JP2021001733A - 分光分析システム - Google Patents

Abstract

【課題】容易に溶液分析が可能であり、かつ、放射性物質が含有される溶媒を適切に分析する。【解決手段】分光分析システム１は、放射性物質を含有する溶液Ｘが貯留される貯留容器１４が内部に収納される筐体１２と、筐体１２内に設けられてＸ溶液に浸漬される測定プローブ３２と、少なくとも近赤外光の波長帯の光を照射する光源部３０と、光を受光する検出部３４と、光源部３０からの光を測定プローブ３２に導き、測定プローブ３２からの光を検出部３４に導く光ファイバ３８と、を備える。筐体１２及び測定プローブ３２は、高線量区域ＡＲ１に設けられ、光源部３０及び検出部３４は、高線量区域ＡＲ１よりも空間線量率が低い低線量区域ＡＲ２に設けられる。【選択図】図１

Description

本発明は、分光分析システムに関する。

溶液中の放射性物質を分析する際に、分光分析を用いる場合がある。この場合、溶液による光の波長毎の吸光度を示す吸光度スペクトルから、放射性物質の濃度を算出する。例えば特許文献１には、配管を流れる溶液に光を照射して、分光分析により、溶液中のウラン及びプルトニウムの濃度を測定する旨が記載されている。

特開２０１７−１２５７４７号公報

特許文献１においては、配管を流れる溶液を分析するために、配管に対して測定プローブを接続するための加工を施す必要がある。しかし、既存の配管などにおいては、加工を施すことが困難となる場合がある。従って、配管に測定プローブを接続することなく、容易に溶液分析が可能な構造の分光分析システムが求められている。また、溶液中の放射性物質の濃度だけでなく、放射性物質が含有される溶媒自体の濃度を分光分析することも求められている。

本発明は、上述した課題を解決するものであり、容易に溶液分析が可能であり、かつ、放射性物質が含有される溶媒を適切に分析可能な分光分析システムを提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る分光分析システムは、放射性物質を含有する溶液が貯留される貯留容器が内部に収納される筐体と、前記筐体内に設けられて前記溶液に浸漬される測定プローブと、少なくとも近赤外光の波長帯の光を照射する光源部と、光を受光する検出部と、前記光源部からの光を前記測定プローブに導き、前記測定プローブからの光を前記検出部に導く光ファイバと、を備え、前記筐体及び前記測定プローブが、高線量区域に設けられ、前記光源部及び前記検出部が、前記高線量区域よりも空間線量率が低い低線量区域に設けられる。

この分光分析装置は、貯留容器にサンプリングされた溶液を分析するため、容易に溶液分析が可能な構造となる。また、この分光分析装置によると、近赤外光の波長帯を用いることで、水による光の吸収を抑え、放射性物質が含有される溶媒を適切に分析することができる。

前記光ファイバは、低ＯＨ型の光ファイバを含むことが好ましい。この分光分析装置によると、光の減衰を抑え、溶媒を適切に分析することが可能となる。

前記光源部は、さらに、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光も照射することが好ましい。この分光分析装置によると、溶液の溶媒の分析と共に、溶液の放射性物質の分析も、適切に行う事が可能となる。

前記光源部は、前記溶液中の有機溶媒を分析する際に、近赤外光の波長帯の光を照射し、前記溶液中の放射性物質を分析する際に、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を照射することが好ましい。この分光分析装置によると、分析対象に応じて照射する光の波長帯を異ならせることで、溶液の溶媒と溶液の放射性物質の分析とを、適切に行う事が可能となる。

前記光ファイバは、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を導く第１光ファイバと、近赤外光の波長帯の光を導く第２光ファイバと、を含み、前記第２光ファイバは、前記第１光ファイバよりも、ＯＨ基が少ないことが好ましい。この分光分析装置によると、溶液の溶媒と溶液の放射性物質の分析とを、適切に行う事が可能となる。

制御部を更に備え、前記制御部は、第１接続状態において、前記第１光ファイバを前記測定プローブに接続して、前記光源部から紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を照射させることで、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を前記測定プローブから前記溶液に照射させ、第２接続状態において、前記第２光ファイバを前記測定プローブに接続して、前記光源部から近赤外光の波長帯の光を照射させることで、近赤外光の波長帯の光を前記測定プローブから前記溶液に照射させることが好ましい。この分光分析装置によると、溶液の溶媒と溶液の放射性物質の分析とを、適切に行う事が可能となる。

前記光ファイバを覆う金属管をさらに有することが好ましい。この分光分析装置によると、光ファイバが放射線によってダメージを受けることを抑制できる。

前記金属管は、伸縮可能であることが好ましい。この分光分析装置によると、金属管を伸縮可能とすることで光ファイバを動かすことが可能となり、例えば測定プローブを貯留容器に挿入する際などの分析のための作業を、容易に行う事が可能となる。

前記筐体内に設けられて、前記測定プローブ及び前記貯留容器の少なくとも一方を移動させることで、前記測定プローブを前記貯留容器内に挿入する操作部をさらに有することが好ましい。分光分析システムは、このような操作部を設けることで、貯留容器内に貯留された溶液の分析を、適切に実施できる。

前記貯留容器は、表面に開口して前記溶液が貯留される開口部が設けられ、前記開口部の内周面には、溝部が形成されていることが好ましい。分光分析システムは、貯留容器の内周面に溝部を形成することで、測定プローブに溶液が残留することを抑えて、放射線物質を含む溶液の管理負担を低減できる。

前記開口部の中心軸は、前記表面に直行する軸に対して傾斜していることが好ましい。分光分析システムは、開口部を傾斜させることで、測定プローブに溶液が残留することを抑えることができる。また、測定プローブの浸漬時に、液体が透過する部分に気泡を含有し難くすることができる。

本発明によれば、容易に溶液分析が可能であり、かつ、放射性物質が含有した溶媒を適切に分析することができる。

図１は、本実施形態に係る分光分析システムの模式図である。 図２は、金属管を説明するための模式図である。 図３は、本実施形態に係る測定プローブの一例を示す部分拡大図である。 図４は、本実施形態に係る演算部の模式的なブロック図である。 図５は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。 図６は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。 図７は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。 図８は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。 図９は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。

以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。

図１は、本実施形態に係る分光分析システムの模式図である。図１に示すように、本実施形態に係る分光分析システム１は、溶液Ｘを分析する装置である。分光分析システム１は、後述の貯留容器１４に貯留された溶液Ｘを分析する。溶液Ｘは、放射性物質を含む溶液である。分光分析システム１が分析する溶液Ｘとしては、硝酸などの酸性溶媒に放射性物質が溶解した溶液Ｘ１と、有機溶媒に放射性物質が溶解した溶液Ｘ２と、が挙げられる。分光分析システム１は、溶液Ｘ１を分光分析して、溶液Ｘ１に含まれる放射性物質の濃度を測定する。また、分光分析システム１は、溶液Ｘ２を分光分析して、有機溶媒の濃度を測定する。本実施形態では、溶液Ｘ１、Ｘ２に含まれる放射性物質としては、ウラン及びプルトニウムが挙げられる。また、本実施形態では、溶液Ｘ２に含まれる有機溶媒としては、ＴＢＰ（Tributylphosphate；トリブチルフォスフェート）をｎ−ドデカンで希釈した有機溶媒が挙げられる。また、溶液Ｘ２に含まれる有機溶媒のＴＢＰ及びｎ−ドデカン以外の例としては、ジブチルリン酸（ＤＢＰ）、ブタノール、ドデカノン、ドデカノール、酪酸、プロピオン酸（ＴＢＰの劣化生成物）などが挙げられる。なお、分光分析システム１は、溶液Ｘ１、Ｘ２の両方を分析することに限られず、少なくとも一方を分析可能であればよい。

分光分析システム１は、例えば核燃料の再処理工場などの原子力施設内に設けられる。原子力施設は、例えば壁部Ｗが設けられ、壁部Ｗによって、高線量区域ＡＲ１と、高線量区域ＡＲ１よりも空間線量率が低い低線量区域ＡＲ２とに区分けされる。

分光分析システム１は、分光分析装置１０と、筐体１２と、貯留容器１４と、洗浄容器１６と、操作部１８と、を備える。筐体１２は、高線量区域ＡＲ１に設けられる。筐体１２は、内部の空間１２Ａが閉塞されており、空間１２Ａが外気と遮断される。筐体１２は、例えば少なくとも一部の壁が透明材で形成されて、外部から空間１２Ａに、操作部１８を介してアクセス可能となっている。

貯留容器１４は、筐体１２内の空間１２Ａに配置される。貯留容器１４は、溶液Ｘが貯留される容器である。溶液Ｘ１を分析する際には、貯留容器１４には溶液Ｘ１が貯留され、溶液Ｘ２を分析する際には、貯留容器１４には溶液Ｘ２が貯留される。溶液Ｘ１と溶液Ｘ２とを分析する場合、例えば貯留容器１４に溶液Ｘ１、Ｘ２の一方を貯留して分析した後、貯留容器１４内の溶液を溶液Ｘ１、Ｘ２の他方に取り換えて、分析を行う。また、溶液Ｘ１と溶液Ｘ２とを、別々の貯留容器１４に貯留して、それぞれの貯留容器１４を用いて分析を行ってもよい。

洗浄容器１６は、筐体１２の空間１２Ａに配置される。洗浄容器１６は、後述の測定プローブ３２を洗浄するための容器であり、例えば洗浄用の液体Ｙが貯留されている。液体Ｙは、例えば水である。ただし、洗浄容器１６は、必須の構成でなく、筐体１２内に設けられてなくてもよい。

操作部１８は、作業者が筐体１２の外部から空間１２Ａにアクセスするために用いられる機構である。操作部１８は、少なくとも一部が筐体１２の空間１２Ａに設けられる。本実施形態では、操作部１８は、マニュピュレータである。操作部１８は、作業者が操作する機構であるコントローラ１８Ａと、作業者の操作により動作するアーム１８Ｂとを備える。コントローラ１８Ａは、筐体１２の外部に設けられ、アーム１８Ｂは、筐体１２の空間１２Ａに設けられる。操作部１８は、筐体１２の外部にいる作業者がコントローラ１８Ａを操作することで、アーム１８Ｂが動作する。なお、図１では、操作部１８が２つ設けられるが、操作部１８の数は任意である。また、操作部１８は、マニュピュレータに限られず、例えば作業者が外部から手を挿入して内部の空間１２Ａにアクセス可能なグローブであってもよい。この場合、筐体１２は、グローブを備えたグローブボックスであるといえる。

なお、筐体１２には、溶液Ｘが貯留された容器などが気送される気送管が接続されていてもよい。

分光分析装置１０は、光源部３０と、測定プローブ３２と、検出部３４と、演算部３６と、光ファイバ３８と、を備える。分光分析装置１０は、筐体１２内の溶液Ｘが貯留される貯留容器１４内に、光源部３０からの測定光Ｌ１を、測定プローブ３２を介して照射する。分光分析装置１０は、溶液Ｘを透過した測定光Ｌ１である透過光Ｌ２を、測定プローブ３２を介して検出部３４で受光する。分光分析装置１０は、演算部３６により、検出部３４が検出した透過光Ｌ２に基づき溶液Ｘの吸光度スペクトルを算出して、吸光度スペクトルに基づき、溶液Ｘを分析する。分光分析装置１０は、測定プローブ３２が、高線量区域ＡＲ１に配置され、光源部３０と検出部３４と演算部３６とが、低線量区域ＡＲ２に配置される。また、光ファイバ３８は、高線量区域ＡＲ１から低線量区域ＡＲ２にわたって設けられている。光ファイバ３８は、光源部３０と測定プローブ３２とを接続し、測定プローブ３２と検出部３４とを接続する。

光源部３０は、測定光Ｌ１を照射する光源と、光源からの測定光Ｌ１を所望の波長に分光する分光器とを備える。光源部３０は、光ファイバ３８を介して測定プローブ３２に接続される。光源部３０は、光ファイバ３８を介して、分光器で分光した測定光Ｌ１を、測定プローブ３２に向けて送光する。光源部３０は、測定光Ｌ１として、測定光Ｌ１ａと測定光Ｌ１ｂとを照射する。測定光Ｌ１ａは、本実施形態では紫外光から可視光までの波長帯の光であるが、紫外光から近赤外光までの波長帯の光であってもよい。例えば、測定光Ｌ１ａは、例えば、２００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長帯の光（紫外光から近赤外光までの波長帯の光）であるが、例えば、３５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長帯の光（紫外光から可視光までの波長帯の光）であってもよい。測定光Ｌ１ａは、紫外光の波長帯と可視光の波長帯との少なくとも一方の波長帯の光であってもよい。また、測定光Ｌ１ｂは、近赤外光の波長帯の光である。具体的には、測定光Ｌ１ｂは、８００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の波長帯の光（近赤外光の波長帯の光）であることが好ましい。

光源部３０は、演算部３６の制御により、測定光Ｌ１ａの照射と測定光Ｌ１ｂの照射とを切り替える。演算部３６は、溶液Ｘ１を分析する場合には、光源部３０に測定光Ｌ１ａを照射させ、溶液Ｘ２を分析する場合には、光源部３０に測定光Ｌ１ｂを照射させる。本実施形態において、光源部３０は、測定光Ｌ１ａを照射する光源と、測定光Ｌ１ｂを照射する光源とを備える。測定光Ｌ１ａを照射する光源としては、例えば重水素放電管やタングステンランプなどが用いられ、測定光Ｌ１ｂを照射する光源としては、例えばハロゲンランプなどが用いられる。

測定プローブ３２は、筐体１２内に設けられ、溶液Ｘが貯留される貯留容器１４内に配置される。測定プローブ３２は、光ファイバ３８を介して、光源部３０及び検出部３４に接続されている。測定プローブ３２は、光源部３０から送光された測定光Ｌ１を受光し、受光した測定光Ｌ１を、後述の流路部３２ｂ内に侵入した溶液Ｘに向けて照射する。また、測定プローブ３２は、光ファイバ３８を介して、流路部３２ｂ内の溶液Ｘを透過した測定光Ｌ１である透過光Ｌ２を受光して、検出部３４に向けて送光する。なお、溶液Ｘ１を分析する場合、貯留容器１４内に溶液Ｘ１が貯留される。この場合、測定プローブ３２は、光源部３０から測定光Ｌ１ａを受光し、溶液Ｘ１を透過した測定光Ｌ１ａである透過光Ｌ２ａを、検出部３４に向けて送光する。一方、溶液Ｘ２を分析する場合、貯留容器１４内に溶液Ｘ２が貯留される。この場合、測定プローブ３２は、光源部３０から測定光Ｌ１ｂを受光し、溶液Ｘ２を透過した測定光Ｌ１ｂである透過光Ｌ２ｂを、検出部３４に向けて送光する。

測定プローブ３２の詳細構成について説明する前に、光ファイバ３８について説明する。光ファイバ３８は、第１光ファイバ５０と、第２光ファイバ５２と、第３光ファイバ５４とを含む。第１光ファイバ５０は、溶液Ｘ１を分析する際に用いられ、測定光Ｌ１ａ及び透過光Ｌ２ａが伝送される。より詳しくは、第１光ファイバ５０は、測定光Ｌ１ａを伝送する第１送光用光ファイバ５０Ａと、透過光Ｌ２ａを伝送する第１受光用光ファイバ５０Ｂと、を含む。第２光ファイバ５２は、溶液Ｘ２を分析する際に用いられ、測定光Ｌ１ｂ及び透過光Ｌ２ｂが伝送される。より詳しくは、第２光ファイバ５２は、測定光Ｌ１ｂを伝送する第２送光用光ファイバ５２Ａと、透過光Ｌ２ｂを伝送する第２受光用光ファイバ５２Ｂと、を含む。第３光ファイバ５４は、溶液Ｘ１を分析する際と溶液Ｘ２を測定する際との両方に用いられ、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ及び透過光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂが伝送される。より詳しくは、第３光ファイバ５４は、測定光Ｌ１（測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ）を伝送する第３送光用光ファイバ５４Ａと、透過光Ｌ２（透過光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ）を伝送する第３受光用光ファイバ５４Ｂと、を含む。

第１送光用光ファイバ５０Ａは、一方の端部５０Ａ１から他方の端部５０Ａ２まで、低線量区域ＡＲ２から高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第１送光用光ファイバ５０Ａは、端部５０Ａ１が光源部３０に接続され、端部５０Ａ２がカプラＣＡ１に接続される。第２送光用光ファイバ５２Ａは、一方の端部５２Ａ１から他方の端部５２Ａ２まで、低線量区域ＡＲ２から高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第２送光用光ファイバ５２Ａは、端部５２Ａ１が光源部３０に接続され、端部５２Ａ２がカプラＣＡ１に接続される。第３送光用光ファイバ５４Ａは、一方の端部５４Ａ１から他方の端部５４Ａ２まで、筐体１２内の空間１２Ａから高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第３送光用光ファイバ５４Ａは、端部５４Ａ１が空間１２Ａ内の測定プローブ３２に接続され、端部５４Ａ２がカプラＣＡ１に接続される。

第１受光用光ファイバ５０Ｂは、一方の端部５０Ｂ１から他方の端部５０Ｂ２まで、低線量区域ＡＲ２から高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第１受光用光ファイバ５０Ｂは、端部５０Ｂ１が検出部３４に接続され、端部５０Ｂ２がカプラＣＡ２に接続される。第２受光用光ファイバ５２Ｂは、一方の端部５２Ｂ１から他方の端部５２Ｂ２まで、低線量区域ＡＲ２から高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第２受光用光ファイバ５２Ｂは、端部５２Ｂ１が検出部３４に接続され、端部５２Ｂ２がカプラＣＡ２に接続される。第３受光用光ファイバ５４Ｂは、一方の端部５４Ｂ１から他方の端部５４Ｂ２まで、筐体１２内の空間１２Ａから高線量区域ＡＲ１にわたって設けられる。第３受光用光ファイバ５４Ｂは、端部５４Ｂ１が空間１２Ａ内の測定プローブ３２に接続され、端部５４Ｂ２がカプラＣＡ２に接続される。

カプラＣＡ１、ＣＡ２は、演算部３６の制御により、第１接続状態と第２接続状態とを切り替える。演算部３６は、溶液Ｘ１を分析する場合に、カプラＣＡ１、ＣＡ２を制御して、第１接続状態とする。第１接続状態において、カプラＣＡ１は、第１送光用光ファイバ５０Ａと第３送光用光ファイバ５４Ａとを接続して、第２送光用光ファイバ５２Ａと第３送光用光ファイバ５４Ａとを非接続とする。また、第１接続状態において、カプラＣＡ２は、第１受光用光ファイバ５０Ｂと第３受光用光ファイバ５４Ｂとを接続して、第２受光用光ファイバ５２Ｂと第３受光用光ファイバ５４Ｂとを非接続とする。言い換えれば、第１接続状態においては、第１光ファイバ５０を測定プローブ３２に接続する。また、演算部３６は、第１接続状態において、光源部３０に測定光Ｌ１ａを照射させる。従って、第１接続状態においては、光源部３０からの測定光Ｌ１ａが、第１送光用光ファイバ５０Ａ、第３送光用光ファイバ５４Ａ、及び測定プローブ３２を通って、貯留容器１４内の溶液Ｘ１に照射される。溶液Ｘ１を透過した透過光Ｌ２ａは、測定プローブ３２から、第３受光用光ファイバ５４Ｂ及び第１受光用光ファイバ５０Ｂを通って、検出部３４に送光される。検出部３４は、送光された透過光Ｌ２ａを受光（検出）する。

一方、演算部３６は、溶液Ｘ２を分析する場合に、カプラＣＡ１、ＣＡ２を制御して、第２接続状態とする。第２接続状態において、カプラＣＡ１は、第２送光用光ファイバ５２Ａと第３送光用光ファイバ５４Ａとを接続して、第１送光用光ファイバ５０Ａと第３送光用光ファイバ５４Ａとを非接続とする。また、第２接続状態において、カプラＣＡ２は、第２受光用光ファイバ５２Ｂと第３受光用光ファイバ５４Ｂとを接続して、第１受光用光ファイバ５０Ｂと第３受光用光ファイバ５４Ｂとを非接続とする。言い換えれば、第２接続状態においては、第２光ファイバ５２を測定プローブ３２に接続する。また、演算部３６は、第２接続状態において、光源部３０から測定光Ｌ１ｂを照射させる。従って、第２接続状態においては、光源部３０からの測定光Ｌ１ｂが、第２送光用光ファイバ５２Ａ、第３送光用光ファイバ５４Ａ、及び測定プローブ３２を通って、貯留容器１４内の溶液Ｘ２に照射される。溶液Ｘ２を透過した透過光Ｌ２ｂは、測定プローブ３２から、第３受光用光ファイバ５４Ｂ及び第２受光用光ファイバ５２Ｂを通って、検出部３４に送光される。検出部３４は、送光された透過光Ｌ２ｂを受光（検出）する。

このように、本実施形態においては、第１光ファイバ５０と、第２光ファイバ５２とを設け、溶液Ｘ１を分析する場合には第１光ファイバ５０を用いて測定光Ｌ１ａ及び透過光Ｌ２ａを伝送し、溶液Ｘ２を分析する場合には第２光ファイバ５２を用いて測定光Ｌ１ｂ及び透過光Ｌ２ｂを伝送する。ただし、分光分析システム１は、第１光ファイバ５０と第２光ファイバ５２との両方を設けることに限られない。分光分析システム１は、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂを同じ光ファイバで伝送し、透過光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂを同じ光ファイバで伝送してもよい。

なお、第２光ファイバ５２は、第１光ファイバ５０よりも、ＯＨ基が少ない材料で構成される。第２光ファイバ５２は、低ＯＨ型の光ファイバである。低ＯＨ型の光ファイバとは、ＯＨ基が少ないＳｉＯ_２で構成される光ファイバであり、例えば、第２光ファイバ５２は、波長１３８３ｎｍの光の伝達損失が、０．３５ｄＢ／ｋｍ以下となる程度にＯＨ基が少ない構成となっている。すなわち、第２光ファイバ５２が波長１３８３ｎｍの光を伝える際に、第２光ファイバ５２の１ｋｍ長さあたりの光の減衰量が、平均で０．３５ｄＢ以下となっているといえる。第１光ファイバ５０は、第２光ファイバ５２よりもＯＨ基が多いＳｉＯ_２で構成される。第３光ファイバ５４は、第１光ファイバ５０又は第２光ファイバ５２と同じ材料で構成されており、例えば第１光ファイバ５０と同じ材料であることが好ましい。

以上のように構成される光ファイバ３８は、金属管４０に覆われている。図２は、金属管を説明するための模式図である。金属管４０は、光ファイバ３８を覆うことで、光ファイバ３８を放射線から保護する。ここでの放射線は、例えばベータ線である。金属管４０は、金属製の部材である。金属管４０の材料としては、例えば、ＳＵＳ３１６などのステンレス鋼や、ハステロイ（登録商標）などが挙げられる。また、金属管４０は、軸方向に伸縮可能に構成されることが好ましい。例えば、金属管４０は、蛇腹状や、金属繊維を織り込んだ形状で構成されることで、軸方向に伸縮可能となっていてよい。また、金属管４０の厚みＬは、１．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましい。厚みＬが１．５ｍｍ以上であることで、ベータ線を適切に遮蔽可能であり、厚みＬが２０ｍｍ以下であることで、光ファイバ３８を容易に動かすことができる。なお、厚みＬは、図３に示すように、金属管４０の内周面４０Ａと外周面４０Ｂとの間の長さを指す。

また、図１に示すように、本実施形態における金属管４０は、低線量区域ＡＲ２から高線量区域ＡＲ１にわたって光ファイバ３８を覆うように設けられている。ただし、金属管４０は、少なくとも高線量区域ＡＲ１において光ファイバ３８を覆っていればよく、低線量区域ＡＲ２には設けられていなくてよい。この場合、光ファイバ３８は、高線量区域ＡＲ１においては金属管４０に覆われ、低線量区域ＡＲ２においては金属管４０に覆われず露出される。なお、本実施形態においては、高線量区域ＡＲ１内であって筐体１２外においては、１本の光ファイバ３８を１つの金属管４０で覆っているが、筐体１２内においては、第３送光用光ファイバ５４Ａと第３受光用光ファイバ５４Ｂとを、１つの金属管４０で覆っている。

次に、測定プローブ３２の詳細構成について説明する。図３は、本実施形態に係る測定プローブの一例を示す部分拡大図である。図３に示すように、測定プローブ３２は、中空形状をなしており、基端３２ｃから離れた先端部３２ａに、第３送光用光ファイバ５４Ａの先端部及び第３受光用光ファイバ５４Ｂの先端部が固定されている。第３送光用光ファイバ５４Ａの先端部及び第３受光用光ファイバ５４Ｂの先端部は、第３送光用光ファイバ５４Ａから出射する測定光Ｌ１と、第３受光用光ファイバ５４Ｂによって受光する透過光Ｌ２とが、逆方向になるように配置されている。

測定プローブ３２の先端には、収容空間３３ａを有する直方体状の収容部３３が設けられている。収容部３３は、測定プローブ３２側の一面に測定光Ｌ１及び透過光Ｌ２を透過する光透過部３３ｂが設けられている。収容部３３の収容空間３３ａ内には、収容部３３内に収納された一対の反射鏡３３ｃ１，３３ｃ２が設けられている。反射鏡３３ｃ１は、第３送光用光ファイバ５４Ａから照射される測定光Ｌ１を反射鏡３３ｃ２に向けて９０度反射するように、第３送光用光ファイバ５４Ａが延在する方向に対して所定の角度をとって配置される。反射鏡３３ｃ２は、反射鏡３３ｃ１によって反射された測定光Ｌ１を第３受光用光ファイバ５４Ｂに向けて９０度反射するように、反射鏡３３ｃ１に対して所定の角度をとって配置される。

また、収容部３３の収容空間３３ａ内には、第３送光用光ファイバ５４Ａの先端部と反射鏡３３ｃ１との間に凸レンズ３３ｄ１が配置され、第３受光用光ファイバ５４Ｂの先端部と反射鏡３３ｃ２との間に凸レンズ３３ｄ２が配置される。凸レンズ３３ｄ１は、第３送光用光ファイバ５４Ａから反射鏡３３ｃ１へ向けて照射された測定光Ｌ１のビーム径の拡大を抑える。また、凸レンズ３３ｄ２は、反射鏡３３ｃ２から第３受光用光ファイバ５４Ｂに向けて反射された透過光Ｌ２のビーム径の拡大を抑える。このように、凸レンズ３３ｄ１，３３ｄ２を設けて測定光Ｌ１及び透過光Ｌ２のビーム径の拡大を抑えることにより、測定光Ｌ１を透過光Ｌ２として、第３受光用光ファイバ５４Ｂの先端部に集光させることが可能となる。

測定プローブ３２の流路部３２ｂは、先端部３２ａの一方の側面３２ｄから他方の側面３２ｅに向けて一部が切り欠かれて設けられている。すなわち、流路部３２ｂは、測定プローブ３２の側面（外周面）に設けられた溝であるともいえる。測定プローブ３２の流路部３２ｂは、反射鏡３３ｃ２と第３送光用光ファイバ５４Ａとの間の光路に設けられている。このように流路部３２ｂを設けることにより、反射鏡３３ｃ２によって反射された測定光Ｌ１が流路部３２ｂを通過する際に、流路部３２ｂ内に侵入した溶液Ｘによって測定光Ｌ１の一部が吸光されて透過光Ｌ２となる。

このように、本実施形態においては、第３送光用光ファイバ５４Ａ、第３受光用光ファイバ５４Ｂ及び反射鏡３３ｃ１，３３ｃ２によって、測定光Ｌ１を検出部３４に向けて反射する光路が形成されている。そして、この光路の一部に含まれる測定プローブ３２の先端部３２ａの側面には、測定プローブ３２の側面の一部が測定プローブ３２の内側に向けて切り欠かれた流路部３２ｂが形成されている。このように測定プローブ３２が設けられることにより、貯留容器１４内の溶液Ｘが測定プローブ３２の流路部３２ｂに侵入し、侵入した溶液Ｘに対して光源部３０からの測定光Ｌ１が照射されると共に、溶液Ｘを透過した透過光Ｌ２が検出部３４に向けて伝送される。これにより、溶液Ｘの分光分析が可能となる。ただし、以上説明した測定プローブ３２の形状は一例であり、測定プローブ３２は、透過光Ｌ２を検出部３４に送光可能な形状であれば任意の形状であってよい。

図１に示す検出部３４は、測定プローブ３２から光ファイバ３８を介して送光された透過光Ｌ２を受光する受光素子であり、受光した透過光Ｌ２の強度を検出する。溶液Ｘ１を分析する場合、検出部３４は透過光Ｌ２ａを受光し、溶液Ｘ２を分析する場合、検出部３４は透過光Ｌ２ｂを受光する。

図４は、本実施形態に係る演算部の模式的なブロック図である。演算部３６は、本実施形態ではコンピュータであり、分光分析システム１を制御して、溶液Ｘを分析する。図４に示すように、演算部３６は、入力部３６Ａと、出力部３６Ｂと、記憶部３６Ｃと、制御部３６Ｄとを備える。入力部３６Ａは、作業者の操作を受け付ける装置であり、例えばマウスやキーボードやタッチパネルなどである。出力部３６Ｂは、情報を出力する装置であり、例えば制御部３６Ｄの制御内容などを表示する表示装置を含む。記憶部３６Ｃは、制御部３６Ｄの演算内容やプログラムの情報などを記憶するメモリであり、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）のような主記憶装置と、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）などの外部記憶装置とのうち、少なくとも１つ含む。

制御部３６Ｄは、演算装置、すなわちＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）である。制御部３６Ｄは、記憶部３６Ｃに記憶されたソフトウェア（プログラム）を読み出すことで、各種処理を実行する。制御部３６Ｄは、例えば、上述のように、光源部３０に、測定光Ｌ１ａ及び測定光Ｌ１ｂを照射させ、カプラＣＡ１、ＣＡ２を制御して、第１接続状態と第２接続状態とを切り替える。また、制御部３６Ｄは、検出部３４が検出した透過光Ｌ２の強度に基づき、溶液Ｘの吸光度スペクトルを算出し、吸光度スペクトルに基づき、溶液Ｘを分析する。例えば、制御部３６Ｄは、入力部３６Ａに溶液Ｘ１を分析する旨の情報が入力された場合に、溶液Ｘ１を分析すると判断し、入力部３６Ａに溶液Ｘ２を分析する旨の情報が入力された場合に、溶液Ｘ２を分析すると判断する。溶液Ｘ１を分析する場合、制御部３６Ｄは、検出部３４が検出した透過光Ｌ２ａの強度に基づき、溶液Ｘ１の吸光度スペクトルを算出し、溶液Ｘ１の吸光度スペクトルから、溶液Ｘ１に含まれる放射性物質の濃度を算出する。また、溶液Ｘ２を分析する場合、制御部３６Ｄは、検出部３４が検出した透過光Ｌ２ｂの強度に基づき、溶液Ｘ２の吸光度スペクトルを算出し、溶液Ｘ２の吸光度スペクトルから、溶液Ｘ２に含まれる有機溶媒の濃度を算出する。

分光分析システム１は、以上のような構成となっている。このような分光分析システム１を用いて溶液Ｘを分析する場合、作業者は、操作部１８を操作して、筐体１２内の貯留容器１４内に溶液Ｘを注入する。なお、例えば気送管から、溶液Ｘが貯留済みの貯留容器１４が筐体１２内に供給された場合は、筐体１２内の貯留容器１４内に溶液Ｘを注入するステップは不要となる。次に、作業者は、操作部１８を操作して、筐体１２内の測定プローブ３２を、溶液Ｘが貯留された貯留容器１４内に挿入する。例えば、溶液Ｘが貯留された貯留容器１４が筐体１２内で固定されており、作業者は、測定プローブ３２を、操作部１８で把持して貯留容器１４側に移動させることで、測定プローブ３２を貯留容器１４内に挿入する。ただし、逆に、測定プローブ３２が筐体１２内で固定されていてもよく、作業者は、溶液Ｘが貯留された貯留容器１４を、操作部１８で把持して測定プローブ３２側に移動させることで、測定プローブ３２を貯留容器１４内に挿入してもよい。また、測定プローブ３２と貯留容器１４との両方を動かしてもよい。すなわち、操作部１８は、作業者の操作によって、測定プローブ３２及び貯留容器１４の少なくとも一方を移動させることで、測定プローブ３２を貯留容器１４内に挿入する。このようにして測定プローブ３２が貯留容器１４内に挿入された状態で、溶液Ｘの分析が行われる。溶液Ｘの分析が終了したら、作業者は、操作部１８を操作して、貯留容器１４内に挿入された測定プローブ３２を、貯留容器１４から抜き出す。また、作業者は、操作部１８を操作して、貯留容器１４から抜き出された測定プローブ３２を、洗浄容器１６内に挿入して、測定プローブ３２を洗浄してもよい。

図５は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。貯留容器１４は、図５の例に示すように、内径Ｄ２が、測定プローブ３２の外径Ｄ１と略同一の大きさとなっていてもよい。すなわち、貯留容器１４の内径Ｄ２は、測定プローブ３２が挿入可能なように測定プローブ３２の外径Ｄ１より大きいが、外径Ｄ１に対して大きくなり過ぎないように、例えば外径Ｄ１と略同一の大きさであることが好ましい。内径Ｄ２を外径Ｄ１と略同一にすることで、測定プローブ３２で溶液Ｘを測定する際に、貯留容器１４に貯留する溶液Ｘの量を少なくすることが可能となり、放射性物質を含む溶液Ｘの管理負荷を低減できる。本実施形態では、貯留容器１４の内径Ｄ２と、測定プローブ３２の外径Ｄ１との差が、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが望ましい。

図６及び図７は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。図６に示すように、本実施形態の他の例に係る貯留容器１４Ａは、開口部６２が、表面６０ａに対して直交しておらず傾斜している。具体的には、貯留容器１４Ａは、本体部６０と、開口部６２とを含む。本体部６０は、耐放射線性を有する部材で形成されている。本体部６０として金属材料を用いる場合は、例えば、ＳＵＳ３１６などのステンレス鋼や、ハステロイなどが用いられる。この場合、本体部６０は、耐放射線性に加え、耐硝酸性を有する。また、本体部６０として有機材料を用いる場合は、例えば、スチレンブタジエンゴムや、ポリイミド等の高分子材料などが用いられる。

開口部６２は、本体部６０の表面６０ａに形成される開口である。開口部６２は、表面６０ａから、本体部６０の表面６０ａと反対側の面である底面６０ｂに向けて延在しているが、底面６０ｂまで貫通していない。すなわち、開口部６２の底面６２ｂは、本体部６０の表面６０ａと底面６０ｂとの間に位置している。開口部６２は、内部に溶液Ｘが貯留されて、測定プローブ３２が挿入される。開口部６２の内径Ｄ１は、図５で説明した内径Ｄ１と同様の大きさであることが好ましい。また、開口部６２は、中心軸ＡＸが、表面６０ａに直交する軸に対して、傾斜している。すなわち、中心軸ＡＸと表面６０ａとがなす角度θは、９０度より小さい。角度θは、４５度以上、９０度以下であることが好ましい。

また、開口部６２の内周面６２ａには、溝部６４が形成されている。溝部６４は、開口部６２の内周面６２ａにおいて、開口部６２の周方向に延在する溝であり、開口部６２の軸方向（中心軸ＡＸに沿った方向）において複数設けられている。溝部６４は、内周面６２ａから放射方向外側に向けて窪んでいる溝であり、言い換えれば、溝部６４の底面６４ａが、開口部６２の内周面６２ａよりも、中心軸ＡＸを中心とした放射方向の外側に位置している。また、溝部６４は、開口部６２に貯留された溶液Ｘの液面よりも、表面６０ａ側に形成されることが好ましく、言い換えれば、溶液Ｘに浸からない位置に形成されることが好ましい。従って、溝部６４は、開口部６２の軸方向において、表面６０ａ側、すなわち開口部６２の入口側に形成されている。溝部６４は、例えば、開口部６２の軸方向における、表面６０ａと底面６２ｂとの中央位置よりも、表面６０ａ側に位置しているといえる。また、図６の例では、溝部６４は、開口部６２の周方向における一周にわたって形成されておらず、開口部６２の周方向における一周のうちの、一部の区間にのみ形成されている。具体的には、溝部６４は、開口部６２の周方向における一周のうちの、底面６０ｂ側（鉛直方向下側）の区間に形成されている。言い換えれば、溝部６４は、開口部６２の周方向における一周のうちの、中心軸ＡＸが傾斜している方向側の区間に形成されている。

図７は、貯留容器１４Ａに測定プローブ３２を挿入した場合の例を示している。図７に示すように、貯留容器１４Ａは、開口部６２内に溶液Ｘが貯留される。そして、溶液Ｘが貯留された開口部６２に、中心軸ＡＸに沿って測定プローブ３２が挿入されて、溶液Ｘの分析が行われる。この場合、中心軸ＡＸが傾斜しているため、測定プローブ３２の挿入時に、測定プローブ３２に気泡が溜まることが抑制される。また、溶液Ｘの分析が終わった後、測定プローブ３２は、開口部６２から抜き出される。溶液Ｘは放射性物質を含むため、開口部６２から抜き出された測定プローブ３２には、溶液Ｘが残留しないことが好ましい。しかし、測定プローブ３２は、溝状の流路部３２ｂが形成されているため、流路部３２ｂに溶液Ｘが残留しやすい形状となっている。それに対し、貯留容器１４Ａは、溝部６４が形成されることで、流路部３２ｂに溶液Ｘが残留することを抑制できる。すなわち、測定プローブ３２が中心軸ＡＸに沿って抜き出される際に、流路部３２ｂが溝部６４の近傍を通る。この際に、流路部３２ｂに残留した溶液Ｘは、溝部６４に接触することで、流路部３２ｂから溝部６４側に移動する。これにより、測定プローブ３２の流路部３２ｂに溶液Ｘが残留することが抑制される。

図８及び図９は、本実施形態に係る貯留容器の形状の他の例を示す図である。なお、貯留容器１４Ａの溝部６４は、図８に示すように、開口部６２の周方向における全周にわたって設けられてもよい。この場合、溝部６４は、開口部６２の周方向における全周にわたって、螺旋状に連続して形成されることが好ましい。このように螺旋状に連続することで、溝部６４に掻き出された溶液Ｘを、底面６２ｂ側に向かって流下させ易くする。また、図９に示すように、開口部６２は、底面６２ｂが、中心軸ＡＸに直交する表面に平行になるように形成されてもよい。このように底面６２ｂを中心軸ＡＸに直交させることで、例えば図６のように底面６２ｂが表面６０ａに平行である場合よりも、開口部６２に貯留する溶液Ｘの量を少なくすることができ、放射線物質を含む溶液Ｘの管理負担を低減できる。なお、図９においては、底面６２ｂが中心軸ＡＸに直交しているが、それに限られず、底面６２ｂが、表面６０ａに平行な面に対し、中心軸ＡＸ側（測定プローブ３２が挿入されて来る側）に傾斜していればよい。

以上説明したように、本実施形態に係る分光分析システム１は、筐体１２と、測定プローブ３２と、光源部３０と、検出部３４と、光ファイバ３８とを備える。筐体１２は、放射性物質を含有する溶液Ｘが貯留される貯留容器１４が、内部に収納される。測定プローブ３２は、筐体１２内に設けられて溶液Ｘに浸漬される。光源部３０は、少なくとも近赤外光の波長帯の光を、すなわち測定光Ｌ１ｂを、照射する。検出部３４は、光を受光する。光ファイバ３８は、光源部３０からの光（測定光Ｌ１）を測定プローブ３２に導き、測定プローブ３２からの光（透過光Ｌ２）を検出部３４に導く。筐体１２及び測定プローブ３２は、高線量区域ＡＲ１に設けられ、光源部３０及び検出部３４は、高線量区域ＡＲ１よりも空間線量率が低い低線量区域ＡＲ２に設けられる。

本実施形態に係る分光分析システム１は、筐体１２内に測定プローブ３２を配置して、筐体１２内に配置される貯留容器１４内に測定プローブ３２を挿入することで、溶液Ｘの分析を行う。すなわち、分光分析システム１は、配管を流れる溶液Ｘを直接測定せずに、貯留容器１４に溶液Ｘをサンプリングして、測定を行う。従って、分光分析システム１は、例えば配管に測定プローブ３２を接続するための加工などが不要となり、容易に溶液分析が可能な構造となる。また、放射性物質が含有した溶液Ｘの分光分析においては、放射性物質が含有される溶媒を分析することも求められる場合がある。溶液Ｘにおける溶媒としては、有機溶媒が用いられることがある。分光分析システム１は、光源部３０によって、近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂを照射することで、溶液Ｘにおける有機溶媒を適切に分析できる。例えば、有機溶媒は赤外光の波長帯の光で分析可能であるが、有機溶媒に含まれている水に、光が吸収されるおそれがある。分光分析システム１は、赤外光の波長帯の光のうち、近赤外光の波長帯を用いることで、水による光の吸収を抑え、溶液Ｘに水が含まれていた場合であっても、有機溶媒を適切に分析することができる。

このように、分光分析システム１は、有機溶媒を適切に分析するために、近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂを用いる。測定光Ｌ１ｂは、光ファイバ３８を通って、光源部３０から測定プローブ３２に導かれ、透過光Ｌ２ｂは、測定プローブ３２から検出部３４に導かれる。光ファイバ３８は、低線量領域ＡＲ２から高線量領域ＡＲ１にわたって設けられるため、例えば数ｍなど、長い範囲にわたって設けられる。近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂ及び透過光Ｌ２ｂは、このような長い光ファイバ３８を通っている最中に減衰されて、検出部３４で適切に検出されなくなるおそれがある。それに対し、本実施形態に係る光ファイバ３８は、低ＯＨ型の光ファイバ（第２光ファイバ５２）を含む。低ＯＨ型の第２光ファイバ５２を用いて近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂ、透過光Ｌ２ｂを伝送することで、光の減衰を抑え、有機溶媒を適切に分析することが可能となる。

光源部３０は、さらに、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光（測定光Ｌ１ａ）も照射する。近赤外領域の測定光Ｌ１ｂに加え、紫外又は可視領域の測定光Ｌ１ａを照射することで、溶液Ｘ２の有機溶媒の分析と共に、溶液Ｘ１の放射性物質の分析も、適切に行う事が可能となる。

また、光源部３０は、溶液Ｘ２中の有機溶媒を分析する際に、近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂを照射し、溶液Ｘ１中の放射性物質を分析する際に、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の測定光Ｌ１ａを照射する。分光分析システム１は、分析対象に応じて照射する光の波長帯を異ならせることで、溶液Ｘ２の有機溶媒と溶液Ｘ１の放射性物質との分析を、適切に行うことができる。

また、光ファイバ３８は、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の測定光Ｌ１ａを導く第１光ファイバ５０と、近赤外光の波長帯の測定光Ｌ１ｂを導く第２光ファイバ５２と、を含む。第２光ファイバ５２は、第１光ファイバ５０よりも、ＯＨ基が少ない。このように、近赤外光の測定光Ｌ１ｂを伝送する第２光ファイバ５２を、紫外又は可視の波長帯の測定光Ｌ１ａを伝送する第１光ファイバ５０よりも、低ＯＨとすることで、近赤外光の光の減衰を抑えつつ、紫外又は可視の光を適切に伝送することができる。従って、この分光分析システム１は、溶液Ｘ２の有機溶媒と溶液Ｘ１の放射性物質との分析を、適切に行うことができる。

また、制御部３６Ｄは、第１接続状態において、第１光ファイバ５０を測定プローブ３２に接続して、光源部３０から測定光Ｌ１ａを照射させることで、測定光Ｌ１ａを測定プローブ３２から溶液Ｘ１に照射させる。制御部３６Ｄは、第２接続状態において、第２光ファイバ５２を測定プローブ３２に接続して、光源部３０から測定光Ｌ１ｂを照射させることで、測定光Ｌ１ｂを測定プローブ３２から溶液Ｘ２に照射させる。この分光分析システム１は、このように光ファイバ３８の接続状態と光源部３０から照射する光とを切り替えることで、溶液Ｘ２の有機溶媒と溶液Ｘ１の放射性物質との分析を、適切に行うことができる。

また、分光分析システム１は、光ファイバ３８を覆う金属管４０をさらに有する。光ファイバ３８を金属管４０で覆うことで、光ファイバ３８が放射線によってダメージを受けることを抑制できる。また、金属管４０は、伸縮可能であることが好ましい。金属管４０を伸縮可能とすることで、光ファイバ３８を動かすことが可能となり、例えば測定プローブ３２を貯留容器１４に挿入する際などの分析のための作業を、容易に行う事が可能となる。

また、分光分析システム１は、操作部１８をさらに有する。操作部１８は、筐体１２内に設けられて、測定プローブ３２及び貯留容器１４の少なくとも一方を移動させることで、測定プローブ３２を貯留容器１４内に挿入する。分光分析システム１は、このような操作部１８を設けることで、貯留容器１４内に貯留された溶液Ｘの分析を、適切に実施できる。

また、貯留容器１４Ａは、表面６０ａに開口して溶液Ｘが貯留される開口部６２が設けられ、開口部６２の内周面６２ａには、溝部６４が形成されている。分光分析システム１は、貯留容器１４Ａの内周面６２ａに溝部６４を形成することで、測定プローブ３２に溶液Ｘが残留することを抑えて、放射線物質を含む溶液Ｘの管理負担を低減できる。また、貯留容器１４Ａの開口部６２の中心軸ＡＸは、表面６０ａに直行する軸に対して傾斜している。このように開口部６２を表面６０ａに対して傾斜させることで、測定プローブ３２に溶液Ｘが残留することを抑えることができる。また、測定プローブ３２の溶液Ｘへの浸漬時に、溶液Ｘが透過する部分である流路部３２ｂに、気泡を含有し難くすることができる。

以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

１ 分光分析システム
１０ 分光分析装置
１２ 筐体
１４ 貯留容器
１８ 操作部
３０ 光源部
３２ 測定プローブ
３４ 検出部
３６ 演算部
３８ 光ファイバ
５０ 第１光ファイバ
５２ 第２光ファイバ
５４ 第３光ファイバ
ＡＲ１ 高線量区域
ＡＲ２ 低線量区域
Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ 測定光
Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ 透過光

Claims (11)

1. 放射性物質を含有する溶液が貯留される貯留容器が内部に収納される筐体と、
   前記筐体内に設けられて前記溶液に浸漬される測定プローブと、
   少なくとも近赤外光の波長帯の光を照射する光源部と、
   光を受光する検出部と、
   前記光源部からの光を前記測定プローブに導き、前記測定プローブからの光を前記検出部に導く光ファイバと、
   を備え、
   前記筐体及び前記測定プローブが、高線量区域に設けられ、前記光源部及び前記検出部が、前記高線量区域よりも空間線量率が低い低線量区域に設けられる、
   分光分析システム。
2. 前記光ファイバは、低ＯＨ型の光ファイバを含む、請求項１に記載の分光分析システム。
3. 前記光源部は、さらに、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光も照射する、請求項１又は請求項２に記載の分光分析システム。
4. 前記光源部は、前記溶液中の有機溶媒を分析する際に、近赤外光の波長帯の光を照射し、前記溶液中の放射性物質を分析する際に、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を照射する、請求項３に記載の分光分析システム。
5. 前記光ファイバは、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を導く第１光ファイバと、近赤外光の波長帯の光を導く第２光ファイバと、を含み、
   前記第２光ファイバは、前記第１光ファイバよりも、ＯＨ基が少ない、請求項３又は請求項４に記載の分光分析システム。
6. 制御部を更に備え、
   前記制御部は、
   第１接続状態において、前記第１光ファイバを前記測定プローブに接続して、前記光源部から紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を照射させることで、紫外光及び可視光の少なくとも一方の波長帯の光を前記測定プローブから前記溶液に照射させ、
   第２接続状態において、前記第２光ファイバを前記測定プローブに接続して、前記光源部から近赤外光の波長帯の光を照射させることで、近赤外光の波長帯の光を前記測定プローブから前記溶液に照射させる、請求項５に記載の分光分析システム。
7. 前記光ファイバを覆う金属管をさらに有する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の分光分析システム。
8. 前記金属管は、伸縮可能である、請求項７に記載の分光分析システム。
9. 前記筐体内に設けられて、前記測定プローブ及び前記貯留容器の少なくとも一方を移動させることで、前記測定プローブを前記貯留容器内に挿入する操作部をさらに有する、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の分光分析システム。
10. 前記貯留容器は、表面に開口して前記溶液が貯留される開口部が設けられ、
    前記開口部の内周面には、溝部が形成されている、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の分光分析システム。
11. 前記開口部の中心軸は、前記表面に直行する軸に対して傾斜している、請求項１０に記載の分光分析システム。

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