JP2020524814A - 放射源モジュール及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] この出願は、2017年6月23日に出願された米国出願第62/523,911号及び2017年10月6日に出願された米国出願第62/569,105号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
燃料を供給するように構成された燃料供給デバイスと、
燃料をプラズマに励起するように構成された励起デバイスと、
プラズマにより放出された放射を収集し、放射をビーム出口に誘導するように構成されたコレクタと、
プラズマにより生成されたデブリを収集するように構成され、その中を通過する導管を有するコンポーネントを有するデブリ軽減システムと、
導管中を循環する熱伝導流体を選択的に加熱又は冷却することによって、コンポーネントの温度を選択的に上昇又は低下させるように構成された温度制御システムと、
を備えた放射源が提供される。
間にギャップが画定される第1の壁層と第2の壁層とを備え、第1の壁層が熱源に曝され、第2の壁層が冷却源に曝された真空チャンバ壁と、
ギャップに接続され、ギャップにガスを供給するように構成されたガス供給デバイスと、
ガス供給デバイスに接続され、真空チャンバ壁を横切る熱流を制御するようにギャップ内のガスの圧力を制御するように構成されたコントローラと、
を備えた真空チャンバが提供される。
[条項1]
間にギャップが画定される第1の壁層と第2の壁層とを備え、前記第1の壁層が熱源に曝され、前記第2の壁層が冷却源に曝された真空チャンバ壁と、
前記ギャップに接続され、前記ギャップにガスを供給するように構成されたガス供給デバイスと、
前記ガス供給デバイスに接続され、前記真空チャンバ壁を横切る熱流を制御するように前記ギャップ内の前記ガスの圧力を制御するように構成されたコントローラと、
を備えた真空チャンバ。
[条項2]
前記コントローラが、前記ギャップ内の前記ガスの圧力を0.01Paから500Paの範囲内に制御するように構成される、条項1に記載の真空チャンバ。
[条項3]
前記ギャップが、1から10mm、望ましくは2から5mmの範囲内の幅を有する、条項1又は2に記載の真空チャンバ。
[条項4]
前記ガス供給デバイスが、水素、ヘリウム、窒素、アルゴン、及びこれらの混合物から構成される群から選択されたガスを供給するように構成される、条項1、2又は3のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項5]
前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、アルミニウム、モリブデン、タングステン、スチール、銅、ニッケル及びこれらの混合物から構成される群から選択された材料から作られる、条項1から4のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項6]
前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、炭化ホウ素、グラファイト、及び石英から構成される群から選択された材料から作られる、条項1から4のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項7]
前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、前記ギャップを画定する表面上に複数の羽根を有する、条項1から6のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項8]
前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、少なくとも1つの羽根を横切る溝を有する、条項7に記載の真空チャンバ。
[条項9]
前記ギャップが複数のセクションに分割され、前記コントローラが前記ガスの圧力をセクションごとに独立に制御するように構成される、条項1から8のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項10]
前記ガス供給デバイスが、前記ギャップへの前記ガスの流入を制御するバルブを備え、前記コントローラが前記バルブを制御するように構成される、条項1から9のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項11]
前記ギャップに接続され、前記ギャップからガスを抽出するように構成された真空ポンプをさらに備え、前記コントローラが前記真空ポンプを制御するように構成される、条項1から10のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
[条項12]
前記第1の壁層を前記真空チャンバ壁の隣接部から隔絶する熱バリアをさらに備えた、条項1から11のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
Claims (27)
- 燃料を供給するように構成された燃料供給デバイスと、
前記燃料をプラズマに励起するように構成された励起デバイスと、
前記プラズマにより放出された放射を収集し、前記放射をビーム出口に誘導するように構成されたコレクタと、
前記プラズマにより生成されたデブリを収集するように構成され、その中を通過する導管を有するコンポーネントを有するデブリ軽減システムと、
前記導管中を循環する熱伝導流体を選択的に加熱又は冷却することによって、前記コンポーネントの温度を選択的に上昇又は低下させるように構成された温度制御システムと、
を備えた放射源。 - 前記温度制御システムが、前記燃料の融点より低い第1の温度に前記コンポーネントを冷却する第1のモードで動作可能であり、前記燃料の融点より高い第2の温度に前記コンポーネントを加熱する第2のモードで動作可能である、請求項1に記載の放射源。
- 前記熱伝導流体が水を含む、請求項1又は2に記載の放射源。
- 前記熱伝導流体が、大気圧より高い、望ましくは20バールより高い圧力である、請求項3に記載の放射源。
- 前記熱伝導流体が、本質的に空気、人口空気、又は窒素から構成される、請求項1に記載の放射源。
- 前記温度制御システムが、前記コンポーネントから戻ってくる熱伝導流体から前記コンポーネントに向かっていく熱伝導流体に熱を伝達するように構成された熱交換器を備える、請求項5に記載の放射源。
- 前記温度制御システムが、前記熱交換器の低温側に能動的流れ制御デバイスを備える、請求項6に記載の放射源。
- 前記コレクタ及び前記デブリ軽減システムを取り囲む真空チャンバをさらに備え、前記温度制御システムの全ての能動的流れ制御デバイスが前記真空チャンバの外側にある、請求項1から7のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記コンポーネントが、放射源チャンバ壁と、オブスキュレーション部材と、スクラバと、羽根と、熱シールドと、燃料供給軌道のための側板と、液滴キャッチャと、デブリバケットとから構成される群から選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記デブリ軽減システムが、それぞれがその中を通過する導管を有する複数のコンポーネントを備え、前記温度制御システムが、前記熱伝導流体を各コンポーネントに循環させるように構成された複数の独立制御可能な回路を備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記複数の独立制御可能な回路が、第1のコンポーネントのセットを前記燃料の融点より低い温度に維持し、第2のコンポーネントのセットを前記燃料の融点より高い温度に維持するように構成された第1の回路を備える、請求項10に記載の放射源。
- 前記デブリ軽減システムが、それぞれがその中を通過する導管を有する複数のコンポーネントを備え、前記温度制御システムが、前記熱伝導流体を前記複数のコンポーネントに順次循環させるように構成された回路を備える、請求項1から11のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記燃料供給デバイスが、前記燃料としてスズの液滴を供給するように構成された液滴生成器を備える、請求項1から12のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記励起源がレーザを含む、請求項1から13のいずれか一項に記載の放射源。
- 請求項1から14のいずれか一項に記載の放射源と、
パターニングデバイスを前記放射源からの放射で照明するように構成された照明システムと、
前記パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置された投影システムと、
を備えたリソグラフィ装置。 - 間にギャップが画定される第1の壁層と第2の壁層とを備え、前記第1の壁層が熱源に曝され、前記第2の壁層が冷却源に曝された真空チャンバ壁と、
前記ギャップに接続され、前記ギャップにガスを供給するように構成されたガス供給デバイスと、
前記ガス供給デバイスに接続され、前記真空チャンバ壁を横切る熱流を制御するように前記ギャップ内の前記ガスの圧力を制御するように構成されたコントローラと、
を備えた真空チャンバ。 - 前記コントローラが、前記ギャップ内の前記ガスの圧力を0.01Paから500Paの範囲内に制御するように構成される、請求項16に記載の真空チャンバ。
- 前記ギャップが、1から10mm、望ましくは2から5mmの範囲内の幅を有する、請求項16又は17に記載の真空チャンバ。
- 前記ガス供給デバイスが、水素、ヘリウム、窒素、アルゴン、及びこれらの混合物から構成される群から選択されたガスを供給するように構成される、請求項16、17又は18のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、アルミニウム、モリブデン、タングステン、スチール、銅、ニッケル及びこれらの混合物から構成される群から選択された材料から作られる、請求項16から19のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、炭化ホウ素、グラファイト、及び石英から構成される群から選択された材料から作られる、請求項16から19のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、前記ギャップを画定する表面上に複数の羽根を有する、請求項16から21のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記第1の壁層及び/又は前記第2の壁層が、少なくとも1つの羽根を横切る溝を有する、請求項22に記載の真空チャンバ。
- 前記ギャップが複数のセクションに分割され、前記コントローラが前記ガスの圧力をセクションごとに独立に制御するように構成される、請求項16から23のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記ガス供給デバイスが、前記ギャップへの前記ガスの流入を制御するバルブを備え、前記コントローラが前記バルブを制御するように構成される、請求項16から24のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記ギャップに接続され、前記ギャップからガスを抽出するように構成された真空ポンプをさらに備え、前記コントローラが前記真空ポンプを制御するように構成される、請求項16から25のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
- 前記第1の壁層を前記真空チャンバ壁の隣接部から隔絶する熱バリアをさらに備えた、請求項16から26のいずれか一項に記載の真空チャンバ。
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