JP2020175346A - Residual chlorine removal method, control device of residual chlorine removal system, and residual chlorine removal system - Google Patents

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Abstract

To provide a residual chlorine removal method, a control device of a residual chlorine removal system and a residual chlorine removal system capable of appropriately controlling a supply amount of a reducing agent by ORP measurement in consideration of an effect of changes in pH in removing residual chlorine for supplying a reducing agent to treated water containing residual chlorine.SOLUTION: A residual chlorine removal method, a control device of residual chlorine system, and a residual chlorine removal system include an arithmetic control of supplying a reducing agent to a water to be treated which contains residual chlorine, correction of the ORP of the water to be treated based on the measured ORP value and pH of the water to be treated, and a control of an amount of supply of the reducing agent by the corrected ORP value. According to the present invention, it is possible to obtain a corrected value of ORP in consideration of an effect of pH. It is possible to appropriately control an amount of supply of the reducing agent based on the ORP value. In addition, in residual chlorine removal, it is possible to control excessive supply of the reducing agent to residual chlorine.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムに関するものである。また、本発明は、特に還元剤による還元処理を行う残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムに関するものである。 The present invention relates to a residual chlorine removing method, a control device for a residual chlorine removing system, and a residual chlorine removing system. The present invention also relates to a residual chlorine removing method for performing a reduction treatment with a reducing agent, a control device for a residual chlorine removing system, and a residual chlorine removing system.

水処理設備における細菌の繁殖抑制剤や滅菌剤、あるいは臭気処理における酸化剤として、塩素剤が用いられている。このとき、被処理水中における塩素剤の不足を避けるために、塩素剤を過剰に供給する必要があるが、被処理水中に残存した塩素(以下、「残留塩素」という。)は、環境への悪影響や人体・生物への害を与えるおそれがあるため、残留塩素を過剰に含む状態の被処理水を公共水域に放出することはできない。したがって、被処理水中の残留塩素を除去する必要がある。 Chlorine agents are used as bacterial growth inhibitors and sterilizers in water treatment facilities, or as oxidizing agents in odor treatment. At this time, in order to avoid a shortage of chlorine agent in the water to be treated, it is necessary to supply an excessive amount of chlorine agent, but the chlorine remaining in the water to be treated (hereinafter referred to as "residual chlorine") is sent to the environment. Since there is a risk of adverse effects and harm to humans and organisms, it is not possible to release treated water containing excess residual chlorine into public water areas. Therefore, it is necessary to remove residual chlorine in the water to be treated.

被処理水中の残留塩素を除去する方法としては、活性炭などの吸着剤によるものが知られているが、吸着剤の性能劣化に係る判断が困難であることやコスト高になるという問題がある。
また、残留塩素を除去する他の方法としては、残留塩素に還元剤を供給して化学的に除去することが知られている。
As a method for removing residual chlorine in the water to be treated, an adsorbent such as activated carbon is known, but there are problems that it is difficult to judge the performance deterioration of the adsorbent and the cost is high.
Further, as another method for removing residual chlorine, it is known that a reducing agent is supplied to the residual chlorine to chemically remove it.

例えば、特許文献1には、塩素を含有する水に還元剤を供給する塩素除去方法において、残留塩素濃度の管理方法が記載されている。また、特許文献1には、還元剤の供給された塩素を含む水の酸化還元電位(以下、「ORP」という。)を測定し、測定されたORPの測定値やその変化から還元剤の供給状況を判定するということが記載されている。 For example, Patent Document 1 describes a method for controlling the residual chlorine concentration in a chlorine removing method for supplying a reducing agent to water containing chlorine. Further, in Patent Document 1, the redox potential (hereinafter referred to as "ORP") of water containing chlorine to which a reducing agent is supplied is measured, and the reducing agent is supplied based on the measured value of the measured ORP and its change. It is stated that the situation is to be determined.

特開2004−33800号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-33800

残留塩素に還元剤を供給して残留塩素を除去する場合、残留塩素に対して過剰に還元剤を供給すると、今度は還元剤が残留してしまう。この場合、還元剤の成分が原因で公共水域に放出できなくなるという問題があるため、残留塩素に対する還元剤の供給量を適切に制御する必要がある。 When the reducing agent is supplied to the residual chlorine to remove the residual chlorine, if the reducing agent is excessively supplied to the residual chlorine, the reducing agent will remain. In this case, there is a problem that the reducing agent component cannot be released into public water areas, so it is necessary to appropriately control the supply amount of the reducing agent with respect to the residual chlorine.

特許文献1では、残留塩素に還元剤を供給して残留塩素を除去する際に、ORPを測定することで、還元剤の供給状況が適切に行われているか否かを判断することができると記載されている。 According to Patent Document 1, it is possible to determine whether or not the supply status of the reducing agent is properly performed by measuring the ORP when the reducing agent is supplied to the residual chlorine to remove the residual chlorine. Are listed.

一方、本発明者らは、残留塩素を含む被処理水に還元剤を供給した際、還元剤の影響で被処理水のpHが変化することがあり、このときORP値の変化と還元剤の供給状況とが連動せず、還元剤の供給量を正しく制御することができないという知見を得た。 On the other hand, when the reducing agent is supplied to the water to be treated containing residual chlorine, the present inventors may change the pH of the water to be treated due to the influence of the reducing agent. At this time, the change in the ORP value and the reducing agent We obtained the finding that the supply amount of the reducing agent cannot be controlled correctly because it is not linked to the supply status.

ORP値は、pHによる影響を受けるものであるが、特許文献1には、ORPの測定に対するpHの影響について何ら記載されておらず、pHの変動がORP値に与える影響が考慮されていない。このため、特許文献1に記載された方法では、残留塩素に対する還元剤の供給量を適切に制御することは困難である。 Although the ORP value is affected by pH, Patent Document 1 does not describe the effect of pH on the measurement of ORP, and does not consider the effect of pH fluctuation on the ORP value. Therefore, it is difficult to appropriately control the supply amount of the reducing agent with respect to the residual chlorine by the method described in Patent Document 1.

特に、還元剤として亜硫酸イオンや亜硫酸水素イオンを含むものを用いた場合、pHによって被処理水中での解離状態が異なる。したがって、ORPの測定により残留塩素に対する還元剤の供給量を制御するためには、pH変動による還元剤の解離状態についても考慮する必要がある。 In particular, when a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion is used, the dissociation state in the water to be treated differs depending on the pH. Therefore, in order to control the supply amount of the reducing agent with respect to the residual chlorine by measuring the ORP, it is necessary to consider the dissociation state of the reducing agent due to pH fluctuation.

本発明の課題は、残留塩素を含む被処理水に還元剤を供給する残留塩素除去において、pHの変化による影響を考慮し、ORP測定により還元剤の供給量を適切に制御することができる残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムを提供することである。 An object of the present invention is that in removing residual chlorine for supplying a reducing agent to water to be treated containing residual chlorine, the amount of the reducing agent supplied can be appropriately controlled by ORP measurement in consideration of the influence of a change in pH. To provide a chlorine removal method, a control device for a residual chlorine removal system, and a residual chlorine removal system.

本発明者は、上記の課題について鋭意検討した結果、残留塩素を含む被処理水に還元剤を供給する残留塩素除去において、ORPとpHの測定を行い、pHの測定値をパラメータの1つとして、ORP値を補正することで、pHの変動によるORP値への影響を排除し、ORP測定により還元剤の供給量を適切に制御できることを見出して、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムである。
As a result of diligent studies on the above problems, the present inventor measured ORP and pH in removing residual chlorine by supplying a reducing agent to the water to be treated containing residual chlorine, and set the measured value of pH as one of the parameters. , The present invention has been completed by finding that the influence of pH fluctuation on the ORP value can be eliminated by correcting the ORP value and the supply amount of the reducing agent can be appropriately controlled by the ORP measurement.
That is, the present invention is the following residual chlorine removing method, a control device for a residual chlorine removing system, and a residual chlorine removing system.

上記課題を解決するための本発明の残留塩素除去方法は、残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去方法であって、残留塩素を含む被処理水に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元処理ステップと、還元処理ステップ後の被処理水の酸化還元電位(ORP)及びpHを測定する測定ステップと、測定ステップで測定したpHの値を用いて測定したORP値を補正し、補正したORP値に基づいて還元処理における還元剤の供給量を調整する演算制御ステップとを備えるという特徴を有する。
本発明の残留塩素除去方法は、測定ステップでORPとpHを測定し、この測定結果に基づき、演算制御ステップでORP値の補正を行うことで、pHの影響を考慮したORPの補正値を得ることができる。また、さらに演算制御ステップにより、還元剤の供給量を制御するタイミングを適切に把握することが可能となるとともに、還元剤の供給量を適切に制御することが可能となる。これにより、残留塩素除去において、残留塩素に対して還元剤を過剰に供給することを抑制することが可能となる。
The method for removing residual chlorine of the present invention for solving the above problems is a method for removing residual chlorine that reduces the water to be treated containing residual chlorine, and adds sulfite ion or hydrogen sulfite ion to the water to be treated containing residual chlorine. An ORP value measured using the reduction treatment step of supplying the containing reducing agent, the measurement step of measuring the oxidation-reduction potential (ORP) and pH of the water to be treated after the reduction treatment step, and the pH value measured in the measurement step. Is provided, and a calculation control step for adjusting the supply amount of the reducing agent in the reduction treatment based on the corrected ORP value is provided.
In the method for removing residual chlorine of the present invention, the ORP and pH are measured in the measurement step, and the ORP value is corrected in the arithmetic control step based on the measurement result to obtain the correction value of the ORP in consideration of the influence of pH. be able to. Further, the calculation control step makes it possible to appropriately grasp the timing of controlling the supply amount of the reducing agent, and it is possible to appropriately control the supply amount of the reducing agent. This makes it possible to suppress the excessive supply of the reducing agent to the residual chlorine in the removal of the residual chlorine.

また、本発明の残留塩素除去方法の一実施態様としては、演算制御ステップにおけるORP値の補正は、還元処理ステップ時のpHの変化に伴い、還元剤の価数が変化するものについて、還元剤の酸解離定数を用い、ネルンストの式における係数を変化させた補正式に基づいて行うという特徴を有する。
この特徴によれば、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤のように、pHによって還元剤の解離状態の形態に係る価数が異なるものについても、ORP値の補正を行うことができる。これにより、ORP値の補正の精度を向上させることが可能となる。
Further, as one embodiment of the method for removing residual chlorine of the present invention, the correction of the ORP value in the calculation control step is performed with respect to a reducing agent in which the valence of the reducing agent changes with a change in pH during the reduction treatment step. It has a feature that it is performed based on a correction formula in which the coefficient in the Nernst equation is changed by using the acid dissociation constant of.
According to this feature, the ORP value can be corrected even for a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion whose valence according to the dissociated state of the reducing agent differs depending on the pH. This makes it possible to improve the accuracy of the correction of the ORP value.

また、本発明の残留塩素除去方法の一実施態様としては、演算制御ステップにおけるORP値の補正は、下記式で表される補正式に基づいて行うという特徴を有する。
=E−2.3026(RT/zF)(pH−pH
ここで、z=(2×10(pHA−7.2)+1)/(10(pHA−7.2)+1) ……(式)
また、Eは補正したORP値(補正ORP値)、Eは測定したORP値(ORP実測値)、pHは還元剤を添加する前のpH値、pHは実測されるpH値を示している。さらに、Rはモル気体定数(=8.314J/K・mol)、Fはファラデー定数(=96485C/mol)、zは平均イオン価数、Tは絶対温度(単位:K)を示している。
この特徴によれば、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤のように、pHによって還元剤の解離状態の形態に係る価数が異なるものについても、補正式を変更することなく、連続した演算を行うことが可能となる。これにより、ORP値の補正を行う演算処理を簡略化することができるとともに、演算処理に係る処理速度を高めることが可能となる。
Further, as one embodiment of the residual chlorine removing method of the present invention, the ORP value in the calculation control step is corrected based on the correction formula represented by the following formula.
E C = E M -2.3026 (RT / z A F) (pH 0 -pH A)
Here, z A = (2 × 10 (pHA-7.2) +1) / (10 (pHA-7.2) +1) …… (formula)
Also, E C is corrected ORP value (correction ORP value), E M is the measured ORP value (ORP measured value), pH value before pH 0 is adding a reducing agent, a pH value pH A is to be measured Shown. Further, R is the molar gas constant (= 8.314 J / K · mol), F is the Faraday constant (= 96485 C / mol), z A is the average ionic valence, and T is the absolute temperature (unit: K). ..
According to this feature, even for a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion, which has a different valence depending on the pH of the reducing agent in the dissociated state, continuous calculation is performed without changing the correction formula. Can be done. As a result, the arithmetic processing for correcting the ORP value can be simplified, and the processing speed related to the arithmetic processing can be increased.

また、本発明の残留塩素除去方法の一実施態様としては、測定ステップにおいて、還元処理ステップ後の被処理水の温度を測定することをさらに加え、演算制御ステップにおけるORP値の補正に、測定ステップで測定した温度の値も用いるという特徴を有する。
この特徴によれば、被処理水の温度もパラメータとしてORP値の補正を行うことができる。これにより、ORP値の補正の精度を上げることが可能となる。
Further, as one embodiment of the method for removing residual chlorine of the present invention, in the measurement step, the temperature of the water to be treated after the reduction treatment step is further added, and in the correction of the ORP value in the calculation control step, the measurement step It has a feature that the value of the temperature measured in is also used.
According to this feature, the ORP value can be corrected by using the temperature of the water to be treated as a parameter. This makes it possible to improve the accuracy of the correction of the ORP value.

また、上記課題を解決するための本発明の残留塩素除去システムの制御装置としては、残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去システムに設けられる残留塩素除去システムの制御装置であって、残留塩素除去システムは、残留塩素を含む被処理水を導入する反応槽と、反応槽に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元剤供給部とを備え、制御装置は、反応槽内の被処理水の酸化還元電位(ORP)及びpHを測定する測定部と、測定部で測定したpHの値を用い、測定したORP値を補正し、補正したORP値に基づいて前記還元剤添加部による還元剤の供給量を調整する演算制御部とを備えるという特徴を有する。
本発明の残留塩素除去システムの制御装置は、残留塩素除去システムにおける反応槽のORPとpHを測定し、この測定結果に基づき、ORP値の補正を行うことで、pHの影響を考慮したORPの補正値を得ることができる。また、さらに演算制御部により、還元剤の供給量を制御するタイミングを適切に把握することが可能となるとともに、還元剤の供給量を適切に制御することが可能となる。これにより、残留塩素除去において、残留塩素に対して還元剤を過剰に供給することを抑制することが可能となる。
Further, the control device for the residual chlorine removal system of the present invention for solving the above problems is a control device for the residual chlorine removal system provided in the residual chlorine removal system that reduces the water to be treated containing the residual chlorine. The residual chlorine removal system includes a reaction tank for introducing water to be treated containing residual chlorine, and a reducing agent supply unit for supplying a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion to the reaction tank. Using the measuring unit that measures the oxidation-reduction potential (ORP) and pH of the water to be treated in the tank and the pH value measured by the measuring unit, the measured ORP value is corrected, and the reduction is performed based on the corrected ORP value. It is characterized by including an arithmetic control unit that adjusts the supply amount of the reducing agent by the agent addition unit.
The control device of the residual chlorine removal system of the present invention measures the ORP and pH of the reaction tank in the residual chlorine removal system, and corrects the ORP value based on the measurement result to take the influence of pH into consideration. A correction value can be obtained. Further, the arithmetic control unit can appropriately grasp the timing of controlling the supply amount of the reducing agent, and can appropriately control the supply amount of the reducing agent. This makes it possible to suppress the excessive supply of the reducing agent to the residual chlorine in the removal of the residual chlorine.

また、本発明の残留塩素除去システムの制御装置の一実施態様としては、演算制御部におけるORP値の補正は、還元剤を添加した時のpHの変化に伴い、還元剤の価数が変化するものについて、還元剤の酸解離定数を用い、ネルンストの式における係数を変化させた補正式に基づいて行うという特徴を有する。
この特徴によれば、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤のように、pHによって還元剤の解離状態の形態に係る価数が異なるものについても、ORP値の補正を行うことができる。これにより、ORP値の補正の精度を向上させることが可能となる。
Further, in one embodiment of the control device of the residual chlorine removal system of the present invention, in the correction of the ORP value in the arithmetic control unit, the valence of the reducing agent changes with the change in pH when the reducing agent is added. It has a feature that it is carried out based on a correction formula in which the coefficient in the Nernst equation is changed by using the acid dissociation constant of the reducing agent.
According to this feature, the ORP value can be corrected even for a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion whose valence according to the dissociated state of the reducing agent differs depending on the pH. This makes it possible to improve the accuracy of the correction of the ORP value.

また、本発明の残留塩素除去システムの制御装置の一実施態様としては、演算制御部におけるORP値の補正は、下記式で表される補正式に基づいて行うという特徴を有する。
=E−2.3026(RT/zF)(pH−pH
ここで、z=(2×10(pHA−7.2)+1)/(10(pHA−7.2)+1) ……(式)
また、Eは補正したORP値(補正ORP値)、Eは測定したORP値(ORP実測値)、pHは還元剤を添加する前のpH値、pHは実測されるpH値を示している。さらに、Rはモル気体定数(=8.314J/K・mol)、Fはファラデー定数(=96485C/mol)、zは平均イオン価数、Tは絶対温度(単位:K)を示している。
この特徴によれば、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤のように、pHによって還元剤の解離状態の形態に係る価数が異なるものについても、補正式を変更することなく、連続した演算を行うことが可能となる。これにより、ORP値の補正を行う演算処理を簡略化することができるとともに、演算処理に係る処理速度を高めることが可能となる。
Further, one embodiment of the control device of the residual chlorine removal system of the present invention is characterized in that the correction of the ORP value in the arithmetic control unit is performed based on the correction formula represented by the following formula.
E C = E M -2.3026 (RT / z A F) (pH 0 -pH A)
Here, z A = (2 × 10 (pHA-7.2) +1) / (10 (pHA-7.2) +1) …… (formula)
Also, E C is corrected ORP value (correction ORP value), E M is the measured ORP value (ORP measured value), pH value before pH 0 is adding a reducing agent, a pH value pH A is to be measured Shown. Further, R is the molar gas constant (= 8.314 J / K · mol), F is the Faraday constant (= 96485 C / mol), z A is the average ionic valence, and T is the absolute temperature (unit: K). ..
According to this feature, even for a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion, which has a different valence depending on the pH of the reducing agent in the dissociated state, continuous calculation is performed without changing the correction formula. Can be done. As a result, the arithmetic processing for correcting the ORP value can be simplified, and the processing speed related to the arithmetic processing can be increased.

また、本発明の残留塩素除去システムの制御装置の一実施態様としては、測定部において、反応槽内の被処理水の温度を測定することをさらに加え、演算制御部におけるORP値の補正に、測定部で測定した温度の値も用いるという特徴を有する。
この特徴によれば、被処理水の温度もパラメータとしてORP値の補正を行うことができる。これにより、ORP値の補正の精度を上げることが可能となる。
Further, as one embodiment of the control device of the residual chlorine removal system of the present invention, the measurement unit further measures the temperature of the water to be treated in the reaction vessel, and the calculation control unit corrects the ORP value. It has the feature that the value of the temperature measured by the measuring unit is also used.
According to this feature, the ORP value can be corrected by using the temperature of the water to be treated as a parameter. This makes it possible to improve the accuracy of the correction of the ORP value.

また、上記課題を解決するための本発明の残留塩素除去システムとしては、残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去システムであって、残留塩素を含む被処理水を導入する反応槽と、反応槽に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元剤供給部と、上述したいずれか1つの制御装置とを備えるという特徴を有する。
本発明の残留塩素除去システムは、反応槽のORPとpHを測定し、この測定結果に基づき、制御装置によりORP値の補正を行うことで、pHの影響を考慮したORPの補正値を得ることができる。また、さらに制御装置の演算制御部により、還元剤の供給量を制御するタイミングを適切に把握することが可能となるとともに、還元剤の供給量を適切に制御することが可能となる。これにより、残留塩素除去において、残留塩素に対して還元剤を過剰に供給することを抑制することが可能となる。
The residual chlorine removal system of the present invention for solving the above problems is a residual chlorine removal system that reduces the water to be treated containing residual chlorine, and is a reaction tank into which the water to be treated containing residual chlorine is introduced. It is characterized by including a reducing agent supply unit that supplies a reducing agent containing a sulfite ion or a hydrogen sulfite ion to the reaction vessel, and any one of the above-mentioned control devices.
The residual chlorine removal system of the present invention measures the ORP and pH of the reaction vessel, and based on the measurement result, corrects the ORP value by the control device to obtain the correction value of ORP considering the influence of pH. Can be done. Further, the arithmetic control unit of the control device makes it possible to appropriately grasp the timing of controlling the supply amount of the reducing agent, and it is possible to appropriately control the supply amount of the reducing agent. This makes it possible to suppress the excessive supply of the reducing agent to the residual chlorine in the removal of the residual chlorine.

本発明によれば、残留塩素を含む被処理水に還元剤を供給する残留塩素除去において、pHの変化による影響を考慮し、ORP測定により還元剤の供給量を適切に制御することができる残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムを提供することができる。 According to the present invention, in removing residual chlorine for supplying a reducing agent to water to be treated containing residual chlorine, the amount of the reducing agent supplied can be appropriately controlled by ORP measurement in consideration of the influence of a change in pH. A chlorine removal method, a control device for a residual chlorine removal system, and a residual chlorine removal system can be provided.

本発明の第1の実施態様における残留塩素除去システムの概略説明図である。It is the schematic explanatory drawing of the residual chlorine removal system in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施態様におけるpH、補正前のORP実測値及び補正後の補正ORP値の経時変化を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the time-dependent change of pH A , the measured value of ORP before correction, and the corrected ORP value after correction in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施態様における残留塩素除去方法に係る補正ORP値の経時変化を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the time-dependent change of the corrected ORP value which concerns on the residual chlorine removal method in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施態様における残留塩素除去システムの概略説明図である。It is the schematic explanatory drawing of the residual chlorine removal system in the 2nd Embodiment of this invention.

本発明の残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムは、残留塩素を含む被処理水の還元処理において好適に利用されるものである。 The residual chlorine removing method, the control device of the residual chlorine removing system, and the residual chlorine removing system of the present invention are suitably used in the reduction treatment of water to be treated containing residual chlorine.

本発明の処理対象である被処理水とは、残留塩素を含むものであればよく、特に限定されない。被処理水は、各種工場や処理場等から排出される排水・廃水であってもよく、プラント等で用いられる循環水のようなものであってもよい。また、工業用水に限らず、河川水、上水、プールや公衆浴場などの槽内に貯留される水など、塩素剤による殺菌・滅菌が行われる水が挙げられる。ここで、残留塩素とは、水中に含まれる物質に対する殺菌、滅菌や酸化反応に有効に作用する塩素化合物を指すものである。また、本発明の効果をより発揮するという観点から、本発明の処理対象である被処理水は、残留塩素として主に遊離塩素を含むことが好ましい。ここで、遊離塩素とは、塩素ガス、次亜塩素酸及び次亜塩素イオンとして水中に存在する残留塩素を指すものである。このような被処理水としては、塩素剤として次亜塩素酸ナトリウムを用いた被処理水が挙げられる。なお、本発明の処理対象である被処理水は、これに限定されるものではなく、還元剤で還元処理可能な塩素分を含む被処理水であれば、本発明の処理対象となる。 The water to be treated, which is the object of the present invention, may be any water containing residual chlorine and is not particularly limited. The water to be treated may be wastewater / wastewater discharged from various factories, treatment plants, etc., or may be such as circulating water used in plants, etc. In addition to industrial water, water that is sterilized and sterilized with a chlorine agent, such as river water, clean water, and water stored in tanks such as pools and public baths, can be mentioned. Here, the residual chlorine refers to a chlorine compound that effectively acts on sterilization, sterilization, and oxidation reaction of substances contained in water. Further, from the viewpoint of further exerting the effect of the present invention, it is preferable that the water to be treated, which is the subject of the present invention, mainly contains free chlorine as residual chlorine. Here, free chlorine refers to residual chlorine existing in water as chlorine gas, hypochlorous acid and hypochlorite ions. Examples of such water to be treated include water to be treated using sodium hypochlorite as a chlorinating agent. The water to be treated of the present invention is not limited to this, and any water to be treated containing chlorine that can be reduced with a reducing agent is the subject of the present invention.

以下、図面を参照しつつ本発明に係る残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムの実施態様を詳細に説明する。なお、以下の実施態様に記載する内容については、本発明に係る残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システムを説明するために例示したにすぎず、これに限定されるものではない。 Hereinafter, the method for removing residual chlorine, the control device for the residual chlorine removal system, and the embodiment of the residual chlorine removal system according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The contents described in the following embodiments are merely exemplified for explaining the residual chlorine removing method, the control device of the residual chlorine removing system, and the residual chlorine removing system according to the present invention, and are limited thereto. It's not a thing.

[第1の実施態様]
(残留塩素除去システム)
図1は、本発明の第1の実施態様の残留塩素除去システムの概略説明図である。
本発明に係る残留塩素除去システム1aは、図1に示すように、残留塩素を含む被処理水Wを導入する反応槽2と、還元剤Rを供給する還元剤供給部3と、ORP測定部4と、pH測定部5と、演算制御部6を備えている。さらに、反応槽2に対して被処理水Wを導入するための導入配管であるラインL1と、反応槽2から排出された処理水W1を系外に排出するための排出配管であるラインL2を有している。なお、図1中の一点鎖線の矢印は入力又は制御可能に接続されていることを示すものである。
[First Embodiment]
(Residual chlorine removal system)
FIG. 1 is a schematic explanatory view of a residual chlorine removal system according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the residual chlorine removal system 1a according to the present invention includes a reaction tank 2 for introducing water W to be treated containing residual chlorine, a reducing agent supply unit 3 for supplying a reducing agent R, and an ORP measuring unit. 4, a pH measuring unit 5, and an arithmetic control unit 6 are provided. Further, a line L1 which is an introduction pipe for introducing the water to be treated W into the reaction tank 2 and a line L2 which is a discharge pipe for discharging the treated water W1 discharged from the reaction tank 2 to the outside of the system are provided. Have. The arrow of the alternate long and short dash line in FIG. 1 indicates that they are connected in an input or controllable manner.

反応槽2は、残留塩素を含む被処理水Wと還元剤Rを反応させ、残留塩素を還元処理するためのものである。
図1に示すように、反応槽2に設けられたラインL1を介して被処理水Wが反応槽2に供給される。また、反応槽2には、後述する還元剤供給部3から還元剤Rが供給され、被処理水W中の残留塩素が還元処理される。還元処理後の処理水W1は、反応槽2に設けられたラインL2を介し反応槽2から排出される。なお、反応槽2は、内部に撹拌機21を設けるものとしてもよい。これにより、被処理水Wと還元剤Rの反応を促進することが可能となる。
The reaction tank 2 is for reacting the water to be treated W containing residual chlorine with the reducing agent R to reduce the residual chlorine.
As shown in FIG. 1, the water W to be treated is supplied to the reaction tank 2 via the line L1 provided in the reaction tank 2. Further, the reducing agent R is supplied to the reaction tank 2 from the reducing agent supply unit 3 described later, and the residual chlorine in the water to be treated W is reduced. The treated water W1 after the reduction treatment is discharged from the reaction tank 2 via the line L2 provided in the reaction tank 2. The reaction tank 2 may be provided with a stirrer 21 inside. This makes it possible to promote the reaction between the water to be treated W and the reducing agent R.

還元剤供給部3は、反応槽2に還元剤Rを供給するためのものである。
図1に示すように、還元剤供給部3は、還元剤Rを貯留する還元剤貯留槽31と、反応槽2に還元剤Rを供給する還元剤供給ライン32と、還元剤Rの供給量を制御する還元剤供給量制御部33を備えている。
The reducing agent supply unit 3 is for supplying the reducing agent R to the reaction tank 2.
As shown in FIG. 1, the reducing agent supply unit 3 includes a reducing agent storage tank 31 for storing the reducing agent R, a reducing agent supply line 32 for supplying the reducing agent R to the reaction tank 2, and a supply amount of the reducing agent R. The reducing agent supply amount control unit 33 for controlling the above is provided.

還元剤貯留槽31は、還元剤Rを貯留することができるものであれば特に限定されない。例えば、固体又は液体の還元剤Rを安定して貯留することができるものであればよく、遮光された円筒体や直方体の槽などが挙げられる。また、還元剤Rに対する耐薬品性を有することが特に好ましい。 The reducing agent storage tank 31 is not particularly limited as long as it can store the reducing agent R. For example, any one can stably store the solid or liquid reducing agent R, and examples thereof include a light-shielded cylindrical body and a rectangular parallelepiped tank. Further, it is particularly preferable to have chemical resistance to the reducing agent R.

還元剤貯留槽31内に貯留される還元剤Rとしては、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含むものが挙げられる。より具体的には、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリウムなどが挙げられる。これらを還元剤Rとして用いることで、残留塩素との反応後、無害の硫酸イオンを生成させることができる。また、亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含むものは還元力が強いことから、これらを還元剤Rとして用いることで、被処理水W中の残留塩素との反応時間を短くすることができ、残留塩素除去を短時間で進行させることが可能となる。
なお、還元剤Rは固体のまま反応槽2内の被処理水Wに供給するものであってもよいが、還元剤Rの安定性及び被処理水W中の残留塩素との反応速度などを鑑み、還元剤Rは水溶液として還元剤貯留槽31に貯留し、反応槽2内の被処理水Wに供給することが好ましい。
Examples of the reducing agent R stored in the reducing agent storage tank 31 include those containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion. More specifically, sodium thiosulfate, sodium sulfite, sodium hydrogen sulfite and the like can be mentioned. By using these as the reducing agent R, harmless sulfate ions can be generated after the reaction with the residual chlorine. Further, since those containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion have strong reducing power, the reaction time with the residual chlorine in the water to be treated W can be shortened by using these as the reducing agent R, and the residual chlorine can be shortened. The removal can proceed in a short time.
The reducing agent R may be supplied as a solid to the water to be treated W in the reaction tank 2, but the stability of the reducing agent R and the reaction rate with the residual chlorine in the water to be treated W may be determined. In view, it is preferable that the reducing agent R is stored as an aqueous solution in the reducing agent storage tank 31 and supplied to the water to be treated W in the reaction tank 2.

還元剤供給ライン32は、反応槽2に還元剤Rを供給するための輸送配管である。
また、還元剤供給量制御部33は、後述する演算制御部6からの入力により、還元剤Rの供給量を制御するためのものであり、還元剤供給ライン32上に設けられる。
The reducing agent supply line 32 is a transportation pipe for supplying the reducing agent R to the reaction tank 2.
Further, the reducing agent supply amount control unit 33 is for controlling the supply amount of the reducing agent R by input from the arithmetic control unit 6 described later, and is provided on the reducing agent supply line 32.

還元剤供給量制御部33としては、還元剤Rが溶液の場合、還元剤供給ライン32内の流量を制御するものとして、ポンプや流量調節弁などが挙げられる。このとき、還元剤供給量制御部33における流量の制御は、ポンプのオンオフ制御により、還元剤Rの供給及び供給停止を繰り返し実行することや、インバーターによるポンプの回転数の制御やポンプにより移送する容積量の制御、あるいは流量調節弁の開閉度の制御により、連続的又は非連続的に還元剤Rの供給量を変更していくことなどが挙げられる。
また、還元剤Rが固体である場合、還元剤供給量制御部33としては、バルブや供給ホッパーなどが挙げられる。このとき、還元剤供給量制御部33における還元剤Rの供給量の制御は、バルブや供給ホッパーの開閉制御により、還元剤Rの供給と停止を繰り返し実行することや、バルブや供給ホッパーの開閉度の制御により、連続的又は非連続的に還元剤Rの供給量を変更していくことなどが挙げられる。
When the reducing agent R is a solution, the reducing agent supply amount control unit 33 controls the flow rate in the reducing agent supply line 32, such as a pump and a flow rate control valve. At this time, the flow rate in the reducing agent supply amount control unit 33 is controlled by repeatedly executing the supply and stop of the reducing agent R by the on / off control of the pump, controlling the rotation speed of the pump by the inverter, and transferring by the pump. The supply amount of the reducing agent R may be changed continuously or discontinuously by controlling the volume amount or the opening / closing degree of the flow rate control valve.
When the reducing agent R is a solid, the reducing agent supply amount control unit 33 includes a valve, a supply hopper, and the like. At this time, the control of the supply amount of the reducing agent R in the reducing agent supply amount control unit 33 is to repeatedly supply and stop the reducing agent R by controlling the opening and closing of the valve and the supply hopper, and to open and close the valve and the supply hopper. The supply amount of the reducing agent R may be changed continuously or discontinuously by controlling the degree.

ORP測定部4は、反応槽2内の被処理水WのORP値を測定するものである。また、ORP測定部4は、演算制御部6に対して入力可能に接続されており、ORP測定部4で得られたORP値のデータは、演算制御部6に入力される。 The ORP measuring unit 4 measures the ORP value of the water to be treated W in the reaction tank 2. Further, the ORP measurement unit 4 is connected to the calculation control unit 6 so as to be input, and the ORP value data obtained by the ORP measurement unit 4 is input to the calculation control unit 6.

ORP測定部4は、ORP値の測定が可能な公知のORP計を用いることができる。例えば、作用電極と参照電極とを備え、作用電極と参照電極間に生じる電位差を基にORPを決定するものを用いることができる。このとき、作用電極として白金電極を用い、参照電極として銀−塩化銀電極や標準水素電極を用いるものなどが挙げられる。なお、ORP測定部4としては、これに限定されるものではなく、被処理水WのORP値を安定して測定可能なものであればよい。 The ORP measuring unit 4 can use a known ORP meter capable of measuring the ORP value. For example, one having a working electrode and a reference electrode and determining the ORP based on the potential difference generated between the working electrode and the reference electrode can be used. At this time, a platinum electrode is used as the working electrode, and a silver-silver chloride electrode or a standard hydrogen electrode is used as the reference electrode. The ORP measuring unit 4 is not limited to this, and may be any one capable of stably measuring the ORP value of the water to be treated W.

pH測定部5は、反応槽2内の被処理水WのpH値を測定するものである。また、pH測定部5は、演算制御部6に対して入力可能に接続されており、pH測定部5で得られたpH値のデータは、演算制御部6に入力される。 The pH measuring unit 5 measures the pH value of the water to be treated W in the reaction vessel 2. Further, the pH measuring unit 5 is connected to the arithmetic control unit 6 so as to be input, and the pH value data obtained by the pH measuring unit 5 is input to the arithmetic control unit 6.

pH測定部5は、pH値の測定が可能な公知のpH計を用いることができる。例えば、ガラス電極を用いるものや、指示薬による比色法を利用したものなどを用いることができる。なお、連続測定が容易であることから、pH測定部5としては、ガラス電極を用いたものとすることが好ましい。なお、pH測定部5としては、これに限定されるものではなく、被処理水WのpH値を安定して測定可能なものであればよい。 As the pH measuring unit 5, a known pH meter capable of measuring a pH value can be used. For example, one using a glass electrode or one using a colorimetric method using an indicator can be used. Since continuous measurement is easy, it is preferable that the pH measuring unit 5 uses a glass electrode. The pH measuring unit 5 is not limited to this, and may be any one capable of stably measuring the pH value of the water to be treated W.

演算制御部6は、ORP測定部4及びpH測定部5からの測定データに基づき、還元剤供給量制御部33を制御するものである。
演算制御部6は、演算部61と、制御部62とを備えている。
The arithmetic control unit 6 controls the reducing agent supply amount control unit 33 based on the measurement data from the ORP measurement unit 4 and the pH measurement unit 5.
The calculation control unit 6 includes a calculation unit 61 and a control unit 62.

演算部61は、ORP測定部4及びpH測定部5からの測定データに基づき、ORP値の補正を行い、得られた補正後のORP値の経時変化に基づき、還元剤Rの供給又は供給停止のタイミングを判断するものである。
演算部61は、例えば、ORP値の補正に必要な式(補正式)に基づき、pH値によるORP値の変化量や、補正後のORP値を演算する演算手段を備えるものであればよく、構成については特に限定されない。演算部61の具体的な例としては、例えば、CPU、ROM、RAM、HDD等を備えたコンピュータや、シーケンサー(PLC(Programmable Logic Controller))等が挙げられる。
The calculation unit 61 corrects the ORP value based on the measurement data from the ORP measurement unit 4 and the pH measurement unit 5, and supplies or stops the supply of the reducing agent R based on the obtained corrected ORP value with time. It is to judge the timing of.
The calculation unit 61 may include, for example, a calculation means for calculating the amount of change in the ORP value due to the pH value and the corrected ORP value based on the formula (correction formula) required for the correction of the ORP value. The configuration is not particularly limited. Specific examples of the arithmetic unit 61 include a computer equipped with a CPU, ROM, RAM, HDD, etc., a sequencer (PLC (Programmable Logic Controller)), and the like.

演算部61で用いる補正式について説明する。
pHによる影響を受けるORP値の変化量(ΔE)は、以下に示すネルンストの式(式1)に基づき演算することができる。
ここで、[H]はpH変化前(還元剤を添加する前)の水素イオン濃度(単位:mol/L)であり、pH(=−ln[H])はこのときのpH値を示している。また、[H]はpH変化後(還元剤を添加した後)に実測される水素イオン濃度(単位:mol/L)であり、pH(=−ln[H])はこのときのpH値を示している。さらに、Rはモル気体定数(=8.314J/K・mol)、Fはファラデー定数(=96485C/mol)、zはイオン価数、Tは絶対温度(単位:K)を示している。
したがって、式1に基づきΔEを求めた後、実測されるORPの値(以下、「ORP実測値(E)」という。)からΔEを減算することで、補正されたORPの値(以下、「補正ORP値(E)」という。)を求めることができる(式2)。
The correction formula used in the calculation unit 61 will be described.
The amount of change (ΔE) in the ORP value affected by pH can be calculated based on the Nernst equation (Equation 1) shown below.
Here, [H 0 ] is the hydrogen ion concentration (unit: mol / L) before the pH change (before adding the reducing agent), and pH 0 (= −ln [H 0 ]) is the pH value at this time. Is shown. Further, [ HA ] is the hydrogen ion concentration (unit: mol / L) actually measured after the pH change (after adding the reducing agent), and the pH A (= -ln [ HA ]) is at this time. It shows the pH value. Further, R is a molar gas constant (= 8.314 J / K · mol), F is a Faraday constant (= 96485 C / mol), z is an ionic valence, and T is an absolute temperature (unit: K).
Thus, after obtaining the Delta] E based on the equation 1, actually measured the ORP value (hereinafter, referred to as "ORP Found (E M)".) From By subtracting Delta] E, corrected ORP value (hereinafter, referred to as "correction ORP value (E C)".) can be obtained (equation 2).

一方、上述した式1におけるイオン価数zは、pHによって変化する場合がある。
例えば、亜硫酸(HSO)は、水中における解離状態がpHによって異なり、以下の式に示すように、二酸化硫黄(SO)、亜硫酸水素イオン(HSO -)、亜硫酸イオン(SO 2-)の形態をとることが知られている(式3及び式4)。
ここで、式3における酸解離定数Ka1は1.4×10−2(mol/L)、式4における酸解離定数Ka2は6.5×10−8(mol/L)とする。
このとき、亜硫酸は、pH<1.9(=pKa1)ではSOとして、1.9<pH<7.2(=pKa2)ではHSO -として、さらにpH>7.2ではSO 2-として存在する比率が高まることを意味している。なお、二酸化硫黄(SO)として存在する比率が高いpHでは、SOが気化するため還元剤Rとしては利用できない。したがって、本実施例においては、pHが少なくとも1.9以上の範囲にある場合のORP値の補正について説明する。
On the other hand, the ionic valence z in the above-mentioned formula 1 may change depending on the pH.
For example, sulfurous acid (H 2 SO 3) varies depending on the pH of dissociation state in water, as shown in the following equation, sulfur dioxide (SO 2), bisulfite (HSO 3 -), sulfite ion (SO 3 2 - ) Is known to take the form (Equation 3 and Equation 4).
Here, the acid dissociation constant Ka1 in the formula 3 is 1.4 × 10-2 (mol / L), and the acid dissociation constant Ka2 in the formula 4 is 6.5 × 10-8 (mol / L).
At this time, sulfite, pH <1.9 as (= pK a1) in SO 2, 1.9 <pH <7.2 (= pK a2) in HSO 3 - as further pH> 7.2 in SO 3 It means that the ratio that exists as 2- will increase. At a pH having a high proportion of sulfur dioxide (SO 2 ), SO 2 is vaporized and cannot be used as a reducing agent R. Therefore, in this embodiment, the correction of the ORP value when the pH is in the range of at least 1.9 or more will be described.

被処理液Wがアルカリ性の場合、還元剤Rとして酸性の亜硫酸ナトリウムにより還元処理を行うと、還元処理の進行に伴い被処理水WのpHは低下し、pH7.2を経由することがある。このとき、式4に示すように、亜硫酸イオン(SO 2-)が亜硫酸水素イオン(HSO )へと変化し、式1におけるイオン価数zは2から1へと変化する。 When the liquid W to be treated is alkaline, if the reduction treatment is carried out with acidic sodium sulfite as the reducing agent R, the pH of the water W to be treated decreases as the reduction treatment progresses, and the pH may pass through pH 7.2. At this time, as shown in Equation 4, sulfite ion (SO 3 2-) is bisulfite (HSO 3 -) changes to, ionic valence z in Equation 1 changes from 2 to 1.

また、亜硫酸が解離して生成する二酸化硫黄(SO)、亜硫酸水素イオン(HSO -)、亜硫酸イオン(SO 2-)について、それぞれの物質量の総和は一定であるため、亜硫酸イオン(SO 2-)と亜硫酸水素イオン(HSO )の物質量の比率(物質量比)は、pH7.2の前後で徐々に変化する。
したがって、イオン価数zの変化を伴うpH領域において連続的な演算を行うため、イオン価数zの平均化を行った。
Moreover, sulfur dioxide (SO 2) in which sulphite is generated to dissociate, bisulfite ion (HSO 3 -), the sulfite ions (SO 3 2-), since the sum of each substance amount is constant, sulfite ion ( SO 3 2-) and bisulfite ions (HSO 3 - ratio of the amount of substance of) (material weight ratio), gradually changes before and after pH 7.2.
Therefore, in order to perform continuous calculation in the pH region accompanied by a change in the ionic valence z, the ionic valence z was averaged.

まず、あるpH値(pH)における亜硫酸イオン(SO 2-)と亜硫酸水素イオン(HSO )の物質量比について、亜硫酸イオン(SO 2-)の物質量比をα、亜硫酸水素イオン(HSO )の物質量比をβとした場合、以下の式5及び式6のようになる。
このとき、二酸化硫黄(SO)は系内にほぼ存在しないとみなすことができる。したがって、α+β=1が成り立っている。
First, a certain pH value (pH X) sulfite ion in (SO 3 2-) and bisulfite ions (HSO 3 -) for the ratio of the amounts of substances, the substance amount ratio of sulfite ion (SO 3 2-) α, bisulfite ion (HSO 3 -) If the amount of substance ratio was β of, so the equations 5 and 6 below.
At this time, sulfur dioxide (SO 2 ) can be considered to be almost absent in the system. Therefore, α + β = 1 holds.

上述した物質量比によりイオン価数zが決まるとした場合、平均イオン価数zは、以下の式7で示される。
Assuming that the ionic valence z is determined by the substance amount ratio described above, the average ionic valence z A is represented by the following formula 7.

式7に示されるzを式1におけるイオン価数zとして代入したものを、補正ORP値(E)を得るための補正式(式8)として用いる。
なお、式8中のz以外のその他の定数、変数については、式1と同じである。
Those obtained by substituting z A represented by the formula 7 as ionic valence z in Equation 1, is used as the correction equation for obtaining the correction ORP value (E C) (Equation 8).
The constants and variables other than z A in the equation 8 are the same as those in the equation 1.

演算部61は、式8を用いて、実測されるpH値(pH)とORP実測値(E)から補正ORP値(E)を演算する。このとき、式8を用いることで、pHによって還元剤Rの解離状態の形態に係る価数が異なるものについても、補正式を変更することなく、連続した演算処理を行うことが可能となる。
また、演算部61は、演算した補正ORP値(E)の経時変化に基づき、還元剤Rの供給又は供給停止のタイミングを判断する。そして、判断結果を制御部62に入力する。
Calculating unit 61, using equation 8, and calculates the correction ORP value (E C) from the actually measured the pH value (pH A) and ORP measured value (E M). At this time, by using the formula 8, it is possible to perform continuous arithmetic processing without changing the correction formula even if the valence of the reducing agent R in the dissociated state differs depending on the pH.
The arithmetic unit 61, based on the temporal change of the calculated correction ORP value (E C), to determine the timing of the supply or supply stop of the reducing agent R. Then, the determination result is input to the control unit 62.

制御部62は、演算部61による判断結果に基づき、被処理水W中の残留塩素に対する還元剤Rの供給量を制御するものである。 The control unit 62 controls the supply amount of the reducing agent R with respect to the residual chlorine in the water to be treated W based on the determination result by the calculation unit 61.

制御部62では、演算部61から還元剤Rの供給又は供給停止に係る判断が入力され、この判断結果に応じて還元剤供給量制御部33を制御し、還元剤Rの供給又は供給停止を行う。
還元剤Rの供給又は供給停止を行う手段としては、例えば、還元剤供給量制御部33において説明した制御手段を用いることが挙げられる。具体的には、例えば、還元剤供給量制御部33のポンプのオンオフを切り替えることや、ポンプの流量を調節することなどが挙げられる。
In the control unit 62, a determination regarding the supply or supply stop of the reducing agent R is input from the calculation unit 61, and the reducing agent supply amount control unit 33 is controlled according to the determination result to supply or stop the supply or supply of the reducing agent R. Do.
As a means for supplying or stopping the supply of the reducing agent R, for example, the control means described in the reducing agent supply amount control unit 33 can be used. Specifically, for example, switching on / off of the pump of the reducing agent supply amount control unit 33, adjusting the flow rate of the pump, and the like can be mentioned.

図2は、本実施態様の残留塩素を除去システム1aにおいて、残留塩素を含む被処理水Wに還元剤Rを供給したときのpH及びORPの経時変化を表す模式図である。なお、図2の横軸は時間経過を示し、左側の縦軸はORPの値、右側の縦軸はpH値を示している。また、図2中の破線は補正前のORP実測値(E)を示しており、実線は式8による補正後の補正ORP値(E)を示している。また、図2中の太線は実測されるpH値(pH)を示している。 FIG. 2 is a schematic view showing changes over time in pH and ORP when the reducing agent R is supplied to the water to be treated W containing residual chlorine in the residual chlorine removing system 1a of the present embodiment. The horizontal axis of FIG. 2 shows the passage of time, the vertical axis on the left side shows the ORP value, and the vertical axis on the right side shows the pH value. The broken line in Figure 2 shows the ORP measured value before correction (E M), the solid line indicates the correction ORP value after correction according to equation 8 (E C). The thick line in FIG. 2 indicates the actually measured pH value (pH A ).

被処理水W中に還元剤Rを供給した場合、残留塩素と還元剤Rの反応が進行することにより、ORPの値は減少する。したがって、ORPの値の減少を検知した時点において還元剤Rの供給を停止することで、残留塩素に対して還元剤Rの供給量を適切に制御することができる。 When the reducing agent R is supplied into the water to be treated W, the ORP value decreases as the reaction between the residual chlorine and the reducing agent R proceeds. Therefore, by stopping the supply of the reducing agent R when the decrease in the ORP value is detected, the supply amount of the reducing agent R can be appropriately controlled with respect to the residual chlorine.

しかし、図2に示すように、補正前のORP実測値(E)はpHの変動に影響を受け、還元剤Rの供給時(図2中の時間A)においてpHの低下に伴いORPの値が上昇してしまう。特に、残留塩素の濃度が高く、還元剤Rの供給量が多くなる場合、pHの変動も大きくなるため、補正前のORP実測値(E)に対するpHの影響は大きくなる。したがって、補正前のORP実測値(E)を用いても、残留塩素の除去において還元剤Rの供給を停止すべきタイミングを適切に把握することができない。 However, as shown in FIG. 2, the uncorrected ORP measured value (E M) is with decreasing pH A in affected to variations in pH, during the supply of the reducing agent R (time A in FIG. 2) ORP The value of is increased. In particular, high concentration of residual chlorine, if the supply amount of the reducing agent R increases, since the large variations in pH, effect of pH A against ORP measured value before correction (E M) is increased. Therefore, even using the uncorrected ORP measured value (E M), it is impossible to properly grasp the timing of stopping the supply of the reducing agent R in the removal of residual chlorine.

一方、図2に示すように、補正後の補正ORP値(E)はpHの変動に影響を受けず、還元剤Rの供給から一定時間経過後(図2中の時間B)において、ORPの値が減少した。つまり、時間Bにおいて、被処理水W中の残留塩素に対して必要な還元剤Rが供給され、還元処理が終了したことがわかる。このとき、演算部61で還元剤Rの供給を停止するという判断を行い、その判断結果を制御部62に入力することで、還元剤Rを過剰に供給することを抑制することが可能となる。
したがって、演算部61で式8を用いてORP実測値の補正を行うことで、pHの影響を考慮した補正ORP値を得ることができる。これにより、演算部61で還元剤Rの供給量を制御するタイミングを適切に把握することが可能となるとともに、制御部62によって還元剤Rの供給量を適切に制御することが可能となる。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the correction ORP value after correction (E C) is not affected by variations in pH, after a predetermined time has elapsed from the supply of the reducing agent R (time B in FIG. 2), ORP The value of has decreased. That is, it can be seen that at time B, the necessary reducing agent R was supplied to the residual chlorine in the water to be treated W, and the reduction treatment was completed. At this time, the calculation unit 61 determines to stop the supply of the reducing agent R, and the determination result is input to the control unit 62, so that it is possible to suppress the excessive supply of the reducing agent R. ..
Therefore, the calculated ORP value can be obtained in consideration of the influence of pH by correcting the actually measured ORP value using the equation 8 in the calculation unit 61. As a result, the calculation unit 61 can appropriately grasp the timing of controlling the supply amount of the reducing agent R, and the control unit 62 can appropriately control the supply amount of the reducing agent R.

なお、本実施態様におけるORP測定部4、pH測定部5及び演算制御部6に係る構成は、本発明に係る制御装置として独立したものとすることができる。この制御装置は、既設の残留塩素除去システムに適用することができる。これにより、既設の残留塩素除去システムにおいて、簡素な取り付け作業によって、本発明の残留塩素除去システム及び残留塩素除去方法を提供することができる。 The configuration of the ORP measuring unit 4, the pH measuring unit 5, and the arithmetic control unit 6 in the present embodiment can be independent as the control device according to the present invention. This controller can be applied to existing residual chlorine removal systems. Thereby, in the existing residual chlorine removing system, the residual chlorine removing system and the residual chlorine removing method of the present invention can be provided by a simple installation work.

(残留塩素除去方法)
本実施態様における残留塩素除去システムを用いた残留塩素除去方法について説明する。なお、残留塩素除去システムとしては、図1に示した構造に基づき説明しているが、これに限定されるものではない。
(Residual chlorine removal method)
A method for removing residual chlorine using the residual chlorine removal system in this embodiment will be described. The residual chlorine removal system has been described based on the structure shown in FIG. 1, but is not limited thereto.

図3は、補正後の補正ORP値(E)の経時変化を示す模式図である。なお、横軸は時間経過を示しており、縦軸はORPの値を示している。また、図3には、還元剤供給量制御部33による還元剤Rの供給及び供給停止の時点についても記載している。 Figure 3 is a schematic diagram showing changes with time of the correction ORP value after correction (E C). The horizontal axis shows the passage of time, and the vertical axis shows the ORP value. Further, FIG. 3 also describes the time points at which the reducing agent R is supplied and stopped by the reducing agent supply amount control unit 33.

まず、反応槽2内の残留塩素を含む被処理水Wに還元剤供給部3により還元剤Rを供給する(図3中の時間A)。このとき、残留塩素と還元剤Rの反応が進行する(還元処理ステップ)。また、反応槽2内のORP及びpHを、それぞれORP測定部4及びpH測定部5により測定する(測定ステップ)。このとき、演算制御部6における演算部61では、ORP実測値(E)及び実測されるpH値(pH)を用いて式8に基づく補正を行い、補正ORP値(E)を演算する(演算制御ステップ−1)。 First, the reducing agent R is supplied to the water to be treated W containing residual chlorine in the reaction tank 2 by the reducing agent supply unit 3 (time A in FIG. 3). At this time, the reaction between the residual chlorine and the reducing agent R proceeds (reduction treatment step). Further, the ORP and pH in the reaction vessel 2 are measured by the ORP measuring unit 4 and the pH measuring unit 5, respectively (measurement step). At this time, the arithmetic unit 61 in the arithmetic control unit 6 performs a correction based on Equation 8 by using ORP measured value (E M) and actually measured the pH value (pH A), calculates a correction ORP value (E C) (Calculation control step-1).

還元処理ステップが進行することで、被処理水W内の残留塩素及び還元剤Rが減少し、残留塩素に対して必要量の還元剤Rが供給され、還元処理が終了した時点(図3中の時間B)で、ORPの値が急速に減少する。このとき、還元剤Rの供給を継続すると、還元剤Rの供給量が過剰になる。したがって、演算部61では、補正ORP値(E)が減少して、あらかじめ設定したORP値の下限基準値(ELS)に達した時点で、還元処理を停止するという判断を行う。そして、この判断結果に基づき、制御部62は、還元剤供給量制御部33を制御し、還元剤Rの供給を停止する(演算制御ステップ−2)。このとき、還元剤Rの供給を停止する時点(図3中の時間C)は、還元処理が終了した時間Bとの間隔が小さくなるようにすることが好ましい。これにより、還元剤Rの過剰供給を抑制することが可能となる。 As the reduction treatment step progresses, the residual chlorine and the reducing agent R in the water W to be treated decrease, the required amount of the reducing agent R is supplied to the residual chlorine, and the reduction treatment is completed (in FIG. 3). At time B), the value of ORP decreases rapidly. At this time, if the supply of the reducing agent R is continued, the supply amount of the reducing agent R becomes excessive. Thus, the arithmetic unit 61, corrected by decreasing ORP value (E C) are, upon reaching the lower reference value preset ORP value (E LS), carry out a decision to stop the reduction treatment. Then, based on this determination result, the control unit 62 controls the reducing agent supply amount control unit 33 and stops the supply of the reducing agent R (calculation control step-2). At this time, at the time when the supply of the reducing agent R is stopped (time C in FIG. 3), it is preferable that the interval from the time B when the reduction treatment is completed is small. This makes it possible to suppress the excessive supply of the reducing agent R.

また、反応槽2には残留塩素を含む被処理水Wが連続して供給されていることから、反応槽2内の補正ORP値(E)(及びORP実測値(E))は再び上昇する。再上昇した補正ORP値(E)が、あらかじめ設定したORP値の上限基準値(EHS)又は減少前の補正ORP値(E)に達した時点で、演算部61は、還元処理を再開するという判断を行う。そして、この判断結果に基づき、制御部62は、還元剤供給量制御部33を制御し、図3中の時間Dにおいて還元剤Rの供給を再開する(演算制御ステップ−3)。そして、演算制御ステップにおいて、時間A(時間D)、時間B、時間Cにおける工程を繰り返すことで、還元剤Rを過剰に供給することなく、被処理水W中の残留塩素を除去することが可能となる。 Further, the reaction vessel 2 from the treatment water W containing residual chlorine is supplied continuously, the correction ORP value in the reaction vessel 2 (E C) (and ORP measured value (E M)) again Rise. Re elevated correction ORP value (E C) is, up to the limit reference value ORP value preset (E HS) or decrease before the correction ORP value (E C), calculation unit 61, a reduction treatment Make a decision to resume. Then, based on this determination result, the control unit 62 controls the reducing agent supply amount control unit 33, and restarts the supply of the reducing agent R at the time D in FIG. 3 (calculation control step-3). Then, in the arithmetic control step, by repeating the steps at time A (time D), time B, and time C, residual chlorine in the water to be treated W can be removed without excessively supplying the reducing agent R. It will be possible.

以上のように、本実施態様の残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置を用いることで、pHの影響を考慮したORP値の変動を把握することができ、還元処理における還元剤の供給量を適切に制御することが可能となる。これにより、還元処理を行う残留塩素除去において、還元剤の過剰供給を抑制することが可能となる。 As described above, by using the residual chlorine removing method, the residual chlorine removing system and the control device thereof of the present embodiment, it is possible to grasp the fluctuation of the ORP value in consideration of the influence of pH, and the reducing agent in the reducing treatment. It becomes possible to appropriately control the supply amount. This makes it possible to suppress the excessive supply of the reducing agent in the removal of residual chlorine by the reduction treatment.

[第2の実施態様]
図4は、本発明の第2の実施態様の残留塩素除去システム1bの概略説明図である。
本実施態様に係る残留塩素除去システム1bは、図4に示すように、第1の実施態様の残留塩素除去システム1aにおいて、温度測定部7を加えたものである。また、温度測定部7は演算制御部6に入力可能に接続されている。
なお、本実施態様における残留塩素除去システム1bの構成のうち、第1の実施態様の残留塩素除去システム1aの構成と同じものについては、説明を省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a schematic explanatory view of the residual chlorine removal system 1b according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 4, the residual chlorine removal system 1b according to the present embodiment is the residual chlorine removal system 1a of the first embodiment to which the temperature measuring unit 7 is added. Further, the temperature measuring unit 7 is connected to the arithmetic control unit 6 so as to be inputtable.
Of the configurations of the residual chlorine removal system 1b in the present embodiment, the same configurations as those of the residual chlorine removal system 1a of the first embodiment will be omitted.

本実施態様の残留塩素除去システム1bは、温度測定部7により反応槽2内の温度を測定し、その測定結果に基づき、演算制御部6における補正ORP値(E)の演算、及び補正ORP値(E)に基づく還元剤Rの供給量の制御を行うものである。 Residual chlorine removal system 1b of the present embodiment, the temperature in the reaction vessel 2 was measured by the temperature measuring unit 7, based on the measurement results, calculation of the correction ORP value in the operation control section 6 (E C), and correction ORP performs control of the supply amount of the reducing agent R based on the value (E C).

温度測定部7としては、反応槽2内の被処理水Wの温度が測定できるものであれば特に限定されない。温度計として公知のものを用いることができる。例えば、温度測定部7は、検出部分を水中に設けるものであってもよく、水面の温度を測定するものであってもよい。なお、温度測定部7としては、これに限定されるものではなく、被処理水Wの温度を安定して測定可能なものであればよい。また、温度測定部7で得られた温度のデータは、演算制御部6に入力される。 The temperature measuring unit 7 is not particularly limited as long as the temperature of the water to be treated W in the reaction vessel 2 can be measured. A known thermometer can be used. For example, the temperature measuring unit 7 may be provided with the detection portion in water, or may measure the temperature of the water surface. The temperature measuring unit 7 is not limited to this, and may be any one capable of stably measuring the temperature of the water to be treated W. Further, the temperature data obtained by the temperature measuring unit 7 is input to the arithmetic control unit 6.

演算制御部6の演算部61において、温度測定部7により得られた温度が一定範囲内にある等、反応槽2内の温度が安定している場合は、上述した式8中の絶対温度Tを定数として扱うものとすることができる。
一方、温度測定部7により得られた温度が変動する等、反応槽2内の被処理水Wの温度が安定していない場合、式8の絶対温度Tを変数として、温度測定部7による温度の測定データを入力し、ORP実測値(E)の補正を行うものとする。これにより、温度の変動による影響を考慮した演算を用い、補正ORP値(E)を決定することができる。
When the temperature inside the reaction vessel 2 is stable, such as when the temperature obtained by the temperature measuring unit 7 is within a certain range in the calculation unit 61 of the calculation control unit 6, the absolute temperature T in the above equation 8 Can be treated as a constant.
On the other hand, when the temperature of the water to be treated W in the reaction tank 2 is not stable, such as when the temperature obtained by the temperature measuring unit 7 fluctuates, the temperature by the temperature measuring unit 7 is set to the absolute temperature T of the equation 8 as a variable. enter the measurement data, it is assumed that the correction of ORP measured value (E M). Thus, using the calculation in consideration of the effects of changes in temperature, it is possible to determine the correction ORP value (E C).

本実施態様における残留塩素除去システム1bにより、反応槽2内の温度変化を把握し、式8として示した補正式におけるパラメータとして入力することで、より精度の高いORP値の補正が可能となる。これにより、還元処理における還元剤供給量をより適切に制御することが可能となる。 By grasping the temperature change in the reaction vessel 2 by the residual chlorine removal system 1b in the present embodiment and inputting it as a parameter in the correction formula shown as the formula 8, it is possible to correct the ORP value with higher accuracy. This makes it possible to more appropriately control the amount of the reducing agent supplied in the reduction treatment.

また、本実施態様の残留塩素除去システム1bを用い、第1の実施態様において記載した残留塩素除去方法と同様の工程に基づき、残留塩素除去を行うことができる。これにより、還元剤による還元処理を行う残留塩素処理方法において、還元剤供給量をより適切に制御することが可能となる。 Further, using the residual chlorine removing system 1b of the present embodiment, the residual chlorine can be removed based on the same steps as the residual chlorine removing method described in the first embodiment. This makes it possible to more appropriately control the amount of the reducing agent supplied in the residual chlorine treatment method in which the reduction treatment is performed with the reducing agent.

さらに、本実施態様におけるORP測定部4、pH測定部5及び演算制御部6に、温度測定部7を加えた構成は、本発明に係る制御装置として独立したものとすることができる。この制御装置は、既設の残留塩素除去システムに適用することができる。これにより、既設の残留塩素除去システムにおいて、簡素な取り付け作業によって、本発明の残留塩素除去システム及び残留塩素除去方法を提供することができる。 Further, the configuration in which the temperature measuring unit 7 is added to the ORP measuring unit 4, the pH measuring unit 5, and the arithmetic control unit 6 in the present embodiment can be independent as the control device according to the present invention. This controller can be applied to existing residual chlorine removal systems. Thereby, in the existing residual chlorine removing system, the residual chlorine removing system and the residual chlorine removing method of the present invention can be provided by a simple installation work.

なお、上述した実施態様は残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置の一例を示すものである。本発明に係る残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置は、上述した実施態様に限られるものではなく、請求項に記載した要旨を変更しない範囲で、上述した実施態様に係る残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置を変形してもよい。 The above-described embodiment shows an example of a residual chlorine removing method, a residual chlorine removing system, and a control device thereof. The residual chlorine removing method, the residual chlorine removing system and the control device thereof according to the present invention are not limited to the above-described embodiment, and the residual chlorine according to the above-described embodiment is not changed as long as the gist described in the claims is not changed. The removal method, the residual chlorine removal system and its control device may be modified.

例えば、本実施態様において、還元剤として亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含むものについて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、還元処理においてpHの変動が生じた際に、被処理水W中に存在する還元剤の価数が変化するものについて、平均イオン価数に係る式を用い、ネルンストの式に基づく補正式を求めることができ、本実施態様の残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置を好適に用いることができる。 For example, in the present embodiment, those containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion as a reducing agent have been described, but the present invention is not limited thereto. For example, a correction formula based on the Nernst equation is used for a reducing agent whose valence changes in the water to be treated W when the pH fluctuates in the reduction treatment, using the formula related to the average ionic valence. The residual chlorine removing method, the residual chlorine removing system and the control device thereof of the present embodiment can be preferably used.

また、本実施態様において、処理対象である残留塩素を含む被処理水Wがアルカリ性であり、還元剤が酸性であるものを用い、被処理水WのpHがアルカリ側から酸性側に変化する還元処理について説明したが、これに限定されるものではない。還元剤の供給によりpHが変動し、かつpH値が還元剤の酸解離定数の値を経由して変動する他の還元処理に対しても、本実施態様の残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置を好適に用いることができる。 Further, in the present embodiment, the water to be treated W containing residual chlorine to be treated is alkaline and the reducing agent is acidic, and the pH of the water to be treated W is changed from the alkaline side to the acidic side. Although the processing has been described, it is not limited to this. The residual chlorine removing method and the residual chlorine removing system of the present embodiment also apply to other reduction treatments in which the pH fluctuates due to the supply of the reducing agent and the pH value fluctuates via the value of the acid dissociation constant of the reducing agent. And its control device can be preferably used.

本発明の残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置は、残留塩素を含む被処理水の還元処理に利用される。特に、本発明の残留塩素除去方法、残留塩素除去システム及びその制御装置は、被処理水中での解離状態がpHにより変化する還元剤を用いた還元処理に対して好適に利用される。 The residual chlorine removing method, the residual chlorine removing system and the control device thereof of the present invention are used for the reduction treatment of the water to be treated containing the residual chlorine. In particular, the residual chlorine removing method, the residual chlorine removing system and the control device thereof of the present invention are suitably used for the reduction treatment using a reducing agent whose dissociation state in the water to be treated changes depending on pH.

1a,1b 残留塩素除去システム、2 反応槽、21 撹拌機、3 還元剤供給部、31 還元剤貯留槽、32 還元剤供給ライン、33 還元剤供給量制御部、4 ORP測定部、5 pH測定部、6 演算制御部、61 演算部、62 制御部、7 温度測定部、L1,L2 ライン、E 補正ORP値、E ORP実測値、EHS ORPの上限基準値、ELS ORPの下限基準値、R 還元剤、W 被処理水、W1 処理水
1a, 1b Residual chlorine removal system, 2 Reaction tank, 21 Stirrer, 3 Reducing agent supply unit, 31 Reducing agent storage tank, 32 Reducing agent supply line, 33 Reducing agent supply amount control unit, 4 ORP measurement unit, 5 pH measurement parts, 6 calculation control unit, 61 computing unit, 62 control unit, 7 temperature measuring unit, L1, L2 line, E C correction ORP value, E M ORP measured value, the upper limit reference value E HS ORP, the lower limit of E LS ORP Reference value, R reducing agent, W treated water, W1 treated water

Claims (9)

残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去方法であって、
残留塩素を含む被処理水に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元処理ステップと、
前記還元処理ステップ後の被処理水の酸化還元電位(ORP)及びpHを測定する測定ステップと、
前記測定ステップで測定したpHの値を用いて測定したORP値を補正し、補正したORP値に基づいて前記還元処理における還元剤の供給量を調整する演算制御ステップと、を備えることを特徴とする、残留塩素除去方法。
It is a residual chlorine removal method that reduces the water to be treated containing residual chlorine.
A reduction treatment step of supplying a reducing agent containing sulfite ions or hydrogen sulfite ions to water to be treated containing residual chlorine, and
A measurement step for measuring the redox potential (ORP) and pH of the water to be treated after the reduction treatment step,
It is characterized by including an arithmetic control step of correcting the ORP value measured by using the pH value measured in the measurement step and adjusting the supply amount of the reducing agent in the reduction treatment based on the corrected ORP value. Residual chlorine removal method.
前記演算制御ステップにおけるORP値の補正は、前記還元処理ステップ時のpHの変化に伴い、還元剤の価数が変化するものについて、還元剤の酸解離定数を用い、ネルンストの式における係数を変化させた補正式に基づいて行うことを特徴とする、請求項1に記載の残留塩素除去方法。 The correction of the ORP value in the calculation control step uses the acid dissociation constant of the reducing agent to change the coefficient in the Nernst equation for the one in which the valence of the reducing agent changes with the change in pH during the reduction treatment step. The method for removing residual chlorine according to claim 1, wherein the method is carried out based on the correction formula. 前記演算制御ステップにおけるORP値の補正は、下記式で表される補正式に基づいて行うことを特徴とする、請求項1又は2に記載の残留塩素除去方法。

=E−2.3026(RT/zF)(pH−pH
ここで、z=(2×10(pHA−7.2)+1)/(10(pHA−7.2)+1) ……(式)

また、Eは補正したORP値(補正ORP値)、Eは測定したORP値(ORP実測値)、pHは還元剤を添加する前のpH値、pHは実測されるpH値を示している。さらに、Rはモル気体定数(=8.314J/K・mol)、Fはファラデー定数(=96485C/mol)、zは平均イオン価数、Tは絶対温度(単位:K)を示している。
The method for removing residual chlorine according to claim 1 or 2, wherein the correction of the ORP value in the calculation control step is performed based on the correction formula represented by the following formula.

E C = E M -2.3026 (RT / z A F) (pH 0 -pH A)
Here, z A = (2 × 10 (pHA-7.2) +1) / (10 (pHA-7.2) +1) …… (formula)

Also, E C is corrected ORP value (correction ORP value), E M is the measured ORP value (ORP measured value), pH value before pH 0 is adding a reducing agent, a pH value pH A is to be measured Shown. Further, R is the molar gas constant (= 8.314 J / K · mol), F is the Faraday constant (= 96485 C / mol), z A is the average ionic valence, and T is the absolute temperature (unit: K). ..
前記測定ステップにおいて、還元処理ステップ後の被処理水の温度を測定することをさらに加え、
前記演算制御ステップにおけるORP値の補正に、前記測定ステップで測定した温度の値も用いることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の残留塩素除去方法。
In the measurement step, the temperature of the water to be treated after the reduction treatment step is further added to be measured.
The method for removing residual chlorine according to any one of claims 1 to 3, wherein the temperature value measured in the measurement step is also used for correcting the ORP value in the calculation control step.
残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去システムに設けられる残留塩素除去システムの制御装置であって、
前記残留塩素除去システムは、残留塩素を含む被処理水を導入する反応槽と、前記反応槽に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元剤供給部と、を備え、
前記制御装置は、前記反応槽内の被処理水の酸化還元電位(ORP)及びpHを測定する測定部と、
前記測定部で測定したpHの値を用い、測定したORP値を補正し、補正したORP値に基づいて前記還元剤供給部による還元剤の供給量を調整する演算制御部と、を備えることを特徴とする残留塩素除去システムの制御装置。
It is a control device of the residual chlorine removal system provided in the residual chlorine removal system that reduces the water to be treated containing residual chlorine.
The residual chlorine removal system includes a reaction tank for introducing water to be treated containing residual chlorine, and a reducing agent supply unit for supplying a reducing agent containing sulfite ion or hydrogen sulfite ion to the reaction tank.
The control device includes a measuring unit for measuring the redox potential (ORP) and pH of the water to be treated in the reaction vessel.
It is provided with an arithmetic control unit that corrects the measured ORP value using the pH value measured by the measuring unit and adjusts the supply amount of the reducing agent by the reducing agent supply unit based on the corrected ORP value. A control device for the characteristic residual chlorine removal system.
前記演算制御部におけるORP値の補正は、前記還元剤を供給した時のpHの変化に伴い、還元剤の価数が変化するものについて、還元剤の酸解離定数を用い、ネルンストの式における係数を変化させた補正式に基づいて行うことを特徴とする、請求項5に記載の残留塩素除去システムの制御装置。 The correction of the ORP value in the arithmetic control unit uses the acid dissociation constant of the reducing agent for the one in which the valence of the reducing agent changes with the change in pH when the reducing agent is supplied, and the coefficient in the Nernst equation. The control device for the residual chlorine removal system according to claim 5, wherein the method is performed based on a correction formula obtained by changing the above. 前記演算制御部におけるORP値の補正は、下記式で表される補正式に基づいて行うことを特徴とする、請求項5又は6に記載の残留塩素除去システムの制御装置。

=E−2.3026(RT/zF)(pH−pH
ここで、z=(2×10(pHA−7.2)+1)/(10(pHA−7.2)+1) ……(式)

また、Eは補正したORP値(補正ORP値)、Eは測定したORP値(ORP実測値)、pHは還元剤を添加する前のpH値、pHは実測されるpH値を示している。さらに、Rはモル気体定数(=8.314J/K・mol)、Fはファラデー定数(=96485C/mol)、zは平均イオン価数、Tは絶対温度(単位:K)を示している。
The control device for the residual chlorine removal system according to claim 5 or 6, wherein the correction of the ORP value in the arithmetic control unit is performed based on the correction formula represented by the following formula.

E C = E M -2.3026 (RT / z A F) (pH 0 -pH A)
Here, z A = (2 × 10 (pHA-7.2) +1) / (10 (pHA-7.2) +1) …… (formula)

Also, E C is corrected ORP value (correction ORP value), E M is the measured ORP value (ORP measured value), pH value before pH 0 is adding a reducing agent, a pH value pH A is to be measured Shown. Further, R is the molar gas constant (= 8.314 J / K · mol), F is the Faraday constant (= 96485 C / mol), z A is the average ionic valence, and T is the absolute temperature (unit: K). ..
前記測定部において、前記反応槽内の被処理水の温度を測定することをさらに加え、
前記演算制御部におけるORP値の補正に、前記測定部で測定した温度の値も用いることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の残留塩素除去システムの制御装置。
In addition to measuring the temperature of the water to be treated in the reaction vessel in the measuring unit,
The control device for the residual chlorine removal system according to any one of claims 5 to 7, wherein the temperature value measured by the measuring unit is also used for correcting the ORP value in the arithmetic control unit.
残留塩素を含む被処理水を還元処理する残留塩素除去システムであって、
残留塩素を含む被処理水を導入する反応槽と、
前記反応槽に亜硫酸イオン又は亜硫酸水素イオンを含む還元剤を供給する還元剤供給部と、
請求項5〜8のいずれか一項に記載の制御装置と、を備えることを特徴とする、残留塩素除去システム。


A residual chlorine removal system that reduces the water to be treated containing residual chlorine.
A reaction tank that introduces water to be treated containing residual chlorine,
A reducing agent supply unit that supplies a reducing agent containing sulfite ions or hydrogen sulfite ions to the reaction vessel,
A system for removing residual chlorine, which comprises the control device according to any one of claims 5 to 8.


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