JP2020525858A5

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Publication number: JP2020525858A5
Application number: JP2020500077A
Authority: JP
Filing date: 2018-07-03
Publication date: 2020-10-15
Anticipated expiration: 2038-07-03

Claims

人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを含む一対の眼鏡の仮想適合化のためのコンピュータ実施方法において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、方法。
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義されることを特徴とする請求項１に記載の方法であって、前記第１の測定点を判断する工程は、前記標準頭上で定義された前記第２の測定点を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する工程（１２５）を含む、方法。
前記第１の測定点を判断する工程は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
前記第１の測定点を判断する工程は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する工程（１２６）を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを含む一対の眼鏡の仮想適合化のためのコンピュータ実施方法において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する前記処理後に、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点の位置に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）上に前記第１の測定点を設定する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、方法。
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義されることを特徴とする請求項５に記載の方法において、前記第１の測定点を設定する工程は、前記標準頭上で定義された前記第２の特徴を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する工程（１２５）を含む、方法。
前記第１の測定点を設定する工程は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
前記第１の測定点を設定する工程は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する工程（１２６）を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを含む一対の眼鏡の仮想適合化のためのコンピュータ実施方法において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、方法であって、
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義され、
前記第１の測定点を判断する工程は、前記標準頭上で定義された前記第２の特徴を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する工程（１２５）を含み、
前記第１の測定点を判断する工程は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する工程又は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する工程（１２６）を追加的に含む、方法。
前記頭の前記３Ｄモデルの領域を識別する特徴を形成するために複数の第１の測定点を組み合わせること（１２７）により特徴付けられる請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法。
前記組み合わせることは幾何学図形又は関数を前記複数の測定点へ適合化することを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
前記３Ｄモデルの前記領域は鼻翼、額の曲率、眉毛又は頬領域を含むことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の方法。
前記３Ｄモデルの少なくとも１つの別の測定点を前記第１の測定点に基づき計算することにより特徴付けられる請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の方法。
前記眼鏡フレームの前記モデルはパラメトリックフレームモデルを含むことと、前記適合化する工程は前記パラメトリックフレームモデルの１つ又は複数のパラメータを前記第１の測定点に基づき判断する工程を含むこととを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
前記眼鏡フレームの前記モデルはパラメトリックフレームモデルを含むことと、前記適合化する工程は前記パラメトリックフレームモデルの１つ又は複数のパラメータを前記特徴に基づき判断する工程を含むこととを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の方法。
前記方法は前記パラメトリック頭モデル（１２１）上の前記第２の測定点を定義する工程（１２３）をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の方法。
プロセッサ（１２）上で実行されると請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行うプログラムコードを含むコンピュータプログラム。
コンピュータによりプログラムが実行されると前記コンピュータに請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行わせる指示を含むコンピュータプログラム。
コンピュータによりプログラムが実行されると、前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータプログラムにおいて、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記第１の測定点を前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき判断する工程（１２５，１２６）とを特徴とする、コンピュータプログラム。
コンピュータによりプログラムが実行されると前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータプログラムにおいて、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する前記処理後に、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点の位置に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）上に前記第１の測定点を設定する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、コンピュータプログラム。
コンピュータによりプログラムが実行されると前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータプログラムにおいて、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、コンピュータプログラムであって、
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義され、
前記第１の測定点を判断する工程は、前記標準頭上で定義された前記第２の特徴を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する工程（１２５）を含み、
前記第１の測定点を判断する工程は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する工程又は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する工程（１２６）を追加的に含む、コンピュータプログラム。
コンピュータにより実行されると前記コンピュータに請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行わせる指示を含むコンピュータ可読記憶媒体。
コンピュータによりプログラムが実行されると、前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータ可読記憶媒体において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記第１の測定点を前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき判断する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、コンピュータ可読記憶媒体。
コンピュータによりプログラムが実行されると前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータ可読記憶媒体において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する前記処理後に、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点の位置に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）上に前記第１の測定点を設定する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、コンピュータ可読記憶媒体。
コンピュータによりプログラムが実行されると前記コンピュータに、人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する工程と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する工程（１２８）とを行わせる指示を含むコンピュータ可読記憶媒体において、
前記第１の測定点を定義する工程は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する工程（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する工程（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、コンピュータ可読記憶媒体であって、
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義され、
前記第１の測定点を判断する工程は、前記標準頭上で定義された前記第２の特徴を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する工程（１２５）を含み、
前記第１の測定点を判断する工程は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する工程又は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する工程（１２６）を追加的に含む、コンピュータ可読記憶媒体。
請求項１７乃至２１のいずれか一項に記載のコンピュータプログラムが格納されるコンピュータ可読データ媒体。
請求項１７乃至２１のいずれか一項に記載のコンピュータプログラムが格納されるメモリ（１３）と前記コンピュータプログラムを実行するためのプロセッサ（１２）とを含む装置（１０）。
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行う手段を含むデータ処理のための装置。
人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する手段と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する手段（１２８）と含むデータ処理のための装置において、
前記第１の測定点を定義する前記手段はパラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する手段（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する手段（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、装置。
人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する手段と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する手段（１２８）とを含むデータ処理のための装置において、
前記第１の測定点を定義する手段は、パラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する手段（１２４）と、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する前記処理後に、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点の位置に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）上に前記第１の測定点を設定する手段（１２５，１２６）とを含むことを特徴とする、装置。
人の頭の３Ｄモデル（１２２）上の第１の測定点であって一対の眼鏡のその後の適合化に使用され得るモデル上の測定点を定義する手段と、眼鏡フレームのモデル（１２０）を前記第１の測定点に基づき前記頭の前記３Ｄモデル（１２２）へ適合化する手段（１２８）とを含むデータ処理のための装置において、
前記第１の測定点を定義する前記手段はパラメトリック頭モデルを前記人の頭の前記３Ｄモデルへ適合化する手段（１２４）と、前記パラメトリック頭モデル上に定義された第２の測定点、及び、前記パラメトリック頭モデルを前記頭の前記３Ｄモデルへ前記適合化する工程に基づき前記第１の測定点を判断する手段（１２５，１２６）とを特徴とする、装置であって、
前記第２の測定点は前記パラメトリック頭モデルの標準頭上で定義され、
前記第１の測定点を判断する前記手段は、前記標準頭上で定義された前記第２の特徴を前記適合化に従って前記適合化されたパラメトリック頭モデルへ転送する手段（１２５）を含み、
前記第１の測定点を判断する前記手段は前記第１の測定点として前記転送された第２の測定点を使用する手段又は前記転送された第２の測定点を前記頭の前記３Ｄモデル上へ投影する手段（１２６）を追加的に含む、装置。
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行うように構成されたプロセッサを含むデータ処理のための装置。
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法を行う工程と眼鏡フレームの前記適合化されたモデルに基づき前記眼鏡フレームを製造する工程とを含む眼鏡フレームを製造する方法。