JP2020173426A - 光学素子 - Google Patents
光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020173426A JP2020173426A JP2020024074A JP2020024074A JP2020173426A JP 2020173426 A JP2020173426 A JP 2020173426A JP 2020024074 A JP2020024074 A JP 2020024074A JP 2020024074 A JP2020024074 A JP 2020024074A JP 2020173426 A JP2020173426 A JP 2020173426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- mark
- diffraction grating
- light
- uneven shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 162
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 26
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 14
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- 229920009204 Methacrylate-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- WWNGFHNQODFIEX-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound C=CC=C.COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 WWNGFHNQODFIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
また、回折光学素子は、レーザの様な平行光源、LEDの様な拡散光源のいずれにも対応可能であり、また、紫外光から可視光、赤外線までの広い範囲の波長に対して適用可能である。
しかし、ラインアンドスペースパターンであっても、検査時の照明条件によっては、マークが見にくい場合があった。
又は、ショットピーニングやサンドブラスト等の加工により微細な凹凸をつけ、視認性を向上させる技術も知られている(特許文献2)。
しかし、アライメント加工による精度ズレが問題になること、散乱光に異方性をもたすことが難しいこと、追加工程によるコストアップといった課題があった。
図1は、本発明による回折光学素子1の実施形態を示す図である。
図2は、図1中の矢印G−Gの位置で切断した断面図である。
なお、図1及び図2を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張して示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
また、本発明において用いる、形状や幾何学的条件、及び、それらの程度を特定する用語、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
また、本発明において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
基材1aは、回折光学素子1のベースとなる層であり、透明な各種樹脂フィルム、樹脂シート等を用いることができる。
基材1aとしては、例えば、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、メタクリル酸メチル・ブタジエン・スチレン(MBS)樹脂、メタクリル酸メチル・スチレン(MS)樹脂、アクリル・スチレン(AS)樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)樹脂等の透明樹脂を用いることができる。また、ガラス基材を用いて基材1aを構成してもよい。なお、図示していないが、基材1a上には、塗布された紫外線硬化樹脂等との密着性を高めるための密着層を設けてもよい。
図3は、シート面の法線方向から見た回折格子の凹凸形状が、凸部と凹部との境界が曲線を含む規則的又は不規則なパターンに形成される回折光学素子の例を示す平面図である。
本実施形態では、1例として、図3に示すような一見不規則に見える凹凸形状のパターンを有する回折光学素子に適用することができる。以下の説明では、この図3に示すタイプの回折光学素子を、不規則型とも呼ぶこととする。ただし、この不規則なパターンは、回折光学素子の狙いの出射パターンによっては、規則的なパターンとなる場合もあるので、不規則型との呼び方は便宜上の呼び名であって、不規則に限定するものではない。また、図3では、不規則型のパターンは、曲線により構成されているが、回折光学素子の狙いの出射パターンによっては、直線、又は、曲線からなる線分を繋げた折れ線となっているパターンを含む場合もある。したがって、不規則型の回折格子のパターンは、高屈折率部(後述)の凹凸形状が形成された面の法線方向から見て凸部と凹部との境界が曲線と複数の線分を繋げた折れ線との少なくとも一方を含む。また、特定の不規則型のパターンを単位セルとして、この単位セルが多数格子状に配列されていてもよい。
本実施形態では、他の例として、図4に示すように、同一の凹凸形状が並べて配置された単位セルが複数タイリングされた格子状のパターンに形成される回折光学素子に適用することができる。以下の説明では、この図4に示すタイプの回折光学素子を、グレーティングセルアレイ(Grating Cell Array)型、又は、GCA型とも呼ぶこととする。グレーティングセルアレイ型の回折光学素子では、単位セル毎に回折格子により回折される光の向き及び角度が異なっており、多数の単位セルがタイリングされることにより、所望の光学特性を得られる回折光学素子が構成されている。すなわち、グレーティングセルアレイ型の回折光学素子では、高屈折率部は、凹凸形状が形成された面の法線方向から見て、格子状に区画されており、その区画内に特定の方向に延在する同一形状の凸部が前記特定の延在方向と直交する方向に並んで配置されており、区画毎に凸部の幅及び延在方向が異なっている。
図6は、図4に示したGCA型の回折光学素子の例における部分周期構造の一例を示す斜視図である。
図7は、図6中の矢印G−G’の位置で回折光学素子を切断した断面図である。
図8は、回折光学素子を説明する図である。
なお、光源部210と、光源部210が発光する光が通過する位置に少なくとも1つ配置された、本実施形態の回折光学素子1とを組み合わせることにより、光を整形した状態で照射可能な光照射装置とすることができる。
本実施形態の回折格子10は、図3に示したA,B,C,Dのそれぞれの位置において深さが異なっている。すなわち、回折格子10は、4段階の高さの異なる多段階形状により構成されている。そして、回折格子10は、通常、異なる周期構造を持つ複数の領域(部分周期構造:例えば、図3のE,F領域)を有している。図5,図6では、部分周期構造の一例を抽出して示している。
本実施形態の凸部11aは、鋸歯形状を多段階の輪郭形状により模した形状であり、4レベルの形態を説明したので、比較的粗く模した形態となっているが、8レベルや16レベル、さらにそれ以上のレベル数とすれば、より正確に模した形状とすることができる。
図10は、多面付け体500の一部を拡大した図である。
本実施形態の回折光学素子1は、例えば、外形形状が3mm×3mm程度の非常に小さな部材であることから、製造工程の途中においては、図9に示すように多数の回折光学素子1を格子状に並べて配置した多面付け体500として作製され、製造工程の高効率化を図っている。この多面付け体500から個片に切断して回折光学素子1が作製される。なお、図9では、理解を容易にするために、隣り合う回折光学素子1の境界に境界線を実線で引いて示したが、この境界線は、切断前は形成されていないので、図10では、2点鎖線で示している。なお、図9では、図示を可能とするため、かつ、理解を容易にするために、10行×10列の合計100個の回折光学素子1を配列した状態で図示した。しかし、実際には、これよりも多くの回折光学素子1が配列される。例えば、数千個〜数万個の回折光学素子1を1つの多面付け体500上に配列する場合がある。
以下の説明では、このように多面付け体500から回折光学素子1が切断されて作製されることを前提として説明を行なう。
また、成形型識別符号20と位置識別符号30とを区別できるように識別用の特定の符号をそれぞれに設けるようにしてもよい。例えば、成形型識別符号20及び位置識別符号30それぞれの頭文字に固有記号を付与してもよい。具体的には、例えば、成形型識別符号20には「M(Master)」を、位置識別符号30のX座標には「X(X−Coordinate)」、Y座標には「Y(Y−Coordinate)」を付与する。
成形型識別符号20と位置識別符号30とを備えていることにより、いずれの成形型のどの位置で製造されたのかが、個片化された回折光学素子1であっても、容易に特定が可能である。
本実施形態の回折光学素子1では、異物検査時に、例えば、図11に示すように、異物Pが観察された場合、欠陥マーク40と異物Pとを顕微鏡の同一視野内で対比観察が可能であり、目視検査を精度よく、かつ、素早く容易に行なうことが可能である。そして、この検査を複数の検査員によって行なう場合に、欠陥マーク40が設けられていることにより検査員による検査精度のばらつきを抑え、安定した高精度の検査を実現可能である。
又は画像解析による自動検査を行う場合、欠陥マーク40を画像解析における校正値とすることができ、多面付け体の検査感度のバラツキを抑えることで高精度の検査を実現可能である。
しかし、照明の状態によっては、従来のマークでは、視認性が悪くなる場合があった。そこで、本実施形態では、成形型識別符号20、位置識別符号30、欠陥マーク40、切断位置マーク50の全てのマークについて、視認性を向上させるための特殊なパターンを構成している。なお、以下の説明では、成形型識別符号20、位置識別符号30、欠陥マーク40、切断位置マーク50の総称として、単にマークとも呼ぶこととする。
図13は、欠陥マーク40が形成された領域を拡大して示した図である。
本実施形態の成形型識別符号20及び欠陥マーク40には、回折格子を構成する凹凸形状が形成されている。また、図示しないが、位置識別符号30及び切断位置マーク50についても、同様な回折格子を構成する凹凸形状が形成されている。
本実施形態のマークに設けられた凹凸形状は、図14(a)に示す3μm×3μmの大きさの回折格子が配列された領域を1つの単位(以下、単位領域1001とする)としている。そして、この単位領域1001は、マーク内に複数が密接して並べて配列されている。本実施形態で単位領域1001に構成されている回折格子は、2レベルの回折格子であって、その凹凸形状は、回折格子が形成されている面の法線方向から見て凸部と凹部との境界が曲線と複数の線分を繋げた折れ線との双方を含んでいる。なお、図14(a)では、黒く示した部位が、凸形状である。
ここで、例えば単位領域が500μm等、単位領域がマークよりも大きいサイズからマークのサイズに切り出した形状でも良く、この形態でも光を広い範囲に出射することができる。ただしこの形態の場合、設計時に意図した照射スポットと同じ位置に大半の光が出射されるものの、その強度バランスは設計時に意図した強度バランスと大きな乖離が起こることがあり、例えば矩形のマークの片側のエッジは視認性が高いが逆側のエッジの視認性が低い等、マークからの出射光に偏ることがある。そのため、単位領域のサイズはマークよりも小さいことが望ましい。
このような所望の照射パターン(図14(b))に光を回折させる回折格子パターン(図14(a))の設計は、例えば、IFTA(Iterative Fourier Transform Algorithm)を利用することができる。このIFTAは、図形を動かしながらフーリエ変換を繰り返す設計手法であり、一般的に用いられている。このIFTAを用いれば、高速でターゲット(設計狙い)に対して非常に精度の高い回折格子の設計が可能である。
単位領域1001から出射されるパターンについては、図14(b)に示した形態に限らず、他のパターンとしてもよい。ただし、単位領域1001から出射されるパターンは、広い範囲に出射される回折格子とすることが、様々な方向からの視認性を向上させるために望ましい。
図15(a)に示すように、8μm×8μmの大きさの回折格子が配列された領域を単位領域1002としている。この回折格子も、2レベルの回折格子であって、その凹凸形状は、回折格子が形成されている面の法線方向から見て凸部と凹部との境界が曲線と複数の線分を繋げた折れ線との双方を含んでいる。そして、この単位領域1002は、対応する波長の光が照射されると、図15(b)に示すような11×11個の照射スポットSPが波数空間上で等間隔に並んだパターンを構成する光を出射する。
観察時の照明装置はいわゆる暗視野照明と呼ばれる、斜めから照射する照明装置であることが多い。この照明光をマーカーで曲げて対物レンズに入れることを想定すると、本実施形態で示す照射スポットSPのうちどれかは、8度以上、より好ましくは、10度以上の回折角を持つことが望ましい。
暗視野照明を利用する方法では、対物レンズに光が直接入らないように斜め等から光を照射することにより、マークで散乱又は回折された光のみを観察することができるため、明視野照明を利用する方法と比較してマーク視認性が向上する。これは、明視野を採用する比較例1の場合に比べて、比較例2の結果が改善していることからもわかる。
その結果、4μm幅の比較例2に対し、2μm幅の比較例3の方が、マーク視認性が向上することが確認できた。
また、回折角の理論式sinθ=λ/pitchで回折角を算出すると、ライン幅4μmの比較例2の回折角は4度に対し、ライン幅2μmの比較例3は8度となり、回折角が大きい方が、視認性が向上することがわかる。
以上により、1次光の回折角は、8度以上であることが望ましく、より好ましくは、10度以上が望ましい。
この課題を改善する為に、1次回折角が直交する2軸上にそれぞれ2つ以上を有するDOEパターンを展開したマーク基材を作製し、検査視認性評価を実施した結果、基材セット位置(マークライン配列方向)を0度から90度回転してもマーク視認性は変化せず、さらに視認性が大幅に向上した(本実施形態)。
以上により、1次回折光が少なくとも4つ以上かつ2軸方向以上のパターンを出射する形態が望ましいといえる。
あるいは、マークの形状を同定し、シミュレーションによって散乱特性及び透過特性を検証することができる。具体的には、顕微鏡又はSEM等で上部からの絵柄を取得し、輪郭を抽出することでシミュレーションの平面図の入力値とすることができ、AFMやSEM等で凹凸高さを取得することができれば、シミュレーションの高さ方向の入力値とすることができる。このシミュレーションはフーリエ変換等によるThin modelとRCWA又はFDTD等によるRigorous modelのどちらでも良い。前記Thin modelを用いる場合、前記凹凸高さは位相差に変換して入力することで高さ方向の入力値とすることができる。前記Rigorous modelを用いる場合、前記凹凸高さをそのままシミュレーション高さの入力値とでき、さらにはAFMやSEMによる凹凸高さは、測定結果の平均値としてよい。
図17に示した対比において用意したサンプルは、欠陥マークにラインアンドスペースを構成した従来の形態を比較例1から比較例3とし、欠陥マークに回折格子を構成し本実施形態のサンプルを実施例1から実施例3とした。なお、図17では、欠陥マーク40に相当する位置を拡大して示している。また、図17の欠陥マークは、4つ設けた構成となっている。
同様に、実施例1から実施例3は、マークの構成は同じ回折格子であるが、照明条件が異なっている。実施例1は、明視野であり、実施例2は、暗視野であり、実施例3は、特殊暗視野である。
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
さらには、マークに設けられる回折格子と光学的機能を発揮する光学機能領域である回折格子の上記平均高低差を比較する場合、約30%の差があっても同一の高さとみなすことができる。なぜなら、図14で示すように、回折光学素子のパターン幅はサブミクロンまたはそれ以下のサイズになることが多く、このような微細パターンの加工においては、パターン幅に応じてリソグラフィ工程のエッチング深さが変化するなど、大きな製造エラーが発生することが多いためである。
基材IDは、素子の光学特性に影響を与えないことが必要であり、通常は素子に光が当たる有効エリア外に付与することが好ましいが、使用する光に対して影響を与えない手法をとる場合はその限りではない。例えば、対象波長において実質透明なインキを用いる等する場合には、素子に光が当たる有効エリア内に基材IDを設けてもよい。
また光学素子面(微細凹凸側)にあってもその裏面にあってもよいが、賦型の前に付与する場合は、賦型プロセスへの影響を考慮し賦型面と逆の面に形成するのが好ましい。賦型の後に付与する場合は樹脂面でも裏面でもよく、個片化した後に付与する場合は、素子の側面に付与してもよい。側面に付与する手法は、素子の有効エリアが広く付与する場所が狭すぎる場合等に効果的であり、素子をピックアップした状態で付与する。
賦型前の賦型用基材に付与、賦型後に付与、検査後に付与、ダイシング後の各チップに付与、といった工程が考えられる。チップに付与する基材IDは、チップサイズが小さい場合目視困難になるため、基材状態で工程を流す場合の利便性を考えた場合、賦型用基材に視認できる大きさの基材IDを付与するという運用と併用してもよい。
基材IDを付与する方法としてレーザマーキング、インクジェット、スタンプといった手法が適用可能である。必ずしも目視で識別できなくても、顕微鏡や深さセンシング装置等で、描画パターンをベース部に比べ識別できればよい。
レーザマーキングは各種方式があるが、付与する面の材質や描画サイズに応じて適宜方式を選定する。材料の蒸散を伴う手法は異物発生につながりやすく、樹脂材料に対する場合はエキシマーレーザが好ましい。ガラス基材に刻印する場合は破損しやすくなる懸念があるため、深さはなるべく浅くしたほうが良い(数μm以下)。また発泡や炭化といった樹脂材料を発色させる手法も適用できる。その場合、非描画部とのコントラストをつければよく、あらかじめ形成した背景凹凸パターンに対しレーザ照射で形状を変化させ、形状変化でコントラストをつけるといった手法でもよい。凹凸パターンは特に限定しないが、欠陥マークと同じ形状にすると後々視認しやすい。
また、基材IDを付与する方法としてインクジェットやスタンプ等でインキを付着する方式も用いることができる。スタンプを用いる場合は、基材毎に番号を変えられるようなものを用いる。使用するインキは産業用に通常使用されるものから、印字する面の材質、濡れ性等から適宜選択すればよいが、環境試験で消失しないものを選定する。また、使用する際の対象波長で実質透明である場合は、印字する場所の制限が緩和される。例えば赤外線用の光学素子の場合、赤外線を透過するインキを用いれば有効エリア内に印字することも可能である。その場合、基材IDの表示サイズを比較的大きくすることができ、検知が容易になる。また、レーザやインクジェット、スタンプといった手法は素子の有効エリアを避ける必要があるため、正確な描画位置制御が必要となるが、実質透明なインキを用いる場合は位置合わせの精度は緩和され、プロセスの尤度が広がる。
1a 基材
1b 樹脂層
10 回折格子
11 高屈折率部
11a 凸部
11b 側壁部
12 凹部
13 空間
14 低屈折率部
15 回折層
20 成形型識別符号
30 位置識別符号
40,40a,40b,40c 欠陥マーク
50 切断位置マーク
200 スクリーン
201 光
202 照射領域
204 照射領域
210 光源部
500 多面付け体
1001,1002 単位領域
Claims (10)
- 凹凸形状により構成されたマークを備えた光学素子であって、
前記凹凸形状は、前記凹凸形状が設けられている面の法線方向から見て凸部と凹部との境界が複数の方向に向いて配置されている光学素子。 - 請求項1に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、前記法線方向から見て凸部と凹部との境界が曲線と複数の線分を繋げた折れ線との少なくとも一方を含むこと、
を特徴とする光学素子。 - 請求項1又は請求項2に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、回折格子であって、1次回折光が少なくとも4つ以上かつ2軸方向以上のパターンを出射すること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項3に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、回折格子であって、550nmの波長の光を正面から入れたときの1次回折光のうち少なくとも4つ以上のパターンの回折角が8度以上であること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項3に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、回折格子であって、550nmの波長の光を正面から入れたときの1次回折光のうち少なくとも4つ以上のパターンの回折角が10度以上であること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項3から請求項5までのいずれかに記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、前記パターンを出射することができる回折格子の領域である単位領域を有しており、前記単位領域が前記マーク内に複数配列されていること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項1から請求項6までのいずれかに記載の光学素子において、
当該光学素子の光学的機能を発揮する光学機能領域を備え、
前記マークは、前記光学機能領域の周囲に配置されていること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項7に記載の光学素子において、
前記光学機能領域は、回折格子を備えること、
を特徴とする光学素子。 - 請求項8に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、回折格子であって、前記光学機能領域の回折格子と同一の凹凸高さを持つこと、
を特徴とする光学素子。 - 請求項8又は請求項9に記載の光学素子において、
前記凹凸形状は、回折格子であって、前記光学機能領域の回折格子と同一設計の回折格子により構成されていること、
を特徴とする光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024070036A JP2024091873A (ja) | 2019-04-08 | 2024-04-23 | 光学素子 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019073538 | 2019-04-08 | ||
JP2019073538 | 2019-04-08 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024070036A Division JP2024091873A (ja) | 2019-04-08 | 2024-04-23 | 光学素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020173426A true JP2020173426A (ja) | 2020-10-22 |
Family
ID=72831307
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020024074A Pending JP2020173426A (ja) | 2019-04-08 | 2020-02-17 | 光学素子 |
JP2024070036A Pending JP2024091873A (ja) | 2019-04-08 | 2024-04-23 | 光学素子 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024070036A Pending JP2024091873A (ja) | 2019-04-08 | 2024-04-23 | 光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2020173426A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002517046A (ja) * | 1998-05-26 | 2002-06-11 | ハン,ウェニュウ | カード、器具およびドキュメントの模造を排除するための方法および装置 |
JP2005088446A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | National Printing Bureau | 真偽判別可能な形成体 |
JP2018189939A (ja) * | 2017-01-18 | 2018-11-29 | 大日本印刷株式会社 | 光学素子、光学素子の多面付け体、光学モジュール及び光照射装置 |
-
2020
- 2020-02-17 JP JP2020024074A patent/JP2020173426A/ja active Pending
-
2024
- 2024-04-23 JP JP2024070036A patent/JP2024091873A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002517046A (ja) * | 1998-05-26 | 2002-06-11 | ハン,ウェニュウ | カード、器具およびドキュメントの模造を排除するための方法および装置 |
JP2005088446A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | National Printing Bureau | 真偽判別可能な形成体 |
JP2018189939A (ja) * | 2017-01-18 | 2018-11-29 | 大日本印刷株式会社 | 光学素子、光学素子の多面付け体、光学モジュール及び光照射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024091873A (ja) | 2024-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102003638B (zh) | 发光装置、面光源装置以及显示装置 | |
CN204758502U (zh) | 透镜测试系统 | |
US11034082B2 (en) | Sensor that simulates resin optical properties | |
JP2011527769A (ja) | 虚像を表示する光学素子の製造プロセス | |
JP7476933B2 (ja) | 回折光学素子 | |
CN109839792B (zh) | 具备编码光的结构光投影装置、电子设备及其应用 | |
JP2009236533A (ja) | キャリブレーションプレート | |
CN104181698B (zh) | 对位标靶及具有其的3d柱镜膜、光学膜和显示装置 | |
JP7230358B2 (ja) | 回折光学素子、光照射装置、光照射システム、投影パターンの補正方法 | |
US11366256B2 (en) | Diffractive optical element | |
JP2006267109A (ja) | 光学レンズの屈折特性を測定するための測定装置 | |
JP7488652B2 (ja) | 回折光学素子、光照射装置、照射パターンの読取り方法 | |
JP7206702B2 (ja) | 回折光学素子、回折光学素子の多面付け体、回折光学素子の管理方法、回折光学素子の検査方法 | |
KR102346308B1 (ko) | 움직이는 유리 시트 상의 식별 코드를 판독하기 위한 장치 | |
JP2020173426A (ja) | 光学素子 | |
CN103443660A (zh) | 超疏水基板及其制造方法 | |
CN107430221B (zh) | 具备位置测定部的部件及测定方法 | |
JP7151256B2 (ja) | 回折光学素子、多面付け体、多面付け体の検査方法、光照射装置、光照射装置の調整方法 | |
US20110062632A1 (en) | Template with identification mark and method of manufacturing the same | |
McCarthy et al. | LED-based collimating line-light combining freeform and fresnel optics | |
KR20140084226A (ko) | 광확산 필름, 광확산 필름의 표면 형상을 규정하는 방법, 및 표면 형상 규정 프로그램을 기록한 기록 매체 | |
WO2018135491A1 (ja) | マーカ | |
JP6057244B2 (ja) | 光学部材の識別情報再生方法、光学部材 | |
JP6075352B2 (ja) | パターン照射装置およびシステム | |
JP2023016588A (ja) | マイクロアレイレンズ、及び投影装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231106 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20240123 |