CN111164730B - 关闭机构真空腔室隔离装置和子系统 - Google Patents

Abstract

本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。所述隔离装置包括主体，所述主体具有从中穿过而形成的流孔。在一个实施方式中，所述隔离装置设置在远程等离子体源与工艺腔室之间。关闭机构可枢转地设置在所述主体内。所述关闭机构可以被致动以启用或禁用在所述远程等离子体源与所述工艺腔室之间的流体连通。在一个实施方式中，所述关闭机构包括轴和耦接到所述轴的密封板。横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴。所述横臂被配置为选择性地旋转所述关闭机构的所述轴和所述密封板。

Description

关闭机构真空腔室隔离装置和子系统

背景技术

技术领域

本公开的实施方式总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。

相关技术描述

在微电子器件(诸如半导体器件)的制造中，气源向工艺腔室的工艺容积中供应工艺气体。另外地，在一些工艺腔室或工艺应用中，使用远程等离子体源向其中在衬底上实行工艺的工艺腔室提供气体自由基、气体离子或这两者，或向所述工艺腔室提供气体自由基、气体离子或这两者以从其内表面清除沉积物。远程等离子体源一般通过穿过工艺腔室的主体设置的端口来连接到工艺腔室。为了将远程等离子体源与工艺腔室隔离，在远程等离子体源与工艺腔室之间设置隔离装置，诸如阀。在利用远程等离子体源向工艺腔室的工艺容积中供应气体自由基、气体离子或这两者的操作期间，隔离装置移动到打开位置，以允许工艺腔室的工艺容积与远程等离子体源之间的流体连通。在完成处理操作之后，隔离装置移动到关闭位置，由此将远程等离子体源与工艺腔室的工艺容积隔离。

其中在远程等离子体源与端口之间的流线中利用简单的阀的常规的远程等离子体源隔离装置通常遭受因密封机构暴露于来自远程等离子体源或源自暴露于在工艺腔室的工艺容积中的工艺化学物质的气体自由基、气体离子或这两者而使其密封机构退化。同样地，一些工艺气体对密封材料有腐蚀性或侵蚀性，并且当暴露于这些气体时，传统的阀可能需要频繁维修。因此，需要频繁维护以修理或更换密封机构来维持功能性。这些维护操作通常涉及工艺腔室的长时间停机，从而造成工艺腔室的利用率降低。

发明内容

在本公开的一个实施方式中，提供了一种隔离装置。所述隔离装置包括主体，所述主体具有从中穿过而形成的流孔开口。关闭机构可枢转地设置在所述主体内。所述关闭机构包括轴和耦接到所述轴的密封板。横臂耦接到与所述密封板相对且在所述主体的外部的所述轴。所述横臂被配置为选择性地旋转所述关闭机构的所述轴和所述密封板。

在本公开的另一个实施方式中，提供了一种隔离装置。所述隔离装置包括主体，所述主体具有从中穿过而形成的第一流孔。下部板耦接到所述主体并且所述第二流孔穿过所述下部板形成。所述第一流孔的中心轴线与所述第二流孔的中心轴线基本上对准。覆盖板耦接到所述主体。所述覆盖板包括从中穿过而形成的开口。所述开口平行于所述第一流孔和所述第二流孔。密封板容积至少部分地由所述主体、所述下部板和所述覆盖板限定。轴穿过所述覆盖板中的所述开口设置。密封板设置在所述密封板容积中。所述轴刚性地耦接到所述密封板的第一表面。所述密封板围绕所述轴的轴线旋转。当所述密封板关闭时，所述密封板覆盖所述第一流孔和所述第二流孔。

在又一个实施方式中，提供了一种用于处理衬底的系统。所述系统包括远程等离子体源、工艺腔室和隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述工艺腔室之间并耦接到所述远程等离子体源和所述工艺腔室。所述隔离装置包括主体，所述主体具有从中穿过而形成的第一流孔。下部板耦接到所述主体。第二流孔穿过所述下部板形成。所述第一流孔的中心轴线与所述第二流孔的中心轴线基本上对准。覆盖板耦接到所述主体，并且开口穿过所述覆盖板形成。所述开口平行于所述第一流孔和所述第二流孔。密封板容积至少部分地由所述主体、所述下部板和所述覆盖板限定；轴穿过所述覆盖板中的所述开口设置。密封板设置在所述密封板容积中并且具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述轴刚性地耦接到所述密封板的所述第一表面，所述密封板被配置为围绕所述轴的轴线旋转。当所述密封板关闭时，所述密封板覆盖所述第一流孔和所述第二流孔。

附图说明

为了能够详细地理解本公开的上述特征的方式，可以参考实施方式来提供以上简要地概述的本公开的更特定的描述，实施方式中的一些在附图中示出。然而，应注意，附图仅示出了示例性实施方式，并且因此不应视为对范围的限制，因为本公开可以允许其他等效实施方式。

图1是利用远程等离子体源的处理设备的示意图。

图2是根据一个实施方式的隔离装置的剖视图。

图3是根据一个实施方式的隔离装置的等距视图。

图4是根据一个实施方式的示例性关闭机构的等距视图。

图5A是根据一个实施方式的在关闭位置的阀的示意性平面图。

图5B是根据一个实施方式的在打开位置的阀的示意性平面图。

为了便于理解，已经尽可能地使用相同的附图标记标示各图共有的相同元件。设想的是，一个实施方式的要素和特征可以有益地并入其他实施方式，而不进一步叙述。

具体实施方式

本文所描述的实施方式涉及一种用于将处理系统内的腔室与流线隔离的设备。尽管本文描述包括远程等离子体腔室，但是所述设备可用于隔离进入或离开衬底工艺腔室的任何流线。

图1是利用远程等离子体源的示例性处理设备的示意图。在图1中，处理设备100包括通过导管108a、108b耦接到工艺腔室106的远程等离子体源102。隔离装置104(诸如阀)设置在远程等离子体源102与工艺腔室106之间。隔离装置104通过导管108a、108b与远程等离子体源102和工艺腔室106流体连通。在处理期间，可以中断流体(即，气体)通过隔离装置104，以将工艺腔室106与远程等离子体源102隔离。通过打开隔离装置104以允许流体从中通过，由远程等离子体源102产生的气体自由基、气体离子或这两者可以从远程等离子体源102流出、通过导管108a、108b和隔离装置104并且进入工艺腔室106。仅出于说明目的而公开示例性处理设备100。其他配置或类型的工艺腔室可以与本文所描述的实施方式一起使用。

图2是隔离装置200的剖视图。隔离装置200设置在工艺腔室106与远程等离子体源102之间。隔离装置200包括主体202，所述主体202具有从中穿过而形成的流孔204。在一个实施方式中，主体202由金属材料(诸如铝或其合金)构成。其他合适的材料包括基本上耐受通过流孔204的气体、离子或自由基的腐蚀、侵蚀或与之的反应性的材料。在一个实施方式中，流孔204具有圆形横截面。在另一个实施方式中，流孔204可以具有不同的横截面，诸如矩形横截面。远程等离子体源102通过流孔204和穿过下部板236形成的第二流孔230与工艺腔室106的工艺容积流体连通。第二流孔230与流孔204对准。下部板236覆盖主体202的面向工艺腔室106的一侧。当主体202和下部板236附接到工艺腔室106时，第二流孔230与腔室流口(未示出)对准。凹槽235形成在主体202的面向工艺腔室106的表面233中。密封板容积214至少部分地由凹槽235和下部板236限定。流孔204的中心线238和第二流孔230的中心线240平行并基本上对准。流孔204和第二流孔230流体地连接到密封板容积214。覆盖物246耦接到主体202并部分地限定密封板容积214。

关闭机构206部分地设置在主体202内。关闭机构206包括耦接到轴210的密封板208。密封板208设置在密封板容积214内。关闭机构206的轴210从密封板208延伸而穿过穿过主体202形成的开口212并穿过覆盖物246中的开口242。轴终止在主体202的外部。轴210的第一端部222设置在主体202内并耦接到密封板208。轴210的第二端部228设置在主体202和覆盖物246外，与第一端部222相对。关闭机构206由金属材料(诸如铝)制成，但是也可以使用耐受通过流孔204的气体、离子或自由基的腐蚀、侵蚀或与之的反应性的其他材料。

覆盖物246设置在主体202中的开口212之上。开口212的大小设定为允许密封板208进入和离开密封板容积214。覆盖物246通过例如带螺纹紧固件229耦接到主体202，其中密封件250设置在主体202与覆盖物246之间。密封件250(例如，设置在槽中的O形环)阻止工艺气体在主体202与覆盖物246之间的界面处泄漏。覆盖物246和关闭机构206可从隔离装置202移除以进行维护，而无需将主体202与远程等离子体源102或工艺腔室106分离。因此，极大地减少维护隔离装置200所需的时间，这增加了与之耦接的处理系统的利用。尽管如图所示，覆盖物246使用带螺纹紧固件229耦接到主体202，但是可以利用能够将覆盖物246耦接到主体202的任何机构，诸如闩锁、粘结或钎焊。

密封件232和轴承244围绕轴210设置在开口242中，以阻止工艺气体通过开口242从密封板容积214泄漏。在某些实施方式中，密封件232可以是由被选择用于通过与流过隔离装置200的工艺气体反应来减少密封件232的劣化的材料制成的O形环。与密封件232相邻地设置的轴承244使得轴210能够在开口242内移动并使得耦接到轴210的密封板208能够在密封板容积214内移动。在某些实施方式中，轴承244包括一个或多个滚珠轴承，以促进密封机构206在密封板容积214内的旋转运动和线性运动。

横臂216耦接到轴210的从覆盖物246向外地延伸的一部分。横臂216固定到轴210，使得横臂216围绕轴210的轴线的旋转引起轴210的旋转并引起密封板208在密封板容积214内围绕轴210的轴线摆动。轮218邻近横臂216的一端可旋转地耦接到横臂216。凹槽220、302、304(图3)形成在覆盖物246的外表面248中并提供棘爪，轮218可以安置在其中。尽管凹槽220、302、304(图3)是跨覆盖物246的上部外表面248延伸的沟槽，但是所述沟槽220、302、304可以较短或可以是从外表面248向内地延伸的简单的半球形棘爪，并且轮218可以用固定在从横臂216朝覆盖物246延伸的短轴(未示出)中的旋转球(未示出)代替。

密封板208包括一对同心地对准的密封件226a、226b，所述一对同心地对准的密封件设置在形成在密封板208的面向第二流孔230的表面227中的同心密封环槽中。密封件226a、226b被配置为用形成在其中的密封槽和下部板236的面向密封板容积214的表面234抵靠表面227进行密封。在一个实施方式中，在关闭机构206在打开位置和关闭位置之间移动期间，其中设置有密封件226、226b的槽为燕尾榫形以保持密封件226a、226b。

当密封板208在关闭位置时，如图3所示，两个密封件226a、226b包围第二流孔230并在密封板208的表面227与下部板236的表面234之间在从第二流孔230径向第向外的位置处形成密封。因此，密封件226a、226b各自具有比第二流孔230的周长大的周长。密封件226a环绕第二流孔230并被称为主密封件。密封件226b环绕密封件226a并被称为保护性密封件。因此，密封件226a具有比第二流孔230的周长大的周长，并且密封件226b具有比密封件226a和第二流孔230两者的周长大的周长。在某些实施方式中，密封件226a、226b是O形环。O形环可以包括聚合物材料、石油基材料或橡胶(诸如丁腈橡胶)。一般相对于将流过流孔204、230的工艺气体来选择O形环的材料，以便最小化因与工艺气体的反应而造成的密封件226a、226b的劣化。

偏置构件224与轴210相邻地设置在主体202的外部。偏置构件224在下部板236的面向内表面234的方向上向关闭机构206以及因此密封板208提供力。密封件226a、226b在密封槽的表面与密封板208的表面234之间被压缩以确保第二流孔230与密封板容积214之间的气密密封。偏置构件224被配置为在一方向上提供力，使得在关闭位置当密封板208定位在第二流孔230之上时，以及在图5B中所示的其中密封板208在打开位置的第二位置，密封件226a、226b接触下部板236的表面234。

帽盖(未示出)(诸如螺母)设置在偏置构件224上方。帽盖在所述帽盖的下表面与横臂216的上表面252之间压缩偏置构件224。帽盖使得能够调整(例如，增大或减小)偏置构件224的偏置以及施加到关闭装置206的合力。在某些实施方式中，偏置构件224是弹簧，并且帽盖是由带螺纹螺柱(未示出)耦接覆盖物246的螺母。帽盖保持固定，而同时偏置构件224和与之耦接的关闭机构206可旋转地和线性地移动，以维持作用在关闭机构206上的力。通过沿着带螺纹螺柱向上或向下移动螺母来增大或减小螺母与设置有弹簧的横臂216的表面252之间的距离，调整所述弹簧的偏置。由偏置构件224提供的力被配置为当密封板208在关闭位置时承受由密封板容积214中的压力与第二流孔230中的压力之间的压力差产生的作用在密封板208上的反作用力。

图3是隔离装置200的透视剖切图。主体202的剖切图部分地示出密封板208和轴210。横臂216和与之耦接的轮218设置在主体202以及覆盖物246的外表面248的外部。类似于图2的凹槽220，凹槽302和304设置在覆盖物246的外表面248中。为了关闭机构206的移动的清楚起见，图3中未示出偏置构件224。致动器306和连杆308耦接到横臂216。在图3的实施方式中，致动器306包括耦接到滑轮310的电机。连杆308是在轴210的一侧上耦接到横臂216的第一部分312的线缆。连杆308围绕滑轮310行进一圈或多圈，并且在轴210的与第一部分312相对的一侧上连接到横臂216的第二部分314。

在一个实施方式中，致动器306是将旋转运动施加到滑轮310的步进电机。旋转运动包括顺时针和逆时针运动两者。当致动器306在任一方向上旋转时，旋转运动产生扭矩，所述扭矩被施加到滑轮310和耦接到滑轮310的连杆308。扭矩由连杆308传递到横臂216。因此，致动器306的旋转运动将力施加到横臂216的部分312、314中的一个。由致动器306施加到横臂216的部分312、314的力在关闭机构206的轴210中引起围绕轴210的轴线的旋转。就像致动器306一样，轴210的最终旋转可以是顺时针或逆时针的。轴210和横臂216的旋转运动导致轮218围绕轴210的轴线在凹槽302和304之间经过弧R。当轮218经过弧R时，轮218从凹槽302、304中的任一个脱离。当轮218重新安置在两个凹槽302、304中的任一个中时，轴210和横臂216的旋转运动就会停止。凹槽302、304阻止关闭机构206的旋转，而无需致动器306的接合。

当致动器306被接合时，轮218和凹槽302、304中的一个的壁的相互作用提供提升力，所述提升力由轮218在凹槽302、304中向上地爬升以接合在覆盖物246的外表面248上并滚过所述外表面248而引起。提供给轮的提升力与由偏置构件224(图2中所示)产生的力相反。由偏置构件224提供的力使得轮能够保持与覆盖物246的外表面248的接触，而同时轮经过跨外表面248的弧R。因此，当轮218经过凹槽302或304的壁时，横臂216和轴210最初由轮218向上并远离外表面248抬起。轮218沿弧R行进，直到到达另一个凹槽302或304。在进入另一个凹槽302或304时，轮218通过偏置构件224(图2中所示)的向下偏置而安置在凹槽302或304中。因此，当轮218经过凹槽302或304的壁时，横臂216和轴210朝向下部板236移动。一旦轮安置在凹槽302或304中，致动器306就停止旋转。在某些实施方式中，包括传感器和耦接到隔离装置200的控制器的控制系统(未示出)选择性地接合致动器306以将隔离装置200自动地定位为打开或关闭。

轴210固定到横臂216和密封板208两者。因此，密封板208的移动与横臂216的移动基本上相同。当致动器306被接合以在一个方向上或另一个方向上旋转时，密封板208和设置在其中的密封件226a、226b从下部板236的表面234抬离，在与轴210的方向类似的方向上旋转，并且以与横臂216从覆盖物246的外表面248抬离类似的方式朝向表面234下降，在与轴的方向类似的方向上旋转，并且朝向外表面248下降。包括设置在其中的密封件226a、226b的密封板208围绕轴210的轴线旋转。另外地，轮218的运动引起密封板208和密封件226a、226b从下部板236的表面234抬离，这在下部板236的表面234与密封件226a、226b和密封板208之间产生小的间隙。所述间隙为密封板208和密封件226a、226b提供余隙，以与轴210一起旋转，而无需接触下部板236的表面234。在密封件226a、226b的移动期间，在密封件226a、226b与邻接表面(除了密封槽表面之外)之间的接触可能损坏密封件226a、226b。轴210的旋转移动和密封板208通过弧的摆动使得隔离装置200能够选择性地定位在打开位置和关闭位置，而密封板208的表面227不摩擦下部板236的表面234。参照图5A和图5B提供了打开位置和关闭位置的详细描述。

致动器306和连杆308不限于滑轮-线缆的组合。在某些实施方式中，连杆308可以是第二臂，所述第二臂耦接在致动器306与横臂216之间，以推动和拉动横臂216的一端并由此旋转轴210。在另外的实施方式中，致动器306可以是直接地耦接到横臂216的线性致动器。在又另外的实施方式中，致动器306可以直接地耦接到轴210。可以利用向关闭机构206提供旋转运动的任何装置。

图4是示例性关闭机构206的透视图。关闭机构206包括耦接到密封板208的轴210。在此实施方式中，轴210在密封板208的一端附近耦接到密封板208。设想的是，轴210可以在不同位置处耦接到密封板208，只要主体中的凹槽235(图1中所示)的大小足以使得密封板208能够在密封板容积214中旋转而不与密封板容积214的侧壁接触即可。例如，轴210可以在密封板208的中心附近耦接到密封板208。为了简洁起见，以简化的几何形状示出了图4的关闭机构206。应理解，关闭机构206、特别是密封板208的形状可以不同。例如，密封板208可以被配置为从上表面到下表面具有一定锥度，以便最小化隔离装置200的大小。此外，密封板208可以是矩形盒、圆柱体等。

图5A和图5B是隔离装置200的一部分的俯视平面图。示出了包围关闭机构206并至少部分地限定密封板容积214的边界。密封板208(描绘为矩形)耦接到轴210并围绕轴210旋转。用虚线指示的密封件226a、226b设置在与轴210相对的密封板208中的凹槽(未示出)中。穿过下部板236形成的第二流孔230(如图2所示)在密封板容积214的边界内。

在图5A中，密封板208覆盖第二流孔230。用虚线指示的密封件226a、226b环绕第二流孔230(也用虚线指示)，并且在从第二流孔230径向地向外并包围所述第二流孔230的位置处接触下部板236的表面234。在此位置(也被称为关闭位置)，密封件226a、226b围绕第二流孔230形成气密密封，并且密封第二流孔230以使其与密封板容积214和流孔204(在图2中示出)隔绝。因此，密封板208和密封件226a、226b阻止诸如图1中所示的远程等离子体源102的输出的工艺气体向工艺腔室106的工艺容积的流动。相反地，在关闭位置由密封件226a、226b形成的密封将远程等离子体源102与工艺腔室106的工艺容积隔离。

在图5B中，密封板208不覆盖第二流孔230。这被称为打开位置。密封板208从表面234抬起并旋转远离第二流孔230。一旦密封板208旋转远离第二流孔230，密封板208就朝表面234下降。使密封板208远离第二流孔230移动使得能够在第二流孔230、密封板容积214和流孔204(图2中示出)之间实现流体连通。在打开位置，密封件226a、226b接触表面234的与当密封板在打开位置时不同的部分。即，在打开位置，密封件226a、226b不包围第二流孔230。

在打开位置和关闭位置两者，密封件226b至少部分地围绕密封件226a形成密封环状容积。即，在密封件226a与密封件226b之间形成环状容积。当关闭机构在打开位置时，环状容积阻止密封件226a暴露于由远程等离子体源102产生的气体自由基、气体离子或这两者。密封件226b通过最小化因暴露于远程等离子体源102的输出而造成的主密封件226a的劣化来增大用于主密封件226a的修理或更换的维护间隔。在某些实施方式中，在密封板208与下部板236的表面234之间维持小的间隙，诸如在约10密耳与约20密耳之间，以阻止由密封板208与表面234之间的接触引起的污染物颗粒的产生。

隔离装置200被定位在如图5B所示的打开位置或处于如图5A所示的关闭位置，以选择性地使得来自远程等离子体源102的气体自由基、气体离子或这两者能够流过隔离装置200。本文所描述的实施方式有利地增大隔离装置200的密封件的维护间隔，从而增大隔离装置200的维护间隔。本文的实施方式通过简化隔离装置的设计并最小化形成隔离装置所需的部件数量，进一步减少用于处理系统中的隔离装置的必要维护。因此，本文的实施方式提高与本文所描述的隔离装置耦接的工艺腔室的生产利用率。应理解，本文所描述的实施方式不限于示例性处理系统。其中一个容积要与另一个容积隔离的任何系统都可以从本文所描述的实施方式中受益。

尽管前述内容针对的是本公开的实施方式，但是在不脱离本公开的基本范围的情况下，可以设想本公开的其他和进一步实施方式，并且本公开的范围由所附权利要求书确定。

Claims (19)

1.一种隔离装置，包括：

主体，所述主体具有从中穿过而形成的流孔；

覆盖板，所述覆盖板耦接到所述主体，所述覆盖板具有穿过所述覆盖板的开口和在所述覆盖板的表面中的凹槽；

关闭机构，所述关闭机构能枢转地设置在所述主体内，所述关闭机构包括：

轴，所述轴穿过所述覆盖板的所述开口设置；以及

密封板，所述密封板耦接到所述轴；

横臂，所述横臂耦接到与所述密封板相对且在所述主体的外部的所述轴，所述横臂被配置为选择性地旋转所述关闭机构的所述轴和所述密封板；以及

轮，所述轮可旋转地耦接到所述横臂，当所述密封板关闭时，所述轮设置在所述凹槽中。

2.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体和所述关闭机构包括金属材料。

3.如权利要求2所述的隔离装置，其中所述金属材料包括铝。

4.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括：

偏置构件，所述偏置构件耦接到所述横臂并且被配置为在沿所述轴且朝向所述密封板的方向上向所述横臂提供力。

5.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括偏置构件，所述偏置构件耦接到所述横臂。

6.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括第一密封件和包围所述第一密封件的第二密封件，所述第一密封件和所述第二密封件设置在所述关闭机构的所述密封板中。

7.如权利要求6所述的隔离装置，其中当所述关闭机构被定位成围绕所述流孔形成密封时，所述第一密封件和所述第二密封件包围所述流孔。

8.一种隔离装置，包括：

主体，所述主体具有穿过所述主体形成的第一流孔；

下部板，所述下部板耦接到所述主体；

第二流孔，所述第二流孔穿过所述下部板形成，所述第一流孔的中心轴线与所述第二流孔的中心轴线基本上对准；

覆盖板，所述覆盖板耦接到所述主体，所述覆盖板具有穿过所述覆盖板形成的开口和在所述覆盖板的表面中的凹槽，所述开口平行于所述第一流孔和所述第二流孔；

密封板容积，所述密封板容积至少部分地由所述主体、所述下部板和所述覆盖板限定；

轴，所述轴穿过所述覆盖板中的所述开口设置；

密封板，所述密封板设置在所述密封板容积中并耦接到所述轴，所述密封板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述轴刚性地耦接到所述密封板的所述第一表面，所述密封板被配置为围绕所述轴的轴线旋转，当所述密封板关闭时，所述密封板覆盖所述第一流孔和所述第二流孔；

横臂，所述横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴；以及

轮，所述轮可旋转地耦接到所述横臂，当所述密封板关闭时，所述轮设置在所述凹槽中。

9.如权利要求8所述的隔离装置，进一步包括：

一个或多个密封槽，所述一个或多个密封槽形成在所述密封板的所述第二表面中；以及

一个或多个密封件，所述一个或多个密封件设置在所述一个或多个密封槽中。

10.如权利要求9所述的隔离装置，其中当所述密封板覆盖所述第二流孔时，所述一个或多个密封件包围所述第二流孔。

11.如权利要求9所述的隔离装置，其中当所述密封板关闭时，所述一个或多个密封槽和所述一个或多个密封件包围所述第二流孔。

12.如权利要求9所述的隔离装置，其中所述轮从所述凹槽脱离并在所述覆盖板上围绕所述轴的所述轴线经过弧形。

13.如权利要求8所述的隔离装置，进一步包括：致动器，所述致动器耦接到所述轴。

14.一种用于处理衬底的系统，包括：

远程等离子体源；

工艺腔室；以及

隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述工艺腔室之间并与所述远程等离子体源和所述工艺腔室耦接，所述隔离装置包括：

主体，所述主体具有穿过形成的第一流孔；

下部板，所述下部板耦接到所述主体；

第二流孔，所述第二流孔穿过所述下部板形成，所述第一流孔的中心轴线与所述第二流孔的中心轴线基本上对准；

覆盖板，所述覆盖板耦接到所述主体，所述覆盖板具有穿过所述覆盖板形成的开口和在所述覆盖板的表面中的凹槽，所述开口平行于所述第一流孔和所述第二流孔；

密封板容积，所述密封板容积至少部分地由所述主体、所述下部板和所述覆盖板限定；

轴，所述轴穿过所述覆盖板中的所述开口设置；

密封板，所述密封板设置在所述密封板容积中并耦接到所述轴，所述密封板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述轴刚性地耦接到所述密封板的所述第一表面，所述密封板被配置为围绕所述轴的轴线旋转，当所述密封板关闭时，所述密封板覆盖所述第一流孔和所述第二流孔；

横臂，所述横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴；以及

轮，所述轮可旋转地耦接到所述横臂，当所述密封板关闭时，所述轮设置在所述凹槽中。

15.如权利要求14所述的系统，进一步包括：

一个或多个密封槽，所述一个或多个密封槽形成在所述密封板的所述第二表面中；以及

一个或多个密封件，所述一个或多个密封件设置在所述一个或多个密封槽中。

16.如权利要求15所述的系统，其中当所述密封板覆盖所述第二流孔时，所述一个或多个密封件包围所述第二流孔。

17.如权利要求15所述的系统，其中当所述密封板关闭时，所述一个或多个密封槽和所述一个或多个密封件包围所述第二流孔。

18.如权利要求15所述的系统，进一步包括：

凹槽，所述凹槽形成在所述覆盖板的表面中；

横臂，所述横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴；以及

轮，所述轮可旋转地耦接到所述横臂并设置在所述凹槽中，当所述密封板关闭时，所述轮设置在所述凹槽中，

其中所述轮从所述凹槽脱离并在所述覆盖板上围绕所述轴的所述轴线经过弧形。

19.如权利要求14所述的系统，进一步包括：致动器，所述致动器耦接到所述轴。