JP2020515675A - 変性剤、その製造方法、及びそれを含む変性共役ジエン系重合体 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 100
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 title claims abstract description 89
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 239000003607 modifier Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 412
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 215
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 99
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 78
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 63
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 55
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 54
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 52
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 45
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 41
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 40
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 39
- -1 naphthyl sodium Chemical compound 0.000 claims description 33
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 19
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 14
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000003398 denaturant Substances 0.000 claims description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 6
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BNHFWQQYLUPDOG-UHFFFAOYSA-N lithium;1,2,2,3-tetramethylpiperidine Chemical compound [Li].CC1CCCN(C)C1(C)C BNHFWQQYLUPDOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYOQEFGAZKEPGG-UHFFFAOYSA-N [Li]C1=CC=C(C)C=C1 Chemical compound [Li]C1=CC=C(C)C=C1 FYOQEFGAZKEPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SEVZJBPKDJZGFW-UHFFFAOYSA-N [Li]C1=CC=C(CCCC)C=C1 Chemical compound [Li]C1=CC=C(CCCC)C=C1 SEVZJBPKDJZGFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XAGXFZXSTCZIQR-UHFFFAOYSA-N [Li]C1CC(CCCCCCC)CC(CCCCCCC)C1 Chemical compound [Li]C1CC(CCCCCCC)CC(CCCCCCC)C1 XAGXFZXSTCZIQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFASRCHQAYIROH-UHFFFAOYSA-N [Li]C1CCCC1 Chemical compound [Li]C1CCCC1 LFASRCHQAYIROH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LEKSIJZGSFETSJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;lithium Chemical compound [Li]C1CCCCC1 LEKSIJZGSFETSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N lithium;hexane Chemical compound [Li+].CCCCC[CH2-] CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NRUBUZBAZRTHHX-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-2-ylazanide Chemical compound [Li+].CC(C)[NH-] NRUBUZBAZRTHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].CC[CH2-] XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims 5
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZATOFRITFRPYBT-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C([Li])=CC=CC2=C1 Chemical compound C1=CC=C2C([Li])=CC=CC2=C1 ZATOFRITFRPYBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 13
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 51
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 51
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 40
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 23
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 22
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 0 C*([*+])C#CN** Chemical compound C*([*+])C#CN** 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 13
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- DEZRYPDIMOWBDS-UHFFFAOYSA-N dcm dichloromethane Chemical compound ClCCl.ClCCl DEZRYPDIMOWBDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 9
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 9
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 9
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 9
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 8
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 6
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 4
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-M Thiocarbamate Chemical compound NC([S-])=O GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 4
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- DAVWIKFPVJMMPI-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)-1-trimethylsilylurea Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N(C(=O)N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](C)(C)C DAVWIKFPVJMMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLIAUZJAONZTQI-UHFFFAOYSA-N S-(3-triethoxysilylpropyl) N-(furan-2-ylmethyl)-N-trimethylsilylcarbamothioate Chemical compound O1C(=CC=C1)CN(C(SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=O)[Si](C)(C)C MLIAUZJAONZTQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-M carbamodithioate Chemical compound NC([S-])=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- HOWVIWPXYGVNLU-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)-(3-triethoxysilylpropyl)carbamodithioic acid Chemical compound CCO[Si](CCCN(C1=CC=C(C=C1)[N+](=O)[O-])C(=S)S)(OCC)OCC HOWVIWPXYGVNLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical group C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQRULOILNJZMCO-UHFFFAOYSA-N 1-(4-nitrophenyl)-3,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)-1-trimethylsilylthiourea Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C=C1)N(C(=S)N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](C)(C)C YQRULOILNJZMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZQFFWUJBWAAH-UHFFFAOYSA-N 1-(4-nitrophenyl)-3,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)-1-trimethylsilylurea Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C=C1)N(C(=O)N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](C)(C)C QLZQFFWUJBWAAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFGOCPZNLCBGEE-UHFFFAOYSA-N 1-(furan-2-ylmethyl)-3,3-bis(3-trimethoxysilylpropyl)-1-trimethylsilylurea Chemical compound O1C(=CC=C1)CN(C(=O)N(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC[Si](OC)(OC)OC)[Si](C)(C)C LFGOCPZNLCBGEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNSZPNSUQRUMS-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-4-ethenylbenzene Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1CCCCC1 VDNSZPNSUQRUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRRXUCMQOPNVAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-methylphenyl)benzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 RRRXUCMQOPNVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=C(C=C)C=C1 VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIEANVCCDIRIDJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-5-hexylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCC)=CC=CC2=C1C=C OIEANVCCDIRIDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJHUUQFZWUDMOX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)-1-trimethylsilylurea Chemical compound C(C)N(C(=O)N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](C)(C)C IJHUUQFZWUDMOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUNQKTCKURIZQX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)-2-methylpropane Chemical compound CCOCCOC(C)(C)C NUNQKTCKURIZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSBDTEMAXHVRBB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CCOCCN(C)C CSBDTEMAXHVRBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical compound CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanethiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCS LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFGLXKZGFFRQAR-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yltetrasulfanyl)propyl-trimethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(SSSSCCC[Si](OC)(OC)OC)=NC2=C1 HFGLXKZGFFRQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBDHRVNWYSKDOO-UHFFFAOYSA-N 3-(4-nitrophenyl)-1,1-bis(3-triethoxysilylpropyl)thiourea Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C=C1)NC(N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=S SBDHRVNWYSKDOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FONVZMUWQXEDRY-UHFFFAOYSA-N 3-(4-nitrophenyl)-1,1-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C=C1)NC(N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=O FONVZMUWQXEDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMXRPHMIOQYZOO-UHFFFAOYSA-N 3-(diethoxymethylsilyl)-N-[3-(diethoxymethylsilyl)propyl]-N-methylpropan-1-amine Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCN(C)CCC[SiH2]C(OCC)OCC YMXRPHMIOQYZOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOOUJXUUGIUEBC-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethoxymethylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCS LOOUJXUUGIUEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanopropyl(trimethoxy)silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]#[C-] BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUZXJDXXRRBNDZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1,1-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound C1(=CC=CC=C1)NC(N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=O HUZXJDXXRRBNDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSFMFCWJHYPFPG-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylthiirane-2-carboxylate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C1(C)CS1 ZSFMFCWJHYPFPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQIQHLDPTWNUOA-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl N-(4-nitrophenyl)-N-trimethylsilylcarbamodithioate Chemical compound CCO[Si](CCCSC(=S)N(C1=CC=C(C=C1)[N+]([O-])=O)[Si](C)(C)C)(OCC)OCC VQIQHLDPTWNUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWLKBUSRAMKHA-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl N-(furan-2-ylmethyl)-N-trimethylsilylcarbamodithioate Chemical compound CCO[Si](CCCSC(=S)N(CC1=CC=CO1)[Si](C)(C)C)(OCC)OCC ZMWLKBUSRAMKHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylthiirane-2-carboxylate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C1(C)CS1 AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyldec-5-ene Chemical compound CCCCC=C(C=C)CCCC UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXAFXHRAUBYNMP-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=NC(=CC=C1)C(C)(C)C.C(C)(C)(C)C1=NC(=CC=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=NC(=CC=C1)C(C)(C)C.C(C)(C)(C)C1=NC(=CC=C1)C(C)(C)C RXAFXHRAUBYNMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTHLOEDTQVAVRH-UFSYDLLYSA-N C/C(/CN=C=S)=C\C=C/O Chemical compound C/C(/CN=C=S)=C\C=C/O OTHLOEDTQVAVRH-UFSYDLLYSA-N 0.000 description 1
- ZSBKFEOSHGFEKJ-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2SC(SSSSCCC[SiH2]C(OC)OC)=NC2=C1 Chemical compound C1=CC=C2SC(SSSSCCC[SiH2]C(OC)OC)=NC2=C1 ZSBKFEOSHGFEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXLPVOKGQWNWFD-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC SXLPVOKGQWNWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZOXWBGGPBLVNQ-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[SiH2]C(OC)OC)=[S+]CCC[SiH2]C(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[SiH2]C(OC)OC)=[S+]CCC[SiH2]C(OC)OC ZZOXWBGGPBLVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001441571 Hiodontidae Species 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000254043 Melolonthinae Species 0.000 description 1
- OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N N-isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine Chemical compound C1=CC(NC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- WZBHJENIKYQMHC-UHFFFAOYSA-N [Li]CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound [Li]CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC WZBHJENIKYQMHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dien-2-ylbenzene Chemical compound C=CC(=C)C1=CC=CC=C1 IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920003211 cis-1,4-polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSYVJAOBRKCNOT-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-[3-[3-(diethoxymethylsilyl)propyltetrasulfanyl]propyl]silane Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCCSSSSCCC[SiH2]C(OCC)OCC GSYVJAOBRKCNOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005558 epichlorohydrin rubber Polymers 0.000 description 1
- DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N ethoxyquin Chemical compound N1C(C)(C)C=C(C)C2=CC(OCC)=CC=C21 DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019285 ethoxyquin Nutrition 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N flavanone Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=CC=C1 ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010551 living anionic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(2-triethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCSSSSCC[Si](OCC)(OCC)OCC ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltrisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKJGTZOWMVHEHS-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(phenyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSC1=CC=CC=C1 QKJGTZOWMVHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(2-trimethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCSSSSCC[Si](OC)(OC)OC JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
本出願は、2017年7月31日付韓国特許出願第10−2017−0097188号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されている全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数である。
下記化学式2で表される化合物と下記化学式3で表される化合物とを反応させた後、下記化学式4で表される化合物を添加して反応させるステップを含む、前記に記載の変性剤の製造方法を提供する。
フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p
−フェニレンジアミン、6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン、またはジフェニルアミンとアセトンの高温縮合物などが挙げられ、ゴム成分100重量部に対し0.1重量部から6重量部で用いられてよい。
[製造例1:化学式iで表される変性剤の製造]
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−1で表される化合物0.1mol(13.92g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式iで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーター(Rotary evaporator)を用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式iで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 182.0, 137.5, 129.7, 111.4, 111.4, 60.0, 60.0, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 53.0, 23.5, 23.5, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 14.7, 14.7, 4.0, 4.0, 4.0。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−2で表される化合物0.1mol(12.30g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式(ii)で表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式(ii)で表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 159.0, 137.5, 129.7, 111.4, 111.4, 58.4, 58.4, 58.4, 58.4, 58.4, 58.4, 55.0, 55.0, 47.2, 23.0, 23.0, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 14.1, 14.1, 4.0, 4.0, 4.0。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−1で表される化合物0.1mol(13.92g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−4で表される化合物0.095mol(22.65g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式(iii)で表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式(iii)で表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 199.4, 137.5, 129.7, 111.4, 111.4, 58.5, 58.5, 58.5, 49.6, 37.5, 18.4, 18.4, 18.4, 15.3, 14.5, 3.0, 3.0, 3.0。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−2で表される化合物0.1mol(12.30g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−4で表される化合物0.095mol(22.65g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式ivで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式ivで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 160.9, 137.5, 129.7, 111.4, 111.4, 58.5, 58.5, 58.5, 47.6, 33.9, 18.4, 18.4, 18.4, 15.3, 14.5, 3.4, 3.4, 3.4。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−3で表される化合物0.1mol(18.02g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式vで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式vで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 179.0, 139.5, 136.4, 127.5, 127.5, 121.4, 121.4, 60.0, 60.0, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 23.2, 23.2, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 14.7, 14.7, 6.5, 6.5, 6.5。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−4で表される化合物0.1mol(16.41g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式viで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式viで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 156.0, 138.5, 136.4, 124.5, 124.5, 121.0, 121.0, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 55.0, 55.0, 23.2, 23.2, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 14.7, 14.7, 6.0, 6.0, 6.0。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−3で表される化合物0.1mol(18.02g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−4で表される化合物0.095mol(22.65g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式viiで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式viiで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 177.0, 138.5, 136.4, 124.5, 124.5, 121.0, 121.0, 58.5, 58.5, 58.5, 55.0, 35.5, 18.4, 18.4, 18.4, 16.0, 15.5, 14.7, 14.7, 5.5, 5.5, 5.5。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−4で表される化合物0.1mol(16.41g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−4で表される化合物0.095mol(22.65g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式viiiで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式viiiで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 162.3, 138.5, 136.4, 124.5, 124.5, 121.0, 121.0, 58.5, 58.5, 58.5, 33.5, 18.4, 18.4, 18.4, 16.1, 14.1, 6.2, 6.2, 6.2。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−5で表される化合物0.1mol(11.91g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式ixで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式ixで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 156.0, 138.5, 129.0, 129.0, 127.2, 122.5, 122.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 55.0, 55.0, 23.2, 23.2, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 14.7, 14.7, 6.0, 6.0, 6.0。
シュレンクラインが連結されている1Lの丸底フラスコに下記化学式2−6で表される化合物0.1mol(7.11g)を入れ、減圧して水気を完全に除去し、アルゴン雰囲気下でジクロロメタン(dichloromethane)500mlを入れた後、下記化学式3−1で表される化合物0.095mol(40.44g)を投入し、常温で4時間撹拌させて反応させた後、下記化学式4−1で表される化合物0.12mol(13.04g)とトリエチルアミン0.15mol(15.18g)を低温で添加し、常温で24時間撹拌させることで、下記化学式xで表される変性剤を製造した。以後、ロータリーエバポレーターを用いて低沸点副産物及び未反応物質を除去し、Hexane/Acetonitrileで抽出して精製された化学式xで表される変性剤を収得し、1H及び13C核磁気共鳴分光学的スペクトルを観察した。
13C NMR (CDCl3, 500 MHz) δ 160.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 58.5, 55.0, 55.0, 41.5, 23.2, 23.2, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 18.4, 15.0, 12.1, 12.1, 4.0, 4.0, 4.0。
[実施例1]
20Lのオートクレーブ反応器に、スチレン270g、1,3−ブタジエン710g及びノルマルヘキサン5,000g、極性添加剤としてジテトラヒドロフリルプロパン0.9gを入れた後、反応器の内部温度を40℃に昇温した。反応器の内部温度が40℃に達した時、n−ブチルリチウム4.3mmolを反応器に投入し、断熱昇温反応を進行させた。断熱昇温反応が終わってから20分程度経過した後、1,3−ブタジエン20gを投入して重合体の末端をブタジエンでキャッピング(capping)した。5分後、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物2.74g(4.3mmol)を投入し、15分間反応させた。以後、エタノールを利用して重合反応を停止させ、酸化防止剤であるBHT(ブチル化ヒドロキシトルエン)がヘキサンに0.3重量%溶解されている溶液45mlを添加した。その結果として得られた重合物をスチームで加熱された温水に入れ、撹拌して溶媒を除去した後、ロール乾燥して残量の溶媒と水を除去することで、変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例2で製造された化学式iiで表される化合物を2.67g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例3で製造された化学式iiiで表される化合物を1.93g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例4で製造された化学式ivで表される化合物を1.86g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例6で製造された化学式viで表される化合物を2.85g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例9で製造された化学式ixで表される化合物を2.65g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、前記製造例10で製造された化学式xで表される化合物を2.44g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
20Lのオートクレーブ反応器に、スチレン270g、1,3−ブタジエン710g及びノルマルヘキサン5,000g、極性添加剤としてジテトラヒドロフリルプロパン0.9gを入れた後、反応器の内部温度を40℃に昇温した。反応器の内部温度が40℃に達した時、n−ブチルリチウム4.3mmolを反応器に投入し、断熱昇温反応を進行させた。断熱昇温反応が終わってから20分程度経過した後、1,3−ブタジエン20gを投入して重合体の末端をブタジエンでキャッピング(capping)した。以後、エタノールを利用して重合反応を停止させ、酸化防止剤であるBHT(ブチル化ヒドロキシトルエン)がヘキサンに0.3重量%溶解されている溶液45mlを添加した。その結果として得られた重合物をスチームで加熱された温水に入れ、撹拌して溶媒を除去した後、ロール乾燥して残量の溶媒と水を除去することで、共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、ビス(ジエトキシメチルシリルプロピル)−N−メチルアミンを1.63g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、N,N−ビス(トリエトキシシリルプロピル)アミノプロピル−1−イミダゾールを2.30g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
前記実施例1において、変性剤として、前記製造例1で製造された化学式iで表される化合物に代えて、下記化学式xiで表される化合物を1.71g(4.3mmol)投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で変性共役ジエン系重合体を製造した。
[実験例1]
前記実施例及び比較例で製造された各変性または未変性の共役ジエン系重合体に対して、重量平均分子量(Mw、X103g/mol)、数平均分子量(Mn、X103g/mol)、分子量分布(MWD)及びムーニー粘度(MV)をそれぞれ測定した。結果を下記表1に示した。
前記実施例及び比較例で製造された各変性または未変性の共役ジエン系共重合体を含むゴム組成物、及びそれから製造された成形品の物性を比較分析するため、引張特性、耐磨耗性、及び濡れた路面への抵抗性をそれぞれ測定し、その結果を下記表3に示した。
実施例及び比較例の各変性または未変性のスチレン−ブタジエン共重合体を原料ゴムとして、下記表2に示した配合条件で配合した。表2中の原料は、ゴム100重量部を基準とした各重量部である。
引張特性は、ASTM 412の引張試験法に準じて各試験片を製造し、前記試験片の切断時における引張強度及び300%伸びた時の引張応力(300%モジュラス)を測定した。具体的に、引張特性は、Universal Test Machin 4204(Instron社製)引張試験機を用いて、室温で50cm/minの速度で測定した。
前記製造されたゴム試験片の耐磨耗性を確認するために、DIN摩耗試験機を用いて、摩耗紙が付けられた回転ドラム(Drum)に10Nの荷重をかけ、ゴム試験片をドラムの回転方向の直角方向に移動させた後、摩耗された損失重量を測定し、比較例2の損失重量を基準として指数化して示した。ドラムの回転速度は40rpmであり、試験完了時の試験片の総移動距離は40mである。損失重量の指数値が小さいほど、耐磨耗性に優れることを意味する。
粘弾性特性は、動的機械分析機(TA社製)を用い、歪みモードで、周波数10Hz、各測定温度(−60℃〜60℃)で変形を変化させながらtanδを測定した。ペイン効果(Payne effect)は、変形0.28%〜40%での最小値と最大値の差で示した。低温0℃でのtanδが高いほど、濡れた路面への抵抗性に優れることを意味し、高温60℃でのtanδが低いほど、ヒステリシス損が少なく、低走行抵抗性(燃費性)に優れることを意味する。
加硫特性(t90)は、MDF(moving die rheometer)を用いて150℃で50分間加硫した時に、MH(最大トルク)値及び90%加硫されるまでにかかる時間(t90)を測定した。所要時間(t90)が短いほど、工程時間が短縮できることを意味し、これは重合体の加工性に優れることを意味するものである。
Claims (16)
- 下記化学式1で表される変性剤。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、もしくは炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から30のヘテロアルキル基もしくは炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数である。 - 前記化学式1中、
R1は、置換基Xで置換または無置換の、炭素数1から20のアルキル基、炭素数2から20のアルケニル基、炭素数2から20のアルキニル基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から20のシクロアルキル基、炭素数6から20のアリール基、または炭素数3から20の複素環基であり、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、
R3及びR4は、互いに独立して、化学式1aで表される置換基であり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、置換基Xのうちニトロ基で置換された、炭素数1から20のアルキル基、炭素数2から20のアルケニル基、炭素数2から20のアルキニル基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から20のシクロアルキル基、炭素数6から20のアリール基、または炭素数3から20の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から20のヘテロアルキル基、または炭素数3から20の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在するものである、請求項1に記載の変性剤。 - 下記化学式2で表される化合物と下記化学式3で表される化合物とを反応させるステップを含むか;または、
下記化学式2で表される化合物と下記化学式3で表される化合物とを反応させた後、下記化学式4で表される化合物及び塩基性化合物を添加して反応させるステップを含む、請求項1に記載の変性剤の製造方法。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
Yは、CN、Cl、FまたはBrであり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数である。 - 前記化学式2で表される化合物と前記化学式3で表される化合物は、1:0.8から1:1.2のモル比で反応させる、請求項4に記載の変性剤の製造方法。
- 前記化学式4で表される化合物及び塩基性化合物は、互いに独立して、化学式2で表される化合物1モルに対し1.0から2.0モルで添加される、請求項4に記載の変性剤の製造方法。
- 前記塩基性化合物は、メチルアミン(methylamine)、ジメチルアミン(dimethylamine)、トリエチルアミン(trimethylamine)、テトラメチルエチレンジアミン(tetramethylethylenediamine)、リチウムジイソプロピルアミド(lithium diisopropylamide)、1,8−ジアザビシクロウンデ−7−セン(1,8−diazabicycloundes−7−ene)、2,6−ジ−t−ブチルピリジン(2,6−di−tert−butylpyridine)、及びリチウムテトラメチルピペリジン(lithiumtetramethylpiperidine)からなる群より選択される1つ以上のものである、請求項4に記載の変性剤の製造方法。
- 共役ジエン系単量体由来の繰り返し単位を含み、少なくとも一側末端に、下記化学式1で表される請求項1に記載の変性剤由来の官能基を含む変性共役ジエン系重合体。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から30のヘテロアルキル基または炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数である。 - 共役ジエン系単量体由来の繰り返し単位を含み、一側末端に下記化学式1で表される化合物を含む変性剤由来の官能基を含み、他側末端に下記化学式5で表される変性開始剤由来の官能基を含む変性共役ジエン系重合体。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、もしくは炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から30のヘテロアルキル基もしくは炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数であり、
R12及びR13は、互いに独立して、炭素数1から20のアルキル基、炭素数3から20のシクロアルキル基、及び炭素数5から20のアラルキル基からなる群より選択される1つであるか、R12及びR13が互いに結合して隣接したN原子とともに炭素数5から20の飽和または不飽和の環状構造を形成し、前記R12及びR13が環状構造を形成する場合、分枝構造を有してよく、
R14は、単結合、炭素数1から20のアルキレン基、または、下記化学式6から化学式8からなる群より選択される1つの連結基であり、
- 前記変性共役ジエン系重合体は、芳香族ビニル単量体由来の繰り返し単位をさらに含む、請求項8または請求項9に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 前記変性共役ジエン系重合体は、数平均分子量(Mn)が10,000g/molから2,000,000g/molである、請求項8または請求項9に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 前記変性共役ジエン系重合体は、分子量分布(Mw/Mn)が1.0から8.0である、請求項8または請求項9に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 有機金属化合物を含む炭化水素溶媒の中で、共役ジエン系単量体、または、芳香族ビニル系単量体及び共役ジエン系単量体を重合して有機金属が結合された活性重合体を製造するステップ(S1);及び、
前記活性重合体及び下記化学式1で表される変性剤を反応させるステップ(S2)を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法。
R1は、重水素;または、置換基Xで置換もしくは無置換の、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であり、前記置換基Xは、重水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1から30のアルキル基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のアルコキシ基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、及び炭素数3から30の複素環基からなる群より選択され、
R2は、水素原子;または−Si(R)3であり、ここで、Rは、炭素数1から10のアルキル基であり、
R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、炭素数1から30のアルキルシリル基、炭素数3から30の複素環基;または、下記化学式1aで表される置換基であり、ただし、R3及びR4のうち少なくとも一つは、下記化学式1aで表される置換基であり、
R5は、単結合;炭素数1から20のアルキレン基;または、炭素数3から20のシクロアルキレン基であり、
Aは、SまたはOであり、
Bは、NまたはSであり、
BがSの場合、R1は、前記置換基Xで置換された、炭素数1から30のアルキル基、炭素数2から30のアルケニル基、炭素数2から30のアルキニル基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、炭素数6から30のアリール基、または炭素数3から30の複素環基であるか;または、無置換の、炭素数1から30のヘテロアルキル基または炭素数3から30の複素環基であり、R3及びR4のうちR3一つだけが存在し、ただし、R3は、下記化学式1aで表される置換基であり、
R6は、単結合;または、炭素数1から10のアルキレン基であり、
R7及びR8は、互いに独立して、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30のシクロアルキル基、または炭素数6から30のアリール基であり、
nは、1から3より選択される整数である。 - 前記有機金属化合物は、単量体の全体100gを基準に0.01mmolから10mmolで用いられる、請求項13に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
- 前記有機金属化合物は、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、n−デシルリチウム、t−オクチルリチウム、フェニルリチウム、1−ナフチルリチウム、n−エイコシルリチウム、4−ブチルフェニルリチウム、4−トリルリチウム、シクロヘキシルリチウム、3,5−ジ−n−ヘプチルシクロヘキシルリチウム、4−シクロペンチルリチウム、ナフチルナトリウム、ナフチルカリウム、リチウムアルコキシド、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、リチウムスルホネート、ナトリウムスルホネート、カリウムスルホネート、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド及びリチウムイソプロピルアミドからなる群より選択される1つ以上である、請求項13に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
- 前記有機金属化合物は、下記化学式5で表される化合物である、請求項13に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
R12及びR13は、互いに独立して、炭素数1から20のアルキル基、炭素数3から20のシクロアルキル基、及び炭素数5から20のアラルキル基からなる群より選択される1つであるか、R12及びR13が互いに結合して隣接したN原子とともに炭素数5から20の飽和または不飽和の環状構造を形成し、前記R12及びR13が環状構造を形成する場合、分枝構造を有してよく、
R14は、単結合、炭素数1から20のアルキレン基、または、下記化学式6から化学式8からなる群より選択される1つの連結基であり、
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170097188A KR102122468B1 (ko) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 변성제, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 변성 공액디엔계 중합체 |
KR10-2017-0097188 | 2017-07-31 | ||
PCT/KR2018/007965 WO2019027156A1 (ko) | 2017-07-31 | 2018-07-13 | 변성제, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 변성 공액디엔계 중합체 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020515675A true JP2020515675A (ja) | 2020-05-28 |
JP6823198B2 JP6823198B2 (ja) | 2021-01-27 |
Family
ID=65233982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019552995A Active JP6823198B2 (ja) | 2017-07-31 | 2018-07-13 | 変性剤、その製造方法、及びそれを含む変性共役ジエン系重合体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10913805B2 (ja) |
EP (1) | EP3486279B1 (ja) |
JP (1) | JP6823198B2 (ja) |
KR (1) | KR102122468B1 (ja) |
CN (1) | CN109790324B (ja) |
WO (1) | WO2019027156A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL86588C (ja) | 1980-09-20 | |||
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-
2017
- 2017-07-31 KR KR1020170097188A patent/KR102122468B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-07-13 JP JP2019552995A patent/JP6823198B2/ja active Active
- 2018-07-13 US US16/325,939 patent/US10913805B2/en active Active
- 2018-07-13 WO PCT/KR2018/007965 patent/WO2019027156A1/ko unknown
- 2018-07-13 EP EP18840962.7A patent/EP3486279B1/en active Active
- 2018-07-13 CN CN201880003564.7A patent/CN109790324B/zh active Active
Patent Citations (6)
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Title |
---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190177457A1 (en) | 2019-06-13 |
EP3486279B1 (en) | 2020-09-09 |
JP6823198B2 (ja) | 2021-01-27 |
KR20190013117A (ko) | 2019-02-11 |
US10913805B2 (en) | 2021-02-09 |
WO2019027156A1 (ko) | 2019-02-07 |
EP3486279A4 (en) | 2019-11-06 |
CN109790324A (zh) | 2019-05-21 |
EP3486279A1 (en) | 2019-05-22 |
KR102122468B1 (ko) | 2020-06-12 |
CN109790324B (zh) | 2021-04-13 |
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---|---|---|---|
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