JP2009192358A - Defect inspection device - Google Patents

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Yuki Chazono
佑毅 茶薗
Koichi Toyama
公一 外山
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Systems Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect inspection device capable of improving matching accuracy between a correct answer pattern image and an inspection object image. <P>SOLUTION: A plurality of correct answer pattern images having each different focusing height position imaged by an imaging part 11 are preserved in a correct answer pattern image preservation part 132. A focusing part 136 performs focusing correction processing of an inspection object image based on the plurality of correct answer pattern images preserved in the correct answer pattern image preservation part 132, and a defect detection part 137 detects a defect of an inspection object pattern based on a comparison result between the plurality of correct answer pattern images preserved in the correct answer pattern image preservation part 132 and the inspection object image subjected to the focusing correction processing by the focusing part 136. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は欠陥検査装置に関し、特に、正解パターン画像と検査対象画像との比較結果に基づいて検査対象の欠陥を検出する方法に適用して好適なものである。   The present invention relates to a defect inspection apparatus, and is particularly suitable for application to a method for detecting a defect of an inspection object based on a comparison result between a correct pattern image and an inspection object image.

半導体ウェハ上のＩＣチップやプリント基板の表面の欠陥を検査するために、正解パターン画像と検査対象画像とを比較し、それらの画像間の差異を検出する方法がある。ここで、検査対象の欠陥検出精度を向上させるため、画像全体のピントを計算し、ピント位置を最適化してから、正解パターン画像や検査対象画像を撮像する方法が提案されている。
また、例えば、特許文献１には、画像検査装置において、被検体の種類や製造工程などが変わってもオートフォーカスの合焦位置を適切な位置に補正できるようにするために、基板に照射された反射光の位置を検出することより、目標合焦位置を検出し、目標合焦位置をオフセットするオフセット値に応じて色補正レンズ群の位置を移動させる方法が開示されている。
特開２００６−１８４３０３号公報 In order to inspect defects on the surface of an IC chip or a printed circuit board on a semiconductor wafer, there is a method of comparing a correct pattern image with an image to be inspected and detecting a difference between these images. Here, in order to improve the defect detection accuracy of the inspection target, a method of capturing the correct pattern image and the inspection target image after calculating the focus of the entire image and optimizing the focus position has been proposed.
Further, for example, in Patent Document 1, in the image inspection apparatus, the substrate is irradiated so that the focus position of autofocus can be corrected to an appropriate position even if the type of the subject or the manufacturing process changes. A method is disclosed in which the target focus position is detected by detecting the position of the reflected light and the position of the color correction lens group is moved in accordance with an offset value for offsetting the target focus position.
JP 2006-184303 A

しかしながら、画像全体にピントを合わせるために、焦点深度の浅い高倍率な画像を撮像すると、一部のエリアにしかピントの合わない画像が生成される。このため、従来の欠陥検出方法では、ピントの合っているエリアは精度よくマッチングさせることができるが、ピントの合っていないエリアは精度よくマッチングさせることができなくなり、正解パターン画像と検査対象画像の全体をマッチングさせることができなくなるという問題があった。   However, when a high-magnification image with a shallow depth of focus is captured in order to focus on the entire image, an image that is in focus only in a part of the area is generated. For this reason, in the conventional defect detection method, an in-focus area can be accurately matched, but an out-of-focus area cannot be accurately matched, and the correct pattern image and the inspection target image are not matched. There was a problem that the whole could not be matched.

また、特許文献１に開示された方法では、合焦位置はマニュアル操作にて設定されるため、設定登録時のユーザの作業量が増大するという問題があった。また、合焦位置をマニュアル操作にて設定する際に、合焦位置に高低差があると、一部のエリアにしかピントの合わない画像が生成され、正解パターン画像と検査対象画像の全体をマッチングさせることができなくなるという問題があった。
そこで、本発明の目的は、正解パターン画像と検査対象画像とのマッチング精度を向上させることが可能な欠陥検査装置を提供することである。 Further, the method disclosed in Patent Document 1 has a problem that the amount of work for the user at the time of setting registration increases because the in-focus position is set by manual operation. Also, when setting the in-focus position manually, if there is a difference in height in the in-focus position, an image that is in focus only in some areas will be generated, and the correct pattern image and the entire image to be inspected will be displayed. There was a problem that it was impossible to match.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a defect inspection apparatus capable of improving the matching accuracy between a correct pattern image and an inspection target image.

上述した課題を解決するために、請求項１記載の欠陥検査装置によれば、正解パターンおよび検査対象パターンを撮像する撮像手段と、前記撮像手段にて撮像された合焦高さ位置の異なる複数枚の正解パターン画像を保存する正解パターン画像保存手段と、前記撮像手段にて撮像された検査対象画像を保存する検査画像保存手段と、前記正解パターン画像保存手段に保存された複数枚の正解パターン画像と、前記検査画像保存手段に保存された検査対象画像との比較結果に基づいて、前記検査対象の欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, according to the defect inspection apparatus according to claim 1, an imaging unit that images the correct pattern and the inspection target pattern, and a plurality of in-focus height positions captured by the imaging unit are different. Correct pattern image storage means for storing a single correct pattern image, inspection image storage means for storing an image to be inspected captured by the imaging means, and a plurality of correct patterns stored in the correct pattern image storage means Defect detection means for detecting a defect of the inspection object based on a comparison result between the image and the inspection object image stored in the inspection image storage means.

また、請求項２記載の欠陥検査装置によれば、前記正解パターン画像保存手段に保存された複数枚の正解パターン画像に基づいて、前記検査対象画像のピント補正処理を行うピント合わせ手段をさらに備えることを特徴とする。
また、請求項３記載の欠陥検査装置によれば、前記正解パターン画像のピント計算を行うピント計算手段と、前記正解パターン画像のピント検出エリアをその合焦高さ位置ととともに保存するピントエリア保存手段とを備え、前記ピント合わせ手段は、前記検査対象画像のピンボケの程度から判定された合焦高さ位置でのピント検出エリアの正解パターン画像に基づいて、前記検査対象画像のピント補正処理を行うことを特徴とする。 The defect inspection apparatus according to claim 2 further includes a focusing unit that performs a focus correction process on the inspection target image based on a plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage unit. It is characterized by that.
According to the defect inspection apparatus of claim 3, the focus calculation means for performing the focus calculation of the correct pattern image and the focus area storage for storing the focus detection area of the correct pattern image together with the focus height position thereof. And the focusing means performs a focus correction process on the inspection target image based on a correct pattern image in a focus detection area at a focus height position determined from the degree of blur of the inspection target image. It is characterized by performing.

以上説明したように、本発明によれば、合焦高さ位置の異なる複数枚の正解パターン画像と検査対象画像とを比較することにより、正解パターンの合焦高さ位置が異なる場合においても、正解パターン画像上の全てのエリアにおいてピントが合っている状態で検査対象パターンの欠陥を検出することが可能となる。このため、正解パターン画像と検査対象画像とのマッチング精度を向上させることが可能となり、検査対象の欠陥検出精度を向上させることができる。   As described above, according to the present invention, by comparing a plurality of correct pattern images with different focus height positions and the inspection target image, even when the focus height positions of the correct patterns are different, It is possible to detect a defect in the inspection target pattern in a state where all areas on the correct pattern image are in focus. Therefore, the matching accuracy between the correct pattern image and the inspection target image can be improved, and the defect detection accuracy of the inspection target can be improved.

以下、本発明の実施形態に係る欠陥検査装置について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る欠陥検査装置の概略構成を示すブロック図である。
図１において、欠陥検査装置には、正解パターンおよび検査対象パターンを撮像する撮像部１１、良品サンプルや検査対象を撮像位置に搬送する搬送部１２、正解パターン画像と検査対象画像との比較結果に基づいて検査対象の欠陥を検出する画像処理部１３、撮像部１１、搬送部１２および画像処理部１３が協調して動作するように全体を制御する全体制御部１４が設けられ、全体制御部１４には、操作情報や検査情報をユーザに提供するユーザインターフェース１４１および検査結果などの情報を記憶する記憶装置１４２に接続されている。 Hereinafter, a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, the defect inspection apparatus includes an imaging unit 11 that captures the correct pattern and the inspection target pattern, a transport unit 12 that transports the non-defective sample and the inspection target to the imaging position, and a comparison result between the correct pattern image and the inspection target image. An overall control unit 14 is provided to control the whole so that the image processing unit 13, the imaging unit 11, the transport unit 12, and the image processing unit 13 that detect a defect to be inspected based on each other operate in a coordinated manner. Are connected to a user interface 141 that provides operation information and inspection information to the user and a storage device 142 that stores information such as inspection results.

ここで、撮像部１１には、ＸＹステージ１２１上のサンプルを照明する光源１１１、照明光の光路を設定する照明光学系１１２、サンプル上に照明光を合焦させる対物レンズ１１３、サンプルの撮像を行うイメージセンサ１１４、対物レンズ１１３の高さ位置を調節する高さ位置調節器１１５が設けられ、照明光学系１１２には、レンズ１１０およびハーフミラー１１６が設けられている。
また、搬送部１２には、サンプル１２３を水平面内で移動させるＸＹステージ１２１およびＸＹステージ１２１の移動を制御するステージコントローラ１２２が設けられている。 Here, the imaging unit 11 includes a light source 111 that illuminates the sample on the XY stage 121, an illumination optical system 112 that sets an optical path of the illumination light, an objective lens 113 that focuses the illumination light on the sample, and an image of the sample. The image sensor 114 to be performed and a height position adjuster 115 for adjusting the height position of the objective lens 113 are provided, and the illumination optical system 112 is provided with a lens 110 and a half mirror 116.
Further, the transport unit 12 is provided with an XY stage 121 that moves the sample 123 in a horizontal plane and a stage controller 122 that controls the movement of the XY stage 121.

また、画像処理部１３には、イメージセンサ１１４から出力された撮像信号をデジタルデータに変換するＡＤ変換部１３１、撮像部１１にて撮像された正解パターン画像を保存する正解パターン画像保存部１３２、撮像部１１にて撮像された検査対象画像を保存する検査対象画像保存部１３３、正解パターン画像保存部１３２に保存された正解パターン画像のピント計算を行うピント計算部１３４、正解パターン画像のピント検出エリアをその合焦高さ位置ととともに保存するピントエリア保存部１３５、正解パターン画像保存部１３２に保存された複数枚の正解パターン画像に基づいて、検査対象画像のピント補正処理を行うピント合わせ部１３６、正解パターン画像保存部１３２に保存された複数枚の正解パターン画像と、検査対象画像保存部１３３に保存された検査対象画像との比較結果に基づいて、検査対象の欠陥を検出する欠陥検出部１３７が設けられている。   Further, the image processing unit 13 includes an AD conversion unit 131 that converts an imaging signal output from the image sensor 114 into digital data, a correct pattern image storage unit 132 that stores a correct pattern image captured by the imaging unit 11, An inspection target image storage unit 133 that stores the inspection target image captured by the imaging unit 11, a focus calculation unit 134 that performs focus calculation of the correct pattern image stored in the correct pattern image storage unit 132, and focus detection of the correct pattern image A focus area storage unit 135 that stores the area together with the in-focus height position, and a focus adjustment unit that performs a focus correction process on the inspection target image based on a plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage unit 132 136, a plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage unit 132, and an image to be inspected Based on the result of comparison between the stored inspection object image to exist unit 133 is provided with a defect detection unit 137 for detecting defects of the test object.

なお、画像処理部１３に含まれる各要素は、専用回路によるハードウェアにて構成するようにしてもよいし、プロセッサ上で動作するソフトウェアにて構成するようにしてもよいし、ハードウェアとソフトウェアとを混在させて構成するようにしてもよい。
そして、検査対象の欠陥検出を行う場合、実際の検査に先立ち、正解パターン画像の生成が行われる。 Each element included in the image processing unit 13 may be configured by hardware using a dedicated circuit, may be configured by software operating on a processor, or hardware and software. And may be mixed.
When detecting the defect to be inspected, a correct pattern image is generated prior to the actual inspection.

図２は、本発明の一実施形態に係る正解パターン画像の生成方法を示すフローチャートである。
図２において、正解パターン画像の生成を行う場合、正解パターンとして良品（欠陥がないことが確認されている対象物）のサンプル１２３をＸＹステージ１２１上に載置する。そして、良品のサンプル１２３がＸＹステージ１２１上に載置されると、ステージコントローラ１２２はＸＹステージ１２１を移動させることにより、良品のサンプル１２３を対物レンズ１１３の焦点位置に搬送する。そして、良品のサンプル１２３が対物レンズ１１３の焦点位置に搬送されると、光源１１１から出射された照明光がレンズ１１０、ハーフミラー１１６を介して対物レンズ１１３に導かれ、良品のサンプル１２３が照明される。そして、良品のサンプル１２３にて反射された照明光は、対物レンズ１１３およびハーフミラー１１６を介してイメージセンサ１１４に導かれる。 FIG. 2 is a flowchart illustrating a method for generating a correct pattern image according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 2, when generating a correct pattern image, a sample 123 of a non-defective product (an object that has been confirmed to be free of defects) is placed on the XY stage 121 as a correct pattern. When the non-defective sample 123 is placed on the XY stage 121, the stage controller 122 moves the non-defective sample 123 to the focal position of the objective lens 113 by moving the XY stage 121. When the non-defective sample 123 is conveyed to the focal position of the objective lens 113, the illumination light emitted from the light source 111 is guided to the objective lens 113 through the lens 110 and the half mirror 116, and the non-defective sample 123 is illuminated. Is done. The illumination light reflected by the non-defective sample 123 is guided to the image sensor 114 via the objective lens 113 and the half mirror 116.

そして、イメージセンサ１１４にて良品のサンプル１２３の撮像が行われる場合、高さ位置調節器１１５は、対物レンズ１１３の高さ位置を調節することで、良品のサンプル１２３上の合焦高さ位置（良品のサンプル１２３上で焦点の合致する高さ位置）を調整する）。
そして、高さ位置調節器１１５にて良品のサンプル１２３上の合焦高さ位置が設定されると、その合焦高さ位置における正解パターン画像がイメージセンサ１１４にて撮像され、画像処理部１３に送られる（ステップＳ１２）。そして、イメージセンサ１１４にて撮像された正解パターン画像が画像処理部１３に送られると、ＡＤ変換部１３１にてデジタルデータに変換され、正解パターン画像保存部１３２に保存される。 When the non-defective sample 123 is imaged by the image sensor 114, the height position adjuster 115 adjusts the height position of the objective lens 113, thereby adjusting the focus height position on the non-defective sample 123. (Adjust the height position on the non-defective sample 123 at which the focus is matched)
When the in-focus height position on the non-defective sample 123 is set by the height position adjuster 115, the correct pattern image at the in-focus height position is captured by the image sensor 114, and the image processing unit 13 (Step S12). When the correct pattern image captured by the image sensor 114 is sent to the image processing unit 13, it is converted into digital data by the AD conversion unit 131 and stored in the correct pattern image storage unit 132.

さらに、高さ位置調節器１１５にて対物レンズ１１３の高さ位置を調節させることで、良品のサンプル１２３上の合焦高さ位置の異なる複数の正解パターン画像をイメージセンサ１１４にて撮像させ、それら複数の正解パターン画像を正解パターン画像保存部１３２に保存させる（ステップＳ１１、Ｓ１３）。
なお、画像処理部１３は、正解パターン画像を正解パターン画像保存部１３２に保存する場合、ノイズの除去や特徴画像への変換など検査に必要な前処理を行うようにしてもよい。 Furthermore, by adjusting the height position of the objective lens 113 with the height position adjuster 115, a plurality of correct pattern images with different in-focus height positions on the non-defective sample 123 are captured with the image sensor 114, The plurality of correct pattern images are stored in the correct pattern image storage unit 132 (steps S11 and S13).
Note that when the correct pattern image is stored in the correct pattern image storage unit 132, the image processing unit 13 may perform preprocessing necessary for the inspection, such as noise removal and conversion to a feature image.

また、照明光学系１１２は、対物レンズ１１３の光軸と同軸の明視野照明を構成する方法について説明したが、検査対象の表面状態や検出結果に応じて暗視野照明や透過照明を構成するようにしてもよい。また、光源１１１は、白色光源、単色可視光源または赤外光源であってもよい。また、イメージセンサ１１４は、エリアセンサやラインセンサなどの撮像素子を用いるようにしてもよい。   In addition, the illumination optical system 112 has been described with respect to a method for configuring bright field illumination coaxial with the optical axis of the objective lens 113. However, the illumination optical system 112 configures dark field illumination or transmitted illumination according to the surface state of the inspection target and the detection result. It may be. The light source 111 may be a white light source, a monochromatic visible light source, or an infrared light source. Further, the image sensor 114 may use an image sensor such as an area sensor or a line sensor.

そして、複数枚の正解パターン画像が正解パターン画像保存部１３２に保存されると、ピント計算部１３４は、これらの正解パターン画像全体のピント計算を行い、正解パターン画像の中からピントの合っているピント検出エリアを抽出する（ステップＳ１４）。そして、ピント計算部１３４は、正解パターン画像のピント検出エリアをその合焦高さ位置ととともにピントエリア保存部１３５に保存する（ステップＳ１５）。
なお、ピント計算部１３４で行われるピント検出エリアの抽出処理は、正解パターン画像全体が走査されるため、計算量が多くなるが、ピント検出エリアをピントエリア保存部１３５に一旦保存すれば、検査時にその都度更新する必要はなく、検査全体の処理時間に及ぼす影響をわずかに抑えることができる。 When a plurality of correct pattern images are stored in the correct pattern image storage unit 132, the focus calculation unit 134 performs focus calculation on the entire correct pattern images, and the correct pattern image is in focus. A focus detection area is extracted (step S14). Then, the focus calculation unit 134 stores the focus detection area of the correct pattern image in the focus area storage unit 135 together with the focus height position (step S15).
Note that the focus detection area extraction processing performed by the focus calculation unit 134 increases the amount of calculation because the entire correct pattern image is scanned, but once the focus detection area is stored in the focus area storage unit 135, the inspection is performed. Sometimes there is no need to update each time, and the influence on the processing time of the entire inspection can be suppressed slightly.

次に、正解パターン画像の生成が行われると、検査対象パターンとして検査対象のサンプル１２３をＸＹステージ１２１上に載置する。そして、検査対象のサンプル１２３がＸＹステージ１２１上に載置されると、ステージコントローラ１２２はＸＹステージ１２１を移動させることにより、検査対象のサンプル１２３を対物レンズ１１３の焦点位置に搬送する。そして、検査対象のサンプル１２３が対物レンズ１１３の焦点位置に搬送されると、光源１１１から出射された照明光がレンズ１１０、ハーフミラー１１６を介して対物レンズ１１３に導かれ、検査対象のサンプル１２３が照明される。そして、検査対象のサンプル１２３にて反射された照明光は、対物レンズ１１３およびハーフミラー１１６を介してイメージセンサ１１４に導かれる。そして、その検査対象のサンプル１２３の検査対象画像がイメージセンサ１１４にて撮像され、画像処理部１３に送られる。そして、イメージセンサ１１４にて撮像された検査対象画像が画像処理部１３に送られると、ＡＤ変換部１３１にてデジタルデータに変換され、検査画像保存部１３３に保存される。   Next, when the correct pattern image is generated, the sample 123 to be inspected is placed on the XY stage 121 as the inspection target pattern. When the inspection target sample 123 is placed on the XY stage 121, the stage controller 122 moves the XY stage 121 to convey the inspection target sample 123 to the focal position of the objective lens 113. Then, when the sample 123 to be inspected is conveyed to the focal position of the objective lens 113, the illumination light emitted from the light source 111 is guided to the objective lens 113 through the lens 110 and the half mirror 116, and the sample 123 to be inspected. Is illuminated. The illumination light reflected from the sample 123 to be inspected is guided to the image sensor 114 via the objective lens 113 and the half mirror 116. Then, the inspection target image of the inspection target sample 123 is captured by the image sensor 114 and sent to the image processing unit 13. When the inspection target image captured by the image sensor 114 is sent to the image processing unit 13, it is converted into digital data by the AD conversion unit 131 and stored in the inspection image storage unit 133.

そして、検査画像保存部１３３に検査対象画像が保存されると、その検査対象画像の各エリアについてピンボケの程度が判定され、そのピンボケの程度に対応した合焦高さ位置のズレがピント合わせ部１３６にて判別される。そして、ピント合わせ部１３６は、検査対象画像が撮像された時の高さ位置と、検査対象画像の各エリアについて合焦高さ位置のズレから、検査対象画像の各エリアについての合焦高さ位置を求め、その合焦高さ位置に対応するからピント検出エリアをピントエリア保存部１３５から読み出す。   Then, when the inspection target image is stored in the inspection image storage unit 133, the degree of out-of-focus is determined for each area of the inspection target image, and the shift of the in-focus height position corresponding to the degree of out-of-focus is the focusing unit. A determination is made at 136. The focusing unit 136 then adjusts the in-focus height for each area of the inspection target image from the difference between the height position when the inspection target image is captured and the in-focus height position for each area of the inspection target image. The position is obtained, and the focus detection area is read from the focus area storage unit 135 because it corresponds to the in-focus height position.

そして、ピント合わせ部１３６は、ピントエリア保存部１３５から読み出したピント検出エリアに基づいて、各エリアについての合焦高さ位置ごとに検査対象画像のピンボケを補正し、検査対象画像を鮮明化する。
そして、ピント合わせ部１３６にて検査対象画像のピンボケが補正されると、欠陥検出部１３７は、正解パターン画像保存部１３２に保存された複数枚の正解パターン画像と、ピント合わせ部１３６３にてピンボケが補正された検査対象画像とを順次比較する。そして、複数枚の正解パターン画像と検査対象画像との比較結果に基づいて、検査対象の欠陥を検出する。 Then, based on the focus detection area read from the focus area storage unit 135, the focusing unit 136 corrects the blur of the inspection target image for each focus height position for each area, and sharpens the inspection target image. .
When the focus adjustment unit 136 corrects the defocus of the inspection target image, the defect detection unit 137 defocuses the plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage unit 132 and the focus adjustment unit 1363. Are sequentially compared with the images to be inspected. Then, a defect to be inspected is detected based on a comparison result between the plurality of correct pattern images and the inspection target image.

なお、複数枚の正解パターン画像と検査対象画像との比較結果に基づいて、検査対象の欠陥を検出する方法としては、２値化処理を行った後に排他的論理和をとる方法や、濃淡画像のまま差分をとる方法などの公知の方法を用いることができる。
これにより、正解パターンの合焦高さ位置が異なる場合においても、正解パターン画像上の全てのエリアにおいてピントが合っている状態で検査対象パターンの欠陥を検出することが可能となる。このため、正解パターン画像と検査対象画像とのマッチング精度を向上させることが可能となり、検査対象の欠陥検出精度を向上させることができる。 As a method for detecting a defect to be inspected based on a comparison result between a plurality of correct pattern images and an inspection target image, a method of taking an exclusive OR after performing binarization processing, a grayscale image, or the like A known method such as a method of taking the difference can be used.
As a result, even when the correct pattern has a different in-focus height position, it is possible to detect defects in the inspection target pattern in a state where all areas on the correct pattern image are in focus. Therefore, the matching accuracy between the correct pattern image and the inspection target image can be improved, and the defect detection accuracy of the inspection target can be improved.

本発明の一実施形態に係る欠陥検査装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the defect inspection apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る正解パターン画像の生成方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the production | generation method of the correct pattern image which concerns on one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１１ 撮像部
１１０ レンズ
１１１ 光源
１１２ 照明光学系
１１３ 対物レンズ
１１４ イメージセンサ
１１５ 高さ位置調節器
１１６ ハーフミラー
１２ 搬送部
１２１ ＸＹステージ
１２２ ステージコントローラ
１２３ サンプル
１３ 画像処理部
１３１ ＡＤ変換部
１３２ 正解パターン画像保存部
１３３ 検査対象画像保存部
１３４ ピント計算部
１３５ ピントエリア保存部
１３６ ピント合わせ部
１３７ 欠陥検出部
１４ 全体制御部
１４１ ユーザインターフェース
１４２ 記憶装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Image pick-up part 110 Lens 111 Light source 112 Illumination optical system 113 Objective lens 114 Image sensor 115 Height position adjuster 116 Half mirror 12 Conveyance part 121 XY stage 122 Stage controller 123 Sample 13 Image processing part 131 AD conversion part 132 Correct pattern image preservation | save Unit 133 inspection object image storage unit 134 focus calculation unit 135 focus area storage unit 136 focus adjustment unit 137 defect detection unit 14 overall control unit 141 user interface 142 storage device

Claims (3)

正解パターンおよび検査対象パターンを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段にて撮像された合焦高さ位置の異なる複数枚の正解パターン画像を保存する正解パターン画像保存手段と、
前記撮像手段にて撮像された検査対象画像を保存する検査画像保存手段と、
前記正解パターン画像保存手段に保存された複数枚の正解パターン画像と、前記検査画像保存手段に保存された検査対象画像との比較結果に基づいて、前記検査対象の欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えることを特徴とする欠陥検査装置。 Imaging means for imaging the correct pattern and the inspection target pattern;
Correct pattern image storage means for storing a plurality of correct pattern images having different in-focus height positions imaged by the imaging means;
Inspection image storage means for storing an inspection object image imaged by the imaging means;
A defect detection means for detecting a defect of the inspection object based on a comparison result between a plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage means and an inspection object image stored in the inspection image storage means; A defect inspection apparatus comprising: 前記正解パターン画像保存手段に保存された複数枚の正解パターン画像に基づいて、前記検査対象画像のピント補正処理を行うピント合わせ手段をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の欠陥検査装置。   The defect inspection apparatus according to claim 1, further comprising a focusing unit that performs a focus correction process on the inspection target image based on a plurality of correct pattern images stored in the correct pattern image storage unit. 前記正解パターン画像のピント計算を行うピント計算手段と、
前記正解パターン画像のピント検出エリアをその合焦高さ位置ととともに保存するピントエリア保存手段とを備え、
前記ピント合わせ手段は、前記検査対象画像のピンボケの程度から判定された合焦高さ位置でのピント検出エリアの正解パターン画像に基づいて、前記検査対象画像のピント補正処理を行うことを特徴とする請求項２記載の欠陥検査装置。 A focus calculation means for performing focus calculation of the correct pattern image;
A focus area storing means for storing the focus detection area of the correct pattern image together with the focus height position thereof,
The focus adjusting unit performs a focus correction process on the inspection target image based on a correct pattern image of a focus detection area at a focus height position determined from a degree of blur of the inspection target image. The defect inspection apparatus according to claim 2.
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