JP2020177784A - イオン分析装置 - Google Patents
イオン分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020177784A JP2020177784A JP2019078463A JP2019078463A JP2020177784A JP 2020177784 A JP2020177784 A JP 2020177784A JP 2019078463 A JP2019078463 A JP 2019078463A JP 2019078463 A JP2019078463 A JP 2019078463A JP 2020177784 A JP2020177784 A JP 2020177784A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radical
- frequency
- ion
- power supply
- radicals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
Description
前記プリカーサイオンが導入される反応室と、
ラジカル生成室と、
前記ラジカル生成室に原料ガスを供給する原料ガス供給源と、
前記ラジカル生成室において前記原料ガスからラジカルと荷電粒子を生成するための第1周波数の高周波電力を供給する第1電力供給部と、
前記ラジカルを前記反応室に輸送するラジカル輸送路と、
前記ラジカル生成室又は/及び前記ラジカル輸送路において、前記荷電粒子を励振するための、前記第1周波数よりも低い第2周波数の高周波電力を供給する第2電力供給部と、
前記第1電力供給部と同時に、又は該第1電力供給部から所定時間だけ遅れて第2電力供給部を動作させる制御部と、
前記反応室において生成されたプロダクトイオンを質量電荷比及びイオン移動度の少なくとも一方に応じて分離し検出する分離検出部と
を備える。
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
本発明の第1態様は、試料成分由来のプリカーサイオンにラジカルを照射することにより生成されるプロダクトイオンを分析するイオン分析装置であって、
前記プリカーサイオンが導入される反応室と、
ラジカル生成室と、
前記ラジカル生成室に原料ガスを供給する原料ガス供給源と、
前記ラジカル生成室において前記原料ガスからラジカルと荷電粒子を生成するための第1周波数の高周波電力を供給する第1電力供給部と、
前記ラジカルを前記反応室に輸送するラジカル輸送路と、
前記ラジカル生成室又は/及び前記ラジカル輸送路において、前記荷電粒子を励振するための、前記第1周波数よりも低い第2周波数の高周波電力を供給する第2電力供給部と、
前記第1電力供給部と同時に、又は該第1電力供給部から所定時間だけ遅れて第2電力供給部を動作させる制御部と、
前記反応室において生成されたプロダクトイオンを質量電荷比及びイオン移動度の少なくとも一方に応じて分離し検出する分離検出部と
を備える。
本発明の第2態様のイオン分析装置は、上記第1態様のイオン分析装置において、
さらに、
前記ラジカル生成室を排気する真空排気部を備え、
前記第1周波数の高周波電力を供給することにより前記ラジカル生成室に真空放電を生じさせる。
本発明の第3態様のイオン分析装置は、上記第2態様のイオン分析装置において、
前記真空放電が誘電結合型のものである。
本発明の第4態様のイオン分析装置は、上記第1態様から第3態様のいずれかのイオン分析装置において、
前記第1周波数が100MHzよりも高く、前記第2周波数が100MHz以下である。
本発明の第5態様のイオン分析装置は、上記第1態様から第4態様のいずれかのイオン分析装置において、
前記原料ガスが、前記第1周波数の高周波電力の供給によって、少なくとも水素ラジカルを生成する種類のものである。
本発明の第6態様のイオン分析装置は、上記第5態様のイオン分析装置において、
前記原料ガスが水素ガス、水蒸気、又はアンモニアガスである。
本発明の第7態様のイオン分析装置は、上記第1態様から第6態様のいずれかのイオン分析装置において、
前記ラジカル輸送路と前記反応室の間に、前記荷電粒子を偏向させる偏向部が設けられている。
2…イオントラップ
21…リング電極
22…入口側エンドキャップ電極
23…イオン導入孔
24…出口側エンドキャップ電極
25…イオン射出孔
26…ラジカル粒子導入口
27…ラジカル粒子排出口
3…飛行時間型質量分離部
4…イオン検出器
5…ラジカル生成・照射部
51…ラジカル生成室
52…原料ガス供給源
53…高周波電力供給部
531…第1高周波電源
532…第2高周波電源
54…ラジカル源
541…筒状体
542…第1スパイラルアンテナ
543…第2スパイラルアンテナ
544、548…磁石
545…プランジャー
546…高周波電力投入部
547…フランジ
55…スキマー
56…バルブ
57…真空ポンプ
58…偏向部
59…中間真空室
6…不活性ガス供給部
61…不活性ガス供給源
62…バルブ
7…トラップ電圧発生部
8…制御・処理部
Claims (7)
- 試料成分由来のプリカーサイオンにラジカルを照射することにより生成されるプロダクトイオンを分析するイオン分析装置であって、
前記プリカーサイオンが導入される反応室と、
ラジカル生成室と、
前記ラジカル生成室に原料ガスを供給する原料ガス供給源と、
前記ラジカル生成室において前記原料ガスからラジカルと荷電粒子を生成するための第1周波数の高周波電力を供給する第1電力供給部と、
前記ラジカルを前記反応室に輸送するラジカル輸送路と、
前記ラジカル生成室又は/及び前記ラジカル輸送路において、前記荷電粒子を励振するための、前記第1周波数よりも低い第2周波数の高周波電力を供給する第2電力供給部と、
前記第1電力供給部と同時に、又は該第1電力供給部から所定時間だけ遅れて第2電力供給部を動作させる制御部と、
前記反応室において生成されたプロダクトイオンを質量電荷比及びイオン移動度の少なくとも一方に応じて分離し検出する分離検出部と
を備えるイオン分析装置。 - さらに、
前記ラジカル生成室を排気する真空排気部を備え、
前記第1周波数の高周波電力を供給することにより前記ラジカル生成室に真空放電を生じさせる、請求項1に記載のイオン分析装置。 - 前記真空放電が誘電結合型のものである、請求項2に記載のイオン分析装置。
- 前記第1周波数が100MHzよりも高く、前記第2周波数が100MHz以下である、請求項1から3のいずれかに記載のイオン分析装置。
- 前記原料ガスが、前記第1周波数の高周波電力の供給によって、少なくとも水素ラジカルを生成する種類のものである、請求項1から4のいずれかに記載のイオン分析装置。
- 前記原料ガスが水素ガス、水蒸気、又はアンモニアガスである、請求項5に記載のイオン分析装置。
- 前記ラジカル輸送路と前記反応室の間に、前記荷電粒子を偏向させる偏向部が設けられている、請求項1から6のいずれかに記載のイオン分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019078463A JP7109026B2 (ja) | 2019-04-17 | 2019-04-17 | イオン分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019078463A JP7109026B2 (ja) | 2019-04-17 | 2019-04-17 | イオン分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020177784A true JP2020177784A (ja) | 2020-10-29 |
JP2020177784A5 JP2020177784A5 (ja) | 2021-11-18 |
JP7109026B2 JP7109026B2 (ja) | 2022-07-29 |
Family
ID=72936828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019078463A Active JP7109026B2 (ja) | 2019-04-17 | 2019-04-17 | イオン分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7109026B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022201705A1 (ja) | 2021-03-23 | 2022-09-29 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2022209076A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2023002712A1 (ja) | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2023013161A1 (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-09 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101915800A (zh) * | 2010-07-08 | 2010-12-15 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种微型解吸附离子迁移谱仪 |
WO2018190013A1 (ja) * | 2017-04-10 | 2018-10-18 | 株式会社島津製作所 | イオン分析装置及びイオン解離方法 |
-
2019
- 2019-04-17 JP JP2019078463A patent/JP7109026B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101915800A (zh) * | 2010-07-08 | 2010-12-15 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种微型解吸附离子迁移谱仪 |
WO2018190013A1 (ja) * | 2017-04-10 | 2018-10-18 | 株式会社島津製作所 | イオン分析装置及びイオン解離方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022201705A1 (ja) | 2021-03-23 | 2022-09-29 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2022209076A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2023002712A1 (ja) | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
WO2023013161A1 (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-09 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7109026B2 (ja) | 2022-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6229790B2 (ja) | イオン分析装置 | |
JP7109026B2 (ja) | イオン分析装置 | |
JP6713646B2 (ja) | イオン分析装置 | |
JP3936908B2 (ja) | 質量分析装置及び質量分析方法 | |
CN110494955B (zh) | 离子分析装置及离子裂解方法 | |
US20050258353A1 (en) | Method and apparatus for ion fragmentation in mass spectrometry | |
EP2871665B1 (en) | Plasma-based electron capture dissociation (ecd) apparatus and related systems and methods | |
JP2005044594A (ja) | 質量分析計 | |
US20220344140A1 (en) | Ion analyzer | |
US9589775B2 (en) | Plasma cleaning for mass spectrometers | |
JP3767317B2 (ja) | 質量分析装置 | |
CN111656483A (zh) | 离子化装置和质谱分析装置 | |
JP7074210B2 (ja) | イオン分析装置 | |
JP7202581B2 (ja) | イオン分析装置 | |
US12009197B2 (en) | Method and apparatus | |
JP7403774B2 (ja) | イソアスパラギン酸の分析方法、及び質量分析装置 | |
US12020919B2 (en) | Method for analyzing isoaspartic acid and mass spectrometer | |
GB2606024A (en) | Apparatus and method | |
WO2019211886A1 (ja) | 飛行時間型質量分析装置 | |
JP2009146913A (ja) | 質量分析計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211005 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220705 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220708 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7109026 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |