップ116の側面Pに貼り付けても構わない。
更に、サイドマージンシート117sを用いずに、セラミックペーストを積層チップ116の側面Pに塗布することにより、サイドマージン部117を形成してもよい。セラミックペーストの塗布方法としては、例えば、ディップ法などを用いることができる。
ステップS05では、ステップS04で得られた積層チップ116の側面Qに、未焼成のサイドマージン部117を形成する。ステップS05における側面Qへのサイドマージン部117の形成は、ステップS04における側面Pへのサイドマージン部117の形成と同様に行うことができる。
ステップS06では、ステップS05で得られた未焼成の素体111を焼成することにより、図1〜3に示す積層セラミックコンデンサ10の素体11を作製する。焼成は、例えば、還元雰囲気下、又は低酸素分圧雰囲気下において行うことができる。
ステップS07では、ステップS06で得られた素体11に外部電極14,15を形成することにより、図1〜3に示す積層セラミックコンデンサ10を作製する。
以下、本実施形態に係る切断工程についてより詳細に説明する。
切断装置200は、切断刃20と、テーブル21と、駆動部22と、を備える。切断装置200は、本実施形態において、積層シート104を押し切ることが可能に構成される。
また、テーブル21は、図示しないテーブル駆動機構を有していてもよい。当該テーブル駆動機構は、例えばモータを有し、載置面211をZ軸まわりに回転駆動させてもよいし、X軸方向及び/又はY軸方向に平行移動させてもよい。
切断刃20は、先端部がテーブル21とZ軸方向に対向して配置される。
駆動機構は、例えばモータを含み、切断刃20をZ軸方向に上下駆動させる。さらに、駆動機構は、切断刃20をX軸方向及び/又はY軸方向に平行移動させてもよい。この場合、駆動機構は、複数のモータを含んでいてもよい。
制御部は、例えばMPU(Micro-Processing Unit)やCPU(Central Processing Unit)等のプロセッサと、メモリとを含んでいる。制御部は、メモリに格納された駆動プログラムに基づいて、切断刃20の駆動を制御することができる。
切断刃20は、先端部204と、第1の面201と、第2の面202と、曲面203と、を有する。
本実施形態の切断刃20は、先端部204が曲面で構成されるため、取り扱い時に付加される外力や切断時に受ける積層シート104からの抵抗の影響を緩和できる。このため、以下に説明するように、鋭利な先端部を有していた従来の切断刃と比較して、使用前及び使用中における切断刃20の先端部204の欠損を防止することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。
一例として、ステップS03で個片化した未焼成の積層チップ116を焼成して積層チップ16とした後に、積層チップ16にサイドマージン部117を設けてもよい。この場合、焼成後の積層チップ16に対してステップS04〜S06を行うことができる。
11…素体
12,13…内部電極
14,15…外部電極
16…積層チップ
17…サイドマージン部
18…容量形成部
19…カバー部
104…積層シート
111…未焼成の素体
112,113…未焼成の内部電極
116…未焼成の積層チップ
117…未焼成のサイドマージン部
200…切断装置
20…切断刃
204…先端部
21…テーブル
22…駆動部
P,Q…側面
T1,T2…テープ
Claims (5)
- 一軸方向に積層されたセラミックシートと、前記セラミックシートの間に配置された内部電極と、を有する積層シートを準備し、
前記一軸方向に凸な曲面で構成された先端部を有する切断刃を用いて前記積層シートを切断することにより、前記内部電極が露出する側面を有する積層チップを作製し、
前記積層チップの前記側面にサイドマージン部を設ける
積層セラミック電子部品の製造方法。 - 請求項1に記載の積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記先端部の曲率半径は、250nm以上500nm以下である
積層セラミック電子部品の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記切断刃は、前記先端部に連接し前記一軸方向に対して第1の角度で傾斜する第1の面と、前記一軸方向に前記第1の面と並んで形成され前記一軸方向に対して前記第1の角度よりも小さい第2の角度で傾斜する第2の面と、前記第1の面及び前記第2の面を滑らかに接続する曲面と、をさらに有する
積層セラミック電子部品の製造方法。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記切断刃は、5質量%以上10質量%以下のコバルトを含む炭化タングステン合金を基材とする
積層セラミック電子部品の製造方法。 - 一軸方向に積層されたセラミックシートと、前記セラミックシートの間に配置された内部電極と、を有する積層シートを載置するテーブルと、
前記一軸方向に凸な曲面で構成された先端部を有する切断刃と、
前記切断刃を保持し、前記テーブルに対して前記切断刃を前記一軸方向に駆動する駆動部と
を具備する積層セラミック電子部品の製造装置。
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