JP2020205286A - イオン源装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1実施形態に係るイオン源装置を有する粒子加速システムを示す正面図である。図1に示すように、粒子加速システム1Aは、イオン源装置10A、加速器30、輸送部40及び支持部50を備える。以下の説明においては、粒子加速システム1Aを水平面に載置した状態における装置の上下方向をZ軸方向とし、後述するイオンの輸送経路Pを含む平面内、且つ、Z軸方向に垂直な方向をX軸方向とし、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向をY軸方向とする。粒子加速システム1Aは、例えばα粒子、陽子、重陽子等のイオンを生成すると共に加速させる。粒子加速システム1Aは、加速させたイオンを、例えば陽電子放出断層撮影(PET:Positron Emission Tomography)、中性子捕捉療法(BNCT:Boron Neutron Capture Therapy)等を行う装置に供給する。
JCL:空間電荷制限電流密度
V:引出電圧
d:電極間距離
式(1)によれば、引出電流値を大きくするためには、電極間距離(d)を小さくする、或いは、引出電圧(V)を大きくすることが考えられる。しかし、電極間距離(d)は、絶縁破壊やイオンビームのエミッタンスの点から取り得る値は制限される。また、引出電圧(V)は、本実施形態における第2の電位差(ΔV2)に対応する。第2の電位差(ΔV2)は、引出エネルギから決定される。
次に、第2実施形態に係るイオン源装置について説明する。図4に示されるように、イオン源装置10Bは、引出電流値を調整可能な点で、第1実施形態のイオン源装置10Aと相違する。イオン源装置10Bは、電位調整部24と、位置調整部26とを有する。
Claims (4)
- 電子を放出する一対の第1の電極と、
前記電子が閉じ込められると共に原料ガスが供給される領域を前記一対の第1の電極の間に画成し、前記電子と前記原料ガスとが衝突して発生したイオンが引き出される孔部を有する第2の電極と、
前記第2の電極との間で電位差を形成するように、前記第2の電極から引き出された前記イオンの引出方向に沿って前記第2の電極から離間して配置された引出電極と、
前記第2の電極と前記引出電極との間に設けられた中間電極と、を備え、
前記第2の電極と前記中間電極との間の第1の電位差は、前記第2の電極と前記引出電極との間の第2の電位差よりも大きい、イオン源装置。 - 前記第2の電極の電位は、正の電位であり、
前記中間電極の電位は、負の電位であり、
前記引出電極の電位は、接地電位である、請求項1に記載のイオン源装置。 - 前記中間電極の電位を調整する電位調整部をさらに備える、請求項1又は2に記載のイオン源装置。
- 前記第2の電極と前記中間電極との間の距離を制御するために、前記中間電極の位置を調整する位置調整部をさらに備える、請求項1〜3の何れか一項に記載のイオン源装置。
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JPH10508425A (ja) * | 1995-07-21 | 1998-08-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | イオンビーム装置 |
JPH11185647A (ja) * | 1997-12-22 | 1999-07-09 | Nec Corp | イオン源装置 |
JP2001167707A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-22 | Sumitomo Eaton Noba Kk | イオン源 |
JP2013127976A (ja) * | 1999-12-13 | 2013-06-27 | Semequip Inc | イオン注入イオン源、システム、および方法 |
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