JP2020185613A - 板状の加工物に少なくとも一つの除去部又は穴を設ける方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 135
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 92
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 75
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims abstract description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 34
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 241000361919 Metaphire sieboldi Species 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 29
- 239000011799 hole material Substances 0.000 description 93
- 230000008569 process Effects 0.000 description 44
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 22
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 22
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 8
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 6
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 6
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 6
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 4
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 241000243662 Lumbricus terrestris Species 0.000 description 2
- 208000031481 Pathologic Constriction Diseases 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000036262 stenosis Effects 0.000 description 2
- 208000037804 stenosis Diseases 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 2
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
- H01L21/486—Via connections through the substrate with or without pins
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
- B23K26/0624—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses using ultrashort pulses, i.e. pulses of 1ns or less
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
- B23K26/382—Removing material by boring or cutting by boring
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5384—Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
- H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
- H05K3/0029—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation of inorganic insulating material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
- B23K2103/54—Glass
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
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- H01L23/15—Ceramic or glass substrates
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- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Description
先ず、本発明の第一の発明は、
3ミリメートル未満の厚さの板状の加工物(1)に少なくとも一つの窪み部(4)及び/又は穴を設ける方法において、
この窪み部(4)及び/又は穴が、互いに連なる多数の欠損箇所(3)にエッチングを徐々に進行させることによって形成されることを特徴とする方法である。
該欠損箇所(3)が、線に沿って、特に、軸線又は直線に沿って配置されることを特徴とする第一の発明の方法である。
該欠損箇所(3)が、少なくとも部分的に直線(線5)と異なる形態で設けられることを特徴とする第一の発明の方法である。
該欠損箇所(3)が接触し合わないことを特徴とする第一から三までのいずれか一つの発明の方法である。
該欠損箇所(3)が軸線(線5)に沿って一つの表面から第二の表面にまで延びることを特徴とする第一から四までのいずれか一つの発明の方法である。
該加工物(1)の平均的な厚さがエッチング浸食により低減されることを特徴とする第一から五までのいずれか一つの発明の方法である。
該欠損箇所(3)がレーザービーム(2)との相互作用により生じることを特徴とする第一から六までのいずれか一つの発明の方法である。
該レーザービーム(2)は、加工物(1)の材料をほぼ透過する波長を有することを特徴とする第一から七までのいずれか一つの発明の方法である。
該レーザービーム(2)のパルス長が100ピコ秒未満、特に、12ピコ秒未満であることを特徴とする第一から八までのいずれか一つの発明の方法である。
該レーザービーム(2)が、一つのパルスの形で加工物の材料と相互作用することを特徴とする第一から九までのいずれか一つの発明の方法である。
該レーザービーム(2)が、パルス列の形で加工物の材料と相互作用し、このパルス列が20個以下の単一パルスから構成されることを特徴とする第一から十までのいずれか一つの発明の方法である。
ビーム軸線に沿って時間的にスライドさせることによって、該レーザービーム(2)の焦点を加工物(1)を通して移動させることを特徴とする第一から十一までのいずれか一つの発明の方法である。
空間的なビーム成形によって、該レーザービーム(2)の焦点をビーム軸線に沿った加工物の材料の厚さ全体に渡って相互作用させることを特徴とする第一から十二までのいずれか一つの発明の方法である。
該空間的なビーム成形が、球面収差の大きな光学系又は回折光学素子によって実現されることを特徴とする第一から十三までのいずれか一つの発明の方法である。
ビーム軸線に沿ったレーザービームの近軸ビームと周縁ビームの焦点位置の間の違いが100μmを上回る、特に有利には、250μmを上回ることを特徴とする第一から十四までのいずれか一つの発明の方法である。
該窪み部(4)又は穴の周面がミミズ構造を形成することを特徴とする第一から十五までのいずれか一つの発明の方法である。
該加工物(1)の材料が主要な材料成分としてガラス、シリコン及び/又はサファイアを有することを特徴とする第一から十六までのいずれか一つの発明の方法である。
Claims (17)
- 3ミリメートル未満の厚さの板状の加工物(1)に少なくとも一つの窪み部(4)及び/又は穴を設ける方法において、
この窪み部(4)及び/又は穴が、互いに連なる多数の欠損箇所(3)にエッチングを徐々に進行させることによって形成されることを特徴とする方法。 - 該欠損箇所(3)が、線に沿って、特に、軸線又は直線に沿って配置されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 該欠損箇所(3)が、少なくとも部分的に直線(線5)と異なる形態で設けられることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 該欠損箇所(3)が接触し合わないことを特徴とする請求項1から3までのいずれか一つに記載の方法。
- 該欠損箇所(3)が軸線(線5)に沿って一つの表面から第二の表面にまで延びることを特徴とする請求項1から4までのいずれか一つに記載の方法。
- 該加工物(1)の平均的な厚さがエッチング浸食により低減されることを特徴とする請求項1から5までのいずれか一つに記載の方法。
- 該欠損箇所(3)がレーザービーム(2)との相互作用により生じることを特徴とする請求項1から6までのいずれか一つに記載の方法。
- 該レーザービーム(2)は、加工物(1)の材料をほぼ透過する波長を有することを特徴とする請求項1から7までのいずれか一つに記載の方法。
- 該レーザービーム(2)のパルス長が100ピコ秒未満、特に、12ピコ秒未満であることを特徴とする請求項1から8までのいずれか一つに記載の方法。
- 該レーザービーム(2)が、一つのパルスの形で加工物の材料と相互作用することを特徴とする請求項1から9までのいずれか一つに記載の方法。
- 該レーザービーム(2)が、パルス列の形で加工物の材料と相互作用し、このパルス列が20個以下の単一パルスから構成されることを特徴とする請求項1から10までのいずれか一つに記載の方法。
- ビーム軸線に沿って時間的にスライドさせることによって、該レーザービーム(2)の焦点を加工物(1)を通して移動させることを特徴とする請求項1から11までのいずれか一つに記載の方法。
- 空間的なビーム成形によって、該レーザービーム(2)の焦点をビーム軸線に沿った加工物の材料の厚さ全体に渡って相互作用させることを特徴とする請求項1から12までのいずれか一つに記載の方法。
- 該空間的なビーム成形が、球面収差の大きな光学系又は回折光学素子によって実現されることを特徴とする請求項1から13までのいずれか一つに記載の方法。
- ビーム軸線に沿ったレーザービームの近軸ビームと周縁ビームの焦点位置の間の違いが100μmを上回る、特に有利には、250μmを上回ることを特徴とする請求項1から14までのいずれか一つに記載の方法。
- 該窪み部(4)又は穴の周面がミミズ構造を形成することを特徴とする請求項1から15までのいずれか一つに記載の方法。
- 該加工物(1)の材料が主要な材料成分としてガラス、シリコン及び/又はサファイアを有することを特徴とする請求項1から16までのいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014113339.0A DE102014113339A1 (de) | 2014-09-16 | 2014-09-16 | Verfahren zur Erzeugung von Ausnehmungen in einem Material |
DE102014113339.0 | 2014-09-16 | ||
DE102014116291 | 2014-11-07 | ||
DE102014116291.9 | 2014-11-07 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017512917A Division JP6782692B2 (ja) | 2014-09-16 | 2015-08-07 | 板状の加工物に少なくとも一つの窪み又は穴を配設する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020185613A true JP2020185613A (ja) | 2020-11-19 |
JP7049404B2 JP7049404B2 (ja) | 2022-04-06 |
Family
ID=54072638
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017512917A Active JP6782692B2 (ja) | 2014-09-16 | 2015-08-07 | 板状の加工物に少なくとも一つの窪み又は穴を配設する方法 |
JP2020118488A Active JP7049404B2 (ja) | 2014-09-16 | 2020-07-09 | 板状の加工物に少なくとも一つの除去部又は穴を設ける方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017512917A Active JP6782692B2 (ja) | 2014-09-16 | 2015-08-07 | 板状の加工物に少なくとも一つの窪み又は穴を配設する方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11610784B2 (ja) |
EP (2) | EP4061101A1 (ja) |
JP (2) | JP6782692B2 (ja) |
KR (4) | KR20230084606A (ja) |
CN (1) | CN107006128B (ja) |
ES (1) | ES2923764T3 (ja) |
LT (1) | LT3195706T (ja) |
MY (1) | MY196621A (ja) |
SG (2) | SG10201902331XA (ja) |
TW (1) | TWI616939B (ja) |
WO (1) | WO2016041544A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018100299A1 (de) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | Schott Ag | Strukturiertes plattenförmiges Glaselement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US11072041B2 (en) | 2017-03-06 | 2021-07-27 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Method for producing a technical mask |
WO2018162385A1 (de) | 2017-03-06 | 2018-09-13 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zum einbringen zumindest einer ausnehmung in ein material mittels elektromagnetischer strahlung und anschliessendem ätzprozess |
DE102018110211A1 (de) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | Schott Ag | Verfahren zum Erzeugen feiner Strukturen im Volumen eines Substrates aus sprödharten Material |
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- 2015-08-07 KR KR1020237018486A patent/KR20230084606A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-08-07 KR KR1020197015976A patent/KR20190065480A/ko not_active IP Right Cessation
- 2015-08-07 EP EP22167179.5A patent/EP4061101A1/de active Pending
- 2015-08-07 WO PCT/DE2015/100333 patent/WO2016041544A1/de active Application Filing
- 2015-08-07 KR KR1020177007041A patent/KR20170044143A/ko active Application Filing
- 2015-08-07 EP EP15762474.3A patent/EP3195706B1/de active Active
- 2015-08-07 CN CN201580049903.1A patent/CN107006128B/zh active Active
- 2015-08-07 LT LTEPPCT/DE2015/100333T patent/LT3195706T/lt unknown
- 2015-08-07 KR KR1020217005121A patent/KR20210022773A/ko not_active IP Right Cessation
- 2015-08-07 ES ES15762474T patent/ES2923764T3/es active Active
- 2015-08-07 US US15/511,272 patent/US11610784B2/en active Active
- 2015-08-07 JP JP2017512917A patent/JP6782692B2/ja active Active
- 2015-08-07 MY MYPI2017700845A patent/MY196621A/en unknown
- 2015-08-07 SG SG10201902331XA patent/SG10201902331XA/en unknown
- 2015-08-07 SG SG11201702091WA patent/SG11201702091WA/en unknown
- 2015-09-09 TW TW104129751A patent/TWI616939B/zh active
-
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- 2020-07-09 JP JP2020118488A patent/JP7049404B2/ja active Active
-
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- 2022-04-01 US US17/711,136 patent/US20220223434A1/en active Pending
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JP2017534458A (ja) | 2017-11-24 |
EP4061101A1 (de) | 2022-09-21 |
JP6782692B2 (ja) | 2020-11-11 |
US20170256422A1 (en) | 2017-09-07 |
SG11201702091WA (en) | 2017-04-27 |
TW201621986A (zh) | 2016-06-16 |
US20220223434A1 (en) | 2022-07-14 |
KR20210022773A (ko) | 2021-03-03 |
LT3195706T (lt) | 2022-08-10 |
KR20170044143A (ko) | 2017-04-24 |
TWI616939B (zh) | 2018-03-01 |
KR20190065480A (ko) | 2019-06-11 |
CN107006128B (zh) | 2020-05-19 |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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