JP2020536374A - 閉じ機構式真空チャンバ用分離デバイス及びサブシステム - Google Patents
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Abstract
本開示は概して、処理システムにおいて使用される分離デバイスに関する。分離デバイスは、貫通して形成された流れ開孔を有する本体を含む。一実施形態では、分離デバイスは、遠隔プラズマ源とプロセスチャンバとの間に配置される。閉じ機構が、本体内に旋回可能に配置される。閉じ機構は、遠隔プラズマ源とプロセスチャンバとの間の流体連結を可能にする、又は不可能にするように駆動され得る。一実施形態では、閉じ機構は、シャフトと、シャフトに連結されたシール板とを含む。クロスアームが、シール板の反対側でシャフトに連結される。クロスアームは、シャフトと、閉じ機構のシール板とを選択的に回転させるように構成される。【選択図】図2
Description
[0001]本開示の実施形態は、概して、処理システムにおいて使用する分離デバイスに関する。
[0002]半導体デバイス等のマイクロ電子デバイスの製造では、ガス源により、プロセスガスがプロセスチャンバのプロセス領域に供給される。さらに、一部のプロセスチャンバ又はプロセス用途では、遠隔プラズマ源を使用して、ガスラジカル、ガスイオン、又はその両方が、プロセスが基板に実行されているプロセスチャンバに、又はその内面から堆積物を洗浄するためにプロセスチャンバに供給される。遠隔プラズマ源は、一般に、プロセスチャンバの本体を通して配置されたポートを介してプロセスチャンバに接続される。遠隔プラズマ源をプロセスチャンバから分離するために、バルブ等の分離デバイスが遠隔プラズマ源とプロセスチャンバとの間に配置される。遠隔プラズマ源を用いて、ガスラジカル、ガスイオン、又はその両方がプロセスチャンバのプロセス領域に供給される工程中に、分離デバイスが開位置に移動し、プロセスチャンバのプロセス領域と遠隔プラズマ源との間の流体連結を可能にする。処理工程の完了後、分離デバイスが閉位置に移動することにより、遠隔プラズマ源がプロセスチャンバのプロセス領域から分離される。
[0003]遠隔プラズマ源とポートとの間のフローラインに単純なバルブが用いられる従来の遠隔プラズマ源分離デバイスは多くの場合、遠隔プラズマ源からのガスラジカル、ガスイオン、又はその両方にシール機構が暴露されることに起因するシール機構の劣化の害、もしくはプロセスチャンバのプロセス領域におけるプロセスの化学現象への暴露の害を受ける。同様に、一部のプロセスガスはシール材料を腐食させる又は侵食するため、これらのガスに暴露された場合、従来のバルブは頻繁に修理する必要があり得る。その結果、シール機構を修理又は交換して機能を維持するのに、頻繁な保守が必要となる。これらの保守工程には、プロセスチャンバの長時間の停止を伴うことが多く、その結果、プロセスチャンバの使用率が低下する。
[0004]本開示の一実施形態では、分離デバイスが提供される。分離デバイスは、貫通して形成された流れ開孔を有する本体を含む。閉じ機構は、本体内に旋回可能に配置される。閉じ機構は、シャフトと、シャフトに連結されたシール板とを含む。クロスアームは、シール板の反対側及び本体の外部でシャフトに連結される。クロスアームは、閉じ機構のシャフトとシール板とを選択的に回転させるように構成される。
[0005]本開示の別の実施形態では、分離デバイスが提供される。分離デバイスは、貫通して形成された第1の流れ開孔を有する本体を含む。下部板は、本体に連結され、第2の流れ開孔が下部板を貫通して形成される。第1の流れ開孔の中心軸は、第2の流れ開孔の中心軸と実質的に整列している。カバー板は、本体に連結される。カバー板は、貫通して形成された開口部を含む。開口部は、第1の流れ開孔及び第2の流れ開孔に平行である。シール板領域は、本体、下部板、及びカバー板によって少なくとも部分的に画定される。シャフトは、カバー板の開口部を通して配置される。シール板は、シール板領域に配置される。シャフトは、シール板の第1の表面に剛結される。シール板は、シャフトの軸の周りで回転する。シール板は、シール板が閉じたときに、第1の流れ開孔と第2の流れ開孔とを覆う。
[0006]更に別の態様では、基板を処理するためのシステムが提供される。システムは、遠隔プラズマ源と、プロセスチャンバと、遠隔プラズマ源とプロセスチャンバとの間に配置され、かつ、遠隔プラズマ源とプロセスチャンバとに連結された分離デバイスとを含む。分離デバイスは、貫通して形成された第1の流れ開孔を有する本体を含む。下部板は、本体に連結される。第2の流れ開孔は、下部板を貫通して形成される。第1の流れ開孔の中心軸は、第2の流れ開孔の中心軸と実質的に整列している。カバー板は本体に連結され、カバー板を貫通して開口部が形成される。開口部は、第1の流れ開孔及び第2の流れ開孔に平行である。シール板領域は、本体、下部板、及びカバー板によって少なくとも部分的に画定される。シャフトは、カバー板の開口部を通して配置される。シール板は、シール板領域に配置され、第1の表面と、第1の表面の反対側の第2の表面とを有する。シャフトは、シール板の第1の表面に剛結され、シール板は、シャフトの軸の周りで回転するように構成される。シール板は、シール板が閉じたときに、第1の流れ開孔と第2の流れ開孔とを覆う。
[0007]上述した本開示の特徴を詳細に理解できるように、一部が添付の図面に例示されている実施形態を参照しながら、上記に要約した本開示をより具体的に説明する。しかしながら、添付の図面は例示的な実施形態を示しているに過ぎず、したがって、その範囲を限定するものとみなされるべきではなく、本開示は他の同等に有効な実施形態を許容しうることに留意されたい。
[0014]理解を容易にするために、可能な場合には、図面に共通する同一の要素を指し示すのに同一の参照番号を使用した。一実施形態の要素及び特徴は、更なる記述がなくとも、他の実施形態に有益に取り込まれうると考えられる。
[0015]本書に記載の実施形態は、処理システム内のチャンバをフローラインから分離するための装置に関する。本書の説明は、遠隔プラズマチャンバを含むが、装置は、基板プロセスチャンバに流入する、又は基板プロセスチャンバから流出する任意のフローラインを分離するのに有用である。
[0016]図1は、遠隔プラズマ源を用いる例示的な処理装置の概略図である。図1において、処理装置100は、導管108a、108bによってプロセスチャンバ106に連結された遠隔プラズマ源102を備える。バルブ等の分離デバイス104が、遠隔プラズマ源102とプロセスチャンバ106との間に配置される。分離デバイス104は、導管108a、108bを通して、遠隔プラズマ源102及びプロセスチャンバ106と流体連結している。処理中、分離デバイス104を通る流体、すなわちガスの通過は、プロセスチャンバ106を遠隔プラズマ源102から分離するために中断され得る。分離デバイス104を開いて流体がそこを通過することを可能にすることによって、遠隔プラズマ源102によって生成されたガスラジカル、ガスイオン、又はその両方が、遠隔プラズマ源102から、導管108a、108b及び分離デバイス104を通って、プロセスチャンバ106内に流れることが可能になる。例示的な処理装置100は、単に例示の目的で開示されている。本書に記載の実施形態では、他の構成又は種類のプロセスチャンバが用いられ得る。
[0017]図2は、分離デバイス200の断面図である。分離デバイス200は、プロセスチャンバ106と遠隔プラズマ源102との間に配置される。この分離デバイス200は、それを貫通して形成された流れ開孔204を有する本体202を含む。一実施形態では、本体202は、アルミニウム又はその合金等の金属材料で構成される。他の適切な材料には、流れ開孔204を通過するガス、イオン、又はラジカルとの腐食、浸食、又は反応性に対して実質的に耐性のある材料が含まれる。一実施形態では、流れ開孔204は、円形の断面を有する。別の実施形態では、流れ開孔204は、長方形の断面等のような異なる断面を有し得る。遠隔プラズマ源102は、流れ開孔204と、下部板236を貫通して形成された第2の流れ開孔230とを介して、プロセスチャンバ106のプロセス領域と流体連結している。第2の流れ開孔230は、流れ開孔204と整列している。下部板236は、プロセスチャンバ106に面する本体202の側面を覆う。第2の流れ開孔230は、本体202及び下部板236がプロセスチャンバ106に取り付けられたときに、チャンバの流れ開口部(図示せず)と整列する。凹部235は、プロセスチャンバ106に面する本体202の表面233に形成される。シール板領域214は、凹部235及び下部板236によって少なくとも部分的に画定される。流れ開孔204の中心線238と、第2の流れ開孔230の中心線240とは、平行であり、実質的に整列している。流れ開孔204及び第2の流れ開孔230は、シール板領域214に流体接続される。カバー246は、本体202に連結され、シール板領域214を部分的に画定する。
[0018]閉じ機構206は、本体202内に部分的に配置される。閉じ機構206は、シャフト210に連結されたシール板208を含む。シール板208は、シール板領域214内に配置される。閉じ機構206のシャフト210は、シール板208から、本体202を貫通して形成された開口部212を通り、カバー246の開口部242を通って延在する。シャフトは、本体202の外部で終端する。シャフト210の第1の端部222は、本体202内に配置され、シール板208に連結される。シャフト210の第2の端部228は、第1の端部222の反対側の本体202及びカバー246の外方に配置される。閉じ機構206は、アルミニウム等の金属材料から製造されるが、流れ開孔204を通過するガス、イオン、又はラジカルとの腐食、浸食、又は反応性に耐性のある他の材料も使用され得る。
[0019]カバー246は、本体202の開口部212の上に配置される。開口部212は、シール板208がシール板領域214を出入りできるようにサイズ設定される。カバー246は、本体202とカバー246との間に配置されたシール250を有する、例えばねじ式ファスナ229によって本体202に連結される。シール250(例えば、溝に配置されたOリング)は、本体202とカバー246との間の界面におけるプロセスガスの漏洩を防止する。カバー246及び閉じ機構206は、本体202を遠隔プラズマ源102又はプロセスチャンバ106から連結解除することなく、保守のために分離デバイス202から取り外すことができる。したがって、分離デバイス200の保守に必要な時間が大幅に削減され、それに連結された処理システムの使用率が増加する。カバー246は、図示したように、ねじ式ファスナ229を使用して本体202に連結されるが、ラッチ、ボンディング、又はろう付けなど、カバー246を本体202に連結することができる任意の機構も用いられ得る。
[0020]シール232及びベアリング244がシャフト210の周囲の開口部242に配置され、シール板領域214から開口部242を通じたプロセスガスの漏洩を防止する。特定の実施形態では、シール232は、分離デバイス200を通って流れるプロセスガスとの反応によるシール232の劣化を低減するように選択された材料から製造されたOリングであってもよい。シール232に隣接して配置されたベアリング244は、シャフト210が開口部242内を移動することを可能にし、シャフト210に連結されたシール板208がシール板領域214内を移動することを可能にする。特定の実施形態では、ベアリング244は、シール板領域214内のシール機構206の回転運動及び直線運動を容易にするために、1つ又は複数のボールベアリングを備える。
[0021]クロスアーム216は、カバー246の外方に延在するシャフト210の一部に連結される。クロスアーム216がシャフト210に固定されることにより、シャフト210の軸の周りのクロスアーム216の回転がシャフト210の回転を引き起こし、シール板208がシール板領域214内でシャフト210の軸の周りを揺動するようになる。ホイール218は、クロスアーム216の端部に隣接するクロスアーム216に回転連結される。凹部220、302、304(図3)は、カバー246の外面248に形成され、ホイール218が着座し得る戻り止めを提供する。凹部220、302、304(図3)は、カバー246の上部外面248に延在するトラフであるが、トラフは、さらに短くてもよく、又は外面248の内側に延在する単純な半球状の戻り止めであってもよく、ホイール218は、クロスアーム216からカバー246に向かって延在する短いシャフト(図示せず)に固定された回転ボール(図示せず)に置換されてもよい。
[0022]シール板208は、第2の流れ開孔230に面するシール板208の表面227に形成された同心のシールリング溝に配置された、一対の同心に整列したシール226a、226bを含む。シール226a、226bは、中に形成されたシール溝を有する表面227と、シール板領域214に面する下部板236の表面234とに対して密閉するように構成される。一実施形態では、シール226、226bが配置される溝は、開位置と閉位置との間を閉じ機構206が移動中にシール226a、226bを保持するようにアリ溝加工される。
[0023]シール板208が閉位置にあるとき、図3に示すように、両方のシール226a、226bは第2の流れ開孔230を囲み、第2の流れ開孔230から半径方向外側の位置で、シール板208の表面227と下部板236の表面234との間に密閉部を形成する。したがって、シール226a、226bはそれぞれ、第2の流れ開孔230の円周よりも大きい円周を有する。シール226aは、第2の流れ開孔230を取り囲み、一次シールと称される。シール226bはシール226aを取り囲み、保護シールと称される。したがって、シール226aは、第2の流れ開孔230の円周よりも大きい円周を有し、シール226bは、シール226a及び第2の流れ開孔230の両方の円周よりも大きい円周を有する。特定の実施形態では、シール226a、226bはOリングである。Oリングは、ポリマー材料、石油系材料、又はニトリルゴム等のゴムを含み得る。Oリングの材料は、一般に、流れ開孔204、230を通って流れるプロセスガスに関して選択され、これにより、プロセスガスとの反応の結果としてのシール226a、226bの劣化が最小限に抑えられる。
[0024]付勢部材224が、本体202の外側のシャフト210に隣接して配置される。付勢部材224は、閉じ機構206、ひいてはシール板208に、下部板236の内向き表面234の方向に力を加える。シール226a、226bは、シール溝の表面とシール板208の表面234との間で圧縮され、第2の流れ開孔230とシール板領域214との間が確実に気密密閉される。付勢部材224は、シール板208が開位置にある図5Bに示すように、シール板208が閉位置及び第2の位置において第2の流れ開孔230の上に位置づけされたときに、シール226a、226bが下部板236の表面234に接触するような方向に力を加えるように構成される。
[0025]付勢部材224の上方には、ナット等のキャップ(図示せず)が配置される。キャップは、キャップの下面とクロスアーム216の上面252との間で付勢部材224を圧縮する。キャップは、付勢部材224の付勢及びその結果として閉じデバイス206に加えられる力の調整(例えば、増加又は減少)を可能にする。特定の実施形態では、付勢部材224はバネであり、キャップは、ねじ式スタッド(図示せず)によってカバー246を連結するナットである。付勢部材224と、それに連結された閉じ機構206とが、回転的かつ直線的に移動する間、キャップは固定されたままで、閉じ機構206上の力を維持する。ばねの付勢は、ナットと、ばねが配置されるクロスアーム216の表面252との間の距離を増減させるために、ナットをねじ式スタッドの上下に移動させることによって調整される。付勢部材224によって加えられる力は、シール板208が閉位置にあるときに、シール板領域214内の圧力と第2の流れ開孔230内の圧力との間の圧力差によって作り出されるシール板208上の反力に耐えるように構成される。
[0026]図3は、分離デバイス200の斜視断面図である。本体202の断面は、シール板208とシャフト210とを部分的に示す。クロスアーム216及びそれに連結されたホイール218は、本体202及びカバー246の外面248の外側に配置される。凹部302及び304は、図2の凹部220と同様に、カバー246の外面248に配置される。付勢部材224は、閉じ機構206の移動を明確にするために、図3には示していない。アクチュエータ306及びリンケージ308は、クロスアーム216に連結される。図3の実施形態では、アクチュエータ306は、プーリ310に連結されたモータを備える。リンケージ308は、シャフト210の片側のクロスアーム216の第1の部分312に連結されたケーブルである。リンケージ308は、プーリ310の周囲を1回転以上移動し、第1の部分312からシャフト210の反対側のクロスアーム216の第2の部分314に接続する。
[0027]一実施形態では、アクチュエータ306は、プーリ310に回転運動を加えるステッパモータである。回転運動には、時計回りと反時計回りの両方の運動が含まれる。アクチュエータ306がいずれかの方向に回転すると、回転運動は、プーリ310及びそれに連結されたリンケージ308に加えられるトルクを生成する。トルクは、リンケージ308によってクロスアーム216に平行移動する。したがって、アクチュエータ306の回転運動により、クロスアーム216の部分312、314のうちの1つに力が加わる。アクチュエータ306によってクロスアーム216の部分312、314に加えられる力によって、シャフト210の軸の周りの閉じ機構206のシャフト210内での回転が引き起こされる。アクチュエータ306と同様、結果として生じるシャフト210の回転は、時計回り又は反時計回りであり得る。シャフト210及びクロスアーム216の回転運動により、ホイール218が、シャフト210の軸の周りで凹部302及び304の間の円弧Rを横切る。ホイール218は、ホイール218が円弧Rを横切るときに凹部302、304のいずれかから外れる。ホイール218が凹部302、304のいずれかに再着座するとき、シャフト210及びクロスアーム216の回転運動が停止する。凹部302、304は、アクチュエータ306と係合せずに、閉じ機構206の回転を阻止する。
[0028]アクチュエータ306が係合すると、ホイール218と凹部302、304の一方の壁との相互作用により、ホイール218が凹部302、304内を上方に移動してカバー246の外面248に係合し、外面248上を回転することによって引き起こされる持ち上げ力が加えられる。ホイールに加えられる持ち上げ力は、付勢部材224によって生成される力(図2に示す)とは逆である。付勢部材224によって加えられる力は、ホイールが外面248上で円弧Rを横切る間、ホイールがカバー246の外面248と接触したままであることを可能にする。したがって、クロスアーム216及びシャフト210は、ホイール218が凹部302又は304の壁を横切るときに、ホイール218によってまず上方に、外面248から離れる方向に持ち上げられる。ホイール218は、他方の凹部302又は304に達するまで、円弧Rに沿って移動する。他方の凹部302又は304に入ると、付勢部材224(図2に示す)の下方への付勢によって、ホイール218が凹部302又は304内に着座する。従って、ホイール218が凹部302又は304の壁を横切ると、クロスアーム216及びシャフト210は下部板236に向かって移動する。ホイールが凹部302又は304に着座すると、アクチュエータ306は回転を停止する。特定の実施形態では、センサを備える制御システム(図示せず)と、分離デバイス200に連結されたコントローラとが、アクチュエータ306に選択的に係合して、分離デバイス200を開閉するように自動的に位置づけする。
[0029]シャフト210は、クロスアーム216とシール板208の両方に固定される。したがって、シール板208の移動は、クロスアーム216の移動と実質的に同一である。アクチュエータ306が係合して一方向または他の方向に回転すると、シール板208およびその中に配置されたシール226a、226bは、下部板236の表面234から離れるように持ち上げられ、シャフト210の方向と同様の方向に回転し、クロスアーム216がカバー246の外面248から離れるように持ち上げられてシャフトの方向と同様の方向に回転し、外面248に向かって下降するのと同様の方法で、表面234に向かって下降する。中に配置されたシール226a、226bを含むシール板208は、シャフト210の軸の周りを回転する。さらに、ホイール218の動きにより、シール板208及びシール226a、226bが下部板236の表面234から離れるように持ち上げられ、これにより、下部板236の表面234とシール226a、226b及びシール板208との間に小さな間隙が生じる。間隙は、シール板208及びシール226a、226bに、下部板236の表面234に接触することなく、シャフト210と共に回転するための隙間を提供する。シール226a、226bの移動中に、シール226a、226bと(シール溝表面以外の)隣接する表面とが接触すると、シール226a、226bが損傷し得る。シャフト210の回転移動および円弧を介したシール板208の揺動により、シール板208の表面227が下部板236の表面234をこすることなく、分離デバイス200が開位置および閉位置に選択的に位置づけされることが可能になる。開位置および閉位置の詳細な説明は、図5A及び5Bを参照して提供される。
[0030]アクチュエータ306及びリンケージ308は、プーリとケーブルの組み合わせに限定されない。特定の実施形態では、リンケージ308は、アクチュエータ306とクロスアーム216との間に連結され、クロスアーム216の一方の端部を押し引きすることによりシャフト210を回転させる第2のアームであってよい。さらなる実施形態では、アクチュエータ306は、クロスアーム216に直接連結される線形アクチュエータであってよい。さらに別の実施形態では、アクチュエータ306は、シャフト210に直接連結され得る。閉じ機構206に回転運動を提供する任意の手段を用いることができる。
[0031]図4は、例示的な閉じ機構206の斜視図である。閉じ機構206は、シール板208に連結されたシャフト210を備える。この実施形態では、シャフト210は、シール板208の端部近くでシール板208に連結される。本体の凹部235(図1に示す)が、シール板208がシール板領域214の側壁と接触することなくシール板領域214内で回転できるくらいの十分なサイズである限り、シャフト210は、異なる位置でシール板208に連結され得ると考えられる。 例えば、シャフト210は、シール板208の中心近くでシール板208に連結され得る。図4の閉じ機構206は、簡潔にするために簡略化された形状寸法で示される。閉じ機構206、特にシール板208の形状は異なってもよいことを理解すべきである。例えば、シール板208は、分離デバイス200のサイズを最小化するために、上面から下面へテーパを有するように構成され得る。また、シール板208は、四角箱、円筒等であってもよい。
[0032]図5Aおよび図5Bは、上から見た分離デバイス200の一部の平面図である。閉じ機構206を囲み、シール板領域214を少なくとも部分的に画定する境界が示される。長方形として描かれたシール板208は、シャフト210に連結され、シャフト210の周りを回転する。破線で示すシール226a、226bは、シャフト210の反対側のシール板208の溝(図示せず)に配置される。(図2に示すように)下部板236を貫通して形成された第2の流れ開孔230は、シール板領域214の境界内にある。
[0033]図5Aでは、シール板208は、第2の流れ開孔230を覆っている。破線で示すシール226a、226bは、同じく破線で示す第2の流れ開孔230を取り囲み、第2の流れ開孔230の半径方向外側及びそれを囲む位置で下部板236の表面234と接触する。閉位置と称されるこの位置では、シール226a、226bは第2の流れ開孔230の周囲に気密シールを形成し、シール板領域214及び流れ開孔204から第2の流れ開孔230を密閉する(図2に示す) 。したがって、シール板208およびシール226a、226bは、図1に示す遠隔プラズマ源102の出力等のプロセスガスがプロセスチャンバ106のプロセス領域に流れるのを防止する。逆に、閉位置でシール226a、226bによってできたシールにより、遠隔プラズマ源102がプロセスチャンバ106のプロセス領域から分離される。
[0034]図5Bでは、シール板208は、第2の流れ開孔230を覆っていない。これは、開位置と称される。シール板208は、表面234から持ち上げられ、第2の流れ開孔230から離れるように回転する。シール板208が第2の流れ開孔230から離れるように回転すると、シール板208は表面234に向かって下降する。シール板208が第2の流れ開孔230から離れるように移動すると、第2の流れ開孔230、シール板領域214、および流れ開孔204(図2に示す)の間の流体連結が可能になる。開位置では、シール226a、226bは、シール板が閉位置にあるときとは異なる表面234の部分と接触する。すなわち、開位置では、シール226a、226bは、第2の流れ開孔230を囲まない。
[0035]開位置と閉位置の両方で、シール226bは、シール226aの周囲に少なくとも部分的に密閉された環状領域を形成する。すなわち、環状領域は、シール226aとシール226bとの間に形成される。環状領域は、閉じ機構が開位置にあるときに、遠隔プラズマ源102によって生成されるガスラジカル、ガスイオン、またはその両方へのシール226aの暴露を防止する。シール226bは、遠隔プラズマ源102の出力への曝露による一次シール226aの劣化を最小限に抑えることにより、一次シール226aの修理または交換のための保守間隔を増加させる。特定の実施形態では、シール板208と下部板236の表面234との間に、約10ミルと約20ミルの間等の小さな間隙が維持され、シール板208と表面234との接触によって引き起こされる汚染粒子の生成が防止される。
[0036]分離デバイス200は、図5Bに示す開位置又は図5Aに示す閉位置にあるように位置づけされ、遠隔プラズマ源102から分離デバイス200を通るガスラジカル、ガスイオン、またはその両方の流れを選択的に可能にする。本書に記載の実施形態は、分離デバイス200のシールの保守間隔を有利に増加させ、それによって分離デバイス200の保守間隔を増加させる。本書の実施形態は、分離デバイスの設計を単純化し、分離デバイスを形成するのに必要な構成要素の数を最小限にすることによって、処理システムで使用される分離デバイスの必要な保守をさらに削減する。したがって、本書の実施形態は、本書に記載の分離デバイスに連結されたプロセスチャンバの生産使用率を増加させる。本書に記載の実施形態は、例示的なプロセスシステムに限定されないことを理解すべきである。領域を別の領域から分離するシステムはいずれも、本書に記載の実施形態から利益を得ることができる。
[0037]上記は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の他の実施形態及び更なる実施形態を、それらの基本範囲を逸脱せずに考案することが可能であり、それらの範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。
Claims (15)
- 分離デバイスであって、
貫通して形成された流れ開孔を有する本体と、
前記本体内に旋回可能に配置された閉じ機構であって、
シャフトと、
前記シャフトに連結されたシール板と
を含む閉じ機構と、
前記シール板の反対側及び前記本体の外部で前記シャフトに連結されたクロスアームであって、前記閉じ機構の前記シャフトと前記シール板とを選択的に回転させるように構成されるクロスアームと
を備える、分離デバイス。 - 前記本体及び前記閉じ機構が金属材料を含む、請求項1に記載の分離デバイス。
- 前記金属材料がアルミニウムを含む、請求項2に記載の分離デバイス。
- 前記クロスアームに連結され、前記シャフトに沿った前記シール板に向かう方向に前記クロスアームに力を加えるように構成された付勢部材
を更に備える、請求項1に記載の分離デバイス。 - 前記クロスアームに連結された付勢部材を更に備える、請求項1に記載の分離デバイス。
- 第1のシールと、前記第1のシールを囲む第2のシールとを更に備え、前記第1のシール及び前記第2のシールは、前記閉じ機構の前記シール板に配置される、請求項1に記載の分離デバイス。
- 前記第1のシール及び前記第2のシールは、前記閉じ機構が前記流れ開孔の周囲にシールを形成するように位置づけされたときに前記流れ開孔を囲む、請求項6に記載の分離デバイス。
- 分離デバイスであって、
貫通して形成された第1の流れ開孔を有する本体と、
前記本体に連結された下部板と、
前記下部板を貫通して形成された第2の流れ開孔であって、前記第1の流れ開孔の中心軸が前記第2の流れ開孔の中心軸と実質的に整列している、第2の流れ開孔と、
前記本体に連結されたカバー板であって、前記第1の流れ開孔及び前記第2の流れ開孔に平行な開口部が貫通して形成されたカバー板と、
前記本体、前記下部板、及び前記カバー板によって少なくとも部分的に画定されたシール板領域と、
前記カバー板の前記開口部を通して配置されたシャフトと、
前記シール板領域に配置されたシール板であって、当該シール板が、第1の表面と、前記第1の表面の反対側の第2の表面とを有し、前記シャフトが、前記シール板の前記第1の表面に剛結され、当該シール板が、前記シャフトの軸の周りで回転するように構成され、当該シール板が閉じたときに前記第1の流れ開孔と前記第2の流れ開孔とを覆う、シール板と
を備える、分離デバイス。 - 前記シール板の前記第2の表面に形成された1又は複数のシール溝と、
前記1又は複数のシール溝に配置された1又は複数のシールと
を更に備える、請求項8に記載の分離デバイス。 - 前記シール板が前記第2の流れ開孔を覆ったときに、前記1又は複数のシールが前記第2の流れ開孔を囲む、請求項9に記載の分離デバイス。
- 前記シール板が閉じたときに、前記1又は複数のシール溝及び前記1又は複数のシールが前記第2の流れ開孔を囲む、請求項9に記載の分離デバイス。
- 前記カバー板の表面に形成された凹部と、
前記シール板の反対側で前記シャフトに連結されたクロスアームと、
前記クロスアームに回転可能に連結され、かつ、前記凹部に配置されたホイールであって、前記シール板が閉じたときに前記凹部に配置されるホイールと
を更に備える、請求項9に記載の分離デバイス。 - 前記ホイールが前記凹部から外れて、前記カバー板上で前記シャフトの軸の周りで円弧を横切る、請求項12に記載の分離デバイス。
- 前記シャフトに連結されたアクチュエータ
を更に備える、請求項8に記載の分離デバイス。 - 基板を処理するためのシステムであって、
遠隔プラズマ源と、
プロセスチャンバと、
前記遠隔プラズマ源と前記プロセスチャンバとの間に配置され、前記遠隔プラズマ源と前記プロセスチャンバとに連結された分離デバイスであって、
貫通して形成された第1の流れ開孔を有する本体と、
前記本体に連結された下部板と、
前記下部板を貫通して形成された第2の流れ開孔であって、前記第1の流れ開孔の中心軸が前記第2の流れ開孔の中心軸と実質的に整列している、第2の流れ開孔と、
前記本体に連結されたカバー板であって、前記第1の流れ開孔及び前記第2の流れ開孔に平行な開口部が貫通して形成されたカバー板と、
前記本体、前記下部板、及び前記カバー板によって少なくとも部分的に画定されたシール板領域と、
前記カバー板の前記開口部を通して配置されたシャフトと、
前記シール板領域に配置されたシール板であって、当該シール板が、第1の表面と、前記第1の表面の反対側の第2の表面とを有し、前記シャフトが、前記シール板の前記第1の表面に剛結され、当該シール板が、前記シャフトの軸の周りで回転するように構成され、当該シール板が閉じたときに前記第1の流れ開孔と前記第2の流れ開孔とを覆う、シール板と
を含む、分離デバイスと
を備える、システム。
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