JP2021001972A - 光学異方体、およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性液晶組成物から形成される位相差層と粘着剤層の間に、位相差層と直接するように等方性樹脂層を含む場合に、耐熱性に優れる光学異方体を提供することである。更に、当該光学異方体、該光学異方体を用いた液晶表示素子、有機発光表示素子、偏光フィルム等を提供することである。【解決手段】 本願発明は、８０℃以上の等方性樹脂層を位相差層に直接する形で含む光学異方体を提供する。【選択図】 なし

Description

本発明は、種々の光学特性を要する光学異方性を有する重合体、フィルムの構成部材として有用な重合性液晶組成物、及び該重合性液晶組成物からなる光学異方体、位相差膜、光学補償膜、反射防止膜、レンズ、レンズシート、該重合性液晶組成物を用いた液晶表示素子、有機発光表示素子、照明素子、光学部品、偏光フィルム、着色剤、セキュリティ用マーキング、レーザー発光用部材、印刷物等に関する。

液晶や有機ＥＬに代表されるフラットパネルディスプレイでは、位相差を有する光学フィルム（位相差フィルム）により透過光、又は反射光をコントロールし、視野角依存性やコントラストを向上させる技術が用いられている (特許文献１) 。これらの位相差フィルムはポリマーを延伸した延伸フィルムや、光学的に透明なフィルム上に液晶材料を塗布し、配向させた状態で硬化したフィルム等が用いられている。このような位相差フィルムは正の波長分散性を有しているが、光学的には逆波長分散性が求められており、特許文献２には逆波長分散特性を有する位相差フィルムが用いられている。
また、フラットパネルディスプレイでは、Ａプレート、Ｃプレートの位相差フィルムを利用して視野角特性、色味等の種々の光学特性を改善する方法が提案されており、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの特性を有するポジティブＡプレート、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙの特性を有するネガティブＡプレート、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの特性を有するポジティブＣプレート、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの特性を有するネガティブＣプレートが用いられている。なおｎｘ、ｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）は面内方向の屈折率であり、ｎｚは厚さ方向の屈折率である。
この中で、Ａプレートにおいては逆波長分散特性を有する位相差フィルムは特許文献２に開示されており、また逆波長分散液晶を塗布するタイプのものも特許文献３に開示されている。一方逆波長分散特性を有するＣプレート、特にポジティブＣプレートは特許文献４に開示されているが、単官能のみで構成されており耐熱性が非常に悪い。スマートフォン等に用いられるディスプレイの場合、高い信頼性が求められることが多く、高温放置後の光学特性の変化がほとんど無いことが求められているため、耐熱性に優れた逆波長分散液晶を用いた位相差フィルムが求められていた。

特開平７−２３００８６号公報 国際公開２０１５−１４１５９２号公報 特開２００２−２６７８３８号公報 特開２００８−２７３９２５号公報

本発明が解決しようとする課題は、プラスチック部品等の耐熱温度を加味した８０℃〜９０℃の高温で行われる耐熱試験において、耐熱性に優れた光学異方体を提供することであり、更にこれらの光学異方体を用いた楕円偏光板、表示装置を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決するために、位相差層と粘着剤層との間に、ガラス転移温度が８０℃以上の等方性樹脂を有する光学異方体に着目して鋭意研究を重ねた結果、本発明を提供するに至った。
即ち本発明は、基板と、基板の一方の面に設けられた配向膜層および重合性液晶組成物の層を有する積層体の、前記重合性液晶組成物層中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた位相差膜を１層もしくは複数層と、粘着剤層とを含む光学異方体であって、前記位相差膜層と前記粘着剤層との間にガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層を有する光学異方体を提供する。
また、併せて、当該光学異方体からなる反射防止膜、レンズ、レンズシート、液晶表示素子、有機発光表示素子、照明素子、光学部品、レーザー発光用部材、印刷物等を提供する。

本発明により、重合性液晶組成物を用いた位相差層と粘着剤層の間にガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層を積層することで、８０〜９０℃の耐熱性試験においても位相差が低下しない、粘着層付きの位相差膜である光学異方体を得ることが可能となる。

以下に本発明による光学異方体の最良の形態について説明するが、本発明において、「液晶性化合物」とは、メソゲン性骨格を有する化合物を示すことを意図するものであり、化合物単独では、液晶性を示さなくてもよい。なお、重合性液晶組成物を紫外線等の光照射、あるいは加熱によって重合処理を行うことでポリマー化（フィルム化）することができる。
（位相差膜）
本発明で使用する位相差膜は、基板上に、少なくとも配向層と重合性液晶組成物の層とを有する積層体の、前記重合性液晶組成物層中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた膜である。
（基材）
本発明の光学異方体に用いられる基材は、液晶表示素子、有機発光表示素子、その他表示素子、光学部品、着色剤、マーキング、印刷物や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性液晶組成物溶液の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材、プラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリアリレートなどを用いることができる。基材の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基材は、必要に応じて、電極層、反射防止機能、反射機能を有していてもよい。
（配向膜層）
また、上記基材としては、本発明の光学異方体に用いる重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物が配向するように、ガラス基材単独、あるいは基材上に配向膜が設けられていても良い。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、水酸基、カルボン酸基またはスルホン酸基を含有する親水性ポリマーや、また親水性の無機化合物を利用できる。親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ソーダ、ポリメタクリル酸、ポリアルギン酸ソーダ、ポリカルボキシメチルセルロースソーダ塩、プルラン、ポリスチレンスルホン酸が挙げられる。また、親水性の無機化合物としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒ等の酸化物やフッ化物等の無機化合物が上げられる。親水性の基材は光学異方体の光学軸を基材に対して法線方向にほぼ平行に配向させるために有効なものである。ラビング処理した場合には水平配向膜として作用するため、親水性ポリマー層において、ラビング処理は配向性に悪影響を及ぼすため好ましくない。
（位相差層）
本発明の位相差層は、前記配向膜層を有する基板上に重合性液晶組成物を塗布または印刷し、前記重合性液晶組成物相中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させる。ここで使用する重合性液晶組成物としては、逆波長分散性重合性化合物、及び／又は正波長分散性重合性化合物を任意に含む重合性液晶組成物を使用することができる。また、重合性液晶組成物を塗布または印刷する方法、配向させる方法、および重合させる方法については特に限定されることなく、公知の方法で得ることができる。
（逆波長分散性重合性化合物）
本発明の光学異方体に用いる重合性液晶組成物には、
２つ以上の重合性基を有し、かつ、式（Ｉ）を満たし、
Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０ （Ｉ）
（式中、Ｒｅ（４５０ｎｍ）は、前記２つの重合性基を有する重合性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの４５０ｎｍの波長における面内位相差、Ｒｅ（５５０ｎｍ）は、前記２つの重合性基を有する重合性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの５５０ｎｍの波長における面内位相差を表す。）、かつ、
下記一般式（１）で表される重合性液晶化合物を少なくとも２つ以上を含有する。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、炭素原子数１から２０のアルキル基、又は重合性基を表すが、Ｒ^１１、Ｒ^１２のうち少なくとも１つは重合性基を表し、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
Ｓ^１１及びＳ^１２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^１１及びＳ^１２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、
Ｘ^１１、Ｘ^１２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^１２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｘ^２１〜Ｘ^２２がそれぞれ複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましく、
Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良いが、Ａ^１１及び／又はＡ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−９）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、
Ｇは下記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−５）

（式中、Ｒ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
Ｗ^８１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数５から３０の基を表すが、当該基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、Ｗ^８１に含まれる芳香族基は芳香族炭化水素基又は芳香族複素基であっても良く、両方を含んでいても良い。これらの芳香族基は単結合又は連結基（−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−、−Ｏ−）を介して結合していても良く、縮合環を形成しても良い。また、Ｗ^８１は芳香族基に加えて芳香族基以外の非環式構造及び／又は環式構造を含んでいても良い。Ｗ^８１に含まれる芳香族基は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−１９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、これらの基から選ばれる２つ以上の芳香族基を単結合で連結した基を形成しても良く、Ｑ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−（式中、Ｒ^５は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−を表す。これらの芳香族基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^４−（式中、Ｒ^４は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）で表される基が好ましい。式（Ｗ−１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１−１）から式（Ｗ−１−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−７−１）から式（Ｗ−７−７）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１０−１）から式（Ｗ−１０−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１１−１）から式（Ｗ−１１−１３）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１２−１）から式（Ｗ−１２−１９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１３−１）から式（Ｗ−１３−１０）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１４−１）から式（Ｗ−１４−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１５−１）から式（Ｗ−１５−１８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１６−１）から式（Ｗ−１６−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１７−１）から式（Ｗ−１７−６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１８）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１８−１）から式（Ｗ−１８−６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１９−１）から式（Ｗ−１９−９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましい。Ｗ^８１に含まれる芳香族基は、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−８）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）、式（Ｗ−１０−８）、式（Ｗ−１１−８）、式（Ｗ−１１−９）、式（Ｗ−１１−１０）、式（Ｗ−１１−１１）、式（Ｗ−１１−１２）又は式（Ｗ−１１−１３）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上のＬによって置換されても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）又は式（Ｗ−１０−８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。さらに、Ｗ^８１は下記の式（Ｗ−ａ−１）から式（Ｗ−ａ−６）

（式中、ｒは０から５の整数を表し、ｓは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表す。）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｗ^８２は水素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いはＷ^８２はＷ^８１と同様の意味を表しても良く、また、Ｗ^８１及びＷ^８２は一緒になって環構造を形成しても良く、
Ｗ^８２は下記の基

（式中、Ｐ^Ｗ８２はＰ^１１と同じ意味を表し、Ｓ^Ｗ８２はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８２はＸ^１１と同じ意味を表し、ｍ^Ｗ８２はｍ１１と同じ意味を表す。）を表し、
Ｗ^８２は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、水素原子、若しくは、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましい。

また、Ｗ^８２がＷ^８１と同様の意味を表す場合、Ｗ^８２はＷ^８１と同一であっても異なっていても良いが、好ましい基はＷ^８１についての記載と同様である。

また、Ｗ^８１及びＷ^８２が一緒になって環構造を形成する場合、−ＮＷ^８１Ｗ^８２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−ｂ−１）から式（Ｗ−ｂ−４２）

（式中、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い式（Ｗ−ｂ−２０）、式（Ｗ−ｂ−２１）、式（Ｗ−ｂ−２２）、式（Ｗ−ｂ−２３）、式（Ｗ−ｂ−２４）、式（Ｗ−ｂ−２５）又は式（Ｗ−ｂ−３３）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

また、＝ＣＷ^８１Ｗ^８２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−ｃ−１）から式（Ｗ−ｃ−８１）

（式中、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い式（Ｗ−ｃ−１１）、式（Ｗ−ｃ−１２）、式（Ｗ−ｃ−１３）、式（Ｗ−ｃ−１４）、式（Ｗ−ｃ−５３）、式（Ｗ−ｃ−５４）、式（Ｗ−ｃ−５５）、式（Ｗ−ｃ−５６）、式（Ｗ−ｃ−５７）又は式（Ｗ−ｃ−７８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｗ^８１及びＷ^８２に含まれるπ電子の総数は、波長分散特性、保存安定性、液晶性及び合成の容易さの観点から４から２４であることが好ましい。
Ｗ^８３、Ｗ^８４はそれぞれ独立してハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、スルファモイル基、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数５から３０の基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数３から２０のシクロアルキル基、炭素原子数２から２０のアルケニル基、炭素原子数３から２０のシクロアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、炭素原子数２から２０のアシルオキシ基、炭素原子数２から２０のアルキルカルボニルオキシ基、または下記の基

（式中、Ｐ^Ｗ８４はＰ^１１と同じ意味を表し、Ｓ^Ｗ８４はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８４はＸ^１１と同じ意味を表し、ｍ^Ｗ８４はｍ１１と同じ意味を表す。）を表すが、Ｗ^８３、Ｗ^８４は少なくとも１つの重合性基を有し、前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
但し、上記Ｍが式（Ｍ−１）〜式（Ｍ−８）から選択される場合Ｇは式（Ｇ−１）〜式（Ｇ−４）から選択され、Ｍが式（Ｍ−９）である場合Ｇは式（Ｇ−５）を表し、
Ｌ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。）を表し、ｎ１１及びｎ１２は各々独立して１から４の整数を表すが、ｎ１１＋ｎ１２は１から５の整数を表し、ｍ１１、ｍ１２は各々独立して１から４の整数を表すが、ｍ１１＋ｍ１２は１から５の整数を表す。

一般式（１）において、上記Ｐ^１１は重合性基を表すが、各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−６）、式（Ｐ−１０）、式（Ｐ−１２）、式（Ｐ−１４）又は式（Ｐ−１７）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−６）、式（Ｐ−１０）又は式（Ｐ−１２）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。
一般式（１）において、上記Ｓ^１１及びＳ^１２はそれぞれ独立してスペーサー基を表すが、Ｓ^１１及びＳ^１２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表すことがさらに好ましい。液晶性及び溶媒への溶解性の観点から、Ｓ^１１及びＳ^１２は各々独立して炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）において、上記Ｘ^１１及びＸ^１２は、それぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１及びＸ^１２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１１及びＸ^１２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましい。合成の容易さの観点から、Ｘ^１１は−Ｏ−を表し、Ｘ^１２は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（１）において、Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。合成の容易さ、原料の入手容易さ及び液晶性の観点から、Ａ^１１及びＡ^１２は、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことがより好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）において、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌは複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、Ｌは複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがより好ましく、Ｌは複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、Ｌは複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、メチル基又はメトキシ基を表すことが特に好ましい。
一般式（１）において、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。Ｚ^１１及びＺ^１２は、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。
一般式（１）において、ｎ１１及びｎ１２は各々独立して１から４の整数を表すが、ｎ１１＋ｎ１２は１から５の整数を表す。溶媒への溶解性、液晶性、位相差及び逆波長分散性の経時安定性の観点から、ｎ１１及びｎ１２は各々独立して１から３の整数を表すことが好ましく、各々独立して１又は２を表すことがより好ましい。
一般式（１）において、ｍ１１及びｍ１２は各々独立して０から４の整数を表すが、ｍ１１＋ｍ１２は０から４の整数を表す。溶媒への溶解性、液晶性、配向性の観点から、ｍ１１及びｍ１２は各々独立して０から３の整数を表すことが好ましく、各々独立して０から２の整数を表すことがより好ましく、各々独立して０又は１を表すことが特に好ましい。

一般式（１）で表される化合物は、溶解性、配向性、位相差及び波長分散性の経時的安定性の観点から、下記の一般式（１−ｉ）および（１−ｉｉ）で表されることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｓ^１１、Ｓ^１２、Ｘ^１１、Ｘ^１２、ｍ１１、ｍ１２は一般式（１）と同様の意味を表し、好ましい基も一般式（１）と同一のものを表す。Ａ^１１１、Ａ^１１２、Ａ^１２１、Ａ^１２２は１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表し、Ｚ^１１１、Ｚ^１１２、Ｚ^１２１、Ｚ^１２２は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。）
一般式（１−ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（１−１−１）から式（１−１−６０）で表される化合物が好ましい。

上記、一般式（１−ｉ）で表される重合性化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の総量のうち、５〜１００質量％含有することが好ましく、１０〜９０質量％含有することがより好ましく、２０〜８０質量％含有することが特に好ましい。

重合性液晶組成物の溶解性を重視する場合には、下限値を３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上とすることがより好ましい。

また、重合性液晶組成物の配向性を重視する場合には、下限値を３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上とすることがより好ましい。
さらに、重合性液晶組成物の保存安定性を重視する場合には上限値を９５質量％以下とすることが好ましく、９０質量％以下とすることがより好ましい。
上記一般式（１−ｉｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（１−２−１）から式（１−２−７３）で表される化合物が好ましい。

（式中、ｎは１〜１０の整数を表す。）
上記一般式（１−ｉｉ）で表される重合性化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の総量のうち、３０〜１００質量％含有することが好ましく、４０〜９０質量％含有することがより好ましく、３０〜８０質量％含有することが特に好ましい。

重合性液晶組成物の溶解性を重視する場合には、下限値を３０質量％以上とすることが好ましく、５０質量％以上とすることがより好ましい。

また、重合性液晶組成物の配向性を重視する場合には、上限値を８０質量％以下とすることが好ましく、７５質量％以下とすることがより好ましい。
さらに、重合性液晶組成物の保存安定性を重視する場合には上限値を９５質量％以下とすることが好ましく、９０質量％以下とすることがより好ましい。
（正波長分散性重合性化合物）
本発明の重合性液晶組成物には、上記逆波長分散性重合性化合物以外に、必要に応じて、性能を損なわない限り下記一般式（３）で表される正波長分散性重合性化合物をさらに含有することができる。

上記一般式（３）において、重合性基Ｐ^３１及びＰ^３２は各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基のうち、重合性および保存安定性を高める観点から、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１２）、又は式（Ｐ−１３）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１２）がより好ましい。

一般式（３）において、Ｓ^３１及びＳ^３２は各々独立してスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^３１及びＳ^３２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。また、スペーサー基としては、炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、または重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＨ（ＯＨ）−、ＣＨ（ＣＯＯＨ）、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。これらのスペーサー基のうち、配向性の観点から、炭素原子数２〜８の直鎖アルキレン基、フッ素原子で置換された炭素数２〜６のアルキレン基、アルキレン基の一部が−Ｏ−で置き換えられた炭素原子数５〜１４のアルキレン基が好ましい。

一般式（３）において、Ｘ^３１及びＸ^３２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^３１及びＸ^３２がそれぞれ複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）。また、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｘ^３１及びＸ^３２がそれぞれ複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（３）において、Ａ^３１及びＡ^３２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良いが、Ａ^３１及びＡ^３２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。Ａ^３１及びＡ^３２は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基又はナフタレン−２，６−ジイルを表すことが好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（３）において、Ｚ^３１及びＺ^３２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^３１及びＺ^３２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。Ｚ^３１及びＺ^３２は化合物の液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ^３１及びＺ^３２は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ^３１及びＺ^３２は各々独立して−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、各々独立して−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（３）において、Ｍ^３１は１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ナフチレン−１，４−ジイル基、ナフチレン−１，５−ジイル基、ナフチレン−１，６−ジイル基、ナフチレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、Ｍ^２１２は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い１，４−フェニレン基、ナフチレン−１，４−ジイル基、又はナフチレン−２，６−ジイル基が好ましく、無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い１，４−フェニレン基から選ばれる基を表すことがより好ましい。

一般式（３）においてＬ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^２はフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（３）において、 ｍ３１及びｍ３２は各々独立して０から５の整数を表すが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましい。

一般式（３）において、ｊ３１及びｊ３２は各々独立して０から５の整数を表すが、ｊ３１＋ｊ３２は１から５の整数を表す。液晶性、合成の容易さ及び保存安定性の観点から、ｊ３１、ｊ３２は各々独立して１から４の整数を表すことが好ましく、１から３の整数を表すことがより好ましく、１又は２を表すことが特に好ましい。ｊ３１＋ｊ３２は、１から４の整数を表すことが好ましく、２又は３を表すことが特に好ましい。

一般式（３）で表される化合物として具体的には、下記の式（３−１）から式（３−３３）で表される化合物が好ましい。

（式中、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜１８の整数を表し、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

上記、正波長分散性重合性化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性化合物の総量のうち、０〜３０質量％含有することが好ましく、０〜２０質量％含有することがより好ましく、０〜１５質量％含有することが特に好ましい。

重合性液晶組成物の溶解性を重視する場合には下限値を５質量％以上にすることが好ましく、１０質量％以上にすることがより好ましい。

また、重合性液晶組成物の配向性を重視する場合には上限値を１０質量％以下にすることが好ましく、５質量％以下にすることがより好ましい。

さらに、重合性液晶組成物の保存安定性を重視する場合には下限値を５質量％以上にすることが好ましく、１０質量％以上にすることがより好ましい。
（フッ素系界面活性剤）
本発明の重合性液晶組成物には、フッ素系界面活性剤（ＩＩＩ）を含有するが、当該フッ素系界面活性剤を用いることにより、本発明の重合性液晶組成物は重合性化合物と当該フッ素系界面活性剤の相溶性が良好なため溶液安定性に優れ、光学異方体とした場合の表面平滑性（耐ハジキ性）に優れる。

前記フッ素系界面活性剤は、炭素原子、水素原子、酸素原子、フッ素原子、窒素原子のみから構成されていることが好ましい。これらの原子から構成されている界面活性剤は、本発明において用いる重合性化合物の末端部分（末端基）以外の構造（スペーサ（Ｓｐ）部分や、メソゲン（ＭＧ）部分）を構成する原子と同一であることから、重合性化合物との相溶性が増すためと考察される。

また、前記フッ素系界面活性剤は、−（ＸＯ）_Ｓ−（Ｘは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、Ｓは１以上の整数である。）で表される基を有すると、光学異方体とした場合の表面平滑性（耐ハジキ性）に優れるため好ましい。Ｘはアルキレン基を表すが、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、テトラメチレン基が好ましく、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基がさらに好ましい。なお、本発明において、「ブチレン」とは炭素原子数４つの分岐状のアルキレンをいい、「テトラメチレン」とは炭素原子数４つの直鎖状のアルキレンをいう。

本発明に用いるフッ素系界面活性剤としては、重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜３００００のものを用いることが好ましい。重量平均分子量が２０００未満のフッ素系界面活性剤を用いると、当該化合物を含有する重合性液晶組成物を基材に塗布して光学異方体とした場合の表面平滑性（ハジキ性）の改善に大きな効果を示さず、また、重量平均分子量が３００００より高いフッ素系界面活性剤を用いると、重合性液晶組成物への相溶性が低下するため液晶化合物の配向性に悪影響を及ぼすおそれがある。また、重量平均分子量（Ｍｗ）の数平均分子量（Ｍｎ）に対する比率で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０５〜５．００であることが好ましい。ここで、重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。
［ＧＰＣ測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ ＧＰＣ」、カラム：東ソー株式会社製ガードカラム「ＨＨＲ−Ｈ」（６．０ｍｍＩ．Ｄ．×４ｃｍ）＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
測定条件：カラム温度 ４０℃、展開溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、流速１．０ｍｌ／分
試料：樹脂固形分換算で１．０質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（５μｌ）。
標準試料：前記「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩデータ解析バージョン４．３０」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
[分散ポリスチレン]
東ソー株式会社製「Ａ−５００」、東ソー株式会社製「Ａ−１０００」、東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」、東ソー株式会社製「Ｆ−１」、東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」、東ソー株式会社製「Ｆ−１０」、東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」、東ソー株式会社製「Ｆ−８０」、東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
東ソー株式会社製「Ｆ−２８８」、東ソー株式会社製「Ｆ−５５０」
フッ素系界面活性剤の添加量は重合性化合物及びキラル化合物の合計量に対して、０．００５〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜３質量％であることがより好ましく、０．０５〜２．０質量％であることがさらに好ましい。なお、フッ素系界面活性剤の添加量は配合するフッ素系界面活性剤の分子量を考慮して適宜調節することが好ましく、一般的に分子量が低いフッ素系界面活性剤を用いた場合は、分子量が高いフッ素系界面活性剤を用いた場合より、多く添加することが望まれるが、上記重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜３００００程度のフッ素系界面活性剤を用いる場合は、上記の範囲とすることが好ましい。

前記フッ素系界面活性剤（ＩＩＩ）としては、−（ＸＯ）_ｓ-（Ｘは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、ｓは１以上の整数である。）で表されるオキシアルキレン基を有することが好ましい。該オキシアルキレン基としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキシテトラメチレン基が好ましい。

また、前記フッ素系界面活性剤（ＩＩＩ）には、フルオロアルキル基、フルオロアルケニル基及び／又はフルオロアルキレンエーテル基を有していても良い。該フルオロアルキル基、フルオロアルケニル基及び／又はフルオロアルキレンエーテル基としては、部分的にフッ素化されているかまたは全てフッ素化され、炭素数３〜１２個程度の直鎖または分岐のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基及び／又はフルオロアルキレンエーテル基を挙げることができる。

発明に用いるフッ素系界面活性剤の具体的例としては、炭素原子数４〜６のフルオロアルキル基（ただし、前記アルキル基は酸素原子によるエーテル結合を有するものも含む。）を有する重合性単量体（Ａ）、及び、下記一般式（Ｂ）で表されるオキシアルキレン基及び重合性不飽和基を有する重合性単量体を必須の単量体として共重合させた共重合体（ＩＩＩ−１）が挙げられる。

前記重合性単量体（Ａ）としては、例えば、下記一般式（Ａ１）で表されるものが挙げられる。

（上記一般式（Ａ１）中、Ｒ^４は水素原子、フッ素原子、メチル基、シアノ基、フェニル基、ベンジル基又は−Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｒｆ’（ｎは１〜８の整数を表し、Ｒｆ’は下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。）を表し、Ｌは、下記式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１０）のいずれか１つの基を表し、Ｒｆは下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。）

（上記式（Ｌ−１）、（Ｌ−３）、（Ｌ−５）、（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のｎは１〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−８）、（Ｌ−９）及び（Ｌ−１０）中のｍは１〜８の整数を表し、ｎは０〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のＲｆ’’は下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。）

（上記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−４）中のｎは４〜６の整数を表す。上記式（Ｒｆ−５）中のｍは１〜５の整数であり、ｎは０〜４の整数であり、かつｍ及びｎの合計は４〜５である。上記式（Ｒｆ−６）中のｍは０〜４の整数であり、ｎは１〜４の整数であり、ｐは０〜４の整数であり、かつｍ、ｎ及びｐの合計は４〜５である。）
また、上記重合性単量体（Ａ）のより好ましい具体的な例として、下記の単量体（Ａ−１）〜（Ａ−１５）等が挙げられる。なお、これらの単量体（Ａ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。

前記重合性単量体（Ｂ）は、オキシアルキレン鎖を有する単量体である。前記単量体としては、一般式（Ｂ）で表されるものが挙げられる。

（式中、Ｒは、水素原子又はメチル基であり、Ｘ、Ｙ、及びＺはそれぞれ独立のアルキレン基であり、ｓは、１以上の整数であり、ｔ及びｕはそれぞれ０又は１以上の整数であり、Ｗは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基である。）
なお、上記一般式（Ｂ）中のＸ、Ｙ、及びＺはアルキレン基であるが、このアルキレン基は、置換基を有していてもよい。−Ｏ−（ＸＯ）ｓ−（ＹＯ）ｔ−（ＺＯ）ｕ−部分の具体例としては、繰返し単位数ｓが３以上の整数でｔ、ｕが０であり、かつＸがプロピレンであるポリオキシプロピレン、繰返し単位数ｓが３以上の整数でｔ、ｕが０であり、かつＸがブチレンであるポリオキシブチレン、繰返し単位数ｓが３以上の整数でｔ、ｕが０であり、かつＸがテトラメチレンであるポリオキシテトラメチレン、繰返し単位数ｓ及びｔがともに１以上の整数でｕが０であり、かつＸ又はＹがエチレンで他方がプロピレンであるエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体であるポリオキシアルキレン、繰返し単位数ｓ及びｔがともに１以上の整数でｕが０であり、かつＸ又はＹがプロピレンで他方がブチレンであるプロピレンオキサイドとブチレンオキサイドとの共重合体であるポリオキシアルキレン、繰返し単位数ｓ及びｔがともに１以上の整数でｕが０であり、かつＸ又はＹがエチレンで他方がテトラメチレンであるエチレンオキサイドとテトラヒドロフランとの共重合体であるポリオキシアルキレン、繰返し単位数ｓ及びｔがともに１以上の整数でｕが０であり、かつＸ又はＹがプロピレンで他方がテトラメチレンであるプロピレンオキサイドとテトラヒドロフランとの共重合体であるポリオキシアルキレン、繰返し単位数ｓ、ｔ及びｕがともに１以上の整数であり、かつＸ及びＺがエチレンで、Ｙがプロピレンである、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとエチレンオキサイドとの共重合体であるポリオキシアルキレンが挙げられる。

なお、これらのポリオキシアルキレンの重合度、すなわち一般式（Ｂ）中のｓとｔとｕとの合計が３〜５０のものが好ましい。なお、Ｘを含む繰返し単位とＹを含む繰返し単位とＺを含む繰返し単位とは、ランダム状に配置されてもブロック状に配置されても構わない。

前記単量体（Ｂ）が有するポリオキシアルキレン鎖の中でも、少なくともポリオキシプロピレン鎖、ポリオキシブチレン鎖又はポリオキシテトラメチレン鎖を有するものは、本発明の重合性液晶組成物に添加した場合に、より優れた耐ハジキ性を発揮することから好ましい。少なくともポリオキシプロピレン鎖、ポリオキシブチレン鎖又はポリオキシテトラメチレン鎖を有するものとしては、これらのポリオキシアルキレン鎖を単独で有するものでも、他のポリオキシアルキレン鎖との共重合体であっても構わない。

前記単量体（Ｂ）は、上記の繰返し単位数ｓが３以上の整数でｔ、ｕが０である場合は、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコールのモノ（メタ）アクリル酸エステル、このポリアルキレングリコールのモノ（メタ）アクリル酸エステルの（メタ）アクリル酸エステルではない末端が炭素原子数１〜６のアルキル基によって封止されたもの等が挙げられる。

前記単量体（Ｂ）のより具体的な例としては、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリテ
トラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・ブチレングリコール
）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（テトラエチレングリコール・ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリテトラエチレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（トリメチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリトリメチレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（ブチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単量体（Ｂ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。なお、「ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのランダム共重合物を意味し、「ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのブロック共重合物を意味し、他のものも同様である。

共重合体（ＩＩＩ−１）は、原料として前記単量体（Ａ）及び単量体（Ｂ）を必須成分とするが、その他の単量体として、アルキル基を有する単量体（Ｃ）を併用しても構わない。前記単量体（Ｃ）としては、例えば、下記一般式（Ｃ−１）で表されるものが挙げられる。

（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ^２は炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐状又は環構造を有するアルキル基である。）
なお、上記一般式（Ｃ−１）中のＲ^２は炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐状又は環構造を有するアルキル基であるが、このアルキル基は、脂肪族又は芳香族の炭化水素基、水酸基等の置換基を有していてもよい。上記アルキル基を有するエチレン性不飽和単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸ステアリル等の（メタ）アクリル酸の炭素原子数が１〜１８のアルキルエステル；ジシクロペンタニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸の炭素原子数１〜１８の橋架け環状アルキルエステルなどが挙げられる。これらの単量体（Ｃ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。

さらに、本発明のフッ素系界面活性剤の原料として、前記単量体（Ａ）、単量体（Ｂ）及び単量体（Ｃ）以外の単量体として、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類などを用いることもできる。

本発明のフッ素系界面活性剤のレベリング性能を良好なものとするために、フッ素系界面活性剤の原料である前記単量体（Ａ）及び単量体（Ｂ）の質量比［（Ａ）／（Ｂ）］は、５／９５〜７０／３０の範囲が好ましく、７．５／９２．５〜６０／４０の範囲がより好ましく、１０／９０〜５０／５０の範囲がさらに好ましい。また、前記単量体（Ａ）及び単量体（Ｂ）以外の単量体を用いる場合は、全単量体中５０質量％以下とすることが好ましい。
（光重合開始剤）
前記重合性液晶組成物中には光重合開始剤を含有するが、前記重合性液晶組成物を重合させるために用いる。重合を光照射によって行う場合に使用する光重合開始剤としては、特に限定はないが、重合性化合物の配向状態を阻害しない程度で公知慣用のものが使用できる。
アルキルフェノン系化合物：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ １１１６、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．株式会社製）、
アシルホスフィンオキサイド系化合物：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．株式会社製）、
オキシムエステル系化合物：イルガキュアＯＸＥ０１、イルガキュアＯＸＥ０２、イルガキュアＯＸＥ０３、イルガキュアＯＸＥ０４（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．株式会社製）、
水素引き抜き型化合物：ＳＢ−ＰＩ ７０１、ＳＢ−ＰＩ ７０１、ＳＢ−ＰＩ ７０７、ＳＢ−ＰＩ ７１１、ＳＢ−ＰＩ ７１２、ＳＢ−ＰＩ ７１６（以上、三陽貿易株式会社製）、カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、カヤキュアＥＰＡ（以上、日本化薬社製）、カンタキュア−ＩＴＸ（ワ−ドプレキンソップ社製）等が挙げられる。
アシルホスフィンオキサイド系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つ以上の光重合開始剤を含有する。

前記光重合開始剤は、光学異方体とした場合に、耐熱性に優れた塗膜とするために、アルキルフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つ以上の光重合開始剤であることが好ましく、アルキルフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物がより好ましい。

光重合開始剤の含有量は、重合性組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部が好ましく、１〜８質量部が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
（有機溶剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて有機溶剤を含有することができる。用いる有機溶剤としては特に限定はないが、前記重合性化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、プラスチック基板の耐熱性を考慮し１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン、等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸３−ブトキシメチル、乳酸エチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが溶液安定性および配向性の点から好ましく、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤がより好ましく、芳香族炭化水素系溶剤が特に好ましい。

用いる有機溶剤の比率は、本発明に用いられる重合性液晶組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、５０〜７００質量部であることが好ましく、１００〜６５０質量部であることが更に好ましく、１５０〜６００質量部であることが特に好ましい。

また、有機溶剤に前記重合性液晶性化合物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１３０℃が好ましく、３０℃〜１１０℃が更に好ましく、５０℃〜１００℃が特に好ましい。
（添加剤）
前記重合性液晶組成物は、均一に塗布するため、あるいは、各々の目的に応じて汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、配向制御剤、連鎖移動剤、赤外線吸収剤、チキソ剤、帯電防止剤、色素、フィラー、キラル化合物、重合性基を有する非液晶性化合物、その他液晶化合物、配向材料等の添加剤を液晶の配向性を著しく低下させない程度添加することができる。
（重合禁止剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて重合禁止剤を含有することができる。用いる重合禁止剤としては、特に限定はなく、公知慣例のものが使用できる。

例えば、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２．２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２．２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４．４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４−メトキシ−１−ナフトール、４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトール、等のフェノール系化合物、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、メチル−ｐ−ベンゾキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニルベンゾキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン、等のキノン系化合物、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−ｉ−プロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１．３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４．４'−ジクミル−ジフェニルアミン、４．４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、等のアミン系化合物、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、等のチオエーテル系化合物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、Ｎ、Ｎ−ジメチルｐ−ニトロソアニリン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、ｐ−ニトロンジメチルアミン、ｐ−ニトロン−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ−ニトロソエタノールアミン、Ｎ−ニトロソジ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ −ｎ−ブチル−４−ブタノールアミン、Ｎ−ニトロソ−ジイソプロパノールアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチル−４−ブタノールアミン、５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノリン、Ｎ−ニトロソモルホリン、Ｎ−二トロソーＮ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６−トリーｔｅｒｔ−ブチルニトロンベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチルウレタン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ｎ−プロピルウレタン、１−ニトロソ−２−ナフトール、２−ニトロソ−１−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール−３，６−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−１−ナフトール−４−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、等のニトロソ系化合物が挙げられる。

重合禁止剤の添加量は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、０．０１〜２．０質量部であることが好ましく、０．０５〜１．０質量部であることがより好ましい。
（酸化防止剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて酸化防止剤等を含有することができる。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、和光純薬工業社の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学株式会社のスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０等々があげられる。

酸化防止剤の添加量は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、０．０１〜２．０質量部であることが好ましく、０．０５〜１．０質量部であることがより好ましい。
（紫外線吸収剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて紫外線吸収剤や光安定剤を含有することができる。用いる紫外線吸収剤や光安定剤は特に限定はないが、光学異方体や光学フィルム等の耐光性を向上させるものが好ましい。

前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール「チヌビン ＰＳ」、「チヌビン ９９−２」、「チヌビン １０９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４−２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５７１」、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール「ＴＩＮＵＶＩＮ ９００」、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール「ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ １１３０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ４００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ４０５」、２，４−ビス[２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル]−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン「ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０」、「チヌビン ４７９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５２３６」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカスタブＬＡ−３２」、「アデカスタブＬＡ−３４」、「アデカスタブＬＡ−３６」、「アデカスタブＬＡ−３１」、「アデカスタブ１４１３」、「アデカスタブＬＡ−５１」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光安定剤としては例えば、「ＴＩＮＵＶＩＮ １１１ＦＤＬ」、「ＴＩＮＵＶＩＮ １２３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ １４４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ １５２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ２９２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ７８０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ９０５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５１００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５０５０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５０６０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ５１５１」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ １１９ＦＬ」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ＦＬ」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ＬＤ」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカスタブＬＡ−５２」、「アデカスタブＬＡ−５７」、「アデカスタブＬＡ−６２」、「アデカスタブＬＡ−６７」、「アデカスタブＬＡ−６３Ｐ」、「アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ」、「アデカスタブＬＡ−７７」、「アデカスタブＬＡ−８２」、「アデカスタブＬＡ−８７」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
（連鎖移動剤）
前記重合性液晶組成物は、重合体や光学異方体と基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を含有することができる。連鎖移動剤としては、芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、オクチルメルカプタン、ｎ―ブチルメルカプタン、ｎ―ペンチルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメル、ｎ―ドデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタン、ｔ―ドデシルメルカプタン等のメルカプタン化合物、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４−ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン等のチオール化合物、ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド等のスルフィド化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジビニルアニリン、ペンタフェニルエタン、α−メチルスチレンダイマー、アクロレイン、アリルアルコール、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルビネン、ジペンテン、等が挙げられるが、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、チオール化合物がより好ましい。

具体的には下記一般式（９−１）〜（９−１２）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｒ^９５は炭素原子数２〜１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であっても良く、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｒ^９６は炭素原子数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよい。

連鎖移動剤は、重合性液晶化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

連鎖移動剤の添加量は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、０．５〜１０質量部であることが好ましく、１．０〜５．０質量部であることがより好ましい。

更に物性調整のため、重合性でない液晶化合物等も必要に応じて添加することも可能である。液晶性のない重合性化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、重合性でない液晶化合物等は、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。これらの化合物の添加量は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましく、５質量部以下が更により好ましい。
（赤外線吸収剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて赤外線吸収剤を含有することができる。用いる赤外線吸収剤は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。

前記赤外線吸収剤としては、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフトキノン化合物、ジチオール化合物、ジインモニウム化合物、アゾ化合物、アルミニウム塩等が挙げられる。

具体的には、ジインモニウム塩タイプの「ＮＩＲ−ＩＭ１」、アルミニウム塩タイプの「ＮＩＲ−ＡＭ１」（以上、ナガセケムテック株式会社製）、「カレンズＩＲ−Ｔ」、「カレンズＩＲ−１３Ｆ」（以上、昭和電工株式会社製）、「ＹＫＲ−２２００」、「ＹＫＲ−２１００」（以上、山本化成株式会社製）、「ＩＲＡ９０８」、「ＩＲＡ９３１」、「ＩＲＡ９５５」、「ＩＲＡ１０３４」（以上、ＩＮＤＥＣＯ株式会社）等が挙げられる。
（帯電防止剤）
前記重合性液晶組成物は、必要に応じて帯電防止剤を含有することができる。用いる帯電防止剤は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。

そのような帯電防止剤としては、スルホン酸塩基またはリン酸塩基を分子内に少なくとも１種類以上有する高分子化合物、４級アンモニウム塩を有する化合物、重合性基を有する界面活性剤等が挙げられる。

中でも重合性基を有する界面活性剤が好ましく、例えば、重合性基を有する界面活性剤の内、アニオン系のものとして、「アントックスＳＡＤ」、「アントックスＭＳ−２Ｎ」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「アクアロンＫＨ−０５」、「アクアロンＫＨ−１０」、「アクアロンＫＨ−２０」、「アクアロンＫＨ−０５３０」、「アクアロンＫＨ−１０２５」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＳＲ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＲ−２０Ｎ」（以上株式会社ＡＤＥＫＡ製）、「ラテムルＰＤ−１０４」（花王株式会社製）、等のアルキルエーテル系、「ラテムルＳ−１２０」、「ラテムルＳ−１２０Ａ」、「ラテムルＳ−１８０Ｐ」、「ラテムルＳ−１８０Ａ」（以上、花王株式会社製）、「エレミノールＪＳ−２」（三洋化成株式会社製）、等のスルフォコハク酸エステル系、「アクアロンＨ−２８５５Ａ」、「アクアロンＨ−３８５５Ｂ」、「アクアロンＨ−３８５５Ｃ」、「アクアロンＨ−３８５６」、「アクアロンＨＳ−０５」、「アクアロンＨＳ−１０」、「アクアロンＨＳ−２０」、「アクアロンＨＳ−３０」、「アクアロンＨＳ−１０２５」、「アクアロンＢＣ−０５」、「アクアロンＢＣ−１０」、「アクアロンＢＣ−２０」、「アクアロンＢＣ−１０２５」、「アクアロンＢＣ−２０２０」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＳＤＸ−２２２」、「アデカリアソープＳＤＸ−２２３」、「アデカリアソープＳＤＸ−２３２」、「アデカリアソープＳＤＸ−２３３」、「アデカリアソープＳＤＸ−２５９」、「アデカリアソープＳＥ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＥ−２０Ｎ」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のアルキルフェニルエーテルあるいはアルキルフェニルエステル系、「アントックスＭＳ−６０」、「アントックスＭＳ−２Ｎ」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「エレミノールＲＳ−３０」（三洋化成株式会社製）、等の（メタ）アクリレート硫酸エステル系、「Ｈ−３３３０Ｐ」（第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＰＰ−７０」（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のリン酸エステル系が挙げられる。

一方、重合性基を有する界面活性剤の内、ノニオン系のものとして、例えば、「アントックスＬＭＡ−２０」、「アントックスＬＭＡ−２７」、「アントックスＥＭＨ−２０」、「アントックスＬＭＨ-２０、「アントックスＳＭＨ−２０」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「アデカリアソープＥＲ−１０」、「アデカリアソープＥＲ−２０」、「アデカリアソープＥＲ−３０」、「アデカリアソープＥＲ−４０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、「ラテムルＰＤ−４２０」、「ラテムルＰＤ−４３０」、「ラテムルＰＤ−４５０」（以上、花王株式会社製）、等のアルキルエーテル系、「アクアロンＲＮ−１０」、「アクアロンＲＮ−２０」、「アクアロンＲＮ−３０」、「アクアロンＲＮ−５０」、「アクアロンＲＮ−２０２５」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＮＥ−１０」、「アデカリアソープＮＥ−２０」、「アデカリアソープＮＥ−３０」、「アデカリアソープＮＥ−４０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のアルキルフェニルエーテル系もしくはアルキルフェニルエステル系、「ＲＭＡ−５６４」、「ＲＭＡ−５６８」、「ＲＭＡ−１１１４」（以上、日本乳化剤株式会社製）等の（メタ）アクリレート硫酸エステル系が挙げられる。

その他の帯電防止剤としては、例えば、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記帯電防止剤は、１種類のみで使用することも２種類以上組み合わせて使用することもできる。 前記帯電防止剤の添加量は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、０．００１〜１０重量部が好ましく、０．０１〜５重量部がより好ましい。
（重合性基を有する非液晶性化合物）
前記重合性液晶組成物は、重合性基を有するが液晶化合物ではない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。添加する場合は、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計含有量１００質量部に対し、１５質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下が更に好ましい。

具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルりん酸、アクリロイルモルホリン、ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、イロプロピルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等のモノ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス[４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル]フルオレン、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクロイルオキシプロピルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、等のジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、等のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、オリゴマー型の（メタ）アクリレート、各種ウレタンアクリレート、各種マクロモノマー、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、等のエポキシ化合物、マレイミド等が挙げられる。これらは単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
（粘着剤）
粘着剤は感圧接着剤とも呼称される接着剤の一種で、一般的には常温で短時間、わずかな圧力を加えるだけで、被着体同士を接着させることが可能である。前記位相差膜上に設ける粘着剤層は、公知の粘着剤を使用してよいが、耐熱性試験後もタック性を有するものが好ましく、例えば、アクリル樹脂、イソブチレンゴム樹脂、スチレン−ブタジエンゴム樹脂、イソプレンゴム樹脂、天燃ゴム樹脂、シリコーン樹脂などの溶剤型粘着剤や、アクリルエマルジョン樹脂、スチレンブタジエンラテックス樹脂、天燃ゴムラテックス樹脂、スチレン−ブチレン共重合体樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリビニルメチルエーテルなどの無溶剤型粘着剤などが挙げられる。また、粘着強度を調整するために粘着付与剤（タッキファイヤー）を添加してもよい。粘着付与剤は特に限定されず、例えばロジン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、クマロン樹脂、クマロンインデン樹脂、スチレン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系炭化水素樹脂、及びこれらの変性品、誘導体、水素添加品等が挙げられる。

粘着付与剤の配合量は特に限定されず、全樹脂固形分１００質量部に対して１００質量部以下、好ましくは５０質量部以下とすることが好ましい。

実用的には、上記粘着剤層または接着剤層の表面は、本発明の光学異方体が実際に使用されるまでの間、任意の適切なセパレータによってカバーされ、汚染が防止され得る。セパレータは、例えば、任意の適切なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法が挙げられる。このような粘着剤としては、例えばＣＳ９６２１、ＨＪ−９１５０Ｗ（以上、日東電工株式会社製）、Ｆ−９４６０、Ｆ−８１４１（以上、住友スリーエム株式会社製）、ＷＲ−Ｂ２（株式会社サンエー化研製）等が挙げられる。
（ガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂）
本発明の光学異方体は、前記位相差層と前記粘着剤層との間にガラス転移温度（以下Ｔｇと称する）８０℃以上の等方性樹脂層を有することが特徴である。ここでＴｇとは、以下の方法にて測定した温度を言う。具体的には、強度３０ｍＷ／ｃｍ^２で３０秒間紫外線を照射して硬化させた膜厚１μｍのフィルム状にした等方性樹脂層のサンプル５ｍｇを測定パンに充填し、示差走査熱量測定装置（ＥＸＴＲＡ ＤＳＣ６１００（セイコーインスツルメンツ株式会社製））にて速度１０℃／分で２５℃から２００℃まで窒素気流中にて昇温して１５分間保持した後、２５℃まで−１０℃／分で冷却した。この後、再度２５℃〜２５０℃まで昇温してベースラインが低温側から変化しはじめる温度とした。

Ｔｇが８０℃以上の範囲にある等方性樹脂層用組成物としては、インキおよび塗料に使用されている、（メタ）アクリル系樹脂、アクリルアルキッド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、重合性基を有する硬化性樹脂の中から適宜選択して使用することができ、また適宜混合して使用してもよいが、高い耐熱性を有する等方性樹脂層とすることができることから重合性基を有する硬化性樹脂が好ましい。上記硬化性樹脂中の重合性基は、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基からなる群から選択される１種またはそれ以上であるのが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基またはイソシアネート基からなる群から選択される１種またはそれ以上であることがより好ましい。上記重合性基を有する硬化性樹脂は、等方性樹脂層として使用される際に耐カール性が良好となる必要性から、重量平均分子量が１、０００〜２００、０００であることが好ましく、５，０００〜１００，０００であることがより好ましく、１０，０００〜５０，０００であることがより好ましい。重量平均分子量が２００，０００を超える場合には塗布溶液の粘度が高くなり過ぎるため塗布後のレベリング性に劣ることから、２００，０００未満であることが好ましく、１００，０００未満であることがより好ましく、５０，０００未満であることが特に好ましい。また、１，０００未満の場合には粘着剤層の熱変形に十分耐えることができない。

上記重合性基を有する硬化性樹脂の具体例としては、重量平均分子量が１，０００〜２００，０００の範囲内であるアクリル（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂等、が挙げられる。

アクリル（メタ）アクリレート樹脂は、アクリロイル基および／又はメタクリロイル基を含有するアクリル樹脂である。具体的には、グリシジルメタクリレートを共重合したアクリル樹脂に（メタ）アクリル酸を付加した化合物、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートを共重合したアクリル樹脂に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートや４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどを付加した化合物、水酸基含有モノマーを共重合したアクリル樹脂に２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートを付加した化合物、等が挙げられる。

上記アクリル（メタ）アクリレート樹脂の市販品として、例えば、ルクシディアＶ−６８４０、ルクシディアＶ−６８４１、ルクシディアＶ−６８５０、ルクシディアＥＭＳ−６３５、ルクシディアＲＳ２８−３６０、ルクシディアＷＨＶ−６４９（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ヒタロイド７９７５、ヒタロイド７９７７、ヒタロイド７９８８、ヒタロイド７９７５Ｄ（以上、日立化成株式会社製）、アートキュアＲＡ−３９６９ＭＰ、アートキュアＲＡ−３９６０ＰＧ、アートキュアＲＡ−３６０２ＭＩ、アートキュアＯＡＰ−５０００、アートキュアＯＡＰ−２５１１、アートキュアＡＨＣ−９２０２ＭＩ８０、アートキュアＲＡ−３７０４ＭＢ、アートキュアＲＡ−３９５３ＭＰ、アートキュアＲＡ−４１０１、アートキュアＭＡＰ−４０００、アートキュアＭＡＰ２８０１（以上、根上工業株式会社製）、ＲＵＡ−０５４、ＫＸ５０−２００（以上、亜細亜工業株式会社製）等を用いることができる。

上記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、例えば、（１）分子内に末端イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、水酸基およびアクリロイル基（またはメタクリロイル基）を有する化合物を付加反応させる、（２）ポリイソシアネート化合物とポリオールとを反応させて得られるポリウレタンポリオールにイソシアネート基含有（メタ）アクリレートモノマーを反応させる、等の方法によって調整することができる。

上記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシレンジイソシアネート、１，４−キシレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジベンジルジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートあるいはこれらジイソシアネート化合物のうち芳香族のイソシアネート類を水添して得られるジイソシアネート化合物、トリフェニルメタントリイソシアネート、ジメチレントリフェニルトリイソシアネート等の２価あるいは３価のポリイソシアネート化合物、および、これらのジイソシアネートのビュレットタイプ付加物やイソシアヌレート環タイプ付加物等が挙げられる。

上記（１）における、水酸基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、及びこれらにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン等を付加して得られるアルキレンオキサイド変性又はラクトン変性の化合物等を挙げることができる。

上記（２）におけるポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。

上記（２）におけるイソシアネート基含有（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、イソシアネートエチルアクリレート、イソシアネートプロピルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート等の活性水素含有重合性モノマーにヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物を付加して得られる不飽和化合物等が挙げられる。

上記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、ウレア結合を有するウレタンウレア（メタ）アクリレート樹脂であってもよい。ウレタンウレア（メタ）アクリレート樹脂は、例えば、上記（２）におけるポリオールに加えてポリアミンを併用することによって調整することができる。

上記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂の市販品として、例えば、ＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＢ、ＵＮ−３３２０ＨＣ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４、ＵＮ−９０６Ｓ、ＵＮ−９０１Ｔ、ＵＮ−９０５、ＵＮ−９５２（以上、根上工業株式会社製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４７３８、ＫＲＭ８６６７、ＥＢＥＣＲＹＬ４６６６、ＥＢＥＣＲＹＬ４６８０、ＫＲＭ８５２８、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９１（以上、ダイセル・オルネクス株式会社製）、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、紫光ＵＶ−６６３０Ｂ、紫光ＵＶ−７０００Ｂ、紫光ＵＶ−７５１０Ｂ、紫光ＵＶ−７４６１ＴＥ、紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６４０Ｂ、紫光ＵＶ−７６５０Ｂ（以上、三菱ケミカル株式会社製）、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−５３Ｈ、ＵＡ−３３Ｈ、ＵＡ−１２２Ｐ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５１０２Ｄ−Ｍ２０、ＵＸ−５１０３Ｄ、ＵＸ−５００５（以上、日本化薬株式会社製）、等を用いることができる。
上記等方性樹脂層用組成物は、必要に応じて、さらに重合性不飽和基含有モノマーを含んでもよいが、重合性不飽和基当量が９０〜５００ｇ／ｅｑであることが好ましい。
（光学異方体の製造方法）
（重合性液晶組成物の塗布）
本発明の光学異方体に含有する位相差層を得るための重合性液晶組成物の塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、スプレーコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を塗布後、乾燥させる。塗布後、本発明の重合性液晶組成物中の液晶分子をスメクチック相、あるいはネマチック相を保持した状態で均一に配向させることが好ましい。その方法の１つとして熱処理法が挙げられる。具体的には、前記重合性液晶組成物を基板上に塗布後、該液晶組成物のＮ（ネマチック相）−Ｉ（等方性液体相）転移温度（以下、Ｎ−Ｉ転移温度と略す）以上に加熱して、該液晶組成物を等方相液体状態にする。そこから、必要に応じ徐冷してネマチック相を発現させる。このとき、一旦液晶相を呈する温度に保ち、液晶相ドメインを充分に成長させてモノドメインとすることが望ましい。あるいは、前記重合性液晶組成物を基板上に塗布後、重合性液晶組成物のネマチック相が発現する温度範囲内で温度を一定時間保つような加熱処理を施しても良い。

加熱温度が高過ぎると重合性液晶化合物が好ましくない重合反応を起こして劣化するおそれがある。また、冷却しすぎると、重合性液晶組成物が相分離を起こし、結晶の析出、スメクチック相のような高次液晶相を発現し、配向処理が不可能になることがある。

このような熱処理をすることで、単に塗布するだけの塗工方法と比べて、配向欠陥の少ない均質な位相差層を作製することができる。

また、このようにして均質な配向処理を行った後、液晶相が相分離を起こさない最低の温度、即ち過冷却状態となるまで冷却し、該温度において液晶相を配向させた状態で重合すると、より配向秩序が高く、透明性に優れる位相差層を得ることができる。
（重合性液晶組成物の重合工程）
乾燥した重合性液晶組成物の重合処理は、一様に配向した状態で一般に可視紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には４２０ｎｍ以下の可視紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の紫外光を照射することが最も好ましい。但し、４２０ｎｍ以下の可視紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、４２０ｎｍ以上の可視紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。
（重合性液晶組成物の重合方法）
前記重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。照射時の温度は、前記重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り１００℃以下の液晶相を発現する温度とすることが好ましい。尚、重合性液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ（固相）−Ｎ（ネマチック）転移温度（以下、Ｃ−Ｎ転移温度と略す。）から、Ｎ−Ｉ転移温度範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外線照射強度は、０．０５ｍＷ／ｃｍ^２〜１０Ｗ／ｃｍ^２の範囲が好ましい。特に、０．２ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２の範囲が好ましい。紫外線強度が０．０５ｍＷ／ｃｍ^２未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかる。一方、２Ｗ／ｃｍ^２を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にあることや、重合熱が多く発生して重合中の温度が上昇し、重合性液晶のオーダーパラメーターが変化して、重合後のフィルムのリタデーションに狂いが生じる可能性がある。

また、紫外線照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜２０Ｊ／ｃｍ^２の範囲が好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０Ｊ／ｃｍ^２がさらに好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜５Ｊ／ｃｍ^２が特に好ましい。

マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する位相差層を得ることもできる。

また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する位相差層を得ることができる。

前記重合性液晶組成物を重合させて得られる位相差層は、基板から剥離して単体で位相差層として使用することも、基板から剥離せずにそのまま位相差層として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。

得られた位相差層の耐溶剤特性や耐熱性安定化のために、位相差層を加熱エージングすることもできる。この場合、前記重合膜のガラス転移点以上で加熱することが好ましい。通常は、５０〜３００℃が好ましく、６０〜２００℃がさらに好ましく、８０〜１５０℃が特に好ましい。
（位相差層）
本発明の光学異方体は、前記位相差層を含有しており、液晶性化合物が基材に対して一様に連続的な配向状態を形成して、基材に対して面内、面外、面内と面外の両方、あるいは面内において２軸性を有していればよい。

そのような位相差層としては、例えば、基材に対して棒状液晶性化合物が実質的に水平配向したポジティブＡプレート、基材に対して円盤状液晶性化合物が垂直に一軸配向したネガティブＡプレート、基材に対して棒状液晶性化合物が実質的に垂直に配向したポジティブＣプレート、基材に対して棒状液晶性化合物がコレステリック配向、あるいは、円盤状液晶性化合物が水平に一軸配向したネガティブＣプレート、二軸性プレート、基材に対して棒状液晶性化合物がハイブリッド配向したポジティブＯプレート、基材に対して円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向したネガティブＯプレートの配向モードを適用できる。液晶表示素子の光学補償フィルムに用いた場合は、視野角依存性を改善するものであれば、特に限定なく様々な配向モードが適用できる。

例えば、ポジティブＡプレート、ネガティブＡプレート、ポジティブＣプレート、ネガティブＣプレート、二軸性プレート、ポジティブＯプレート、ネガティブＯプレートの配向モードを適用できる。その中でも、ポジティブＡプレート及びネガティブＣプレートを使用することが好ましい。更に、ポジティブＡプレート及びネガティブＣプレートを積層することがより好ましい。

位相差層を利用した液晶セルでは、偏光軸直交性の視野角依存を補償して視野角を広げるため、第１の位相差層として、ポジティブＡプレートを使用することが好ましい。ここで、ポジティブＡプレートは、フィルムの面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、フィルムの面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」の関係となる。ポジティブＡプレートとしては、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が３０〜５００ｎｍの範囲にあるものが好ましい。また、厚み方向位相差値は特に限定されない。Ｎｚ係数は、０．５〜１．５の範囲が好ましい。

また、液晶分子自体の複屈折を打ち消すために、第２の位相差層としては負の屈折率異方性を有する、いわゆるネガティブＣプレートを使用することが好ましい。また、ポジティブＡプレート上にネガティブＣプレートを積層してもよい。

ここで、ネガティブＣプレートは、位相差層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、位相差層の面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、位相差層の厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」の関係となる位相差層である。ネガティブＣプレートの厚み方向位相差値は２０〜４００ｎｍの範囲が好ましい。

なお、厚み方向の屈折率異方性は、下記式（２）により定義される厚み方向位相差値Ｒｔｈで表される。厚み方向位相差値Ｒｔｈは、面内位相差値Ｒ_０、遅相軸を傾斜軸として５０°傾斜して測定した位相差値Ｒ_５０、フィルムの厚みｄ、フィルムの平均屈折率ｎ_０を用いて、式（１）と次式（４）〜（７）から数値計算によりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、これらを式（２）に代入して算出することができる。また、Ｎｚ係数＝は、式（３）から算出することができる。以下、本明細書の他の記載において同様である。

Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （１）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （２）
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ） （３）
Ｒ_５０＝（ｎｘ−ｎｙ’）×ｄ／ｃｏｓ（φ） （４）
（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３＝ｎ０ （５）
ここで、
φ＝ｓｉｎ^−１［ｓｉｎ（５０°）／ｎ_０］ （６）
ｎｙ’＝ｎｙ×ｎｚ／［ｎｙ^２×ｓｉｎ^２（φ）＋ｎｚ^２×ｃｏｓ^２（φ）］^１／２ （７）
市販の位相差測定装置では、ここに示した数値計算を装置内で自動的に行い、面内位相差値Ｒ_０や厚み方向位相差値Ｒｔｈなどを自動的に表示するようになっているものが多い。このような測定装置としては、例えば、ＲＥＴＳ−１００（大塚化学（株）製）を挙げることができる。

また、液晶表示素子の液晶媒体がインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードやフリンジフィールスイッチング（ＦＦＳ）モードの場合、ポジティブＡプレート、ポジティブＣプレート及び／又は二軸性プレートを使用することが好ましい。更に、ポジティブＡプレート及び／又はポジティブＣプレートを使用することがより好ましく、ポジティブＡプレート及びポジティブＣプレートを積層することが特に好ましい。
液晶セルでは、第１の位相差層として、ポジティブＡプレートを使用することが好ましい。ここで、ポジティブＡプレートは、フィルムの面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、フィルムの面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」の関係となる。ポジティブＡプレートとしては、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が１０〜３００ｎｍの範囲にあるものが好ましい。また、厚み方向位相差値は特に限定されない。Ｎｚ係数は、０．９〜１．１の範囲が好ましい。

また、第２の位相差層としては正の屈折率異方性を有する、いわゆるポジティブＣプレートを使用することが好ましい。また、ポジティブＡプレート上にポジティブＣプレートを積層してもよい。

ここで、ポジティブＣプレートは、位相差層の面内方向の屈折率をｎｘ、位相差層の面内方向の屈折率をｎｙ、位相差層の厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ」の関係となる位相差層である。ポジティブＣプレートの厚み方向位相差値は１０〜３００ｎｍの範囲が好ましい。

なお、厚み方向の屈折率異方性は、式（２）により定義される厚み方向位相差値Ｒｔｈで表される。厚み方向位相差値Ｒｔｈは、面内位相差値Ｒ_０、遅相軸を傾斜軸として５０°傾斜して測定した位相差値Ｒ_５０、フィルムの厚みｄ、フィルムの平均屈折率ｎ_０を用いて、式（１）と次式（４）〜（７）から数値計算によりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、これらを式（２）に代入して算出することができる。また、Ｎｚ係数＝は、式（３）から算出することができる。以下、本明細書の他の記載において同様である。

Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （１）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （２）
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ） （３）
Ｒ_５０＝（ｎｘ−ｎｙ’）×ｄ／ｃｏｓ（φ） （４）
（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３＝ｎ０ （５）
ここで、
φ＝ｓｉｎ^−１［ｓｉｎ（５０°）／ｎ_０］ （６）
ｎｙ’＝ｎｙ×ｎｚ／［ｎｙ^２×ｓｉｎ^２（φ）＋ｎｚ^２×ｃｏｓ^２（φ）］^１／２ （７）
（光学異方体）
前記重合性液晶組成物を、基材、あるいは、配向機能を有する基材上に塗布し、重合性液晶組成物中の液晶分子を、ネマチック相やスメクチック相を保持した状態で均一に配向させ、重合させることによって前記位相差層が得られ、前記位相差層上に、スピンコーター、キャップコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等により塗布する方法や、フレキソ印刷法やグラビア印刷法等により印刷する方法等で、前記Ｔｇ８０℃以上の等方性樹脂層を設け、その上に前記粘着剤層を設ける。

前記等方性樹脂層や前記粘着剤層を塗布または印刷する際には、適宜有機溶剤で希釈して使用してもよい。また、等方性樹脂層として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を使用する場合には、塗布または印刷後、紫外線又は可視光線等の活性エネルギー線を照射して硬化させる。光の波長は３００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。該光源の照度は、１００ｍＷ／ｃｍ^２以上であると、硬化が速く好ましい。照射する光量は、積算光量に換算して１０００ｍＪ／ｃｍ^２以上であれば良好に硬化させることができる。

前記等方性樹脂層の膜厚は、０．０１μｍ〜３０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜２０μｍであることがより好ましく、０．１μｍ〜１０μｍであることが特に好ましい。
（液晶表示素子）
本発明の光学異方体は、液晶表示素子に使用することができる。使用形態としては、光学補償フィルム、液晶立体表示素子のパターン化された位相差フィルム、カラーフィルターの位相差補正層、オーバーコート層、液晶媒体用の配向膜、等が挙げられる。液晶表示素子は、少なくとも二つの基材に液晶媒体層、ＴＦＴ駆動回路、ブラックマトリックス層、カラーフィルター層、スペーサー、液晶媒体層に相応の電極回路が最低限狭持されており、通常、光学補償層、偏光板層、タッチパネル層は二つの基材の外側に配置されるが、場合によっては、光学補償層、オーバーコート層、偏光板層、タッチパネル用の電極層が二つの基材内に狭持されてもよい。

液晶表示素子の配向モードとしては、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、ＯＣＢモード等があるが、光学補償フィルムや光学補償層で用いられる場合には、配向モードに相応する位相差を有するフィルムを作成することができる。オーバーコート層で用いられる場合には、１分子中の重合性基がより多い液晶性化合物を熱重合させればよい。液晶媒体用の配向膜で用いられる場合には、配向材料と重合性基を有する液晶性化合物を混合した重合性液晶組成物を使用することが好ましい。また、液晶媒体中にも混合することが可能であり、液晶媒体と液晶性化合物との比率により、応答速度やコントラスト等、各種の特性を向上させる効果がある。
（有機発光表示素子）
本発明の光学異方体は、有機発光表示素子に使用することができる。使用形態としては、前記重合により得られたポジティブＣプレートを円偏光板と組み合わせることにより、有機発光表示素子の視野角補償フィルムとして使用することができる。円偏光板と前記位相差フィルムは、接着剤や粘着剤等で貼り合わせてもよい。また、円偏光板上に光配向膜を積層した配向処理等により、直接積層してもよい。このとき使用する前記円偏光板に使用する偏光板は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性染料あるいは、二色性色素を吸着させたフィルム、二色性染料を含有する水溶液を基板上に塗布して偏光層を形成したフィルム、ワイヤーグリッド偏光子等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができ、ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体などが例示される。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは特に限定されないが、例えば１０〜１５０μｍ程度である。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。二色性色素として二色性染料を用いる場合は、通常、水溶性二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。

二色性染料を含有する水溶液を基板上に塗布して偏光層を形成したフィルムの場合、塗布する二色性色素の例としては、使用する基材の種類によって異なるが直接染料、酸性染料等の水溶性染料及びそれらのア旦ン塩及び分散染料、油溶性頗料等の水不溶性色素等があげられる。これら色素は、通常、水及び有機溶媒に溶解し、場合によっては、界面活性剤を添加してラビング、コロナ処理の行なわれた基材に塗布される。有機溶媒は、基材の耐溶剤性により異なるが、一般的には、メタノール、エタノール、イソプロビルアルコール等のアルコール類、メチルセロソルプ、エチルセロソルブ等のセロソルプ類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン頬、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルビロリドン等のアミド類、ベンゼン、トルエン等の芳香族有機溶媒が挙げられる。色素の塗布量は色素の偏光性能により異なるが、一般的には０．０５〜１．０ｇ／ポ、好ましくは０．１〜０．８ｇ／ｒｒｆである。色液を基材に塗布する方法としては、バーコーダーコーティングスプレーコーティング、ロールコπティング、グラビアコーター等の種々コ一ティング方法が挙げられる。

ワイヤーグリッド偏光子を用いる場合は、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、及びＳｉなどの導電材料で形成されたものを使用することが好ましい。

以下に本発明を実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（重合性液晶組成物（１）の調製）
式（１−１−５１）で表される化合物５０部、式（１−１−５２）で表される化合物５０部、ｐ−メトキシフェノール（ＭＥＨＱ：和光純薬工業株式会社製）０．１部をトルエン３００部に加えた後、７０℃に加温、撹拌して溶解させ、溶解が確認された後、室温に戻し、Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１（Ｏ−６５１：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ.社製）３部、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（Ｏ−８１９：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ.社製）３部、式（Ｅ−１）で表される化合物０．０３部を加えて、さらに撹拌を行い、溶液を得た。溶液は、透明で均一であった。得られた溶液を０．２０μｍのメンブランフィルターでろ過し、実施例１等に用いる重合性組成物（１）を得た。
（重合性液晶組成物（２）〜（１１）、比較用重合性組成物（Ｃ１）の調製）
下記表に示す各化合物をそれぞれ下記表に示す割合に変更した以外は実施例１の重合性組成物（１）の調整と同一条件で、実施例に用いる重合性液晶組成物（２）〜（１１）及び比較例に用いる重合性組成物（Ｃ１）を得た。

下記表に、本発明の重合性液晶組成物（１）〜（１１）、比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）の具体的な組成を示す。

Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１（Ｄ−１；ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（Ｄ−２；ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）

化合物（Ｅ−１） 数平均分子量６，０００、重量平均分子量１０，５００
ｐ−メトキシフェノール（Ｆ−１；和光純薬工業株式会社製）
トルエン（Ｇ−１；東京化成工業株式会社製）
（相転移温度）
上記の重合性液晶組成物（１）〜（１１）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）のネマチック相から等方相への相転移温度Ｔｎｉを温度可変装置を装着した偏光顕微鏡による液晶相の観察によって求めた。
（アクリル当量）
上記の重合性液晶組成物（１）〜（１１）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）のアクリル当量を下記式により求めた。
アクリル当量［ｇ／ｅｑ］＝アクリロイル基含有化合物成分量（wt％）×重合性化合物の分子量÷重合性化合物中のアクリロイル基数
（溶解性評価）
上記の重合性液晶組成物（１）〜（１１）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）の溶解性は以下のようにして評価した。
◎：トルエン中で加温調整後に室温に戻したときに透明で均一な状態であり、２４時間後も透明で均一な状態であることを目視で確認される。
○：トルエン中で加温調整後に室温に戻したときに透明で均一な状態であるが、２４時間後に初めて化合物の析出が若干目視で確認される。
△：トルエン中で加温調整後に室温に戻したときに透明で均一な状態であるが、１２時間後に初めて化合物の析出が若干目視で確認される。
×：トルエン中で加温調整後すぐに透明で均一な状態が目視で確認できるが、室温に戻したときに直ぐに化合物の析出が確認される。
下表に結果を示す。

（等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）の調整）
重合性基を有する硬化性樹脂として、ルクシディアＲＳ２８−３６０（ＤＩＣ株式会社製、Ｔｇ＝１５０℃、重量平均分子量）に光重合開始剤Ｏｍｎｉｒａｄ １８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）を添加し固形分濃度が２０ｗｔ％となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業株式会社製）で希釈調整し等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）を得た。このとき、固形分中の光重合開始剤濃度は５ｗｔ％となるように添加した。
（等方性樹脂層用組成物（Ｔ２）〜（Ｔ４）の調製）
下記表に示す各樹脂をそれぞれ下記表に示す割合に変更した以外は、前記の等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）の調整と同一条件で、等方性樹脂層用組成物（Ｔ２）〜（Ｔ４）を得た。
ルクシディアＲＳ２８−３６０（Ｔ１；ＤＩＣ株式会社製、Ｔｇ１５０℃、重量平均分子量３０，０００、アクリル当量２５０ｇ／ｅｑ）
ヒタロイド７９７５（Ｔ２；日立化成株式会社製、Ｔｇ１５０℃、重量平均分子量７８，０００、アクリル当量５５０ｇ／ｅｑ）
紫光ＵＶ−７６１０Ｂ（Ｔ３；三菱ケミカル株式会社製、Ｔｇ９０℃、重量平均分子量１１，０００、アクリル当量１２２２ｇ／ｅｑ）
紫光ＵＶ−１７００Ｂ（Ｔ４；三菱ケミカル株式会社製、Ｔｇ１２５℃、重量平均分子量２，０００、アクリル当量２００ｇ／ｅｑ）
（実施例１）
垂直配向膜材料「ＥＸＰＯＡ−０１８（日産化学工業株式会社製）」のブチルセロソルブ／エタノール溶液（固形分濃度４ｗｔ％）を厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム基材にバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で５分乾燥し垂直配向膜付きの基板を得た。この基材に本発明の重合性液晶組成物（１）をバーコーターで塗布し、Ｔｎｉ−１０℃の温度で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで２分かけて冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射して位相差層を得た。得られた位相差層上に、等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）をバーコーターを用いて塗布し７０℃で２分乾燥したのち、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で１０秒間紫外線を照射し積層体（１）を得た。得られた積層体（１）のカール性を以下の方法に従い評価したところ、カール高さは２ｍｍ未満であった。さらに、得られた積層体（１）を粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を介して厚さ０．７ｍｍのガラス基板「ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）」に貼り付けることにより、本発明の光学異方体（１）を得た。得られた積層体、および光学異方体の配向性評価、位相差比、耐熱性評価を以下の方法に従って行った。
（カール性）
得られた積層体（１）を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズにサンプルを作成し、サンプルを水平面に置いた際の４隅のカール高さを測定し、以下の基準にて評価したところ、２ｍｍ未満であった。
◎：カール高さが２ｍｍ未満
○：カール高さが２ｍｍ以上５ｍｍ未満
△：カール高さが５ｍｍ以上１０ｍｍ未満
×：カール高さが１０ｍｍ以上
（配向性評価）
得られた光学異方体（１）の配向性を以下の基準にて評価したところ、目視クロスニコル下で欠陥が全くなく、かつ、ホメオトロピック配向していた。
◎：目視クロスニコル下で欠陥が全くなく、かつ、ホメオトロピック配向している。
○：目視クロスニコル下で欠陥が全くなく、かつ、ごく一部分ホメオトロピック配向していない箇所がある。
△：目視クロスニコル下で欠陥が少しあり、かつ、一部分のみホメオトロピック配向している。
×：目視クロスニコル下で欠陥が多数あり、かつ、全くホメオトロピック配向していない。
（位相差値）
得られた光学異方体（１）の位相差を位相差フィルム・光学材料検査装置ＲＥＴＳ−１００（大塚電子株式会社製）を用いて入射光の角度を−５０°から５０°まで１０°単位で変えて測定したところ、膜面に対して視野角５０°となる位相差Ｒｔｈ（波長：５５０ｎｍ）を算出したところ、７４ｎｍであった。
（位相差比）
位相差値の測定で得られた、波長４５０ｎｍにおける面外位相差（Ｒｔｈ（４５０））と波長５５０ｎｍにおける面外位相差Ｒｔｈ（５５０）の比Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）を位相差比として算出したところ、０．８３９であった。
（耐熱性評価）
得られた光学異方体（１）を８５℃５００時間の耐熱性試験を実施したのち、試験前に対するリタデーション（位相差値）の変動率および波長分散性の変動率を評価したところ、それぞれ位相差値の変動率は４％であり、波長分散性の変動率は４．５％であった。

◎：変動率が３％未満
○：変動率が３〜５％
△：変動率が５〜８％
×：変動率が８％以上
（実施例２〜１８）
用いる重合性液晶組成物を本発明の光学異方体形成用の重合性液晶組成物（２）〜（１１）に変更し、また用いる等方性樹脂層用組成物を等方性樹脂層用組成物（Ｔ２）〜（Ｔ４）に変更した以外は、実施例１と同一条件にて、実施例２〜１９の積層体および光学異方体を得た。得られた積層体のカール性、配向性評価、および得られた光学異方体の位相差比、耐熱性評価を、実施例１と同様に行った。
（比較例１）
垂直配向膜材料「ＥＸＰＯＡ−０１８（日産化学工業株式会社製）」のブチルセロソルブ／エタノール溶液（固形分濃度４ｗｔ％）を厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム基材にバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で５分乾燥し垂直配向膜付きの基板を得た。この基材に比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）をバーコーターで塗布し、Ｔｎｉ−１０℃の温度で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで２分かけて冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射して位相差層（ｃ１）を得た。得られた位相差層（ｃ１）のカール性を以下の方法に従い評価したところ、カール高さは４．５ｍｍであった。また、配向性を実施例１と同様に評価したところ、目視クロスニコル下で欠陥が全くなく、かつ、ごく一部分ホメオトロピック配向していない箇所があった。さらに、得られた位相差層（ｃ１）を粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を介して厚さ０．７ｍｍのガラス基板「ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）」に貼り付けることにより、比較用光学異方体（Ｃ−１）を得た。得られた光学異方体（Ｃ−１）の位相差値、位相差比、耐熱性評価を以下の方法に従って行った。
（比較例２）
垂直配向膜材料「ＥＸＰＯＡ−０１８（日産化学工業株式会社製）」のブチルセロソルブ／エタノール溶液（固形分濃度４ｗｔ％）を厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム基材にバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で５分乾燥し垂直配向膜付きの基板を得た。この基材に比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）をバーコーターで塗布し、Ｔｎｉ−１０℃の温度で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで２分かけて冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射して位相差層を得た。得られた位相差層上に、等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）をバーコーターを用いて塗布し７０℃で２分乾燥したのち、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で１０秒間紫外線を照射し積層体を得た。得られた積層体のカール性を以下の方法に従い評価したところ、カール高さは４．７ｍｍであった。さらに、得られた積層体を粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を介して厚さ０．７ｍｍのガラス基板「ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）」に貼り付けることにより、比較用の光学異方体（Ｃ−２）を得た。得られた積層体、および光学異方体の配向性評価、位相差比、耐熱性評価を実施例１と同様の方法に従って行った。
結果を下表に示す。

（実施例１９）
（Ａプレート用重合性液晶組成物（ａ）の調整）
式（１−２−６５）で表される化合物４９部、式（１−２−６６）で表される化合物４９部、式（３−１；ｍ＝ｎ＝３、Ｒ＝ＣＨ_３）で表される化合物２部、ｐ−メトキシフェノール（ＭＥＨＱ：和光純薬工業株式会社製）０．１部をトルエン３００部に加えた後、７０℃に加温、撹拌して溶解させ、溶解が確認された後、室温に戻し、Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１（Ｏ−６５１：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ.社製）３部、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（Ｏ−８１９：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ.社製）３部、式（Ｅ−２）で表される化合物０．２部を加えて、さらに撹拌を行い、溶液を得た。溶液は、透明で均一であった。得られた溶液を０．２０μｍのメンブランフィルターでろ過し、実施例１９に用いるＡプレート用重合性液晶組成物（ａ）を得た。

化合物（Ｅ−２） 数平均分子量４，５００、重量平均分子量９，０００

式（５）で表される光配向ポリマーのＮ−メチルピロリドン溶液（濃度５ｗｔ％）を厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム基材上にバーコーターで塗布し、１００℃で２分間乾燥し、波長３１３ｎｍの紫外光の直線偏光を基材に対して垂直方向から照射し、光配向膜が積層されたＰＥＴ基材を得た。このＰＥＴ基材上にＡプレート用重合性液晶組成物（ａ）をバーコーターで塗布し、８０℃２分間乾燥し、室温で１分間放置した後、高圧水銀ランプを用いて積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射し、ポジティブＡプレートである位相差層Ａ１を得た。得られた位相差層Ａ１上に垂直配向膜材料「ＥＸＰＯＡ−０１８（日産化学工業株式会社製）」のブチルセロソルブ／エタノール溶液（固形分濃度４ｗｔ％）をバーコーターを用いて塗布し、１００℃で５分乾燥し垂直配向膜付きの基板を得た。この基材に前記重合性液晶組成物（１）をバーコーターで塗布し、Ｔｎｉ−１０℃の温度で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで２分かけて冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射してポジティブＣプレートである位相差層Ｃ１９を積層した複数位相差層ＡＣ１９を得た。得られた複数位相差層ＡＣ１９上に、等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）をバーコーターを用いて塗布し７０℃で２分乾燥したのち、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で１０秒間紫外線を照射し光学異方体ＡＣＴ１９を得た。得られた光学異方体ＡＣＴ１９のカール性を以下の方法に従い評価したところ、カール高さは４．８ｍｍであった。さらに、得られた光学異方体ＡＣＴ１９からＰＥＴフィルムを剥離し、その上に粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を貼り付け、市販の偏光板を光学異方体ＡＣＴ１９の遅相軸の方向と偏光板の吸収軸の角度（貼合せ角度）が４５°となるように貼り合せて楕円偏光板を作製した。さらに、光学異方体ＡＣＴ１９の等方性樹脂層面に粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５」を貼り付け、有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩにおいて用いられている円偏光板の変わりに、上記の円偏光板を貼り合わせて、正面又は斜め４５°からの黒色の色味づきを評価した。
（実施例２０）
式（５）で表される光配向ポリマーのＮ−メチルピロリドン溶液（濃度５ｗｔ％）を厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム基材上にバーコーターで塗布し、１００℃で２分間乾燥し、波長３１３ｎｍの紫外光の直線偏光を基材に対して垂直方向から照射し、光配向膜が積層されたＰＥＴ基材を得た。このＰＥＴ基材上にＡプレート用重合性液晶組成物（ａ）をバーコーターで塗布し、８０℃２分間乾燥し、室温で１分間放置した後、高圧水銀ランプを用いて積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射し、ポジティブＡプレートである位相差層Ａ１を得た。得られた位相差Ａ１上に粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を貼り付け、市販の偏光板を位相差層Ａ１の遅相軸の方向と偏光板の吸収軸の角度（貼合せ角度）が４５°となるように貼り合せて円偏光板ＣＰ１を作製した。
厚さ５０μｍＰＥＴ上に垂直配向膜材料「ＥＸＰＯＡ−０１８（日産化学工業株式会社製）」のブチルセロソルブ／エタノール溶液（固形分濃度４ｗｔ％）をバーコーターを用いて塗布し、１００℃で５分乾燥し垂直配向膜付きの基板を得た。この基材に前記重合性液晶組成物（１）をバーコーターで塗布し、Ｔｎｉ−１０℃の温度で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで２分かけて冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射してポジティブＣプレートである位相差層ＰＣ２０を得た。得られた位相差層ＰＣ２０上に、等方性樹脂層用組成物（Ｔ１）をバーコーターを用いて塗布し７０℃で２分乾燥したのち、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で１０秒間紫外線を照射し光学異方体ＰＣＴ２０を得た。得られた光学異方体ＰＣＴ２０の等方性樹脂層上に粘着剤層「ＤＡＩＴＡＣ ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）」を貼り付け、ＰＥＴフィルムを除去した円偏光板ＣＰ１と貼り合せ、さらに、光学異方体ＰＣＴ２０側にあるＰＥＴフィルムを除去したのち、有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩにおいて用いられている円偏光板の変わりに、上記の円偏光板を貼り合わせて、正面又は斜め４５°からの黒色の色味外観を評価した。
結果を表８に示す。

上記実施例に示したように、位相差層と粘着剤層の間にガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層を有する本発明の光学異方体は、実施例１〜２０に示すように、耐カール性、配向性、位相差値、位相差比、耐熱性試験、色味外観評価の結果が全て良好であると言える。そのうち、位相差層として、一般式（１）で表される重合性基を複数有する特定の構造を有する重合性化合物が２つの重合性基を有する特定の構造を有する重合性化合物を用いた重合性組成物から形成され、かつ、ガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層を含む光学異方体は、耐カール性、配向性、位相差値、位相差比、耐熱性試験、色味外観評価の結果が全て良好な結果となった。一方、比較例１の結果から、本発明のガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層を有しない光学異方体の場合、耐熱性評価が不良であり、本発明の光学異方体に比べ劣る結果となった。

Claims (14)

1. 基板と、基板の一方の面に設けられた配向膜層および重合性液晶組成物の層を有する積層体であり、かつ前記重合性液晶組成物中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた位相差層を１つまたは複数の層と、粘着剤層と、前記位相差層と前記粘着剤層との間に前記位相差層と当接して設けられたガラス転移温度８０℃以上の等方性樹脂層Ａと、を有することを特徴とする光学異方体。
2. 前記位相差層が、
   ２つ以上の重合性基を有し、かつ、式（Ｉ）を満たし、
   Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０ （Ｉ）
   （式中、Ｒｅ（４５０ｎｍ）は、前記２つの重合性基を有する重合性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの４５０ｎｍの波長における面内位相差、Ｒｅ（５５０ｎｍ）は、前記２つの重合性基を有する重合性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの５５０ｎｍの波長における面内位相差を表す。）、かつ、一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、炭素原子数１から２０のアルキル基、又は重合性基を表すが、Ｒ^１１、Ｒ^１２のうち少なくとも１つは重合性基を表し、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
   Ｓ^１１及びＳ^１２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^１１及びＳ^１２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｘ^１１、Ｘ^１２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^１２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、
   Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良いが、Ａ^１１及び／又はＡ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−９）
   

   

   から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、
   Ｇは下記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−５）
   

   

   （式中、Ｒ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、液晶性及び合成の容易さの観点から、任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが特に好ましく、
   Ｗ^８１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数５から３０の基を表すが、当該基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、
   Ｗ^８２は下記の基
   

   

   （式中、Ｐ^Ｗ８２は重合性基を表し、Ｓ^Ｗ８２はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８２はＸ^１１と同じ意味を表し、ｍ^Ｗ８２はｍ１１と同じ意味を表す。）を表し、
   Ｗ^８３、Ｗ^８４はそれぞれ独立してハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、スルファモイル基、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数５から３０の基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数３から２０のシクロアルキル基、炭素原子数２から２０のアルケニル基、炭素原子数３から２０のシクロアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、炭素原子数２から２０のアシルオキシ基、炭素原子数２から２０のアルキルカルボニルオキシ基、または下記の基
   

   

   （式中、Ｐ^Ｗ８４は重合性基を表し、Ｓ^Ｗ８４はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８４はＸ^１１と同じ意味を表し、ｍ^Ｗ８４はｍ１１と同じ意味を表す。）を表すが、Ｗ^８３、Ｗ^８４は少なくとも１つの重合性基を有し、前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
   但し、上記Ｍが式（Ｍ−１）〜式（Ｍ−８）から選択される場合Ｇは式（Ｇ−１）〜式（Ｇ−４）から選択され、Ｍが式（Ｍ−９）である場合Ｇは式（Ｇ−５）を表し、
   Ｌ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｎ１１及びｎ１２は各々独立して１から４の整数を表すが、ｎ１１＋ｎ１２は１から５の整数を表す。）で表される基を表し、ｍ１１、ｍ１２は各々独立して０から５の整数を表す。）で表される化合物を少なくとも２つ以上含有する重合性液晶組成物の配向状態を固定してなる光学異方層であることを特徴とする請求項１に記載の光学異方体。
3. 前記重合性液晶組成物が、必要に応じて、２つの重合性基を有する下記一般式（３）で表される重合性化合物をさらに含有する、請求項１又は請求項２に記載の光学異方体。
   

   

   （式中、Ｐ^３１及びＰ^３２は重合性基を表し、
   Ｓ^３１及びＳ^３２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^３１及びＳ^３２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｘ^３１及びＸ^３２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^３１及びＸ^３２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、
   Ａ^３１、Ａ^３２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良いが、Ａ^３１及び／又はＡ^３２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｚ^３１及びＺ^３２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^８３及び／又はＺ^８４が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｍ^３１は１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ナフチレン−１，４−ジイル基、ナフチレン−１，５−ジイル基、ナフチレン−１，６−ジイル基、ナフチレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、
   Ｌ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｊ３１及びｊ３２は各々独立して１から４の整数を表すが、ｊ３１＋ｊ３２は１から５の整数を表す。）を表し、
   ｍ３１、ｍ３２は各々独立して０から５の整数を表す。）
4. 前記重合性基が、一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学異方体。
   

   
5. 前記重合性液晶組成物が、フッ素系界面活性剤（ＩＩＩ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜４に記載の光学異方体。
6. 前記重合性液晶組成物が、光重合開始剤および有機溶剤をさらに含有することを特徴とする請求項１〜５に記載の光学異方体。
7. 前記等方性樹脂層Ａが、（メタ）アクリル系樹脂、アクリルアルキッド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂および重合性基を有する硬化性樹脂組成物からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜６の何れか１項に記載の光学異方体。
8. 前記光学異方層が、式（Ｄ）および式（Ｅ）を満たす、請求項１〜７の何れか１項に記載の光学異方体。
   Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０８ （Ｄ）
   ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ （Ｅ）
   （式中、Ｒｔｈ（４５０）は４５０ｎｍの波長における面外位相差、式中、Ｒｔｈ（５５０）は５５０ｎｍの波長における面外位相差を表し、ｎｚは厚さ方向の屈折率を表し、ｎｘは面内において最大の屈折率を生じる方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す）
9. 前記光学異方層が、式（Ｄ）および式（Ｅ）を満たす光学異方層と、式（Ｄ）および式（Ｆ）を満たす光学異方層を有することを特徴とする、請求項１〜７の何れか１項に記載の光学異方体。
   Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０８ （Ｄ）
   ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ （Ｅ）
   ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （Ｆ）
   （式中、Ｒｔｈ（４５０）は４５０ｎｍの波長における面外位相差、式中、Ｒｔｈ（５５０）は５５０ｎｍの波長における面外位相差を表し、ｎｚは厚さ方向の屈折率を表し、ｎｘは面内において最大の屈折率を生じる方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す）
10. 配向膜を含む基板上に、重合性液晶化合物、光重合開始剤、界面活性剤、有機溶剤を含む重合性液晶組成物を配向膜に接するように０．５〜１０μｍの膜厚で塗布する塗布工程（ａ）と、加熱することにより前記重合性液晶組成物から有機溶剤を揮発させつつ、前記重合性液晶化合物を配向させる配向工程（ｂ）と、さらに活性エネルギー線を照射して配向状態を固定化して光学異方層を得る照射工程（ｃ）と、等方性樹脂、有機溶剤を含む等方性樹脂組成物を塗布する塗布工程（ｄ）と、必要に応じて活性エネルギー線を照射して等方性樹脂を固定化して等方性樹脂層Ａを得る照射工程（ｅ）と、を含むことを特徴とする光学異方体の製造方法。
11. 請求項１〜請求項１０に記載の光学異方体と直線偏光板を含有する偏光フィルム。
12. 直線偏光板が二色性色素を含有する請求項１１に記載の偏光フィルム。
13. 請求項１１および請求項１２に記載の偏光フィルムを含有する表示素子。
14. 請求項１２および請求項１３に記載の偏光フィルムを含有する発光素子。