JP2020180063A - フルオレン化合物およびその製造方法 - Google Patents

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聡史 南
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信輔 宮内
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Abstract

【課題】高屈折率などの優れた特性を有する新規フルオレン化合物の提供。【解決手段】式(1)で表されるフルオレン化合物をシランカップリング剤として使用。{R1は、ハロゲン原子、シアノ基またはアルキル基;R2aおよびR2bは、各々独立に、アルキル基;A1aおよびA1bは、各々独立に、アルキレン基;X1aおよびX1bは、各々独立に、基(I):−Si(OR3)a(R4)3−a[基(I)中、R3は、基(II):−(A2O)b−R5(基(II)中、A2は、アルキレン基を示し、R5はアルキル基を示し、bは0以上の整数を示す)を示し;R4は、H、ヒドロキシル基、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、aは1〜3の整数を示す]で表される基を示し;kは0〜8の整数;m1およびm2は各々独立に0〜6の整数}【選択図】なし

Description

本発明は、加水分解性シリル基を有するフルオレン化合物に関する。
アルコキシシリル基を有する化合物はシランカップリング剤として知られている。シランカップリング剤は、無機材料と反応する官能基と、有機材料と反応する官能基とを併せ持っており、有機材料と無機材料とを結合する働きを示す。そのためシランカップリング剤は、樹脂とフィラーとを複合化させる際のフィラーの表面処理剤としてや、樹脂と無機材料とを接着させる際の無機材料の表面改質剤として使用されている。
屈折率の高い樹脂材料を得るための方法には、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの無機粒子をポリマーなどの有機成分と複合化(コンポジット化)する方法が知られている。この複合化においては、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの無機粒子に対してシランカップリング剤による表面処理が施されるが、使用するシランカップリング剤によっては、目的の屈折率の高い樹脂材料を得ることが難しくなるおそれがある。
近年、電子機器のディスプレイに広く用いられるタッチパネルでは、透明電極の配線パターンの映り込みを抑えるという課題がある。この課題を解決する手段には、透明電極の配線部分と、エッチング処理によって透明電極を取り除いた部分との屈折率を調整する方法が挙げられる。この方法では、透明電極の配線をシランカップリング剤で表面処理し、屈折率調整剤を接着させるが、この場合においても、シランカップリング剤の屈折率と屈折率調整剤の屈折率が大きく異なる場合に、透明電極の配線パターンの視認性の低減効果を得ることが難しい。
特許第5571979号
本発明者らは、屈折率の高いシランカップリング剤を得る目的で、先に、特許文献1に開示のフルオレン骨格を有するシランカップリング剤を開発した。
しかし、タッチパネルの透明電極配線パターンなどに要求される屈折率は年々高くなっており、シランカップリング剤についても、さらに屈折率の高いものが求められている。
そこで、本発明の目的は、高屈折率などの優れた特性を有する新規フルオレン化合物、このフルオレン化合物を製造する方法を提供することにある。
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類のアリルエーテルと、メルカプト基を有するアルコキシシランとをエンチオール反応させることにより、シランカップリング剤として有用な新規なフルオレン化合物が得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明のフルオレン化合物は、下記式(1)で表される。
Figure 2020180063
{式(1)中、
は、ハロゲン原子、シアノ基またはアルキル基を示し、
2aおよびR2bは、互いに同一または異なって、アルキル基を示し、
1aおよびA1bは、互いに同一または異なって、アルキレン基を示し、
1aおよびX1bは、互いに同一または異なって、基(I):−Si(OR)(R)3−a
[基(I)中、
は、基(II):−(AO)−R
(基(II)中、
は、アルキレン基を示し、
はアルキル基を示し、
bは0以上の整数を示す)を示し、
は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、
aは1〜3の整数を示す]で表される基を示し、
kは0〜8の整数を示し、
m1およびm2は、互いに同一または異なって、0〜6の整数を示す}
前記式(1)において、例えば、A1aおよびA1bはC2−4アルキレン基であり、RはC1−4アルキル基またはC1−4アルコキシC1−4アルキル基であり、aは2または3であってもよい。
代表的には、前記式(1)で表される化合物は、9,9−ビス[3−(トリC1−4アルコキシシリルC2−4アルキルチオ)プロポキシナフチル]フルオレンであってもよい。
本発明には、下記式(2):
Figure 2020180063
(式中、R、R2a、R2b、k、m1、m2は前記と同じ)
で表される化合物と、下記式(3a)および(3b)
HS−A1a−X1a (3a)
HS−A1b−X1b (3b)
(式中、A1a、A1b、X1a、X1bは前記と同じ)
で表される化合物とを反応させて、前記式(1)で表されるフルオレン化合物を製造する方法を含む。
本発明の式(1)で表されるフルオレン化合物によれば、かかるフルオレン化合物は、屈折率の高いシランカップリング剤として好適である。
[式(1)で表されるフルオレン化合物]
本発明のフルオレン化合物は、前記式(1)で表される。前記式(1)のRにおいて、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基などが挙げられる。これらのアルキル基のうち、C1−4アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
なお、kが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、フルオレン(またはフルオレン骨格)を構成する2つのベンゼン環に置換する基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、フルオレンを構成するベンゼン環に対する基Rの結合位置(置換位置)は、特に限定されない。置換数kは、好ましくは0〜4、さらに好ましくは0〜1、最も好ましくは0である。
また、前記式(1)のR2aおよびR2bにおいて、アルキル基としては、前記と同様のアルキル基、例えば、メチル基などのC1−12アルキル基などが挙げられる。これらのアルキル基のうち、C1−8アルキル基が好ましく、C1−6アルキル基が特に好ましい。
2aおよびR2bの数m1およびm2は、それぞれ0〜6であればよいが、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0または1、最も好ましくは0である。なお、R2aとR2bとは同一であってもよく、異なっていてもよい。m1またはm2が2以上である場合、同一のナフタレン環において、R2aまたはR2bは、それぞれ、同一であってもよく、異なっていてもよい。
前記式(1)において、基A1aおよび基A1bのアルキレン基としては、特に限定されないが、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基、ヘキシレン基などのC2−10アルキレン基などが挙げられる。これらのアルキレン基のうち、C2−6アルキレン基が好ましく、C2−4アルキレン基がさらに好ましく、エチレン基、プロピレン基などのC2−3アルキレン基が最も好ましい。基A1aと基A1bとは、同一のアルキレン基であってもよく、異なるアルキレン基であってもよいが、通常、同一のアルキレン基である。
また、前記式(1)の基X1aおよびX1bにおける基(I)および(II)において、Rのアルキル基としては、前記例示の基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのC1−10アルキル基などが挙げられる。これらのうち、C1−6アルキル基が汎用されるが、低級アルキル基であるC1−4アルキル基がさらに好ましく、C1−2アルキル基がさらに好ましく、メチル基が最も好ましい。
の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、好ましい態様も含めて、前記RおよびRのアルキル基と同様である。アリール基としては、フェニル基、トリル基などのC6−10アリール基などが挙げられる。
のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらのうち、塩素原子が好ましい。
のアルキレン基としては、前記例示の基、例えば、エチレン基、プロピレン基などが挙げられる。これらのうち、C2−10アルキレン基が好ましく、C2−6アルキレン基さらに好ましく、C2−4アルキレン基が最も好ましい。
基(II)において、係数bは0〜10程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、0〜6、0〜4、0〜3、0〜2、0または1であり、最も好ましくは0である。
基(I)において、係数aは1〜3であればよいが、加水分解縮合性の観点から、2または3が好ましく、3が特に好ましい。
好ましい態様は、Rがアルキル基またはアルコキシアルキル基、Rがアルキル基またはアリール基、aが2または3である態様であり、さらに好ましい態様は、Rがメチル基、エチル基などのC1−4アルキル基または2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基などのC1−4アルコキシC2−4アルキル基、Rがアルキル基、aが3である態様であり、最も好ましい態様は、RがC1−2アルキル基またはC1−2アルコキシエチル基、Rがメチル基、エチル基などのC1−4アルキル基、aが3である態様である。
代表的な基X1aおよびX1bには、トリアルコキシシリル基、アルキルジアルコキシシリル基などが含まれる。前記トリアルコキシシリル基としては、トリメトキシシリル基などのトリC1−4アルコキシシリル基などが挙げられる。前記アルキルジアルコキシシリル基としては、メチルジメトキシシリル基などのC1−4アルキルジC1−4アルコキシシリル基などが挙げられる。
代表的な前記式(1)で表される化合物としては、9,9−ビス{6−[3−(3−トリメトキシシリルプロピルチオ)プロポキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[3−(3−トリメトキシシリルプロピルチオ)プロポキシ]−1−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{6−[3−(2−トリメトキシシリルエチルチオ)プロポキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[3−(2−トリメトキシシリルエチルチオ)プロポキシ]−1−ナフチル}フルオレンなどの9,9−ビス[3−(トリC1−4アルコキシシリルC2−4アルキルチオ)プロポキシナフチル]フルオレンなどが挙げられる。ナフタレン環に対するX1aまたはX1b含有基およびフルオレン環の結合位置は、2,6位が好ましい。
[式(1)で表されるフルオレン化合物の製造方法]
本発明のフルオレン化合物は、前記式(2)で表される化合物と、前記式(3a)および(3b)で表される化合物とを反応(エンチオール反応)させることにより得られる。
前記式(2)において、R、R2a、R2b、k、m1、m2は好ましい態様を含めて、前記と同じである。代表的な前記式(2)で表される化合物としては、9,9−ビス(6−アリルオキシ−2−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(5−アリルオキシ−1−ナフチル)フルオレンなどの9,9−ビス(アリルオキシナフチル)フルオレンなどが挙げられる。
なお、前記式(2)で表される化合物は、市販品を使用してもよく、慣用の方法により合成した化合物を使用してもよい。例えば、前記式(2)で表される化合物は、下記式(2A)で表される化合物をアリル化することにより得ることができる。代表的には、下記式(2A)で表される化合物と、アリルブロマイドなどのアリルハライドとを反応させることにより得てもよい。
Figure 2020180063
(式中、R、R2a、R2b、k、m1、m2は前記と同じ)。
なお、副生するハロゲン化水素をトラップ(捕捉)するため、アリルハライドを用いるアリル化反応は、塩基存在下で行ってもよい。
また、前記式(3a)および(3b)において、A1a、A1b、X1a、X1bは、好ましい態様を含めて前記と同じである。前記式(3a)で表される化合物と前記式(3b)で表される化合物とは同一であることが多い。
代表的な前記式(3a)および(3b)で表される化合物(アルコキシシラン類)には、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、メルカプトアルキルジアルコキシシランなどが含まれる。
前記メルカプトアルキルトリアルコキシシランとしては、2−メルカプトエチルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプトC2−4アルキル−トリC1−4アルコキシシランなどが挙げられる。
前記メルカプトアルキルジアルコキシシランとしては、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシランなどのメルカプトC2−4アルキル−C1−4アルキル−ジC1−4アルコキシシランなどが挙げられる。
エンチオール反応において、前記式(3a)および(3b)で表される化合物の使用割合(合計割合)は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば2〜20モル、好ましくは2〜10モル、さらに好ましくは2〜8モル、最も好ましくは2〜5モルである。
前記式(2)で表される化合物と前記式(3a)および(3b)で表される化合物との反応(エンチオール反応)は、通常、重合開始剤の存在下で行ってもよい。重合開始剤としては、熱重合開始剤(熱ラジカル発生剤)、光重合開始剤(光ラジカル発生剤)が挙げられ、好ましい重合開始剤は光重合開始剤である。
光重合開始剤または光ラジカル発生剤には、ベンゾイン類、アセトフェノン類、プロピオフェノン類、ブチリルフェノン類、アミノアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、チオキサンテン類、アントラキノン類、(チオ)キサントン類、アクリジン類、アシルフォスフィンオキシド類、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル類などが含まれる。
ベンゾイン類としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類などが挙げられる。
アセトフェノン類としては、アセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−フェニル−2−ヒドロキシ−アセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどが挙げられる。
プロピオフェノン類としては、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどが挙げられる。
ブチリルフェノン類としては、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン−1−オンなどが挙げられる。
アミノアセトフェノン類としては、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ジエチルアミノ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルホリノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−メチル−1−(4−メチルフェニル)プロパン−1−オン、1−(4−ブチルフェニル)−2−ジメチルアミノ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)−2−メチルプロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−ジメチルアミノフェニル)−ブタン−1−オンなどが挙げられる。
ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、ベンジル、N,N’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーズケトン)、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンなどのN,N’−ジアルキルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
ケタール類としては、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。
チオキサンテン類としては、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテンなどが挙げられる。
アントラキノン類としては、2−エチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノンなどが挙げられる。
(チオ)キサントン類としては、チオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
アクリジン類としては、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタンなどが挙げられる。
トリアジン類としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジンなどが挙げられる。
スルフィド類としては、ベンジルジフェニルサルファイドなどが挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド類としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどが挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用できる。なお、光重合開始剤は、市販品、例えば、商品名「イルガキュア」「ダロキュア」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、商品名「サイラキュア」(ユニオンカーバイド社製)などとして入手できる。
熱重合開始剤には、有機過酸化物、アゾ化合物などが含まれる。
有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド類;ジアシルパーオキシド類、例えば、ラウロイルパーオキシドなどのジアルカノイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、ベンゾイルトルイルパーオキシド、トルイルパーオキシドなどのジアロイルパーオキシド;過酸エステル類、例えば、過酢酸t−ブチル、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエートなどの過カルボン酸アルキルエステル;ケトンパーオキシド類;パーオキシカーボネート類;パーオキシケタール類などが挙げられる。
アゾ化合物としては、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)などのアゾニトリル化合物;2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}などのアゾアミド化合物;2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩などのアゾアミジン化合物;2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)などのアゾアルカン化合物;2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)などのオキシム骨格を有するアゾ化合物などが挙げられる。
これらの熱重合開始剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用できる。
重合開始剤の割合は、前記式(2)で表される化合物ならびに前記式(3a)および(3b)で表される化合物の総量100質量部に対して、例えば0.1〜15質量部程度の範囲から選択でき、例えば0.2〜10質量部、好ましくは0.3〜10質量部、さらに好ましくは0.5〜7質量部、最も好ましくは0.7〜5質量部である。
なお、光重合開始剤は、光増感剤と組み合わせてもよい。光増感剤としては、慣用の成分を利用できる。慣用添加剤には、第3級アミン類、フォスフィン類、トルイジン類、アントラセン類などが含まれる。
第3級アミン類としては、トリアルキルアミン、トリエタノールアミンなどのトリアルカノールアミン、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸アミルなどのジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、4,4−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーズケトン)、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノンなどのビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンなどが挙げられる。
フォスフィン類としては、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
トルイジン類としては、N,N−ジメチルトルイジンなどが挙げられる。
アトトラセン類としては、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。
これらの光増感剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用できる。
光増感剤の割合は、前記光重合開始剤100質量部に対して、例えば0.1〜150質量部、好ましくは1〜100質量部、さらに好ましくは5〜75質量部、最も好ましくは10〜50質量部である。
なお、反応は、溶媒中で行ってもよい。溶媒には、アルコール類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、セロソルブ類、カルビトール類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、グリコールエーテルエステル類、アミド類、スルホキシド類、ニトリル類、ピロリドン類などが含まれる。
アルコール類としては、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルキルアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類などが挙げられる。
炭化水素類としては、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。
ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられる。
エーテル類としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類;ジオキサン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類などが挙げられる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酪酸エチルなどが挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドンなどが挙げられる。
セロソルブ類としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどが挙げられる。
カルビトール類としては、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトールなどが挙げられる。
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテルなどが挙げられる。
グリコールエーテルエステル類としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
アミド類としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
スルホキシド類としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
ニトリル類としては、アセトニトリル、ベンゾニトリルなどが挙げられる。
ピロリドン類としては、N−メチル−2−ピロリドンなどが挙げられる。
これらの溶媒は、単独でまたは混合溶媒として使用できる。
溶媒中の前記式(2)で表される化合物ならびに前記式(3a)および(3b)で表される化合物の総量の割合は、例えば1〜90質量%、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは10〜50質量%である。
エンチオール反応は、前記式(2)で表される化合物と前記式(3a)および(3b)で表される化合物とを接触させることにより進行するが、通常、前記式(2)で表される化合物ならびに前記式(3a)および(3b)で表される化合物を含む反応系に、活性エネルギーを付与することにより反応(エンチオール反応)させてもよい。活性エネルギーの付与により、容易にエンチオール反応を進行させることができる。
活性エネルギーとしては、重合開始剤の種類などに応じて、熱エネルギーおよび/または光エネルギーを利用でき、少なくとも熱エネルギーを利用するのが好ましい。
熱重合開始剤を使用する場合などにおいて、熱エネルギーを付与する場合、加熱温度としては、例えば50〜250℃、好ましくは60〜200℃、さらに好ましくは80〜180℃である。
また、光重合開始剤を使用する場合などにおいて、光エネルギーを付与する場合、光としては、ガンマー線やX線などの放射線、紫外線、可視光線などが利用できるが、通常、紫外線である場合が多い。
光源としては、例えば、紫外線の場合、ディープ(Deep)UVランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、ヘリウム−カドミウムレーザーやエキシマレーザーなどのレーザー光源を用いることができる。光の波長は、例えば150〜800nm、好ましくは150〜600nm、さらに好ましくは200〜400nm、最も好ましくは300〜400nmである。照射光量(照射エネルギー)は、特に限定されず、例えば1〜10000mW、好ましくは5〜5000mW、さらに好ましくは10〜1000mWである。また、照射時間は、特に限定されず、例えば5秒〜60分、好ましくは10秒〜30分、さらに好ましくは30秒〜10分である。
なお、熱エネルギー(加熱)と光エネルギー(光照射)とを組み合わせてもよい。
前記の方法によって前記式(1)で表される化合物が得られるが、反応混合物からの前記式(1)で表される化合物は、慣用の方法で分離精製してもよい。
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
(実施例1)
1,000mlのナスフラスコに、9,9−ビス(6−アリルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(大阪ガスケミカル社製)159.2g、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(MPTMS)141.4g、特級トルエン300mlを添加し、30分攪拌させて完全に溶解させた後に、重合開始剤(V-601)(富士フイルム和光純薬社製)を2.3g添加し、80℃で10時間反応させた。その後、減圧下で溶媒及び残存するMPTMSを留去し、粘性液体を得た。
得られた粘性液体のNMRを行い、下記式で表される目的物が得られたことを確認した。なお、NMRは、溶媒CDCl、日本電子社製 AL−300を用い、300MHzで測定した。
H NMR(300MHz、CDCl):δ(ppm)=7.80−7.73(d,2H)、7.26−7.63(m,14H)、7.03−7.08(m,4H)、4.12−4.16(m,4H)、9.55(s、18H)、2.69−2.74(m,4H)、2.51−2.58(m,4H)、2.05−2.14(m,4H)、1.70−1.74(m,4H)、0.72−0.78(m,4H)
Figure 2020180063
[フルオレン化合物の光学特性]
実施例1で合成したフルオレン化合物について、アッベ屈折計(アタゴ社製)を用いて波長589nm、温度25℃において屈折率を測定したところ、屈折率は1.60であった。
本発明のフルオレン化合物は、9,9−ビスフェニル骨格とともに、加水分解性シリル基を有する化合物であり、加水分解縮合により、高屈折率などの優れた特性を有するシランカップリング剤として利用できる。
このような本発明のフルオレン化合物(またはその重合性組成物)は、樹脂の修飾剤や架橋剤、塗料、電気機器の絶縁材、電線被覆材、電子機器の封止材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着材、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの広範な用途に用いることができる。

Claims (4)

  1. 下記式(1)で表されるフルオレン化合物。
    Figure 2020180063
    {式(1)中、
    は、ハロゲン原子、シアノ基またはアルキル基を示し、
    2aおよびR2bは、互いに同一または異なって、アルキル基を示し、
    1aおよびA1bは、互いに同一または異なって、アルキレン基を示し、
    1aおよびX1bは、互いに同一または異なって、基(I):−Si(OR)(R)3−a
    [基(I)中、
    は、基(II):−(AO)−R
    (基(II)中、
    は、アルキレン基を示し、
    はアルキル基を示し、
    bは0以上の整数を示す)を示し、
    は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、
    aは1〜3の整数を示す]で表される基を示し、
    kは0〜8の整数を示し、
    m1およびm2は、互いに同一または異なって、0〜6の整数を示す}
  2. 式(1)において、A1aおよびA1bがC2−4アルキレン基であり、RがC1−4アルキル基またはC1−4アルコキシC1−4アルキル基であり、aが2または3である請求項1記載のフルオレン化合物。
  3. 9,9−ビス[3−(トリC1−4アルコキシシリルC2−4アルキルチオ)プロポキシナフチル]フルオレンである請求項1または2記載のフルオレン化合物。
  4. 下記式(2):
    Figure 2020180063
    (式中、R、R2a、R2b、k、m1、m2は前記と同じ)
    で表される化合物と、下記式(3a)および(3b)
    HS−A1a−X1a (3a)
    HS−A1b−X1b (3b)
    (式中、A1a、A1b、X1a、X1bは前記と同じ)
    で表される化合物とを反応させて、請求項1〜3のいずれか1項に記載のフルオレン化合物を製造する方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023276889A1 (ja) * 2021-07-01 2023-01-05 昭和電工マテリアルズ株式会社 回路接続用接着剤フィルム、回路接続構造体及びその製造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007099741A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法
JP2009256332A (ja) * 2008-03-21 2009-11-05 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有する新規なポリカルボン酸およびその製造方法
JP2011190179A (ja) * 2010-03-11 2011-09-29 Osaka Gas Chem Kk 新規フルオレン化合物およびその金属酸化物複合体
JP2011225644A (ja) * 2010-04-15 2011-11-10 Osaka Gas Chem Kk 熱可塑性樹脂およびその製造方法
JP2014012825A (ja) * 2012-06-07 2014-01-23 Osaka Gas Chem Kk 硬化性組成物およびその硬化物
JP2014028806A (ja) * 2013-07-26 2014-02-13 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するアルコール
JP2017048367A (ja) * 2015-09-01 2017-03-09 大阪ガスケミカル株式会社 酸変性エポキシ(メタ)アクリレート及びその製造方法並びに用途

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007099741A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法
JP2009256332A (ja) * 2008-03-21 2009-11-05 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有する新規なポリカルボン酸およびその製造方法
JP2011190179A (ja) * 2010-03-11 2011-09-29 Osaka Gas Chem Kk 新規フルオレン化合物およびその金属酸化物複合体
JP2011225644A (ja) * 2010-04-15 2011-11-10 Osaka Gas Chem Kk 熱可塑性樹脂およびその製造方法
JP2014012825A (ja) * 2012-06-07 2014-01-23 Osaka Gas Chem Kk 硬化性組成物およびその硬化物
JP2014028806A (ja) * 2013-07-26 2014-02-13 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するアルコール
JP2017048367A (ja) * 2015-09-01 2017-03-09 大阪ガスケミカル株式会社 酸変性エポキシ(メタ)アクリレート及びその製造方法並びに用途

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023276889A1 (ja) * 2021-07-01 2023-01-05 昭和電工マテリアルズ株式会社 回路接続用接着剤フィルム、回路接続構造体及びその製造方法

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