JP2020194864A - Imaging apparatus and imaging method - Google Patents

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史野 草
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Abstract

To provide an imaging apparatus and an imaging method capable of easily and appropriately correcting shading.SOLUTION: An imaging apparatus 100 according to an embodiment includes a stage 30 on which a sample 20 is placed, a light source 10 that generates illumination light L1 for illuminating the sample 20, a detector 11 that detects light from the sample 20 illuminated by the illumination light in order to image the sample 20, a calibration data generation unit 52 that generates calibration data on the basis of peripheral data obtained by detecting light from a peripheral portion 30a outside the sample 20 by the detector 11 in the stage 30 on which the sample 20 is placed, and a correction unit 53 that corrects the shading of the captured image of the sample 20 on the basis of the calibration data.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、撮像装置、及びその撮像方法に関する。 The present invention relates to an imaging device and an imaging method thereof.

特許文献1には、半導体ウェハや液晶基板などの画像を撮像する検査装置が開示されている。特許文献1では、回折画像に対するシェーディングを補正するために、ホルダ部材が、基板との接触部以外に設けられた基準平面を備えている。 Patent Document 1 discloses an inspection device that captures an image of a semiconductor wafer, a liquid crystal substrate, or the like. In Patent Document 1, the holder member includes a reference plane provided in addition to the contact portion with the substrate in order to correct shading on the diffracted image.

具体的には、検査装置は、基板を真空吸着するホルダ部材を備えている。そして、ホルダ部材には、基板を吸着するための凹凸が形成されている。ホルダ部材の凸部が基板と接触する接触部となり、凹部の底面が基準平面となる(段落0027)。あるいは、ホルダ部材において、基板を吸着する面と反対側の面が基準平面となっている。また、特許文献2には、基板を吸着する基板保持装置が開示されている。 Specifically, the inspection device includes a holder member that vacuum-sucks the substrate. The holder member is formed with irregularities for adsorbing the substrate. The convex portion of the holder member serves as a contact portion in contact with the substrate, and the bottom surface of the concave portion serves as a reference plane (paragraph 0027). Alternatively, in the holder member, the surface opposite to the surface on which the substrate is attracted is the reference plane. Further, Patent Document 2 discloses a substrate holding device that adsorbs a substrate.

特開2005―10073号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-10073 特開2012―241357号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-241357

特許文献1では、試料の直下にある凹部、あるいはホルダ部材の吸着面と反対側の面を基準平面としている。そのため、基準平面を測定するためには、ホルダ部材から基板を搬出する必要がある。つまり、基板がホルダ部材に保持されていない状態で、基準平を測定 In Patent Document 1, the concave portion directly below the sample or the surface opposite to the suction surface of the holder member is used as a reference plane. Therefore, in order to measure the reference plane, it is necessary to carry out the substrate from the holder member. That is, the reference flat is measured while the substrate is not held by the holder member.

本開示は、このような事情を背景としてなされたものであり、簡便かつ適切にシェーディングを補正することができる撮像装置、及び撮像方法を提供するものである。 The present disclosure has been made against the background of such circumstances, and provides an imaging device and an imaging method capable of easily and appropriately correcting shading.

本実施形態の一態様にかかる撮像装置は、試料が載置されるステージと、前記試料を照明するための照明光を発生する光源と、前記試料を撮像するために、前記照明光で照明された試料からの光を検出する検出器と、前記試料が載置されたステージにおいて、前記試料よりも外側にある周辺部分からの光を前記検出器が検出した周辺データに基づいて、キャリブレーションデータを生成するキャリブレーションデータ生成部と、前記キャリブレーションデータに基づいて、前記試料の撮像画像のシェーディングを補正する補正部と、を備えている。 The image pickup apparatus according to one aspect of the present embodiment is illuminated by a stage on which the sample is placed, a light source that generates illumination light for illuminating the sample, and the illumination light for imaging the sample. Calibration data based on the detector that detects the light from the sample and the peripheral data that the detector detects the light from the peripheral part outside the sample on the stage on which the sample is placed. It is provided with a calibration data generation unit for generating the sample, and a correction unit for correcting the shading of the captured image of the sample based on the calibration data.

上記の撮像装置において、前記ステージが前記試料を吸着保持するチャックステージであり、前記チャックステージは、前記試料を吸着保持するための排気口が設けられたステージ台と、前記ステージ台から上方に突出して、前記試料の周縁部の下に位置するシール部と、前記シール部よりも前記試料の中心側に配置され、前記試料と当接する支持ピンと、を備えており、前記周辺部分が前記シール部の前記試料からはみ出した部分を含んでいてもよい。 In the above imaging device, the stage is a chuck stage that sucks and holds the sample, and the chuck stage has a stage stand provided with an exhaust port for sucking and holding the sample, and projects upward from the stage stand. A seal portion located below the peripheral portion of the sample and a support pin arranged on the center side of the sample with respect to the seal portion and in contact with the sample are provided, and the peripheral portion is the seal portion. May include a portion protruding from the sample.

上記の撮像装置において、前記シール部には、上方に突出するシールピンが設けられており、前記周辺部分を撮像した周辺画像において、前記シールピンに対応する箇所を排除した周辺データを用いて、前記キャリブレーションデータを生成してもよい。 In the above image pickup apparatus, the seal portion is provided with a seal pin protruding upward, and the calibration is performed using peripheral data excluding the portion corresponding to the seal pin in the peripheral image obtained by imaging the peripheral portion. Operation data may be generated.

本実施形態の一態様にかかる撮像方法は、試料が載置されるステージと、前記試料を照明するための照明光を発生する光源と、前記試料を撮像するために、前記照明光で照明された試料からの光を検出する検出器と、を備えた撮像装置における撮像方法であって、前記試料が載置されたステージにおいて、前記試料よりも外側にある周辺部分からの光を前記検出器が検出した周辺データに基づいて、キャリブレーションデータを生成するステップと、前記キャリブレーションデータに基づいて、前記試料の撮像画像のシェーディングを補正するステップと、を備えている。 The imaging method according to one aspect of the present embodiment is illuminated by a stage on which the sample is placed, a light source that generates illumination light for illuminating the sample, and the illumination light for imaging the sample. This is an imaging method in an imaging device equipped with a detector for detecting light from a sample, and on a stage on which the sample is placed, light from a peripheral portion outside the sample is detected by the detector. It includes a step of generating calibration data based on the peripheral data detected by the sample, and a step of correcting the shading of the captured image of the sample based on the calibration data.

上記の撮像方法において、前記ステージが前記試料を吸着保持するチャックステージであり、前記チャックステージは、前記試料を吸着保持するための排気口が設けられたステージ台と、前記ステージ台から上方に突出して、前記試料の周縁部の下に位置するシール部と、前記シール部よりも前記試料の中心側に配置され、前記試料と当接する支持ピンと、を備えており、前記周辺部分が前記シール部の前記試料からはみ出した部分を含んでいてもよい。 In the above imaging method, the stage is a chuck stage that sucks and holds the sample, and the chuck stage has a stage stand provided with an exhaust port for sucking and holding the sample, and projects upward from the stage stand. A seal portion located below the peripheral portion of the sample and a support pin arranged on the center side of the sample with respect to the seal portion and in contact with the sample are provided, and the peripheral portion is the seal portion. May include a portion protruding from the sample.

上記の撮像方法において、前記シール部には、上方に突出するシールピンが設けられており、前記周辺部分を撮像した周辺画像において、前記シールピンに対応する箇所を排除した周辺データを用いて、キャリブレーションデータを生成してもよい。 In the above imaging method, the seal portion is provided with a seal pin protruding upward, and calibration is performed using peripheral data excluding the portion corresponding to the seal pin in the peripheral image obtained by imaging the peripheral portion. Data may be generated.

本開示によれば、簡便かつ適切にシェーディング補正を行うことができる撮像装置、及び撮像方法を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide an image pickup apparatus and an image pickup method capable of performing shading correction easily and appropriately.

本実施の形態にかかる撮像装置の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the image pickup apparatus which concerns on this embodiment. 試料データのプロファイルを示すグラフである。It is a graph which shows the profile of a sample data. 試料データのプロファイルを示すグラフである。It is a graph which shows the profile of a sample data. 試料データのプロファイルの変化率を示すグラフである。It is a graph which shows the change rate of the profile of a sample data. 周辺データのプロファイルの変化率を示すグラフである。It is a graph which shows the change rate of the profile of the peripheral data. 周辺データを用いて試料データのシェーディングを打ち消したプロファイルを示すグラフである。It is a graph which shows the profile which canceled the shading of a sample data using the peripheral data. 本実施の形態にかかる撮像装置の撮像方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the image pickup method of the image pickup apparatus which concerns on this embodiment. ステージ30の構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the structure of a stage 30. ステージ30の構成を模式的に示す側面断面図である。It is a side sectional view schematically showing the structure of a stage 30. ステージ30の周辺部分の画像を示す図である。It is a figure which shows the image of the peripheral part of a stage 30.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The following description shows preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. In the following description, those having the same reference numerals indicate substantially the same contents.

本実施の形態に係る撮像装置は、試料を撮像する。ここでは、撮像装置が試料を撮像した画像(以下、試料画像ともいう)に基づいて検査を行う検査装置とする。検査装置は、微細なパターンが形成された半導体ウェハ等の試料を検査するマクロ検査装置である。検査装置は、試料画像の反射輝度値に基づいて、マクロ検査を行う。例えば、検査装置は、試料画像の反射輝度値を閾値したり、試料画像を他の画像と比較したりすることで、欠陥を検出する。以下の説明では、CCD(Charge-Coupled Device)センサやCMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor)センサなどのイメージセンサのチップが形成される半導体ウェハを試料とする。 The image pickup apparatus according to the present embodiment captures a sample. Here, the inspection device is an inspection device that performs an inspection based on an image obtained by the imaging device (hereinafter, also referred to as a sample image). The inspection device is a macro inspection device that inspects a sample such as a semiconductor wafer on which a fine pattern is formed. The inspection device performs a macro inspection based on the reflected brightness value of the sample image. For example, the inspection device detects defects by thresholding the reflection luminance value of the sample image or comparing the sample image with another image. In the following description, a semiconductor wafer on which an image sensor chip such as a CCD (Charge-Coupled Device) sensor or a CMOS (Complementary metal-oxide-semiconductor) sensor is formed is used as a sample.


本実施の形態にかかる撮像装置、及び撮像方法について、図1を用いて説明する。図1は、撮像装置の全体構成を模式的に示す図である。撮像装置100は、光源10と、検出器11と、フィルタ13と、フィルタ14と、ステージ30と、処理装置50と、を備えている。なお、図1に示す構成以外の光学素子、例えば、レンズやミラーなどが光学系に適宜設けられていてもよい。また、単色の光源10を用いる場合、フィルタ13,フィルタ14は不要となる。
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The image pickup apparatus and the image pickup method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram schematically showing an overall configuration of an imaging device. The image pickup apparatus 100 includes a light source 10, a detector 11, a filter 13, a filter 14, a stage 30, and a processing apparatus 50. An optical element other than the configuration shown in FIG. 1, for example, a lens or a mirror may be appropriately provided in the optical system. Further, when the monochromatic light source 10 is used, the filter 13 and the filter 14 are unnecessary.

図1では、説明の明確化のため、XYZの3次元直交座標系を示している。なお、Z方向が鉛直方向であり、試料20の厚さ方向と平行な方向である。Z方向は、試料20のパターン形成面の法線方向である。X方向、及びY方向が水平方向であり、試料20のパターン形成方向と平行な方向である。 FIG. 1 shows a three-dimensional Cartesian coordinate system of XYZ for the sake of clarity. The Z direction is the vertical direction, which is parallel to the thickness direction of the sample 20. The Z direction is the normal direction of the pattern forming surface of the sample 20. The X direction and the Y direction are horizontal directions, which are parallel to the pattern forming direction of the sample 20.

ステージ30には、撮像対象の試料20が載置されている。上記のように、試料20はパターン付きウェハである。ステージ30は、例えば、チャックステージであり、真空吸着により試料20を保持する。ステージ30は、試料20よりも大きなサイズとなっている。よって、ステージ30の一部は、試料20の外側にはみ出している。ステージ30において、試料20の外側にある部分を周辺部分30aとする。つまり、試料20がステージ30上に乗せられている状態であっても、ステージ30の周辺部分30aは、検出器11によって撮像可能な領域となっている。 A sample 20 to be imaged is placed on the stage 30. As described above, the sample 20 is a patterned wafer. The stage 30 is, for example, a chuck stage, and holds the sample 20 by vacuum adsorption. The stage 30 has a size larger than that of the sample 20. Therefore, a part of the stage 30 protrudes to the outside of the sample 20. In the stage 30, the portion outside the sample 20 is referred to as the peripheral portion 30a. That is, even when the sample 20 is placed on the stage 30, the peripheral portion 30a of the stage 30 is a region that can be imaged by the detector 11.

試料20の上には、光源10、及び検出器11が配置されている。光源10は、例えば、ライン状の照明光L1を発生する線状光源である。照明光は、試料20の表面において、Y方向に沿ったライン状の照明領域を均一に照明する。あるいは、光源10がリング状や面状の照明光を照射してもよい。光源10からの照明光L1は、レンズにより試料20の表面に集光されていてもよい。光源10は、例えば、可視光、紫外光、又は赤外光等の照明光L1を照射する。 A light source 10 and a detector 11 are arranged on the sample 20. The light source 10 is, for example, a linear light source that generates a linear illumination light L1. The illumination light uniformly illuminates a line-shaped illumination region along the Y direction on the surface of the sample 20. Alternatively, the light source 10 may irradiate ring-shaped or planar illumination light. The illumination light L1 from the light source 10 may be focused on the surface of the sample 20 by a lens. The light source 10 irradiates illumination light L1 such as visible light, ultraviolet light, or infrared light.

光源10は、斜め方向、すなわちZ軸から傾いた方向から試料20を照明する。あるいは、光源10はZ軸と平行な方向から試料20を照明してもよい。XZ平面において、照明光L1の光軸と、Z軸との成す角度が照明角度αとなる。光軸上の照明光L1の入射角度は照明角度αとなっている。照明光L1は、Z軸から照明角度αだけ傾いた方向から試料20を照明する。なお、照明光L1の光学系には、レンズ、光スキャナ、ミラー、ビームスプリッタなどが設けられていてもよい。 The light source 10 illuminates the sample 20 in an oblique direction, that is, in a direction inclined from the Z axis. Alternatively, the light source 10 may illuminate the sample 20 from a direction parallel to the Z axis. In the XZ plane, the angle formed by the optical axis of the illumination light L1 and the Z axis is the illumination angle α. The incident angle of the illumination light L1 on the optical axis is the illumination angle α. The illumination light L1 illuminates the sample 20 from a direction inclined by an illumination angle α from the Z axis. The optical system of the illumination light L1 may be provided with a lens, an optical scanner, a mirror, a beam splitter, and the like.

光源10からの照明光L1は、試料20の表面において、ライン状の照明領域を形成する。例えば、照明光L1は図示しないレンズにより試料20のパターン面に集光されていてもよい。照明光L1は、試料20の表面で反射される。 The illumination light L1 from the light source 10 forms a line-shaped illumination region on the surface of the sample 20. For example, the illumination light L1 may be focused on the pattern surface of the sample 20 by a lens (not shown). The illumination light L1 is reflected on the surface of the sample 20.

検出器11は、照明領域からの検出光L2を検出する。検出器11は、Y方向に受光画素が並んだラインセンサカメラである。ラインセンサでは、複数の受光画素が1列に配列されている。例えば、検出器11は、CCDラインセンサなどを用いて、試料20を撮像する。もちろん、検出器11は、ラインセンサに限らず、複数の受光画素がアレイ状に配列された2次元アレイセンサであってもよい。また、図示しないレンズが検出光L2を検出器11の受光面に結像してもよい。 The detector 11 detects the detection light L2 from the illumination region. The detector 11 is a line sensor camera in which light receiving pixels are arranged in the Y direction. In the line sensor, a plurality of light receiving pixels are arranged in a row. For example, the detector 11 images the sample 20 using a CCD line sensor or the like. Of course, the detector 11 is not limited to the line sensor, and may be a two-dimensional array sensor in which a plurality of light receiving pixels are arranged in an array. Further, a lens (not shown) may image the detection light L2 on the light receiving surface of the detector 11.

検出器11は、斜め方向、すなわちZ軸から傾いた方向からの検出光L2を検出する。試料20に対する検出器11の角度を検出角度βとする。Z軸と検出器11の光軸との成す角度が検出角度βとなる。なお、検出光L2は、試料20で正反射した正反射光でもよく、試料20の表面で拡散反射した拡散反射光であってもよい。つまり、照明角度αと検出角度βは同じ値であってもよく異なる値であってもよい。また、検出光L2は、試料20のパターンにより回折した回折光であってもよい。照明角度α、及び検出角度βは、0°で一致していてもよい。この場合、ハーフミラーのビームスプリッタにより照明光L1と検出光L2の光路を分岐してもよい。 The detector 11 detects the detection light L2 from an oblique direction, that is, a direction inclined from the Z axis. The angle of the detector 11 with respect to the sample 20 is defined as the detection angle β. The angle formed by the Z axis and the optical axis of the detector 11 is the detection angle β. The detection light L2 may be specularly reflected light reflected by the sample 20 or diffusely reflected light diffusely reflected by the surface of the sample 20. That is, the illumination angle α and the detection angle β may have the same value or different values. Further, the detection light L2 may be diffracted light diffracted by the pattern of the sample 20. The illumination angle α and the detection angle β may coincide with each other at 0 °. In this case, the optical path of the illumination light L1 and the detection light L2 may be split by the beam splitter of the half mirror.

そして、試料20と照明領域の相対位置を変えながら、検出器11が試料20を撮像する。具体的には、ステージ30は、X方向に移動可能となっている。ステージ30をX方向に移動させながら、光源10で照明された照明領域からの検出光L2を検出器11が検出する。そして、検出器11によって検出された検出光L2の輝度に応じた検出データが処理装置50に入力される。さらに、処理装置50は、ステージ30の駆動を制御している。そして、処理装置50は、検出器11の検出した検出光L2の輝度変化を可視化する。こうすることで、試料20全面の画像を取得することができる。 Then, the detector 11 takes an image of the sample 20 while changing the relative positions of the sample 20 and the illumination region. Specifically, the stage 30 is movable in the X direction. While moving the stage 30 in the X direction, the detector 11 detects the detection light L2 from the illumination region illuminated by the light source 10. Then, the detection data corresponding to the brightness of the detection light L2 detected by the detector 11 is input to the processing device 50. Further, the processing device 50 controls the drive of the stage 30. Then, the processing device 50 visualizes the change in the brightness of the detection light L2 detected by the detector 11. By doing so, an image of the entire surface of the sample 20 can be obtained.

このようにして、処理装置50は、試料20の2次元画像を試料画像として取得する。処理装置50は、取得した試料画像に基づいて、検査を行う。試料20に欠陥がある場合、検出光L2の強度が変化するため、試料画像の輝度が変化する。例えば、欠陥がある箇所では、試料画像の輝度が低くなる。あるいは、欠陥がある箇所では、試料画像の輝度が高くなる。よって、試料画像の輝度変化に応じて、欠陥を検出することができる。 In this way, the processing apparatus 50 acquires a two-dimensional image of the sample 20 as a sample image. The processing device 50 performs an inspection based on the acquired sample image. When the sample 20 is defective, the intensity of the detection light L2 changes, so that the brightness of the sample image changes. For example, the brightness of the sample image becomes low in the defective portion. Alternatively, the brightness of the sample image is increased at the defective portion. Therefore, defects can be detected according to the change in the brightness of the sample image.

処理装置50は、検出器11のシェーディングを補正している。なお、シェーディングとは、受光画素の検出感度のばらつきに対応している。処理装置50は、キャリブレーションデータを用いて、検出器11の受光画素の検出感度のばらつきを補正している。例えば、キャリブレーションデータには、受光画素毎に係数が設定されている。処理装置50は、キャリブレーションデータをメモリなどに記憶している。処理装置50が、係数を各受光画素の出力値に乗じることでシェーディングを補正している。処理装置50は、シェーディングを補正した画像に基づいて、検査を行っている。 The processing device 50 corrects the shading of the detector 11. It should be noted that shading corresponds to variations in the detection sensitivity of the light receiving pixels. The processing device 50 uses the calibration data to correct variations in the detection sensitivity of the light receiving pixels of the detector 11. For example, in the calibration data, a coefficient is set for each light receiving pixel. The processing device 50 stores the calibration data in a memory or the like. The processing device 50 corrects the shading by multiplying the coefficient by the output value of each light receiving pixel. The processing device 50 performs the inspection based on the shading-corrected image.

さらに、処理装置50は、シェーディング補正するためのキャリブレーションデータを更新している。例えば、照明光L1として、紫外光を用いた場合、検出器11が短期間で劣化してしまう。さらに、検出器11の受光画素毎に劣化度合いが異なる。検出器11の劣化により、シェーディングプロファイルが変化してしまう。つまり、時間の経過ととともに、検出器11のシェーディング量が変化していってしまう。そこで、本実施の形態では、処理装置50は、キャリブレーションデータを繰り返し取得している。処理装置50は、最新のキャリブレーションデータに基づいて、シェーディング補正を行っている。なお、処理装置50によるシェーディングの補正処理については後述する。 Further, the processing device 50 updates the calibration data for shading correction. For example, when ultraviolet light is used as the illumination light L1, the detector 11 deteriorates in a short period of time. Further, the degree of deterioration is different for each light receiving pixel of the detector 11. The shading profile changes due to the deterioration of the detector 11. That is, the shading amount of the detector 11 changes with the passage of time. Therefore, in the present embodiment, the processing device 50 repeatedly acquires the calibration data. The processing device 50 performs shading correction based on the latest calibration data. The shading correction process by the processing device 50 will be described later.

光源10と試料20との間には、フィルタ13が配置されている。また、試料20と検出器11との間には、フィルタ14が配置されている。フィルタ13、及びフィルタ14は、例えば、バンドパスフィルタ等の波長選択フィルタである。実際には複数のフィルタ13、フィルタ14が、光路中に挿脱可能に配置されている。例えば、複数のバンドパスフィルタの中から選択された1つのバンドパスフィルタがフィルタ13、又はフィルタ14として、光路中に挿入される。フィルタ13,又はフィルタ14として、バンドパスフィルタを用いることで、検出される光を単色にすることができる。 A filter 13 is arranged between the light source 10 and the sample 20. Further, a filter 14 is arranged between the sample 20 and the detector 11. The filter 13 and the filter 14 are wavelength selection filters such as a bandpass filter and the like. Actually, a plurality of filters 13 and 14 are arranged so as to be removable in the optical path. For example, one bandpass filter selected from a plurality of bandpass filters is inserted into the optical path as the filter 13 or the filter 14. By using a bandpass filter as the filter 13 or the filter 14, the detected light can be made monochromatic.

フィルタ13、14を挿脱することで、照明波長又は検出波長を選択的に取り出すことができる。あるいは、光源10を複数用意することで照明波長を変えてもよい。つまり、波長が異なる光源10を複数用意して、光源10を切り替えて用いてもよい。 By inserting and removing the filters 13 and 14, the illumination wavelength or the detection wavelength can be selectively extracted. Alternatively, the illumination wavelength may be changed by preparing a plurality of light sources 10. That is, a plurality of light sources 10 having different wavelengths may be prepared and the light sources 10 may be switched and used.

さらに、光源10と検出器11の角度は可変になっている。例えば、光源10をY軸周りに回転させることで、照明光L1の照明角度αを変えることができるようになっている(図1の矢印A参照)。また、検出器11をY軸周りに回転させることで、検出器11の検出される検出角度βを変えることができるようになっている(図1の矢印B参照)。 Further, the angle between the light source 10 and the detector 11 is variable. For example, the illumination angle α of the illumination light L1 can be changed by rotating the light source 10 around the Y axis (see arrow A in FIG. 1). Further, by rotating the detector 11 around the Y axis, the detection angle β detected by the detector 11 can be changed (see arrow B in FIG. 1).

光源10と検出器11の角度は独立して調整することができる。つまり、照明角度α、及び検出角度βを独立して変えることができる。あるいは、ステージ30をX軸またはY軸周りに傾けて照明光及び検出器11の角度を変更してもよい。なお、検出角度を変えるために光源10又は検出器11を移動すると、フィルタ13,又はフィルタ14も移動する。 The angle between the light source 10 and the detector 11 can be adjusted independently. That is, the illumination angle α and the detection angle β can be changed independently. Alternatively, the stage 30 may be tilted around the X-axis or the Y-axis to change the angle of the illumination light and the detector 11. When the light source 10 or the detector 11 is moved to change the detection angle, the filter 13 or the filter 14 also moves.

以下、処理装置50におけるシェーディング補正について説明する。処理装置50は、画像取得部51と、キャリブレーションデータ生成部52と、補正部53と、を備えている。 Hereinafter, the shading correction in the processing device 50 will be described. The processing device 50 includes an image acquisition unit 51, a calibration data generation unit 52, and a correction unit 53.

画像取得部51は、試料画像を取得する。つまり、ステージ30に試料20が載置された状態で、検出器11が試料20からの検出光L2を検出する。そして、ステージ30をX方向に移動させることで、画像取得部51が試料20の二次元画像を取得することができる。試料画像は、試料20の全体の画像でもよく、一部の画像でもよい。なお、試料画像のデータを試料データとする。つまり、試料データは、試料20からの検出光L2を検出器11で検出した時の各受光画素の出力値となる。試料データは検出器11の各受光画素での受光量に応じて変化する。処理装置50は、試料データをメモリなどに格納する。 The image acquisition unit 51 acquires a sample image. That is, the detector 11 detects the detection light L2 from the sample 20 with the sample 20 placed on the stage 30. Then, by moving the stage 30 in the X direction, the image acquisition unit 51 can acquire a two-dimensional image of the sample 20. The sample image may be an entire image of the sample 20 or a partial image. The data of the sample image is used as the sample data. That is, the sample data is the output value of each light receiving pixel when the detection light L2 from the sample 20 is detected by the detector 11. The sample data changes according to the amount of light received by each light receiving pixel of the detector 11. The processing device 50 stores the sample data in a memory or the like.

さらに、画像取得部51は、ステージ30の周辺部分30aの画像(以下、周辺画像とする)を取得する。つまり、試料20がステージ30に載置されている状態で、検出器11が周辺部分30aを撮像する。周辺部分30aは、ステージ30の上面であって、試料20よりも外側にある部分である。具体的には、光源10が照明光L1により周辺部分30aを照明する。照明された周辺部分30aからの検出光L2を検出器11が検出する。ステージ30をX方向に移動させることで、画像取得部51が周辺部分30aの二次元画像を取得することができる。なお、周辺画像のデータを周辺データとする。つまり、周辺データは、周辺部分30aからの検出光L2を検出器11で検出した時の出力値となる。処理装置50は、周辺データをメモリなどに格納する。 Further, the image acquisition unit 51 acquires an image of the peripheral portion 30a of the stage 30 (hereinafter referred to as a peripheral image). That is, the detector 11 images the peripheral portion 30a while the sample 20 is placed on the stage 30. The peripheral portion 30a is the upper surface of the stage 30 and is a portion outside the sample 20. Specifically, the light source 10 illuminates the peripheral portion 30a with the illumination light L1. The detector 11 detects the detection light L2 from the illuminated peripheral portion 30a. By moving the stage 30 in the X direction, the image acquisition unit 51 can acquire a two-dimensional image of the peripheral portion 30a. The data of the peripheral image is used as the peripheral data. That is, the peripheral data is an output value when the detection light L2 from the peripheral portion 30a is detected by the detector 11. The processing device 50 stores peripheral data in a memory or the like.

キャリブレーションデータ生成部52は、シェーディングを補正するためのキャリブレーションデータを生成する。具体的には、キャリブレーションデータ生成部52は、所定の期間経過する前後の周辺データにより、キャリブレーションデータを生成する。つまり、キャリブレーションデータ生成部52は、撮像日時T1に撮像された周辺画像と、撮像日時T2に撮像された周辺画像とを比較し、劣化度合いに応じた係数を受光画素毎に求める。キャリブレーションデータは、受光画素に対して設定された係数を有している。 The calibration data generation unit 52 generates calibration data for correcting shading. Specifically, the calibration data generation unit 52 generates calibration data from peripheral data before and after the elapse of a predetermined period. That is, the calibration data generation unit 52 compares the peripheral image captured on the imaging date and time T1 with the peripheral image captured on the imaging date and time T2, and obtains a coefficient according to the degree of deterioration for each light receiving pixel. The calibration data has a coefficient set for the light receiving pixel.

そして、補正部53は、キャリブレーションデータを用いて、試料画像のシェーディングを補正する。例えば、補正部53は、受光画素毎に係数を乗じることで、試料画像のシェーディングを補正している。つまり、受光画素の出力値に係数を乗じることで、シェーディング補正された試料画像(補正画像ともいう)が求められる。処理装置50が、補正画像に基づいて検査を行うことで、試料20をより適切に検査することができる。 Then, the correction unit 53 corrects the shading of the sample image by using the calibration data. For example, the correction unit 53 corrects the shading of the sample image by multiplying each light receiving pixel by a coefficient. That is, a shading-corrected sample image (also referred to as a corrected image) can be obtained by multiplying the output value of the light receiving pixel by a coefficient. The processing device 50 can inspect the sample 20 more appropriately by performing the inspection based on the corrected image.

図2、及図3は、ベアウェハを試料20とした場合の試料データ(ベアウェハデータともいう)を示すグラフである。図2、及び図3は、検出器11の受光画素毎の出力値をプロットしたプロファイルデータである。横軸が検出器11の画素アドレスであり、縦軸が正規化された画素の出力値である。 2 and 3 are graphs showing sample data (also referred to as bare wafer data) when the bare wafer is used as the sample 20. 2 and 3 are profile data in which the output values of the light receiving pixels of the detector 11 are plotted. The horizontal axis is the pixel address of the detector 11, and the vertical axis is the output value of the normalized pixel.

ここでは、ベアウェハを基準試料とする。ベアウェハでは、パターンが形成されていないため、シェーディングがない理想的な状態では受光画素の出力値が同じ値になるはずである。換言すると、シェーディングがある場合、受光画素の受光量が同じであっても、図2、図3のように、受光画素の出力値が異なる値となる。 Here, a bare wafer is used as a reference sample. In the bare wafer, since the pattern is not formed, the output values of the light receiving pixels should be the same in the ideal state without shading. In other words, when there is shading, even if the light receiving amount of the light receiving pixels is the same, the output values of the light receiving pixels are different as shown in FIGS. 2 and 3.

図2は撮像日時T1で撮像されたベアウェハ画像のベアウェハデータであり、図3は、撮像日時T2で撮像されたベアウェハ画像のベアウェハデータである。撮像日時T1と撮像日時T2とは、1週間異なっている。つまり、撮像日時T2は、撮像日時T1から1週間後の日時となっている。図2、及び図3は、同じベアウェハかつ同じ検出器11を用いて、同じ撮像条件で測定された試料データを示している。図2と図3のベアウェハデータを比較することで、1週間経過後の検出器11の受光画素毎の劣化度合いを求めることができる。また、図2と図3とでは、受光画素の出力値の平均値が同じ値になるように規格化されたデータを示している。 FIG. 2 is bare wafer data of the bare wafer image captured at the imaging date and time T1, and FIG. 3 is bare wafer data of the bare wafer image captured at the imaging date and time T2. The imaging date and time T1 and the imaging date and time T2 are different by one week. That is, the imaging date and time T2 is a date and time one week after the imaging date and time T1. 2 and 3 show sample data measured under the same imaging conditions using the same bare wafer and the same detector 11. By comparing the bare wafer data of FIGS. 2 and 3, the degree of deterioration of each light receiving pixel of the detector 11 after one week has passed can be obtained. Further, FIGS. 2 and 3 show data standardized so that the average value of the output values of the light receiving pixels is the same value.

図4は、図2と図3のベアウェハデータを比較することで得られたプロファイルの変化率を示すグラフである。図2に示すように、受光画素毎に変化率が異なっている。最大で1%程度シェーディング量が変化している。 FIG. 4 is a graph showing the rate of change of the profile obtained by comparing the bare wafer data of FIGS. 2 and 3. As shown in FIG. 2, the rate of change is different for each light receiving pixel. The amount of shading changes by about 1% at the maximum.

処理装置50は、図4に示すプロファイルの変化を打ち消すように、シェーディング補正を行う。図5は、図4と同じ撮像日時での周辺画像のプロファイルの変化率を示す図である。つまり、図5は、撮像日時T1の周辺画像の周辺データと、撮像日時T2の周辺画像との周辺データを比較することで得られたグラフである。なお、図5は、200画素分の移動平均値を示している。 The processing device 50 performs shading correction so as to cancel the change in the profile shown in FIG. FIG. 5 is a diagram showing the rate of change of the profile of the peripheral image at the same imaging date and time as in FIG. That is, FIG. 5 is a graph obtained by comparing the peripheral data of the peripheral image of the imaging date and time T1 with the peripheral data of the peripheral image of the imaging date and time T2. Note that FIG. 5 shows a moving average value for 200 pixels.

周辺データのシェーディング量の変化率(図5)と、ベアウェハデータのシェーディング量の変化率(図4)は、ほぼ同様になっている。図4のデータをA、図5のデータをBとした場合、A/Bのプロファイルを図6に示す。図6に示すように、プロファイルの変化率を低減することができる。具体的には、図4では最大で1%程度であったシェーディング量の変化が図6では、最大で0.3%程度に低減している。このように、周辺データを用いることで、撮像日時T1と撮像日時T2でのシェーディング量の変化を打ち消すことができる。処理装置50が、周辺データのプロファイルの変化率を用いることで、試料画像のシェーディング量を補正することができる。具体的には、キャリブレーションデータ生成部52が、撮像日時の異なる周辺画像の周辺データを用いて、キャリブレーションデータを生成する。 The rate of change in the shading amount of the peripheral data (FIG. 5) and the rate of change in the shading amount of the bare wafer data (FIG. 4) are almost the same. When the data of FIG. 4 is A and the data of FIG. 5 is B, the profile of A / B is shown in FIG. As shown in FIG. 6, the rate of change of the profile can be reduced. Specifically, the change in shading amount, which was about 1% at the maximum in FIG. 4, is reduced to about 0.3% at the maximum in FIG. In this way, by using the peripheral data, it is possible to cancel the change in the shading amount between the imaging date and time T1 and the imaging date and time T2. The processing device 50 can correct the shading amount of the sample image by using the rate of change of the profile of the peripheral data. Specifically, the calibration data generation unit 52 generates calibration data using peripheral data of peripheral images having different imaging dates and times.

画像取得部51は、試料画像と、周辺画像とを取得する。キャリブレーションデータ生成部52は、撮像日時T1と撮像日時T2の周辺データに基づいて、キャリブレーションデータを生成する。キャリブレーションデータには、受光画素毎にシェーディングを打ち消すための係数が設定されている。そして、補正部53は、キャリブレーションデータを用いて試料画像のシェーディングを補正する。補正部53は、受光画素毎に係数を乗じることで、試料データを補正する。これにより、適切にシェーディングが補正された試料画像(補正画像ともいう)を撮像することができる。 The image acquisition unit 51 acquires a sample image and a peripheral image. The calibration data generation unit 52 generates calibration data based on the peripheral data of the imaging date / time T1 and the imaging date / time T2. In the calibration data, a coefficient for canceling shading is set for each light receiving pixel. Then, the correction unit 53 corrects the shading of the sample image using the calibration data. The correction unit 53 corrects the sample data by multiplying each light receiving pixel by a coefficient. This makes it possible to capture a sample image (also referred to as a corrected image) in which shading is appropriately corrected.

さらに、本実施の形態では、検出器11が、ステージ30において、試料20からはみ出した周辺部分30aを撮像している。そして、2つの周辺画像に基づいて、キャリブレーションデータ生成部52がキャリブレーションデータを生成している。つまり、撮像日時が異なる2つの周辺画像の周辺データを受光画素毎に比較することで、係数を求めている。 Further, in the present embodiment, the detector 11 images the peripheral portion 30a protruding from the sample 20 at the stage 30. Then, the calibration data generation unit 52 generates the calibration data based on the two peripheral images. That is, the coefficient is obtained by comparing the peripheral data of two peripheral images having different imaging dates and times for each light receiving pixel.

このようにすることで、簡便にキャリブレーションデータを作成することができる。つまり、ベアウェハなどのキャリブレーション用試料を用いることなく、キャリブレーションデータを更新することができる。つまり、ベアウェハをステージ30に搬送する必要がなくなるため、タクトタイムの増加を抑制することができる。 By doing so, calibration data can be easily created. That is, the calibration data can be updated without using a calibration sample such as a bare wafer. That is, since it is not necessary to transport the bare wafer to the stage 30, it is possible to suppress an increase in the tact time.

さらに、試料20が配置された状態であっても、周辺部分30aを撮像することができる。よって、周辺部分30aの撮像後、速やかに試料20を撮像することができる。あるいは、試料20の撮像後、速やかに周辺部分30aを撮像することができる。したがって、試料20の撮像直後又は撮像直前に撮像された周辺画像の周辺データに基づいて、キャリブレーションデータ生成部52がキャリブレーションデータを生成することができる。試料20の撮像直前又は撮像直後に周辺画像を撮像することができるため、周辺画像の撮像時と試料画像の撮像時とで、シェーディング量の違いがほとんど無くなる。これにより、試料画像のシェーディングを適切に補正することができる。 Further, even when the sample 20 is arranged, the peripheral portion 30a can be imaged. Therefore, the sample 20 can be immediately imaged after the peripheral portion 30a is imaged. Alternatively, after imaging the sample 20, the peripheral portion 30a can be imaged immediately. Therefore, the calibration data generation unit 52 can generate the calibration data based on the peripheral data of the peripheral image captured immediately after or immediately before the imaging of the sample 20. Since the peripheral image can be captured immediately before or immediately after the sampling of the sample 20, there is almost no difference in the amount of shading between the time of capturing the peripheral image and the time of capturing the sample image. Thereby, the shading of the sample image can be appropriately corrected.

例えば、処理装置50は、試料20となるパターン付きウェハを載置する毎に、キャリブレーションデータを更新すればよい。撮像装置100は、周辺部分30aを撮像することで、キャリブレーションデータを更新することができる。これにより、時間の経過とともに検出器11の受光画素が劣化する場合でもあっても、適切にシェーディングを補正することができる。さらに、ベアウェハなどのキャリブレーション用試料をステージ30に搬送しなくても、キャブレーションデータを更新することができる。よって、処理装置50は、簡便かつ適切に、試料画像のシェーディングを補正することができる。 For example, the processing device 50 may update the calibration data every time a patterned wafer as a sample 20 is placed. The image pickup apparatus 100 can update the calibration data by taking an image of the peripheral portion 30a. As a result, even if the light receiving pixels of the detector 11 deteriorate with the passage of time, the shading can be appropriately corrected. Further, the calibration data can be updated without transporting the calibration sample such as a bare wafer to the stage 30. Therefore, the processing device 50 can easily and appropriately correct the shading of the sample image.

以下、キャリブレーションデータを生成する一例について説明する。補正後の輝度値C2は以下の式(1)で求めることができる。
C2=S2×(W0/W1)×(P1/P2) ・・・(1)
An example of generating calibration data will be described below. The corrected luminance value C2 can be obtained by the following equation (1).
C2 = S2 x (W0 / W1) x (P1 / P2) ... (1)

W0、W1は、試料20をベアウェハとした場合のベアウェハデータである。具体的には、W0は初期状態におけるベアウェハデータ(以下、初期ベアウェハデータW0とする)である。初期ベアウェハデータW0は、撮像日時T0におけるベアウェハデータである。W1は、撮像日時T0よりも後の撮像日時T1におけるベアウェハデータである。 W0 and W1 are bare wafer data when the sample 20 is a bare wafer. Specifically, W0 is bare wafer data in the initial state (hereinafter, referred to as initial bare wafer data W0). The initial bare wafer data W0 is bare wafer data at the imaging date and time T0. W1 is bare wafer data at the imaging date and time T1 after the imaging date and time T0.

S2は、検査対象となる試料20の試料データであり、撮像日時T2での試料データである。つまり、S2は、試料20を撮像したときの検出器11の出力値となる。P1、P2は、周辺データである。P1は、撮像日時T1における周辺データである。P2は、撮像日時T2における周辺データである。なお、キャリブレーションデータ生成部52は、Y方向における移動平均を求めることで、周辺データP1、P2を平滑化してもよい。 S2 is the sample data of the sample 20 to be inspected, and is the sample data at the imaging date and time T2. That is, S2 is the output value of the detector 11 when the sample 20 is imaged. P1 and P2 are peripheral data. P1 is peripheral data at the imaging date and time T1. P2 is peripheral data at the imaging date and time T2. The calibration data generation unit 52 may smooth the peripheral data P1 and P2 by obtaining the moving average in the Y direction.

(W0/W1)×(P1/P2)が、試料画像をシェーディング補正するための係数となる。そして、補正部53が、受光画素毎に、係数を試料データS2に乗じることで、試料画像のシェーディングを補正する。これにより、補正部53が適切にシェーディング補正された補正画像を算出することができる。そして、処理装置50は、補正画像に基づいて検査を行う。 (W0 / W1) × (P1 / P2) is a coefficient for shading correction of the sample image. Then, the correction unit 53 corrects the shading of the sample image by multiplying the sample data S2 by the coefficient for each light receiving pixel. As a result, the correction unit 53 can calculate a corrected image that has been appropriately shaded and corrected. Then, the processing device 50 performs an inspection based on the corrected image.

ここでは、周辺データP1は、ベアウェハデータW1の測定開始直前に測定されている。つまり、周辺データP1は、ベアウェハがステージ30に載せられた状態で撮像された周辺画像の周辺データである。周辺データP2は、試料データS2の測定開始直前に測定されている。つまり、周辺データP2は、試料20がステージ30に載せられた状態で撮像された周辺画像の周辺データである。具体的には、試料画像又はベアウェハ画像を撮像するためのスキャン開始時に周辺部分30aを撮像している。周辺部分30aの周辺画像を撮像した後に、ステージ30を駆動して、ベアウェハ、又は試料20を撮像している。換言すると、ステージ30は、周辺部分30aをスキャンした後に、ベアウェハ、又は試料20の全体をスキャンしている。 Here, the peripheral data P1 is measured immediately before the start of measurement of the bare wafer data W1. That is, the peripheral data P1 is peripheral data of the peripheral image captured with the bare wafer mounted on the stage 30. The peripheral data P2 is measured immediately before the start of measurement of the sample data S2. That is, the peripheral data P2 is peripheral data of the peripheral image captured with the sample 20 mounted on the stage 30. Specifically, the peripheral portion 30a is imaged at the start of scanning for capturing a sample image or a bare wafer image. After capturing the peripheral image of the peripheral portion 30a, the stage 30 is driven to image the bare wafer or the sample 20. In other words, the stage 30 scans the bare wafer or the entire sample 20 after scanning the peripheral portion 30a.

このように、キャリブレーションデータ生成部52は、ステージ30が撮像対象の試料20を吸着した時の周辺データ及び試料データを用いて、キャリブレーションデータを生成している。さらに、キャリブレーションデータ生成部52は、ステージ30に試料20としてベアウェハを載せたときの周辺データ及び試料データを用いて、キャリブレーションデータを生成してもよい。このようにすることで、シェーディング補正をより高い精度で行うことができる。 As described above, the calibration data generation unit 52 generates the calibration data by using the peripheral data and the sample data when the stage 30 adsorbs the sample 20 to be imaged. Further, the calibration data generation unit 52 may generate calibration data by using the peripheral data and the sample data when the bare wafer is placed on the stage 30 as the sample 20. By doing so, shading correction can be performed with higher accuracy.

以下、図7を用いて、本実施の形態にかかる撮像方法について説明する。図7は、撮像方法を示すフローチャートである。なお、図7では、例えば、所定期間(例えば、1週間)毎にベアウェハを撮像して、キャリブレーションデータを生成する例を示している。 Hereinafter, the imaging method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a flowchart showing an imaging method. Note that FIG. 7 shows an example in which a bare wafer is imaged every predetermined period (for example, one week) to generate calibration data.

まず、初期ベアウェハデータW0を取得する(S10)。初期ベアウェハデータW0は、上記の通り、初期状態におけるベアウェハ画像のデータである。つまり、撮像日時T0において、ベアウェハをステージ30に載せて、検出器11が試料20を撮像する。これにより、撮像日時T0における初期ベアウェハデータが取得される。 First, the initial bare wafer data W0 is acquired (S10). As described above, the initial bare wafer data W0 is the data of the bare wafer image in the initial state. That is, at the imaging date and time T0, the bare wafer is placed on the stage 30, and the detector 11 images the sample 20. As a result, the initial bare wafer data at the imaging date and time T0 is acquired.

次に、ベアウェハと周辺部分30aを撮像して、ベアウェハデータW1と周辺データP1とを取得する(S11)。つまり、撮像日時T1において、試料20であるベアウェハをステージ30に載せて、検出器11がベアウェハ画像及び周辺画像を撮像する。これにより、撮像日時T1におけるベアウェハデータW1、及び周辺データP1が取得される。なおベアウェハ画像と周辺画像とを撮像する順番は特に限定されるものではない。周辺画像の撮像前にベアウェハ画像を撮像してもよく、周辺画像の撮像後にベアウェハ画像を撮像してもよい。あるいは、ベアウェハ画像の撮像途中に周辺画像を撮像してもよい。ベアウェハ画像の撮像前後に周辺画像を撮像してもよい。 Next, the bare wafer and the peripheral portion 30a are imaged to acquire the bare wafer data W1 and the peripheral data P1 (S11). That is, at the imaging date and time T1, the bare wafer, which is the sample 20, is placed on the stage 30, and the detector 11 images the bare wafer image and the peripheral image. As a result, the bare wafer data W1 and the peripheral data P1 at the imaging date and time T1 are acquired. The order in which the bare wafer image and the peripheral image are captured is not particularly limited. The bare wafer image may be captured before the peripheral image is captured, or the bare wafer image may be captured after the peripheral image is captured. Alternatively, the peripheral image may be captured during the imaging of the bare wafer image. Peripheral images may be captured before and after imaging the bare wafer image.

試料20及び周辺部分30aを撮像して、試料データS2と周辺データP2とを取得する(S12)。つまり、撮像日時T2において、検査対象の試料20をステージ30に載せて、検出器11が試料画像及び周辺画像を撮像する。これにより、撮像日時T2における試料データS2、及び周辺データP2が取得される。なお、試料画像と周辺画像とを撮像する順番は特に限定されるものではない。周辺画像の撮像前に試料画像を撮像してもよく、周辺画像の撮像後に試料画像を撮像してもよい。あるいは、試料画像の撮像途中に周辺画像を撮像してもよい。試料画像の撮像前後に周辺画像を撮像してもよい。 The sample 20 and the peripheral portion 30a are imaged to acquire the sample data S2 and the peripheral data P2 (S12). That is, at the imaging date and time T2, the sample 20 to be inspected is placed on the stage 30, and the detector 11 images the sample image and the peripheral image. As a result, the sample data S2 at the imaging date and time T2 and the peripheral data P2 are acquired. The order in which the sample image and the peripheral image are captured is not particularly limited. The sample image may be captured before the peripheral image is captured, or the sample image may be captured after the peripheral image is captured. Alternatively, the peripheral image may be captured during the imaging of the sample image. Peripheral images may be captured before and after imaging the sample image.

次に、キャリブレーションデータ生成部52がキャリブレーションデータを生成する(S13)。そして、補正部53がキャリブレーションデータを用いて、試料画像のキャリブレーションを補正する(S14)。つまり、処理装置50は、上記の式(1)を用いて、試料画像のシェーディングを補正する。なお、キャリブレーションデータの生成ステップS13と、シェーディングの補正ステップS14は実質的に同時に行われてもよく、順番に行われてもよい。 Next, the calibration data generation unit 52 generates calibration data (S13). Then, the correction unit 53 corrects the calibration of the sample image using the calibration data (S14). That is, the processing device 50 corrects the shading of the sample image by using the above formula (1). The calibration data generation step S13 and the shading correction step S14 may be performed substantially at the same time, or may be performed in order.

次に、処理装置50は、前回のベアウェハの撮像日時T1から所定期間(例えば1週間)経過したか否かを判定する(S15)。ベアウェハの撮像日時T1から所定期間経過していた場合(S15のYES)、ベアウェハをステージ30に搬送して、S11を再度実施する。これにより、P1、及びW1が更新される。 Next, the processing device 50 determines whether or not a predetermined period (for example, one week) has elapsed from the previous imaging date and time T1 of the bare wafer (S15). When a predetermined period has elapsed from the imaging date and time T1 of the bare wafer (YES in S15), the bare wafer is conveyed to the stage 30 and S11 is performed again. As a result, P1 and W1 are updated.

ベアウェハの撮像日時T1から所定期間経過していない場合(S15のNO)、次の試料20をステージ30に搬送して、S13〜S15の処理を行う。これにより、周辺データP2が更新される。つまり、キャリブレーションデータ生成部52が、新たに取得された周辺データP2を用いて、キャリブレーションデータを更新する。補正部53が次の試料20の補正画像を求めることができる。このようにすることで、頻繁にベアウェハをステージ30に搬送することなく、適切なキャリブレーションデータを生成することができる。よって、簡便かつ適切にシェーディング補正を行うことができる。 When a predetermined period has not elapsed from the imaging date and time T1 of the bare wafer (NO in S15), the next sample 20 is conveyed to the stage 30 to perform the processes S13 to S15. As a result, the peripheral data P2 is updated. That is, the calibration data generation unit 52 updates the calibration data using the newly acquired peripheral data P2. The correction unit 53 can obtain the correction image of the next sample 20. By doing so, it is possible to generate appropriate calibration data without frequently transporting the bare wafer to the stage 30. Therefore, shading correction can be performed easily and appropriately.

なお、上記の説明では、試料20がステージ30に搬送される毎に、周辺データP2が取得されているが、周辺データP2の取得タイミングは特に限定されるものではない。例えば、シェーディング量の時間変化が小さい場合、周辺データP2の取得タイミングを減らすことができる。例えば、複数の試料20毎、又は所定の時間毎に周辺データP2が更新されていてもよい。 In the above description, the peripheral data P2 is acquired every time the sample 20 is transported to the stage 30, but the acquisition timing of the peripheral data P2 is not particularly limited. For example, when the time change of the shading amount is small, the acquisition timing of the peripheral data P2 can be reduced. For example, the peripheral data P2 may be updated every 20 or more samples, or every predetermined time.

また、ベアウェハをステージ30に載せる頻度を少なくすることができる。例えば、ベアウェハの撮像を1週間に1回程度にすることができる。したがって、タクトタイムの増加を防ぐことができる。ベアウェハを撮像する頻度は、検査対象の試料20を撮像する頻度より少なければよい。 Further, the frequency of placing the bare wafer on the stage 30 can be reduced. For example, the bare wafer can be imaged about once a week. Therefore, it is possible to prevent an increase in takt time. The frequency of imaging the bare wafer may be less than the frequency of imaging the sample 20 to be inspected.

キャリブレーションデータを算出するための周辺データを複数回測定することで、ランダムノイズを低減することができる。例えば、周辺画像を複数回撮像して、その積算値を用いてもよい。あるいは、周辺部分30aのスキャン速度を、試料20のスキャン速度よりも遅くしてもよい。このようにすることで、S/N比を向上することができるため。より精度よくシェーディングを補正することができる。 Random noise can be reduced by measuring the peripheral data for calculating the calibration data a plurality of times. For example, the peripheral image may be captured a plurality of times and the integrated value may be used. Alternatively, the scanning speed of the peripheral portion 30a may be slower than the scanning speed of the sample 20. By doing so, the S / N ratio can be improved. Shading can be corrected more accurately.

試料画像の撮像前後に周辺画像を撮像してもよい。試料画像の撮像前の周辺データの撮像後の周辺データを用いて、キャリブレーションデータを生成してもよい。試料画像の撮像前後の周辺データを比較することで、試料画像の撮像中、つまり、ステージ30の走査中におけるシェーディング量の変化を評価することができる。したがって、より適切に試料画像のシェーディング量を補正することができる。 Peripheral images may be captured before and after imaging the sample image. Calibration data may be generated by using the peripheral data after imaging of the peripheral data before imaging the sample image. By comparing the peripheral data before and after the imaging of the sample image, it is possible to evaluate the change in the shading amount during the imaging of the sample image, that is, during the scanning of the stage 30. Therefore, the shading amount of the sample image can be corrected more appropriately.

次に、ステージ30の一例について、図8、図9を用いて説明する。図8は、ステージ30の構成を示す上面図である。図9は、ステージ30の構成を示す側面断面図である。ステージ30は、例えば、特許文献2に示す基板保持装置と同様の構成を備えている。 Next, an example of the stage 30 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a top view showing the configuration of the stage 30. FIG. 9 is a side sectional view showing the configuration of the stage 30. The stage 30 has, for example, the same configuration as the substrate holding device shown in Patent Document 2.

ステージ30は、シール部31、シールピン33、支持ピン35、吸着空間36、排気口38、及びステージ台39を備えている。なお、以下の説明において、試料20と垂直な方向をZ方向とし、Z方向と垂直な試料20の平面をXY平面とする。 The stage 30 includes a seal portion 31, a seal pin 33, a support pin 35, a suction space 36, an exhaust port 38, and a stage stand 39. In the following description, the direction perpendicular to the sample 20 is defined as the Z direction, and the plane of the sample 20 perpendicular to the Z direction is defined as the XY plane.

ステージ台39は、円盤状の台座であり、試料20よりも大きい外形を有している。ステージ台39には、試料20を吸着固定するための排気口38が設けられている。排気口38は、ステージ台39を貫通する吸着穴となっている。排気口38は図示しない真空ポンプなどに接続されている。排気口38は、吸着空間36を排気する The stage base 39 is a disk-shaped pedestal and has an outer shape larger than that of the sample 20. The stage base 39 is provided with an exhaust port 38 for sucking and fixing the sample 20. The exhaust port 38 is a suction hole that penetrates the stage base 39. The exhaust port 38 is connected to a vacuum pump or the like (not shown). The exhaust port 38 exhausts the suction space 36.

ステージ台39上には、シール部31が設けられている。シール部31は、ステージ台39の表面から上方に突出した凸部によって形成されている。シール部31は、試料20の外周縁近傍に連続的に形成されている。試料20は、実質的に円形の外形を有する半導体ウェハである。よって、シール部31は、試料20の外周縁に沿って円環状に形成されている。シール部31は、試料20の周縁部の直下に配置される。 A seal portion 31 is provided on the stage base 39. The seal portion 31 is formed by a convex portion protruding upward from the surface of the stage base 39. The seal portion 31 is continuously formed in the vicinity of the outer peripheral edge of the sample 20. Sample 20 is a semiconductor wafer having a substantially circular outer shape. Therefore, the seal portion 31 is formed in an annular shape along the outer peripheral edge of the sample 20. The seal portion 31 is arranged directly below the peripheral edge portion of the sample 20.

シール部31の外形は試料20の外形よりも大きくなっている。よって、シール部31は、試料20の外側にはみ出しているため、シール部31の一部が周辺部分30aとなる。シール部31の頂面31aは、平坦度が高いため、周辺データの取得に好適である。また、シール部31を周辺部分30aとすることで、容易に周辺画像を撮像することができる。 The outer shape of the seal portion 31 is larger than the outer shape of the sample 20. Therefore, since the seal portion 31 protrudes to the outside of the sample 20, a part of the seal portion 31 becomes a peripheral portion 30a. Since the top surface 31a of the seal portion 31 has a high flatness, it is suitable for acquiring peripheral data. Further, by setting the seal portion 31 as the peripheral portion 30a, the peripheral image can be easily captured.

ステージ台39上において、シール部31よりも内側の空間が、吸着空間36となっている。シール部31が吸着空間36と、外部空間(吸着空間36よりも外側の空間)を区画する外周壁となる。 On the stage table 39, the space inside the seal portion 31 is the suction space 36. The seal portion 31 serves as an outer peripheral wall that separates the suction space 36 and the external space (the space outside the suction space 36).

吸着空間36には、複数の支持ピン35が設けられている。支持ピン35は、ステージ台39の表面から上方に突出している。XY平面において、複数の支持ピン35は、ほぼ一定の間隔で、ステージ台39上に配列されている。すなわち、隣接する支持ピン35の間隔がほぼ一定になっている。複数の支持ピン35は、ほぼ同じ高さ、及びほぼ同じ径で設けられている。 A plurality of support pins 35 are provided in the suction space 36. The support pin 35 projects upward from the surface of the stage base 39. In the XY plane, the plurality of support pins 35 are arranged on the stage table 39 at substantially regular intervals. That is, the distance between the adjacent support pins 35 is almost constant. The plurality of support pins 35 are provided at substantially the same height and at substantially the same diameter.

シール部31の頂面31aには、複数のシールピン33が設けられている。シールピン33は、シール部31の頂面31aから上方に突出している。XY平面において、複数のシールピン33は、ほぼ一定の間隔でシール部31上に配列されている。すなわち、隣接するシールピン33の間隔がほぼ一定になっている。複数のシールピン33は、ほぼ同じ高さ、及びほぼ同じ径で設けられている。また、試料20の搬送時に位置ずれを考慮して、シールピン33は、試料20の直下だけでなく、試料20の外形よりも外側にも設けられている。 A plurality of seal pins 33 are provided on the top surface 31a of the seal portion 31. The seal pin 33 projects upward from the top surface 31a of the seal portion 31. In the XY plane, the plurality of seal pins 33 are arranged on the seal portion 31 at substantially regular intervals. That is, the distance between the adjacent seal pins 33 is almost constant. The plurality of seal pins 33 are provided at substantially the same height and substantially the same diameter. Further, the seal pin 33 is provided not only directly under the sample 20 but also outside the outer shape of the sample 20 in consideration of the misalignment during the transportation of the sample 20.

シールピン33の頂面の高さと、支持ピン35の頂面の高さとほぼ同じになっている。よって、試料20は、支持ピン35、及びシールピン33と当接する。なお、シールピン33の頂面は、支持ピン35の頂面よりも低くなっていてもよい。 The height of the top surface of the seal pin 33 is almost the same as the height of the top surface of the support pin 35. Therefore, the sample 20 comes into contact with the support pin 35 and the seal pin 33. The top surface of the seal pin 33 may be lower than the top surface of the support pin 35.

周辺部分30aは、シール部31とシールピン33とを含んでいる。つまり、シール部31とシールピン33とを含む領域が周辺部分30aとなる。そして、検出器11がシール部31とシールピン33からの検出光を検出することで、周辺部分30aが撮像される。 The peripheral portion 30a includes a seal portion 31 and a seal pin 33. That is, the region including the seal portion 31 and the seal pin 33 is the peripheral portion 30a. Then, the detector 11 detects the detection light from the seal portion 31 and the seal pin 33, so that the peripheral portion 30a is imaged.

図10に周辺部分30aを撮像した周辺画像の一例を示す。なお、図10において、試料20は、ベアウェハとなっている。図9では、横軸がY方向、つまり検出器11の受光画素の配列方向となっており、縦方向がステージ30による走査方向となっている。よって、周辺部分30aの二次元画像が周辺画像となる。 FIG. 10 shows an example of a peripheral image obtained by capturing the peripheral portion 30a. In FIG. 10, the sample 20 is a bare wafer. In FIG. 9, the horizontal axis is the Y direction, that is, the arrangement direction of the light receiving pixels of the detector 11, and the vertical direction is the scanning direction by the stage 30. Therefore, the two-dimensional image of the peripheral portion 30a becomes the peripheral image.

ここでは、検出器11の受光画素毎に出力値(輝度値)の平均値を取ることで、キャリブレーションデータ生成部52が周辺データを生成している。つまり、二次元画像においてX方向に並ぶ複数の画素の輝度を積分して、積分値を画素数で除する。このようにすることで、周辺データのプロファイルを算出している。 Here, the calibration data generation unit 52 generates peripheral data by taking an average value of output values (luminance values) for each light receiving pixel of the detector 11. That is, the brightness of a plurality of pixels arranged in the X direction in the two-dimensional image is integrated, and the integrated value is divided by the number of pixels. By doing so, the profile of the peripheral data is calculated.

図10に示すように、周辺画像では、シールピン33が、シール部31よりも暗くなっている。つまり、シールピン33からの検出光を受光する画素では、シール部31からの検出光を受光する画素よりも、輝度値が小さくなる。よって、キャリブレーションデータ生成部52が、周辺画像の内、シール部31の領域のみの周辺データを用いて、キャリブレーションデータを生成する。つまり、シールピン33に対応する箇所の周辺データを排除して、キャリブレーションデータを生成する。 As shown in FIG. 10, in the peripheral image, the seal pin 33 is darker than the seal portion 31. That is, the pixel that receives the detection light from the seal pin 33 has a smaller luminance value than the pixel that receives the detection light from the seal portion 31. Therefore, the calibration data generation unit 52 generates the calibration data by using the peripheral data of only the region of the seal unit 31 in the peripheral image. That is, the calibration data is generated by excluding the peripheral data of the portion corresponding to the seal pin 33.

例えば、周辺画像において、シールピン33に対応する箇所のXYアドレスが既知の場合、シールピン33に対応する箇所をマスクする。あるいは、キャリブレーションデータ生成部52が、周辺画像を画像処理することにより、シールピン33となる画素アドレスを特定してもよい。キャリブレーションデータ生成部52が、シール部31のみにおける画素の輝度値の平均値を周辺データする。キャリブレーションデータ生成部52が、シールピン33とシールピン33との間の帯状の領域61において、輝度値の平均値をYアドレス毎に求めればよい。このようにすることで、より精度の高いシェーディング補正が可能となる。 For example, in the peripheral image, when the XY address of the portion corresponding to the seal pin 33 is known, the portion corresponding to the seal pin 33 is masked. Alternatively, the calibration data generation unit 52 may specify the pixel address to be the seal pin 33 by performing image processing on the peripheral image. The calibration data generation unit 52 obtains peripheral data of the average value of the brightness values of the pixels in only the seal unit 31. The calibration data generation unit 52 may obtain the average value of the brightness values for each Y address in the band-shaped region 61 between the seal pin 33 and the seal pin 33. By doing so, more accurate shading correction becomes possible.

上記した処理装置50の処理のうちの一部又は全部は、コンピュータプログラムによって実行されてもよい。上述したプログラムは、様々なタイプの非一時的なコンピュータ可読媒体(non−transitory computer readable medium)を用いて格納され、コンピュータに供給することができる。非一時的なコンピュータ可読媒体は、様々なタイプの実体のある記録媒体(tangible storage medium)を含む。非一時的なコンピュータ可読媒体の例は、磁気記録媒体(例えばフレキシブルディスク、磁気テープ、ハードディスクドライブ)、光磁気記録媒体(例えば光磁気ディスク)、CD−ROM(Read Only Memory)、CD−R、CD−R/W、半導体メモリ(例えば、マスクROM、PROM(Programmable ROM)、EPROM(Erasable PROM)、フラッシュROM、RAM(Random Access Memory))を含む。また、プログラムは、様々なタイプの一時的なコンピュータ可読媒体(transitory computer readable medium)によってコンピュータに供給されてもよい。一時的なコンピュータ可読媒体の例は、電気信号、光信号、及び電磁波を含む。一時的なコンピュータ可読媒体は、電線及び光ファイバ等の有線通信路、又は無線通信路を介して、プログラムをコンピュータに供給できる。 A part or all of the processing of the processing apparatus 50 described above may be executed by a computer program. The programs described above can be stored and supplied to a computer using various types of non-transitory computer readable media. Non-transitory computer-readable media include various types of tangible storage media (tangible storage media). Examples of non-temporary computer-readable media include magnetic recording media (eg, flexible disks, magnetic tapes, hard disk drives), magneto-optical recording media (eg, magneto-optical disks), CD-ROMs (Read Only Memory), CD-Rs, CD-R / W, semiconductor memory (for example, mask ROM, PROM (Programmable ROM), EPROM (Erasable PROM), flash ROM, RAM (Random Access Memory)) is included. The program may also be supplied to the computer by various types of temporary computer readable media (transitory computer readable media). Examples of temporary computer-readable media include electrical, optical, and electromagnetic waves. The temporary computer-readable medium can supply the program to the computer via a wired communication path such as an electric wire and an optical fiber, or a wireless communication path.

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はその目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に、上記の実施形態による限定は受けない。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention includes appropriate modifications that do not impair its purpose and advantages, and is not limited by the above embodiments.

100 撮像装置
10 光源
11 検出器
13 フィルタ
14 フィルタ
20 試料
30 ステージ
30a 周辺部分
50 処理装置
51 画像取得部
52 キャリブレーションデータ生成部
53 補正部
W0 初期ベアウェハデータ
W1 ベアウェハデータ
P1 周辺データ
P2 周辺データ
S2 試料データ
100 Imaging device 10 Light source 11 Detector 13 Filter 14 Filter 20 Sample 30 Stage 30a Peripheral part 50 Processing device 51 Image acquisition unit 52 Calibration data generation unit 53 Correction unit W0 Initial bare wafer data W1 Bare wafer data P1 Peripheral data P2 Peripheral data S2 sample data

Claims (6)

試料が載置されるステージと、
前記試料を照明するための照明光を発生する光源と、
前記試料を撮像するために、前記照明光で照明された試料からの光を検出する検出器と、
前記試料が載置されたステージにおいて、前記試料よりも外側にある周辺部分からの光を前記検出器が検出した周辺データに基づいて、キャリブレーションデータを生成するキャリブレーションデータ生成部と、
前記キャリブレーションデータに基づいて、前記試料の撮像画像のシェーディングを補正する補正部と、を備えた撮像装置。
The stage on which the sample is placed and
A light source that generates illumination light for illuminating the sample,
A detector that detects light from a sample illuminated by the illumination light in order to image the sample.
In the stage on which the sample is placed, a calibration data generation unit that generates calibration data based on the peripheral data detected by the detector for light from a peripheral portion outside the sample.
An imaging device including a correction unit that corrects shading of an captured image of the sample based on the calibration data.
前記ステージが前記試料を吸着保持するチャックステージであり、
前記チャックステージは、
前記試料を吸着保持するための排気口が設けられたステージ台と、
前記ステージ台から上方に突出して、前記試料の周縁部の下に位置するシール部と、
前記シール部よりも前記試料の中心側に配置され、前記試料と当接する支持ピンと、を備えており、
前記周辺部分が前記シール部の前記試料からはみ出した部分を含んでいる請求項1に記載の撮像装置。
The stage is a chuck stage that adsorbs and holds the sample.
The chuck stage is
A stage stand provided with an exhaust port for adsorbing and holding the sample, and
A seal portion that protrudes upward from the stage table and is located below the peripheral edge portion of the sample.
It is provided with a support pin which is arranged on the center side of the sample from the seal portion and comes into contact with the sample.
The imaging device according to claim 1, wherein the peripheral portion includes a portion of the seal portion protruding from the sample.
前記シール部には、上方に突出するシールピンが設けられており、
前記周辺部分を撮像した周辺画像において、前記シールピンに対応する箇所を排除した周辺データを用いて、前記キャリブレーションデータを生成する請求項2に記載の撮像装置。
The seal portion is provided with a seal pin that projects upward.
The imaging device according to claim 2, wherein the calibration data is generated by using the peripheral data excluding the portion corresponding to the seal pin in the peripheral image obtained by capturing the peripheral portion.
試料が載置されるステージと、
前記試料を照明するための照明光を発生する光源と、
前記試料を撮像するために、前記照明光で照明された試料からの光を検出する検出器と、を備えた撮像装置における撮像方法であって、
前記試料が載置されたステージにおいて、前記試料よりも外側にある周辺部分からの光を前記検出器が検出した周辺データに基づいて、キャリブレーションデータを生成するステップと、
前記キャリブレーションデータに基づいて、前記試料の撮像画像のシェーディングを補正するステップと、を備えた撮像方法。
The stage on which the sample is placed and
A light source that generates illumination light for illuminating the sample,
An imaging method in an imaging apparatus including a detector that detects light from a sample illuminated by the illumination light in order to image the sample.
In the stage on which the sample is placed, a step of generating calibration data based on the peripheral data detected by the detector for light from a peripheral portion outside the sample.
An imaging method including a step of correcting shading of an captured image of the sample based on the calibration data.
前記ステージが前記試料を吸着保持するチャックステージであり、
前記チャックステージは、
前記試料を吸着保持するための排気口が設けられたステージ台と、
前記ステージ台から上方に突出して、前記試料の周縁部の下に位置するシール部と、
前記シール部よりも前記試料の中心側に配置され、前記試料と当接する支持ピンと、を備えており、
前記周辺部分が前記シール部の前記試料からはみ出した部分を含んでいる請求項4に記載の撮像方法。
The stage is a chuck stage that adsorbs and holds the sample.
The chuck stage is
A stage stand provided with an exhaust port for adsorbing and holding the sample, and
A seal portion that protrudes upward from the stage table and is located below the peripheral edge portion of the sample.
It is provided with a support pin which is arranged on the center side of the sample from the seal portion and comes into contact with the sample.
The imaging method according to claim 4, wherein the peripheral portion includes a portion of the seal portion protruding from the sample.
前記シール部には、上方に突出するシールピンが設けられており、
前記周辺部分を撮像した周辺画像において、前記シールピンに対応する箇所を排除した周辺データを用いて、キャリブレーションデータを生成する請求項5に記載の撮像方法。
The seal portion is provided with a seal pin that projects upward.
The imaging method according to claim 5, wherein calibration data is generated by using peripheral data excluding the portion corresponding to the seal pin in the peripheral image obtained by imaging the peripheral portion.
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