JP2020173309A - 液晶パネル - Google Patents

Abstract

【課題】液晶溜まりの問題を解消する。【解決手段】液晶パネル１０は、液晶層１０Ｃと、液晶層１０Ｃを挟み込む一対の基板１０Ａ，１０Ｂと、一対の基板１０Ａ，１０Ｂのうちの一方の基板１０Ａから他方の基板１０Ｂへ向けて突出するよう形成されて他方の基板１０Ｂ側に当接されることで一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄを保持するスペーサ１２と、一方の基板１０Ａにおいてスペーサ１２の下層側に配されるオーバーコート膜１９であって、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されるオーバーコート膜１９と、を備える。【選択図】図２

Description

本発明は、液晶パネルに関する。

従来の液晶パネルの一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。この液晶パネルは、各辺が１ｍ以上である矩形状の基材と、前記基材の複数の画素領域上にそれぞれ形成された着色層と、前記基材の各画素領域上に複数本形成された柱状スペーサとを有するカラーフィルタ用多面付け基板を備える。カラーフィルタ用多面付け基板は、前記各画素領域における、前記柱状スペーサの上底面の面積の合計が、前記各画素領域の面積を１とした場合に０．０００２〜０．０００６の範囲内とされる。

特開２００６−１８４７２１号公報

上記した特許文献１に記載された液晶パネルによれば、画素領域に対する柱状スペーサの上底面の面積の比率が上記した数値範囲内とされることで、液晶層中の液晶が下に流れ落ちて生じる重力ムラがないものとされる。しかしながら、重力ムラの問題は、上記のようなスペーサの面積比率に係る数値範囲内であれば全て解消されるとは限らない。例えば、液晶パネルを構成する基板と液晶層との界面における表面状態によっては重力ムラの問題が解消されない可能性もある。

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、液晶溜まりの問題を解消することを目的とする。

（１）本発明の一実施形態は、液晶層と、前記液晶層を挟み込む一対の基板と、前記一対の基板のうちの一方の基板から他方の基板へ向けて突出するよう形成されて前記他方の基板側に当接されることで前記一対の基板の間の間隔を保持するスペーサと、前記一方の基板において前記スペーサの下層側に配されるオーバーコート膜であって、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップが４ｎｍ以下となるよう構成されるオーバーコート膜と、を備える液晶パネルである。

（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、前記オーバーコート膜は、前記基準範囲の実測表面積を、前記基準範囲を平滑面と仮定したときの仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が０．０７１％以下となるよう構成される液晶パネルである。

（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）または上記（２）の構成に加え、前記オーバーコート膜は、紫外線硬化性樹脂材料からなる液晶パネルである。

（４）また、本発明のある実施形態は、上記（１）から上記（３）のいずれか１つの構成に加え、前記オーバーコート膜及び前記スペーサの上層側にて前記液晶層に臨むよう配されていて前記液晶層に含まれる液晶分子を配向させるよう光配向処理がなされた光配向膜を備える液晶パネルである。

本発明によれば、液晶溜まりの問題を解消することができる。

本発明の一実施形態に係る液晶パネルの概略的な断面図 液晶パネルの表示領域における断面図 液晶溜まりが生じた液晶パネルの概略的な断面図 比較実験１における比較例のＡＦＭ像を示す図 比較実験１における実施例のＡＦＭ像を示す図 比較実験１における比較例に関し、図４の断面解析ラインＬ１での断面プロファイルを示す図 比較実験１における実施例に関し、図５の断面解析ラインＬ２での断面プロファイルを示す図 比較実験１における比較例のＡＦＭ像の一部を拡大した図 比較実験１における実施例のＡＦＭ像の一部を拡大した図 比較実験１における比較例に関し、図８の断面解析ラインＬ３での断面プロファイルを示す図 比較実験１における比較例に関し、図８の断面解析ラインＬ４での断面プロファイルを示す図 比較実験１における実施例に関し、図９の断面解析ラインＬ５での断面プロファイルを示す図 比較実験１における比較例及び実施例の表面粗さ及び表面積に関する数値をまとめた表を示す図 比較実験２における比較例のスペーサの突出高さと、一対の基板の間の間隔からスペーサの突出高さを差し引いた差と、の関係を示す図 比較実験２における実施例のスペーサの突出高さと、一対の基板の間の間隔からスペーサの突出高さを差し引いた差と、の関係を示す図 比較実験２における比較例の一対の基板の間の間隔と、液晶充填量と、の関係を示す図 比較実験２における実施例の一対の基板の間の間隔と、液晶充填量と、の関係を示す図 比較実験２における比較例の液晶充填量と、界面張力と、の関係を示す図 比較実験２における実施例の液晶充填量と、界面張力と、の関係を示す図 比較実験２における比較例及び実施例の表面積増加率と、界面張力と、の関係を示す図

＜実施形態＞
本発明の一実施形態を図１から図２０によって説明する。本実施形態では、液晶パネル１０について例示する。この液晶パネル１０は、バックライト装置（照明装置）からの光を利用して画像を表示するものである。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図１及び図２などの上側を表側とし、下側を裏側とする。

図１は、液晶パネル１０の概略的な断面図である。液晶パネル１０は、図１に示すように、一対の基板１０Ａ，１０Ｂと、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間に挟み込まれる液晶層１０Ｃと、を少なくとも備える。一対の基板１０Ａ，１０Ｂは、いずれも透明なガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなる。一対の基板１０Ａ，１０Ｂのうち、表側（正面側）がＣＦ基板（一方の基板、対向基板）１０Ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（他方の基板、アクティブマトリクス基板、ＴＦＴ基板）１０Ｂとされる。液晶層１０Ｃは、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶材料からなる。本実施形態に係る液晶層１０Ｃを構成する液晶材料は、誘電率異方性が正の液晶材料（ポジ型の液晶材料）である。本実施形態に係る液晶パネル１０は、長方形状をなしており、例えば一対の基板１０Ａ，１０Ｂにおける長辺方向が各図面のＸ軸方向と、短辺方向が各図面のＹ軸方向と、厚さ方向（板面の法線方向）が各図面のＺ軸方向と、それぞれ一致している。

液晶パネル１０には、図１に示すように、液晶層１０Ｃを取り囲む形で一対の基板１０Ａ，１０Ｂの外周端部の間に介在するシール部１１と、シール部１１よりも中央側に配されて一対の基板１０Ａ，１０Ｂの中央側部分の間に介在するスペーサ１２と、が設けられている。シール部１１は、例えば紫外線硬化性樹脂材料や熱硬化性樹脂材料などからなり、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間に挟み込まれた液晶層１０Ｃを封止するよう枠状をなす。スペーサ１２は、一対の基板１０Ａ，１０ＢのうちのＣＦ基板１０Ａに設けられている。スペーサ１２は、ＣＦ基板１０Ａから液晶層１０Ｃを貫きつつアレイ基板１０Ｂ側に向けて突出する略柱状に形成されていて、その突出先端面がアレイ基板１０Ｂの内面に当接されることで、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄ、つまり液晶層１０Ｃの厚み（セルギャップ）を保持する。スペーサ１２によって保持される液晶層１０Ｃの厚みは、例えば２μｍ〜５μｍ程度とされるのが好ましいが、必ずしもその限りではない。また、以下では、液晶パネル１０における長辺方向（Ｘ軸方向）についての内寸を長さ寸法（高さ寸法）Ｈとし、液晶パネル１０における短辺方向（Ｙ軸方向）についての内寸を幅寸法Ｗとする。なお、上記した「液晶パネル１０の内寸」とは、シール部１１の内周側端面間の寸法、つまり液晶層１０Ｃの外寸のことである。

次に、液晶パネル１０の内部構造について図２を用いて説明する。図２は、液晶パネル１０のうち画像が表示される表示領域における断面図である。図２では、液晶パネル１０の内部構造に係る各種構造物の図示を簡略化している。アレイ基板１０Ｂの内面側における表示領域には、図２に示すように、画素回路部１３、画素電極１４及び共通電極１５が少なくとも設けられている。画素回路部１３は、走査信号を伝送するゲート配線（走査配線）と、画像信号を伝送するソース配線（信号配線）と、ゲート配線及びソース配線に接続されるスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）と、を少なくとも有する。ゲート配線は、金属膜（第１金属膜）からなりＸ軸方向に沿って延在していてＹ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。ソース配線は、ゲート配線に対してゲート絶縁膜を介して上層側に配される金属膜（第２金属膜）からなり、Ｙ軸方向に沿って延在していてＸ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。ＴＦＴは、半導体膜からなるチャネル部などを有する既知の構成であり、画素電極１４に接続されている。ＴＦＴは、ゲート配線に伝送される走査信号に基づいて駆動され、ソース配線に伝送される画像信号を、チャネル部を介して画素電極１４に供給し、画素電極１４を所定の電位に充電する。ＴＦＴ及び画素電極１４は、ゲート配線及びソース配線により囲まれた領域に配されており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。画素電極１４は、透明電極膜からなる。共通電極１５は、画素電極１４と同様に透明電極膜からなり、画素電極１４に対して透明電極膜間絶縁膜（層間絶縁膜）１６を介して下層側に配されている。共通電極１５は、表示領域の全域にわたって延在するベタ状をなしており、全ての画素電極１４と重畳するよう配されている。共通電極１５は、画素回路部１３によってほぼ一定の共通電位（基準電位）が供給されている。画素電極１４と共通電極１５との間の電位差に基づいて発生する電界には、アレイ基板１０Ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１０Ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が含まれる。従って、この液晶パネル１０は、フリンジ電界を利用して液晶層１０Ｃに含まれる液晶分子の配向状態を制御する、いわゆるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。

次に、ＣＦ基板１０Ａの内部構造について説明する。ＣＦ基板１０Ａの内面側における表示領域には、図２に示すように、各画素電極１４と重畳する位置に多数個のカラーフィルタ１７が設けられている。カラーフィルタ１７は、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）を呈する３色がＸ軸方向に沿って繰り返し交互に並ぶ配置とされるとともに、それらがＹ軸方向に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。ＣＦ基板１０Ａの内面側には、隣り合うカラーフィルタ１７間を仕切ることで混色を防ぐなどのために遮光部（ブラックマトリクス）１８が設けられている。遮光部１８は、表示領域においてゲート配線及びソース配線と重畳するよう格子状をなしている。カラーフィルタ１７及び遮光部１８の上層側には、オーバーコート膜１９が形成される。オーバーコート膜１９は、ＣＦ基板１０Ａにおいてほぼ全域にわたって概ねベタ状に設けられており、その膜厚が例えば１．５μｍ程度とされる。オーバーコート膜１９は、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。オーバーコート膜１９の上層側には、既述したスペーサ１２が設けられている。スペーサ１２は、例えば光透過性を有する樹脂材料からなり、オーバーコート膜１９の表面からＺ軸方向に沿ってアレイ基板１０Ｂ側に向けて突出している。スペーサ１２は、光透過性を有するものの、自身の付近において液晶材料の配向を乱し易いことから、遮光部１８やアレイ基板１０Ｂ側の各種配線（遮光構造物）などに対して重畳するよう配されるのが好ましいが、必ずしもその限りではない。スペーサ１２は、ＣＦ基板１０Ａの板面内において規則的に配列されるのが好ましいが、必ずしもその限りではない。

両基板１０Ａ，１０Ｂのうち液晶層１０Ｃに接する最内面には、図２に示すように、液晶層１０Ｃに含まれる液晶分子を配向させるためのアレイ側光配向膜２０及びＣＦ側光配向膜（光配向膜）２１がそれぞれ設けられている。アレイ側光配向膜２０及びＣＦ側光配向膜２１は、各基板１０Ａ，１０Ｂにおいて少なくとも表示領域のほぼ全域にわたってベタ状にそれぞれ形成されており、その厚みが例えば１００ｎｍ程度とされる。アレイ側光配向膜２０及びＣＦ側光配向膜２１は、いずれも例えばポリイミドなどの光分解型の光配向膜材料からなり、特定の波長領域（例えば紫外領域）の直線偏光が照射されることで光配向膜材料に含まれる高分子鎖が分解されて異方性を発現し、液晶分子を配向させることができる。具体的には、本実施形態では、アレイ側光配向膜２０及びＣＦ側光配向膜２１には、ワイヤーグリッド偏光子を用いて波長が２５４ｎｍとされる紫外領域の直線偏光を、積算照射量が２５０ｍＪ／ｍｍ^２程度となるよう照射する光配向処理と、その照射後に２３０℃程度の温度環境で３０分間程度ベークして液晶を配向させるための処理と、が施されている。アレイ側光配向膜２０は、画素電極１４及び透明電極膜間絶縁膜１６の上層側に配されており、少なくとも表示領域において画素電極１４及び透明電極膜間絶縁膜１６を全域にわたって上層側から覆っている。ＣＦ側光配向膜２１は、オーバーコート膜１９及びスペーサ１２の上層側に配されており、少なくとも表示領域においてオーバーコート膜１９及びスペーサ１２を全域にわたって上層側から覆っている。

上記のような構成の液晶パネル１０を、例えば長辺方向（Ｘ軸方向）が鉛直方向に沿うよう立て掛けた状態で所定時間放置したとき、図３に示すように、液晶材料が重力により液晶パネル１０の下端側に溜まるおそれがある。液晶材料が液晶パネル１０の下端側に溜まると、下端側において液晶層１０Ｃの厚みが局所的に大きくなり、階調表示が意図とは異なるものとなる表示不良（重力ムラ）が生じるおそれがある。なお、図３は、液晶パネル１０の下端側に液晶材料が溜まった状態を示す断面図である。このような液晶溜まりの問題は、液晶層１０Ｃを構成する液晶材料の充填量が過剰となり、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔がスペーサ１２の突出高さに比べて過大になったときに生じる可能性が高くなっている。上記とは逆に、液晶材料の充填量が不足し、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔がスペーサ１２の突出高さに比べて過小になると、低温環境下において液晶材料が熱収縮することに起因して気泡（低温気泡、真空気泡）が生じるおそれがある。このような気泡が生じると、やはり表示不良（気泡ムラ）として使用者に視認されるおそれがある。このように、液晶材料の充填量には、上記した液晶溜まり（重力ムラ）の問題や気泡（気泡ムラ）の問題がいずれも生じることがない適正範囲が存在しており、その適正範囲が広いほど製造条件などに起因する液晶材料の充填量に係る変動を許容することができ、良品率の向上などを図る上で好ましい傾向にある。

そこで、本実施形態に係る液晶パネル１０を構成するＣＦ基板１０Ａに備わるオーバーコート膜１９は、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されている（図７を参照）。本実施形態では、上記した基準範囲は、好ましくは１辺が５μｍの正方形とされるが、必ずしもその限りではない。このオーバーコート膜１９の表面は、微細な凹凸が存在しない完全な平滑面として形成されることはなく、微細な凹凸が生じるのは不可避となっている。オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸は、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積に大きな影響を及ぼすものとなっている。ここで、仮にオーバーコート膜１９の表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍを超えると、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積が過大となるため、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力の低下を招き、結果として上記した液晶溜まりの問題が生じ易くなってしまう。その点、オーバーコート膜１９の表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下とされていれば、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積が十分に小さく保たれるので、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力が十分に確保される。従って、液晶パネル１０を立て掛けた場合であっても、液晶層１０Ｃに含まれる液晶材料が十分な界面張力によって重力に抗することができ、液晶材料が液晶パネル１０の下端側に溜まる事態が生じ難くなる。これにより、液晶材料の充填量に係る適正範囲を広くすることができるので、製造条件などに起因して液晶材料の充填量が予定量よりも多少多くなっても液晶溜まりに起因する表示不良が生じずに済む場合が多くなる。従って、良品率の向上などを図る上で好適となる。

好ましくは、オーバーコート膜１９は、基準範囲を実際に測定して得られる実測表面積を、基準範囲を微細な凹凸が存在しない平滑面と仮定したときの仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が０．０７１％以下となるよう構成されている（図１３を参照）。上記した仮定表面積は、基準範囲における理論上の最小の表面積となっている。これに対し、実際のオーバーコート膜１９の表面には、微細な凹凸が生じているため、実測表面積は、凹凸の分だけ上記した仮定表面積よりも大きくなる。そして、上記した凹凸に係るギャップＧＰが大きくなるほど、実測表面積と仮定表面積との差が大きくなるとともに、実測表面積を仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が大きくなる傾向にある。ここで、表面積増加率が仮に０．０７１％を超えると、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが過大になるとともに基準範囲における表面積が過大となるため、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力が低下してしまい、上記した液晶溜まりの問題が生じ易くなる。これに対し、表面積増加率が０．０７１％以下とされていれば、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが十分に小さくされるとともに基準範囲における表面積が十分に小さくされるので、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力が十分に確保される。これにより、上記した液晶溜まりの問題が生じ難くなり、良品率の向上などを図る上で好適となる。

より好ましくは、オーバーコート膜１９は、紫外線硬化性樹脂材料からなる。具体的には、本実施形態に係るオーバーコート膜１９は、紫外線硬化性樹脂材料の一種であるアクリル樹脂からなる。このアクリル樹脂は、ラジカル重合型であり、紫外線が照射されると、紫外線が光重合開始剤により吸収されることでラジカルが発生し、それに伴ってアクリロイル基を有するモノマー及びオリゴマーがラジカル重合することで硬化反応が促進されるものである。具体的には、本実施形態では、オーバーコート膜１９は、波長が３６５ｎｍとされる紫外線が、積算照射量が１００ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２程度となるよう照射されることで硬化が図られている。ここで、仮にオーバーコート膜１９が熱硬化性樹脂材料の一種であるエポキシ樹脂からなる場合には、含有する熱硬化剤が大きな体積を占めているために表面に局所的な凸部が形成され易くなっている。このような局所的な凸部によって上記したギャップＧＰが４ｎｍを超えるおそれがある。その点、本実施形態に係るオーバーコート膜１９は、紫外線硬化性樹脂材料からなるので、上記のような局所的な凸部が形成されることが避けられる。これにより、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが４ｎｍ以下となる確実性が高くなる。従って、上記した液晶溜まりの問題を生じ難くなり、良品率の向上などを図る上で好適となる。

また、上記のような構成のオーバーコート膜１９及びスペーサ１２の上層側には、図２に示すように、ラビング処理がなされた配向膜ではなく、光配向処理がなされたＣＦ側光配向膜２１が配されている。このＣＦ側光配向膜２１は、ラビング処理がなされた配向膜を用いた場合に比べると、表面に荒れが生じ難くなるとともに表面に削れ滓などが付着することが避けられている。従って、ＣＦ側光配向膜２１は、ラビング処理がなされた配向膜を用いた場合に比べると、下地であるオーバーコート膜１９の表面状態の影響を受け易くなっており、ＣＦ側光配向膜２１の表面には、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸と同様の凹凸が生じ易くなっている。このようなＣＦ側光配向膜２１の下地となるオーバーコート膜１９は、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されているので、ＣＦ側光配向膜２１の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰも十分に小さくなる。これにより、液晶溜まりの問題が生じ難くなり、良品率の向上などを図る上で好適となる。

次に、本実施形態に係る液晶パネル１０の優位性を検証するため、以下の比較実験１，２を行った。まず、比較実験１について説明する。比較実験１では、オーバーコート膜が熱硬化性樹脂材料の一種であるエポキシ樹脂とされるＣＦ基板を比較例とし、オーバーコート膜１９が紫外線硬化性樹脂材料の一種であるアクリル樹脂とされるＣＦ基板を実施例としており、これら比較例及び実施例に備わる各オーバーコート膜の表面に生じた凹凸を測定している。これら比較例及び実施例は、オーバーコート膜の構成を除いては、本段落以前に記載したＣＦ基板１０Ａと同様の構成である。比較実験１では、オーバーコート膜の表面に存在する微細な凹凸を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscope）を用いて計測している。原子間力顕微鏡は、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ：Scanning Probe Microscope）の一種であり、微細な探針で試料表面を走査し、試料と探針の原子間に働く力（原子間力）を検出することで、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に測定する手法のものである。原子間力顕微鏡による測定対象範囲は、比較例及び実施例におけるオーバーコート膜の表面のうち、基準範囲である１辺が５μｍの正方形とされる。

比較実験１の実験結果は、図４から図１３に示される通りである。図４及び図５は、オーバーコート膜の表面における基準範囲（１辺が５μｍの正方形）を原子間力顕微鏡により測定されたデータに基づく凹凸を濃淡により表したＡＦＭ像を示す図である。図４が比較例の実験結果であり、図５が実施例の実験結果である。図４及び図５には、ＡＦＭ像における各図の左端位置を基準とした寸法が示されている。また、図４及び図５には、ＡＦＭ像に係る濃淡のサンプルが凹凸の高さ寸法と共に示されており、当該サンプルには、基準位置（０ｎｍ）から＋２０ｎｍとなる凸部が最も淡くなり、基準位置から−２０ｎｍとなる凹部が最も濃くなるよう示されている。図６は、図４に示される断面解析ラインＬ１での断面プロファイルを示す図である。図７は、図５に示される断面解析ラインＬ２での断面プロファイルを示す図である。図６及び図７に示される縦軸は、Ｚ軸方向についての基準位置（０ｎｍ）からの高さ寸法を表しており、正の値が「凸部」を、負の値が「凹部」を、それぞれ表すとともに単位が「ｎｍ」である。図６及び図７に示される横軸は、図４及び図５における左端位置を基準（０μｍ）とした断面解析ラインＬ１，Ｌ２上の位置を示しており、単位が「μｍ」である。

図８は、図４に示されるＡＦＭ像の一部を拡大した図である。図９は、図５に示されるＡＦＭ像の一部を拡大した図である。詳しくは、図８及び図９は、１辺が５μｍの正方形の基準範囲に係るＡＦＭ像を示す図４及び図５のうち、１辺が１μｍの正方形の範囲を拡大したものである。また、図８及び図９には、図４及び図５と同様に、ＡＦＭ像における各図の左端位置を基準とした寸法（０μｍ〜１μｍ）と、ＡＦＭ像に係る濃淡のサンプル及び凹凸の高さ寸法（±１０ｎｍ）と、がそれぞれ示されている。図１０は、図８に示される断面解析ラインＬ３での断面プロファイルを示す図である。図１１は、図８に示される断面解析ラインＬ４での断面プロファイルを示す図である。図１２は、図９に示される断面解析ラインＬ５での断面プロファイルを示す図である。図１０から図１２に示される縦軸及び横軸は、上記した図６及び図７に示される縦軸及び横軸と同様である（但し、横軸の単位が「ｎｍ」であることを除く）。図１３は、原子間力顕微鏡により測定されたデータに基づいて得られた表面粗さ及び表面積に関する数値をまとめた表である。図１３の表には、二乗平均平方根粗さＲｑ（単位は「ｎｍ」）と、算術平均粗さＲａ（単位は「ｎｍ」）と、仮定表面積（単位は「μｍ^２」）と、実測表面積（単位は「μｍ^２」）と、表面積増加率（単位は「％」）と、が比較例及び実施例についてそれぞれ示されている。このうち、仮定表面積は、１辺が５μｍの正方形の基準範囲を、微細な凹凸が存在しない平滑面と仮定したときの表面積であり、基準範囲における理論上の最小の表面積となっている。実測表面積は、オーバーコート膜の表面に生じた凹凸を原子間力顕微鏡により測定することで得られた実際の表面積である。表面積増加率は、上記した実測表面積を仮定表面積にて除した値の百分率である。

比較実験１の実験結果について説明する。図４及び図６によれば、比較例の基準範囲には、全域にわたって微細な凹凸が繰り返し存在する中に高さ寸法が６ｎｍ〜１０ｎｍ程度の局所的な凸部が複数ランダムに存在していることが分かる。図６によれば、比較例の基準範囲に生じた凹凸における最高位位置と最低位位置とのギャップＧＰは、約１１ｎｍとされる。一方、図５及び図７によれば、実施例の基準範囲には、全域にわたって微細な凹凸が繰り返し存在するものの、局所的な凸部については存在していないことが分かる。図７によれば、実施例の基準範囲に生じた凹凸における最高位位置と最低位位置とのギャップＧＰは、比較例に比べて小さく、４ｎｍ以下とされる。より詳しくは、図８，図１０及び図１１によれば、比較例では、局所的な凸部を除いては、図９及び図１２に示される実施例と同様に微細な凹凸が繰り返し存在していることが分かる。比較例のみに存在が確認される局所的な凸部が生じる原因は、熱硬化性樹脂材料であるエポキシ樹脂に含まれる熱硬化剤が他の成分に比べて大きな体積を占めているため、その熱硬化剤を中心として隆起が生じることに因ると推考される。一方、実施例は、オーバーコート膜が紫外線硬化性樹脂材料であるアクリル樹脂を用いて形成されており、エポキシ樹脂に含まれるような熱硬化剤を含んでいないことから、局所的な凸部が存在しない表面状態となっているものと推考される。

図１３によれば、二乗平均平方根粗さＲｑ及び算術平均粗さＲａの各数値に関しては、いずれも比較例よりも実施例の方が小さくなっている。このことから、実施例は、比較例よりもオーバーコート膜の表面が荒れていないことが分かる。そして、実測表面積に関しては、実施例は、２５．０１７７５μｍ^２であり、比較例の２５．０２６２５μｍ^２よりも小さくなっている。これに伴い、表面積増加率に関しては、実施例は、０．０７１％であり、比較例の０．１０５％よりも小さくなっている。このような結果となる原因は、上記した二乗平均平方根粗さＲｑ及び算術平均粗さＲａの各数値に加え、先の段落にて説明した図６及び図７に基づいて得られるギャップＧＰの数値からも明らかなように、実施例は、比較例よりも表面に生じる凹凸に起因する表面積の増加が抑制されていることに因る、と推考される。このように、実施例は、比較例よりもオーバーコート膜の表面積が小さくなっている。なお、比較実験１では、原子間力顕微鏡よりも分解能が低い走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いて比較例及び実施例のオーバーコート膜の表面を観察する実験を補足的に行ったが、その実験結果は比較例と実施例とで違いが殆どなかった。つまり、分解能の高い原子間力顕微鏡を用いることで初めて比較例と実施例との表面状態の違いを検出することができた、と言える。

次に、比較実験２について説明する。比較実験２では、液晶パネルを構成する一対の基板の間の間隔（液晶層の厚み）Ｄと、スペーサの突出高さ（高さ）Ａと、をそれぞれ変化させたものを複数ずつ作成し、それらの液晶パネルに不良が生じるか否かを検査した。一対の基板の間の間隔Ｄは、液晶層を構成する液晶材料の充填量に依存する。比較実験２では、上記した比較実験１にて説明した構成の比較例に係るＣＦ基板を備えた液晶パネルを比較例とし、比較実験１にて説明した実施例に係るＣＦ基板を備えた液晶パネルを実施例とし、これら比較例及び実施例について上記した検査を行った。この比較実験２における液晶パネルの検査には、以下に示される高温検査と低温検査とが含まれる。高温検査では、８５℃の温度環境において液晶パネルを立て掛けた状態で１２時間放置した後に検査用の偏光板を通して検査員が目視し、重力ムラの有無を判定した。低温検査では、−４０℃の温度環境において液晶パネルを立て掛けた状態で１２時間放置した後に検査用の偏光板を通して検査員が目視し、低温気泡の有無を判定した。比較実験２に係る実験結果は、図１４及び図１５に示される通りである。図１４及び図１５では、横軸がスペーサの突出高さＡ（単位は「μｍ」）であり、縦軸が一対の基板の間の間隔Ｄからスペーサの突出高さＡを差し引いた差（Ｄ−Ａ）（単位は「μｍ」）である。図１４及び図１５において「○」印は、重力ムラや低温気泡が無い（異常なし）と判定された検査結果を、「×」印は、重力ムラが有ると判定された検査結果を、「＊」印は、低温気泡が有ると判定された検査結果を、それぞれ表している。図１４が比較例に係るグラフであり、図１５が実施例に係るグラフである。

比較実験２の実験結果について説明する。図１４及び図１５によれば、比較例及び実施例は、いずれもスペーサの突出高さＡに拘わらず、一対の基板の間の間隔Ｄからスペーサの突出高さＡを差し引いた差（Ｄ−Ａ）の値が一定の数値範囲であれば、ムラや気泡が無いとの判定となっていることが分かる。詳しくは、上記した差（Ｄ−Ａ）の値が上記した数値範囲の最大値を上回ると、液晶材料の充填量が過剰となって一対の基板の間の間隔Ｄがスペーサの突出高さＡに比べて過大になるため、高温環境下において液晶材料が重力により液晶パネルの下端側に溜まる液晶溜まりが生じてしまい、その結果表示不良が視認されて重力ムラが有るとの判定になっている、と推考される。逆に、上記した差（Ｄ−Ａ）の値が上記した数値範囲の最小値を下回ると、液晶材料の充填量が不足していて一対の基板の間の間隔Ｄがスペーサの突出高さＡに比べて過小になるため、低温環境下において液晶材料が熱収縮してしまい、その結果表示不良が視認されて低温気泡が有るとの判定になっている、と推考される。図１４に示される比較例の実験結果と、図１５に示される実施例の実験結果と、を比較すると、実施例は、比較例に比べると、上記した差（Ｄ−Ａ）の値に関して、重力ムラや低温気泡が生じることがない数値範囲が相対的に広くなっていることが分かる。具体的には、比較例は、上記した数値範囲が−０．２１〜−０．１であって上限値と下限値との差が０．１１であるのに対し、実施例は、上記した数値範囲が−０．２１〜−０．０２であって上限値と下限値との差が０．１９である。上記した数値範囲の上限値及び下限値に関して実施例及び比較例を比較すると、下限値については実施例及び比較例は同値であるものの、上限値については実施例が比較例よりも大きな値となっている。これは、実施例が比較例よりも上記した差（Ｄ−Ａ）の値が大きくても重力ムラ（液晶溜まり）が生じ難くなっていることを意味する。

ところで、比較実験２の説明にも記載したが、一対の基板の間の間隔Ｄは、液晶充填量Ｍに依存している。図１４及び図１５に示される比較実験２の実験結果を、一対の基板の間の間隔Ｄと、液晶充填量Ｍと、の関係で示したグラフを図１６及び図１７に示す。図１６及び図１７では、横軸が一対の基板の間の間隔Ｄ（単位は「μｍ」）であり、縦軸が液晶充填量Ｍ（単位は「ｍｇ」）である。図１６及び図１７において「○」印は、重力ムラや低温気泡が無い（異常なし）と判定された検査結果を、「×」印は、重力ムラが有ると判定された検査結果を、「＊」印は、低温気泡が有ると判定された検査結果を、それぞれ表している。図１６が比較例に係るグラフであり、図１７が実施例に係るグラフである。図１６及び図１７によれば、実施例は、比較例よりも液晶充填量Ｍの値に関して、重力ムラや低温気泡が生じることがない数値範囲、つまり適正範囲が相対的に広くなっていることが分かる。特に、実施例は、比較例よりも液晶充填量Ｍの適正範囲における上限値が大きな値となっており、液晶充填量Ｍが多くても重力ムラが生じ難い傾向であることが分かる。これは、図１４及び図１５に示される実験結果と同様である。

ここで、重力ムラの原因である液晶溜まりについて改めて考察する。液晶溜まりは、液晶層１０Ｃを構成する液晶材料が重力によって液晶パネル１０の下端側に溜まることで生じている。このことから、液晶溜まりは、液晶材料に作用する重力と、それに抗する力と、の釣り合いが崩れたときに生じる現象と捉えることができる。液晶材料が重力に抗する力は、液晶層１０ＣとＣＦ基板１０Ａの内面との界面に生じる界面張力Ｔである。従って、液晶充填量Ｍが適正範囲に収まっていて、液晶材料に作用する重力と、それに抗する界面張力Ｔと、の釣り合いが取れている限りは、液晶溜まりが生じないものの、液晶充填量Ｍが過剰となり、液晶材料に作用する重力がそれに抗する界面張力Ｔを超えると、釣り合いが崩れて液晶溜まりが生じる、と推考される。この重力と界面張力Ｔとの釣り合いを数式化したものが下記の式（１）である。式（１）に示される「Ｔ」が液晶層１０ＣとＣＦ基板１０Ａの内面との界面に生じる界面張力であり、「ｍ」が水平方向（短辺方向）についての単位長さ当たりの液晶材料の重量であり、「ｇ」が重力加速度であり、「Ｄ」が一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔であり、「Ｈ」が液晶層１０Ｃの鉛直方向（長辺方向）の外寸である。式（１）の左辺が液晶層１０Ｃの厚さ方向についての単位長さ当たりの界面張力Ｔであり、式（１）の右辺が液晶材料に作用する、鉛直方向についての単位長さ当たりの重力である。式（１）を変形することで、下記の式（２）が得られる。式（２）に示される「Ｍ」は、液晶材料の重量、つまり液晶充填量であり、「Ｗ」は、液晶層１０Ｃの水平方向の外寸である。なお、「ｍ＝Ｍ／Ｗ」の関係となっている。

Ｔ／（Ｄ／２）＝ｍ・ｇ・（Ｈ／２） （１）

Ｔ＝Ｄ・Ｍ・ｇ・（Ｈ／２）／２・Ｗ （２）

上記した式（２）に「Ｄ」、「Ｍ」、「ｇ」、「Ｈ」及び「Ｗ」の値を代入することで、釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔを算出することが可能とされる。そこで、上記した比較実験２の実験結果に係る数値を上記した式（２）に代入することで、釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔを算出した。具体的には、式（２）の右辺に含まれる「Ｄ」及び「Ｍ」については、図１６及び図１７に示される各プロットについて横軸の一対の基板間の間隔Ｄ及び縦軸の液晶充填量Ｍをそれぞれ代入した。式（２）の右辺に含まれる「ｇ」には、「９８０ｃｍ／ｓｅｃ^２」を、「Ｈ」には、「１６６．７１ｍｍ」を、「Ｗ」には、「２６０．０２ｍｍ」を、それぞれ定数として代入した。このようにして得られた釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔと液晶充填量Ｍとの関係を図１８及び図１９に示す。図１８及び図１９では、横軸が液晶充填量Ｍ（単位は「ｍｇ」）であり、縦軸が釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔ（単位はＮ／ｃｍ）である。図１８及び図１９において「○」印は、重力ムラや低温気泡が無い（異常なし）と判定された検査結果を、「×」印は、重力ムラが有ると判定された検査結果を、それぞれ表している。図１８及び図１９には、液晶充填量Ｍの限界範囲が破線で囲われた範囲として示されている。この「液晶充填量Ｍの限界範囲」とは、液晶充填量Ｍが当該限界範囲に到達すると重力ムラが発生する可能性のある数値範囲のことであり、製品の個体差が反映されている。図１８が比較例に係るグラフであり、図１９が実施例に係るグラフである。

図１８及び図１９によれば、液晶充填量Ｍが増加するほど、釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔも増加する傾向にあることが分かる。図１８及び図１９にて破線により囲われた液晶充填量Ｍの限界範囲では、液晶層と基板の内面とのＣＦ界面に実際に生じる界面張力Ｔが、液晶材料に作用する重力に抗するのに要する界面張力Ｔに到達していない可能性があり、それに起因して重力ムラが発生する個体が生じている、と推考される。図１８によれば、比較例は、液晶充填量Ｍの限界範囲の下限値が約１２２．８ｍｇとなっている。これに対し、図１９によれば、実施例は、液晶充填量Ｍの限界範囲の下限値が約１２７．３ｍｇとなっており、比較例よりも大きな値となっている。このことから、実施例は、比較例に比べて、液晶充填量Ｍが多くなっても重力ムラが生じ難い傾向であり、液晶充填量Ｍの適正範囲の上限値が大きくなっている、と言える。また、実施例は、比較例に比べて、液晶充填量Ｍの限界範囲が狭くなっていることから、製品の個体差が小さく、安定した品質が得られている、と言える。

上記した図１８及び図１９に示される比較例及び実施例におけるそれぞれの液晶充填量Ｍの限界範囲に関し、釣り合いを維持するために必要な界面張力Ｔの上限値及び下限値が存在している。具体的には、図１８に示される比較例における液晶充填量Ｍの限界範囲に関する界面張力Ｔの上限値は、約５９９Ｎ／ｃｍであり、下限値は、約５７４Ｎ／ｃｍである。これに対し、図１９に示される実施例における液晶充填量Ｍの限界範囲に関する界面張力Ｔの上限値は、約６２８Ｎ／ｃｍであり、下限値は、約６１７Ｎ／ｃｍである。比較例及び実施例におけるそれぞれの液晶充填量Ｍの限界範囲に関する界面張力Ｔの上限値及び下限値と、図１３に示される表面積増加率Ｒと、の関係を図２０のグラフに示す。図２０には、実施例のプロットが「●」により、比較例のプロットが「▲」により、それぞれ図示されている。図２０には、比較例及び実施例に係る各プロットに基づいて近似直線が破線により図示されている。この近似直線は、表面積増加率Ｒを変化させた場合、液晶充填量Ｍの限界範囲における略中央値となる界面張力Ｔがどのように変化するか、を表している。この液晶充填量Ｍの限界範囲における略中央値となる界面張力Ｔは、液晶充填量Ｍ（液晶材料に作用する重力）との釣り合いが維持され得る限界値であり、液晶層とＣＦ基板の内面との界面に実際に生じる界面張力の最大値である、と言うことができる。この近似直線は、傾きが「−１０２９４０」とされ、切片が「６９８Ｎ／ｃｍ」とされる一次関数である。この近似直線の切片は、表面積増加率Ｒが０％のとき、つまりオーバーコート膜の表面が、微細な凹凸が存在しない平滑面とされる場合の界面張力Ｔの限界値（最大値）である。

図２０に示される近似直線によれば、表面積増加率Ｒが大きくなるほど、界面張力Ｔの限界値（最大値）が低下する傾向にある、と言える。これは、オーバーコート膜の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが大きくなって表面積増加率Ｒが大きくなると、液晶層とＣＦ基板の内面との界面に実際に生じる界面張力Ｔの最大値が低下し、液晶材料に作用する重力との釣り合いを維持するのに要する界面張力Ｔの限界値が低下することを意味する。そして、実施例は、比較例に比べると、表面積増加率Ｒが小さいので、液晶材料に作用する重力との釣り合いが維持され得る界面張力Ｔの限界値が相対的に大きくなっている。従って、実施例は、比較例に比べると、液晶充填量Ｍが多くても重力ムラが生じ難くなっており、液晶充填量Ｍの適正範囲が広くなっている、と言える。また、実施例は、比較例に比べると、液晶充填量Ｍの限界範囲に関する界面張力Ｔの上限値と下限値との差が小さくなっている製品の個体差が小さく、安定した品質が得られている、と言える。

以上説明したように本実施形態の液晶パネル１０は、液晶層１０Ｃと、液晶層１０Ｃを挟み込む一対の基板１０Ａ，１０Ｂと、一対の基板１０Ａ，１０ＢのうちのＣＦ基板（一方の基板）１０Ａからアレイ基板（他方の基板）１０Ｂへ向けて突出するよう形成されてアレイ基板１０Ｂ側に当接されることで一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄを保持するスペーサ１２と、ＣＦ基板１０Ａにおいてスペーサ１２の下層側に配されるオーバーコート膜１９であって、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されるオーバーコート膜１９と、を備える。

このようにすれば、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄは、ＣＦ基板１０Ａからアレイ基板１０Ｂへ向けて突出するよう形成されるスペーサ１２がアレイ基板１０Ｂ側に当接されることで保持される。スペーサ１２によって一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄが保持されることで、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間に挟み込まれる液晶層１０Ｃの厚みが安定的に保たれる。ところで、一対の基板１０Ａ，１０Ｂの間の間隔Ｄは、液晶層１０Ｃを構成する液晶材料の充填量（液晶充填量Ｍ）に応じて変動し得るものであり、液晶材料の充填量が過剰となり上記間隔Ｄがスペーサ１２の突出高さＡに比べて過大になると、当該液晶パネル１０を立て掛けたときに液晶材料が重力により液晶パネル１０の下端側に溜まることで表示不良が生じるおそれがある。逆に、液晶材料の充填量が不足して上記間隔Ｄがスペーサ１２の突出高さＡに比べて過小になると、低温環境下において液晶材料が熱収縮することに起因して気泡が生じるおそれがある。液晶材料の充填量には、上記のような液晶溜まりの問題や気泡の問題がいずれも生じることがない適正範囲が存在しており、その適正範囲が広いほど製造条件などに起因する液晶材料の充填量に係る変動を許容することができ、良品率の向上などを図る上で好ましい傾向にある。

ここで、一対の基板１０Ａ，１０ＢのうちのＣＦ基板１０Ａにおいてスペーサ１２の下層側に配されるオーバーコート膜１９の表面に微細な凹凸が生じるのは避けられるものではなく、その凹凸はＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積に大きな影響を及ぼすものとなっている。そして、オーバーコート膜１９は、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されている。仮に上記したギャップＧＰが４ｎｍを超えると、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積が過大となるため、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力Ｔの低下を招き、結果として上記した液晶溜まりの問題が生じ易くなってしまう。その点、上記したギャップＧＰが４ｎｍ以下とされていれば、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に係る表面積が十分に小さく保たれるので、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力Ｔが十分に確保される。従って、当該液晶パネル１０を立て掛けた場合であっても、液晶層１０Ｃに含まれる液晶材料が十分な界面張力Ｔによって重力に抗することができ、液晶材料が液晶パネル１０の下端側に溜まる事態が生じ難くなる。これにより、液晶材料の充填量に係る適正範囲を広くすることができるので、良品率の向上などを図る上で好適となる。

また、オーバーコート膜１９は、基準範囲の実測表面積を、基準範囲を平滑面と仮定したときの仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が０．０７１％以下となるよう構成される。オーバーコート膜１９の表面における基準範囲を、微細な凹凸が存在しない平滑面と仮定したときの仮定表面積は、基準範囲における理論上の最小の表面積となっている。これに対し、実際のオーバーコート膜１９の表面には、微細な凹凸が生じているため、基準範囲を実際に測定して得られる実測表面積は、凹凸の分だけ上記した仮定表面積よりも大きくなる。そして、凹凸に係るギャップＧＰが大きくなるほど、実測表面積を仮定表面積にて除して得られる表面積増加率は大きくなる傾向にある。ここで、実測表面積を仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が仮に０．０７１％を超えると、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが過大になるとともに基準範囲における表面積が過大となるため、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力Ｔが低下してしまい、上記した液晶溜まりの問題が生じ易くなる。これに対し、実測表面積を仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が０．０７１％以下とされていれば、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが十分に小さくされるとともに基準範囲における表面積が十分に小さくされるので、ＣＦ基板１０Ａにおける液晶層１０Ｃとの界面に生じる界面張力Ｔが十分に確保される。これにより、上記した液晶溜まりの問題が生じ難くなる。

また、オーバーコート膜１９は、紫外線硬化性樹脂材料からなる。仮にオーバーコート膜１９が熱硬化性樹脂材料の一種であるエポキシ樹脂からなる場合には、含有する熱硬化剤が大きな体積を占めているために局所的な凸部が形成され易く、その凸部によって上記したギャップＧＰが４ｎｍを超えるおそれがある。これに対し、オーバーコート膜１９が紫外線硬化性樹脂材料からなるようにすれば、上記のような局所的な凸部が形成されることが避けられる。これにより、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰが４ｎｍ以下となる確実性が高くなり、上記した液晶溜まりの問題を生じ難くすることができる。

また、オーバーコート膜１９及びスペーサ１２の上層側にて液晶層１０Ｃに臨むよう配されていて液晶層１０Ｃに含まれる液晶分子を配向させるよう光配向処理がなされたＣＦ側光配向膜（光配向膜）２１を備える。ＣＦ側光配向膜２１は、光配向処理がなされることで、液晶層１０Ｃに含まれる液晶分子を配向させることができる。ＣＦ側光配向膜２１は、ラビング処理がなされた配向膜を用いた場合に比べると、下地であるオーバーコート膜１９の表面状態の影響を受け易くなっており、ＣＦ側光配向膜２１の表面には、オーバーコート膜１９の表面に生じる微細な凹凸と同様の凹凸が生じ易くなっている。このようなＣＦ側光配向膜２１の下地となるオーバーコート膜１９は、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップＧＰが４ｎｍ以下となるよう構成されているので、ＣＦ側光配向膜２１の表面に生じる微細な凹凸に係るギャップＧＰも十分に小さくなる。これにより、液晶溜まりの問題が生じ難くなる。

＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

（１）上記した実施形態には、スペーサがＣＦ基板側のみに設けられている場合を示したが、スペーサがＣＦ基板とアレイ基板との双方に設けられていても構わない。その場合、ＣＦ基板側のスペーサがアレイ基板側のスペーサに対して当接されるよう、両スペーサを重畳配置するのが好ましいが、必ずしもその限りではない。

（２）上記した実施形態には、スペーサの突出高さが１種類のみとされる場合を例示したが、突出高さが異なる複数種類のスペーサがＣＦ基板に設けられていても構わない。

（３）上記した実施形態には、光配向膜が光分解型の光配向膜材料からなる場合を示したが、光配向膜が光異性化型の光配向膜材料や光架橋型の光配向膜材料からなる場合でもよい。

（４）上記した実施形態以外にも、オーバーコート膜に用いる具体的な材料は適宜に変更可能である。また、オーバーコート膜の具体的な膜厚の数値は適宜に変更可能である。このようにオーバーコート膜の材料や膜厚を変更するのに伴い、オーバーコート膜を硬化させるために照射される紫外線の波長や積算照射量についても適宜に変更するのが好ましい。

（５）上記した実施形態以外にも、光配向膜に用いる具体的な材料は適宜に変更可能である。また、光配向膜の具体的な膜厚の数値は適宜に変更可能である。このように光配向膜の材料や膜厚を変更するのに伴い、光配向処理を行うために光配向膜に照射される紫外線の波長や積算照射量についても適宜に変更するのが好ましく、また紫外線の照射後に行われるベークの温度環境や焼成時間についても適宜に変更するのが好ましい。

（６）上記した実施形態における比較実験１では、走査型プローブ顕微鏡の一種である原子間力顕微鏡を用いてオーバーコート膜の表面の凹凸を測定した場合を示したが、例えば走査型トンネル顕微鏡などの他の種類の走査型プローブ顕微鏡を用いてオーバーコート膜の表面の凹凸を測定することも可能である。それ以外にも、各比較実験にて行われる測定及び検査などに用いる具体的な機器は適宜に変更可能である。

（７）上記した実施形態では、液晶層の液晶材料として誘電率異方性が正の液晶材料（ポジ型の液晶材料）を用いた場合を示したが、液晶層の液晶材料として誘電率異方性が負の液晶材料（ネガ型の液晶材料）を用いることも可能である。

（８）上記した実施形態では、液晶パネルの表示モードがＦＦＳモードとされる場合を例示したが、液晶パネルの表示モードは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモードなどであっても構わない。

（９）上記した実施形態では、透過型の液晶パネルについて示したが、反射型の液晶パネルや半透過型の液晶パネルでもよい。

１０…液晶パネル（表示パネル）、１０Ａ…ＣＦ基板（一方の基板）、１０Ｂ…アレイ基板（他方の基板）、１０Ｃ…液晶層、１２…スペーサ、１９…オーバーコート膜、２１…ＣＦ側光配向膜（光配向膜）、Ａ…スペーサの突出高さ、Ｄ…間隔、ＧＰ…ギャップ、Ｍ…液晶充填量（液晶材料の充填量）、Ｔ…界面張力

Claims (4)

1. 液晶層と、
   前記液晶層を挟み込む一対の基板と、
   前記一対の基板のうちの一方の基板から他方の基板へ向けて突出するよう形成されて前記他方の基板側に当接されることで前記一対の基板の間の間隔を保持するスペーサと、
   前記一方の基板において前記スペーサの下層側に配されるオーバーコート膜であって、表面における基準範囲に生じる微細な凹凸における最低位位置と最高位位置との間のギャップが４ｎｍ以下となるよう構成されるオーバーコート膜と、を備える液晶パネル。
2. 前記オーバーコート膜は、前記基準範囲の実測表面積を、前記基準範囲を平滑面と仮定したときの仮定表面積にて除して得られる表面積増加率が０．０７１％以下となるよう構成される請求項１記載の液晶パネル。
3. 前記オーバーコート膜は、紫外線硬化性樹脂材料からなる請求項１または請求項２記載の液晶パネル。
4. 前記オーバーコート膜及び前記スペーサの上層側にて前記液晶層に臨むよう配されていて前記液晶層に含まれる液晶分子を配向させるよう光配向処理がなされた光配向膜を備える請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液晶パネル。

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