JP2020502568A - リソグラフィ装置、流体ハンドリング構造、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2016年12月14日に出願された欧州出願第16203967.1号および2017年3月27日に出願された欧州出願第17163003.1号の優先権を主張し、それらの全体が本明細書に援用される。
Claims (15)
- 少なくとも1つの目標部分を有する物体を支持するように構成された支持テーブルと、
パターン付けられたビームを前記物体に投影するように構成された投影システムと、
前記支持テーブルを前記投影システムに対して移動させるように構成された位置決め部と、
液体閉じ込め構造に形成された一連の開口部を通じた液体閉じ込め構造への及び/又は液体閉じ込め構造からの流体流れを用いて、液体を前記投影システムと前記物体および/または前記支持テーブルの表面との間の液浸空間に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造と、
前記液体閉じ込め構造の下方にない状態から前記液体閉じ込め構造の下方にある状態へと移動する前記支持テーブルの部分が前記液体閉じ込め構造の前縁の下方を通過し、前記液体閉じ込め構造の下方にある状態から前記液体閉じ込め構造の下方にない状態へと移動する前記支持テーブルの部分が前記液体閉じ込め構造の後縁の下方を通過するようにして、前記支持テーブルを前記液体閉じ込め構造に対して移動させることを各モーションが含む一連のモーションからなるルートを辿らせるべく前記支持テーブルを移動させるように前記位置決め部を制御するとともに、前記液体閉じ込め構造を制御するように構成されたコントローラであって、
前記一連のモーションのうち前記液浸空間の縁が前記物体の縁を通過する少なくとも1つのモーションの間に前記液浸空間から前記液体が失われるか否かを予測し、
前記液浸空間からの液体損失が予測される場合、液体損失が予測されたモーションの間に、または前記一連のモーションのうち液体損失が予測されたモーションに後続するあるモーションの間に、前記一連の開口部のうち前記液体閉じ込め構造の前縁にある開口部への又は当該開口部からの第1流体流量が前記一連の開口部のうち前記液体閉じ込め構造の後縁にある開口部への又は当該開口部からの第2流体流量と異なるように、前記流体流れを修正するように適合されたコントローラと、を備える液浸リソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記液浸空間からの液体損失が予測される場合、液体損失が予測されたモーションの間に、前記一連の開口部のうち前記後縁にある前記開口部からの前記第2流体流量を増加させることによって、前記流体流れを修正するように適合されている請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記一連の開口部は、前記液浸空間の周りにガスナイフを形成するためにあり、および/または、前記液体閉じ込め構造は、前記投影システムの光軸に対して前記一連の開口部よりも径方向内側にある更なる一連の更なる開口部をさらに備え、前記コントローラは、前記更なる一連の更なる開口部のうち前記前縁にある更なる開口部への又は当該更なる開口部からの第3流体流量が前記更なる一連の更なる開口部のうち前記後縁にある更なる開口部への又は当該更なる開口部からの第4流体流量と異なるように、前記流体流れを修正するように適合されている請求項1又は2に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記液浸空間からの液体損失が予測される場合、液体損失が予測されたモーションの間に、前記更なる一連の更なる開口部のうち前記後縁にある前記更なる開口部からの第4流体流量を増加させることによって、前記流体流れを修正するように適合されている請求項3に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第2流体流量におけるガスの速度が前記第4流体流量におけるガスの速度に実質的に等しい請求項4に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記少なくとも1つのモーションに後続のモーションでの前記液浸空間の経路における、前記少なくとも1つのモーションで失われた液体の存在を予想するように構成されている請求項1から5のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、失われた液体が前記液浸空間の経路に存在すると予想された後続のモーションの間に、前記流体流れを修正するように適合されている請求項6に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記後続のモーションの間における前記液浸空間の経路での前記失われた液体の量が予め定められた最大量より小さいと判定される場合、前記一連の開口部のうち前記前縁にある開口部からの流体流量を減少させることによって前記流れを修正するように適合され、または前記コントローラは、前記後続のモーションの間における前記液浸空間の経路での前記失われた液体の量が予め定められた最小量より大きいと前記コントローラによって判定される場合、前記一連の開口部のうち前記前縁にある開口部からの流体流量を増加させることによって前記流体流れを修正するように適合され、および/または、前記コントローラは、前記後続のモーションの間において増加されたならばガス流れが前記液浸空間の経路での前記失われた液体を予め定められた位置へと押し進めるのに有効であると前記コントローラによって予想される場合、前記一連の開口部のうち前記前縁にある開口部からの流体流量を増加させることによって前記流体流れを修正するように適合されている請求項7に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記予め定められた位置は、前記物体から外れている請求項8に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記物体は、基板またはセンサである請求項1から9のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 液体が失われるか否かを予測するために、前記コントローラは、
前記ルートの前記一連のモーションのうち少なくとも1つのモーションの間に前記液浸空間の縁が前記物体の縁を通過するときの前記物体の縁に対する前記液浸空間の縁の速さを予測し、
前記速さを予め定められたパラメータと比較し、前記速さが前記予め定められたパラメータより大きい場合、前記少なくとも1つのモーションの間に前記液浸空間からの液体損失を予測するように適合されている請求項1から10のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記速さを予測することが、前記少なくとも1つのモーションの間における前記物体の縁に垂直な方向における前記液浸空間の縁の速度の大きさを決定することを含むように構成されている請求項11に記載の液浸リソグラフィ装置。
- パターン付けられたビームを複数の目標部分を有する基板に投影すべく液浸リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
液体閉じ込め構造における一連の開口部を通じた液体閉じ込め構造への及び/又は液体閉じ込め構造からの流体流れを用いて、液体を投影システムと支持テーブル上の物体の対向表面および/または前記支持テーブルとの間の液浸空間に閉じ込めることと、
前記液体閉じ込め構造の下方にない状態から前記液体閉じ込め構造の下方にある状態へと移動する前記支持テーブルの部分が前記液体閉じ込め構造の前縁の下方を通過し、前記液体閉じ込め構造の下方にある状態から前記液体閉じ込め構造の下方にない状態へと移動する前記支持テーブルの部分が前記液体閉じ込め構造の後縁の下方を通過するようにして、前記支持テーブルを前記液体閉じ込め構造に対して移動させることを各モーションが含む一連のモーションを備えるルートに沿って前記支持テーブルを移動させることと、
前記一連のモーションのうち前記液浸空間の縁が前記物体の縁を通過する少なくとも1つのモーションの間に前記液浸空間から前記液体が失われるか否かを予測することと、
前記液浸空間からの液体損失が予測される場合、液体損失が予測されたモーションの間に、または前記一連のモーションのうち液体損失が予測されたモーションに後続するあるモーションの間に、前記一連の開口部のうち前記液体閉じ込め構造の前縁にある開口部への又は当該開口部からの第1流体流量が前記一連の開口部のうち前記液体閉じ込め構造の後縁にある開口部への又は当該開口部からの第2流体流量と異なるように、前記流体流れを修正することと、を備える方法。 - リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造は、一連の開口部を有し、前記流体ハンドリング構造は、それを通じた流体および/または液体の提供のためにあり、前記流体ハンドリング構造は、使用時に前記開口部が基板および/または前記基板を支持するように構成された支持テーブルに向けられるように構成され、前記一連の開口部のうち第1サブセットが第1チャンバと流体連絡し、前記一連の開口部のうち第2サブセットが第2チャンバと流体連絡し、前記第1チャンバおよび第2チャンバは、前記一連の開口部が定められた第1部材と、第2部材との間に定められ、前記第1部材と前記第2部材のうち一方の一部分は、前記一連の開口部の第1側から前記一連の開口部のうち2つの隣接する開口部の間を前記第1側とは反対の前記一連の開口部の第2側で前記第1部材と前記第2部材のうち他方にある凹部へと延在し、前記2つの隣接する開口部の一方が前記第1サブセットにあり、前記2つの隣接する開口部の他方が第2サブセットにあり、前記一部分が前記第1チャンバを前記第2チャンバから分離する流体ハンドリング構造。
- 前記一部分のうち前記2つの隣接する開口部の間にある第1部分は、前記一部分のうち前記凹部にある第2部分より細く、および/または、一部が前記一部分に定められ一部が前記他方の部材に定められた側面を有してキャビティが前記流体ハンドリング構造に形成され、第3部材が前記第1チャンバと第2チャンバとの間にシールを形成するように前記キャビティに配置され、および/または、前記一部分の前縁と前記凹部が共にラビリンスシールを形成するように構築された相補的表面を有する請求項14に記載の流体ハンドリング構造。
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