JP2020177301A - ガルバノ装置及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ミラーの回転角度を精密に計測するガルバノ装置を提供する。【解決手段】 モータを回転させることによってモータ軸に備え付けたミラーを回転させ、光をミラーに反射させることで光の方向を変化させるガルバノ装置において、モータ回転軸の回転角度を読み取る読取部と、読取部から出力された値からミラーの回転角度を推定するフィルタを有するフィルタ部と、を備え、ミラーの回転角度をフィルタ部から出力する。【選択図】 図1
Description
本発明は、ガルバノ装置及びレーザ加工装置に関する。
レーザ穴あけ装置、レーザトリマ装置、レーザリペア装置などのレーザ加工装置(工作機械)においては、ガルバノ装置が使用されている。ガルバノ装置は、モータの回転軸に取り付けられたミラーの回転角度を制御しながら、かかるミラーでレーザ光を反射して目標位置に照射する。レーザ光の照射位置を目標位置に高精度に位置決めするためには、ミラーの回転角度を高精度に制御することが必要となる(特許文献1参照)。ガルバノ装置には、モータの回転軸に設けられたロータリーエンコーダ等が備えられている。
従来のガルバノ装置では、モータの回転軸とミラーが一体となった撓みのない完全な剛体であるという仮説のもとに、モータの回転軸に設けられたロータリーエンコーダの計測値が表すモータの回転角度とミラーの回転角度とが同じであるとしていた。しかし、厳密にはモータとミラーの複合体には振動特性があり、モータの回転角度とミラーの回転角度はわずかにずれることがある。つまり、ロータリーエンコーダによる計測値と実際のミラーの回転角とは乖離する場合がある。
レーザ加工装置などの用途にガルバノ装置を使う場合、モータの回転角度とミラー回転角の僅かな乖離は加工結果に大きな影響を及ぼしてしまう。
そこで、本発明は、ミラーの回転角度を精密に計測するガルバノ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決する本発明の一側面としてのガルバノ装置は、モータを回転させることによってモータ軸に備え付けたミラーを回転させ、光を前記ミラーに反射させることで光の方向を変化させるガルバノ装置において、モータ回転軸の回転角度を読み取る読取部と、前記読取部から出力された値から前記ミラーの回転角度を推定するフィルタを有するフィルタ部と、を備え、前記ミラーの回転角度を前記フィルタ部から出力することを特徴とする。
本発明によれば、ミラーの回転角度を精密に計測するガルバノ装置を提供することができる。
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態のガルバノ装置の構成を示す図である。ガルバノ装置は、モータを回転させることによってモータ軸に備え付けたミラーを回転させ、光をミラーに反射させることで光の方向を変化させる。本実施形態のガルバノ装置は、ミラー101、モータ回転軸102、モータ103、スケール104、演算部106、読取部108、処理部120を有する。
図1は第1実施形態のガルバノ装置の構成を示す図である。ガルバノ装置は、モータを回転させることによってモータ軸に備え付けたミラーを回転させ、光をミラーに反射させることで光の方向を変化させる。本実施形態のガルバノ装置は、ミラー101、モータ回転軸102、モータ103、スケール104、演算部106、読取部108、処理部120を有する。
スケール104と読取部108は回転角度を検出する検出器を構成し、例えば、光学式又は磁気式エンコーダであり、この構成の他に、例えば、静電容量センサを用いることができる。
演算部106は制御装置を有し、入力された目標角度105目標角度になるようにモータ103を回転させるための目標電流107を求め、モータ103に電流を流して、モータ103の回転角度を制御する。
演算部106の詳細について図2を用いて説明する。図2は、いわゆる2自由度制御系をブロック図で示した例である。演算部106に相当する部分は枠401に囲まれた部分であり、フィードフォワード制御器403、規範モデル404、フィードバック制御器406から構成される。フィードフォワード制御器403は、モータにおける入力値を電流、出力値を回転角度とする入出力関数の逆関数に規範モデル404をかけた演算機である。規範モデル404は、目標角度402と、ユーザが動作させたい参照角度405の関係を計算する計算機であり、例えばローパスフィルタなどが使われる。目標角度105は、フィードフォワード制御器403と、規範モデル404にそれぞれ入力される。フィードフォワード制御器403は、目標角度105に応じた電流値を出力する。規範モデル404は目標角度105に応じた参照角度405を出力し、参照角度405と読取部108からの出力との差分がフィードバック制御器406に入力される。フィードフォワード制御器403からの出力と、フィードバック制御器406からの出力を足し合わせた電流407をモータ103に入力する。モータ103の回転角度に応じて、読取部108から計測値が出力される。フィードバック制御器406は、フィードバック制御器406、モータ103、読取部108からなるループにおいて、参照角度405と読取部108の出力値との差を最小化するようにパラメータ等が設計されている。
なお、図2に示す制御を実現する実装形態としては、DSP(デジタルシグナルプロセッサ)などを用いたデジタル制御系でもよいし、アナログ電気回路でもよい。また、目標角度105からモータ103を駆動する電流107を計算する演算部106は、ここで説明した2自由度制御系に限られたものではなく、どんな制御系を用いても良い。
モータ回転軸102の回転角度は、スケール104を読取部108で読み取ることによって計測される。従来は、モータ回転軸102の回転角度とミラー101の回転角度を同一視しているため、モータ回転軸102の回転角度を制御することによって、ミラー101の回転角度を間接的に制御していた。この場合、目標角度105は目標とするモータ回転軸102の回転角度とし、読取部108の出力結果109は実際のモータ回転軸102の回転角度としている。
しかし、モータ回転軸102の先端に取り付けられたミラー101はスケール104から離れており、完全な剛体ではないため、スケール104の回転角度とミラー101の回転角度がわずかに乖離してしまう。特に、ミラー101とスケール104が回転軸のそれぞれの両端に位置する場合は、回転角度の乖離が無視できない。ミラー101とモータ回転軸102についても同様である。そのため、読取部108の出力結果109がミラー101の回転角度を正確に表していないことがある。
そこで、本実施形態では、読取部108の出力値にフィルタを通すことによって、この乖離を低減した、よりミラー101の回転角度の真値に近い値、を出力する。具体的には、処理部120のフィルタ部110の出力値111がミラー101の回転角度の真値に近い値を表わすように、フィルタ部110のパラメータ等を設定、構成する。
フィルタ部110の詳細について、式1を用いて説明する。式1はフィルタ部110で用いる伝達関数の例を示す式である。
ここで、Sはラプラス演算子である。Nはモードの数、αnはモード減衰比の2倍、βnは共振周波数、knはモードのゲイン、k0は剛体モデルのゲインである。ここでモードとは、周波数応答特性の極大値を表す。式1において、分子はミラー101のモデルであり、分母はモータ103のモデルである。
ミラーのモデルは複数(N個)の共振周波数を持つモデルで、モータのモデルは単純な剛体モデルとしている。フィルタ部110は、具体的には、式1の伝達関数で示した式、モデルを差分方程式の形にして、クロック周期毎に読取部108の出力値を変換し、ミラー101の真の回転角度に近くなるように計算を行う。
なお、フィルタ部110は、デジタル信号処理を行ってもよく、アナログ回路を用いて、式1で示した連続系の計算式を実装してもよい。また、フィルタを論理的に構成できる計算モデルであれば、式1の伝達関数以外の伝達関数を用いてもよい。但し、どんな形式の伝達関数を用いたとしても、実際の物体(ミラーモータ回転軸複合体)の振動特性がパラメータとして必要となる。
次に、フィルタ部110で用いるパラメータを推定するフローについて図1を用いて説明する。処理部120は、各種演算処理装置により構成され、以下の各手段を有する。まず、モデル作成手段112が、ミラー101とモータ回転軸102の複合体をモデル化する。作成された構造解析用モデル113の具体的な例を図3に示す。図3は図1のガルバノ装置(101〜104)からモータのコイル部分を除いた内部構造を示すモデル図である。このモデルは、ミラー201、ミラー取り付け部202、モータ回転軸203、磁石204、スケール205より構成される。更に精密にモデル化する際は、ネジやナットも含めてモデル化し、部品数10点程度の剛体を組み合わせた複合体としてもよい。全ての部品の形状と密度が求まるので、図3に示すミラーモータ回転軸複合体モデル(構造解析用モデル)の回転軸206回りの慣性モーメントは比較的簡単に求めることができる。
一旦、構造解析用モデル113が出来れば、有限要素法などの手法を用いた構造解析手段114により周波数応答解析が可能となる。この結果、ミラーとモータ回転軸複合体の共振周波数115が得られる。具体的には、図3の回転軸206を基準に力を加え構造解析用モデルを回転させ、周波数応答特性をシミュレーションする。その結果の例を図4に示す。図4ではグラフ上、角速度のピーク(極大値)が6個あるので、構造解析用モデルの共振周波数は6個あることになる。式1のNが6となる。
ミラーモータ回転軸複合体の共振周波数をレーザドップラ振動計などの高価な装置を使って実測する方法もあるが、本実施形態では、モデル作成手段112、構造解析手段114を用いる。この方法は3つの利点がある。
1つ目は、かかるコストが低い事である。図3で示したように構造体を構成する部品点数は高々10点程度の数であり、その素材密度はカタログ等より簡単に入手できる。よって、短期間に非常に複雑なミラーモータ回転軸複合体であってもモデル化することが可能である。一旦モデル化すれば、物理シミュレーションはソフトウェア、情報処理装置で実行するだけであり、簡単かつ安価に共振周波数が求められる。
2つ目の利点は、小さなピークを持つ共振周波数でも求められることである。例えば、図4に示すグラフの一番左の周波数ピーク(2000Hz近辺)はピークの値が非常に低い為、共振周波数を実測する方法では求められないものであった。本実施形態では、小さなピークを持つ共振周波数でも求められるため、より精密なミラーの回転角度を出力するフィルタ部110を構成することが可能となる。
3つ目の利点は、共振周波数とその周波数に対応するモデル変形が可視化できることである。構造解析手段114を有限要素法などの手法を使って実施すると、構造解析用モデルがどのような変形をするかをその共振周波数とペアで求めることが可能となる。この結果を利用して、ガルバノ装置として無視できるような変形に対応する周波数は無視する、というようなことができ、より簡単にフィルタ部110を構成することが可能となる。
次に、図5と図6を用いてフィルタパラメータ推定手段116を詳しく説明する。式1で示したように、フィルタ部110で用いるパラメータは、具体的には式1の中にあるk0、k1、α1、β1、k2、α2、β2、…、kN、αN、βNの合計(1+3N)個のパラメータとなる。つまり、これらのパラメータを決定できればフィルタ部110を構成することが出来る。その処理のフローチャートを図5に示す。なお、図5では局所的な最適値を求める逐次探索方法を例として示しているが、もちろん大域的な最適値を求める方法でもよい。
まず、パラメータの初期値を設定するステップ801がある。このステップにおいて、βnの共振周波数は、予め実測や、構造解析手段114で求めておいて、それを用いる。なお、推定した最適パラメータがローカルミニマムに陥ることを防ぐために、ステップ801をランダムに複数回実行してもよい。
次にパラメータ更新ステップ802を実行する。この時、周波数以外のパラメータ(knとαn)を変更してもよく、共振周波数βnを変更してもよい。パラメータ更新のやり方は、いわゆる最急降下法を用いてもよいし、ランダムに動かして強化学習的なフィードバックをしてもよい。
一旦、パラメータを更新した後で、更新したパラメータで記述される計算式(式1)を使って、実測した読取部108の結果をミラーの回転角度の推定値に変換する。そして、実測したミラーの回転角度との乖離を評価するのがステップ803である。
図6を用いてステップ803の動作を説明する。実際のミラーの回転角度を測定するためには、例えばミラー101に光を当て、反射した光の位置をカメラで撮影してトラッキングする。こうすることで、ミラー101の微小な回転を増幅することができる。その様子が図6(a)に示したグラフとなる。横軸は時間で、縦軸はミラー101で反射された光の位置を意味する。実線901が実際にミラー101で反射された光の位置であり、A地点からB地点へ時間と共に移動していることがわかる。これに対して点線902で示す曲線は、ステップ802で更新されたパラメータを有するフィルタ部109からの出力値を用いて光の反射位置を計算した軌跡である。曲線901と曲線902の差分(距離)がステップ802で求める乖離値となる。
反射された光の時間変化をトラッキングする方法が簡単に出来ない場合は、例えば、後で説明するレーザ加工装置にガルバノ装置を搭載し、実際に基板等の物体を加工することで乖離値を求める方法がある。例えば、一定速度で動くステージ上に基板等を置きレーザ加工をすることで、図6(b)の実線903に示すような加工軌跡が物体上に形成される。つまり、時間軸を一定速度で移動するステージを用いることで方向軸に変換することができる。図6(b)の横軸は、ステージの位置を示す。点線904は、更新されたパラメータを有するフィルタ部109から出力された値を用いて計算した加工軌跡(シミュレーション値)である。このケースでは、実線903と点線904の乖離値がステップ803の乖離値となる。
最後に、ステップ804において、ステップ803で得られた乖離値が閾値以下かどうかを判断し、閾値以下なら終了し、閾値より大きい場合はステップ802のパラメータ更新に戻る。そして、乖離値が閾値以下になるまで、ステップ802、ステップ803、ステップ804を繰り返す。
そして、フィルタパラメータ推定手段116で求められたフィルタパラメータ117を、フィルタ部110に設定する。フィルタ部110は、設定されたパラメータ117を用いて、読取部108から出力されたデータを変換(補正)して、処理部120の外部へ出力する。このように出力された値は、ミラー101の真の回転角度により近い値となる。出力先は、他の制御装置でもよく、モニター等の表示部でもよい。
以上のように、本実施形態によれば、フィルタ部110は、読取部108の出力を変換し、ミラーの真の回転角度に近いミラーの回転角度を出力することができる。これにより、ミラーの回転角度を精密に計測することができる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態のガルバノ装置を説明する。本実施形態のガルバノ装置は、第1実施形態のガルバノ装置とは、演算部106の構成が異なる。図7に基づいて第2実施形態の演算部106について説明する。図7は演算部106の制御方法を示すブロック図である。本実施形態の演算部106は、フィードフォワード制御器503、規範モデル504、フィードバック制御器506から構成される枠501で囲った部分である。
次に、第2実施形態のガルバノ装置を説明する。本実施形態のガルバノ装置は、第1実施形態のガルバノ装置とは、演算部106の構成が異なる。図7に基づいて第2実施形態の演算部106について説明する。図7は演算部106の制御方法を示すブロック図である。本実施形態の演算部106は、フィードフォワード制御器503、規範モデル504、フィードバック制御器506から構成される枠501で囲った部分である。
目標角度105は、フィードフォワード制御器503と、規範モデル504にそれぞれ入力される。フィードフォワード制御器503は、目標角度105に応じた電流値を出力する。規範モデル504は目標角度105に応じた参照角度505を出力し、参照角度505と読取部108からの出力との差分がフィードバック制御器506に入力される。フィードフォワード制御器503からの出力と、フィードバック制御器506からの出力を足し合わせた電流507をモータ103に入力する。モータ103の回転角度に応じて、読取部108から計測値が出力される。フィードバック制御器506はフィードバック制御器506、モータ103、読取部108、フィルタ部110からなるループにおいて、参照角度505とフィルタ部110の出力値との差を最小化するように設計されている。
規範モデル504は図2で説明した規範モデル404と同じ物である。一方、フィードフォワード制御器503とフィードフォワード制御器403が異なり、フィードバック制御器506とフィードフォワード制御器406が異なる。具体的には、図2のフィードフォワード制御器403は、電流407からモータ回転軸102の角度が決定される物理モデルの逆計算を実行する。一方、図7のフィードフォワード制御器503は、電流507からミラー101の回転角度が決定される物理モデルの逆計算をする実施する。
また、フィードバック制御器506とそれに入力する値も、フィードバック制御器406とそれに入力する値と異なる。参照角度405と参照角度505は同じであるが、差分をとる値について、第1実施形態では読取部108から直接出力された値であるが、本実施形態では読取部108からの出力をフィルタ部110で変換して出力される値となる。
以上、本実施形態によれば、読取部から直接出力された値を演算部106に入力するのではなく、フィルタ部110の出力を演算部106に入力する。フィルタ部110からの出力値は、ミラー101の真の回転角度に近い値を示すため、ミラー101の回転角度をより高い精度で制御することができる。
<第3実施形態>
次に、第1実施形態又は2実施形態のガルバノ装置を用いたレーザ加工装置を説明する。レーザ加工装置としては、レーザ穴あけ装置、レーザトリマ装置、レーザリペア装置などがある。図8に、本実施形態のレーザ加工装置を示す。本実施形態のレーザ加工装置では、レーザ光源301から照射されたレーザ光が2つのガルバノ装置のミラーで反射されて、加工対象の物体304に到達する。
次に、第1実施形態又は2実施形態のガルバノ装置を用いたレーザ加工装置を説明する。レーザ加工装置としては、レーザ穴あけ装置、レーザトリマ装置、レーザリペア装置などがある。図8に、本実施形態のレーザ加工装置を示す。本実施形態のレーザ加工装置では、レーザ光源301から照射されたレーザ光が2つのガルバノ装置のミラーで反射されて、加工対象の物体304に到達する。
レーザ光源301としてよく使われるものには、CO2レーザとUV−YAGレーザがある。CO2レーザはUV−YAGレーザと比較してレーザ出力が大きい為、レーザ照射時間を短縮することがで、高スループットでの加工に適している。一方、UV−YAGレーザの波長は355mmであり、CO2レーザの10.6μmと比較して短波長のため、レーザビームのスポット径を絞りやすい。なお、光源としては、これらのレーザ光源に限定されない。また、近年レーザ穴あけ速度向上のため、1つのレーザ光源を複数のレーザビームに分岐させて複数ユニットのガルバノスキャナにて光走査を行うマルチビーム方式もある。
図8に示すレーザ加工装置はいわゆる2軸のレーザ加工装置と呼ばれ、物体304の表面2次元上の所望の位置にレーザを照射させることができる。図8に示したように物体304の面内に互いに直交するX軸、Y軸があるとすると、Y軸用のガルバノ装置302と、X軸用のガルバノ装置303がある。X軸用ガルバノ装置303の回転軸306とY軸用ガルバノ装置302の回転軸305は互いに直交し、それぞれの回転軸まわりにミラーを回転させることによって、X軸、Y軸をそれぞれ独立に動かすことができる。図8では最初にY軸用ガルバノ装置302のミラーにレーザ光が入射して反射され、次にX軸用ガルバノ装置303のミラーに入射して反射されているが、反射する順序は入れ替えてもよい。
図8において、最初にレーザ光を反射する場所はY軸用ガルバノ装置302のミラーのほぼ中心位置311としている。一方、X軸用ガルバノ装置303のレーザ光反射位置は、回転軸306方向に伸びた領域312となる。これはY軸用ガルバノ装置が回転することでレーザ光の経路が変わり、かつ、それぞれの回転軸305と306が直交するためである。
Y軸、X軸それぞれY読取部307、Yフィルタ部308、X読取部309、Xフィルタ部310がある。Yフィルタ部308とXフィルタ部310をそれぞれ独立にパラメータを最適化(チューニング)を実施してもよいし、それぞれのパラメータを統合した全パラメータ集合を最適化するチューニングを実施してもよい。例えば、Yフィルタ部308のパラメータ数がM個あり、Xフィルタ部310のパラメータ数がN個あるとすると、統合したパラメータチューニングでは(M+N)個のパラメータを最適化することになる。この場合、最適化に要する時間は長くなるが、より精度の高いフィルタ部が実現できる。独立に最適化しても、統合して最適化しても、レーザ光の反射位置が中心位置311と領域312とで異なるため、チューニング結果はそれぞれ異なるケースがある。つまり、Yフィルタ部308とXフィルタ部310は異なる演算をするフィルタとなるケースがあり、それが最適な場合がある。
なお、本実施形態において、図6に対応するグラフの軌跡としては、本実施形態のレーザ加工装置を用いて加工した円や多角形などの物体の加工軌跡と、読取部からフィルタ部を介して計算された加工軌跡を用いることができる。つまり、最終的には物体304上の加工軌跡(曲線)が精密に推定できれば良いので、時間軸を無視して、フィルタ部のパラメータ最適問題を解くことができるようになる。
(物品製造方法)
次に、前述のレーザ加工装置を利用した物品(各種部品、材料、基板、半導体素子等)の製造方法を説明する。物品は、前述のレーザ加工装置を使用して、ガルバノ装置のミラーによって光路が制御されたレーザを加工対象物体に照射し、加工対象物体に、穴あけ、トリマ、リペア、マーキング等が行われることにより、製造される。本製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。
次に、前述のレーザ加工装置を利用した物品(各種部品、材料、基板、半導体素子等)の製造方法を説明する。物品は、前述のレーザ加工装置を使用して、ガルバノ装置のミラーによって光路が制御されたレーザを加工対象物体に照射し、加工対象物体に、穴あけ、トリマ、リペア、マーキング等が行われることにより、製造される。本製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。
Claims (6)
- モータを回転させることによってモータ軸に備え付けたミラーを回転させ、光を前記ミラーに反射させることで光の方向を変化させるガルバノ装置において、
モータ回転軸の回転角度を読み取る読取部と、
前記読取部から出力された値から前記ミラーの回転角度を推定するフィルタを有するフィルタ部と、を備え、
前記ミラーの回転角度を前記フィルタ部から出力することを特徴とするガルバノ装置。 - 前記フィルタ部で用いるパラメータを、前記モータと前記ミラーの複合体に関する構造解析によって得られる共振周波数に基づいて計算をすることで求めることを特徴とする請求項1に記載のガルバノ装置。
- 物体をレーザで加工するレーザ加工装置において、
レーザ光源と、
前記レーザ光源からの光の方向を制御する、請求項1又は2に記載のガルバノ装置と、
を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記ガルバノ装置は、回転軸が互いに直交する2つのガルバノ装置を有することを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工装置。
- 前記2つのガルバノ装置の前記フィルタ部のパラメータをそれぞれ独立に最適化することを特徴とする請求項3又は4に記載のレーザ加工装置。
- 前記2つのガルバノ装置の前記フィルタ部のパラメータを合わせたパラメータ集合を最適化することを特徴とする請求項3又は4に記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (3)
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