JP2020180762A - Dispersion board, chlorination furnace, and production method of metal chloride - Google Patents

Dispersion board, chlorination furnace, and production method of metal chloride Download PDF

Info

Publication number
JP2020180762A
JP2020180762A JP2019085636A JP2019085636A JP2020180762A JP 2020180762 A JP2020180762 A JP 2020180762A JP 2019085636 A JP2019085636 A JP 2019085636A JP 2019085636 A JP2019085636 A JP 2019085636A JP 2020180762 A JP2020180762 A JP 2020180762A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
heat insulating
thermometers
dispersion board
bottom plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019085636A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7200041B2 (en
Inventor
中村 昌弘
Masahiro Nakamura
昌弘 中村
荒井 文人
Fumito Arai
文人 荒井
享 橋詰
Toru Hashizume
享 橋詰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toho Titanium Co Ltd
Original Assignee
Toho Titanium Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toho Titanium Co Ltd filed Critical Toho Titanium Co Ltd
Priority to JP2019085636A priority Critical patent/JP7200041B2/en
Publication of JP2020180762A publication Critical patent/JP2020180762A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7200041B2 publication Critical patent/JP7200041B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Abstract

To provide a dispersion board allowing to grasp the damage degree of a heat insulation layer used in a chlorination furnace.SOLUTION: A dispersion board 10 is provided to a chlorination furnace for forming a metal chloride by reacting a metal oxide raw material with coke and chlorine gas, and has a bottom plate 20 and a heat insulation layer 30 provided on an upper face 22 of the bottom plate 20. Multiple thermometers 50, 60, 70 are installed on the heat insulation layer 30 for measuring temperatures of the heat insulation layer 30 at different positions in the thickness direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、分散盤、塩化炉、及び金属塩化物の製造方法に関する。 The present invention relates to a dispersion board, a chlorination furnace, and a method for producing metal chloride.

四塩化チタンは、スポンジ状の固体金属チタン(以下、「スポンジチタン」と称する。)の製造原料のみならず、酸化チタンや触媒あるいは医薬の分野に幅広く利用されている。四塩化チタンは、コークスと、チタン鉱石と、塩素ガスとを高温にて反応させることにより製造されている。 Titanium tetrachloride is widely used not only as a raw material for producing sponge-like solid metallic titanium (hereinafter referred to as "sponge titanium"), but also in the fields of titanium oxide, catalysts, and pharmaceuticals. Titanium tetrachloride is produced by reacting coke, titanium ore, and chlorine gas at a high temperature.

四塩化チタンの生成は、耐火物構造の塩化炉内に形成された鉱石とコークスを塩素ガスで流動化した流動層内で行われている。四塩化チタンを生成する塩化反応は、発熱反応であるために、流動層内温度が所望の反応温度に達した後は外部からの加熱は不要となり、自発的に反応が進行する。上記塩化炉内では、チタン鉱石とコークスを含む原料層が、塩素ガスにより流動化されており、このため、塩化炉の内面は、高温下で激しい摩耗環境に曝されている。 The formation of titanium tetrachloride is carried out in a fluidized bed in which ore and coke formed in a refractory chlorination furnace are fluidized with chlorine gas. Since the chloride reaction for producing titanium tetrachloride is an exothermic reaction, after the temperature in the fluidized bed reaches a desired reaction temperature, external heating becomes unnecessary and the reaction proceeds spontaneously. In the chlorination furnace, the raw material layer containing titanium ore and coke is fluidized by chlorine gas, and therefore, the inner surface of the chlorination furnace is exposed to a severe wear environment at a high temperature.

例えば、特許文献1では、金属酸化物を含有する原料とコークスが上部に載置され、下部から供給される塩素ガスを前記原料に接触させる塩素ガスの分散盤であって、底板と、前記底板の上面に配置された不定形耐火物からなる断熱層と、前記断熱層の上部に配置された耐塩素性を有する不活性粒子からなる分散層とを備え、前記底板と前記断熱層には塩素ガスを通過させる複数のガス流路が設けられている分散盤が提案されている。 For example, in Patent Document 1, a raw material containing a metal oxide and coke are placed on the upper part, and a chlorine gas dispersion board for bringing chlorine gas supplied from the lower part into contact with the raw material, the bottom plate and the bottom plate. A heat insulating layer made of an amorphous refractory material arranged on the upper surface of the heat insulating layer and a dispersion layer made of inert particles having chlorine resistance arranged on the upper surface of the heat insulating layer are provided, and chlorine is provided on the bottom plate and the heat insulating layer. A dispersion board provided with a plurality of gas flow paths through which gas passes has been proposed.

特開2014−210689号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-210689

特許文献1に記載されたように、従来から分散盤を補強することが報告されており、その目的は塩化炉の連続操業の長期化を図るものである。しかしながら、塩化炉の操業を続けることによる分散盤損傷の進行は把握が困難であり、特に連続操業の終盤においては塩化炉の操業を停止するか否かの判断基準が未だ確立されていない。したがって、分散盤の損傷度合を把握するために、未だ塩化炉の構造には改善の余地があるといえる。 As described in Patent Document 1, it has been conventionally reported to reinforce the dispersion board, and the purpose thereof is to prolong the continuous operation of the chlorination furnace. However, it is difficult to grasp the progress of the dispersion plate damage due to the continuous operation of the chlorination furnace, and the criteria for determining whether or not to stop the operation of the chlorination furnace has not yet been established, especially at the end of the continuous operation. Therefore, it can be said that there is still room for improvement in the structure of the chlorination furnace in order to grasp the degree of damage to the dispersion board.

そこで、本発明は、このような問題を解決することを課題とするものであり、一実施形態において、塩化炉に使用される断熱層の損傷度合いを把握することが可能な分散盤を提供することを目的とする。また、本発明は別の一実施形態において、そのような分散盤を使用した塩化炉を提供することを目的とする。また、本発明は別の一実施形態において、そのような塩化炉を使用した金属塩化物の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to solve such a problem, and in one embodiment, a dispersion board capable of grasping the degree of damage of the heat insulating layer used in the chlorination furnace is provided. The purpose is. Another object of the present invention is to provide a chlorination furnace using such a dispersion board in another embodiment. Another object of the present invention is to provide a method for producing a metal chloride using such a chlorination furnace in another embodiment.

すなわち、本発明は一側面において、金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで、金属塩化物を生成するための塩化炉に備わる分散盤であって、底板と、前記底板の上面に設けられた断熱層とを備え、前記断熱層には、厚さ方向に異なる位置において前記断熱層の温度を計測するための複数の温度計が設置されている、分散盤である。 That is, on one aspect, the present invention is a dispersion board provided in a chlorination furnace for producing a metal chloride by reacting a metal oxide raw material, coke, and chlorine gas, and the bottom plate and the bottom plate. It is a dispersion board provided with a heat insulating layer provided on the upper surface of the heat insulating layer, and a plurality of thermometers for measuring the temperature of the heat insulating layer at different positions in the thickness direction are installed in the heat insulating layer.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記複数の温度計で一組の温度計を構成する。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the plurality of thermometers constitute a set of thermometers.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記一組の温度計が、前記底板の上面の中心部に位置されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the set of thermometers is located at the center of the upper surface of the bottom plate.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、複数の前記一組の温度計が、底板の上面に位置されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, a plurality of the set of thermometers are located on the upper surface of the bottom plate.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、複数の前記一組の温度計が、前記底板の上面にその上面の中心を軸にして円周方向に沿って位置されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, a plurality of the set of thermometers are located on the upper surface of the bottom plate along the circumferential direction with the center of the upper surface as the axis.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記底板は、炭素鋼、ステンレス鋼、及びNiよりなる群から選択される1種以上である金属で形成されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the bottom plate is formed of one or more metals selected from the group consisting of carbon steel, stainless steel, and Ni.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記断熱層は、耐熱セラミックスで形成された充填物が充填されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the heat insulating layer is filled with a filler formed of heat-resistant ceramics.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記温度計は、測温部と、前記測温部の外周を覆った保護管と、前記保護管を保持するホルダーとを備える。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the thermometer includes a temperature measuring unit, a protective tube covering the outer periphery of the temperature measuring unit, and a holder for holding the protective tube.

本発明に係る分散盤の一実施形態においては、前記保護管は、窒化珪素、炭化珪素、及びアルミナよりなる群から選択される1種以上で形成されている。 In one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the protective tube is formed of one or more selected from the group consisting of silicon nitride, silicon carbide, and alumina.

本発明は別の側面において、上記いずれかの分散盤を備える、塩化炉である。 In another aspect, the present invention is a chlorination furnace comprising any of the above dispersions.

本発明に係る塩化炉の一実施形態においては、厚さ方向に前記断熱層よりも高い位置に塩素ガス吹き出し口を更に備える。 In one embodiment of the chlorination furnace according to the present invention, a chlorine gas outlet is further provided at a position higher than the heat insulating layer in the thickness direction.

本発明は別の側面において、上記いずれかの塩化炉を使用する金属塩化物の製造方法であって、金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで、金属塩化物を製造する製造工程を含む、金属塩化物の製造方法である。 In another aspect, the present invention is a method for producing a metal chloride using any of the above chloride furnaces, wherein the metal chloride is produced by reacting a metal oxide raw material with coke and chlorine gas. It is a method for producing a metal chloride, which includes a production process for the like.

本発明に係る金属塩化物の製造方法においては、前記製造工程は、前記断熱層の厚さ方向に異なる位置において前記断熱層の温度を複数の温度計により測定する測定工程と、前記断熱層の測定温度に基づき、前記塩化炉の操業を停止する停止工程とを含む。 In the method for producing a metal chloride according to the present invention, the production process includes a measurement step of measuring the temperature of the heat insulating layer with a plurality of thermometers at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer, and the heat insulating layer. It includes a stop step of stopping the operation of the chloride furnace based on the measured temperature.

本発明の一実施形態によれば、塩化炉に使用される断熱層の損傷度合いを把握することができる分散盤を提供する。 According to one embodiment of the present invention, there is provided a dispersion board capable of grasping the degree of damage of the heat insulating layer used in the chlorination furnace.

本発明に係る分散盤を説明するための部分拡大断面図である。It is a partially enlarged sectional view for demonstrating the dispersion board which concerns on this invention. 本発明に係る塩化炉の内部構造を模式的に示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows typically the internal structure of the chlorination furnace which concerns on this invention. 本発明に係る金属塩化物の製造方法の製造工程を説明するためのフロー図である。It is a flow chart for demonstrating the manufacturing process of the manufacturing method of the metal chloride which concerns on this invention. 実施例1における断熱層を示す概略上面図である。It is a schematic top view which shows the heat insulating layer in Example 1. FIG. 実施例2における断熱層を示す概略上面図である。It is a schematic top view which shows the heat insulating layer in Example 2. FIG. 実施例3における断熱層を示す概略上面図である。It is a schematic top view which shows the heat insulating layer in Example 3. FIG.

以下、本発明の具体的な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。また、本明細書において、厚さ方向は、分散盤10を正面視したときに、底板20の上面22に垂直な方向を意味する(図1参照)。更に、本明細書において、H1〜H3は、底板20の上面22を基準とした場合に、厚さ方向において当該上面22から断熱層30の上面31に向かう方向(上方UD)にその距離を規定している(図1参照)。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made without changing the gist of the present invention. Further, in the present specification, the thickness direction means a direction perpendicular to the upper surface 22 of the bottom plate 20 when the dispersion board 10 is viewed from the front (see FIG. 1). Further, in the present specification, when H1 to H3 are based on the upper surface 22 of the bottom plate 20, the distance thereof is defined in the thickness direction from the upper surface 22 toward the upper surface 31 of the heat insulating layer 30 (upper UD). (See Fig. 1).

塩化炉の操業においては、塩化炉を使用し続けると、分散盤の断熱層の経時的劣化に伴い断熱層が上部(流動層側)から下部(底板側)に向かって徐々に減肉する。よって、底板の温度が上昇していく。そうすると、底板には、供給された塩素ガスと底板の温度の上昇に起因して、腐食又は貫通孔が生じる。これにより、流動層から底板を通過してウインドボックスに1000℃以上の高温の炉内原料が落下し、ウインドボックス内部が過熱され、ウインドボックスや塩素配管にまで腐食又は貫通孔が生じうる。そのような場合には、塩化炉の系外に塩素ガスの漏えいや高温の原料の流出が生じうる。 In the operation of the chlorination furnace, if the chlorination furnace is continuously used, the heat insulating layer gradually thins from the upper part (fluidized bed side) to the lower part (bottom plate side) as the heat insulating layer of the dispersion board deteriorates with time. Therefore, the temperature of the bottom plate rises. Then, the bottom plate is corroded or has through holes due to the supplied chlorine gas and the temperature rise of the bottom plate. As a result, the raw material in the furnace having a high temperature of 1000 ° C. or higher falls from the fluidized bed through the bottom plate to the wind box, the inside of the wind box is overheated, and corrosion or through holes may occur in the wind box and chlorine piping. In such a case, chlorine gas may leak out of the chloride furnace system or high-temperature raw materials may flow out.

そこで、本発明者らは、分散盤の損傷に起因する塩素漏洩等を的確に防止する手法を種々検討した結果、複数の温度計を併用して分散盤の、特に断熱層の損傷状態を把握することが有利であるとの知見を得た。断熱層内では流動層内よりも温度が低いため、断熱機能が維持されているか否かを温度計の設置深さに基づき把握することを本発明者らは知見し、さらに検討を重ねて本発明者らは本件技術を完成するに至った。
以下の実施形態の説明や実施例では、金属酸化物原料をチタン鉱石とし、金属塩化物を四塩化チタンとして説明する場合がある。
以下、各実施形態について、図面を使用して説明する。
Therefore, as a result of various studies on methods for accurately preventing chlorine leakage and the like caused by damage to the dispersion board, the present inventors grasp the damage state of the dispersion board, especially the heat insulating layer, by using a plurality of thermometers in combination. It was found that it is advantageous to do so. Since the temperature inside the heat insulating layer is lower than that inside the fluidized bed, the present inventors have found that it is possible to grasp whether or not the heat insulating function is maintained based on the installation depth of the thermometer. The inventors have completed the present technology.
In the following description and examples of the embodiment, the metal oxide raw material may be described as titanium ore, and the metal chloride may be described as titanium tetrachloride.
Hereinafter, each embodiment will be described with reference to the drawings.

[1.分散盤]
本発明に係る分散盤の一実施形態によれば、塩化炉に使用される断熱層の損傷度合いを把握できる。本発明に係る分散盤の一実施形態は、金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで金属塩化物を生成するための塩化炉100に備わる分散盤10であって、図1に示すように、底板20と、断熱層30とを備える。そして、断熱層30には、厚さ方向に異なる位置において断熱層30の温度を計測するための複数の温度計50、60、70が設置されている。すなわち、各温度計50、60、70に備わる測温部51、61、71は、厚さ方向に異なる位置において断熱層30に設置されている。底板20と、断熱層30と、温度計50、60、70は公知のものを適宜使用可能である。ただし、温度計50、60、70については後述の要件を満たす必要がある。当該分散盤10の厚さは適宜設計可能であるが、例えば、底板20と断熱層30を併せて500〜700mm程度とすることができる。なお、本明細書において、金属酸化物を酸化チタンとし、金属塩化物を四塩化チタンとして説明しているが、金属酸化物および金属塩化物はこれらに限定されるものではない。以下、各構成要素についてそれぞれ説明する。
[1. Dispersed board]
According to one embodiment of the dispersion board according to the present invention, the degree of damage to the heat insulating layer used in the chlorination furnace can be grasped. One embodiment of the dispersion board according to the present invention is a dispersion board 10 provided in a chlorination furnace 100 for producing a metal chloride by reacting a metal oxide raw material, coke, and chlorine gas. As shown in 1, the bottom plate 20 and the heat insulating layer 30 are provided. The heat insulating layer 30 is provided with a plurality of thermometers 50, 60, 70 for measuring the temperature of the heat insulating layer 30 at different positions in the thickness direction. That is, the temperature measuring units 51, 61, and 71 provided in the thermometers 50, 60, and 70 are installed in the heat insulating layer 30 at different positions in the thickness direction. As the bottom plate 20, the heat insulating layer 30, and the thermometers 50, 60, and 70, known ones can be appropriately used. However, the thermometers 50, 60, and 70 need to satisfy the requirements described later. The thickness of the dispersion board 10 can be appropriately designed, and for example, the total thickness of the bottom plate 20 and the heat insulating layer 30 can be about 500 to 700 mm. In this specification, the metal oxide is described as titanium oxide and the metal chloride is described as titanium tetrachloride, but the metal oxide and the metal chloride are not limited thereto. Hereinafter, each component will be described.

(底板)
底板20は、塩化炉100においてウインドボックス110の上方に位置し(図2参照)、塩素ガスが通過するように多数の通気孔(不図示)が形成されている。好ましくは、塩素ガスは通気孔に設けられたノズル21を介して断熱層30の上外側、すなわち流動層120に供給される。ノズル21の塩素ガス吹き出し口21aは断熱層30より高い位置とした方が好ましい場合もある。底板20の材質は、耐熱性という観点から、炭素鋼、ステンレス鋼、及びNiよりなる群から選択される1種以上であればよい。なお、底板20の厚さは適宜設計可能であるが、例えば40〜80mmである。炭素鋼は炭素含有量が2質量%以下の鋼であって、いわゆる極低炭素鋼、低炭素鋼、中炭素鋼、高炭素鋼等を含むものである。炭素鋼の具体例として、SS400等が挙げられる。ステンレス鋼は、耐熱性及び強度という観点から、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)等が添加された鋼である。ステンレス鋼の具体例として、フェライト系ステンレス鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、マルテンサイト系ステンレス鋼、二相ステンレス鋼等が挙げられる。
(Bottom plate)
The bottom plate 20 is located above the windbox 110 in the chlorination furnace 100 (see FIG. 2), and a large number of ventilation holes (not shown) are formed so that chlorine gas can pass therethrough. Preferably, chlorine gas is supplied to the upper and outer sides of the heat insulating layer 30, that is, the fluidized bed 120, via a nozzle 21 provided in the ventilation hole. In some cases, it is preferable that the chlorine gas outlet 21a of the nozzle 21 is located higher than the heat insulating layer 30. The material of the bottom plate 20 may be one or more selected from the group consisting of carbon steel, stainless steel, and Ni from the viewpoint of heat resistance. The thickness of the bottom plate 20 can be appropriately designed, but is, for example, 40 to 80 mm. The carbon steel is a steel having a carbon content of 2% by mass or less, and includes so-called ultra-low carbon steel, low carbon steel, medium carbon steel, high carbon steel and the like. Specific examples of carbon steel include SS400 and the like. Stainless steel is a steel to which chromium (Cr), nickel (Ni), etc. are added from the viewpoint of heat resistance and strength. Specific examples of stainless steel include ferrite-based stainless steel, austenitic stainless steel, martensite-based stainless steel, and two-phase stainless steel.

上記通気孔の大きさは、塩素ガスを分散させるために必要なガス流量と圧力損失から規定することができる。底板20の通気孔(好ましくは上記ノズル21)の個数は、通気孔の径によって異なってくるが、分散盤10が2m程度の直径を有する場合には、50〜100個あればよい。このような底板20を用いることにより、塩素ガス供給管130(図2参照。)から供給される塩素ガスを流動層120に対してより均一に供給することができる。 The size of the ventilation holes can be defined from the gas flow rate and pressure loss required to disperse chlorine gas. The number of ventilation holes (preferably the nozzle 21) of the bottom plate 20 varies depending on the diameter of the ventilation holes, but when the dispersion plate 10 has a diameter of about 2 m, it may be 50 to 100. By using such a bottom plate 20, chlorine gas supplied from the chlorine gas supply pipe 130 (see FIG. 2) can be more uniformly supplied to the fluidized bed 120.

(断熱層)
断熱層30は、底板20の上面22の上方UDに形成される。断熱層30は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。また、断熱層30を耐熱セラミックス製の充填物を充填して形成している場合、分散盤10を適切に軽量化しつつ塩化炉100内の塩素ガスの影響を低減可能である。上記耐熱セラミックス製の充填物としては、例えば窒化ケイ素製、溶融シリカ製、又はアルミナ製等の充填物が挙げられる。上記耐熱セラミックス製の充填物の形状は特に限定されるものではないが、球状や平板状等が挙げられる。中でも上記充填物の形状は、分散盤10の耐久性という観点から、平板状がよい。また、充填物は、原料の流動により流動層120に巻き込まれないような大きさであることが好ましい。なお、断熱層30の厚さは適宜設計可能であるが、例えば400〜650mmである。
(Insulation layer)
The heat insulating layer 30 is formed on the upper UD of the upper surface 22 of the bottom plate 20. The heat insulating layer 30 may have a single-layer structure or a multi-layer structure. Further, when the heat insulating layer 30 is formed by filling the packing material made of heat-resistant ceramics, it is possible to reduce the influence of chlorine gas in the chlorination furnace 100 while appropriately reducing the weight of the dispersion board 10. Examples of the filler made of heat-resistant ceramics include fillers made of silicon nitride, molten silica, alumina and the like. The shape of the filler made of heat-resistant ceramics is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape and a flat plate shape. Above all, the shape of the filling material is preferably a flat plate shape from the viewpoint of the durability of the dispersion board 10. Further, the filling material is preferably sized so as not to be caught in the fluidized bed 120 due to the flow of the raw material. The thickness of the heat insulating layer 30 can be appropriately designed, and is, for example, 400 to 650 mm.

本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、断熱層30には厚さ方向の異なる位置において断熱層30の温度を計測するための複数の温度計50、60、70が設置されている。塩化炉100の操業を継続した場合、塩化炉100内の温度を高温に維持しているために断熱層30が消耗される。これにより、断熱層30の厚さが薄くなっていく。そこで、例えば、断熱層30内にて厚さ方向に異なる位置に測温部51、61、71を設置したことで、最も底板20側近くに設置された測温部51により計測された温度が上昇し始めたら、断熱層30の損傷が生じていると把握することができる。また、例えば、測温部61または測温部71により計測された温度が上昇し始めたら、断熱層30の損傷が生じていると把握することもできる。以上より、分散盤10の設計にもよるが、断熱層30には厚さ方向の異なる位置において2〜4本の温度計を備えることとしてよい。 In one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, the heat insulating layer 30 is provided with a plurality of thermometers 50, 60, 70 for measuring the temperature of the heat insulating layer 30 at different positions in the thickness direction. .. When the operation of the chlorination furnace 100 is continued, the heat insulating layer 30 is consumed because the temperature inside the chlorination furnace 100 is maintained at a high temperature. As a result, the thickness of the heat insulating layer 30 becomes thinner. Therefore, for example, by installing the temperature measuring units 51, 61, and 71 at different positions in the heat insulating layer 30 in the thickness direction, the temperature measured by the temperature measuring unit 51 installed closest to the bottom plate 20 side can be obtained. When it starts to rise, it can be grasped that the heat insulating layer 30 is damaged. Further, for example, when the temperature measured by the temperature measuring unit 61 or the temperature measuring unit 71 starts to rise, it can be grasped that the heat insulating layer 30 is damaged. From the above, although it depends on the design of the dispersion board 10, the heat insulating layer 30 may be provided with 2 to 4 thermometers at different positions in the thickness direction.

本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、断熱層30が損傷している箇所をより正確に把握するという観点から、厚さ方向の異なる位置において断熱層30の温度を測定する複数の温度計(例えば温度計50、60、70の3本)で一組の温度計40を構成することが好ましい。ここで、一組の温度計40のうち複数の温度計50、60、70は、底板20が損傷している箇所を把握するという観点から、例えば底板20の上面22において0.04〜0.16m2の面積内にそれぞれ設置されている。一組の温度計40を構成する複数の温度計50、60、70は、複数であることが好ましく、より具体的には2〜4本あればよい(図1は、温度計3本で一組の場合を図示している)。なお、上記面積内における複数の温度計50、60、70の配列は特に限定されないが、例えばジグザグ状や上記面積内の中心を軸にして円周方向に沿った配置であってもよい。
例えば、図1のように、一組の温度計40が3本の温度計50、60、70から構成される場合には、各温度計50、60、70の先端近傍に測温部51、61、71が存在するので、断熱層30の損傷度合いを精度良く把握するという観点から、第1の温度計50の先端50aが断熱層30の厚さ中央よりも底板20側に設置され、第2の温度計60の先端60aが断熱層30の厚さ中央付近に設置され、第3の温度計70が断熱層30の厚さ中央よりも流動層120(図2参照。)側に配置される。
第1の温度計50においては、断熱層30の厚さをHとし、厚さ方向における底板20の上面22から第1の温度計50の先端50aまでの距離をH1とした場合に、断熱層30の損傷度合いを把握するという観点から、H1/Hが0.5以下であることが好ましく、0.3以下であることがより好ましい。なお、上記H1/Hは下限側としては、典型的に0.0以上であり、より典型的に0.1以上である。本明細書において、上記H1/Hが0.0である場合は、H1が底板20の上面22に位置することを意味する。
また、第2の温度計60においては、断熱層30の厚さをHとし、厚さ方向における底板20の上面22から第2の温度計60の先端60aまでの距離をH2とした場合に、断熱層30の損傷度合いを把握するという観点から、H2/Hが0.75〜0.25であることが好ましい。上記H2/Hは上限側として、0.75以下であることが好ましく、0.60以下であることがより好ましい。なお、上記H2/Hは下限側として、0.25以上であることが好ましく、0.40以上であることがより好ましい。
また、第3の温度計70においては、断熱層30の厚さをHとし、厚さ方向における底板20の上面22から第3の温度計70の先端70aまでの距離をH3とした場合に、断熱層30の損傷度合いを把握するという観点から、H3/Hが0.5以上であることが好ましい。上記H3/Hは下限側として、0.5以上であることが好ましく、0.6以上であることがより好ましい。なお、上記H3/Hは上限側として、典型的に1.0以下であり、より典型的に0.8以下である。本明細書において、上記H3/Hが1.0である場合は、H3が断熱層30の上面31に位置することを意味する。
以上の説明により、厚さ方向における底板20の上面22から各温度計50、60、70の先端50a、60a、70aまでの距離について、H1、H2、及びH3は、H3>H2>H1との関係で示される。
In one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, from the viewpoint of more accurately grasping the damaged portion of the heat insulating layer 30, the temperature of the heat insulating layer 30 is measured at different positions in the thickness direction. It is preferable that a set of thermometers 40 is composed of thermometers (for example, three thermometers 50, 60, and 70). Here, the plurality of thermometers 50, 60, and 70 of the set of thermometers 40 have 0.04 to 0. On the upper surface 22 of the bottom plate 20, for example, from the viewpoint of grasping the damaged portion of the bottom plate 20. They are installed within an area of 16 m 2 . The plurality of thermometers 50, 60, 70 constituting one set of thermometers 40 is preferably a plurality, and more specifically, 2 to 4 thermometers may be used (FIG. 1 shows one with three thermometers). The case of a pair is illustrated). The arrangement of the plurality of thermometers 50, 60, 70 in the above area is not particularly limited, but may be, for example, a zigzag shape or an arrangement along the circumferential direction with the center in the above area as an axis.
For example, as shown in FIG. 1, when a set of thermometers 40 is composed of three thermometers 50, 60, 70, the temperature measuring unit 51 is located near the tip of each thermometer 50, 60, 70. Since 61 and 71 are present, the tip 50a of the first thermometer 50 is installed on the bottom plate 20 side of the thickness center of the heat insulating layer 30 from the viewpoint of accurately grasping the degree of damage of the heat insulating layer 30. The tip 60a of the thermometer 60 of 2 is installed near the center of the thickness of the heat insulating layer 30, and the third thermometer 70 is arranged on the flow layer 120 (see FIG. 2) side of the center of the thickness of the heat insulating layer 30. To.
In the first thermometer 50, when the thickness of the heat insulating layer 30 is H and the distance from the upper surface 22 of the bottom plate 20 in the thickness direction to the tip 50a of the first thermometer 50 is H1, the heat insulating layer From the viewpoint of grasping the degree of damage of 30, H1 / H is preferably 0.5 or less, and more preferably 0.3 or less. The lower limit side of H1 / H is typically 0.0 or more, and more typically 0.1 or more. In the present specification, when the above H1 / H is 0.0, it means that H1 is located on the upper surface 22 of the bottom plate 20.
Further, in the second thermometer 60, when the thickness of the heat insulating layer 30 is H and the distance from the upper surface 22 of the bottom plate 20 in the thickness direction to the tip 60a of the second thermometer 60 is H2. From the viewpoint of grasping the degree of damage to the heat insulating layer 30, the H2 / H is preferably 0.75 to 0.25. The upper limit of H2 / H is preferably 0.75 or less, and more preferably 0.60 or less. The lower limit of H2 / H is preferably 0.25 or more, and more preferably 0.40 or more.
Further, in the third thermometer 70, when the thickness of the heat insulating layer 30 is H and the distance from the upper surface 22 of the bottom plate 20 in the thickness direction to the tip 70a of the third thermometer 70 is H3. From the viewpoint of grasping the degree of damage to the heat insulating layer 30, the H3 / H is preferably 0.5 or more. The lower limit side of H3 / H is preferably 0.5 or more, and more preferably 0.6 or more. The upper limit side of H3 / H is typically 1.0 or less, and more typically 0.8 or less. In the present specification, when the H3 / H is 1.0, it means that H3 is located on the upper surface 31 of the heat insulating layer 30.
From the above description, H1, H2, and H3 are H3>H2> H1 with respect to the distance from the upper surface 22 of the bottom plate 20 in the thickness direction to the tips 50a, 60a, 70a of the thermometers 50, 60, 70. Shown in relation.

本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、塩化炉100の操業中に断熱層30の中心部が他の部位よりも損傷が生じやすいという観点から、一組の温度計40が底板20の上面22の中心部に位置されていることが好ましい。 In one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, a set of thermometers 40 is a bottom plate 20 from the viewpoint that the central portion of the heat insulating layer 30 is more likely to be damaged than other parts during the operation of the chlorination furnace 100. It is preferably located at the center of the upper surface 22 of the above.

本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、断熱層30が損傷している箇所をより正確に把握するという観点から、複数の一組の温度計40が底板20の上面22に位置されていることが好ましい。更に、底板20の上面22において、塩化炉100の操業シミュレーションにより事前に断熱層30が損傷しやすい箇所が複数判明していれば、各箇所に一組の温度計40を配置すればよい。
また、本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、中心軸に設置される一組の温度計40の他に、さらに複数の一組の温度計40が、底板20の上面22の中心を軸(以下、中心軸Xと称する。)にして円周方向に沿って位置され、それらの複数の一組の温度計40が上方UDに延在して断熱層30にそれぞれ設置されている。このとき、複数の一組の温度計40が、底板20の上面22に等間隔で断熱層30にそれぞれ位置されてもよい。すなわち、複数の一組の温度計40を底板20の上面22に位置する場合には、その一組の温度計40の数に応じて、一方の一組の温度計40と、他の一組の温度計40とを円周方向において所定の間隔で位置すればよい(図4〜6参照)。以上のような複数の一組の温度計40の配置により、断熱層30の損傷度合いをより精度良く把握することができる場合がある。
このとき、中心軸Xから分散盤10の外周までの距離をRとし、中心軸Xから外周に向かって一組の温度計40の各温度計の中心までの離間距離rとした(図4参照。)場合、r/Rは、分散盤10各所の温度を適切に把握するという観点から、0.1〜0.9であることが好ましい。上記r/Rは、下限側として0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましく、0.4以上であることが更に好ましい。また、上記r/Rは、上限側として0.9以下であることが好ましく、0.8以下であることがより好ましく、0.7以下であることが更に好ましい。
なお、本明細書の図4においては一組の温度計B〜Dについてrの値が同じとなっているが、「円周方向に沿って」とは各rが同一である必要はない。例えば、各rの平均値をarとした場合、中心軸Xから外周に向かって一組の温度計B〜Dの各温度計の中心までの離間距離を示す各r値がar±30%の範囲内となるように各一組の温度計B〜Dを配置してもよい。なお、本明細書の図5、6も同様である。
In one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, a plurality of sets of thermometers 40 are located on the upper surface 22 of the bottom plate 20 from the viewpoint of more accurately grasping the damaged portion of the heat insulating layer 30. Is preferable. Further, if a plurality of locations on the upper surface 22 of the bottom plate 20 where the heat insulating layer 30 is likely to be damaged are found in advance by the operation simulation of the chlorination furnace 100, a set of thermometers 40 may be arranged at each location.
Further, in one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, in addition to the set of thermometers 40 installed on the central axis, a plurality of sets of thermometers 40 are centered on the upper surface 22 of the bottom plate 20. Is located along the circumferential direction with the axis (hereinafter referred to as the central axis X) as an axis, and a plurality of sets of thermometers 40 thereof extend upward UD and are installed in the heat insulating layer 30 respectively. .. At this time, a plurality of sets of thermometers 40 may be positioned on the heat insulating layer 30 at equal intervals on the upper surface 22 of the bottom plate 20. That is, when a plurality of sets of thermometers 40 are located on the upper surface 22 of the bottom plate 20, one set of thermometers 40 and another set are set according to the number of the set of thermometers 40. The thermometers 40 may be positioned at predetermined intervals in the circumferential direction (see FIGS. 4 to 6). By arranging a plurality of sets of thermometers 40 as described above, the degree of damage to the heat insulating layer 30 may be grasped more accurately.
At this time, the distance from the central axis X to the outer circumference of the dispersion board 10 is R, and the distance r from the central axis X to the center of each thermometer of the set of thermometers 40 toward the outer circumference is defined (see FIG. 4). In the case of.), The r / R is preferably 0.1 to 0.9 from the viewpoint of appropriately grasping the temperature of each part of the dispersion board 10. The lower limit of r / R is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, and even more preferably 0.4 or more. Further, the r / R is preferably 0.9 or less, more preferably 0.8 or less, and further preferably 0.7 or less as the upper limit side.
In FIG. 4 of the present specification, the values of r are the same for a set of thermometers B to D, but it is not necessary for each r to be the same as "along the circumferential direction". For example, when the average value of each r is ar, each r value indicating the separation distance from the central axis X to the center of each thermometer of a set of thermometers B to D toward the outer circumference is ar ± 30%. A set of thermometers B to D may be arranged so as to be within the range. The same applies to FIGS. 5 and 6 of the present specification.

本発明に係る分散盤10の一実施形態においては、温度計50、60、70は、測温部51、61、71と、測温部51、61、71と連結する導線51a、61a、71aと、底板20の上面22から断熱層30に向かって延在して測温部51、61、71の外周を覆う保護管52、62、72と、保護管52、62、72を断熱層30内に取り付けて保持するホルダー53、63、73と、保護管52、62、72及びホルダー53、63、73の間に耐熱セメント等で形成されたシール剤54、64、74とを備える。また、測温部51、61、71としては公知のものを適宜採用すればよいが、例えば熱電対が挙げられる。 In one embodiment of the dispersion board 10 according to the present invention, the thermometers 50, 60, 70 have the temperature measuring units 51, 61, 71 and the conducting wires 51a, 61a, 71a connected to the temperature measuring units 51, 61, 71. The protective tubes 52, 62, 72 extending from the upper surface 22 of the bottom plate 20 toward the heat insulating layer 30 and covering the outer periphery of the temperature measuring portions 51, 61, 71, and the protective tubes 52, 62, 72 are provided with the heat insulating layer 30. It is provided with holders 53, 63, 73 that are attached and held inside, and sealants 54, 64, 74 formed of heat-resistant cement or the like between the protective tubes 52, 62, 72 and the holders 53, 63, 73. Further, as the temperature measuring units 51, 61, 71, known ones may be appropriately adopted, and examples thereof include thermocouples.

導線51a、61a、71aは、例えば外部に設置されたインターフェイス(不図示)等に接続され、測温部51、61、71で測定された温度情報をモニター(不図示)に出力する。導線の材質としては金属であれば特に限定されないが、例えば鉄−銅ニッケル合金、銅−銅ニッケル合金等が挙げられる。 The lead wires 51a, 61a, 71a are connected to, for example, an interface (not shown) installed outside, and output the temperature information measured by the temperature measuring units 51, 61, 71 to a monitor (not shown). The material of the conducting wire is not particularly limited as long as it is a metal, and examples thereof include an iron-copper nickel alloy and a copper-copper nickel alloy.

保護管52、62、72は、測温部51、61、71が塩素ガスと接触して腐食されることを防ぐため、分散盤10において測温部51、61、71の外周を覆うように保護する。保護管52、62、72の両端部のうちいずれか一方は、開口部を有する。その開口部は、ホルダー53、63、73に係合される形状にしてよい。保護管52、62、72は、耐熱性、及び耐摩耗性という観点から、窒化珪素、炭化珪素、及びアルミナよりなる群から選択される1種以上で形成されていることが好ましい。中でも、保護管52、62、72は塩素ガスで腐食されないため、耐腐食性という観点から、窒化珪素がより好ましい。 The protective tubes 52, 62, 72 cover the outer periphery of the temperature measuring portions 51, 61, 71 in the dispersion board 10 in order to prevent the temperature measuring portions 51, 61, 71 from coming into contact with chlorine gas and being corroded. Protect. One of both ends of the protective tubes 52, 62 and 72 has an opening. The opening may be shaped to engage the holders 53, 63, 73. From the viewpoint of heat resistance and wear resistance, the protective tubes 52, 62, and 72 are preferably formed of one or more selected from the group consisting of silicon nitride, silicon carbide, and alumina. Of these, since the protective tubes 52, 62, and 72 are not corroded by chlorine gas, silicon nitride is more preferable from the viewpoint of corrosion resistance.

ホルダー53、63、73は、塩化炉100(図2参照。)内に塩素ガスが流れることを防止することを目的で使用する。ホルダー53、63、73は金属製であれば特に限定されないが、接合性の観点から底板20と同じ材質である、炭素鋼、ステンレス鋼、及びNiよりなる群から選択される1種以上を用いればよい。 Holders 53, 63, and 73 are used for the purpose of preventing chlorine gas from flowing into the chlorination furnace 100 (see FIG. 2). The holders 53, 63, and 73 are not particularly limited as long as they are made of metal, but from the viewpoint of bondability, one or more selected from the group consisting of carbon steel, stainless steel, and Ni, which are the same materials as the bottom plate 20, may be used. Just do it.

シール剤54、64、74は、保護管52、62、72及びホルダー53、63、73の間に挟まれることで、保護管52、62、72内に塩素ガスが流れることを防止する目的で使用する。また、シール部材55、65、75は、塩化炉100(図2参照。)内に意図せぬ過剰の塩素ガスが流れることを防止する目的で使用する。すなわち、本実施形態においては、シール剤54、64、74及びシール部材55、65、75による、二重シール構造を採用している。シール部材55、65、75は底板20の下端側に設けられる。シール部材55、65、75は金属製であれば特に限定されないが、高温環境に基づく底板20の孔形成を低減するため、好ましくは炭素鋼又はステンレス鋼で形成されている。なお、シール部材55、65、75を耐熱セラミックで形成した場合は、シール部材55、65、75に塩素ガスが流入し、温度計自身が塩素と反応して損傷するおそれがある。 The sealants 54, 64, 74 are sandwiched between the protective tubes 52, 62, 72 and the holders 53, 63, 73 for the purpose of preventing chlorine gas from flowing into the protective tubes 52, 62, 72. use. Further, the sealing members 55, 65, 75 are used for the purpose of preventing an unintended excess chlorine gas from flowing into the chlorination furnace 100 (see FIG. 2). That is, in the present embodiment, a double sealing structure using the sealing agents 54, 64, 74 and the sealing members 55, 65, 75 is adopted. The sealing members 55, 65, and 75 are provided on the lower end side of the bottom plate 20. The sealing members 55, 65, and 75 are not particularly limited as long as they are made of metal, but are preferably made of carbon steel or stainless steel in order to reduce the formation of holes in the bottom plate 20 due to the high temperature environment. When the sealing members 55, 65, 75 are made of heat-resistant ceramic, chlorine gas may flow into the sealing members 55, 65, 75 and the thermometer itself may react with chlorine to be damaged.

[2.塩化炉]
本発明に係る塩化炉100は、図2に示すように、ウインドボックス110と、先述した分散盤10と、流動層120と、塩素ガス供給管130と、原料供給管140と、金属塩化物ガス回収管150とを備える。以下、各構成要素をそれぞれ説明する。
[2. Chloride furnace]
As shown in FIG. 2, the chloride furnace 100 according to the present invention includes a window box 110, a dispersion board 10 described above, a fluidized bed 120, a chlorine gas supply pipe 130, a raw material supply pipe 140, and a metal chloride gas. A recovery tube 150 is provided. Hereinafter, each component will be described.

(ウインドボックス)
ウインドボックス110は、塩化炉100の底側に設けられる。先述した分散盤10は、ウインドボックス110に接続されている。ウインドボックス110の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。塩素ガスはウインドボックス110および分散盤10を通過して流動層120に供給される。
(Wind box)
The wind box 110 is provided on the bottom side of the chlorination furnace 100. The above-mentioned distribution board 10 is connected to the window box 110. As the shape or material of the window box 110, a known one can be appropriately adopted. Chlorine gas passes through the window box 110 and the dispersion board 10 and is supplied to the fluidized bed 120.

(流動層)
流動層120は、分散盤10上に設けられている。該流動層120は、金属酸化物原料及びコークスで形成されている。金属酸化物原料及びコークスは、加熱中に塩素ガス供給管130から供給された塩素ガスと反応することで、金属塩化物ガスを生成する。金属酸化物原料は、酸化チタンを含有するチタン鉱石であってよい。
(Fluidized bed)
The fluidized bed 120 is provided on the dispersion board 10. The fluidized bed 120 is made of a metal oxide raw material and coke. The metal oxide raw material and coke react with the chlorine gas supplied from the chlorine gas supply pipe 130 during heating to generate a metal chloride gas. The metal oxide raw material may be a titanium ore containing titanium oxide.

(塩素ガス供給管)
塩素ガス供給管130はウインドボックス110に接続される。
(Chlorine gas supply pipe)
The chlorine gas supply pipe 130 is connected to the wind box 110.

(原料供給管)
原料供給管140は、流動層120に金属酸化物原料及びコークスを供給するため、厚さ方向において分散盤10よりも高い位置に塩化炉100の側壁160に設けられている。原料供給管140の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。なお、塩化炉100の施設においては、当該原料供給管140を、側壁160のレンガ間に挿通すればよい。
(Raw material supply pipe)
The raw material supply pipe 140 is provided on the side wall 160 of the chlorination furnace 100 at a position higher than the dispersion board 10 in the thickness direction in order to supply the metal oxide raw material and coke to the fluidized bed 120. As the shape or material of the raw material supply pipe 140, known ones can be appropriately adopted. In the facility of the chlorination furnace 100, the raw material supply pipe 140 may be inserted between the bricks of the side wall 160.

(金属塩化物ガス回収管)
金属塩化物ガス回収管150は、塩化炉100内で生成された金属塩化物ガスを回収するために、塩化炉100の頂部に設けられている。このとき、金属塩化物ガスは四塩化チタンガスでよい。この回収された金属塩化物ガスが四塩化チタンガスである場合には、コンデンサーにおいて該四塩化チタンガスを四塩化チタンの沸点136℃以下に冷却することで、液体四塩化チタンを回収すればよい。また、金属塩化物ガス回収管150の形状又は材質は公知のものを適宜採用可能である。
(Metal chloride gas recovery pipe)
The metal chloride gas recovery pipe 150 is provided at the top of the chloride furnace 100 in order to recover the metal chloride gas generated in the chloride furnace 100. At this time, the metal chloride gas may be titanium tetrachloride gas. When the recovered metal chloride gas is titanium tetrachloride gas, the liquid titanium tetrachloride may be recovered by cooling the titanium tetrachloride gas to a boiling point of 136 ° C. or lower of titanium tetrachloride in a condenser. .. Further, a known shape or material of the metal chloride gas recovery pipe 150 can be appropriately adopted.

[3.金属塩化物の製造方法]
本発明に係る金属塩化物の製造方法の一実施形態においては、先述した塩化炉100を使用して金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで、金属塩化物を製造する製造工程を含む。このように製造された金属塩化物ガスは、気体となって塩化炉100内を上昇し、塩化炉100の頂部に接続された金属塩化物ガス回収管150を経て回収される。このとき、金属塩化物ガスは四塩化チタンガスでよい。
[3. Method for manufacturing metal chloride]
In one embodiment of the method for producing a metal chloride according to the present invention, the metal oxide raw material, coke, and chlorine gas are reacted with each other using the above-mentioned chloride furnace 100 to produce the metal chloride. Includes manufacturing process. The metal chloride gas produced in this way becomes a gas, rises in the chloride furnace 100, and is recovered through the metal chloride gas recovery pipe 150 connected to the top of the chloride furnace 100. At this time, the metal chloride gas may be titanium tetrachloride gas.

本発明に係る金属塩化物の製造方法の一実施形態においては、上記製造工程は、図3に示した測定工程S11と、停止工程S21とを更に含む。 In one embodiment of the method for producing a metal chloride according to the present invention, the production step further includes a measurement step S11 and a stop step S21 shown in FIG.

(測定工程)
測定工程S11は、断熱層30の厚さ方向に異なる位置において断熱層30の温度を複数の温度計50、60、70により測定する。各温度計50、60、70に備わる測温部51、61、71で測定された温度から断熱層30の損傷度合いを把握することができる。
(Measurement process)
In the measurement step S11, the temperature of the heat insulating layer 30 is measured by a plurality of thermometers 50, 60, 70 at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer 30. The degree of damage to the heat insulating layer 30 can be grasped from the temperatures measured by the temperature measuring units 51, 61, 71 provided in the thermometers 50, 60, and 70.

(停止工程)
停止工程S21は、測定工程S11により測定された断熱層30の測定温度に基づき、塩化炉100の操業を停止する。
停止工程S21において操業を停止する判断基準は、分散盤10の構成や塩化炉100の操業条件に基づき設定可能である。例えば、断熱層30に窒化珪素製充填物を充填し、塩化炉100内の温度を1000〜1100℃に調整している場合には、底板20に最も近くに設置された測温部51が400℃以上であるとき、断熱層30に損傷が生じていると把握することができるので、操業を一時停止する。一方、400℃未満である場合には、断熱層30に損耗が生じていないと把握することができるので、操業を続けることができる。また、断熱層30の厚さ方向に異なる位置において温度計が3本以上設置されている場合には、当該厚さ方向において断熱層30の上面31側から数えて予め規定した温度計(例えば2番目以降の温度計)が400℃以上であるとき、操業を一時停止してもよい。更に、断熱層30の厚さ方向に異なる位置に設置された各温度計50、60、70に備わる測温部51、61、71で測定された温度の温度差によって操業を停止してもよい。
(Stop process)
The stop step S21 stops the operation of the chlorination furnace 100 based on the measurement temperature of the heat insulating layer 30 measured in the measurement step S11.
The criterion for stopping the operation in the stop step S21 can be set based on the configuration of the dispersion board 10 and the operation conditions of the chlorination furnace 100. For example, when the heat insulating layer 30 is filled with a silicon nitride filling and the temperature inside the chlorination furnace 100 is adjusted to 1000 to 1100 ° C., the temperature measuring unit 51 installed closest to the bottom plate 20 is 400. When the temperature is higher than the temperature, it can be determined that the heat insulating layer 30 is damaged, so that the operation is suspended. On the other hand, when the temperature is lower than 400 ° C., it can be determined that the heat insulating layer 30 is not worn, so that the operation can be continued. When three or more thermometers are installed at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer 30, a predetermined thermometer (for example, 2) is counted from the upper surface 31 side of the heat insulating layer 30 in the thickness direction. The operation may be suspended when the temperature of the second and subsequent thermometers) is 400 ° C. or higher. Further, the operation may be stopped due to the temperature difference of the temperatures measured by the temperature measuring units 51, 61, 71 provided in the thermometers 50, 60, 70 provided at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer 30. ..

例えば、塩化炉100の操業を停止した後は分散盤10を塩化炉100から取り外し、断熱層30の損傷が生じていた場合には、未使用の分散盤10に交換すればよい。そうすることで、塩化炉の操業を再開できる。 For example, after the operation of the chlorination furnace 100 is stopped, the dispersion board 10 may be removed from the chlorination furnace 100, and if the heat insulating layer 30 is damaged, it may be replaced with an unused dispersion board 10. By doing so, the operation of the chlorination furnace can be resumed.

以下、本発明の内容を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、表1では、実施例1及び2における一組の温度計は3本の温度計が束となっており、実施例3における一組の温度計は2本の温度計が束となっている。 Hereinafter, the content of the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these examples. In Table 1, the set of thermometers in Examples 1 and 2 is a bundle of three thermometers, and the set of thermometers in Example 3 is a bundle of two thermometers. There is.

(実施例1)
図2に示した構成を備える塩化炉100を使用した。分散盤10の直径を2000mm(図4〜6に示したR:1000mm)とし、分散盤10の厚さが650mmとなるように、底板20の厚さを50mmとし、断熱層30の厚さHが600mmとなるように平板状の窒化珪素片を充填した。次いで、温度計3本からなる一組の温度計40(複数の温度は、断熱層30の厚さ方向に垂直な方向から観察したときに0.04〜0.16m2の面積内に設置されている。)を複数用意した。当該一組の温度計40を、図4に示すように、中心部(A地点)に1ヶ所設置し、さらに離間距離rが600mmとなるようにし、底板20の上面22にその上面22の中心を軸にして円周方向に沿って等間隔に3ヶ所(B地点、C地点、D地点)設置した。このとき、底板20の上面22から温度計50、60、70の先端50a、60a、70aまでの距離(図1参照。)が、H1:125mm(以下、第1の温度計50と称する。)、H2:250mm(以下、第2の温度計60と称する。)、H3:375mm(以下、第3の温度計70と称する。)となるようにそれぞれ設置した。上記温度計50、60、70の測温部51、61、71を熱電対とし、保護管52、62、72を窒化珪素製とし、ホルダー53、63、73をステンレス鋼製とし、底板20を炭素鋼製とした。更に、流動層120は、チタン鉱石(品種:合成ルチル、TiO2純度:96質量%)とコークス(石油系カルサインドコークス)により形成されていた。
(Example 1)
A chlorination furnace 100 having the configuration shown in FIG. 2 was used. The diameter of the dispersion board 10 is 2000 mm (R: 1000 mm shown in FIGS. 4 to 6), the thickness of the bottom plate 20 is 50 mm so that the thickness of the dispersion board 10 is 650 mm, and the thickness H of the heat insulating layer 30 is set. A flat plate of silicon nitride was filled so as to have a diameter of 600 mm. Next, a set of thermometers 40 consisting of three thermometers (several temperatures are installed within an area of 0.04 to 0.16 m 2 when observed from a direction perpendicular to the thickness direction of the heat insulating layer 30). ) Is prepared. As shown in FIG. 4, one set of thermometers 40 is installed at the center (point A) so that the separation distance r is 600 mm, and the center of the upper surface 22 is placed on the upper surface 22 of the bottom plate 20. It was installed at three locations (points B, C, and D) at equal intervals along the circumferential direction with the axis as the axis. At this time, the distance from the upper surface 22 of the bottom plate 20 to the tips 50a, 60a, 70a of the thermometers 50, 60, 70 (see FIG. 1) is H1: 125 mm (hereinafter, referred to as the first thermometer 50). , H2: 250 mm (hereinafter referred to as the second thermometer 60) and H3: 375 mm (hereinafter referred to as the third thermometer 70). The temperature measuring units 51, 61, 71 of the thermometers 50, 60, 70 are thermocouples, the protective tubes 52, 62, 72 are made of silicon nitride, the holders 53, 63, 73 are made of stainless steel, and the bottom plate 20 is made of stainless steel. Made of carbon steel. Further, the fluidized bed 120 was formed of titanium ore (variety: synthetic rutile, TiO 2 purity: 96% by mass) and coke (petroleum-based calsigned coke).

当該分散盤10を使用して塩化炉100を操業し、塩化炉100内の平均温度1050℃、Cl2ガスの平均供給量30m3/minで四塩化チタンの製造を継続した。塩化炉100内の平均温度1050℃にした直後、各温度計50、60、70の温度は、温度計50は80℃、温度計60は150℃、温度計70は300℃あった。 The chlorination furnace 100 was operated using the dispersion board 10, and the production of titanium tetrachloride was continued at an average temperature of 1050 ° C. in the chlorination furnace 100 and an average supply amount of Cl 2 gas of 30 m 3 / min. Immediately after the average temperature in the chlorination furnace 100 was set to 1050 ° C., the temperatures of the thermometers 50, 60 and 70 were 80 ° C. for the thermometer 50, 150 ° C. for the thermometer 60 and 300 ° C. for the thermometer 70.

操業の結果、四塩化チタン製造量57,000t、操業期間11ヶ月の時点で計4ヶ所全ての第3の温度計70の温度が塩化炉100内の温度と同じ1050℃まで上昇した。さらに、四塩化チタン製造量78000t、操業期間15ヶ月まで操業を続けたところ、A地点にある一組の温度計40のうち第2の温度計60の温度と、B地点の一組の温度計40のうち第2の温度計60が1050℃まで上昇し、またA地点にある一組の温度計40のうち第1の温度計50の温度と、B地点にある一組の温度計40のうち第1の温度計50の温度が450℃まで上昇した。そのため、四塩化チタンの製造を一時停止し、分散盤10を塩化炉100から外した。 As a result of the operation, the temperature of the third thermometer 70 at all four locations rose to 1050 ° C., which is the same as the temperature inside the chlorination furnace 100, at the time when the production amount of titanium tetrachloride was 57,000 tons and the operation period was 11 months. Furthermore, when the operation was continued until the production amount of titanium tetrachloride was 78,000 tons and the operation period was 15 months, the temperature of the second thermometer 60 out of the set of thermometers 40 at point A and the temperature of a set of thermometers at point B. The second thermometer 60 of 40 rises to 1050 ° C., and the temperature of the first thermometer 50 of the set of thermometers 40 at point A and the temperature of the set of thermometers 40 at point B The temperature of the first thermometer 50 rose to 450 ° C. Therefore, the production of titanium tetrachloride was suspended, and the dispersion plate 10 was removed from the chlorination furnace 100.

作業者が分散盤10の損傷を検証したところ、A地点とB地点において断熱層30が著しく減肉しており断熱層30の厚さは270mmとなっていた。しかしながら、操業期間中、分散盤10からウインドボックス110への原料の落下や塩素漏れは確認されなかった。よって、実施例1では分散盤10の寿命を適切に把握できたとこで寿命近くまで四塩化チタンの操業を行うことができた。その結果、より多くの四塩化チタンを製造できた。 When the operator verified the damage of the dispersion board 10, the heat insulating layer 30 was remarkably thinned at the points A and B, and the thickness of the heat insulating layer 30 was 270 mm. However, during the operation period, no drop of raw materials or chlorine leakage from the dispersion board 10 to the windbox 110 was confirmed. Therefore, in Example 1, the life of the dispersion board 10 could be appropriately grasped, and the titanium tetrachloride could be operated until near the life. As a result, more titanium tetrachloride could be produced.

(実施例2)
一組の温度計40を、図5に示すように、中心部(E地点)に1ヶ所設置し、さらに離間距離rが600mmとなるようにし、底板20の上面22にその上面22中心を軸にして円周方向に沿って等間隔に4ヶ所(F地点、G地点、H地点、I地点)それぞれ位置するように、断熱層30に設置したこと以外、実施例1と同様に四塩化チタンを製造し、その製造後の分散盤10を評価した。
(Example 2)
As shown in FIG. 5, a set of thermometers 40 is installed at one location at the center (point E), the separation distance r is 600 mm, and the center of the upper surface 22 is aligned with the upper surface 22 of the bottom plate 20. Titanium tetrachloride as in Example 1 except that it was installed in the heat insulating layer 30 so that it is located at four locations (F point, G point, H point, and I point) at equal intervals along the circumferential direction. Was manufactured, and the dispersion board 10 after the manufacture was evaluated.

(実施例3)
一組の温度計40を2本の温度計50、60(H1:200mm、H2:400mm)にし、その一組の温度計40を、図6に示すように、中心部(J地点)に1ヶ所設置し、さらに離間距離rが400mmとなるように底板20の上面22にその上面22の中心を軸にして円周方向に沿って等間隔に2ヶ所(K地点、L地点)それぞれ位置するように、断熱層30に設置したこと以外、実施例1と同様に四塩化チタンを製造し、その製造後の分散盤10を評価した。
(Example 3)
A set of thermometers 40 is made into two thermometers 50 and 60 (H1: 200 mm, H2: 400 mm), and the set of thermometers 40 is set to 1 at the center (point J) as shown in FIG. It is installed at two locations, and is located on the upper surface 22 of the bottom plate 20 at equal intervals (points K and L) along the circumferential direction with the center of the upper surface 22 as the axis so that the separation distance r is 400 mm. As described above, titanium tetrachloride was produced in the same manner as in Example 1 except that it was installed in the heat insulating layer 30, and the dispersion board 10 after the production was evaluated.

(比較例1)
一組の温度計40を使用せず、操業期間を8ヶ月としたこと以外、実施例1と同様に四塩化チタンを製造し、その製造後の分散盤10を評価した。
操業の結果、四塩化チタンの製造量42000tの時点で塩化炉100を停止し、分散盤10を塩化炉100から外した。
作業者が分散盤10の損傷を検証したところ、断熱層30の著しい減肉は確認されなかった。比較例1は分散盤10の損傷を適切に把握できず、塩化炉100の停止が早すぎたため、四塩化チタンの製造量が少なかった。なお、操業期間中は分散盤10からの塩素漏れは確認されなかった。
(Comparative Example 1)
Titanium tetrachloride was produced in the same manner as in Example 1 except that a set of thermometers 40 was not used and the operation period was set to 8 months, and the dispersion board 10 after the production was evaluated.
As a result of the operation, the chlorination furnace 100 was stopped at the time when the production amount of titanium tetrachloride was 42000 tons, and the dispersion plate 10 was removed from the chlorination furnace 100.
When the operator verified the damage of the dispersion board 10, no significant thinning of the heat insulating layer 30 was confirmed. In Comparative Example 1, the damage to the dispersion plate 10 could not be properly grasped, and the chlorination furnace 100 was shut down too early, so that the amount of titanium tetrachloride produced was small. No chlorine leakage from the dispersion board 10 was confirmed during the operation period.

(比較例2)
一組の温度計40を使用せず、操業期間を16ヶ月としたこと以外、実施例1と同様に四塩化チタンを製造し、その製造後の分散盤10を評価した。
操業の結果、製造量82000tの時点で分散盤10の底板20に穴が空き、炉内原料がウインドボックスに落下し、分散盤10からの塩素漏れが確認された。
作業者が分散盤10の損傷を検証したところ、断熱層30が損傷した箇所の底板20と塩素が反応し孔が形成されていた。
(Comparative Example 2)
Titanium tetrachloride was produced in the same manner as in Example 1 except that a set of thermometers 40 was not used and the operation period was 16 months, and the dispersion board 10 after the production was evaluated.
As a result of the operation, when the production amount was 82000 tons, a hole was made in the bottom plate 20 of the dispersion plate 10, the raw material in the furnace fell into the wind box, and chlorine leakage from the dispersion plate 10 was confirmed.
When the operator verified the damage to the dispersion board 10, chlorine reacted with the bottom plate 20 at the damaged portion of the heat insulating layer 30 to form holes.

(考察)
実施例1〜3では、複数の一組の温度計40を分散盤10に分散設置したことで精度よく断熱層30の損傷度合いを把握することができた。その結果、塩化炉の操業に支障が出ない状態で四塩化チタンを多く製造することができた。
また、実施例1〜3では、比較例1と異なり、操業停止後の底板20と断熱層30の合計の厚さが適切に少なかった。これは、分散盤の損傷状態を適切に把握し、効率良く四塩化チタンを製造することができたといえる。
一方、比較例1〜2では、一組の温度計を分散盤に設置しなかったことで、断熱層の損傷を把握することができなかった。比較例1では塩化炉の操業停止が早すぎたため四塩化チタンの製造効率が低下した。比較例2では予期せぬタイミングで塩化炉の補修が必要となったため別工程との工程調整が必要となり、やはり四塩化チタン、特に精製四塩化チタンの製造効率が低下した。
(Discussion)
In Examples 1 to 3, it was possible to accurately grasp the degree of damage to the heat insulating layer 30 by dispersely installing a plurality of sets of thermometers 40 on the dispersion board 10. As a result, it was possible to produce a large amount of titanium tetrachloride without interfering with the operation of the chlorination furnace.
Further, in Examples 1 to 3, unlike Comparative Example 1, the total thickness of the bottom plate 20 and the heat insulating layer 30 after the operation was stopped was appropriately small. It can be said that it was possible to properly grasp the damaged state of the dispersion board and efficiently produce titanium tetrachloride.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, damage to the heat insulating layer could not be grasped because a set of thermometers was not installed on the dispersion board. In Comparative Example 1, the operation of the chlorination furnace was stopped too early, so that the production efficiency of titanium tetrachloride decreased. In Comparative Example 2, since the chlorination furnace had to be repaired at an unexpected timing, it was necessary to adjust the process with another process, and the production efficiency of titanium tetrachloride, particularly purified titanium tetrachloride, was also lowered.

10 分散盤
20 底板
21 ノズル
21a 塩素ガス吹き出し口
22 上面
30 断熱層
31 上面
40 一組の温度計
50 第1の温度計
50a、60a、70a 先端
51、61、71 測温部
51a、61a、71a 導線
52、62、72 保護管
53、63、73 ホルダー
54、64、74 シール剤
55、65、75 シール部材
60 第2の温度計
70 第3の温度計
100 塩化炉
110 ウインドボックス
120 流動層
130 塩素ガス供給管
140 原料供給管
150 金属塩化物ガス回収管
160 側壁
S11 測定工程
S21 停止工程
UD 上方
10 Dispersion board 20 Bottom plate 21 Nozzle 21a Chloride gas outlet 22 Top surface 30 Insulation layer 31 Top surface 40 A set of thermometers 50 First thermometers 50a, 60a, 70a Tip 51, 61, 71 Temperature measuring parts 51a, 61a, 71a Lead wires 52, 62, 72 Protective tubes 53, 63, 73 Holders 54, 64, 74 Sealing agent 55, 65, 75 Sealing member 60 Second thermometer 70 Third thermometer 100 Chloride furnace 110 Windbox 120 Flow layer 130 Chloride gas supply pipe 140 Raw material supply pipe 150 Metal chloride gas recovery pipe 160 Side wall S11 Measurement process S21 Stop process UD upper

Claims (13)

金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで、金属塩化物を生成するための塩化炉に備わる分散盤であって、
底板と、
前記底板の上面に設けられた断熱層とを備え、
前記断熱層には、厚さ方向に異なる位置において前記断熱層の温度を計測するための複数の温度計が設置されている、分散盤。
It is a dispersion board provided in a chlorination furnace for producing metal chloride by reacting a metal oxide raw material, coke, and chlorine gas.
With the bottom plate
With a heat insulating layer provided on the upper surface of the bottom plate,
A dispersion board in which a plurality of thermometers for measuring the temperature of the heat insulating layer are installed at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer.
前記複数の温度計で一組の温度計を構成する、請求項1に記載の分散盤。 The dispersion board according to claim 1, wherein the plurality of thermometers constitute a set of thermometers. 前記一組の温度計が、前記底板の上面の中心部に位置されている、請求項2に記載の分散盤。 The dispersion board according to claim 2, wherein the set of thermometers is located at the center of the upper surface of the bottom plate. 複数の前記一組の温度計が、前記底板の上面に位置されている、請求項2又は3に記載の分散盤。 The dispersion board according to claim 2 or 3, wherein the plurality of the set of thermometers is located on the upper surface of the bottom plate. 複数の前記一組の温度計が、前記底板の上面にその上面の中心を軸にして円周方向に沿って位置されている、請求項2〜4のいずれか一項に記載の分散盤。 The dispersion board according to any one of claims 2 to 4, wherein a plurality of the set of thermometers are located on the upper surface of the bottom plate along the circumferential direction with the center of the upper surface as an axis. 前記底板は、炭素鋼、ステンレス鋼、及びNiよりなる群から選択される1種以上である金属で形成されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載の分散盤。 The dispersion board according to any one of claims 1 to 5, wherein the bottom plate is made of one or more metals selected from the group consisting of carbon steel, stainless steel, and Ni. 前記断熱層は、耐熱セラミックスで形成された充填物が充填されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の分散盤。 The dispersion board according to any one of claims 1 to 6, wherein the heat insulating layer is filled with a filler made of heat-resistant ceramics. 前記温度計は、測温部と、前記測温部の外周を覆った保護管と、前記保護管を保持するホルダーとを備える、請求項1〜7のいずれか一項に記載の分散盤。 The dispersion board according to any one of claims 1 to 7, wherein the thermometer includes a temperature measuring unit, a protective tube covering the outer periphery of the temperature measuring unit, and a holder for holding the protective tube. 前記保護管は、窒化珪素、炭化珪素、及びアルミナよりなる群から選択される1種以上で形成されている、請求項8に記載の分散盤。 The dispersion board according to claim 8, wherein the protective tube is formed of one or more selected from the group consisting of silicon nitride, silicon carbide, and alumina. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の分散盤を備える、塩化炉。 A chlorination furnace comprising the dispersion plate according to any one of claims 1 to 9. 前記厚さ方向に前記断熱層よりも高い位置に塩素ガス吹き出し口を更に備える、請求項10に記載の塩化炉。 The chlorination furnace according to claim 10, further comprising a chlorine gas outlet at a position higher than the heat insulating layer in the thickness direction. 請求項10又は11に記載の塩化炉を使用する金属塩化物の製造方法であって、
金属酸化物原料と、コークスと、塩素ガスとを反応させることで、金属塩化物を製造する製造工程を含む、金属塩化物の製造方法。
The method for producing a metal chloride using the chlorination furnace according to claim 10 or 11.
A method for producing metal chloride, which comprises a production process for producing metal chloride by reacting a metal oxide raw material with coke and chlorine gas.
前記製造工程は、前記断熱層の厚さ方向に異なる位置において前記断熱層の温度を複数の温度計により測定する測定工程と、前記断熱層の測定温度に基づき、前記塩化炉の操業を停止する停止工程とを更に含む、請求項12に記載の金属塩化物の製造方法。 In the manufacturing process, the operation of the chloride furnace is stopped based on the measurement step of measuring the temperature of the heat insulating layer with a plurality of thermometers at different positions in the thickness direction of the heat insulating layer and the measured temperature of the heat insulating layer. The method for producing a metal chloride according to claim 12, further comprising a stop step.
JP2019085636A 2019-04-26 2019-04-26 Distributor, chlorination furnace, and method for producing metal chloride Active JP7200041B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019085636A JP7200041B2 (en) 2019-04-26 2019-04-26 Distributor, chlorination furnace, and method for producing metal chloride

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019085636A JP7200041B2 (en) 2019-04-26 2019-04-26 Distributor, chlorination furnace, and method for producing metal chloride

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020180762A true JP2020180762A (en) 2020-11-05
JP7200041B2 JP7200041B2 (en) 2023-01-06

Family

ID=73023879

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019085636A Active JP7200041B2 (en) 2019-04-26 2019-04-26 Distributor, chlorination furnace, and method for producing metal chloride

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7200041B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022092167A1 (en) 2020-10-28 2022-05-05 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 Two-pack type coating composition and method for producing coated article

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006170692A (en) * 2004-12-14 2006-06-29 Toho Titanium Co Ltd Thermometer for measuring temperature in chlorination furnace
JP2014210689A (en) * 2013-04-22 2014-11-13 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ Dispersion board and fluid chlorination furnace provided with the same
JP2016221537A (en) * 2015-05-28 2016-12-28 株式会社神戸製鋼所 Method for controlling temperature of molten metal holding vessel, method for controlling refractory layer thickness of molten metal holding vessel, method for controlling molten metal temperature inside molten metal holding vessel, device for controlling temperature of molten metal holding vessel, and program for controlling temperature of molten metal holding vessel
CN206065391U (en) * 2016-09-27 2017-04-05 武汉钢铁股份有限公司 Smelting ladle with lining thickness on-line checking warning function
JP2017227350A (en) * 2016-06-20 2017-12-28 新日鐵住金株式会社 Refractory wear management device of electric furnace, refractory wear management system of electric furnace, refractory wear management method of electric furnace, and program
JP2019014623A (en) * 2017-07-06 2019-01-31 東邦チタニウム株式会社 Apparatus for producing titanium tetrachloride and method for producing titanium tetrachloride using the same
CN113049132A (en) * 2021-04-02 2021-06-29 攀钢集团攀枝花钛材有限公司 Temperature measurement hole brick and fused salt chlorination furnace with temperature measurement device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006170692A (en) * 2004-12-14 2006-06-29 Toho Titanium Co Ltd Thermometer for measuring temperature in chlorination furnace
JP2014210689A (en) * 2013-04-22 2014-11-13 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ Dispersion board and fluid chlorination furnace provided with the same
JP2016221537A (en) * 2015-05-28 2016-12-28 株式会社神戸製鋼所 Method for controlling temperature of molten metal holding vessel, method for controlling refractory layer thickness of molten metal holding vessel, method for controlling molten metal temperature inside molten metal holding vessel, device for controlling temperature of molten metal holding vessel, and program for controlling temperature of molten metal holding vessel
JP2017227350A (en) * 2016-06-20 2017-12-28 新日鐵住金株式会社 Refractory wear management device of electric furnace, refractory wear management system of electric furnace, refractory wear management method of electric furnace, and program
CN206065391U (en) * 2016-09-27 2017-04-05 武汉钢铁股份有限公司 Smelting ladle with lining thickness on-line checking warning function
JP2019014623A (en) * 2017-07-06 2019-01-31 東邦チタニウム株式会社 Apparatus for producing titanium tetrachloride and method for producing titanium tetrachloride using the same
CN113049132A (en) * 2021-04-02 2021-06-29 攀钢集团攀枝花钛材有限公司 Temperature measurement hole brick and fused salt chlorination furnace with temperature measurement device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022092167A1 (en) 2020-10-28 2022-05-05 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 Two-pack type coating composition and method for producing coated article

Also Published As

Publication number Publication date
JP7200041B2 (en) 2023-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI498165B (en) A reactor with silicide-coated metal surfaces
US20070178028A1 (en) Apparatus for production of metal chloride
JP2009536915A (en) Continuous formation method of polycrystalline silicon using fluidized bed reactor
JP2010500274A (en) Method and apparatus for forming granular polycrystalline silicon
JP5308288B2 (en) Reactor for producing polycrystalline silicon, polycrystalline silicon production system, and method for producing polycrystalline silicon
US10870581B2 (en) Reaction furnace for producing polycrystalline silicon, apparatus for producing polycrystalline silicon, method for producing polycrystalline silicon, and polycrystalline silicon rod or polycrystalline silicon ingot
JP2020180762A (en) Dispersion board, chlorination furnace, and production method of metal chloride
JP5852604B2 (en) Dispersion disk and fluidized chlorination furnace equipped with the same
JP7140983B2 (en) Manufacturing method of tungsten hexafluoride
CN208532882U (en) A kind of bell furnace of volume inner core multi-point Temperature Collection
JP2015139736A (en) Fluid bed reactor and production method of nitrile compound using the same
JP5445744B2 (en) Three-phase AC electrode type circular electric furnace and its cooling method
TWI820056B (en) Reaction device and method for producing trichlorosilane
CN218107622U (en) Feed inlet structure of fluidizing chlorination furnace
TWI789458B (en) Fluidized bed reaction device and method for producing trichlorosilane
JP4829403B2 (en) High temperature melt discharge pipe
CN215905863U (en) Trichlorosilane synthetic furnace
JP2021050113A (en) Chloride furnace and production method of titanium tetrachloride
JP7229097B2 (en) Lid for metal reduction reaction vessel and method for producing metal
JPH07278627A (en) Cooling piping for bottom of blast furnace and method for cooling bottom of blast furnace
CN207811279U (en) A kind of bell jar end socket, bell jar and reduction furnace
WO2021177101A1 (en) Integrated tuyere for converter
CN205403459U (en) Water cooled cover of electric arc furnace
JP2023004676A (en) Method for producing titanium tetrachloride
JP2021187702A (en) Method for producing titanium tetrachloride and chlorination furnace

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211206

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221221

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7200041

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150