JP2020161782A - Electronic component and electronic component mounting substrate with the same - Google Patents

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Abstract

To provide an electronic component comprising a terminal electrode capable of securing a high joint intensity even if a reflow is performed at a plural time.SOLUTION: An electronic component 1 comprises: a main body part 10 having a component surface 10a; and a flat plan-like terminal electrode 20 which is provided so as to be projected from the component surface 10a, and has a main surface 21 and a side surface 22 in parallel to the component surface 10a. The terminal electrode 20 includes a part in which a diameter becomes small as approach to the component surface 10a. Thus, at least one part of the side surface 22 has an overhang shape. When a solder or the like is entered into a connection conductive material into the overhang shape of the terminal electrode, and high jointing intensity can be secured even in the case of performing reflow at a plural time.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は電子部品に関し、特に、ハンダや導体ペーストを介して基板に搭載される電子部品に関する。また、本発明は、このような電子部品が搭載された電子部品搭載基板に関する。 The present invention relates to electronic components, and more particularly to electronic components mounted on a substrate via solder or conductor paste. The present invention also relates to an electronic component mounting substrate on which such electronic components are mounted.

近年、回路基板に搭載される電子部品のモジュール化が進んでいる。このため、ある電子部品は、例えばモジュール化する際の表面実装プロセスにおいてリフローが行われるだけでなく、モジュール化された後、回路基板に搭載する際の表面実装プロセスにおいてもリフローが行われる。このように、モジュール化が進むと、同じ電子部品に対して2回又はそれ以上のリフローが行われるため、ハンダなどを用いた接合部の接合強度が低下するおそれがあった。 In recent years, modularization of electronic components mounted on circuit boards has progressed. Therefore, a certain electronic component is not only reflowed in the surface mounting process when it is modularized, for example, but also reflowed in the surface mounting process when it is mounted on a circuit board after being modularized. As described above, as modularization progresses, the same electronic component is reflowed twice or more, so that the joint strength of the joint portion using solder or the like may decrease.

ハンダ接合の接合強度を高める方法としては、特許文献1に記載されているように、フラックスに熱硬化性樹脂組成物を添加する方法や、特許文献2に記載されているように、特殊組成のハンダを使う方法が挙げられる。 As a method for increasing the bonding strength of the solder bonding, as described in Patent Document 1, a method of adding a thermosetting resin composition to the flux, or as described in Patent Document 2, a special composition is used. One way is to use solder.

特開2012−84845号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-84845 特表2016−500578号公報Japanese Patent Publication No. 2016-500178

しかしながら、特許文献1に記載された方法では、複数回のリフローを行うと熱硬化性樹脂組成物が変質し、接合強度が低下してしまう。また、特許文献2に記載された方法では、特殊組成のハンダを使用するため、製造コストが増加するという問題があった。 However, in the method described in Patent Document 1, when the reflow is performed a plurality of times, the thermosetting resin composition is denatured and the bonding strength is lowered. Further, in the method described in Patent Document 2, since solder having a special composition is used, there is a problem that the manufacturing cost increases.

したがって、本発明は、製造コストの増大を抑制しつつ、複数回のリフローを行っても高い接合強度を確保することが可能な端子電極を備えた電子部品を提供することを目的とする。また、本発明は、このような電子部品が搭載された電子部品搭載基板を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an electronic component provided with a terminal electrode capable of ensuring high bonding strength even when reflowing a plurality of times while suppressing an increase in manufacturing cost. Another object of the present invention is to provide an electronic component mounting substrate on which such electronic components are mounted.

本発明による電子部品は、実装面を有する本体部と、実装面から突出して設けられ、実装面と平行な主面と側面を有する平板状の端子電極とを備え、端子電極は、実装面に近づくにつれて径が縮小する部分を有しており、これにより、側面の少なくとも一部がオーバーハング形状を有することを特徴とする。 The electronic component according to the present invention includes a main body portion having a mounting surface and a flat plate-shaped terminal electrode provided so as to project from the mounting surface and having a main surface and a side surface parallel to the mounting surface, and the terminal electrode is provided on the mounting surface. It has a portion whose diameter decreases as it approaches, so that at least a part of the side surface has an overhang shape.

本発明によれば、端子電極の側面の少なくとも一部がオーバーハング形状を有していることから、この部分にハンダなどの接続導体材料を回り込ませることによって、複数回のリフローを行った場合であっても、高い接合強度を確保することが可能となる。 According to the present invention, since at least a part of the side surface of the terminal electrode has an overhang shape, when a connecting conductor material such as solder is wrapped around this part to perform reflow a plurality of times. Even if there is, it is possible to secure high bonding strength.

本発明による電子部品は、端子電極の主面上に設けられ、端子電極よりも融点の低い接続導体材料をさらに備えていても構わない。これによれば、電子部品を回路基板に搭載した後、リフローすることによって、接続導体材料を側面に回り込ませることが可能となる。つまり、リフロー前の状態では、接続導体材料が端子電極の主面にのみ存在し、リフロー後、オーバーハング形状を有する端子電極の側面を接続導体材料が覆うものであっても構わない。 The electronic component according to the present invention may further include a connecting conductor material that is provided on the main surface of the terminal electrode and has a melting point lower than that of the terminal electrode. According to this, it is possible to wrap the connecting conductor material around the side surface by reflowing after mounting the electronic component on the circuit board. That is, in the state before the reflow, the connecting conductor material may be present only on the main surface of the terminal electrode, and after the reflow, the connecting conductor material may cover the side surface of the terminal electrode having an overhang shape.

本発明による電子部品搭載基板は、ランドパターンを有する基板と、基板に搭載された上記の電子部品とを備え、ランドパターンと端子電極は、接続導体材料を介して接続されていることを特徴とする。本発明によれば、接続導体材料を介した基板と電子部品の接合強度を高めることが可能となる。 The electronic component mounting substrate according to the present invention includes a substrate having a land pattern and the above-mentioned electronic components mounted on the substrate, and the land pattern and the terminal electrode are connected via a connecting conductor material. To do. According to the present invention, it is possible to increase the bonding strength between the substrate and the electronic component via the connecting conductor material.

本発明において、ランドパターンと端子電極の間に位置する接続導体材料の厚さは、30μm以下であっても構わない。接続導体材料の厚さが30μm以下まで薄くなると、接続導体材料による応力吸収能力が低下し、接続導体材料にクラックやデラミネーションが生じやすくなるが、接続導体材料が端子電極のオーバーハング部分を覆っていれば、クラックやデラミネーションの発生を抑制することが可能となる。 In the present invention, the thickness of the connecting conductor material located between the land pattern and the terminal electrode may be 30 μm or less. When the thickness of the connecting conductor material is reduced to 30 μm or less, the stress absorption capacity of the connecting conductor material is reduced and cracks and delamination are likely to occur in the connecting conductor material, but the connecting conductor material covers the overhang portion of the terminal electrode. If so, it is possible to suppress the occurrence of cracks and delamination.

このように、本発明によれば、複数回のリフローを行った場合であっても、接続導体材料を介した基板と電子部品の接合強度を十分に確保することが可能となる。しかも、特殊組成のハンダを使用する必要もないため、製造コストの増加も抑制される。 As described above, according to the present invention, it is possible to sufficiently secure the bonding strength between the substrate and the electronic component via the connecting conductor material even when the reflow is performed a plurality of times. Moreover, since it is not necessary to use solder having a special composition, an increase in manufacturing cost is suppressed.

図1は、本発明の好ましい実施形態による電子部品1の構造を示す図であり、(a)は略平面図、(b)は(a)に示すA−A線に沿った略断面図である。1A and 1B are views showing a structure of an electronic component 1 according to a preferred embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a schematic plan view and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. is there. 図2は、図1(b)に示す領域Bの拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the region B shown in FIG. 1 (b). 図3は、基板3に電子部品1が搭載されてなる電子部品搭載基板2の模式図な断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the electronic component mounting substrate 2 on which the electronic component 1 is mounted on the substrate 3. 図4は、図3に示す領域Cの拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of the region C shown in FIG. 図5は、端子電極20に接続導体材料5を形成した状態を示す模式図な断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the connecting conductor material 5 is formed on the terminal electrode 20. 図6は、ポジ型のフォトレジスト31Pに対して露光を行う状態を説明するための模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a state in which exposure is performed on the positive photoresist 31P. 図7は、現像後のフォトレジスト31P/31Nの形状を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic view showing the shape of the photoresist 31P / 31N after development. 図8は、ネガ型のフォトレジスト31Nに対して露光を行う状態を説明するための模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a state in which exposure is performed on the negative type photoresist 31N. 図9は、円形の端子電極20を示す略平面図である。FIG. 9 is a schematic plan view showing a circular terminal electrode 20. 図10は、一部の側面22aのみがオーバーハング形状を有する端子電極20の略平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view of the terminal electrode 20 having an overhang shape only on a part of the side surface 22a. 図11は、第1の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the first modification. 図12は、ポジ型のフォトレジスト31Pに対して露光を行う状態を説明するための模式図である。FIG. 12 is a schematic diagram for explaining a state in which exposure is performed on the positive photoresist 31P. 図13は、現像後のフォトレジスト31P/31Nの形状を示す模式図である。FIG. 13 is a schematic view showing the shape of the photoresist 31P / 31N after development. 図14は、ネガ型のフォトレジスト31Nに対して露光を行う状態を説明するための模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining a state in which exposure is performed on the negative type photoresist 31N. 図15は、第2の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the second modification. 図16は、現像後のフォトレジスト31P/31Nの形状を示す模式図である。FIG. 16 is a schematic view showing the shape of the photoresist 31P / 31N after development. 図17は、第3の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the third modification. 図18は、ネガ型のフォトレジスト31Nに対して露光を行う状態を説明するための模式図である。FIG. 18 is a schematic diagram for explaining a state in which exposure is performed on the negative type photoresist 31N. 図19は、現像後のフォトレジスト31Nの形状を示す模式図である。FIG. 19 is a schematic view showing the shape of the photoresist 31N after development. 図20は、第4の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the fourth modification. 図21は、第5の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the fifth modification. 図22は、電子部品1と電子部品1Aを接続導体材料5によって接続した例を示す模式図な断面図である。FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing an example in which the electronic component 1 and the electronic component 1A are connected by the connecting conductor material 5.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の好ましい実施形態による電子部品1の構造を示す図であり、(a)は略平面図、(b)は(a)に示すA−A線に沿った略断面図である。 1A and 1B are views showing a structure of an electronic component 1 according to a preferred embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a schematic plan view and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. is there.

本実施形態による電子部品1は表面実装型のチップ部品であり、図1に示すように、本体部10と、本体部10の実装面10aに設けられた端子電極20とを備えている。電子部品1の種類については特に限定されず、キャパシタ、インダクタ、抵抗、フィルタなどの受動回路部品であっても構わないし、トランジスタや半導体ICなどの能動回路部品であっても構わない。さらには、複数の受動回路部品と複数の能動回路部品が集積されたモジュール部品であっても構わないし、配線層が形成された配線基板であっても構わない。 The electronic component 1 according to the present embodiment is a surface mount type chip component, and as shown in FIG. 1, includes a main body portion 10 and a terminal electrode 20 provided on the mounting surface 10a of the main body portion 10. The type of the electronic component 1 is not particularly limited, and may be a passive circuit component such as a capacitor, an inductor, a resistor, or a filter, or an active circuit component such as a transistor or a semiconductor IC. Further, it may be a module component in which a plurality of passive circuit components and a plurality of active circuit components are integrated, or may be a wiring board on which a wiring layer is formed.

図1に示す例では、ニッケル(Ni)などからなる基板11と、基板11上に設けられたキャパシタなどからなる機能層12と、機能層を覆う絶縁層13によって本体部10が構成されている。そして、絶縁層13の表面が実装面10aを構成し、実装面10aに端子電極20が設けられている。端子電極20は、絶縁層13を貫通して設けられた接続部14を介して機能層12に接続されている。端子電極20は、実装面10aから突出して設けられた平板状の電極であり、実装面10aと平行な主面21と側面22を有している。 In the example shown in FIG. 1, the main body 10 is composed of a substrate 11 made of nickel (Ni) or the like, a functional layer 12 made of a capacitor or the like provided on the substrate 11, and an insulating layer 13 covering the functional layer. .. The surface of the insulating layer 13 constitutes the mounting surface 10a, and the terminal electrode 20 is provided on the mounting surface 10a. The terminal electrode 20 is connected to the functional layer 12 via a connecting portion 14 provided so as to penetrate the insulating layer 13. The terminal electrode 20 is a flat plate-shaped electrode provided so as to project from the mounting surface 10a, and has a main surface 21 and a side surface 22 parallel to the mounting surface 10a.

図2は、図1(b)に示す領域Bの拡大図である。 FIG. 2 is an enlarged view of the region B shown in FIG. 1 (b).

図2に示すように、端子電極20の主面21は実装面10aと平行であるのに対し、端子電極20の側面22は実装面10aに対して垂直ではなく、実装面10aと側面22が成す角度θが90°未満である逆テーパー形状を有している。つまり、端子電極20の側面22がオーバーハング形状を有しており、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が縮小する。角度θは、後述する効果を十分に得るためには80°未満であることが好ましく、60°未満であることがより好ましい。但し、角度θが小さすぎると、端子電極20の形状が不安定になるとともに、端子電極20の形成が困難となることから、30°以上であることが好ましく、45°以上であることがより好ましい。尚、側面22が完全な平坦面ではなく、ある曲率を持った曲面である場合、角度θは一義的には決まらず、所定の範囲を持った値となる。また、オーバーハング量W、つまり、側面22の実装面10a側における端部と、側面22の主面21側における端部の平面距離は、0.5μm以上、30μm以下であることが好ましく、1μm以上、15μm以下であることがより好ましい。また、端子電極20の厚みについては、0.5μm以上、32μm以下であることが好ましく、1μm以上、25μm以下であることがより好ましい。端子電極20の平面サイズについては、一辺の長さが0.01mm以上、4.5mm以下であることが好ましく、0.05mm以上、3.2mm以下であることがより好ましい。 As shown in FIG. 2, the main surface 21 of the terminal electrode 20 is parallel to the mounting surface 10a, whereas the side surface 22 of the terminal electrode 20 is not perpendicular to the mounting surface 10a, and the mounting surface 10a and the side surface 22 are It has an inverted taper shape with an angle θ formed of less than 90 °. That is, the side surface 22 of the terminal electrode 20 has an overhang shape, and the diameter of the terminal electrode 20 decreases as it approaches the mounting surface 10a. The angle θ is preferably less than 80 °, and more preferably less than 60 ° in order to sufficiently obtain the effects described later. However, if the angle θ is too small, the shape of the terminal electrode 20 becomes unstable and it becomes difficult to form the terminal electrode 20. Therefore, it is preferably 30 ° or more, and more preferably 45 ° or more. preferable. When the side surface 22 is not a completely flat surface but a curved surface having a certain curvature, the angle θ is not uniquely determined and becomes a value having a predetermined range. Further, the overhang amount W, that is, the plane distance between the end portion of the side surface 22 on the mounting surface 10a side and the end portion of the side surface 22 on the main surface 21 side is preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, preferably 1 μm. As mentioned above, it is more preferably 15 μm or less. The thickness of the terminal electrode 20 is preferably 0.5 μm or more and 32 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 25 μm or less. Regarding the plane size of the terminal electrode 20, the length of one side is preferably 0.01 mm or more and 4.5 mm or less, and more preferably 0.05 mm or more and 3.2 mm or less.

図3は、基板3に電子部品1が搭載されてなる電子部品搭載基板2の模式図な断面図である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the electronic component mounting substrate 2 on which the electronic component 1 is mounted on the substrate 3.

図3に示すように、基板3はランドパターン4を有しており、電子部品1の端子電極20がランドパターン4と向かい合うよう、基板3に搭載される。端子電極20とランドパターン4の接続は、ハンダや導体ペーストなど、端子電極20やランドパターン4よりも融点の低い接続導体材料5を介して行われる。図3に示す例では、電子部品1の端子電極20よりも基板3のランドパターン4の方が平面サイズが大きい。このため、電子部品1の端子電極20についてはほぼ全表面が接続導体材料5で覆われるのに対し、基板3のランドパターン4については、その主面の一部が接続導体材料5で覆われることなく露出している。ランドパターン4の側面についても、接続導体材料5で覆われることなく露出している。 As shown in FIG. 3, the substrate 3 has a land pattern 4, and is mounted on the substrate 3 so that the terminal electrode 20 of the electronic component 1 faces the land pattern 4. The terminal electrode 20 and the land pattern 4 are connected via a connecting conductor material 5 having a melting point lower than that of the terminal electrode 20 and the land pattern 4, such as solder or conductor paste. In the example shown in FIG. 3, the plane size of the land pattern 4 of the substrate 3 is larger than that of the terminal electrode 20 of the electronic component 1. Therefore, almost the entire surface of the terminal electrode 20 of the electronic component 1 is covered with the connecting conductor material 5, whereas a part of the main surface of the land pattern 4 of the substrate 3 is covered with the connecting conductor material 5. It is exposed without being exposed. The side surface of the land pattern 4 is also exposed without being covered with the connecting conductor material 5.

図4は、図3に示す領域Cの拡大図である。 FIG. 4 is an enlarged view of the region C shown in FIG.

図4に示すように、基板3に電子部品1が搭載されると、ハンダや導体ペーストなどの接続導体材料5は、端子電極20の主面21のみならず、オーバーハング形状を有する側面22も覆う。これにより、例えば電子部品1に水平方向の外力が加わり、その結果、端子電極20の主面21と接続導体材料5の界面で剥離が生じたとしても、この剥離が主面21と側面22の境界となる鋭角な角部23によって止まり、それ以上剥離が進行しにくくなる。ここで、ランドパターン4と端子電極20の間に位置する接続導体材料5の厚さが十分に厚い場合には、電子部品1に水平方向の外力が加わったとしても、厚みの大きい接続導体材料5によってある程度応力を吸収することができる。しかしながら、ランドパターン4と端子電極20の間に位置する接続導体材料が薄く、特に30μm以下まで薄い場合には、接続導体材料5による応力吸収能力が低下し、接続導体材料5にクラックやデラミネーションが生じやすくなる。特に、接続導体材料5が鉛フリーハンダである場合、リフローを複数回繰り返すと、端子電極20又はランドパターン4を構成する銅(Cu)などの金属と鉛フリーハンダからなる合金が成長し、クラックやデラミネーションが生じやすくなる。また、接続導体材料5が導電ペーストである場合も、ガラス転移点を超える温度のリフローを複数回繰り返すと、接着力が低下する。しかしながら、本実施形態においては、接続導体材料5が端子電極20の主面21のみならず、オーバーハング形状を有する側面22をも覆っていることから、クラックやデラミネーションの発生を抑制することが可能となる。 As shown in FIG. 4, when the electronic component 1 is mounted on the substrate 3, the connecting conductor material 5 such as solder or conductor paste includes not only the main surface 21 of the terminal electrode 20 but also the side surface 22 having an overhang shape. cover. As a result, for example, even if an external force in the horizontal direction is applied to the electronic component 1 and as a result, peeling occurs at the interface between the main surface 21 of the terminal electrode 20 and the connecting conductor material 5, this peeling occurs on the main surface 21 and the side surface 22. It is stopped by the sharp corners 23 that serve as boundaries, and it becomes difficult for peeling to proceed any further. Here, when the thickness of the connecting conductor material 5 located between the land pattern 4 and the terminal electrode 20 is sufficiently thick, even if an external force in the horizontal direction is applied to the electronic component 1, the connecting conductor material having a large thickness The stress can be absorbed to some extent by 5. However, when the connecting conductor material located between the land pattern 4 and the terminal electrode 20 is thin, especially when it is as thin as 30 μm or less, the stress absorption capacity of the connecting conductor material 5 decreases, and the connecting conductor material 5 cracks or delaminates. Is likely to occur. In particular, when the connecting conductor material 5 is lead-free solder, when the reflow is repeated a plurality of times, an alloy composed of a metal such as copper (Cu) constituting the terminal electrode 20 or the land pattern 4 and the lead-free solder grows and cracks occur. And delamination are likely to occur. Further, even when the connecting conductor material 5 is a conductive paste, if the reflow at a temperature exceeding the glass transition point is repeated a plurality of times, the adhesive strength is lowered. However, in the present embodiment, since the connecting conductor material 5 covers not only the main surface 21 of the terminal electrode 20 but also the side surface 22 having an overhang shape, it is possible to suppress the occurrence of cracks and delamination. It will be possible.

基板3に電子部品1を搭載する際には、図5に示すように、電子部品1の端子電極20側に接続導体材料5をあらかじめ形成しておき、この状態で電子部品1を基板3に搭載した後、リフローを行えば良い。端子電極20に接続導体材料5を形成する方法としては、銅(Cu)などからなる端子電極20の表面に防錆用のプリフラックス処理を行った後、例えば、鉛フリーハンダからなるハンダボールを端子電極20に搭載し、リフローすることによって、接続導体材料5を端子電極20の主面21に広げればよい。端子電極20の表面には、あらかじめニッケル(Ni)メッキや金(Au)メッキを施しておいても構わない。また、この時点では、接続導体材料5が端子電極20の側面22に回り込んでいなくても構わない。 When the electronic component 1 is mounted on the substrate 3, as shown in FIG. 5, the connecting conductor material 5 is formed in advance on the terminal electrode 20 side of the electronic component 1, and in this state, the electronic component 1 is mounted on the substrate 3. After mounting, you can reflow. As a method of forming the connecting conductor material 5 on the terminal electrode 20, after preflux treatment for rust prevention is performed on the surface of the terminal electrode 20 made of copper (Cu) or the like, for example, a solder ball made of lead-free solder is used. The connecting conductor material 5 may be spread on the main surface 21 of the terminal electrode 20 by being mounted on the terminal electrode 20 and reflowing. The surface of the terminal electrode 20 may be nickel (Ni) plated or gold (Au) plated in advance. Further, at this point, the connecting conductor material 5 does not have to wrap around the side surface 22 of the terminal electrode 20.

上述した形状を有する端子電極20の形成方法については特に限定されないが、図6に示すように、電子部品1の本体部10にポジ型のフォトレジスト31Pを形成し、マスク32を介して光33を照射することによって、フォトレジスト31Pを図7に示す形状にパターニングする。露光時においては、光33の強度を弱めに設定することによって、深さ方向に露光幅が徐々に狭くなるよう調整すれば、図7に示すように、深さ方向に幅が狭くなる開口部31aを形成することができる。そして、電解メッキによって開口部31aに端子電極20を形成すれば、側面22がオーバーハング形状を有する端子電極20を形成することが可能となる。 The method for forming the terminal electrode 20 having the above-mentioned shape is not particularly limited, but as shown in FIG. 6, a positive photoresist 31P is formed on the main body 10 of the electronic component 1, and the light 33 is formed through the mask 32. The photoresist 31P is patterned into the shape shown in FIG. 7 by irradiating with. At the time of exposure, if the intensity of the light 33 is set to be weak so that the exposure width is gradually narrowed in the depth direction, the width becomes narrower in the depth direction as shown in FIG. 31a can be formed. Then, if the terminal electrode 20 is formed in the opening 31a by electrolytic plating, it is possible to form the terminal electrode 20 whose side surface 22 has an overhang shape.

或いは、図8に示すように、電子部品1の本体部10にネガ型のフォトレジスト31Nを形成し、マスク32を介して光33を照射することによって、フォトレジスト31Nを図7に示す形状にパターニングする。露光時においては、光33の強度を強めに設定することによって、深さ方向に露光幅が徐々に広くなるよう調整すれば、図7に示すように、深さ方向に幅が狭くなる開口部31aを形成することができる。そして、電解メッキによって開口部31aに端子電極20を形成すれば、側面22がオーバーハング形状を有する端子電極20を形成することが可能となる。 Alternatively, as shown in FIG. 8, a negative type photoresist 31N is formed on the main body 10 of the electronic component 1, and the photoresist 31N is formed into the shape shown in FIG. 7 by irradiating the light 33 through the mask 32. Pattern. At the time of exposure, if the intensity of the light 33 is set to be stronger and the exposure width is adjusted to gradually increase in the depth direction, the opening becomes narrower in the depth direction as shown in FIG. 31a can be formed. Then, if the terminal electrode 20 is formed in the opening 31a by electrolytic plating, it is possible to form the terminal electrode 20 whose side surface 22 has an overhang shape.

端子電極20の平面形状については特に限定されず、図1(a)に示すように矩形であっても構わないし、図9に示すように円形であっても構わない。また、端子電極20の側面22の全てがオーバーハング形状を有している必要はなく、少なくとも一部の側面がオーバーハング形状を有していれば足りる。例えば、図10に示す端子電極20は、対向する2つの側面22aがオーバーハング形状を有している一方、残りの側面22bについてはオーバーハング形状を有しておらず、ほぼ垂直面である。この場合であっても、接続導体材料5をオーバーハング部分に回り込ませれば、クラックやデラミネーションの発生を抑制することが可能となる。 The planar shape of the terminal electrode 20 is not particularly limited, and may be rectangular as shown in FIG. 1A or circular as shown in FIG. Further, it is not necessary that all the side surfaces 22 of the terminal electrode 20 have an overhang shape, and it is sufficient that at least a part of the side surfaces has an overhang shape. For example, the terminal electrode 20 shown in FIG. 10 has two opposite side surfaces 22a having an overhang shape, while the remaining side surfaces 22b do not have an overhang shape and are substantially vertical surfaces. Even in this case, if the connecting conductor material 5 is wrapped around the overhang portion, it is possible to suppress the occurrence of cracks and delamination.

図11は、第1の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。 FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the first modification.

図11に示すように、第1の変形例による端子電極20は、側面22が全て傾斜しているのではなく、実装面10a側に位置する傾斜面22Aと、主面21側に位置する垂直面22Bを有している点において、図2に示した端子電極20の形状と相違している。端子電極20がこのような形状を有している場合であっても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。 As shown in FIG. 11, in the terminal electrode 20 according to the first modification, the side surfaces 22 are not all inclined, but the inclined surface 22A located on the mounting surface 10a side and the vertical surface 22 located on the main surface 21 side. It differs from the shape of the terminal electrode 20 shown in FIG. 2 in that it has a surface 22B. Even when the terminal electrode 20 has such a shape, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

図11の形状を有する端子電極20の形成方法については特に限定されないが、図12に示すように、電子部品1の本体部10にポジ型のフォトレジスト31Pを形成し、マスク32を介して光33を照射することによって、フォトレジスト31Pを図13に示す形状にパターニングする。現像時においては、現像条件を弱めに設定することによって、開口部31aの底部にフォトレジスト31Pを残存させれば、深さ方向に途中から幅が狭くなる開口部31aを形成することができる。そして、電解メッキによって開口部31aに端子電極20を形成すれば、傾斜面22Aと垂直面22Bからなる側面22を有する端子電極20を形成することが可能となる。 The method for forming the terminal electrode 20 having the shape of FIG. 11 is not particularly limited, but as shown in FIG. 12, a positive photoresist 31P is formed on the main body 10 of the electronic component 1, and light is emitted through the mask 32. By irradiating 33, the photoresist 31P is patterned into the shape shown in FIG. At the time of development, if the photoresist 31P remains at the bottom of the opening 31a by setting the development conditions weakly, it is possible to form the opening 31a whose width becomes narrower from the middle in the depth direction. Then, if the terminal electrode 20 is formed in the opening 31a by electrolytic plating, it is possible to form the terminal electrode 20 having the side surface 22 including the inclined surface 22A and the vertical surface 22B.

或いは、図14に示すように、電子部品1の本体部10にネガ型のフォトレジスト31Nを形成し、マスク32を介して光33を照射することによって、フォトレジスト31Nを図13に示す形状にパターニングしても構わない。この場合も、現像条件を弱めに設定することによって、深さ方向に途中から幅が狭くなる開口部31aを形成することができる。 Alternatively, as shown in FIG. 14, a negative type photoresist 31N is formed on the main body 10 of the electronic component 1, and light 33 is irradiated through the mask 32 to form the photoresist 31N into the shape shown in FIG. Patterning may be used. Also in this case, by setting the developing conditions weakly, it is possible to form the opening 31a whose width becomes narrower from the middle in the depth direction.

図15は、第2の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。 FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the second modification.

図15に示すように、第2の変形例による端子電極20は、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が縮小する部分と、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が拡大する部分を有している。つまり、側面22は、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が縮小する部分に対応する傾斜面22Aと、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が拡大する部分に対応する傾斜面22Cによって構成される。図15に示す例では、傾斜面22Aが主面21側に位置し、傾斜面22Cが実装面10a側に位置している。端子電極20がこのような形状を有している場合であっても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。 As shown in FIG. 15, the terminal electrode 20 according to the second modification has a portion where the diameter of the terminal electrode 20 decreases as it approaches the mounting surface 10a and a portion where the diameter of the terminal electrode 20 increases as it approaches the mounting surface 10a. have. That is, the side surface 22 has an inclined surface 22A corresponding to a portion where the diameter of the terminal electrode 20 decreases as it approaches the mounting surface 10a, and an inclined surface 22C corresponding to a portion where the diameter of the terminal electrode 20 increases as it approaches the mounting surface 10a. Consists of. In the example shown in FIG. 15, the inclined surface 22A is located on the main surface 21 side, and the inclined surface 22C is located on the mounting surface 10a side. Even when the terminal electrode 20 has such a shape, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

図15に示す形状の端子電極20を形成するためには、図6を用いて説明したように、ポジ型のフォトレジスト31Pを形成した状態で光33の強度を強めに設定するか、或いは、図8を用いて説明したように、ネガ型のフォトレジスト31Nを形成した状態で光33の強度を弱めに設定した後、現像条件を弱めに調整することによって、開口部31aの形状を図16に示す形状とする。そして、電解メッキによって開口部31aに端子電極20を形成すれば、図15に示す形状の端子電極20を形成することが可能となる。 In order to form the terminal electrode 20 having the shape shown in FIG. 15, as described with reference to FIG. 6, the intensity of the light 33 is set to be stronger in the state where the positive photoresist 31P is formed, or As described with reference to FIG. 8, the shape of the opening 31a is formed by adjusting the development conditions to be weak after setting the intensity of the light 33 to be weak in the state where the negative photoresist 31N is formed. The shape shown in. Then, if the terminal electrode 20 is formed in the opening 31a by electrolytic plating, the terminal electrode 20 having the shape shown in FIG. 15 can be formed.

図17は、第3の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。 FIG. 17 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the third modification.

図17に示すように、第3の変形例による端子電極20は、傾斜面22Aと傾斜面22Cの位置が逆である点において、図15に示す第2の変形例と相違している。端子電極20がこのような形状を有している場合であっても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。 As shown in FIG. 17, the terminal electrode 20 according to the third modification is different from the second modification shown in FIG. 15 in that the positions of the inclined surface 22A and the inclined surface 22C are opposite to each other. Even when the terminal electrode 20 has such a shape, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

図17に示す形状の端子電極20を形成するためには、図18に示すように、ネガ型のフォトレジスト31Nを形成した状態で光33の強度を弱めに設定した後、現像条件を弱めに調整することによって、開口部31aの形状を図19に示す形状とする。そして、電解メッキによって開口部31aに端子電極20を形成すれば、図17に示す形状の端子電極20を形成することが可能となる。 In order to form the terminal electrode 20 having the shape shown in FIG. 17, as shown in FIG. 18, the intensity of the light 33 is set to be weak in the state where the negative photoresist 31N is formed, and then the development conditions are weakened. By adjusting, the shape of the opening 31a is made into the shape shown in FIG. Then, if the terminal electrode 20 is formed in the opening 31a by electrolytic plating, the terminal electrode 20 having the shape shown in FIG. 17 can be formed.

図20は、第4の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。 FIG. 20 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the fourth modification.

図20に示すように、第4の変形例による端子電極20は、ある厚さ位置で端子電極20の径が変化する形状を有している。側面22は、主面21側に位置し、径の大きい部分に対応する垂直面22Bと、実装面10a側に位置し、径の小さい部分に対応する垂直面22Bと、垂直面22Bと垂直面22Bを繋ぐ水平面22Dからなる。端子電極20がこのような形状を有している場合であっても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。このような形状を有する端子電極20は、フォトレジストを用いた露光を2段階で行うことによって得ることができる。 As shown in FIG. 20, the terminal electrode 20 according to the fourth modification has a shape in which the diameter of the terminal electrode 20 changes at a certain thickness position. The side surface 22 is located on the main surface 21 side and corresponds to the large diameter portion of the vertical surface 22B 1, and is located on the mounting surface 10a side and corresponds to the small diameter portion of the vertical surface 22B 2 and the vertical surface 22B 1. It is composed of a horizontal plane 22D connecting the vertical plane 22B 2 and the vertical plane 22B 2 . Even when the terminal electrode 20 has such a shape, the same effect as that of the above embodiment can be obtained. The terminal electrode 20 having such a shape can be obtained by performing exposure using a photoresist in two steps.

図21は、第5の変形例による端子電極20の形状を説明するための断面図である。 FIG. 21 is a cross-sectional view for explaining the shape of the terminal electrode 20 according to the fifth modification.

図21に示すように、第5の変形例による端子電極20は、実装面10aからの距離にかかわらず径が一定である部分と、実装面10aに近づくにつれて端子電極20の径が縮小する部分を有している。側面22は、径が一定である部分に対応する垂直面22Bと、径が縮小する部分に対応する傾斜面22Aと、垂直面22Bと傾斜面22Aを繋ぐ水平面22Eからなる。端子電極20がこのような形状を有している場合であっても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。このような形状を有する端子電極20ついても、フォトレジストを用いた露光を2段階で行うことによって得ることができる。 As shown in FIG. 21, the terminal electrode 20 according to the fifth modification has a portion where the diameter is constant regardless of the distance from the mounting surface 10a and a portion where the diameter of the terminal electrode 20 decreases as it approaches the mounting surface 10a. have. The side surface 22 is composed of a vertical surface 22B corresponding to a portion having a constant diameter, an inclined surface 22A corresponding to a portion having a reduced diameter, and a horizontal surface 22E connecting the vertical surface 22B and the inclined surface 22A. Even when the terminal electrode 20 has such a shape, the same effect as that of the above embodiment can be obtained. The terminal electrode 20 having such a shape can also be obtained by performing exposure using a photoresist in two steps.

本実施形態において、電子部品1が搭載される基板が単なる回路基板である必要はなく、図22に示すように、別の電子部品1Aであっても構わない。別の電子部品1Aは、キャパシタ、インダクタ、抵抗、フィルタなどの受動回路部品であっても構わないし、トランジスタや半導体ICなどの能動回路部品であっても構わない。さらには、複数の受動回路部品と複数の能動回路部品が集積されたモジュール部品であっても構わないし、配線層が形成された配線基板であっても構わない。 In the present embodiment, the substrate on which the electronic component 1 is mounted does not have to be a simple circuit board, and may be another electronic component 1A as shown in FIG. The other electronic component 1A may be a passive circuit component such as a capacitor, an inductor, a resistor, or a filter, or may be an active circuit component such as a transistor or a semiconductor IC. Further, it may be a module component in which a plurality of passive circuit components and a plurality of active circuit components are integrated, or may be a wiring board on which a wiring layer is formed.

別の電子部品1Aが備える端子電極20は、電子部品1の端子電極20と同様の形状を有していても構わない。これによれば、電子部品1の端子電極20のオーバーハング部分と電子部品1Aの端子電極20のオーバーハング部分の両方が接続導体材料5で覆われることから、電子部品1と電子部品1Aの接合強度をより高めることが可能となる。 The terminal electrode 20 included in another electronic component 1A may have the same shape as the terminal electrode 20 of the electronic component 1. According to this, since both the overhang portion of the terminal electrode 20 of the electronic component 1 and the overhang portion of the terminal electrode 20 of the electronic component 1A are covered with the connecting conductor material 5, the electronic component 1 and the electronic component 1A are joined. It is possible to increase the strength.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention, and these are also the present invention. Needless to say, it is included in the range.

厚さ1mmの評価用有機基板に、図1及び図2に示す構造を有する薄膜キャパシタを実装することによって、実施例1のサンプルAを20個作製した。薄膜キャパシタの平面サイズは1.6mm×0.8mmであり、厚さは0.8mmである。薄膜キャパシタに設けられた端子電極の平面サイズは、0.4mm×0.7mmである。また、逆テーパー形状を有する端子電極の側面は、完全な平坦面ではなく湾曲しており、その角度θは30°〜70°の範囲である。実装後におけるハンダの高さは、20μmに制御した。 Twenty sample A of Example 1 were prepared by mounting thin film capacitors having the structures shown in FIGS. 1 and 2 on an evaluation organic substrate having a thickness of 1 mm. The plane size of the thin film capacitor is 1.6 mm × 0.8 mm, and the thickness is 0.8 mm. The plane size of the terminal electrode provided on the thin film capacitor is 0.4 mm × 0.7 mm. Further, the side surface of the terminal electrode having the reverse taper shape is curved rather than a completely flat surface, and the angle θ is in the range of 30 ° to 70 °. The height of the solder after mounting was controlled to 20 μm.

端子電極の側面が垂直である他は、上記のサンプルAと同じ構造を有する比較例1のサンプルB1を20個作製した。 Twenty samples B1 of Comparative Example 1 having the same structure as the above sample A were prepared except that the side surfaces of the terminal electrodes were vertical.

端子電極の側面の角度θが110°〜150°である順テーパー形状を有している他は、上記のサンプルAと同じ構造を有する比較例2のサンプルB2を20個作製した。 Twenty samples B2 of Comparative Example 2 having the same structure as that of the above sample A were prepared except that they had a forward taper shape in which the angle θ of the side surface of the terminal electrode was 110 ° to 150 °.

これらのサンプルA,B1,B2に対して250℃で8回リフローを行った後、重さ130gのアルミ筐体へボルトで固定し、170cmの高さから、x方向、−x方向、y方向、−y方向、z方向、−z方向へそれぞれ50回ずつ合計300回、コンクリート面へ自由落下させた。本試験の自由落下の衝撃荷重は、3000G相当と見積もられる。 After reflowing these samples A, B1 and B2 eight times at 250 ° C., they are fixed to an aluminum housing weighing 130 g with bolts, and from a height of 170 cm, in the x-direction, -x-direction, and y-direction. , -Y direction, z direction, and -z direction, 50 times each, for a total of 300 times, free-falling onto the concrete surface. The impact load of free fall in this test is estimated to be equivalent to 3000G.

その後、電気接続のオープン故障チェックを行ったところ、実施例1のサンプルAを20個とも故障がないことが確認された。これに対し、比較例1のサンプルB1では20個あたり1個の故障が認められ、比較例2のサンプルB2では20個あたり3個の故障が認められた。 After that, when an open failure check of the electrical connection was performed, it was confirmed that there was no failure in all 20 samples A of Example 1. On the other hand, sample B1 of Comparative Example 1 was found to have one failure per 20 pieces, and Sample B2 of Comparative Example 2 was found to have three failures per 20 pieces.

1,1A 電子部品
2 電子部品搭載基板
3 基板
4 ランドパターン
5 接続導体材料
10 本体部
10a 実装面
11 基板
12 機能層
13 絶縁層
14 接続部
20 端子電極
21 主面
22,22a,22b 側面
22A 傾斜面
22B 垂直面
22B 垂直面
22B 垂直面
22C 傾斜面
22D 水平面
22E 水平面
23 角部
31N フォトレジスト(ネガ型)
31P フォトレジスト(ポジ型)
31a 開口部
32 マスク
33 光
1,1A Electronic component 2 Electronic component mounting board 3 Board 4 Land pattern 5 Connection conductor material 10 Main body 10a Mounting surface 11 Board 12 Functional layer 13 Insulation layer 14 Connection 20 Terminal electrode 21 Main surface 22, 22a, 22b Side surface 22A Inclined Surface 22B Vertical surface 22B 1 Vertical surface 22B 2 Vertical surface 22C Inclined surface 22D Horizontal surface 22E Horizontal surface 23 Corner 31N photoresist (negative type)
31P photoresist (positive type)
31a opening 32 mask 33 light

Claims (5)

実装面を有する本体部と、
前記実装面から突出して設けられ、前記実装面と平行な主面と側面を有する平板状の端子電極と、を備え、
前記端子電極は、前記実装面に近づくにつれて径が縮小する部分を有しており、これにより、前記側面の少なくとも一部がオーバーハング形状を有することを特徴とする電子部品。
The main body with the mounting surface and
It is provided with a flat terminal electrode that is provided so as to project from the mounting surface and has a main surface and a side surface parallel to the mounting surface.
An electronic component characterized in that the terminal electrode has a portion whose diameter decreases as it approaches the mounting surface, whereby at least a part of the side surface has an overhang shape.
前記端子電極の前記主面上に設けられ、前記端子電極よりも融点の低い接続導体材料をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 1, further comprising a connecting conductor material provided on the main surface of the terminal electrode and having a melting point lower than that of the terminal electrode. 前記接続導体材料は、オーバーハング形状を有する前記端子電極の前記側面を覆っていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 2, wherein the connecting conductor material covers the side surface of the terminal electrode having an overhang shape. ランドパターンを有する基板と、
前記基板に搭載された請求項3に記載の電子部品と、を備え、
前記ランドパターンと前記端子電極は、前記接続導体材料を介して接続されていることを特徴とする電子部品搭載基板。
A substrate with a land pattern and
The electronic component according to claim 3 mounted on the substrate is provided.
An electronic component mounting substrate, characterized in that the land pattern and the terminal electrode are connected via the connecting conductor material.
前記ランドパターンと前記端子電極の間に位置する前記接続導体材料の厚さは30μm以下であることを特徴とする請求項4に記載の電子部品搭載基板。 The electronic component mounting substrate according to claim 4, wherein the thickness of the connecting conductor material located between the land pattern and the terminal electrode is 30 μm or less.
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