JP2020537355A - レーザシステム - Google Patents
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Abstract
Description
1)マスタレーザ(ML)の動作周波数を設定およびロックすることができ、かつ、
2)スレーブレーザ(SL)をマスタレーザ(ML)に位相ロックして、それらのレーザの動作周波数間の周波数差を安定させることができることを含む。
3)マスタレーザ(ML)とスレーブレーザ(SL)を結合させた連続波出力をパルス出力に変換することも望まれる。
第1と第2の光学場は、結合されて結合連続波光学場(combined continuous-wave optical field)をもたらし、位相ロックフィードバックループは、結合連続波光学場の少なくとも第1の成分(first component)によって生成された光ビート信号から、第2の動作周波数を第1の動作周波数に位相ロックする手段を提供し、
位相ロックフィードバックループは、光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換する手段を提供する第1の光ビート検出器と、第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成する手段を提供する第1の基準信号生成器と、第2の所定のオフセット周波数より低い周波数で第2の基準信号を生成する手段を提供する第2の基準信号生成器と、第1の電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から、第1のエラー信号を生成する手段を提供する位相ロックフィードバックループ電気回路とを備え、第1のエラー信号が、第2の連続波レーザ源のためのフィードバック信号を制御するために使用される。
−第2の動作周波数を、第1の動作周波数からの第1の所定のオフセット周波数に設定するステップと、
−第1の光学場と第2の光学場を結合させて、結合連続波光学場を生成するステップと、
−結合光学場の少なくとも第1の成分から第1の光ビート信号を生成するステップと、
−第1の光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換するステップと、
−第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成するステップと、
−第2の所定のオフセット周波数よりも低い周波数で第2の基準信号を生成するステップと、
−電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から第1のエラー信号を生成するステップと、
−第1のエラー信号を使用して、第2の連続波レーザ源のためのフィードバック信号を制御し、第2の動作周波数を第1の動作周波数に位相ロックするステップとを含む。
第1および第2の光学場を結合して、第1の光ビート信号を有する第1の結合連続波光学場を生成する手段を提供する第1の光ビーム結合器と、
第1の光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換する手段を提供する第1の光ビート検出器と、
第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成するための手段を提供する第1の基準信号生成器と、
第2の所定のオフセット周波数より低い周波数で第2の基準信号を生成する手段を提供する第2の基準信号生成器と、
第1の電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から、第1のエラー信号を生成する手段を提供する位相ロックフィードバックループ電気回路とを備え、第1のエラー信号が、第2の連続波レーザ源のためのフィードバック信号を制御するために使用される。
−第2の動作周波数を、第1の動作周波数からの第1の所定のオフセット周波数に設定するステップと、
−第1および第2の光学場を結合させて、第1の結合連続波光学場を生成するステップと、
−第1の結合光学場の第1の成分から第1の光ビート信号を生成するステップと、
−第1の光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換するステップと、
−第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成するステップと、
−第2の所定のオフセット周波数よりも低い周波数で第2の基準信号を生成するステップと、
−第1の電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から第1のエラー信号を生成するステップと、
−第1のエラー信号を使用して、第2の連続波レーザ源のフィードバック信号を制御することにより、第2の動作周波数を第1の動作周波数に位相ロックするステップとを含む。
−第1の連続波光学場の第1の動作周波数を第1の所定の周波数に設定するステップと、
−第2の連続波光学場の第2の動作周波数を第1の所定の周波数に設定するステップと、
−第1および第2の連続波光学場を結合させて光ビート信号を生成するステップと、
−第2の連続周波数レーザ光源の1または複数の周波数同調要素に印加される共振器電圧と、第2の動作周波数をスキャンしながら光ビート信号を受信するように配置された光ビート検出器からのパワー出力とをモニタリングするステップと、
−第1の動作周波数に等しい第2の動作周波数に対応する共振器電圧を決定するステップと、
−共振器電圧を決定した共振器電圧に設定するステップと、
−第1の動作周波数に対する第2の動作周波数の第1の所定の周波数オフセット値を選択するステップと、
−位相ロックフィードバックループを介して低利得フィードバック信号を適用するステップと、
−反復制御法を共振器電圧に適用して、第1の連続波光学場と第2の連続波光学場間の周波数オフセットが第1の所定のオフセット値に対応するときの推定値に向けて共振器電圧を収束させるステップと、
−共振器電圧の収束が望ましい許容レベル内になったら、共振器電圧を推定値に設定し、位相ロックフィードバックループを介して高利得フィードバック信号を適用するステップとを含む。
光変調器であって、その動作が、原子遷移からの所定のオフセット周波数で光学場を周波数変調し、それにより原子遷移と共鳴する光学場の変調成分の周波数側波帯を提供する手段を提供する光変調器と、
原子蒸気セルを通過する光学場の変調成分の透過をモニタリングするために使用される原子飽和吸収分光法モジュールと、
原子飽和吸収分光法モジュールの出力から電気フィードバック信号を生成する手段を提供するフィードバックループ電気回路とを備える。
連続波光学場の動作周波数を、原子遷移からの所定のオフセット周波数になるように選択するステップと、
所定のオフセット周波数で連続波光学場を光学的に変調して、連続波光学場に周波数変調を導入し、それにより、原子遷移と共鳴する光学場の変調成分の周波数側波帯を提供するステップと、
原子遷移を含む原子蒸気を介した連続波光学場の周波数変調成分の透過をモニタリングするステップと、
モニタリングした透過から電気的フィードバック信号を生成するステップとを含む。
第1の音響光学変調器(AOM)と、第1のAOMを駆動するための第1の周波数源を生成するために使用される音響光学変調器(AOM)電気回路とを含む音響光学変調器(AOM)システムを備え、
音響光学変調器(AOM)電気回路は、第1の可変利得増幅器(VGA)によって第1のAOMに電気的に接続される分散制御システム(DCS)を備える。
連続波光学場を、第1の周波数源によって駆動される第1の音響光学変調器(AOM)に通過させるステップと、
第1の周波数源を1または複数のパルスを含む電気信号に変換する手段として、第1の可変利得増幅器を使用するステップとを含む。
第1のTi:サファイアレーザ2の周波数ロックフィードバックループ36は、第1の出力場6内に配置された第5のビームスプリッタ37を含むことが分かる。第5のビームスプリッタ37は、第1の出力場6から、y軸に沿って伝播するように向けられた第5のピックオフ場38を生成するための手段を提供する。第5のピックオフ場38は、ルビジウム蒸気・飽和吸収分光モジュール40(本出願人所有のSolsTiS(登録商標)Vapour Cell Lock Optionが、そのようなモジュールの適当な例である)に入射する前に、電気光学変調器39を通って伝播する。ルビジウム蒸気・飽和吸収分光法モジュール40によって生成された電気出力信号41は、フィードバックループ電気回路43によって、第1のTi:サファイアレーザ2の共振器の一部を形成する圧電マウントミラー42に接続されている。
以下、図2および図5を参照して、第2のTi:サファイアレーザ3を第1のTi:サファイアレーザ2に位相ロックするための位相ロックフィードバックループ30を構成する構成要素の更なる詳細を説明する。具体的に、図5は、図2のレーザシステムの位相ロックフィードバックループ30の電気回路を示している。
第1の入力信号(ビート)47: 6,834.683MHz
第1の電気ディバイダ:51 2
第1の基準信号52: 3,400MHz
第2の電気ディバイダ57: 1
第2の基準信号53: 17.3415MHz
以下に、第2のTi:サファイアレーザ3を第1のTi:サファイアレーザ2に自動位相ロックする方法を説明する。
1)第2のTi:サファイアレーザ3は、当初は第1のTi:サファイアレーザ2にロックされていない状態にある。これは、第2のTi:サファイアレーザ3の1または複数の同調要素68、69および/または70へのフィードバック信号66をオフにすることで実現される。
2)次に、第1の出力場6および第2の出力場7を、例えば384,227,115MHzなどの同じ周波数を有するように設定する。波長計8、9を使用して、それらの周波数の設定を支援することができる。代替的には、複数の入力を有する単一の波長計を使用するようにしてもよい。レーザシステム1内のデジタル制御ソフトウェアを使用して、それらの指定された目標波長で第1の出力場6および第2の出力場7を自動的に調整およびロックすることができる。
3)次に、第2の出力場7を周波数走査し、一方、第1の光ビート検出器29の増幅器46によって生成された出力パワー信号71(すなわち、電気ビート信号47)を、第2のTi:サファイアレーザ3の周波数同調要素68に印加される電圧の関数としてモニタリングする。図7は、第2のTi:サファイアレーザ3の同調要素68に印加される共振器電圧の関数として、(a)出力パワー信号71、および(b)出力パワー信号71の導関数のグラフを示している。
4)次の段階では、(a)出力パワー信号71の値がゼロ、「ゼロパワー電圧」に低下する(図7(a)を参照)か、または(b)出力パワー信号71の微分の係数が最大値、「最大係数パワー電圧」を有する(図7(b)を参照)ときの共振器電圧を求める。これらの共振器電圧値は、第2のTi:サファイアレーザ3の周波数が第1のTi:サファイアレーザ2の周波数にあるか、またはそれに近い周波数にある位置に対応する。
6)次に、第2のTi:サファイアレーザ3に供給される共振器電圧を、(a)ゼロパワー電圧、または(b)最大係数パワー電圧に設定する。これは、第2のTi:サファイアレーザ3の動作周波数の開始点になる。
7)次に、第1の出力場6と第2の出力場7との間の予め設定されたオフセット、例えば、+6,835MHzを選択する。
8)次に、第2のTi:サファイアレーザ3の同調要素69、70に低利得フィードバック信号66を印加する。これは、エラー増幅器67を低利得値で動作するように設定することによって達成される。低利得値の目的は、ロック捕捉を可能にすることである。
9)次に、第2のTi:サファイアレーザ3に供給されるフィードバック信号66の共振器電圧に反復制御法を適用して、第1の出力場6と第2の出力場7との間の周波数オフセットが予め設定されたオフセット値に対応するときの推定値に向かって共振器電圧を収束させる。
10)共振器電圧の収束が所望の許容レベル内になったら、共振器電圧をこの推定値に設定し、第2のTi:サファイアレーザ3の1または複数の同調要素68および/または69および/または70に高利得フィードバック信号66を印加する。これは、エラー増幅器67を高利得値で動作するように設定することによって達成される。高利得設定は、ノイズを低減するために必要とされる。
1)高/低ロックポイントの場合、第2のTi:サファイアレーザ3に印加される共振器電圧を、ゼロ出力電圧または最大係数パワー電圧から上下に調整する。
2)次に、PFDが状態を変化させるときの共振器電圧V1を記録する。
3)次に、共振器電圧を反転し、PFD状態が元の状態に戻るときの共振器電圧V2を記録する。
4)第2の出力場7の周波数が第1の所定のオフセット値だけ第1の出力場6からオフセットされるときの共振器電圧の推定値、すなわち、V1とV2の記録値の中間値、すなわち(V1+V2)/2(図8を参照)を求める。
5)次に、1)と同じ方向に調整するように、共振器電圧を反転させる。
6)PFDの状態が変化するときの共振器電圧V1を再び記録する。
7)共振器電圧の方向を再び反転し、PFD状態が元の状態に戻るときの共振器電圧V2を再び記録する。
8)第2の出力場7の周波数が第1の出力場6から第1の所定のオフセット値だけオフセットされるときの共振器電圧の第2の推定値は、V1とV2の最終値の中間値、(V1+V2)/2である。
9)その後、ステップ5〜8を繰り返し、予め設定された回数、またはV1とV2の値が定数値に収束するまで、または導出値(V1+V2)/2が(許容範囲内の)定数値に収束するまで、前後にスキャンする。
上述したように、第2の結合連続波場26は、第1の出力場6および第2の出力場7の直交的に、直線的に偏光された成分を含み、x軸に沿って伝播して音響光学変調器システム31に入射するように構成されている。その概略図が図2に提供されている。
上記のコヒーレントに制御された量子実験のいくつかの中で、生成されたパルス出力場35、35bのパルスシーケンス中に任意の周波数掃引を実装できることが望ましい場合が多い。次に、この機能を提供するためにレーザシステム1をどのように使用できるかについて説明する。
上記のコヒーレントに制御された量子実験のいくつかの中で、生成されたパルス出力場35、35bのパルス間に任意の位相シフトを実行できることが望ましい場合が多い。次に、この機能を提供するためにレーザシステム1をどのように使用できるかについて説明する。
図2に示すように、レーザシステム1からのパルス出力場35は、高出力光ファイバ97内に結合される前に、パワー出力モニタ96を通過する。高出力光ファイバ97は、パルス出力場35をレーザシステム1からその必要な目的地に伝播する手段を提供する。
1.高出力光ファイバ97に入るパワー、
2.高出力光ファイバ97の後のパワー、
3.高出力光ファイバ97を2回通過した後の戻りビームのパワー、
4.高出力光ファイバ97の近位端に入る出力のアライメント、および
5.高出力光ファイバ97の遠位端に入る戻りビームのアライメント
を制御することができる。
次に、図5および図11を参照して、レーザシステム1bの代替的な実施形態で使用される位相ノイズモニタ108について説明する。理解を容易にするために、レーザシステム1bから次の構成要素が省略されている。
1)第1のTi:サファイアレーザ2のための周波数ロックフィードバックループ36
2)パルス出力場35を生成するために使用される音響光学変調器システム31
3)パワー出力モニタ96
Claims (125)
- 第1の動作周波数で第1の光学場を提供する第1の連続波レーザ源と、前記第1の動作周波数からの第1の所定のオフセット周波数で第2の光学場を提供する第2の連続波レーザ源と、位相ロックフィードバックループとを含むレーザシステムであって、
前記第1と第2の光学場は、結合されて結合連続波光学場を生成し、前記位相ロックフィードバックループは、前記結合連続波光学場の少なくとも第1の成分によって生成された光ビート信号から、第2の動作周波数を前記第1の動作周波数に位相ロックする手段を提供し、
前記位相ロックフィードバックループは、前記光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換する手段を提供する第1の光ビート検出器と、前記第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成する手段を提供する第1の基準信号生成器と、前記第2の所定のオフセット周波数より低い周波数で第2の基準信号を生成する手段を提供する第2の基準信号生成器と、前記第1の電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から、第1のエラー信号を生成する手段を提供する位相ロックフィードバックループ電気回路とを備え、前記第1のエラー信号が、前記第2の連続波レーザ源のためのフィードバック信号を制御するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2の所定のオフセット周波数が、前記第1の所定のオフセット周波数と同じ桁の大きさであることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1または2に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2の基準信号の周波数が、前記第1の基準信号の周波数よりも1桁以上低いことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2の所定のオフセット周波数が、前記第1の所定のオフセット周波数に前記第2の基準信号の周波数を加算または減算したものに等しいことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の基準信号生成器が、周波数シンセサイザに接続された恒温槽付水晶発振器(OCXO)を含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2の基準信号生成器が、第1のダイレクトデジタルシンセサイザ(DDS)を含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至6の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ロックフィードバックループ電気回路が、第1および第2の周波数ミキサをさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項7に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の周波数ミキサが、前記第1の電気ビート信号および前記第1の基準信号から、第1のミックスダウン出力信号を生成することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項8に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2の周波数ミキサが、前記第1のミックスダウン出力信号と前記第2の基準信号とをミックスダウンすることによって前記第1のエラー信号を生成することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項7乃至9の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の電気ビート信号が、前記第1の周波数ミキサによって前記第1の基準信号と混合される前に、第1の電気ディバイダを通過することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項7乃至10の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の基準信号が、前記第1の周波数ミキサによって前記第1の電気ビートと混合される前に、第2の電気ディバイダを通過することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項8乃至11の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1のミックスダウン出力信号が、前記第2の周波数ミキサによって前記第2の基準信号と混合される前に、ローパスフィルタを通過することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至12の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ロックフィードバックループが、前記第1の光ビート検出器と前記位相ロックフィードバックループ電気回路との間に配置された第1のアナログ位相シフタを備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至13の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1および第2の光学場が共通の経路に沿って伝播しないことに起因して第1の光学場と第2の光学場との間に導入される任意の相対位相ノイズを補償する手段を提供する位相ノイズモニタをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項14に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ノイズモニタが、第2の結合連続波光学場によって生成された第2の光ビート信号を受信するように構成されていることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項15に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ノイズモニタが、前記第2の光ビート信号を第2の電気ビート信号に変換する手段を提供する第2の光ビート検出器を備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項14乃至16の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ノイズモニタが、前記第1の動作周波数からの第3の所定のオフセット周波数で第3の基準信号を生成する手段を提供する第3の基準信号生成器をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項17に記載のレーザシステムにおいて、
前記位相ロックフィードバックループ電気回路が第3の周波数ミキサを含み、この第3の周波数が、第2の電気ビート信号および第3の基準信号をミックスダウンすることによって第2のエラー信号を生成する手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項18に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2のエラー信号が、前記第1の基準信号生成器によって生成された前記第1の基準信号の位相を調整するためのフィードバック信号を制御するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項19に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の基準信号の位相の調整が、フィードバックを使用して前記恒温槽付水晶発振器(OCXO)を制御することによって達成されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項19に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の基準信号の位相の調整が、OCXOまたは周波数シンセサイザの後に位置する第2のアナログ位相シフタを制御することによって達成されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項17乃至21の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第3の所定のオフセット周波数が、前記第1の所定のオフセット周波数に等しいことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至22の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
第1の周波数二倍化結晶をさらに備え、この第1の周波数二倍化結晶を通って前記第1の光学場が伝播することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項23に記載のレーザシステムにおいて、
第2の周波数二倍化結晶をさらに備え、この第2の周波数二倍化結晶を通って前記第2の光学場が伝播することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至24の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1の光学場の一成分を用いて前記第1の動作周波数を維持する手段を提供する周波数ロックフィードバックループをさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項25に記載のレーザシステムにおいて、
前記周波数ロックフィードバックループが、前記第1の光学場の一成分を使用して、前記第1の動作周波数を原子遷移からの所定のオフセット周波数に維持する手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項26に記載のレーザシステムにおいて、
前記周波数ロックフィードバックループが光変調器を含み、前記光変調器の動作が、原子遷移からの所定のオフセット周波数で第1の光学場の一成分を周波数変調する手段を提供し、それにより、原子遷移と共鳴する、前記第1の光学場の変調成分の周波数側波帯を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項27に記載のレーザシステムにおいて、
前記周波数ロックフィードバックループが、原子蒸気セルを通る前記第1の光学場の変調成分の透過をモニタリングするために使用される原子飽和吸収分光法モジュールをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項28に記載のレーザシステムにおいて、
前記周波数ロックフィードバックループが、前記原子飽和吸収分光法モジュールの出力から電気フィードバック信号を生成するための手段を提供するフィードバックループ電気回路をさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項29に記載のレーザシステムにおいて、
前記電気フィードバック信号が、前記第1の連続波レーザ源の1または複数の同調要素を制御して前記第1の動作周波数を維持するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項28乃至30の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記原子飽和吸収分光法モジュールが、ルビジウム蒸気セルを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項28乃至30の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記原子飽和吸収分光法モジュールが、カルシウム蒸気セルを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項28乃至30の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記原子飽和吸収分光分析モジュールが、セシウム蒸気セルを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項28乃至30の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記原子飽和吸収分光法モジュールが、カリウム蒸気セルを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項25に記載のレーザシステムにおいて、
前記周波数ロックフィードバックループが、前記第1の光学場の一成分を使用して、基準キャビティの共振で前記第1の動作周波数を維持するための手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至35の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
第1の出力場から前記第1の連続波レーザ源の励起光源にフィードバックを提供するように配置された光検出器を含む第1のパワーフィードバックループをさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至36の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
第2の出力場から前記第2の連続波レーザ源の励起光源にフィードバックを提供するように配置された光検出器を含む第2のパワーフィードバックループをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至37の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
結合連続波光学場の第2の成分を形成する一連の光パルスを生成するために使用されるパルス発生器をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項38に記載のレーザシステムにおいて、
前記パルス発生器が、音響光学変調器(AOM)システムを含み、この音響光学変調器システムが、第1の音響光学変調器(AOM)と、第1のAOMの入力駆動信号を生成するために使用される音響光学変調器(AOM)電気回路とを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項39に記載のレーザシステムにおいて、
前記AOM電気回路が、第1の可変利得増幅器(VGA)によって前記第1のAOMに電気的に接続される分散制御システム(DCS)を備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項40に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1のVGAからの電気出力が、第1のデジタル制御スイッチによって制御されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項41に記載のレーザシステムにおいて、
前記分散制御システム(DCS)が、前記第1のデジタル制御スイッチを開閉する制御信号を提供するために使用される第1のデジタル出力源をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項40乃至42の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記分散制御システム(DCS)が、前記第1のAOMの周波数源を生成するために使用される第2のダイレクトデジタルシンセサイザ(DDS)をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項40乃至43の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1のVGAが、前記第1のAOMの周波数源を1または複数のパルスを含む第1の電気信号に変換する手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項44に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1のVGAが、前記1または複数のパルスのタイミング、形状および/または幅を決定するための手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項45に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1のデジタル制御スイッチが、前記第1の電気信号内の1または複数のパルスのオン/オフ消光を増加させる手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項39乃至47の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)システムが、前記第1の音響光学変調器(AOM)と直列に配置された第2の音響光学変調器(AOM)をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項47に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)電気回路が、前記第2のAOMの入力駆動信号を生成するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項47または48に記載のレーザシステムにおいて、
前記分散制御システム(DCS)が、第2の可変利得増幅器(VGA)によって前記第2のAOMに電気的に接続されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項49に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2のVGAからの電気出力が、第2のデジタル制御スイッチによって制御されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項50に記載のレーザシステムにおいて、
前記分散制御システム(DCS)が、前記第2のデジタル制御スイッチを開閉する制御信号を提供するために使用される第2のデジタル出力源をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項47乃至51の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記分散制御システム(DCS)が、前記第2のAOMの周波数源を生成するために使用される第3のダイレクトデジタルシンセサイザ(DDS)をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項52に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2のVGAが、前記第2のAOMの周波数源を1または複数のパルスを含む電気信号に変換する手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項53に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2のVGAが、前記1または複数のパルスのタイミング、形状および/または幅を決定するための手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項54に記載のレーザシステムにおいて、
前記第2のデジタル制御スイッチが、前記電気信号内の1または複数のパルスのオン/オフ消光のレベルを増加させる手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至55の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
第3のデジタル出力が、前記第2の基準信号生成器をトリガーして所定の周波数チャープを有する第2の基準信号を生成するように構成されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項56に記載のレーザシステムにおいて、
前記第3のデジタル出力が、前記分散制御システム(DCS)によって生成されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項21乃至57の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記アナログ位相シフタにアナログ制御信号を提供するように構成されたアナログ出力源をさらに備え、前記アナログ制御信号は、前記アナログ位相シフタが前記電気ビート信号に所定の位相オフセットを導入する手段を提供することを特徴とするレーザシステム。 - 請求項58に記載のレーザシステムにおいて、
前記アナログ出力源が、前記分散制御システム(DCS)に配置されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項47乃至59の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)システムが、前記第1の音響光学変調器(AOM)と直列に、かつ前記第2の音響光学変調器(AOM)と並列に配置された第3の音響光学変調器(AOM)をさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項60に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)電気回路が、前記第3のAOMの入力駆動信号を生成するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項60または61に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)システムが、前記第1の音響光学変調器(AOM)と直列に、かつ前記第2および第3の音響光学変調器(AOM)と並列に配置された第4の音響光学変調器(AOM)をさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項62に記載のレーザシステムにおいて、
前記音響光学変調器(AOM)電気回路が、第4のAOMの入力駆動信号を生成するために使用されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至63の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
光ファイバをさらに備え、生成された出力場が前記光ファイバ内に結合されることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至64の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
当該レーザシステムからの出力場のパワーをモニタリングするように構成された第1の光検出器を有するパワー出力モニタをさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項65に記載のレーザシステムにおいて、
前記パワー出力モニタが、前記光ファイバを介した伝播後の前記出力場のパワーをモニタリングするように構成された第2の光検出器をさらに備えることを特徴とするレーザシステム。 - 請求項65または66に記載のレーザシステムにおいて、
前記パワー出力モニタが、必要な目的地から当該レーザシステムへの戻り場のパワーをモニタリングするように配置された第3の光検出器をさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項65乃至67の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
当該レーザシステムの出力場から前記音響光学変調器システムにフィードバックを提供するように配置された第1の光検出器を含む第3のパワーフィードバックループをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項66乃至68の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
ファイバを通って前記音響光学変調器システムに伝播した後、当該レーザシステムの出力場からフィードバックを提供するように配置された第2の光検出器を含む第4のパワーフィードバックループをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項67乃至69の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
当該レーザシステムの戻り場から前記音響光学変調器システムにフィードバックを提供するように配置された第3の光検出器を含む第5のパワーフィードバックループをさらに含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至70の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1および第2の連続波レーザ源の各々が、固体レーザ源を含むことを特徴とするレーザシステム。 - 請求項1乃至71の何れか一項に記載のレーザシステムにおいて、
前記第1および第2の連続波レーザ源の各々が、Ti:サファイアレーザを含むことを特徴とするレーザシステム。 - 第1の動作周波数を有する第1の連続波光学場と、第2の動作周波数を有する第2の連続波光学場とを含むレーザシステムを構成する方法であって、
−前記第2の動作周波数を、前記第1の動作周波数からの第1の所定のオフセット周波数に設定するステップと、
−第1の光学場と第2の光学場を結合させて、結合連続波光学場を生成するステップと、
−結合光学場の少なくとも第1の成分から第1の光ビート信号を生成するステップと、
−前記第1の光ビート信号を第1の電気ビート信号に変換するステップと、
−前記第1の動作周波数からの第2の所定のオフセット周波数で第1の基準信号を生成するステップと、
−前記第2の所定のオフセット周波数よりも低い周波数で第2の基準信号を生成するステップと、
−前記電気ビート信号、第1の基準信号および第2の基準信号から第1のエラー信号を生成するステップと、
−前記第1のエラー信号を使用して、前記第2の連続波レーザ源のためのフィードバック信号を制御し、前記第2の動作周波数を前記第1の動作周波数に位相ロックするステップとを含むことを特徴とする、レーザシステムを構成する方法。 - 請求項73に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2の所定のオフセット周波数が、前記第1の所定のオフセット周波数と同じ桁の大きさであることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73または74に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2の基準信号の周波数が、前記第1の基準信号の周波数よりも1桁以上低いことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至75の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2の所定のオフセット周波数が、前記第1の所定のオフセット周波数に前記第2の基準信号の周波数を加算または減算したものに等しいことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至76の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1のエラー信号を生成することには、前記第1の電気ビート信号および前記第1の基準信号から第1のミックスダウン出力信号を生成することが含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項77に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1のエラー信号が、前記第1のミックスダウン出力信号および前記第2の基準信号から第2のミックスダウン出力信号を生成することをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項77または78に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の電気ビート信号が、前記第1の基準信号と混合される前に分割されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項77または78に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の基準信号が、前記第1の電気ビート信号と混合される前に分割されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項78乃至80の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1のミックスダウン出力信号が、前記第2の基準信号と混合される前にローパスフィルタリングされることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至81の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1および第2の光学場が共通の経路に沿って伝播しないことに起因して前記第1の光学場と第2の光学場との間に導入される相対位相ノイズを補償するステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項82に記載のレーザシステムを構成する方法において、
相対位相ノイズを補償することには、第2の結合連続波光学場から第2の光ビート信号を生成することが含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項83に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1および第2の連続波光学場は、結合されて前記第2の結合連続波光学場を形成する前に、周波数が2倍にされることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項83または84に記載のレーザシステムを構成する方法において、
相対位相ノイズを補償することには、第2の光ビート信号を第2の電気ビート信号に変換することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項82乃至85の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
相対位相ノイズを補償することには、前記第1の動作周波数からの第3の所定のオフセット周波数で第3の基準信号を生成することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項86に記載のレーザシステムを構成する方法において、
相対位相ノイズを補償することには、前記第2の電気ビート信号および前記第3の基準信号から第2のエラー信号を生成することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項87に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2のエラー信号を生成することには、前記第2の電気ビート信号および前記第3の基準信号をミックスダウンすることが含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項87または88に記載のレーザシステムを構成する方法において、
相対位相ノイズを補償することには、前記第2のエラー信号を使用して前記第1の基準信号に対するフィードバック信号を制御することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至89の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の光学場の一成分を使用して、前記第1の動作周波数を原子遷移からの所定のオフセット周波数に維持するステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項90に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の動作周波数を維持することには、前記第1の光学場の一成分を前記原子遷移からの所定のオフセット周波数で光学的に変調して、前記原子遷移と共鳴する、前記第1の光学場の変調成分の周波数側波帯を提供することが含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項91に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の動作周波数を維持することには、原子蒸気セルを通る前記第1の光学場の変調成分の透過をモニタリングすることがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項92に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の動作周波数を維持することには、モニタリングした透過から電気フィードバック信号を生成することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項93に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の動作周波数を維持することには、前記電気フィードバック信号を使用して、前記第1の連続波レーザ源の1または複数の同調要素を制御することにより、前記第1の動作周波数を維持することがさらに含まれることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至94の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の連続波光学場のパワーをモニタリングするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項95に記載のレーザシステムを構成する方法において、
モニタリングしたパワーが、前記第1の連続波光学場の励起光源にフィードバック信号を提供するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項96に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記第1の連続波光学場の励起光源のパワーを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項96または97に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記第1の連続波光学場の励起光源のアライメントを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至98の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2の連続波光学場のパワーをモニタリングするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項99に記載のレーザシステムを構成する方法において、
モニタリングしたパワーが、前記第2の連続波光学場の励起光源にフィードバック信号を提供するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項100に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記第2の連続波光学場の励起光源のパワーを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項100または101に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記第2の連続波光学場の励起光源のアライメントを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至102の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記結合連続波光学場の第2の成分を音響光学変調器システムに通すことによって一連の光パルスを生成するステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項103に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記一連のパルスが、第1の周波数源によって駆動される第1の音響光学変調器から生成されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項104に記載のレーザシステムを構成する方法において、
第1の可変利得増幅器が、前記第1の周波数源を、1または複数のパルスを含む第1の電気信号に変換する手段として用いられることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項105に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第1の可変利得増幅器が、前記1または複数のパルスのタイミング、形状および/または幅を決定する手段として使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項103乃至106の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記一連のパルスが、第2の音響光学変調器から生成され、前記第2の音響光学変調器が、前記第1の音響光学変調器と直列に配置され、第2の周波数源によって駆動されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項107に記載のレーザシステムを構成する方法において、
第2の可変利得増幅器が、前記第2の周波数源を1または複数のパルスを含む第2の電気信号に変換する手段として使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項108に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記第2の可変利得増幅器が、前記1または複数のパルスのタイミング、形状および/または幅を決定するための手段として使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項107乃至109の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記一連のパルスが、第3の音響光学変調器から生成され、前記第3の音響光学変調器が、前記第1の音響光学変調器と直列に、かつ前記第2の音響光学変調器と並列に配置され、第3の周波数源によって駆動されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項110に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記一連のパルスが、第4の音響光学変調器から生成され、前記第4の音響光学変調器が、前記第1の音響光学変調器と直列に、かつ前記第2および第3の音響光学変調器と並列に配置され、第4の周波数源によって駆動されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至113の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
デジタル制御信号を使用して、前記第2の基準信号に対して所定の周波数チャープをトリガーするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至112の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
アナログ制御信号を使用して、前記電気ビート信号に所定の位相オフセットを導入するステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至113の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記レーザシステムの出力場を光ファイバ内に結合するステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至113の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記レーザシステムからの出力場のパワーをモニタリングするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項115に記載のレーザシステムを構成する方法において、
モニタリングした出力場のパワーが、前記レーザシステムにフィードバック信号を提供するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項116に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、第1、第2、第3または第4の音響光学変調器のうちの1または複数に印加される電気信号の電力を変化させるために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至117の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記出力場が展開されることが意図されている目的地で出力場のパワーをモニタリングするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項118に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記出力場が展開されることが意図されている目的地においてモニタリングした前記出力場のパワーが、前記レーザシステムにフィードバック信号を提供するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項119に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、第1、第2、第3または第4の音響光学変調器のうちの1または複数に印加される電気信号の電力を変化させるために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項119または120に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記レーザシステムおよび前記光ファイバからの出力場のアライメントを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項73乃至121の何れか一項に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記出力場が展開されることが意図されている目的地からの戻り場のパワーをモニタリングするステップをさらに含むことを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項122に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記出力場が展開されることが意図されている目的地からの戻り場のモニタリングしたパワーが、前記レーザシステムにフィードバック信号を提供するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項123に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、第1、第2、第3または第4の音響光学変調器のうちの1または複数に印加される電気信号の電力を変化させるために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。 - 請求項123または124に記載のレーザシステムを構成する方法において、
前記フィードバック信号が、前記出力場が展開されることが意図されている目的地からの戻り場および前記光ファイバのアライメントを調整するために使用されることを特徴とするレーザシステムを構成する方法。
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CN109066274B (zh) * | 2018-09-26 | 2023-09-01 | 天水师范学院 | 基于原子滤光器的拉曼激光光学系统及其滤光方法 |
IT201900000989A1 (it) | 2019-01-23 | 2020-07-23 | St Microelectronics Srl | Circuito per rilevare un segnale analogico generato da un sensore, sistema elettronico e procedimento corrispondenti |
US20210075184A1 (en) * | 2019-09-06 | 2021-03-11 | Honeywell International Inc. | Compact laser delivery to atomic systems |
US10951002B1 (en) * | 2019-12-04 | 2021-03-16 | Honeywell International Inc. | Bichromatic laser for quantum computing applications |
US20220255632A1 (en) * | 2020-02-24 | 2022-08-11 | The Regents of the University of Colorado, corporate | Photonic-based microwave generator and associated methods |
CN112653707B (zh) * | 2020-12-31 | 2022-08-16 | 河南信大网御科技有限公司 | 一种增强型拟态输入代理 |
CN112636710B (zh) * | 2021-01-31 | 2022-07-19 | 山西大学 | 一种适用于激光频率锁定的锁相放大器 |
CN113206434B (zh) * | 2021-05-07 | 2022-08-02 | 北京邮电大学 | 一种用于光纤激光器频差锁定的预补偿反馈控制系统和方法 |
US11531249B1 (en) * | 2021-08-19 | 2022-12-20 | ColdQuanta, Inc. | Constant-frequency acousto-optic beam steering |
GB2618050A (en) * | 2021-08-24 | 2023-11-01 | Element Six Tech Ltd | Raman laser system |
CN115173858B (zh) * | 2022-06-13 | 2023-10-20 | 中国科学院精密测量科学与技术创新研究院 | 一种铷双光子激光频率标准的激光功率频移抑制装置 |
CN114993485B (zh) * | 2022-07-18 | 2022-10-28 | 中国人民解放军海军工程大学 | 一种dfb激光器输出激光频率的测量装置 |
CN115663586B (zh) * | 2022-11-14 | 2023-04-11 | 济南量子技术研究院 | 一种超稳激光高精度误差信号提取系统及方法 |
CN116184518B (zh) * | 2023-02-08 | 2024-04-16 | 中国科学院力学研究所 | 一种激光指向、锁相控制模拟方法及系统 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02151122A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | レーザ発振周波数安定化装置 |
JPH03120774A (ja) * | 1989-10-03 | 1991-05-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数制御装置 |
JPH0856120A (ja) * | 1994-08-10 | 1996-02-27 | Yaesu Musen Co Ltd | 基準発振器回路 |
JP2006245179A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光周波数安定化装置 |
US20100303111A1 (en) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | Redfern Integrated Optics, Inc. | Pair of optically locked semiconductor narrow linewidth external cavity lasers with frequency offset tuning |
JP2011146786A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Mitsubishi Electric Corp | 位相制御装置 |
CN107104354A (zh) * | 2017-05-19 | 2017-08-29 | 北京大学 | 一种大调谐量高精度锁定激光频率的控制系统及控制方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05243663A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-21 | Ando Electric Co Ltd | 両光源の差周波数を一定にするbotda |
JP3500582B2 (ja) * | 1992-11-05 | 2004-02-23 | 富士通株式会社 | 光周波数基準光源発生装置 |
US6831935B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-12-14 | The Regents Of The University Of Colorado | Multistage synchronization of pulsed radiation sources |
WO2005122343A2 (en) * | 2004-05-12 | 2005-12-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Synchronization of lasers and rf sources using timing information transfer in the optical domain |
US8411354B2 (en) * | 2011-08-05 | 2013-04-02 | Coherent, Inc. | Carrier-envelope-phase stabilization of a master oscillator optical amplifier system |
WO2013040168A2 (en) * | 2011-09-14 | 2013-03-21 | The Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus for broadband frequency comb stabilization |
US9170108B1 (en) * | 2014-06-12 | 2015-10-27 | Honeywell International Inc. | Controlled modulation of light beam with highly stable suppression of carrier or sidebands |
JP2016092146A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | セイコーエプソン株式会社 | 量子干渉装置、原子発振器、電子機器および移動体 |
US10824047B2 (en) * | 2016-03-14 | 2020-11-03 | AOSense, Inc. | Optical comb carrier envelope-offset frequency control using intensity modulation |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02151122A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | レーザ発振周波数安定化装置 |
JPH03120774A (ja) * | 1989-10-03 | 1991-05-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数制御装置 |
JPH0856120A (ja) * | 1994-08-10 | 1996-02-27 | Yaesu Musen Co Ltd | 基準発振器回路 |
JP2006245179A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光周波数安定化装置 |
US20100303111A1 (en) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | Redfern Integrated Optics, Inc. | Pair of optically locked semiconductor narrow linewidth external cavity lasers with frequency offset tuning |
JP2011146786A (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-28 | Mitsubishi Electric Corp | 位相制御装置 |
CN107104354A (zh) * | 2017-05-19 | 2017-08-29 | 北京大学 | 一种大调谐量高精度锁定激光频率的控制系统及控制方法 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
COURDE C ET AL.: "Elimination of systematic errors in two-mode laser telemetry", MEASUREMENT SCIENCE AND TECHNOLOGY, vol. 20, no. 12, JPN7022004164, 1 December 2009 (2009-12-01), ISSN: 0004862263 * |
KWON TAEG YONG ET AL.: "Devolopment of an intensity stabilized laser system with frequency offset of 9.2GHz", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, vol. vol.42, no.8A L924, JPN7022004165, 1 August 2003 (2003-08-01), pages 924 - 926, ISSN: 0004862262 * |
SCHMIDT MALTE ET AL.: "A portable laser system for high precision atom interferometry experiments", APPLIED PHYSICS B, vol. 102, JPN7022004163, 27 September 2010 (2010-09-27), pages 1 - 8, ISSN: 0004862261 * |
TULCHINSKY DAVID A ET AL.: "Characteristics and performance of offset single frequency heterodyned laser system", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, vol. 87 , JPN7022004166, 4 May 2016 (2016-05-04), pages 1 - 053107, ISSN: 0004862264 * |
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