JP2020180278A - エレクトロルミネッセンスデバイスのための無機配位子を有するナノ構造 - Google Patents
エレクトロルミネッセンスデバイスのための無機配位子を有するナノ構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020180278A JP2020180278A JP2020046304A JP2020046304A JP2020180278A JP 2020180278 A JP2020180278 A JP 2020180278A JP 2020046304 A JP2020046304 A JP 2020046304A JP 2020046304 A JP2020046304 A JP 2020046304A JP 2020180278 A JP2020180278 A JP 2020180278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nanostructure
- fluoride
- chloride
- bromide
- shell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 title claims abstract description 384
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title claims abstract description 216
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 157
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 151
- -1 tetrafluoroborate Chemical compound 0.000 claims abstract description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 69
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 54
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 50
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 36
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 31
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical group [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 claims description 26
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 claims description 21
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 20
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 claims description 18
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 claims description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 claims description 17
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 17
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910017680 MgTe Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 claims description 16
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052956 cinnabar Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 15
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 15
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 14
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910005866 GeSe Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- KEHGIVWHHBDQAD-UHFFFAOYSA-N tributyl(octyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC KEHGIVWHHBDQAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- BYGXNRZZNBOSBD-UHFFFAOYSA-N dimethyl(diphenyl)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[P+](C)(C)C1=CC=CC=C1 BYGXNRZZNBOSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 claims description 10
- ZNZRNJQUEOMPOP-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[P+](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 ZNZRNJQUEOMPOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 10
- WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N tetraoctylphosphanium Chemical compound CCCCCCCC[P+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OKBQUWUVZGPEQZ-UHFFFAOYSA-N tributyl(hexadecyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC OKBQUWUVZGPEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 9
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N mercury(II) oxide Inorganic materials [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 9
- NOUWNNABOUGTDQ-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCC[CH2+] NOUWNNABOUGTDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims description 9
- BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutylphosphanium Chemical compound CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BXYHVFRRNNWPMB-UHFFFAOYSA-N tetramethylphosphanium Chemical compound C[P+](C)(C)C BXYHVFRRNNWPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N trihexyl(tetradecyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910015894 BeTe Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021593 Copper(I) fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N Formamidine Chemical compound NC=N PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O guanidinium Chemical compound NC(N)=[NH2+] ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 8
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XYUGFPLAOGMREF-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-phenylethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CCC1=CC=CC=C1 XYUGFPLAOGMREF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910005829 GeS Inorganic materials 0.000 claims description 7
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- ZNEOHLHCKGUAEB-UHFFFAOYSA-N trimethylphenylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 ZNEOHLHCKGUAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- RKMJXTWHATWGNX-UHFFFAOYSA-N decyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C RKMJXTWHATWGNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229960004670 didecyldimethylammonium chloride Drugs 0.000 claims description 5
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 5
- HTKPDYSCAPSXIR-UHFFFAOYSA-N octyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(C)C HTKPDYSCAPSXIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YTVQIZRDLKWECQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylcyclohexan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1CCCCC1=O YTVQIZRDLKWECQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JMHWNJGXUIJPKG-UHFFFAOYSA-N CC(=O)O[SiH](CC=C)OC(C)=O Chemical compound CC(=O)O[SiH](CC=C)OC(C)=O JMHWNJGXUIJPKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910005900 GeTe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M Stearyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 claims description 3
- PLMFYJJFUUUCRZ-UHFFFAOYSA-M decyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C PLMFYJJFUUUCRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- QOJQQKQMWDEPRB-UHFFFAOYSA-N dimethyl(15-phenylpentadecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 QOJQQKQMWDEPRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HDTUMIMTZDKTPD-UHFFFAOYSA-N dimethyl(17-phenylheptadecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 HDTUMIMTZDKTPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CKWURXSUKWGHLX-UHFFFAOYSA-N dimethyl(9-phenylnonyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 CKWURXSUKWGHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MELGLHXCBHKVJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dioctyl)azanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCC MELGLHXCBHKVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BANBZXBYXBYKGE-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(propan-2-yl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)[N+](C)(C)C(C)C BANBZXBYXBYKGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- TWFQJFPTTMIETC-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-amine;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[NH3+] TWFQJFPTTMIETC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BEXUXBZUUHYHRH-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenoxy)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1O[P+](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 BEXUXBZUUHYHRH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C[P+](C)(C)C ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[P+](C)(C)C NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- AXTXARBFPWQUQA-UHFFFAOYSA-M tetraoctylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[P+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC AXTXARBFPWQUQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- NNENFOSYDBTCBO-UHFFFAOYSA-M tributyl(hexadecyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC NNENFOSYDBTCBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- JCQGIZYNVAZYOH-UHFFFAOYSA-M trihexyl(tetradecyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC JCQGIZYNVAZYOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KUSDSMLUXMFMCB-UHFFFAOYSA-M trimethyl(2-phenylethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCC1=CC=CC=C1 KUSDSMLUXMFMCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- AQZSPJRLCJSOED-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(C)C AQZSPJRLCJSOED-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- MQAYPFVXSPHGJM-UHFFFAOYSA-M trimethyl(phenyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 MQAYPFVXSPHGJM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- HVLUSYMLLVVXGI-USGGBSEESA-M trimethyl-[(z)-octadec-9-enyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC[N+](C)(C)C HVLUSYMLLVVXGI-USGGBSEESA-M 0.000 claims description 3
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- KHSLHYAUZSPBIU-UHFFFAOYSA-M benzododecinium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KHSLHYAUZSPBIU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- XESXMACFTJADLU-UHFFFAOYSA-N chloromethylbenzene N,N-dimethyldecan-1-amine Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1.CCCCCCCCCCN(C)C XESXMACFTJADLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UMGXUWVIJIQANV-UHFFFAOYSA-M didecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC UMGXUWVIJIQANV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- VIXPKJNAOIWFMW-UHFFFAOYSA-M dihexadecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCC VIXPKJNAOIWFMW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- PTEFTDPZLOEBFO-UHFFFAOYSA-N dimethyl(11-phenylundecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[NH+](C)CCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 PTEFTDPZLOEBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XSAHOYLUKLSJAD-UHFFFAOYSA-N dimethyl(15-phenylpentadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[NH+](C)CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 XSAHOYLUKLSJAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NZEBLSFZTUDJIJ-UHFFFAOYSA-N dimethyl(17-phenylheptadecyl)azanium bromide Chemical compound [Br-].C(C1=CC=CC=C1)CCCCCCCCCCCCCCCC[NH+](C)C NZEBLSFZTUDJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MYJQCRXZEKMIRC-UHFFFAOYSA-N dimethyl(9-phenylnonyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[NH+](C)CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 MYJQCRXZEKMIRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PSLWZOIUBRXAQW-UHFFFAOYSA-M dimethyl(dioctadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC PSLWZOIUBRXAQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- SUJZGMFRCOSTAR-UHFFFAOYSA-M dimethyl(diphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C)(C)C1=CC=CC=C1 SUJZGMFRCOSTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- LMPJXBZCHHYCKS-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(propan-2-yl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CC(C)[N+](C)(C)C(C)C LMPJXBZCHHYCKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- IRMGVPILCPGYNQ-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(tetradecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCC IRMGVPILCPGYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- RSHHCURRBLAGFA-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(tetradecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCC RSHHCURRBLAGFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- VZXFEELLBDNLAL-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-amine;hydrobromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[NH3+] VZXFEELLBDNLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M dodecyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- OQBNIQUWPCMVAT-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenoxy)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1O[P+](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 OQBNIQUWPCMVAT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- XCOHAFVJQZPUKF-UHFFFAOYSA-M octyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](C)(C)C XCOHAFVJQZPUKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.C[N+](C)(C)C MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- QVBRLOSUBRKEJW-UHFFFAOYSA-M tetraoctylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[P+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QVBRLOSUBRKEJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M tributyl(hexadecyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- JDAJRHLAMCYXAN-UHFFFAOYSA-M tributyl(octyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC JDAJRHLAMCYXAN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- RJELOMHXBLDMDB-UHFFFAOYSA-M trihexyl(tetradecyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC RJELOMHXBLDMDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- ZOMFHATVODXRID-UHFFFAOYSA-M trimethyl(2-phenylethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCC1=CC=CC=C1 ZOMFHATVODXRID-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- GNMJFQWRASXXMS-UHFFFAOYSA-M trimethyl(phenyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 GNMJFQWRASXXMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- CEYYIKYYFSTQRU-UHFFFAOYSA-M trimethyl(tetradecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CEYYIKYYFSTQRU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- QYWVQMLYIXYLRE-SEYXRHQNSA-N trimethyl-[(z)-octadec-9-enyl]azanium Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC[N+](C)(C)C QYWVQMLYIXYLRE-SEYXRHQNSA-N 0.000 claims description 2
- YOHMCCZBBFGKNL-UHFFFAOYSA-N C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC Chemical compound C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC YOHMCCZBBFGKNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- FAUOSXUSCVJWAY-UHFFFAOYSA-N tetrakis(hydroxymethyl)phosphanium Chemical compound OC[P+](CO)(CO)CO FAUOSXUSCVJWAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N butylphosphane Chemical compound CCCCP DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M Cetrimide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000004338 Dichlorodifluoromethane Substances 0.000 claims 1
- 229960001716 benzalkonium Drugs 0.000 claims 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 claims 1
- ZCPCLAPUXMZUCD-UHFFFAOYSA-M dihexadecyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCC ZCPCLAPUXMZUCD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 204
- 239000011257 shell material Substances 0.000 description 153
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 108
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 description 58
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 35
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 29
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 25
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 18
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 15
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 15
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 13
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 12
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 7
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 7
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 6
- QQJDHWMADUVRDL-UHFFFAOYSA-N didodecyl(dimethyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC QQJDHWMADUVRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 5
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- GLFDLEXFOHUASB-UHFFFAOYSA-N trimethyl(tetradecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C GLFDLEXFOHUASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LPEBYPDZMWMCLZ-CVBJKYQLSA-L zinc;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O LPEBYPDZMWMCLZ-CVBJKYQLSA-L 0.000 description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000103 photoluminescence spectrum Methods 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O Methylammonium ion Chemical compound [NH3+]C BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N alpha-octadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N benzyl(tributyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dioctadecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 3
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N octyldodecane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N (6E,10E,14E,18E)-2,6,10,15,19,23-hexamethyltetracosa-2,6,10,14,18,22-hexaene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CCCC=C(C)CCC=C(C)CCC=C(C)C YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N (z)-octadec-9-en-1-amine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 1-Hexadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNZAKDODWSQONA-UHFFFAOYSA-N 1-dibutylphosphorylbutane Chemical compound CCCCP(=O)(CCCC)CCCC MNZAKDODWSQONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CINYXYWQPZSTOT-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3,5-bis(3-pyridin-3-ylphenyl)phenyl]phenyl]pyridine Chemical compound C1=CN=CC(C=2C=C(C=CC=2)C=2C=C(C=C(C=2)C=2C=C(C=CC=2)C=2C=NC=CC=2)C=2C=C(C=CC=2)C=2C=NC=CC=2)=C1 CINYXYWQPZSTOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFDZZLUDWMUQH-UHFFFAOYSA-N Didecyldimethylammonium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC JGFDZZLUDWMUQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 2
- NAKNZWPWCGJVOB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-9-phenylnonan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 NAKNZWPWCGJVOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N Tetramethylsqualene Natural products CC(=C)C(C)CCC(=C)C(C)CCC(C)=CCCC=C(C)CCC(C)C(=C)CCC(C)C(C)=C BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910003363 ZnMgO Inorganic materials 0.000 description 2
- SLRYBZAKLIXIRE-UHFFFAOYSA-M [Cl-].C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC Chemical compound [Cl-].C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC SLRYBZAKLIXIRE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920013822 aminosilicone Polymers 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TTZLKXKJIMOHHG-UHFFFAOYSA-M benzyl-decyl-dimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 TTZLKXKJIMOHHG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXWGXXDEYMNGCT-UHFFFAOYSA-M decyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C HXWGXXDEYMNGCT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940078672 didecyldimethylammonium Drugs 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- OMCNFMPMKYMRSH-UHFFFAOYSA-M dimethyl(diphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C)(C)C1=CC=CC=C1 OMCNFMPMKYMRSH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N dodecahydrosqualene Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N hexyl acetate Chemical compound CCCCCCOC(C)=O AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical group [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N n-alpha-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229940031439 squalene Drugs 0.000 description 2
- TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N squalene Natural products CC(=CCCC(=CCCC(=CCCC=C(/C)CCC=C(/C)CC=C(C)C)C)C)C TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 2
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphine oxide Chemical compound CCCCCCCCP(=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical group F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XEUVNVNAVKZSPT-JTJYXVOQSA-N (2S,3S)-N-(6-amino-6-oxohexyl)-2-[[(2S)-2-(hexanoylamino)-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-3-methylpentanamide Chemical compound CCCCCC(=O)N[C@@H](Cc1ccc(O)cc1)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)NCCCCCC(N)=O XEUVNVNAVKZSPT-JTJYXVOQSA-N 0.000 description 1
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical class CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 1,2-Benz(a)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=C1 DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 1,4-diacetoxybutane Chemical compound CC(=O)OCCCCOC(C)=O XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]butane Chemical compound CCCCOCCOCCOC HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106006 1-eicosene Drugs 0.000 description 1
- FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 1-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC=CC(O)=O FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-(3-methoxypropoxy)propane Chemical compound COCCCOCCCOC KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diphenyl-4-n,4-n-bis[4-(n-phenylanilino)phenyl]benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbenzimidazole Chemical compound C1=NC2=CC=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUNFOTHAFHGRIM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dinaphthalen-1-yl-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC=C2C(C3=NN=C(O3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 MUNFOTHAFHGRIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMAXWOOEPJQXEB-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-5-(4-phenylphenyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)O1 WMAXWOOEPJQXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADENFOWRGOZGCW-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(4-tert-butylphenyl)-4-phenyl-1,2,4-triazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(N1C=2C=CC=CC=2)=NN=C1C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 ADENFOWRGOZGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXKTQVEKDHQIY-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-(3,5-dipyridin-3-ylphenyl)phenyl]-5-pyridin-3-ylphenyl]pyridine Chemical compound C1=CN=CC(C=2C=C(C=C(C=2)C=2C=NC=CC=2)C=2C=C(C=CC=2)C=2C=C(C=C(C=2)C=2C=NC=CC=2)C=2C=NC=CC=2)=C1 WCXKTQVEKDHQIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGYDGBCATBINCB-UHFFFAOYSA-N 4-diethoxyphosphoryl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CCOP(=O)(OCC)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PGYDGBCATBINCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-M 4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDOQMLIRFUVJNT-UHFFFAOYSA-N 4-n-naphthalen-2-yl-1-n,1-n-bis[4-(n-naphthalen-2-ylanilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1)C1=CC=C(N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C3C=CC=CC3=CC=2)C=C1 KDOQMLIRFUVJNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOQKGYRILLEVJV-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-yl-3,5-diphenyl-1,2,4-triazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C(N1C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=NN=C1C1=CC=CC=C1 AOQKGYRILLEVJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006009 Calcium phosphide Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000255581 Drosophila <fruit fly, genus> Species 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSBXGIUJOOQZMP-JLNYLFASSA-N Matrine Chemical compound C1CC[C@H]2CN3C(=O)CCC[C@@H]3[C@@H]3[C@H]2N1CCC3 ZSBXGIUJOOQZMP-JLNYLFASSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010055280 N-hexanoic-Tyr-Ile-(6) aminohexanoic amide Proteins 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010793 Steam injection (oil industry) Methods 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTXJXFBSALYIIQ-UHFFFAOYSA-M [Br-].C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC Chemical compound [Br-].C(C)C(CCCCC)[N+](C)(C)C(CCCCC)CC VTXJXFBSALYIIQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- ZCZSIDMEHXZRLG-UHFFFAOYSA-N acetic acid heptyl ester Natural products CCCCCCCOC(C)=O ZCZSIDMEHXZRLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001923 acrylonitrile-ethylene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- JVQOSSAKTYEOFV-UHFFFAOYSA-M azanium hexadecyl(trimethyl)azanium dichloride Chemical compound [NH4+].[Cl-].[Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C JVQOSSAKTYEOFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012733 comparative method Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- ICMYIQTVBRLNEE-UHFFFAOYSA-N decyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.CCCCCCCCCCN(C)C ICMYIQTVBRLNEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- APTVNWGLSRAOFJ-UHFFFAOYSA-M dimethyl(dioctyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCC APTVNWGLSRAOFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CJBMLKNLJXFFGD-UHFFFAOYSA-N dimethyl-di(tetradecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCC CJBMLKNLJXFFGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-O dodecylazanium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[NH3+] JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 1
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021476 group 6 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical group [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPXGPRBLTIYFQG-UHFFFAOYSA-N heptan-4-yl acetate Chemical compound CCCC(CCC)OC(C)=O JPXGPRBLTIYFQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHXARDKIHSVFDK-UHFFFAOYSA-N hexylphosphane Chemical compound CCCCCCP CHXARDKIHSVFDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical group 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000004001 molecular interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- FSGYTLFCOYYZKG-UHFFFAOYSA-N n,n-dichloroformamide Chemical compound ClN(Cl)C=O FSGYTLFCOYYZKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002988 phenazines Chemical class 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-O phenylphosphanium Chemical compound [PH3+]C1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- RDBMUARQWLPMNW-UHFFFAOYSA-N phosphanylmethanol Chemical compound OCP RDBMUARQWLPMNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012688 phosphorus precursor Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000009718 spray deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene 1-oxide Chemical compound O=S1CCCC1 ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAAGVNUUSJZVIC-UHFFFAOYSA-M tetrakis(hydroxymethyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].OC[P+](CO)(CO)CO XAAGVNUUSJZVIC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-JGUCLWPXSA-N toluene-d8 Chemical compound [2H]C1=C([2H])C([2H])=C(C([2H])([2H])[2H])C([2H])=C1[2H] YXFVVABEGXRONW-JGUCLWPXSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- UJMLRSWRUXXZEW-UHFFFAOYSA-M tributyl(octyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC UJMLRSWRUXXZEW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- OFQPGOWZSZOUIV-UHFFFAOYSA-N tris(trimethylsilyl)arsane Chemical compound C[Si](C)(C)[As]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C OFQPGOWZSZOUIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/88—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
- C09K11/881—Chalcogenides
- C09K11/883—Chalcogenides with zinc or cadmium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/70—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
- C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/56—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing sulfur
- C09K11/562—Chalcogenides
- C09K11/565—Chalcogenides with zinc cadmium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
- H10K50/115—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2300/00—Characterised by the use of unspecified polymers
- C08J2300/24—Thermosetting resins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L2031/0344—Organic materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
[0088] 他に定義されているのでなければ、本明細書において使用されるすべての技術用語及び科学用語は、本発明が関連する技術分野の当業者によって一般に理解されている意味と同じ意味を有する。以下の定義は、当技術分野における定義を補うものであり、本出願が対象とされ、あらゆる関連又は非関連の場合、例えばあらゆる共同所有される特許又は出願に帰属するものではない。本明細書に記載のものと類似又は同等のあらゆる方法及び材料を本発明の試験の実施に使用できるが、好ましい材料及び方法が本明細書に記載される。したがって、本明細書に使用される用語は、特定の実施形態について記述することのみを目的としており、限定を意図するものではない。
EQE=[注入効率]×[固体量子収率]×[抽出効率]
を用いて測定することができ、式中、
注入効率=デバイスを通過して活性領域中に注入される電子の比率であり;
固体量子収率=放射性であり、したがってフォトンを生成する、活性領域中の全電子−正孔再結合の比率であり;
抽出効率=活性領域中で生成されデバイスから放出されるフォトンの比率である。
[0110] 幾つかの実施形態では、本開示は、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と;
(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子であって、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、少なくとも1つのフッ化物含有配位子と
を含むナノ構造組成物を提供する。
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と;
(b)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンと
を含むナノ構造組成物を提供する。
[0114] 幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含むナノ構造膜であって、ナノ構造は、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団であって、ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、ナノ構造の少なくとも1つの集団と;
(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子であって、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、少なくとも1つのフッ化物含有配位子と
を含む、ナノ構造膜を提供する。
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団であって、ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、ナノ構造の少なくとも1つの集団と;
(b)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンと
を含む、ナノ構造膜を提供する。
[0118] 幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造膜を含む成形物品を提供する。
(a)第1の障壁層と;
(b)第2の障壁層と;
(c)第1の障壁層と第2の障壁層との間の発光層と
を含む成形物品であって、発光層は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含むナノ構造の集団と;ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子とを含み;フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、成形物品である。
(a)第1の障壁層と;
(b)第2の障壁層と;
(c)第1の障壁層と第2の障壁層との間の発光層と
を含む成形物品であって、発光層は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含むナノ構造の集団と、ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンとを含む、成形物品である。
[0123] 種々のナノ構造のコロイド合成方法は、当技術分野において周知である。このような方法としては、ナノ構造成長、例えば結果として得られるナノ構造のサイズ及び/又は形状の分布を制御するためにナノ構造の成長を制御する技術が挙げられる。
[0139] 幾つかの実施形態では、本開示のナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、コア及び少なくとも2つシェルを含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、コア及び2つのシェルを含む。
[0160] 幾つかの実施形態では、本開示は、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と;
(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子;又は
(b’)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンと
を含むナノ構造組成物であって、フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、ナノ構造組成物を提供する。
[0168] 幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子を含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、ナノ構造の表面に結合された1つのフッ化物含有配位子を含む。幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子は、無機配位子である。
[0173] 幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、溶媒をさらに含む。
[0178] 幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造上の第1の配位子を第2の配位子と交換する配位子交換方法を対象とする。
(結合されたフッ化物含有配位子)/(結合+遊離のフッ化物含有配位子)
を用いて計算される。
[0195] 幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオンで官能化したコア/シェルナノ構造は、高いフォトルミネッセンス量子収率を示すことができる。幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオンで官能化したコア/シェルナノ構造は、約60%〜約99%、約60%〜約95%、約60%〜約90%、約60%〜約85%、約60%〜約80%、約60%〜約70%、約70%〜約99%、約70%〜約95%、約70%〜約90%、約70%〜約85%、約70%〜約80%、約80%〜約99%、約80%〜約95%、約80%〜90%、約80%〜約85%、約85%〜約99%、約85%〜約95%、約80%〜約85%、約85%〜約99%、約85%〜約90%、約90%〜約99%、約90%〜約95%又は約95%〜約99%のフォトルミネッセンス量子収率を示すことができる。幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオンで官能化したコア/シェルナノ構造は、約60%〜約99%のフォトルミネッセンス量子収率を示すことができる。幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオンで官能化したコア/シェルナノ構造は、約70%〜約90%のフォトルミネッセンス量子収率を示すことができる。
[0201] 幾つかの実施形態では、ナノ構造は、溶媒中のコロイド懸濁液として保管される。コロイドは、微視的に分散した不溶性粒子のある物質が別の物質全体に懸濁する混合物である。コロイド安定性は、平衡状態で懸濁したままとなる不溶性粒子の数を測定することによって求めることができる。コロイド安定性は、不溶性粒子の凝集又は沈降によって妨害されることがある。
[0204] 幾つかの実施形態では、フッ化物含有配位子又はフロウリドアニオンで官能化したコア/シェルナノ構造がナノ構造膜中に組み込まれる。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含み、ナノ構造は、(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団であって、ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、ナノ構造の少なくとも1つの集団と;(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子;又は(b’)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンとを含み;フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、ナノ構造の1〜5つの集団を含む。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、ナノ構造の1つの集団を含む。
[0212] 幾つかの実施形態では、本開示は、本明細書に開示されるいずれかのナノ構造を含む成形物品を提供する。幾つかの実施形態では、本開示は、本明細書に開示されるいずれかのナノ構造膜を含む成形物品を提供する。幾つかの実施形態では、本開示は、ナノ構造を含む成形物品であって、ナノ構造は、(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団であって、ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、ナノ構造の少なくとも1つの集団と;(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子;又は(b’)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンとを含み;フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、成形物品を提供する。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、量子ドットである。
[0216] 幾つかの実施形態では、ナノ構造層は、ポリマーマトリックス中に埋め込むことができる。本明細書において使用される場合、「埋め込まれる」という用語は、ナノ構造集団が、マトリックスの成分の大部分を構成するポリマーで囲い込まれるか又は包み込まれることを示すために使用される。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのナノ構造集団は、マトリックス全体にわたって適宜均一に分布する。幾つかの実施形態では、少なくとも1つのナノ構造集団は、用途に特有の分布に従って分布する。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、ポリマー中に混合され、基板の表面に塗布される。
[0219] 幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、スピンコーティングを用いて基板上に堆積される。スピンコーティングでは、真空によって固定される、スピナーと呼ばれる機械上に搭載された基板の中央に少量の材料が典型的には堆積される。スピナーによって基板に高速回転が生じ、それによって向心力が生じて、材料が基板の中央から端部まで広がる。材料の大部分は、振り落とされるが、ある量は基、板に残り、回転を続けると、表面上に材料の薄膜が形成される。膜の最終厚さは、回転速度、加速及び回転時間などのスピンプロセスで選択されるパラメーターに加えて、堆積される材料及び基板の性質によって決定される。制御された厚さを実現するために必要なスピンコーティング条件は、堆積される材料の粘度及び温度に大きく依存する。幾つかの実施形態では、約1500rpm〜約6000rpmの回転速度が約10〜60秒の回転時間とともに使用される。
[0220] 幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、ミスト堆積を用いて基板上に堆積される。ミスト堆積は、室温及び大気圧で行われ、プロセス条件を変化させることによって膜厚を正確に制御することができる。ミスト堆積中、窒素ガスにより、液体原料物質は非常に微細なミストにされて堆積チャンバーまで送られる。次に、このミストは、フィールドスクリーンとウエハホルダーとの間の高電圧電位によってウエハ表面に引き寄せられる。液滴がウエハ表面上で凝集した後、ウエハをチャンバーから取り出し、熱硬化させることで溶媒を蒸発させることができる。液体前駆体は、溶媒と、堆積される材料との混合物である。これが加圧窒素ガスによって噴霧器に送られる。Price, S.C., et al.,“Formation of Ultra-Thin Quantum Dot Films by Mist Deposition,”ESC Transactions 11:89-94 (2007)。
[0221] 幾つかの実施形態では、ナノ構造組成物は、スプレーコーティングを用いて基板上に堆積される。スプレーコーティングの典型的な設備は、スプレーノズル、噴霧器、前駆体溶液及びキャリアガスを含む。スプレー堆積プロセスでは、前駆体溶液は、キャリアガスにより、又は霧化(例えば、超音波、エアブラスト又は静電気による)によりマイクロサイズの液滴に微細化される。噴霧器から出た液滴は、必要に応じて制御及び調節されるキャリアガスを用いてノズルを介して基板表面によって加速される。スプレーノズルと基板との間の相対運動は、基板上を完全に覆う目的のための設計によって規定される。
[0224] 幾つかの実施形態では、成形物品は、ナノ構造層の一方又は両方の側に配置される1つ以上の障壁層を含む。適切な障壁層により、ナノ構造層及び成形物品が高温、酸素及び水分などの環境条件から保護される。適切な障壁材料としては、疎水性であり、成形物品と化学的及び機械的に適合性であり、光安定性及び化学安定性を示し、高温に耐えることができる非黄変透明光学材料が挙げられる。幾つかの実施形態では、1つ以上の障壁層は、成形物品と屈折率整合される。幾つかの実施形態では、成形物品のマトリックス材料と1つ以上の隣接障壁層とは、ほぼ同等の屈折率を有するように屈折率整合され、それによって障壁層を透過して成形物品に向かう光の大部分が障壁層からナノ構造層中まで透過する。この屈折率整合により、障壁とマトリックス材料との間の界面における光学的損失が低減される。
[0228] 幾つかの実施形態では、ナノ構造層は、ディスプレイデバイスの形成に使用される。本明細書において使用される場合、ディスプレイデバイスは、発光型ディスプレイを有するあらゆるシステムを意味する。このようなデバイスとしては、液晶ディスプレイを含むデバイス、有機発光ダイオード(OLED)又はマイクロLEDなどの発光ディスプレイ、テレビ、コンピューター、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末(PDA)、ゲーム用デバイス、電子書籍リーダー、デジタルカメラなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
[0230] 幾つかの実施形態では、成形物品は、エレクトロルミネッセンスデバイスである。幾つかの実施形態では、ナノ構造成形物品は、液晶ディスプレイ又は発光ダイオードである。
(a)第1の伝導層と;
(b)第2の伝導層と;
(c)第1の伝導層と第2の伝導層との間の発光層と
を含む発光ダイオードであって、発光層は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含み、ナノ構造は、(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と;(b)ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子とを含み;フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、発光ダイオードを提供する。
(a)第1の伝導層と;
(b)第2の伝導層と;
(c)第1の伝導層と第2の伝導層との間の発光層と
を含む発光ダイオードであって、発光層は、ナノ構造の少なくとも1つの集団を含み、ナノ構造は、(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と;(b)ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンとを含む、発光ダイオードを提供する。
[0238] 基板は、発光ダイオードの製造に一般に使用されるあらゆる基板であり得る。幾つかの実施形態では、基板は、ガラスなどの透明基板である。幾つかの実施形態では、基板は、ポリイミドなどの可撓性材料又はポリエチレンテレフタレートなどの可撓性で透明の材料である。幾つかの実施形態では、基板は、約0.1mm〜2mmの厚さを有する。幾つかの実施形態では、基板は、ガラス基板、プラスチック基板、金属基板又はシリコン基板である。
[0239] 幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、基板上に堆積される。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、伝導層のスタックである。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、約50nm〜約250nmの厚さを有する。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、例えば、スパッタリング又は電子ビーム蒸着などのあらゆる周知の堆積技術を用いて薄膜として堆積される。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物、二酸化スズ、酸化亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、アルミニウム−リチウム、カルシウム、マグネシウム−インジウム、マグネシウム−銀、銀、金又はそれらの混合物を含む。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、アノードである。
[0240] 幾つかの実施形態では、全層構造を第1の伝導層と第2の伝導層との間に挟むことができる。幾つかの実施形態では、第1の伝導層は、デバイスのアノードとして機能する一方、第2の伝導層は、デバイスのカソードとして機能する。幾つかの実施形態では、第2の伝導層は、アルミニウムなどの金属である。幾つかの実施形態では、第2の伝導層は、約100nm〜約150nmの厚さを有する。幾つかの実施形態では、第2の伝導層は、伝導層のスタックである。例えば、第2の伝導層は、ITOの2つの層間に挟まれた銀の層(ITO/Ag/ITO)を含むことができる。
[0242] 幾つかの実施形態では、発光ダイオードは、半導体ポリマー層をさらに含む。幾つかの実施形態では、半導体ポリマー層は、正孔注入層として機能する。幾つかの実施形態では、導体ポリマー層は、第1の伝導層上に堆積される。幾つかの実施形態では、半導体ポリマー層は、真空蒸着、スピンコーティング、印刷、キャスティング、スロットダイコーティング又はラングミュア−ブロジェット(LB)堆積によって堆積される。幾つかの実施形態では、半導体ポリマー層は、約20nm〜約60nmの厚さを有する。
[0244] 幾つかの実施形態では、発光ダイオードは、第1の伝導層と第2の伝導層との間に発生した電界によって生じる電子及び正孔の輸送を促進するための輸送層をさらに含む。幾つかの実施形態では、発光ダイオードは、第1の伝導層に関連する第1の輸送層をさらに含む。幾つかの実施形態では、第1の輸送層は、正孔輸送層(及び電子及び/又は励起子阻止層)として機能する。幾つかの実施形態では、第1の輸送層は、第1の伝導層上に堆積される。幾つかの実施形態では、第1の輸送層は、半導体ポリマー層上に堆積される。幾つかの実施形態では、第1の輸送層は、約20nm〜約50nmの厚さを有する。幾つかの実施形態では、第1の輸送層は、可視光に対して実質的に透明である。
[0246] 幾つかの実施形態では、発光ダイオードは、第2の輸送層をさらに含む。幾つかの実施形態では、第2の輸送層は、電子輸送層(及び正孔及び/又は励起子阻止層)として機能する。幾つかの実施形態では、第2の輸送層は、発光層に接触する。幾つかの実施形態では、第2の輸送層は、発光層と第2の伝導層との間に配置される。幾つかの実施形態では、第2の輸送層は、約20nm〜約50nmの厚さを有する。幾つかの実施形態では、第2の輸送層は、可視光に対して実質的に透明である。
[0249] 幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、ガラス液晶ディスプレイデバイス上の量子ドット中に組み込まれる。液晶ディスプレイデバイスは、中間の基板又は障壁層を必要とせずに、導光板(LGP)上に直接形成されたナノ構造膜を含むことができる。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、薄膜であり得る。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、500μm以下、100μm以下又は50μm以下の厚さを有することができる。幾つかの実施形態では、ナノ構造膜は、約15μm以下の厚さを有する薄膜である。
[0253] 幾つかの実施形態では、ナノ構造を用いて作製した成形物品は、約1.5%〜約20%、約1.5%〜約15%、約1.5%〜約12%、約1.5%〜約10%、約1.5%〜約8%、約1.5%〜約4%、約1.5%〜約3%、約3%〜約20%、約3%〜約15%、約3%〜約12%、約3%〜約10%、約3%〜約8%、約8%〜約20%、約8%〜約15%、約8%〜約12%、約8%〜約10%、約10%〜約20%、約10%〜約15%、約10%〜約12%、約12%〜約20%、約12%〜約15%又は約15%〜約20%のEQEを示す。幾つかの実施形態では、ナノ構造を用いて作製した成形物品は、約1.5%〜約15%.%のEQEを示す。幾つかの実施形態では、ナノ構造を用いて作製した成形物品は、約5%のEQEを示す。幾つかの実施形態では、ナノ構造は、量子ドットである。幾つかの実施形態では、成形物品は、発光ダイオードである。
配位子交換及びナノ構造の性質
[0256] カルボキシレート配位子を、カルボキシレート配位子よりも高い電圧で電気化学的酸化が起こると予想されるハロジンケート配位子(例えば、テトラクロロジンケート、テトラフルオロジンケート、ジクロロジフルオロジンケート)と交換した。引き続くステップでは、テトラフルオロジンケートでキャップされたナノ構造のカリウム対イオンをテトラアルキルアンモニウムカチオンと交換し、これによって非極性溶媒に溶解性となり、交換されたナノ構造は、エレクトロルミネッセンスQD−LEDの典型的な製造方法及び構造に適合させることができた。図1は、カルボキシレートでキャップされたナノ構造から、テトラアルキルアンモニウム対イオンを有し、テトラフルオロジンケートでキャップされたナノ構造への配位子交換手順を示すフローチャートを示す。
TBAFを用いた配位子交換及びナノ構造の性質
[0262] フッ化テトラブチルアンモニウム(TBAF)を用いることにより、カルボキシレート配位子をフッ化物配位子と交換した。対イオンとしての高溶解性のテトラブチルアンモニウムカチオンの存在は、交換された量子ドットが依然として溶液中にあることから確認される。対照的に、実施例1に記載の従来のフッ化亜鉛交換は、沈殿を伴い、交換された量子ドットがごく一部のみ脱凝集するハロゲン化長鎖アルキルアンモニウムを用いることで後の再分散が行われる。図6は、カルボキシレートでキャップされたナノ構造からフッ化物でキャップされたナノ構造への配位子交換手順を示すフローチャートである。
Claims (90)
- ナノ構造組成物であって、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団と、
(b)前記ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子であって、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、少なくとも1つのフッ化物含有配位子、又は
(b’)前記ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンと
を含むナノ構造組成物。 - 前記ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、請求項1に記載のナノ構造組成物。
- 前記コアは、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si3N4、Ge3N4、Al2O3、Al2OC又はそれらの組合せを含む、請求項2に記載のナノ構造組成物。
- 前記コアは、InPを含む、請求項2又は3に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造は、2つのシェルを含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのシェルは、CdS、CdSe、CdO、CdTe、ZnS、ZnO、ZnSe、ZnTe、MgTe、GaAs、GaSb、GaN、HgO、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InSb、InN、AlAs、AlN、AlSb、AlS、PbS、PbO、PbSe、PbTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、Ge、Si又はそれらの合金を含む、請求項2〜5のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む、請求項2〜6のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSを含む、請求項2〜7のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む第1のシェルと、ZnSを含む第2のシェルとを含む、請求項2〜8のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのフッ化物含有配位子は、フルオロジンケートを含むアニオンと、金属イオンを含むカチオンとを含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記カチオンは、カリウムイオンを含む、請求項10に記載のナノ構造組成物。
- 少なくとも1つのフッ化物含有配位子は、フルオロジンケートを含むアニオンと、テトラアルキルアンモニウム、アルキルホスホニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム及びピリジニウムからなる群から選択されるカチオンとを含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記カチオンは、テトラアルキルアンモニウムであり、且つジオクタデシルジメチルアンモニウム、ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、ジテトラデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、ジオクチルジメチルアンモニウム、ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、オレイルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチルアンモニウム、オクチルトリメチルアンモニウム、フェニルエチルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウム、ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、ベンジルデシルジメチルアンモニウム、ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、ジイソプロピルジメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム及びテトラメチルアンモニウムからなる群から選択される、請求項12に記載のナノ構造組成物。
- 前記カチオンは、アルキルホスホニウムであり、且つテトラフェニルホスホニウム、ジメチルジフェニルホスホニウム、メチルトリフェノキシホスホニウム、ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、オクチルトリブチルホスホニウム、テトラデシルトリヘキシルホスホニウム、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、テトラオクチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム及びテトラメチルホスホニウムからなる群から選択される、請求項12に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.1〜約0.5である、請求項1〜14のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.32である、請求項1〜15のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 溶媒をさらに含む、請求項1〜16のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記溶媒は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、クロロホルム及びN−メチルホルムアミドからなる群から選択される、請求項17に記載のナノ構造組成物。
- 前記溶媒は、非極性溶媒である、請求項17に記載のナノ構造組成物。
- 界面活性剤をさらに含む、請求項1〜19のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記界面活性剤は、酢酸テトラメチルアンモニウム、臭化ジオクタデシルジメチルアンモニウム、臭化ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、臭化ジテトラデシルジメチルアンモニウム、臭化ジドデシルジメチルアンモニウム、臭化ジデシルジメチルアンモニウム、臭化ジオクチルジメチルアンモニウム、臭化ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、臭化オクタデシルトリメチルアンモニウム、臭化オレイルトリメチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラデシルトリメチルアンモニウム、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、臭化デシルトリメチルアンモニウム、臭化オクチルトリメチルアンモニウム、臭化フェニルエチルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化フェニルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルデシルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化ジイソプロピルジメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラフェニルホスホニウム、臭化ジメチルジフェニルホスホニウム、臭化メチルトリフェノキシホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、臭化オクチルトリブチルホスホニウム、臭化テトラデシルトリヘキシルホスホニウム、臭化テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、臭化テトラオクチルホスホニウム、臭化テトラブチルホスホニウム、臭化テトラメチルホスホニウム、臭化ドデシルアンモニウム、塩化ジオクタデシルジメチルアンモニウム、塩化ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、塩化ジテトラデシルジメチルアンモニウム、塩化ジドデシルジメチルアンモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化ジオクチルジメチルアンモニウム、塩化ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム、塩化オレイルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラデシルトリメチルアンモニウム、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化デシルトリメチルアンモニウム、塩化オクチルトリメチルアンモニウム、塩化フェニルエチルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化フェニルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化ジイソプロピルジメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム、塩化ジメチルジフェニルホスホニウム、塩化メチルトリフェノキシホスホニウム、塩化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、塩化オクチルトリブチルホスホニウム、塩化テトラデシルトリヘキシルホスホニウム、塩化テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、塩化テトラオクチルホスホニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、塩化テトラメチルホスホニウム及び塩化ドデシルアンモニウムからなる群から選択される、請求項20に記載のナノ構造組成物。
- 約60%〜約99%のフォトルミネッセンス量子収率を示す、請求項1〜21のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 約70%〜約90%のフォトルミネッセンス量子収率を示す、請求項1〜22のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 約600nm〜約650nmのフォトルミネッセンスピーク波長を示す、請求項1〜23のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 約510nm〜約560nmのフォトルミネッセンスピーク波長を示す、請求項1〜23のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 約420nm〜約470nmのフォトルミネッセンスピーク波長を示す、請求項1〜23のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラフルオロジンケート又はジクロロジフルオロジンケートの塩である、請求項1〜26のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラフルオロ亜鉛酸テトラブチルアンモニウム又はジクロロジフルオロ亜鉛酸テトラブチルアンモニウムである、請求項1〜26のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造は、InPを含むコアと、ZnSeを含む少なくとも1つのシェルと、ZnSを含む少なくとも1つのシェルと、テトラフルオロジンケート又はジクロロジフルオロジンケートを含む少なくとも1つのフッ化物含有配位子とを含む、請求項1〜28のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- 前記ナノ構造は、量子ドットである、請求項1〜29のいずれか一項に記載のナノ構造組成物。
- ナノ構造組成物を製造する方法であって、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団を提供することと、
(b)少なくとも1つのフッ化物含有配位子を(a)の前記ナノ構造と混合することであって、前記フッ化物含有配位子は、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、混合すること、又は
(b’)フッ化テトラアルキルアンモニウムを(a)の前記ナノ構造と混合すること
を行って、ナノ構造組成物を製造することと
を含む方法。 - 少なくとも1つのフッ化物含有配位子は、フルオロジンケートを含むアニオンと、金属イオンを含む無機カチオンとを含む、請求項31に記載の方法。
- 前記無機カチオンは、カリウムイオンを含む、請求項32に記載の方法。
- (c)少なくとも1つの有機カチオンを(b)又は(b’)の前記ナノ構造と混合して、ナノ構造組成物を製造すること
をさらに含む、請求項31〜33のいずれか一項に記載の方法。 - 前記有機カチオンは、テトラアルキルアンモニウム、アルキルホスホニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム及びピリジニウムからなる群から選択される、請求項34に記載の方法。
- 前記有機カチオンは、テトラアルキルアンモニウムであり、且つジオクタデシルジメチルアンモニウム、ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、ジテトラデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、ジオクチルジメチルアンモニウム、ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、オレイルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチルアンモニウム、オクチルトリメチルアンモニウム、フェニルエチルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウム、ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、ベンジルデシルジメチルアンモニウム、ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、ジイソプロピルジメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム及びテトラメチルアンモニウムからなる群から選択される、請求項35に記載の方法。
- 前記有機カチオンは、アルキルホスホニウムであり、且つテトラフェニルホスホニウム、ジメチルジフェニルホスホニウム、メチルトリフェノキシホスホニウム、ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、オクチルトリブチルホスホニウム、テトラデシルトリヘキシルホスホニウム、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、テトラオクチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム及びテトラメチルホスホニウムからなる群から選択される、請求項35に記載の方法。
- 前記ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、請求項31〜37のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コアは、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si3N4、Ge3N4、Al2O3、Al2OC又はそれらの組合せを含む、請求項38に記載の方法。
- 前記コアは、InPを含む、請求項38又は39に記載の方法。
- 前記ナノ構造は、2つのシェルを含む、請求項38〜40のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つのシェルは、CdS、CdSe、CdO、CdTe、ZnS、ZnO、ZnSe、ZnTe、MgTe、GaAs、GaSb、GaN、HgO、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InSb、InN、AlAs、AlN、AlSb、AlS、PbS、PbO、PbSe、PbTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、Ge、Si又はそれらの合金を含む、請求項38〜41のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む、請求項38〜42のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSを含む、請求項38〜43のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む第1のシェルと、ZnSを含む第2のシェルとを含む、請求項38〜44のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.1〜約0.5である、請求項38〜45のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.32である、請求項38〜46のいずれか一項に記載の方法。
- (d)(c)の前記ナノ構造を非極性溶媒に分散させること
をさらに含む、請求項34〜47のいずれか一項に記載の方法。 - 前記非極性溶媒は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン及びクロロホルムからなる群から選択される、請求項48に記載の方法。
- (b)又は(b’)における前記混合は、約10℃〜約100℃の温度におけるものである、請求項38〜49のいずれか一項に記載の方法。
- (c)における前記混合は、約10℃〜約100℃の温度におけるものである、請求項34〜50のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラフルオロジンケート又はジクロロジフルオロジンケートの塩である、請求項31〜51のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラフルオロ亜鉛酸テトラブチルアンモニウム又はジクロロジフルオロ亜鉛酸テトラブチルアンモニウムである、請求項31〜52のいずれか一項に記載の方法。
- ナノ構造の少なくとも1つの集団を含む膜であって、前記ナノ構造は、
(a)ナノ構造の少なくとも1つの集団であって、前記ナノ構造は、コア及び少なくとも1つのシェルを含む、ナノ構造の少なくとも1つの集団と、
(b)前記ナノ構造の表面に結合された少なくとも1つのフッ化物含有配位子であって、フルオロジンケート、テトラフルオロボレート及びヘキサフルオロホスフェートからなる群から選択される、少なくとも1つのフッ化物含有配位子、又は
(b’)前記ナノ構造の表面に結合されたフッ化物アニオンと
を含む、膜。 - 少なくとも1つの有機樹脂をさらに含む、請求項54に記載の膜。
- ナノ構造の1〜5つの集団を含む、請求項54又は55に記載の膜。
- ナノ構造の1つの集団を含む、請求項54〜56のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造の少なくとも1つの集団は、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si3N4、Ge3N4、Al2O3、Al2OC又はそれらの組合せを含む、請求項54〜57のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造は、InPのコアを含む、請求項54〜58のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造は、少なくとも2つシェルを含む、請求項54〜59のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造は、2つのシェルを含む、請求項54〜60のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのシェルは、CdS、CdSe、CdO、CdTe、ZnS、ZnO、ZnSe、ZnTe、MgTe、GaAs、GaSb、GaN、HgO、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InSb、InN、AlAs、AlN、AlSb、AlS、PbS、PbO、PbSe、PbTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、Ge、Si又はそれらの合金を含む、請求項54〜61のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む、請求項54〜62のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSを含む、請求項54〜63のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのシェルは、ZnSeを含む第1のシェルと、ZnSを含む第2のシェルとを含む、請求項54〜64のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのフッ化物含有配位子は、フルオロジンケートを含むアニオンと、金属イオンを含むカチオンとを含む、請求項54〜65のいずれか一項に記載の膜。
- 前記カチオンは、カリウムイオンを含む、請求項66に記載の膜。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラフルオロジンケート又はジクロロジフルオロジンケートの塩である、請求項54〜67のいずれか一項に記載の膜。
- 前記フッ化物含有配位子は、テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロジンケート又はジクロロジフルオロ亜鉛酸テトラブチルアンモニウムである、請求項54〜67のいずれか一項に記載の膜。
- 少なくとも1つのフッ化物含有配位子は、フルオロジンケートを含むアニオンと、テトラアルキルアンモニウム、アルキルホスホニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム及びピリジニウムからなる群から選択されるカチオンとを含む、請求項54〜67のいずれか一項に記載の膜。
- 前記カチオンは、テトラアルキルアンモニウムであり、且つジオクタデシルジメチルアンモニウム、ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、ジテトラデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、ジオクチルジメチルアンモニウム、ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、オレイルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチルアンモニウム、オクチルトリメチルアンモニウム、フェニルエチルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウム、ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、ベンジルデシルジメチルアンモニウム、ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、ジイソプロピルジメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム及びテトラメチルアンモニウムからなる群から選択される、請求項70に記載の膜。
- 前記カチオンは、アルキルホスホニウムであり、且つテトラフェニルホスホニウム、ジメチルジフェニルホスホニウム、メチルトリフェノキシホスホニウム、ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、オクチルトリブチルホスホニウム、テトラデシルトリヘキシルホスホニウム、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、テトラオクチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム及びテトラメチルホスホニウムからなる群から選択される、請求項70に記載の膜。
- 前記ナノ構造膜における、前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.1〜約0.5である、請求項54〜72のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造膜における、前記ナノ構造組成物に結合された前記フッ化物含有配位子又はフッ化物アニオン中のフッ素原子の、前記ナノ構造組成物中の亜鉛原子に対するモル比は、約0.32である、請求項54〜73のいずれか一項に記載の膜。
- 前記ナノ構造は、量子ドットである、請求項54〜74のいずれか一項に記載の膜。
- 1つ〜5つの有機樹脂を含む、請求項54〜75のいずれか一項に記載の膜。
- 1つの有機樹脂を含む、請求項54〜76のいずれか一項に記載の膜。
- 前記少なくとも1つの有機樹脂は、熱硬化性樹脂又はUV硬化性樹脂である、請求項55〜77のいずれか一項に記載の膜。
- 前記少なくとも1つの有機樹脂は、UV硬化性樹脂である、請求項55〜78のいずれか一項に記載の膜。
- 請求項54〜79のいずれか一項に記載の膜を含む成形物品。
- エレクトロルミネッセンスデバイスである、請求項80に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスは、発光ダイオード又は液晶ディスプレイである、請求項81に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスの最大外部量子効率(EQE)は、約1.5%〜約15%である、請求項81又は82に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスの最大外部量子効率(EQE)は、約5%である、請求項81〜83のいずれか一項に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスは、約100秒〜約700秒後に初期輝度の80%に到達する、請求項81〜84のいずれか一項に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスは、600秒後に初期輝度の80%に到達する、請求項81〜85のいずれか一項に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスは、約6時間〜約11時間後に初期輝度の50%に到達する、請求項81〜86のいずれか一項に記載の成形物品。
- 前記エレクトロルミネッセンスデバイスは、約10時間後に初期輝度の50%に到達する、請求項81〜87のいずれか一項に記載の成形物品。
- 前記フッ化テトラアルキルアンモニウムの前記テトラアルキルアンモニウムは、ジオクタデシルジメチルアンモニウム、ジヘキサデシルジメチルアンモニウム、ジテトラデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、ジオクチルジメチルアンモニウム、ビス(エチルヘキシル)ジメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、オレイルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、デシルトリメチルアンモニウム、オクチルトリメチルアンモニウム、フェニルエチルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウム、ベンジルヘキサデシルジメチルアンモニウム、ベンジルテトラデシルジメチルアンモニウム、ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、ベンジルデシルジメチルアンモニウム、ベンジルオクチルジメチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、ジイソプロピルジメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム及びテトラメチルアンモニウムからなる群から選択される、請求項31〜53のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フッ化テトラアルキルアンモニウムは、フッ化テトラブチルアンモニウムである、請求項31〜53のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962820940P | 2019-03-20 | 2019-03-20 | |
US62/820,940 | 2019-03-20 | ||
US202062987034P | 2020-03-09 | 2020-03-09 | |
US62/987,034 | 2020-03-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020180278A true JP2020180278A (ja) | 2020-11-05 |
JP2020180278A5 JP2020180278A5 (ja) | 2023-03-28 |
Family
ID=72516277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020046304A Pending JP2020180278A (ja) | 2019-03-20 | 2020-03-17 | エレクトロルミネッセンスデバイスのための無機配位子を有するナノ構造 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11268022B2 (ja) |
JP (1) | JP2020180278A (ja) |
KR (1) | KR20200112724A (ja) |
CN (1) | CN111718716A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022191178A1 (ja) * | 2021-03-09 | 2022-09-15 | 三菱マテリアル株式会社 | コロイド粒子の製造方法及びコロイド粒子 |
WO2023144955A1 (ja) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 量子ドット組成物、量子ドット組成物含有液、発光素子、発光デバイス、量子ドット組成物の製造方法 |
WO2023157170A1 (ja) * | 2022-02-17 | 2023-08-24 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
WO2024013866A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 発光素子の製造方法および発光素子 |
WO2024028965A1 (ja) * | 2022-08-02 | 2024-02-08 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 発光素子、表示装置、および発光素子の製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020050979A2 (en) * | 2018-08-21 | 2020-03-12 | Georgia Tech Research Corporation | Infrared-emitting quantum dots and methods for making same |
CN114599746A (zh) | 2019-09-11 | 2022-06-07 | 纳米系统公司 | 用于喷墨印刷的纳米结构墨组合物 |
US20230229087A1 (en) | 2022-01-19 | 2023-07-20 | Nanosys, Inc. | Uv-curable quantum dot formulations |
WO2023183619A1 (en) | 2022-03-25 | 2023-09-28 | Nanosys, Inc. | Silica composite microparticles comprising nanostructures |
CN115971010A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-04-18 | 西北工业大学太仓长三角研究院 | 一种制备纳米复合材料压阻式应变传感器的方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI354807B (en) * | 2007-06-12 | 2011-12-21 | Eternal Chemical Co Ltd | Optical film |
US9346998B2 (en) | 2009-04-23 | 2016-05-24 | The University Of Chicago | Materials and methods for the preparation of nanocomposites |
KR101874413B1 (ko) | 2011-10-18 | 2018-07-05 | 삼성전자주식회사 | 무기 리간드를 갖는 양자점 및 그의 제조방법 |
US8779413B1 (en) | 2012-10-09 | 2014-07-15 | Sunpower Technologies Llc | Optoelectronic devices with all-inorganic colloidal nanostructured films |
US20140209856A1 (en) | 2013-01-31 | 2014-07-31 | Sunpower Technologies Llc | Light Emitting Device with All-Inorganic Nanostructured Films |
KR101517094B1 (ko) * | 2013-06-07 | 2015-06-05 | 삼성전자 주식회사 | 나노 결정 합성 방법 |
EP2853578B1 (en) * | 2013-09-26 | 2017-08-30 | Samsung Electronics Co., Ltd | Nanocrystal particles and processes for synthesizing the same |
KR20160067143A (ko) | 2013-10-04 | 2016-06-13 | 킹 압둘라 유니버시티 오브 사이언스 앤드 테크놀로지 | 퀀텀 도트를 제조하기 위한 시스템 및 방법 |
CN105940082B (zh) | 2014-02-04 | 2019-07-05 | 亮锐控股有限公司 | 在无机基质中具有无机配体的量子点 |
CN106660784A (zh) * | 2014-05-09 | 2017-05-10 | 麻省理工学院 | 通过配体交换的纳米晶体的能级修饰 |
KR101762728B1 (ko) * | 2015-05-18 | 2017-07-31 | 경북대학교 산학협력단 | 할로겐 표면 치환된 나노결정 양자점 및 나노결정 양자점의 표면 안정화를 위한 할로겐 표면 치환 방법 |
FR3039531A1 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-03 | Nexdot | |
US10541134B2 (en) * | 2015-11-02 | 2020-01-21 | The University Of Chicago | Halometallate ligand-capped semiconductor nanocrystals |
US9862841B2 (en) * | 2015-12-24 | 2018-01-09 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | Group IV nanocrystals with ion-exchangeable surface ligands and methods of making the same |
US10808174B2 (en) * | 2016-12-27 | 2020-10-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Process for preparing a quantum dot, a quantum dot prepared therefrom, and an electronic device including the same |
-
2020
- 2020-03-17 JP JP2020046304A patent/JP2020180278A/ja active Pending
- 2020-03-19 KR KR1020200034086A patent/KR20200112724A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-03-19 CN CN202010197500.4A patent/CN111718716A/zh active Pending
- 2020-03-20 US US16/824,824 patent/US11268022B2/en active Active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022191178A1 (ja) * | 2021-03-09 | 2022-09-15 | 三菱マテリアル株式会社 | コロイド粒子の製造方法及びコロイド粒子 |
WO2023144955A1 (ja) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 量子ドット組成物、量子ドット組成物含有液、発光素子、発光デバイス、量子ドット組成物の製造方法 |
WO2023157170A1 (ja) * | 2022-02-17 | 2023-08-24 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
WO2024013866A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 発光素子の製造方法および発光素子 |
WO2024028965A1 (ja) * | 2022-08-02 | 2024-02-08 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 発光素子、表示装置、および発光素子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11268022B2 (en) | 2022-03-08 |
CN111718716A (zh) | 2020-09-29 |
KR20200112724A (ko) | 2020-10-05 |
US20200299575A1 (en) | 2020-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11268022B2 (en) | Nanostructures with inorganic ligands for electroluminescent devices | |
EP3844240B1 (en) | Method for synthesis of blue-emitting znse1-xtex alloy nanocrystals | |
US20180119007A1 (en) | Stable inp quantum dots with thick shell coating and method of producing the same | |
CN114127227B (zh) | 具有立方体形和氟化物钝化的蓝光发射纳米晶体 | |
EP3898885B1 (en) | Small molecule passivation of quantum dots for increased quantum yield | |
EP3684883B1 (en) | Stable inp quantum dots with thick shell coating and method of producing the same | |
US11434423B2 (en) | Wavelength tuning of ZnSe quantum dots using In3+ salts as dopants | |
JP2022541422A (ja) | 表面に結合しているハロゲン化亜鉛及びカルボン酸亜鉛を含むコア-シェル型ナノ構造体 | |
KR20220146583A (ko) | 입방체 형상 및 iv 족 금속 플루오라이드 패시베이션을 갖는 청색 방출 나노결정 | |
US20220077354A1 (en) | Method of improving performance of devices with qds comprising thin metal oxide coatings |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230317 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230317 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20230914 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240123 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240322 |