JP2020161741A - Wiring board, and manufacturing method for wiring board - Google Patents

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JP2020161741A JP2019062038A JP2019062038A JP2020161741A JP 2020161741 A JP2020161741 A JP 2020161741A JP 2019062038 A JP2019062038 A JP 2019062038A JP 2019062038 A JP2019062038 A JP 2019062038A JP 2020161741 A JP2020161741 A JP 2020161741A
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麻紀子 坂田
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直子 沖本
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Abstract

To provide a wiring board capable of applying electromagnetic shield to wiring provided for a base material having flexibility, and a manufacturing method for the wiring board.SOLUTION: A wiring board is configured to include: a base material having flexibility; a support base material positioned on a first surface side of the base material; wiring provided above the support base material; a side surface side shield wire provided above the support base material and arranged in parallel to the wiring; an insulation part covering the wiring; and a coated shield part coating the insulation part. The coated shield part and the side surface side shield wire are in contact at least partially. In the wiring and the side surface side shield wire, a mountain part and a valley part in a normal direction of the first surface of the base material have bellows shape repeatedly appearing along an in-plane direction of the first surface of the base material.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示の実施形態は、伸縮性を有する基材と配線とを備える配線基板、およびその製造方法に関するものである。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board including a stretchable base material and wiring, and a method for manufacturing the same.

近年、伸縮性などの変形性を有する配線基板の研究がおこなわれている。例えば、伸縮性を有する基材に伸縮性を有する銀配線を形成したものや、伸縮性を有する基材に馬蹄形の配線を形成したものが知られている(例えば特許文献1)。また、特許文献2は、伸縮性を有する配線基板の製造方法を開示している。特許文献2に記載の製造方法は、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という工程を採用している。 In recent years, research has been conducted on wiring boards having deformability such as elasticity. For example, there are known ones in which elastic silver wiring is formed on an elastic base material and one in which horseshoe-shaped wiring is formed on an elastic base material (for example, Patent Document 1). Further, Patent Document 2 discloses a method for manufacturing a wiring board having elasticity. The manufacturing method described in Patent Document 2 employs a step of providing a circuit on a base material in a pre-stretched state, forming the circuit, and then relaxing the base material.

特開2013−187308号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-187308 特開2007−281406号公報JP-A-2007-281406

電気信号が流れる配線は、外部からの電磁場や静電場の影響を受けないように、また、電気ノイズを外部に漏らさないように、遮蔽(電磁シールド)されていることが好ましい。このような構造として、例えばシールド・ケーブルや同軸ケーブルがあり、内部の芯線を取り囲むワイヤ・メッシュの形で電磁シールドが施されている。
しかしながら、伸縮性を有する基材に設けられる配線に電磁シールドを施すためには、伸縮などの変形に対応できる構成が必要となる。
The wiring through which the electric signal flows is preferably shielded (electromagnetic shield) so as not to be affected by an electromagnetic field or an electrostatic field from the outside and to prevent electric noise from leaking to the outside. Such a structure includes, for example, a shielded cable or a coaxial cable, which is electromagnetically shielded in the form of a wire mesh surrounding an internal core wire.
However, in order to apply an electromagnetic shield to the wiring provided on the stretchable base material, a configuration capable of adapting to deformation such as stretching is required.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板および配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can effectively solve such a problem.

本開示の一実施形態は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記支持基材の上側に設けられ、前記配線と並列に配置される側面側シールド線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、を備え、前記被覆シールド部と前記側面側シールド線とは、少なくとも一部が接続しており、前記配線および前記側面側シールド線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板である。 One embodiment of the present disclosure includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, a stretchable substrate and a support group located on the first surface side of the substrate. The wiring provided on the upper side of the support base material and the support when the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side. A side shield wire provided on the upper side of the base material and arranged in parallel with the wiring, an insulating portion covering the wiring, and a covering shield portion covering the insulating portion are provided, and the covering shield portion and the side surface thereof are provided. At least a part of the side shielded wire is connected, and the wiring and the side shielded wire have peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material as the first of the base material. It is a wiring board having a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of one surface.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線と前記側面側シールド線は、同じ材料から構成されていてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring and the side shield wire may be made of the same material.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線と前記側面側シールド線は、同じ厚さを有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring and the side shield wire may have the same thickness.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線が一対となる2本の配線を含み、前記絶縁部の上側に設けられ、前記一対となる2本の配線の各々と接続するブリッジ配線を備え、前記ブリッジ配線の周囲の前記絶縁部は、前記被覆シールド部から露出する絶縁部露出領域を有し、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記ブリッジ配線と前記一対となる2本の配線の各々とが重なる領域の前記絶縁部に貫通孔が設けられており、前記貫通孔を通して、前記一対となる2本の配線の各々と前記ブリッジ配線とが接続していてもよい。 The wiring board according to the embodiment of the present disclosure includes two wirings in which the wirings are paired, and includes bridge wirings provided above the insulating portion and connected to each of the two wirings in the pair. The insulating portion around the bridge wiring has an exposed region of the insulating portion exposed from the covering shield portion, and the bridge wiring is viewed along the normal direction of the first surface of the base material. A through hole is provided in the insulating portion in the region where each of the pair of two wirings overlaps with each other, and each of the pair of two wirings and the bridge wiring are connected through the through hole. You may be doing it.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記ブリッジ配線が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the bridge wiring has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記ブリッジ配線と前記被覆シールド部は、同じ材料から構成されていてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the bridge wiring and the covering shield portion may be made of the same material.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記ブリッジ配線と前記被覆シールド部は、同じ厚さを有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the bridge wiring and the covering shield portion may have the same thickness.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記基材が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記基材と前記側面側シールド線とが接続していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the base material has conductivity, the support base material has a penetrating portion, and the base material and the side surface side shielded wire are connected through the penetrating portion. You may be.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記導電層と前記側面側シールド線とが接続していてもよい。 The wiring board according to the embodiment of the present disclosure includes a conductive layer located between the base material and the supporting base material, the supporting base material has a penetrating portion, and the conductive layer and the conductive layer pass through the penetrating portion. The side shield wire may be connected.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記導電層が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the conductive layer has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

また、本開示の一実施形態は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、を備え、前記基材が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記基材と前記被覆シールド部とが接続しており、前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板である。 Further, one embodiment of the present disclosure includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and is located on a stretchable base material and the first surface side of the base material. The support base material, and the wiring provided on the upper side of the support base material when the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side. An insulating portion that covers the wiring and a covering shield portion that covers the insulating portion are provided, the base material has conductivity, the supporting base material has a penetrating portion, and the base material is passed through the penetrating portion. And the covering shield portion are connected, and in the wiring, the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are along the in-plane direction of the first surface of the base material. A wiring board having a bellows shape that appears repeatedly.

また、本開示の一実施形態は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記被覆シールド部と前記導電層とが接続しており、前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板である。 Further, one embodiment of the present disclosure includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and is located on a stretchable base material and the first surface side of the base material. The supporting base material, and the wiring provided on the upper side of the supporting base material when the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is set as the upper side. An insulating portion that covers the wiring, a covering shield portion that covers the insulating portion, and a conductive layer located between the base material and the supporting base material are provided, and the supporting base material has a penetrating portion. The covering shield portion and the conductive layer are connected through the penetrating portion, and in the wiring, the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are the first of the base material. A wiring substrate having a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the surface.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記導電層が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the conductive layer has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記被覆シールド部が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the covering shield portion has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記支持基材が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the supporting base material has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記絶縁部が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the insulating portion has peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material along the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows shape that appears repeatedly.

また、本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、前記配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記支持基材の上側に設けられ、前記配線と並列に配置される側面側シールド線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、を有し、前記配線と前記側面側シールド線を形成する配線形成工程と、前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、を備え、前記被覆シールド部形成工程において、前記被覆シールド部の少なくとも一部と前記側面側シールド線とを接続し、前記基材収縮工程において、前記配線および前記側面側シールド線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the wiring substrate includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material. When the support base material located on the first surface side of the base material and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are set as the upper side. , The wiring provided on the upper side of the supporting base material, the side shield wire provided on the upper side of the supporting base material and arranged in parallel with the wiring, the insulating portion covering the wiring, and the insulating portion. A wiring forming step of forming the wiring and the side surface side shield wire having a covering shield portion, an insulating portion forming step of forming the insulating portion, and a covering shield portion forming step of forming the covering shield portion. A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to extend the base material, and a supporting base material joining step of joining the supporting base material to the first surface side of the stretched base material. A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded is provided, and in the coating shield portion forming step, at least a part of the coating shield portion and the side surface side shield wire are provided. In the base material shrinkage step, the wiring and the side surface side shielded wire are connected, and the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are formed on the first surface of the base material. This is a method for manufacturing a wiring substrate, which has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記配線が一対となる2本の配線を含み、前記配線基板は、前記絶縁部の上に設けられ、前記一対となる2本の配線を接続するブリッジ配線を備え、前記絶縁部形成工程において、前記ブリッジ配線と前記一対となる2本の配線の各々とが重なる領域の前記絶縁部に貫通孔を設け、前記被覆シールド部形成工程において、前記被覆シールド部と前記ブリッジ配線とを形成しつつ、前記ブリッジ配線の周囲の前記絶縁部が前記被覆シールド部から露出する絶縁部露出領域を形成し、前記貫通孔を通して、前記一対となる2本の配線の各々と、前記ブリッジ配線とを接続してもよい。 The method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes two wirings in which the wirings are paired, the wiring board is provided on the insulating portion, and the pairing of two wirings is provided. A bridge wiring for connecting is provided, and in the insulating portion forming step, a through hole is provided in the insulating portion in a region where each of the bridge wiring and the pair of two wirings overlaps, and in the covering shield portion forming step, While forming the coated shield portion and the bridge wiring, the insulating portion around the bridge wiring forms an insulated portion exposed region exposed from the coated shield portion, and the pair of two wires pass through the through hole. Each of the wirings of the above and the bridge wiring may be connected.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記基材が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、前記支持基材接合工程において、前記基材と前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部とを接続してもよい。 In the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the base material has conductivity, the support base material has a through portion, and in the wiring forming step, the side surface side shield wire is formed in the through portion. In the supporting base material joining step, the base material and a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion may be connected to each other.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記配線基板は、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、前記基材伸長工程と前記支持基材接合工程との間に、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、前記支持基材接合工程において、前記導電層と前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部とを接続してもよい。 In the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the wiring board has a conductive layer located between the base material and the support base material, and the support base material has a through portion. In the wiring forming step, a part of the side surface side shielded wire is formed in the penetrating portion, and the first surface of the base material in a stretched state between the base material extending step and the supporting base material joining step. A conductive layer forming step for forming the conductive layer may be provided on the side, and the conductive layer and a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion may be connected in the supporting base material joining step.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記配線基板は、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記配線形成工程の前に前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部と前記導電層とを接続してもよい。 In the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the wiring board has a conductive layer located between the base material and the support base material, and the support base material has a through portion. Prior to the wiring forming step, a conductive layer forming step of forming the conductive layer on the lower surface of the supporting base material is provided, and in the wiring forming step, a part of the side surface side shield wire is formed in the penetrating portion. Then, a part of the side shield wire formed in the penetrating portion may be connected to the conductive layer.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記配線基板は、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、前記配線形成工程の後であって前記支持基材接合工程の前に、前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成し、前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部と前記導電層とを接続する導電層形成工程を備えていてもよい。 In the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the wiring board has a conductive layer located between the base material and the support base material, and the support base material has a through portion. In the wiring forming step, a part of the side surface side shielded wire is formed in the penetrating portion, and after the wiring forming step and before the supporting base material joining step, the lower surface of the supporting base material is formed. May be provided with a conductive layer forming step of forming the conductive layer on the surface and connecting a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion to the conductive layer.

また、本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、前記配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、を有し、前記配線を形成する配線形成工程と、前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、を備え、前記基材が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、前記支持基材接合工程において、前記基材と前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部とを接続し、前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the wiring substrate includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material. When the support base material located on the first surface side of the base material and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are set as the upper side. A wiring forming step of having a wiring provided on the upper side of the supporting base material, an insulating portion covering the wiring, and a covering shield portion covering the insulating portion, and the insulating portion. An insulating portion forming step to be formed, a covering shield portion forming step to form the covering shield portion, a base material stretching step of applying tensile stress to the base material to extend the base material, and the base in an elongated state. The base material comprises a support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the material and a base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is joined. It has conductivity, the supporting base material has a penetrating portion, a part of the covering shield portion is formed in the penetrating portion in the covering shield portion forming step, and the base is formed in the supporting base material joining step. The material and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion are connected, and in the base material shrinkage step, the form of the wiring is changed into peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material. This is a method for manufacturing a wiring substrate, in which a portion has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface of the base material.

また、本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、前記配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、を有し、前記配線を形成する配線形成工程と、前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、前記基材伸長工程と前記支持基材接合工程との間に、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、前記支持基材接合工程において、前記導電層と前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部とを接続し、前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the wiring substrate includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material. When the support base material located on the first surface side of the base material and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are set as the upper side. A wiring provided on the supporting base material, an insulating portion covering the wiring, a covering shield portion covering the insulating portion, and a conductive layer located between the base material and the supporting base material. A wiring forming step for forming the wiring, an insulating portion forming step for forming the insulating portion, a covering shield portion forming step for forming the covering shield portion, and a tensile stress are applied to the base material. From the base material stretching step of stretching the base material, the support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material, and the base material to which the support base material is joined. A base material shrinkage step for removing the tensile stress is provided, and the supporting base material has a penetrating portion, and in the covering shield portion forming step, a part of the covering shield portion is formed in the penetrating portion, and the base is formed. Between the material stretching step and the supporting base material joining step, a conductive layer forming step of forming the conductive layer on the first surface side of the stretched base material is provided, and in the supporting base material joining step, the said The conductive layer and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion are connected, and in the base material shrinkage step, the form of the wiring is changed to the mountain portion in the normal direction of the first surface of the base material and the mountain portion. This is a method for manufacturing a wiring substrate, in which the valley portion has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface of the base material.

また、本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、前記配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、を有し、前記配線を形成する配線形成工程と、前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記被覆シールド部形成工程の前に前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部と前記導電層とを接続し、前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the wiring substrate includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material. When the support base material located on the first surface side of the base material and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are set as the upper side. , The wiring provided on the supporting base material, the insulating portion covering the wiring, the covering shield portion covering the insulating portion, and the conductive layer located between the base material and the supporting base material. A wiring forming step for forming the wiring, an insulating portion forming step for forming the insulating portion, a covering shield portion forming step for forming the covering shield portion, and a tensile stress are applied to the base material. From the base material stretching step of stretching the base material, the support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material, and the base material to which the support base material is joined. A base material shrinkage step for removing the tensile stress is provided, the support base material has a penetrating portion, and the conductive layer is formed on the lower surface of the support base material before the coating shield portion forming step. A conductive layer forming step is provided, and in the covering shield portion forming step, a part of the covering shield portion is formed in the penetrating portion, and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion is connected to the conductive layer. Then, in the base material shrinkage step, the form of the wiring is repeated along the in-plane direction of the first surface of the base material with peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material. This is a method for manufacturing a wiring board having a bellows shape that appears.

また、本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、前記配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、を有し、前記配線を形成する配線形成工程と、前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、前記被覆シールド部形成工程の後であって前記支持基材接合工程の前に、前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成し、前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部と前記導電層とを接続する導電層形成工程を備え、前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the wiring substrate includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material. When the support base material located on the first surface side of the base material and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are set as the upper side. , The wiring provided on the supporting base material, the insulating portion covering the wiring, the covering shield portion covering the insulating portion, and the conductive layer located between the base material and the supporting base material. A wiring forming step for forming the wiring, an insulating portion forming step for forming the insulating portion, a covering shield portion forming step for forming the covering shield portion, and a tensile stress are applied to the base material. From the base material stretching step of stretching the base material, the support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material, and the base material to which the support base material is joined. A base material shrinkage step of removing the tensile stress is provided, and the supporting base material has a penetrating portion, and in the covering shield portion forming step, a part of the covering shield portion is formed in the penetrating portion, and the coating is provided. After the shield portion forming step and before the supporting base material joining step, the conductive layer is formed on the lower surface of the supporting base material, and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion is formed. A conductive layer forming step for connecting to the conductive layer is provided, and in the base material shrinkage step, the form of the wiring is such that the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are the base material. This is a method for manufacturing a wiring substrate, which has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface.

本開示の実施形態によれば、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。 According to the embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to wiring provided on a stretchable base material.

本開示の第1の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、(a)は平面図、b)は(a)のA−A線断面図、(c)は(a)のB−B線断面図It is a figure which shows an example of the wiring board which concerns on 1st Embodiment of this disclosure, (a) is a plan view, b) is a sectional view taken along line AA of (a), (c) is B of (a). -B line sectional view 図1に示す配線基板の支持基材の上側の積層構成の一例を示す図The figure which shows an example of the laminated structure of the upper side of the support base material of the wiring board shown in FIG. 図1に示す配線基板の製造方法の一例を示す図The figure which shows an example of the manufacturing method of the wiring board shown in FIG. 本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一例を示す図The figure which shows an example of the wiring board which concerns on 2nd Embodiment of this disclosure. 本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一例を示す図The figure which shows an example of the wiring board which concerns on 3rd Embodiment of this disclosure. 本開示の第4の実施形態に係る配線基板の一例を示す図The figure which shows an example of the wiring board which concerns on 4th Embodiment of this disclosure. 本開示の第5の実施形態に係る配線基板の一例を示す図The figure which shows an example of the wiring board which concerns on 5th Embodiment of this disclosure. 本開示の第6の実施形態に係る配線基板の一例を示す図The figure which shows an example of the wiring board which concerns on 6th Embodiment of this disclosure.

以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, the configuration of the wiring board and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings.

<第1の実施形態>
まず、本開示の第1の実施形態について、図1〜図3を用いて説明する。
ここで、図1は、本開示の第1の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、(a)は平面図、b)は(a)のA−A線断面図、(c)は(a)のB−B線断面図である。
また、図2は、図1に示す配線基板の支持基材の上側の積層構成の一例を示す図であり、図3は、図1に示す配線基板の製造方法の一例を示す図である。
<First Embodiment>
First, the first embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
Here, FIG. 1 is a diagram showing an example of a wiring board according to the first embodiment of the present disclosure, (a) is a plan view, b) is a sectional view taken along line AA of (a), and (c). ) Is a sectional view taken along line BB in (a).
Further, FIG. 2 is a diagram showing an example of a laminated structure on the upper side of the support base material of the wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing an example of a method for manufacturing the wiring board shown in FIG.

図1に示すように、配線基板10は、その構成として、基材20、支持基材30、配線40、側面側シールド線50a、50b、絶縁部60、および被覆シールド部70を、少なくとも備えている。
伸縮性を有する基材20は、第1面20a及び第1面20aの反対側に位置する第2面20bを含み、支持基材30は、基材20の第1面20a側に位置している。
そして、基材20の第1面20aの法線方向における第2面20bから第1面20aに向かう方向(図中のZ方向)を上側とした場合に、支持基材30の上側には、配線40、および側面側シールド線50a、50bが設けられている。
As shown in FIG. 1, the wiring board 10 includes at least a base material 20, a support base material 30, a wiring 40, side shield wires 50a and 50b, an insulating portion 60, and a covering shield portion 70 as its configuration. There is.
The elastic base material 20 includes a first surface 20a and a second surface 20b located on the opposite side of the first surface 20a, and the support base material 30 is located on the first surface 20a side of the base material 20. There is.
Then, when the direction from the second surface 20b to the first surface 20a (Z direction in the drawing) in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 is set as the upper side, the upper side of the supporting base material 30 is The wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b are provided.

ここからは、理解を容易とするために、図1に加えて、図2も用いて説明する。なお、図2は、図1に示す配線基板10の支持基材30の上側の積層構成の一例を示す図であり、図1(a)に示す配線基板10において、被覆シールド部70で隠された積層構成について説明するものである。 From now on, in order to facilitate understanding, FIG. 2 will be described in addition to FIG. Note that FIG. 2 is a diagram showing an example of the upper laminated configuration of the support base material 30 of the wiring board 10 shown in FIG. 1, and is hidden by the covering shield portion 70 in the wiring board 10 shown in FIG. 1A. This is a description of the laminated structure.

ここで、図2(a)は、支持基材30の上側に設けられた配線40と側面側シールド線50a、50bとの配置関係を示す平面図である。また、図2(b)は、配線40の上側に設けられた絶縁部60と、配線40および側面側シールド線50a、50bとの配置関係を示す平面図である。また、図2(c)は、絶縁部60の上側に設けられた被覆シールド部70の配置を示す平面図である。 Here, FIG. 2A is a plan view showing the arrangement relationship between the wiring 40 provided on the upper side of the support base material 30 and the side shield wires 50a and 50b. Further, FIG. 2B is a plan view showing the arrangement relationship between the insulating portion 60 provided on the upper side of the wiring 40, the wiring 40, and the side shield wires 50a and 50b. Further, FIG. 2C is a plan view showing the arrangement of the covering shield portion 70 provided on the upper side of the insulating portion 60.

なお、配線基板10の製造方法においては、この図2(a)、図2(b)、図2(c)の順に、配線40および側面側シールド線50a、50b、絶縁部60、被覆シールド部70が形成される。 In the method of manufacturing the wiring board 10, the wiring 40, the side shielded wires 50a and 50b, the insulating portion 60, and the covering shielded portion are arranged in the order of FIGS. 2 (a), 2 (b), and 2 (c). 70 is formed.

図1(b)および図2(a)に示すように、側面側シールド線50a、50bは配線40と並列に配置されている。図1(b)および図2(a)に示す例においては、側面側シールド線50a、50bは、配線40を間に挟むようにして、配線40と並列に配置されている。側面側シールド線50a、50bは、主に配線40の側面方向の電磁シールドを担うものである。また、後述するように、側面側シールド線50a、50bは、配線基板10において、電気的な接地のためのグランド線としても作用するものである。 As shown in FIGS. 1 (b) and 2 (a), the side shield wires 50a and 50b are arranged in parallel with the wiring 40. In the examples shown in FIGS. 1B and 2A, the side shield wires 50a and 50b are arranged in parallel with the wiring 40 so as to sandwich the wiring 40 in between. The side shield wires 50a and 50b mainly serve as an electromagnetic shield in the side surface direction of the wiring 40. Further, as will be described later, the side shield wires 50a and 50b also act as ground wires for electrical grounding on the wiring board 10.

ここで、本実施の形態においては、配線40と側面側シールド線50a、50bとを同じ材料から構成することができる。この場合、同一の製造工程で配線40と側面側シールド線50a、50bとを形成できるため、製造工程の短縮化やコストダウンに効果的である。この場合、通常、配線40と側面側シールド線50a、50bとは、互いに同じ厚さになる。
なお、本実施の形態においては、配線40と側面側シールド線50a、50bとを異なる材料から構成してもよい。
Here, in the present embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b can be made of the same material. In this case, since the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b can be formed in the same manufacturing process, it is effective in shortening the manufacturing process and reducing the cost. In this case, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b usually have the same thickness.
In the present embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b may be made of different materials.

また、図1(b)および図2(b)に示すように、絶縁部60が配線40を覆うように形成されている。側面側シールド線50a、50bは、少なくとも一部が絶縁部60から露出している。 Further, as shown in FIGS. 1 (b) and 2 (b), the insulating portion 60 is formed so as to cover the wiring 40. At least a part of the side shield wires 50a and 50b is exposed from the insulating portion 60.

なお、図1(b)および図2(b)に示す例においては、便宜上、絶縁部60は、側面側シールド線50a、50bの、それぞれ、配線40側の側面で接している形態になっているが、本実施の形態は、これに限定されない。例えば、絶縁部60は、側面側シールド線50a、50bの上側にも形成されていてもよい。なお、配線40と側面側シールド線50a、50bとの間は、空隙を設けずに絶縁部60で埋まっている方が好ましい。それゆえ、実際の製造では、通常、絶縁部60が側面側シールド線50a、50bの上側にも形成されている形態となる。主な理由は、絶縁部60を配置する際の位置合わせ精度が緩和されるからである。
ただし、側面側シールド線50a、50bは、少なくとも一部が絶縁部60から露出している形態とする。次に設けられる被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとを、電気的に接続するためである。
In the examples shown in FIGS. 1 (b) and 2 (b), for convenience, the insulating portion 60 is in contact with the side shield wires 50a and 50b on the side surfaces of the wiring 40, respectively. However, the present embodiment is not limited to this. For example, the insulating portion 60 may be formed on the upper side of the side shield wires 50a and 50b. It is preferable that the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b are filled with an insulating portion 60 without providing a gap. Therefore, in actual manufacturing, the insulating portion 60 is usually formed on the upper side of the side shield wires 50a and 50b. The main reason is that the alignment accuracy when arranging the insulating portion 60 is relaxed.
However, at least a part of the side shield wires 50a and 50b is exposed from the insulating portion 60. This is because the covering shield portion 70 provided next and the side shield wires 50a and 50b are electrically connected.

また、図1(b)および図2(c)に示すように、被覆シールド部70が絶縁部60を覆うように形成されている。被覆シールド部70は、主に配線40の上側の電磁シールドを担うものである。 Further, as shown in FIGS. 1 (b) and 2 (c), the covering shield portion 70 is formed so as to cover the insulating portion 60. The covering shield portion 70 mainly serves as an electromagnetic shield on the upper side of the wiring 40.

図1(b)および図2(c)に示す例においては、被覆シールド部70が、側面側シールド線50a、50bの上側の面にも形成されており、被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとが、電気的に接続している。
なお、図1(b)および図2(c)に示す例においては、被覆シールド部70が、側面側シールド線50a、50bの延びる方向において連続的に側面側シールド線50a、50bの上側の面に形成されているが、本実施の形態は、これに限定されない。被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとは、少なくとも一部が接続していればよい。
In the examples shown in FIGS. 1B and 2C, the covering shield portion 70 is also formed on the upper surfaces of the side surface side shield wires 50a and 50b, and the covering shield portion 70 and the side surface side shield wire are also formed. 50a and 50b are electrically connected.
In the examples shown in FIGS. 1 (b) and 2 (c), the covering shield portion 70 is the upper surface of the side shield wires 50a and 50b continuously in the extending direction of the side shield wires 50a and 50b. However, the present embodiment is not limited to this. At least a part of the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 50a and 50b may be connected.

上記のような積層構成を有するため、配線基板10においては、配線40に対して電磁シールドを施すことができる。 Since the wiring board 10 has the above-mentioned laminated structure, the wiring 40 can be electromagnetically shielded.

ここで、配線40は、伸縮性を有する基材20に設けられており、伸縮などの変形に対応できるものである。
例えば、基材20が収縮している状態においては、図1(c)に示すように、配線40は、基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している。
Here, the wiring 40 is provided on the elastic base material 20, and can cope with deformation such as expansion and contraction.
For example, in a state where the base material 20 is contracted, as shown in FIG. 1C, the wiring 40 is based on the mountain portion M and the valley portion V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20. It has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the material 20.

なお、図1(c)に示す例においては、支持基材30、および支持基材30の上側の積層構成体を構成するそれぞれの構成要素が、いずれも基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している。 In the example shown in FIG. 1C, the support base material 30 and the respective components constituting the upper laminated structure of the support base material 30 are the methods of the first surface 20a of the base material 20. The mountain portion M and the valley portion V in the linear direction have a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20.

すなわち、図1(c)に示す支持基材30、配線40、絶縁部60、被覆シールド部70のいずれもが、基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している。 That is, all of the supporting base material 30, the wiring 40, the insulating portion 60, and the covering shield portion 70 shown in FIG. 1 (c) have peaks M and valleys V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20. Has a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20.

なお、図1(c)には示されていないが、配線40と同様に支持基材30の上側に設けられ、配線40と並列に配置されている側面側シールド線50a、50bも、配線40と同様に基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有することになる。 Although not shown in FIG. 1C, the side shield wires 50a and 50b provided on the upper side of the support base material 30 and arranged in parallel with the wiring 40 as well as the wiring 40 are also wiring 40. Similarly, the mountain portion M and the valley portion V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 have a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20.

配線40が上記のような蛇腹形状を有するため、配線基板10においては、基材20が伸縮しても配線40に断線等が生じることを回避できる。
また、上記のように、側面側シールド線50a、50bも、配線40と同様に、蛇腹形状を有するため、配線基板10においては、基材20が伸縮しても側面側シールド線50a、50bに断線等が生じることを回避できる。そして、上記のように、被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとは、少なくとも一部が接続している。
それゆえ、側面側シールド線50a、50bを電気的に接地することで、伸縮性を有する基材20に設けられた配線40に電磁シールドが施された配線基板10を提供することができる。
Since the wiring 40 has the bellows shape as described above, it is possible to prevent the wiring 40 from being broken even if the base material 20 expands and contracts in the wiring board 10.
Further, as described above, since the side shield wires 50a and 50b also have a bellows shape like the wiring 40, in the wiring board 10, even if the base material 20 expands and contracts, the side shield wires 50a and 50b It is possible to avoid disconnection and the like. Then, as described above, at least a part of the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 50a and 50b are connected.
Therefore, by electrically grounding the side shield wires 50a and 50b, it is possible to provide the wiring board 10 in which the wiring 40 provided on the elastic base material 20 is electromagnetically shielded.

以下、配線基板10の各構成要素について、詳しく説明する。
[基材]
基材20は、伸縮性を有するように構成された部材である。基材20は、支持基材30側に位置する第1面20aと、第1面20aの反対側に位置する第2面20bと、を含む。以下の説明において、図1(a)のように、第1面20aの法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、単に「平面視」とも称する。
Hereinafter, each component of the wiring board 10 will be described in detail.
[Base material]
The base material 20 is a member configured to have elasticity. The base material 20 includes a first surface 20a located on the support base material 30 side and a second surface 20b located on the opposite side of the first surface 20a. In the following description, viewing the wiring board 10 or the components of the wiring board 10 along the normal direction of the first surface 20a as shown in FIG. 1A is also simply referred to as "plan view".

基材20の厚さは、例えば10μm以上10mm以下であり、より好ましくは20μm以上3mm以下である。基材20の厚さを10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保することができる。また、基材20の厚さを10mm以下にすることにより、配線基板10の装着快適性を確保することができる。なお、基材20の厚さを小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。 The thickness of the base material 20 is, for example, 10 μm or more and 10 mm or less, and more preferably 20 μm or more and 3 mm or less. By setting the thickness of the base material 20 to 10 μm or more, the durability of the base material 20 can be ensured. Further, by reducing the thickness of the base material 20 to 10 mm or less, the mounting comfort of the wiring board 10 can be ensured. If the thickness of the base material 20 is made too small, the elasticity of the base material 20 may be impaired.

なお、基材20の伸縮性とは、基材20が伸び縮みすることができる性質、すなわち、常態である非伸長状態から伸長することができ、この伸長状態から解放したときに復元することができる性質をいう。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。本実施形態において、伸縮可能な基材は、好ましくは、破壊されることなく非伸長状態から1%以上伸長することができ、より好ましくは20%以上伸長することができ、更に好ましくは75%以上伸長することができる。このような能力を有する基材20を用いることにより、配線基板10は全体に伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けるという、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用することができる。 The elasticity of the base material 20 means that the base material 20 can expand and contract, that is, it can be expanded from a normal non-extended state and can be restored when released from this extended state. The property that can be done. The non-extended state is the state of the base material 20 when no tensile stress is applied. In the present embodiment, the stretchable substrate can preferably be stretched by 1% or more from the non-stretched state without being destroyed, more preferably 20% or more, and further preferably 75%. It can be extended as described above. By using the base material 20 having such an ability, the wiring board 10 can have elasticity as a whole. Further, the wiring board 10 can be used in products and applications that require high expansion and contraction, such as being attached to a part of the body such as a human arm.

基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10全体に伸縮性を持たせることができる。 An example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, more preferably 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the entire wiring board 10 can be made elastic.

基材20の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of carrying out a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the base material 20 can be adopted. It is also possible to adopt a method in which the elastic modulus of the sample of the base material 20 is measured by the nanoindentation method in accordance with ISO14577. A nanoindenter can be used as the measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the base material 20, a method of taking out a part of the base material 20 from the wiring board 10 as a sample and a method of taking out a part of the base material 20 before forming the wiring board 10 as a sample can be considered. Be done. In addition, as a method of calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of analyzing the materials constituting the base material 20 and calculating the elastic modulus of the base material 20 based on the existing database of the materials is adopted. You can also. The elastic modulus in the present application is an elastic modulus in an environment of 25 ° C.

基材20を構成する材料の例としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。また、基材20の材料として、例えば、織物、編物、不織布などの布を用いることもできる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2−BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。また、基材20が、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れており、基材20の材料として好ましい。 Examples of the material constituting the base material 20 include an elastomer. Further, as the material of the base material 20, for example, a cloth such as a woven fabric, a knitted fabric, or a non-woven fabric can be used. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, and specifically, polyurethane-based elastomers, styrene-based elastomers, nitrile-based elastomers, olefin-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, ester-based elastomers, etc. Amid-based elastomers, 1,2-BR-based elastomers, fluoroelastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, polybutadienes, polyisobutylenes, polystyrene butadienes, polychloroprenes and the like can be used. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. Further, the base material 20 may contain silicone such as polydimethylsiloxane. Silicone is excellent in heat resistance, chemical resistance, and flame retardancy, and is preferable as a material for the base material 20.

[支持基材]
支持基材30は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された板状の部材である。
図1に示す例において、基材20の第1面20aの法線方向における第2面20bから第1面20aに向かう方向を上側とした場合に、支持基材30は、その上側において配線40を支持している。また、支持基材30は、その下側において基材20の第1面20a側に接合されている。
[Supporting base material]
The support base material 30 is a plate-shaped member configured to have lower elasticity than the base material 20.
In the example shown in FIG. 1, when the direction from the second surface 20b to the first surface 20a in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 is the upper side, the support base material 30 is the wiring 40 on the upper side thereof. Supports. Further, the support base material 30 is joined to the first surface 20a side of the base material 20 on the lower side thereof.

図示はしないが、例えば、基材20と支持基材30との間に、接着剤を含む接着層が設けられていてもよい。接着層を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層の厚みは、例えば5μm以上200μm以下である。また、図示はしないが、非接着表面を分子修飾させて、分子接着結合させる方法によって支持基材30の下側の面が基材20の第1面20aに接合されていてもよい。この場合、基材20と支持基材30との間に接着層が設けられていなくてもよい。 Although not shown, for example, an adhesive layer containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support base material 30. As the material constituting the adhesive layer, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, or the like can be used. The thickness of the adhesive layer is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less. Further, although not shown, the lower surface of the support base material 30 may be bonded to the first surface 20a of the base material 20 by a method in which the non-adhesive surface is molecularly modified and molecularly adhered and bonded. In this case, the adhesive layer may not be provided between the base material 20 and the support base material 30.

支持基材30は、基材20の弾性係数よりも大きい弾性係数を有している。例えば100MPa以上であり、より好ましくは1GPa以上である。また、支持基材30の弾性係数は、基材20の弾性係数の100倍以上50000倍以下であってもよく、好ましくは1000倍以上10000倍以下である。
なお、支持基材30の弾性係数が低すぎると、配線40等の形成工程中に支持基材30が変形し易く、支持基材30上に部材を形成する工程における、支持基材30のハンドリングが難しくなる。また、支持基材30の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
The supporting base material 30 has an elastic modulus larger than that of the base material 20. For example, it is 100 MPa or more, more preferably 1 GPa or more. The elastic modulus of the supporting base material 30 may be 100 times or more and 50,000 times or less, preferably 1000 times or more and 10000 times or less of the elastic modulus of the base material 20.
If the elastic modulus of the support base material 30 is too low, the support base material 30 is likely to be deformed during the process of forming the wiring 40 or the like, and the handling of the support base material 30 in the step of forming a member on the support base material 30 Becomes difficult. Further, if the elastic modulus of the supporting base material 30 is too high, it becomes difficult to restore the base material 20 at the time of relaxation, and the base material 20 is likely to be cracked or broken.

また、支持基材30の厚みは、例えば500nm以上10μm以下であり、より好ましくは1μm以上5μm以下である。支持基材30の厚さが小さすぎると、支持基材30の製造工程や、支持基材30上に部材を形成する工程における、支持基材30のハンドリングが難しくなる。支持基材30の厚さが大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness of the supporting base material 30 is, for example, 500 nm or more and 10 μm or less, more preferably 1 μm or more and 5 μm or less. If the thickness of the support base material 30 is too small, it becomes difficult to handle the support base material 30 in the process of manufacturing the support base material 30 and the process of forming a member on the support base material 30. If the thickness of the supporting base material 30 is too large, it becomes difficult to restore the base material 20 at the time of relaxation, and the target base material 20 cannot be expanded or contracted.

支持基材30を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂等を用いることができる。 As the material constituting the support base material 30, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin and the like can be used.

[配線]
配線40は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。
配線40の材料としては、基材20の伸張及び収縮に追従することができる材料が用いられる。配線40の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。
[wiring]
The wiring 40 is a member that has conductivity and has an elongated shape in a plan view.
As the material of the wiring 40, a material capable of following the expansion and contraction of the base material 20 is used. The material of the wiring 40 may or may not have elasticity by itself.

配線40に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線40の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線40としては、金属膜を用いることができる。 Examples of the material that can be used for the wiring 40 and does not have elasticity by itself include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the wiring 40 itself does not have elasticity, a metal film can be used as the wiring 40.

配線40に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線40に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。
導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
When the material itself used for the wiring 40 has elasticity, the elasticity of the material is similar to, for example, the elasticity of the base material 20. Examples of the material that can be used for the wiring 40 and has elasticity by itself include a conductive composition containing conductive particles and an elastomer.
The conductive particles may be any particles that can be used for wiring, and examples thereof include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon and the like. Of these, silver particles are preferably used.

好ましくは、配線40は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線40は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線40も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線40の導電性を維持することができる。 Preferably, the wiring 40 has a structure that is resistant to deformation. For example, the wiring 40 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 40 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20. Further, the conductivity of the wiring 40 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when the deformation occurs. ..

配線40のベース材を構成する材料としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。 As a material constituting the base material of the wiring 40, general thermoplastic elastomers and thermocurable elastomers can be used. For example, styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, silicone rubbers, etc. Elastomer rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene and the like can be used. Among them, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in terms of their elasticity and durability.

配線40の厚さは、基材20の伸縮に耐え得る厚さであればよく、配線40の材料等に応じて適宜選択される。
例えば、配線40の材料が伸縮性を有さない場合、配線40の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、配線40の材料が伸縮性を有する場合、配線40の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
The thickness of the wiring 40 may be a thickness that can withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the wiring 40 and the like.
For example, when the material of the wiring 40 does not have elasticity, the thickness of the wiring 40 can be in the range of 25 nm or more and 100 μm or less, preferably in the range of 50 nm or more and 50 μm or less, and preferably 100 nm or more and 5 μm. It is more preferably within the following range.
When the material of the wiring 40 has elasticity, the thickness of the wiring 40 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and 20 μm or more and 40 μm or less. It is more preferable that it is within the range.

配線40の幅は、配線40に求められる抵抗値に応じて適宜選択される。本実施形態において、配線40の幅は、例えば1μm以上であり、好ましくは50μm以上である。また、配線40の幅は、例えば10mm以下であり、好ましくは1mm以下である。 The width of the wiring 40 is appropriately selected according to the resistance value required for the wiring 40. In the present embodiment, the width of the wiring 40 is, for example, 1 μm or more, preferably 50 μm or more. The width of the wiring 40 is, for example, 10 mm or less, preferably 1 mm or less.

配線40の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、支持基材30の上に蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、配線40の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、支持基材30の上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。また、めっき法を用いてもよい。 The method for forming the wiring 40 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on the support base material 30 by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. When the material of the wiring 40 itself has elasticity, for example, a method of printing the conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer in a pattern on the support base material 30 by a general printing method. Can be mentioned. Moreover, you may use a plating method.

[側面側シールド線]
側面側シールド線50a、50bは、導電性を有し、図1に示す例において、支持基材30の上側に設けられ、配線40と並列に配置される。
[Side shield wire]
The side shield wires 50a and 50b have conductivity, are provided above the support base material 30 in the example shown in FIG. 1, and are arranged in parallel with the wiring 40.

側面側シールド線50a、50bの材料としては、上記の配線40と同様に、基材20の伸張及び収縮に追従することができる材料が用いられる。本実施の形態においては、配線40と側面側シールド線50a、50bとを同じ材料から構成することが好ましい。この場合、同一の製造工程で配線40と側面側シールド線50a、50bとを形成できるため、製造工程の短縮化やコストダウンに効果的である。また、この場合、通常、配線40と側面側シールド線50a、50bとは、互いに同じ厚さになる。 As the material of the side shield wires 50a and 50b, a material capable of following the expansion and contraction of the base material 20 is used as in the wiring 40 described above. In the present embodiment, it is preferable that the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b are made of the same material. In this case, since the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b can be formed in the same manufacturing process, it is effective in shortening the manufacturing process and reducing the cost. Further, in this case, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b usually have the same thickness.

なお、本実施の形態においては、配線40と側面側シールド線50a、50bとを異なる材料から構成してもよい。配線40は電気信号を伝達するため、信頼性等が求められるが、側面側シールド線50a、50bは配線40の側面側の電磁シールドとして作用するものであればよく、例えば、配線40よりも安価な材料を用いてもよい。 In the present embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b may be made of different materials. Since the wiring 40 transmits an electric signal, reliability and the like are required. However, the side shielded wires 50a and 50b may act as electromagnetic shields on the side surface of the wiring 40, and are cheaper than the wiring 40, for example. Material may be used.

側面側シールド線50a、50bの幅は、図1に示す例において、配線40の側面側の電磁シールドとして作用するものであればよく、例えば1μm以上であり、好ましくは50μm以上である。また、側面側シールド線50a、50bの幅は、の幅は、例えば10mm以下であり、好ましくは1mm以下である。 In the example shown in FIG. 1, the widths of the side shield wires 50a and 50b may be any as long as they act as an electromagnetic shield on the side surface of the wiring 40, and are, for example, 1 μm or more, preferably 50 μm or more. The width of the side shield wires 50a and 50b is, for example, 10 mm or less, preferably 1 mm or less.

側面側シールド線50a、50bの形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、支持基材30の上に蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、側面側シールド線50a、50bの材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、支持基材30の上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。また、めっき法を用いてもよい。 The method for forming the side shield wires 50a and 50b is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on the support base material 30 by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. When the materials of the side shield wires 50a and 50b themselves have elasticity, for example, a conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer is patterned on the supporting base material 30 by a general printing method. There is a method of printing in a form. Moreover, you may use a plating method.

[絶縁部]
絶縁部60は、主に、配線40と被覆シールド部70とを電気的に絶縁する作用を奏するものである。
また、本実施の形態において絶縁部60は、基材20の伸縮に伴って変形する配線40に断線等が生じることを防止する作用、すなわち、配線40の機械的強度を補強する作用も兼ね備える。
絶縁部60は、平面視において、少なくとも配線40に重なるように位置している。なお、「重なる」とは、基材20の第1面20aの法線方向に沿って見た場合に2つの構成要素が重なることを意味している。
[Insulation part]
The insulating portion 60 mainly has an action of electrically insulating the wiring 40 and the covering shield portion 70.
Further, in the present embodiment, the insulating portion 60 also has an action of preventing the wiring 40, which is deformed due to expansion and contraction of the base material 20, from being broken, that is, an action of reinforcing the mechanical strength of the wiring 40.
The insulating portion 60 is positioned so as to overlap at least the wiring 40 in a plan view. In addition, "overlapping" means that the two components overlap when viewed along the normal direction of the first surface 20a of the base material 20.

絶縁部60は、基材20の弾性係数よりも大きい弾性係数を有してもよい。絶縁部60の弾性係数は、例えば10GPa以上500GPa以下であり、より好ましくは1GPa以上300GPa以下である。
絶縁部60の弾性係数が低すぎると、基材20の伸縮に伴って変形する配線40に断線等が生じることを防止できない場合がある。また、絶縁部60の弾性係数が高すぎると、基材20が伸縮した際に、割れやひびなど構造の破壊が絶縁部60に起こる場合がある。
絶縁部60の弾性係数は、基材20の弾性係数の1.1倍以上5000倍以下であってもよく、より好ましくは10倍以上3000倍以下である。
The insulating portion 60 may have an elastic modulus larger than that of the base material 20. The elastic modulus of the insulating portion 60 is, for example, 10 GPa or more and 500 GPa or less, and more preferably 1 GPa or more and 300 GPa or less.
If the elastic modulus of the insulating portion 60 is too low, it may not be possible to prevent the wiring 40, which is deformed due to the expansion and contraction of the base material 20, from being broken. Further, if the elastic modulus of the insulating portion 60 is too high, the insulating portion 60 may be damaged in structure such as cracks and cracks when the base material 20 expands and contracts.
The elastic modulus of the insulating portion 60 may be 1.1 times or more and 5000 times or less of the elastic modulus of the base material 20, and more preferably 10 times or more and 3000 times or less.

絶縁部60の弾性係数を算出する方法は、絶縁部60の形態に応じて適宜定められる。例えば、絶縁部60の弾性係数を算出する方法は、上述の基材20の弾性係数を算出する方法と同様であってもよく、異なっていてもよい。例えば、絶縁部60の弾性係数を算出する方法として、絶縁部60のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。 The method for calculating the elastic modulus of the insulating portion 60 is appropriately determined according to the form of the insulating portion 60. For example, the method of calculating the elastic modulus of the insulating portion 60 may be the same as or different from the method of calculating the elastic modulus of the base material 20 described above. For example, as a method of calculating the elastic modulus of the insulating portion 60, a method of performing a tensile test in accordance with ASTM D882 using a sample of the insulating portion 60 can be adopted.

絶縁部60の特性を、弾性係数に替えて曲げ剛性によって表してもよい。絶縁部60の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって絶縁部60を切断した場合の断面に基づいて算出される。絶縁部60 の曲げ剛性は、基材20の曲げ剛性の1.1倍以上であってもよく、より好ましくは2倍以上であり、更に好ましくは10倍以上である。 The characteristic of the insulating portion 60 may be expressed by flexural rigidity instead of the elastic modulus. The moment of inertia of area of the insulating portion 60 is calculated based on the cross section when the insulating portion 60 is cut by a plane orthogonal to the expansion / contraction direction of the wiring board 10. The bending rigidity of the insulating portion 60 may be 1.1 times or more, more preferably 2 times or more, and further preferably 10 times or more the bending rigidity of the base material 20.

絶縁部60を構成する材料として、一般的な熱可塑性エラストマーや、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系又はシリコーン系等のオリゴマー、ポリマーなどを用いてもよい。
絶縁部60の厚さは、例えば1μm以上3mm以下であり、より好ましくは10μm以上500μm以下である。
As a material constituting the insulating portion 60, a general thermoplastic elastomer, an acrylic-based, urethane-based, epoxy-based, polyester-based, epoxy-based, vinyl ether-based, polyene-thiol-based or silicone-based oligomer, polymer, or the like is used. You may.
The thickness of the insulating portion 60 is, for example, 1 μm or more and 3 mm or less, and more preferably 10 μm or more and 500 μm or less.

絶縁部60の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、支持基材30の上に配線40を形成した後、絶縁部60を構成する材料を印刷法により配線40の上に印刷する方法が挙げられる。 The method for forming the insulating portion 60 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming the wiring 40 on the support base material 30 and then printing the material constituting the insulating portion 60 on the wiring 40 by a printing method can be mentioned.

[被覆シールド部]
被覆シールド部70は、主に配線40の上側の電磁シールドを担うものである。
被覆シールド部70は、導電性を有し、図1に示す例において、絶縁部60を覆うように形成されている。また、図1に示す例において、被覆シールド部70は、側面側シールド線50a、50bの上側の面にも形成されており、被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとは、電気的に接続している。
[Covered shield]
The covering shield portion 70 mainly serves as an electromagnetic shield on the upper side of the wiring 40.
The covering shield portion 70 has conductivity and is formed so as to cover the insulating portion 60 in the example shown in FIG. Further, in the example shown in FIG. 1, the covering shield portion 70 is also formed on the upper surface of the side surface side shield wires 50a and 50b, and the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 50a and 50b are electrically connected to each other. Is connected to.

被覆シールド部70の材料としては、上記の配線40と同様に、基材20の伸張及び収縮に追従することができる材料が用いられる。
ここで、被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとを同じ金属材料から構成する場合は、例えば、図1(a)および図1(b)に示すように、側面側シールド線50a、50bの上側の面は被覆シールド部70で覆われる形態になる。被覆シールド部70をエッチングで所望の形態とする際に、側面側シールド線50a、50bもエッチングされるからである。
As the material of the covering shield portion 70, a material capable of following the expansion and contraction of the base material 20 is used as in the case of the wiring 40 described above.
Here, when the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 50a and 50b are made of the same metal material, for example, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the side surface side shield wires 50a, The upper surface of 50b is covered with the covering shield portion 70. This is because the side shield wires 50a and 50b are also etched when the coated shield portion 70 is formed into a desired form by etching.

なお、本実施の形態において、被覆シールド部70と側面側シールド線50a、50bとを異なる材料から構成してもよい。
例えば、配線40は電気信号を伝達するため信頼性等が求められ、上記のように、同一の製造工程で配線40と側面側シールド線50a、50bとを形成した方が製造工程の短縮化やコストダウンに効果的であることから、配線40と側面側シールド線50a、50bとは同じ材料から構成される場合が多い。
一方、被覆シールド部70は、配線40とは別工程で形成されるため、配線40と同じ材料で構成する必要はない。また、被覆シールド部70は、配線40の上側の電磁シールドとして作用するものであればよく、例えば、配線40よりも安価な材料を用いてもよい。
In the present embodiment, the covering shield portion 70 and the side shield wires 50a and 50b may be made of different materials.
For example, the wiring 40 is required to have reliability because it transmits an electric signal. As described above, forming the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b in the same manufacturing process shortens the manufacturing process. Since it is effective in reducing costs, the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b are often made of the same material.
On the other hand, since the covering shield portion 70 is formed in a different process from the wiring 40, it is not necessary to use the same material as the wiring 40. Further, the covering shield portion 70 may act as an electromagnetic shield on the upper side of the wiring 40, and for example, a material cheaper than the wiring 40 may be used.

被覆シールド部70の厚さは、配線40の上側の電磁シールドとして作用するものであって、基材20の伸縮に耐え得る厚さであればよく、被覆シールド部70の材料等に応じて適宜選択される。
例えば、被覆シールド部70の材料が伸縮性を有さない場合、被覆シールド部70の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、被覆シールド部70の材料が伸縮性を有する場合、被覆シールド部70の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
The thickness of the covering shield portion 70 may act as an electromagnetic shield on the upper side of the wiring 40 and may be thick enough to withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately suitable depending on the material of the covering shield portion 70 and the like. Be selected.
For example, when the material of the covering shield portion 70 does not have elasticity, the thickness of the covering shield portion 70 can be in the range of 25 nm or more and 100 μm or less, and preferably in the range of 50 nm or more and 50 μm or less. , 100 nm or more and 5 μm or less is more preferable.
When the material of the covering shield portion 70 has elasticity, the thickness of the covering shield portion 70 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and is preferably 20 μm. It is more preferably within the range of 40 μm or more.

被覆シールド部70の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、被覆シールド部70の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。また、めっき法を用いてもよい。 The method for forming the covering shield portion 70 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. When the material of the coating shield portion 70 itself has elasticity, for example, a method of printing the conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer in a pattern by a general printing method can be mentioned. Moreover, you may use a plating method.

(配線基板10の製造方法)
以下、図1、図2、および図3(a)〜(d)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of wiring board 10)
Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 1, 2 and 3 (a) to 3 (d).

まず、図2(a)に示すように、支持基材30を準備し、支持基材30の上側に、配線40と側面側シールド線50a、50bを形成する配線形成工程を実施する。
次に、図2(b)に示すように、配線40を覆う絶縁部60を形成する絶縁部形成工程を実施し、その後、図2(c)に示すように、絶縁部60を覆う被覆シールド部70を形成する被覆シールド部形成工程を実施する。
このようにして、図3(a)に示すように、支持基材30の上側の積層構成体が得られる。
First, as shown in FIG. 2A, the support base material 30 is prepared, and a wiring formation step of forming the wiring 40 and the side shield wires 50a and 50b on the upper side of the support base material 30 is carried out.
Next, as shown in FIG. 2 (b), an insulating portion forming step of forming the insulating portion 60 covering the wiring 40 is performed, and then, as shown in FIG. 2 (c), a covering shield covering the insulating portion 60 is performed. A coating shield portion forming step for forming the portion 70 is carried out.
In this way, as shown in FIG. 3A, the laminated structure on the upper side of the support base material 30 is obtained.

続いて、図3(b)に示すように、別途準備した基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる基材伸長工程を実施する。基材20の伸張率は、例えば10%以上200%以下である。基材伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上100℃以下である。 Subsequently, as shown in FIG. 3B, a base material stretching step of applying tensile stress T to the separately prepared base material 20 to stretch the base material 20 is carried out. The elongation rate of the base material 20 is, for example, 10% or more and 200% or less. The base material stretching step may be carried out in a state where the base material 20 is heated, or may be carried out at room temperature. When the base material 20 is heated, the temperature of the base material 20 is, for example, 50 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

続いて、図3(c)に示すように、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面20a側に、図3(a)に示す積層構成体が設けられた支持基材30を接合する支持基材接合工程を実施する。この際、基材20と支持基材30との間に接着層を設けてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 3C, the supporting base material 30 provided with the laminated structure shown in FIG. 3A on the first surface 20a side of the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T. The support base material joining step of joining is carried out. At this time, an adhesive layer may be provided between the base material 20 and the support base material 30.

その後、基材20から引張応力Tを取り除く基材収縮工程を実施する。これにより、図3(d)に示すように、矢印Cで示す方向(図3(b)で基材20に加えた引張応力Tの引張方向とは逆の方向)に、基材20が収縮する。
この基材20の収縮に伴って、支持基材30、および支持基材30の上側の積層構成体を構成するそれぞれの構成要素が、いずれも基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状となる。
以上のような工程を経ることにより、配線基板10を得ることができる。
Then, a base material shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 20 is carried out. As a result, as shown in FIG. 3D, the base material 20 contracts in the direction indicated by the arrow C (the direction opposite to the tensile direction of the tensile stress T applied to the base material 20 in FIG. 3B). To do.
As the base material 20 shrinks, the support base material 30 and the respective components constituting the upper laminated body of the support base material 30 are all in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20. The mountain portion M and the valley portion V have a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20.
The wiring board 10 can be obtained by going through the above steps.

<第2の実施形態>
次に、本開示の第2の実施形態について説明する。
本開示の第2の実施形態の配線基板は、例えば、上記の第1の実施形態の配線基板において、配線が交差し、一方の配線が他方の配線の上側を跨って乗り越えるような構成を有する場合の形態である。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the present disclosure will be described.
The wiring board of the second embodiment of the present disclosure has a configuration in which, for example, in the wiring board of the first embodiment described above, the wirings intersect and one wiring straddles the upper side of the other wiring. This is the form of the case.

すなわち、本開示の第2の実施形態の配線基板は、上記の第1の実施形態の配線基板において、配線40が一対となる2本の配線40a、40bを含み、絶縁部60の上側に設けられ、前記一対となる2本の配線40a、40bを接続するブリッジ配線80を備え、ブリッジ配線80の周囲の絶縁部60は、被覆シールド部70から露出する絶縁部露出領域63を有し、基材20の第1面20aの法線方向に沿って見た場合に、一対となる2本の配線40a、40bの各々と、ブリッジ配線80とが重なる領域の絶縁部60に貫通孔62a、62bが設けられており、貫通孔62a、62bを通して、一対となる2本の配線40a、40bの各々とブリッジ配線80とが接続している構成を有するものである。 That is, the wiring board of the second embodiment of the present disclosure includes two wirings 40a and 40b in which the wirings 40 are a pair in the wiring board of the first embodiment described above, and is provided above the insulating portion 60. A bridge wiring 80 for connecting the two pairs of wirings 40a and 40b is provided, and the insulating portion 60 around the bridge wiring 80 has an insulating portion exposed region 63 exposed from the covering shield portion 70, and is a base. When viewed along the normal direction of the first surface 20a of the material 20, through holes 62a and 62b are formed in the insulating portion 60 in the region where each of the pair of two wirings 40a and 40b and the bridge wiring 80 overlap. Is provided, and the bridge wiring 80 is connected to each of the pair of two wirings 40a and 40b through the through holes 62a and 62b.

図4は、本開示の第2の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、主に、配線が交差する部位の構成を示す平面図である。
ここで、図4は、上記の第1の実施形態における図2と同様に、被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)で隠された積層構成についても説明するものである。
すなわち、図4(a)は、支持基材の上側に設けられた配線40(40a、40b)、41と側面側シールド線51、52、53、54との配置関係を示す平面図である。
また、図4(b)は、配線40(40a、40b)、41の上側に設けられた絶縁部60と、配線40(40a、40b)、41および側面側シールド線51、52、53、54との配置関係を示す平面図である。
また、図4(c)は、絶縁部60の上側に設けられた被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)、ブリッジ配線80、絶縁部露出領域63の配置関係を示す平面図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a wiring board according to a second embodiment of the present disclosure, and is mainly a plan view showing a configuration of a portion where wiring intersects.
Here, FIG. 4 also describes a laminated structure hidden by the covering shield portions 70 (70a, 70b, 70c, 70d), as in FIG. 2 in the first embodiment.
That is, FIG. 4A is a plan view showing the arrangement relationship between the wirings 40 (40a, 40b), 41 provided on the upper side of the support base material and the side shield wires 51, 52, 53, 54.
Further, FIG. 4B shows the insulating portion 60 provided on the upper side of the wiring 40 (40a, 40b), 41, the wiring 40 (40a, 40b), 41, and the side shield wires 51, 52, 53, 54. It is a top view which shows the arrangement relation with.
Further, FIG. 4C is a plan view showing the arrangement relationship of the covering shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d) provided on the upper side of the insulating portion 60, the bridge wiring 80, and the insulating portion exposed region 63. ..

なお、本開示の第2の実施形態の配線基板においても、上記の第1の実施形態の配線基板と同様に、この図4(a)、図4(b)、図4(c)の順に、配線40(40a、40b)、41、側面側シールド線51、52、53、54、絶縁部60、被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)、およびブリッジ配線80が形成される。 Also in the wiring board of the second embodiment of the present disclosure, similarly to the wiring board of the first embodiment described above, the order of FIGS. 4 (a), 4 (b), and 4 (c). , Wiring 40 (40a, 40b), 41, side shield wires 51, 52, 53, 54, insulating portion 60, coated shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d), and bridge wiring 80 are formed.

まず、図4(a)に示すように、本実施の形態においては、配線40は一対となる2本の配線40a、40bを含んでいる。
配線40は配線41と交差するため、一対となる2本の配線40a、40bに分離され、この2本の配線40a、40bの各端部が、後述するブリッジ配線80によって接続される。
配線40と配線41の両脇には、それぞれ対応する側面側シールド線51、52、53、54が配置されている。
First, as shown in FIG. 4A, in the present embodiment, the wiring 40 includes two pairs of wirings 40a and 40b.
Since the wiring 40 intersects the wiring 41, the wiring 40 is separated into a pair of two wirings 40a and 40b, and the ends of the two wirings 40a and 40b are connected by a bridge wiring 80 described later.
Corresponding side shield wires 51, 52, 53, and 54 are arranged on both sides of the wiring 40 and the wiring 41, respectively.

次に、図4(b)に示すように、絶縁部60が配線40(40a、40b)および配線41を覆うように形成される。側面側シールド線51、52、53、54は、少なくとも一部が絶縁部60から露出している。 Next, as shown in FIG. 4B, the insulating portion 60 is formed so as to cover the wiring 40 (40a, 40b) and the wiring 41. At least a part of the side shield wires 51, 52, 53, 54 is exposed from the insulating portion 60.

ここで、本実施の形態においては、絶縁部60に貫通孔62a、62bが設けられている。そして、この貫通孔62a、62bを通して、一対となる2本の配線40a、40bの各々と、ブリッジ配線80とが接続している、 Here, in the present embodiment, the insulating portion 60 is provided with through holes 62a and 62b. Then, through the through holes 62a and 62b, each of the pair of two wirings 40a and 40b and the bridge wiring 80 are connected.

また、図4(c)に示すように、被覆シールド部70が絶縁部60を覆うように形成される。また、貫通孔62a、62bを通して、2本の配線40a、40bの各々と接続するようにブリッジ配線80が形成される。
ここで、本実施の形態においては、ブリッジ配線80の周囲の絶縁部60は、被覆シールド部70から露出する絶縁部露出領域63になっている。このような構成を有しているため、ブリッジ配線80と被覆シールド部70とは、互いに絶縁されている。
Further, as shown in FIG. 4C, the covering shield portion 70 is formed so as to cover the insulating portion 60. Further, the bridge wiring 80 is formed so as to connect to each of the two wirings 40a and 40b through the through holes 62a and 62b.
Here, in the present embodiment, the insulating portion 60 around the bridge wiring 80 is an insulating portion exposed region 63 exposed from the covering shield portion 70. Since it has such a configuration, the bridge wiring 80 and the covering shield portion 70 are insulated from each other.

ここで、本実施の形態においては、ブリッジ配線80と被覆シールド部70とを、同じ材料から構成することができる。この場合、同一の製造工程でブリッジ配線80と被覆シールド部70とを形成できるため、製造工程の短縮化やコストダウンに効果的である。
この場合、通常、ブリッジ配線80と被覆シールド部70とは、互いに同じ厚さになる。
Here, in the present embodiment, the bridge wiring 80 and the covering shield portion 70 can be made of the same material. In this case, since the bridge wiring 80 and the covering shield portion 70 can be formed in the same manufacturing process, it is effective in shortening the manufacturing process and reducing the cost.
In this case, the bridge wiring 80 and the covering shield portion 70 usually have the same thickness.

なお、本実施の形態においては、ブリッジ配線80と被覆シールド部70とを、異なる材料から構成してもよい。 In the present embodiment, the bridge wiring 80 and the covering shield portion 70 may be made of different materials.

また、本実施形態の配線基板11においても、上記の第1の実施形態の配線基板10と同様に、支持基材30、および支持基材30の上側の積層構成体を構成するそれぞれの構成要素が、いずれも基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している(図1(c)参照)。 Further, also in the wiring board 11 of the present embodiment, similarly to the wiring board 10 of the first embodiment described above, the support base material 30 and the respective components constituting the laminated structure on the upper side of the support base material 30 are also formed. However, both have a bellows shape in which the peaks M and valleys V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20 (). See FIG. 1 (c)).

すなわち、支持基材30、配線40(40a、40b)、41、側面側シールド線51、52、53、54、絶縁部60、被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)およびブリッジ配線80の、それぞれが、いずれも基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している。 That is, the support base material 30, the wiring 40 (40a, 40b), 41, the side shield wires 51, 52, 53, 54, the insulating portion 60, the covering shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d) and the bridge wiring 80. Each of the above has a bellows shape in which the peaks M and valleys V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20. ing.

なお、本実施の形態においては、図3に例示した配線基板の製造方法において、少なくとも配線40と配線41の、それぞれが延びる方向に基材20が伸長させられて、この伸長した状態の基材20に上記の各構成を積層した支持基材30が接合される。
それゆえ、引張応力Tが取り除かれて基材20が収縮した状態においては、配線40(40a、40b)および配線41が有する蛇腹形状は、各配線における山部M及び谷部Vが、各配線の延びる方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状となる。
側面側シールド線51、52、53、54、絶縁部60、被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)およびブリッジ配線80についても、同様である。
In the present embodiment, in the method for manufacturing the wiring board illustrated in FIG. 3, the base material 20 is stretched in the direction in which at least the wiring 40 and the wiring 41 are stretched, and the base material in the stretched state is stretched. The support base material 30 in which each of the above configurations is laminated is joined to 20.
Therefore, in a state where the tensile stress T is removed and the base material 20 is contracted, the bellows shape of the wiring 40 (40a, 40b) and the wiring 41 is such that the peaks M and valleys V of each wiring are the wiring. It becomes a bellows shape that appears repeatedly along the extending direction of.
The same applies to the side shield wires 51, 52, 53, 54, the insulating portion 60, the coated shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d) and the bridge wiring 80.

上記のような構成を有するため、本実施の形態においても、基材20が伸縮しても配線40、41や側面側シールド線51、52、53、54に断線等が生じることを回避できる。そして、上記のように、被覆シールド部70と側面側シールド線51、52、53、54とは、少なくとも一部が接続している。
それゆえ、側面側シールド線51、52、53、54を電気的に接地することで、配線40、41に電磁シールドを施すことが可能となる。
すなわち、本実施の形態によれば、配線が交差するような形態においても、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。
Since it has the above configuration, even in the present embodiment, it is possible to prevent the wiring 40, 41 and the side shield wires 51, 52, 53, 54 from being disconnected even if the base material 20 expands and contracts. Then, as described above, at least a part of the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 51, 52, 53, 54 are connected.
Therefore, by electrically grounding the side shield wires 51, 52, 53, 54, it is possible to apply an electromagnetic shield to the wirings 40, 41.
That is, according to the present embodiment, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to the wiring provided on the stretchable base material even in a form in which the wiring intersects.

(配線基板11の製造方法)
図4(c)に示す配線基板11の製造方法としては、例えば、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程において、支持基材30の上側に、図4(a)に示すように、一対となる2本の配線(40a、40b)を含む配線40、41と側面側シールド線51、52、53、54を形成し、次の絶縁部形成工程において、絶縁部60を形成するとともに、図4(b)に示すように、絶縁部60に貫通孔62a、62bを設ける。
(Manufacturing method of wiring board 11)
As a method of manufacturing the wiring board 11 shown in FIG. 4 (c), for example, in the wiring forming step in the method of manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment described above, FIG. 4 (a) is placed above the support base material 30. ), The wirings 40, 41 including two pairs of wirings (40a, 40b) and the side shield wires 51, 52, 53, 54 are formed, and in the next insulating portion forming step, the insulating portion is formed. 60 is formed, and as shown in FIG. 4B, through holes 62a and 62b are provided in the insulating portion 60.

そして、続く被覆シールド部形成工程において、図4(c)に示すように、被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)とブリッジ配線80を形成するとともに、ブリッジ配線80の周囲の絶縁部60が被覆シールド部70(70a、70b、70c、70d)から露出する絶縁部露出領域63を形成し、かつ、貫通孔62a、62bにブリッジ配線80の一部を形成して、一対となる2本の配線(40a、40b)の各々と、ブリッジ配線80とを接続する。 Then, in the subsequent coating shield portion forming step, as shown in FIG. 4C, the coating shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d) and the bridge wiring 80 are formed, and the insulating portion around the bridge wiring 80 is formed. 60 forms an insulating portion exposed region 63 exposed from the covering shield portion 70 (70a, 70b, 70c, 70d), and a part of the bridge wiring 80 is formed in the through holes 62a, 62b to form a pair of 2 Each of the wirings (40a, 40b) of the book and the bridge wiring 80 are connected.

その後は、図3に例示した上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法と同様に、基材伸長工程、支持基材接合工程、基材収縮工程を実施することで、配線基板11を得ることができる。 After that, the wiring board 11 is carried out by carrying out the base material extension step, the support base material joining step, and the base material shrinkage step in the same manner as the manufacturing method of the wiring board 10 of the first embodiment illustrated in FIG. Can be obtained.

なお、配線基板11の製造においては、図3に例示した配線基板の製造方法において、少なくとも配線40と配線41の、それぞれが延びる方向に基材20が伸長させられて、この伸長した状態の基材20に上記の各構成を積層した支持基材30が接合される。 In the manufacturing of the wiring board 11, in the method of manufacturing the wiring board illustrated in FIG. 3, the base material 20 is stretched in the direction in which at least the wiring 40 and the wiring 41 are stretched, and the base 20 is stretched. The support base material 30 in which each of the above configurations is laminated is joined to the material 20.

<第3の実施形態>
次に、本開示の第3の実施形態について説明する。
本開示の第3の実施形態の配線基板においては、基材が導電性を有し、この基材が配線の下側の電磁シールドとして作用する。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present disclosure will be described.
In the wiring board of the third embodiment of the present disclosure, the base material has conductivity, and this base material acts as an electromagnetic shield under the wiring.

すなわち、本開示の第3の実施形態の配線基板は、上記の第1の実施形態または第2の実施形態の配線基板において、基材が導電性を有し、支持基材が貫通部を有し、この貫通部を通して、基材と側面側シールド線とが接続している構成を有するものである。 That is, in the wiring board of the third embodiment of the present disclosure, in the wiring board of the first embodiment or the second embodiment described above, the base material has conductivity and the supporting base material has a penetration portion. However, it has a structure in which the base material and the side shield wire are connected through this penetrating portion.

図5は、本開示の第3の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、上記の図1(b)と同様に、配線が伸びる方向に対して垂直な断面における配線基板の構成を示す断面図である。 FIG. 5 is a diagram showing an example of the wiring board according to the third embodiment of the present disclosure, and similarly to FIG. 1 (b) above, the configuration of the wiring board in a cross section perpendicular to the direction in which the wiring extends. It is sectional drawing which shows.

図5に示す配線基板12においては、支持基材31が貫通部31a、31bを有しており、この貫通部31a、31bを通して、基材21と側面側シールド線55a、55bとが接続している。
ここで、基材21と側面側シールド線55a、55bとは、少なくとも一部が接続していればよい。それゆえ、貫通部31a、31bは、側面側シールド線55a、55bの延びる方向に側面側シールド線55a、55bと同じ長さで連続的に形成されている必要はなく、部分的に設けられていてもよい。例えば、貫通部31a、31bは、側面側シールド線55a、55bの延びる方向に一定間隔で設けられていてもよい。
In the wiring board 12 shown in FIG. 5, the support base material 31 has through portions 31a and 31b, and the base material 21 and the side shield wires 55a and 55b are connected to each other through the through portions 31a and 31b. There is.
Here, at least a part of the base material 21 and the side surface side shield wires 55a and 55b may be connected. Therefore, the penetrating portions 31a and 31b need not be continuously formed with the same length as the side shield wires 55a and 55b in the extending direction of the side shield wires 55a and 55b, and are partially provided. You may. For example, the penetrating portions 31a and 31b may be provided at regular intervals in the extending direction of the side shield wires 55a and 55b.

そして、基材21は導電性を有している。例えば、基材21は、上記の第1の実施形態の基材20を構成する材料に導電性粒子を含むものである。導電性粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。 And the base material 21 has conductivity. For example, the base material 21 contains conductive particles in the material constituting the base material 20 of the first embodiment described above. Examples of the conductive particles include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon and the like.

上記のような構成を有するため、配線基板12においては、この基材21が配線40の下側の電磁シールドとして作用する。
すなわち、配線基板12においては、上記の第1の実施形態の配線基板10における効果に加えて、配線の下側に対しても電磁シールドを施すことができる。
Since it has the above configuration, in the wiring board 12, the base material 21 acts as an electromagnetic shield under the wiring 40.
That is, in the wiring board 12, in addition to the effect of the wiring board 10 of the first embodiment described above, an electromagnetic shield can be applied to the lower side of the wiring.

より詳しくは、図5に示す配線基板12においては、被覆シールド部70、側面側シールド線55a、55b、および導電性を有する基材21を有するため、配線40に対して、その上側、側面側、下側の全ての方向で電磁シールドを施すことができる。 More specifically, since the wiring board 12 shown in FIG. 5 has a coated shield portion 70, side shield wires 55a and 55b, and a conductive base material 21, the wiring 40 is above and on the side surface side thereof. , Electromagnetic shielding can be applied in all directions on the lower side.

そして、図5に示す配線基板12においても、上記の第1の実施形態の配線基板10と同様に、基材21が伸縮しても配線40や側面側シールド線55a、55bに断線等が生じることを回避できる。また、配線40の下側の電磁シールドとして作用する基材21は、伸縮性を有するため、自身の伸縮によっては破損しにくい。そして、上記のように、被覆シールド部70と側面側シールド線55a、55bとは、少なくとも一部が接続しており、貫通部31a、31bを通して側面側シールド線55a、55bと基材21とが接続している。 Further, also in the wiring board 12 shown in FIG. 5, similarly to the wiring board 10 of the first embodiment described above, even if the base material 21 expands and contracts, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are disconnected. You can avoid that. Further, since the base material 21 acting as an electromagnetic shield under the wiring 40 has elasticity, it is not easily damaged by its own expansion and contraction. Then, as described above, at least a part of the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 55a and 55b are connected, and the side surface side shield wires 55a and 55b and the base material 21 pass through the penetration portions 31a and 31b. You are connected.

それゆえ、側面側シールド線55a、55bまたは基材21のいずれかを電気的に接地することで、配線40に電磁シールドを施すことが可能となる。
すなわち、本実施の形態においても、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。
Therefore, the wiring 40 can be electromagnetically shielded by electrically grounding any of the side shield wires 55a and 55b or the base material 21.
That is, also in the present embodiment, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to the wiring provided on the elastic base material.

(配線基板12の製造方法)
図5に示す配線基板12の製造方法としては、例えば、以下のような方法を採用することができる。
まず、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程と同様にして、貫通部31a、31bを有する支持基材31の上側に、配線40と側面側シールド線55a、55bを形成するとともに、貫通部31a、31bに側面側シールド線55a、55bの一部を形成する。
また、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における支持基材接合工程と同様にして、伸長した状態の基材21の第1面21a側に支持基材31を接合するとともに、基材21と貫通部31a、31bに形成した側面側シールド線55a、55bの一部とを接続する。
(Manufacturing method of wiring board 12)
As a method for manufacturing the wiring board 12 shown in FIG. 5, for example, the following method can be adopted.
First, in the same manner as in the wiring forming step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are placed on the upper side of the support base material 31 having the through portions 31a and 31b. And a part of the side shield wires 55a and 55b are formed in the penetrating portions 31a and 31b.
Further, in the same manner as in the support base material joining step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the support base material 31 is joined to the first surface 21a side of the stretched base material 21. The base material 21 and a part of the side shield wires 55a and 55b formed in the penetrating portions 31a and 31b are connected to each other.

その他の各工程については、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法と同様に実施することで、配線基板12を得ることができる。 The wiring board 12 can be obtained by carrying out each of the other steps in the same manner as in the manufacturing method of the wiring board 10 of the first embodiment described above.

<第4の実施形態>
次に、本開示の第4の実施形態について説明する。
本開示の第4の実施形態の配線基板においては、基材と支持基材との間に導電層を備えており、この導電層が配線の下側の電磁シールドとして作用する。
<Fourth Embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present disclosure will be described.
In the wiring board of the fourth embodiment of the present disclosure, a conductive layer is provided between the base material and the supporting base material, and this conductive layer acts as an electromagnetic shield under the wiring.

すなわち、本開示の第5の実施形態の配線基板は、上記の第1の実施形態または第2の実施形態の配線基板において、基材と支持基材との間に位置する導電層を備え、支持基材が貫通部を有し、貫通部を通して、導電層と側面側シールド線とが接続している構成を有するものである。 That is, the wiring board of the fifth embodiment of the present disclosure includes a conductive layer located between the base material and the supporting base material in the wiring board of the first embodiment or the second embodiment described above. The supporting base material has a penetrating portion, and the conductive layer and the side shield wire are connected to each other through the penetrating portion.

図6は、本開示の第4の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、上記の図1(b)と同様に、配線が伸びる方向に対して垂直な断面における配線基板の構成を示す断面図である。 FIG. 6 is a diagram showing an example of the wiring board according to the fourth embodiment of the present disclosure, and similarly to FIG. 1 (b) above, the configuration of the wiring board in a cross section perpendicular to the direction in which the wiring extends. It is sectional drawing which shows.

図6に示すように、配線基板13は、基材20と支持基材31との間に導電層90を備えており、支持基材31は貫通部31a、31bを有し、貫通部31a、31bを通して、導電層90と側面側シールド線55a、55bとが接続している。
ここで、導電層90と側面側シールド線55a、55bとは、少なくとも一部が接続していればよい。それゆえ、貫通部31a、31bは、側面側シールド線55a、55bの延びる方向に側面側シールド線55a、55bと同じ長さで連続的に形成されている必要はなく、部分的に設けられていてもよい。例えば、貫通部31a、31bは、側面側シールド線55a、55bの延びる方向に一定間隔で設けられていてもよい。
As shown in FIG. 6, the wiring board 13 includes a conductive layer 90 between the base material 20 and the support base material 31, and the support base material 31 has through portions 31a and 31b, and the through portions 31a, Through 31b, the conductive layer 90 and the side shield wires 55a and 55b are connected.
Here, at least a part of the conductive layer 90 and the side shield wires 55a and 55b may be connected. Therefore, the penetrating portions 31a and 31b need not be continuously formed with the same length as the side shield wires 55a and 55b in the extending direction of the side shield wires 55a and 55b, and are partially provided. You may. For example, the penetrating portions 31a and 31b may be provided at regular intervals in the extending direction of the side shield wires 55a and 55b.

上記のような構成を有するため、配線基板13においては、導電層90が配線40の下側の電磁シールドとして作用する。
すなわち、配線基板13においては、上記の第1の実施形態の配線基板10における効果に加えて、配線の下側に対しても電磁シールドを施すことができる。
Since it has the above configuration, the conductive layer 90 acts as an electromagnetic shield under the wiring 40 in the wiring board 13.
That is, in the wiring board 13, in addition to the effect of the wiring board 10 of the first embodiment described above, an electromagnetic shield can be applied to the lower side of the wiring.

より詳しくは、図6に示す配線基板13においては、被覆シールド部70、側面側シールド線55a、55b、および導電層90を有するため、配線40に対して、その上側、側面側、下側の全ての方向で電磁シールドを施すことができる。 More specifically, since the wiring board 13 shown in FIG. 6 has a coated shield portion 70, side shield wires 55a and 55b, and a conductive layer 90, the wiring 40 is on the upper side, the side surface side, and the lower side of the wiring 40. Electromagnetic shielding can be applied in all directions.

そして、図6に示す配線基板13においても、上記の第1の実施形態の配線基板10と同様に、基材20が伸縮しても配線40や側面側シールド線55a、55bに断線等が生じることを回避できる。 Further, also in the wiring board 13 shown in FIG. 6, similarly to the wiring board 10 of the first embodiment described above, even if the base material 20 expands and contracts, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are broken. You can avoid that.

また、配線基板13における導電層90も、基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とすることができる。それゆえ、基材20が伸縮しても導電層90が破損することを回避できる。 Further, in the conductive layer 90 of the wiring board 13, the peaks M and valleys V in the normal direction of the first surface 20a of the base material 20 repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20. It can be in the form of having a shape. Therefore, it is possible to prevent the conductive layer 90 from being damaged even if the base material 20 expands and contracts.

また、導電層90は、配線40や側面側シールド線55a、55bよりも面積が大きいため、一部が破損しても、他の破損していない部分で電磁シールドとして十分効果を奏することが可能である。また、導電層90は、導電性を有し、電磁シールドとして作用するものであればよく、配線40を構成する材料よりも、伸縮性の高い材料から構成することもできる。 Further, since the conductive layer 90 has a larger area than the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b, even if a part of the conductive layer 90 is damaged, the other undamaged part can be sufficiently effective as an electromagnetic shield. Is. Further, the conductive layer 90 may be made of a material having conductivity and acting as an electromagnetic shield, and may be made of a material having higher elasticity than the material constituting the wiring 40.

そして、上記のように、被覆シールド部70と側面側シールド線55a、55bとは、少なくとも一部が接続しており、貫通部31a、31bを通して側面側シールド線55a、55bと導電層90とが接続している。 Then, as described above, at least a part of the covering shield portion 70 and the side surface side shield wires 55a and 55b are connected, and the side surface side shield wires 55a and 55b and the conductive layer 90 pass through the through portions 31a and 31b. You are connected.

それゆえ、側面側シールド線55a、55bまたは導電層90のいずれかを電気的に接地することで、配線40に電磁シールドを施すことが可能となる。
すなわち、本実施の形態においても、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。
Therefore, the wiring 40 can be electromagnetically shielded by electrically grounding any of the side shield wires 55a and 55b or the conductive layer 90.
That is, also in the present embodiment, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to the wiring provided on the elastic base material.

導電層90の材料としては、基材20の伸張及び収縮に追従することができる材料が用いられる。導電層90の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。 As the material of the conductive layer 90, a material capable of following the expansion and contraction of the base material 20 is used. The material of the conductive layer 90 may or may not have elasticity by itself.

導電層90に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。導電層90の材料自体が伸縮性を有さない場合、導電層90としては、金属膜を用いることができる。 Examples of the material that can be used for the conductive layer 90 and does not have elasticity by itself include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the conductive layer 90 itself does not have elasticity, a metal film can be used as the conductive layer 90.

導電層90に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。導電層90に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。 When the material itself used for the conductive layer 90 has elasticity, the elasticity of the material is similar to, for example, the elasticity of the base material 20. Examples of the material that can be used for the conductive layer 90 and has elasticity by itself include a conductive composition containing conductive particles and an elastomer. The conductive particles may be any particles that can be used for wiring, and examples thereof include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon and the like. Of these, silver particles are preferably used.

好ましくは、導電層90は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、導電層90は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて導電層90も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、導電層90の導電性を維持することができる。 Preferably, the conductive layer 90 has a structure that is resistant to deformation. For example, the conductive layer 90 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the conductive layer 90 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20. Further, the conductivity of the conductive layer 90 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when deformation occurs. it can.

導電層90のベース材を構成する材料としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。 As a material constituting the base material of the conductive layer 90, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. For example, styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, and silicone rubbers. , Elastomer rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene and the like can be used. Among them, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in terms of their elasticity and durability.

導電層90の厚さは、基材20の伸縮に耐え得る厚さであればよく、導電層90の材料等に応じて適宜選択される。
例えば、導電層90の材料が伸縮性を有さない場合、導電層90の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、導電層90の材料が伸縮性を有する場合、導電層90の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
The thickness of the conductive layer 90 may be a thickness that can withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the conductive layer 90 and the like.
For example, when the material of the conductive layer 90 does not have elasticity, the thickness of the conductive layer 90 can be in the range of 25 nm or more and 100 μm or less, preferably in the range of 50 nm or more and 50 μm or less, preferably 100 nm. It is more preferably within the range of 5 μm or less.
When the material of the conductive layer 90 has elasticity, the thickness of the conductive layer 90 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and 20 μm or more and 40 μm. It is more preferably within the following range.

導電層90の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20の第1面20aまたは支持基材31の下側の面に蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成する方法が挙げられる。また、導電層90の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20の第1面20aまたは支持基材31の下側の面に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物を印刷する方法が挙げられる。また、めっき法を用いてもよい。 The method for forming the conductive layer 90 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on the first surface 20a of the base material 20 or the lower surface of the support base material 31 by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like can be mentioned. When the material of the conductive layer 90 itself has elasticity, for example, the above-mentioned conductive particles and elastomer are applied to the first surface 20a of the base material 20 or the lower surface of the support base material 31 by a general printing method. Examples thereof include a method of printing the conductive composition contained therein. Moreover, you may use a plating method.

(配線基板13の製造方法)
図6に示す配線基板13の製造方法としては、例えば、以下のような方法を採用することができる。
まず、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程において、配線40と側面側シールド線55a、55bを形成するとともに、貫通部31a、31bに側面側シールド線55a、55bの一部を形成する。
また、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における基材伸長工程と支持基材接合工程との間に、伸長した状態の基材20の第1面20a側に導電層90を形成する導電層形成工程を実施する。
そして、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における支持基材接合工程において、伸長した状態の基材20の第1面20a側に形成した導電層90と支持基材31とを接合するとともに、導電層90と貫通部31a、31bに形成した側面側シールド線55a、55bの一部とを接続する。
(Manufacturing method of wiring board 13)
As a method for manufacturing the wiring board 13 shown in FIG. 6, for example, the following method can be adopted.
First, in the wiring forming step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are formed, and the side shield wires 55a and 55b are formed in the through portions 31a and 31b. Form a part of.
Further, between the base material stretching step and the supporting base material joining step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the conductive layer 90 is provided on the first surface 20a side of the stretched base material 20. The conductive layer forming step to be formed is carried out.
Then, in the support base material joining step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the conductive layer 90 and the support base material 31 formed on the first surface 20a side of the stretched base material 20 are formed. At the same time as joining, the conductive layer 90 and a part of the side shield wires 55a and 55b formed in the penetrating portions 31a and 31b are connected.

その他の各工程については、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法と同様に実施することで、配線基板13を得ることができる。 The wiring board 13 can be obtained by carrying out each of the other steps in the same manner as in the manufacturing method of the wiring board 10 of the first embodiment described above.

また、他の製造方法として、以下のような方法を採用してもよい。
まず、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程の前に支持基材31の下側の面に導電層90を形成する導電層形成工程を実施する。
また、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程において、配線40と側面側シールド線55a、55bを形成するとともに、貫通部31a、31bに側面側シールド線55a、55bの一部を形成し、貫通部31a、31bに形成した側面側シールド線55a、55bの一部と前記導電層90とを接続する。
そして、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における支持基材接合工程において、伸長した状態の基材20の第1面20a側に、導電層90を形成した支持基材31の導電層90側を接合する。
Further, as another manufacturing method, the following method may be adopted.
First, the conductive layer forming step of forming the conductive layer 90 on the lower surface of the support base material 31 is carried out before the wiring forming step in the method of manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment.
Further, in the wiring forming step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are formed, and the side shield wires 55a and 55b are formed in the through portions 31a and 31b. A part of the side shield wires 55a and 55b formed in the penetrating portions 31a and 31b is connected to the conductive layer 90.
Then, in the support base material joining step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the support base material 31 having the conductive layer 90 formed on the first surface 20a side of the stretched base material 20. The conductive layer 90 side is joined.

その他の各工程については、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法と同様に実施することで、配線基板13を得ることができる。 The wiring board 13 can be obtained by carrying out each of the other steps in the same manner as in the manufacturing method of the wiring board 10 of the first embodiment described above.

また、他の製造方法として、以下のような方法を採用してもよい。
まず、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における配線形成工程において、配線40と側面側シールド線55a、55bを形成するとともに、貫通部31a、31bに側面側シールド線55a、55bの一部を形成する。
また、この配線形成工程の後であって上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における支持基材接合工程の前に、支持基材31の下側の面に導電層90を形成し、貫通部31a、31bに形成した側面側シールド線55a、55bの一部と導電層90とを接続する導電層形成工程を実施する。
そして、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法における支持基材接合工程において、伸長した状態の基材20の第1面20a側に、導電層90を形成した支持基材31の導電層90側を接合する。
Further, as another manufacturing method, the following method may be adopted.
First, in the wiring forming step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the wiring 40 and the side shield wires 55a and 55b are formed, and the side shield wires 55a and 55b are formed in the through portions 31a and 31b. Form a part of.
Further, after this wiring forming step and before the supporting base material joining step in the manufacturing method of the wiring substrate 10 of the first embodiment described above, the conductive layer 90 is formed on the lower surface of the supporting base material 31. Then, a conductive layer forming step of connecting a part of the side shield wires 55a and 55b formed in the penetrating portions 31a and 31b to the conductive layer 90 is carried out.
Then, in the support base material joining step in the method for manufacturing the wiring board 10 of the first embodiment, the support base material 31 having the conductive layer 90 formed on the first surface 20a side of the stretched base material 20. The conductive layer 90 side is joined.

その他の各工程については、上記の第1の実施形態の配線基板10の製造方法と同様に実施することで、配線基板13を得ることができる。 The wiring board 13 can be obtained by carrying out each of the other steps in the same manner as in the manufacturing method of the wiring board 10 of the first embodiment described above.

<第5の実施形態>
次に、本開示の第5の実施形態について説明する。
本開示の第5の実施形態の配線基板は、上記の第3の実施形態の配線基板において、側面側シールド線を介さずに、被覆シールド部と基材が直接接続している形態である。
<Fifth Embodiment>
Next, a fifth embodiment of the present disclosure will be described.
The wiring board of the fifth embodiment of the present disclosure is the wiring board of the third embodiment described above, in which the covering shield portion and the base material are directly connected to each other without passing through the side shield wire.

すなわち、本開示の第5の実施形態の配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、を備え、前記基板が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記基材と前記被覆シールド部とが接続しており、前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板である。 That is, the wiring board of the fifth embodiment of the present disclosure includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material and the first surface of the base material. Provided on the upper side of the support base material when the support base material located on the surface side and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are on the upper side. The wiring is provided, an insulating portion covering the wiring, and a covering shield portion covering the insulating portion are provided, the substrate has conductivity, the supporting base material has a penetrating portion, and the penetrating portion is passed through. , The base material and the coating shield portion are connected, and in the wiring, the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are in the plane of the first surface of the base material. A wiring board having a bellows shape that repeatedly appears along the direction.

図7は、本開示の第5の実施形態の配線基板の一例を示す図であり、上記の図1(b)と同様に、配線が伸びる方向に対して垂直な断面における配線基板の構成を示す断面図である。 FIG. 7 is a diagram showing an example of the wiring board of the fifth embodiment of the present disclosure, and similarly to FIG. 1 (b) above, the configuration of the wiring board in the cross section perpendicular to the direction in which the wiring extends is configured. It is sectional drawing which shows.

図7に示す配線基板14と図5に示す配線基板12との相違点は、図7に示す配線基板14においては、図5に示す配線基板12における側面側シールド線55a、55bを備えておらず、貫通部31a、31bを通して、基材21と被覆シールド部71とが直接接続している点である。
ここで、基材21と被覆シールド部71とは、少なくとも一部が接続していればよい。それゆえ、図7に示す配線基板14においても、図5に示す配線基板12と同様に、貫通部31a、31bは、被覆シールド部71の延びる方向に被覆シールド部71と同じ長さで連続的に形成されている必要はなく、部分的に設けられていてもよい。例えば、貫通部31a、31bは、被覆シールド部71の延びる方向に一定間隔で設けられていてもよい。
The difference between the wiring board 14 shown in FIG. 7 and the wiring board 12 shown in FIG. 5 is that the wiring board 14 shown in FIG. 7 is provided with the side shield wires 55a and 55b of the wiring board 12 shown in FIG. The point is that the base material 21 and the covering shield portion 71 are directly connected to each other through the penetrating portions 31a and 31b.
Here, at least a part of the base material 21 and the covering shield portion 71 may be connected. Therefore, also in the wiring board 14 shown in FIG. 7, the penetrating portions 31a and 31b are continuous in the extending direction of the covering shield portion 71 with the same length as the covering shield portion 71, as in the wiring board 12 shown in FIG. It does not have to be formed in, and may be partially provided. For example, the penetrating portions 31a and 31b may be provided at regular intervals in the extending direction of the covering shield portion 71.

上記のように、図7に示す配線基板14においては、貫通部31a、31bを通して、基材21と被覆シールド部71とが接続している。それゆえ、基材21を電気的に接地することで、図7に示す配線基板14においても、図5に示す配線基板12と同様に、配線40に電磁シールドを施すことが可能となる。
そして、図7に示す配線基板14においても、図5に示す配線基板12と同様に、基材21が伸縮しても配線40に断線等が生じることを回避できる。
すなわち、本実施の形態においても、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。
As described above, in the wiring board 14 shown in FIG. 7, the base material 21 and the covering shield portion 71 are connected to each other through the penetrating portions 31a and 31b. Therefore, by electrically grounding the base material 21, the wiring board 14 shown in FIG. 7 can be electromagnetically shielded as well as the wiring board 12 shown in FIG.
Further, in the wiring board 14 shown in FIG. 7, similarly to the wiring board 12 shown in FIG. 5, it is possible to prevent the wiring 40 from being broken even if the base material 21 expands and contracts.
That is, also in the present embodiment, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to the wiring provided on the elastic base material.

(配線基板14の製造方法)
図7に示す配線基板14の製造方法としては、例えば、以下のような方法を採用することができる。
まず、貫通部31a、31bを有する支持基材31を準備し、支持基材31の上側に、配線40を形成する配線形成工程を実施する。
次に、配線40を覆う絶縁部60を形成する絶縁部形成工程を実施し、その後、絶縁部60を覆う被覆シールド部71を形成しつつ、貫通部31a、31bに被覆シールド部71の一部を形成する被覆シールド部形成工程を実施する。
(Manufacturing method of wiring board 14)
As a method for manufacturing the wiring board 14 shown in FIG. 7, for example, the following method can be adopted.
First, the support base material 31 having the penetrating portions 31a and 31b is prepared, and a wiring formation step of forming the wiring 40 on the upper side of the support base material 31 is carried out.
Next, an insulating portion forming step of forming the insulating portion 60 covering the wiring 40 is carried out, and then a part of the covering shield portion 71 is formed in the penetrating portions 31a and 31b while forming the covering shield portion 71 covering the insulating portion 60. The step of forming the covering shield portion for forming the above is carried out.

続いて、別途準備した基材21に引張応力Tを加えて基材21を伸長させる基材伸長工程を実施する。基材21の伸張率は、例えば10%以上200%以下である。基材伸長工程は、基材21を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材21を加熱する場合、基材21の温度は例えば50℃以上100℃以下である。 Subsequently, a base material stretching step of applying a tensile stress T to the separately prepared base material 21 to extend the base material 21 is carried out. The elongation rate of the base material 21 is, for example, 10% or more and 200% or less. The base material stretching step may be carried out in a state where the base material 21 is heated, or may be carried out at room temperature. When the base material 21 is heated, the temperature of the base material 21 is, for example, 50 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材21の第1面21a側に、上記の被覆シールド部形成工程を実施した支持基材31を接合するとともに、基材21と貫通部31a、31bに形成した被覆シールド部71の一部とを接続する支持基材接合工程を実施する。 Subsequently, the supporting base material 31 subjected to the above-mentioned coating shield portion forming step is joined to the first surface 21a side of the base material 21 stretched by the tensile stress T, and the base material 21 and the penetrating parts 31a and 31b are joined. A support base material joining step for connecting a part of the covering shield portion 71 formed in the above is carried out.

その後、基材21から引張応力Tを取り除く基材収縮工程を実施する。この基材21の収縮に伴って、支持基材31、および支持基材31の上側の積層構成体を構成するそれぞれの構成要素が、いずれも基材21の第1面21aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材21の第1面21aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状となる。
以上のような工程を経ることにより、配線基板14を得ることができる。
Then, a base material shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 21 is carried out. As the base material 21 shrinks, the support base material 31 and the respective components constituting the upper laminated body of the support base material 31 are all in the normal direction of the first surface 21a of the base material 21. The mountain portion M and the valley portion V have a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 21a of the base material 21.
The wiring board 14 can be obtained through the above steps.

<第6の実施形態>
次に、本開示の第6の実施形態について説明する。
本開示の第6の実施形態の配線基板は、上記の第4の実施形態の配線基板において、側面側シールド線を介さずに、被覆シールド部と導電層90が直接接続している形態である。
<Sixth Embodiment>
Next, a sixth embodiment of the present disclosure will be described.
The wiring board of the sixth embodiment of the present disclosure is the wiring board of the fourth embodiment described above, in which the covering shield portion and the conductive layer 90 are directly connected without passing through the side shield wire. ..

すなわち、本開示の第6の実施形態の配線基板は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、前記支持基材の上側に設けられた配線と、前記配線を覆う絶縁部と、前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、を備え、前記支持基材が貫通部を有し、前記貫通部を通して、前記被覆シールド部と前記導電層とが接続しており、前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板である。 That is, the wiring substrate of the sixth embodiment of the present disclosure includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has an elastic base material and the first surface of the base material. Provided on the upper side of the support base material when the support base material located on the surface side and the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material are on the upper side. The wiring is provided, an insulating portion covering the wiring, a covering shield portion covering the insulating portion, and a conductive layer located between the base material and the supporting base material, and the supporting base material penetrates the wiring. The covering shield portion and the conductive layer are connected to each other through the penetrating portion, and the wiring is based on the mountain portion and the valley portion in the normal direction of the first surface of the base material. It is a wiring substrate having a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface of the material.

図8は、本開示の第6の実施形態に係る配線基板の一例を示す図であり、上記の図1(b)と同様に、配線が伸びる方向に対して垂直な断面における配線基板の構成を示す断面図である。 FIG. 8 is a diagram showing an example of the wiring board according to the sixth embodiment of the present disclosure, and similarly to FIG. 1 (b) above, the configuration of the wiring board in a cross section perpendicular to the direction in which the wiring extends. It is sectional drawing which shows.

図8に示す配線基板15と図6に示す配線基板13との相違点は、図8に示す配線基板15においては、図6に示す配線基板13における側面側シールド線55a、55bを備えておらず、貫通部31a、31bを通して、導電層90と被覆シールド部71とが接続している点である。
ここで、導電層90と被覆シールド部71とは、少なくとも一部が接続していればよい。それゆえ、図8に示す配線基板15においても、図6に示す配線基板13と同様に、貫通部31a、31bは、被覆シールド部71の延びる方向に被覆シールド部71と同じ長さで連続的に形成されている必要はなく、部分的に設けられていてもよい。例えば、貫通部31a、31bは、被覆シールド部71の延びる方向に一定間隔で設けられていてもよい。
The difference between the wiring board 15 shown in FIG. 8 and the wiring board 13 shown in FIG. 6 is that the wiring board 15 shown in FIG. 8 is provided with the side shield wires 55a and 55b of the wiring board 13 shown in FIG. The point is that the conductive layer 90 and the covering shield portion 71 are connected to each other through the penetrating portions 31a and 31b.
Here, at least a part of the conductive layer 90 and the covering shield portion 71 may be connected. Therefore, also in the wiring board 15 shown in FIG. 8, the penetrating portions 31a and 31b are continuous with the same length as the covering shield portion 71 in the extending direction of the covering shield portion 71, similarly to the wiring board 13 shown in FIG. It does not have to be formed in, and may be partially provided. For example, the penetrating portions 31a and 31b may be provided at regular intervals in the extending direction of the covering shield portion 71.

上記のように、図8に示す配線基板15においては、貫通部31a、31bを通して、導電層90と被覆シールド部71とが接続している。それゆえ、導電層90を電気的に接地することで、図8に示す配線基板15においても、図6に示す配線基板13と同様に、配線40に電磁シールドを施すことが可能となる。
そして、図8に示す配線基板15においても、図6に示す配線基板13と同様に、基材20が伸縮しても配線40に断線等が生じることを回避できる。
すなわち、本実施の形態においても、伸縮性を有する基材に設けられた配線に電磁シールドを施すことが可能な配線基板を提供することができる。
As described above, in the wiring board 15 shown in FIG. 8, the conductive layer 90 and the covering shield portion 71 are connected to each other through the penetrating portions 31a and 31b. Therefore, by electrically grounding the conductive layer 90, it is possible to apply an electromagnetic shield to the wiring 40 in the wiring board 15 shown in FIG. 8 as well as the wiring board 13 shown in FIG.
Further, in the wiring board 15 shown in FIG. 8, similarly to the wiring board 13 shown in FIG. 6, it is possible to prevent the wiring 40 from being broken even if the base material 20 expands and contracts.
That is, also in the present embodiment, it is possible to provide a wiring board capable of applying an electromagnetic shield to the wiring provided on the elastic base material.

(配線基板15の製造方法)
図8に示す配線基板15の製造方法としては、例えば、以下のような方法を採用することができる。
まず、貫通部31a、31bを有する支持基材31を準備し、支持基材31の上側に、配線40を形成する配線形成工程を実施する。
次に、配線40を覆う絶縁部60を形成する絶縁部形成工程を実施し、その後、絶縁部60を覆う被覆シールド部71を形成しつつ、貫通部31a、31bに被覆シールド部71の一部を形成する被覆シールド部形成工程を実施する。
(Manufacturing method of wiring board 15)
As a method for manufacturing the wiring board 15 shown in FIG. 8, for example, the following method can be adopted.
First, the support base material 31 having the penetrating portions 31a and 31b is prepared, and a wiring formation step of forming the wiring 40 on the upper side of the support base material 31 is carried out.
Next, an insulating portion forming step of forming the insulating portion 60 covering the wiring 40 is carried out, and then a part of the covering shield portion 71 is formed in the penetrating portions 31a and 31b while forming the covering shield portion 71 covering the insulating portion 60. The step of forming the covering shield portion for forming the above is carried out.

続いて、別途準備した基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる基材伸長工程を実施する。基材20の伸張率は、例えば10%以上200%以下である。基材伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上100℃以下である。 Subsequently, a base material stretching step of applying a tensile stress T to the separately prepared base material 20 to extend the base material 20 is carried out. The elongation rate of the base material 20 is, for example, 10% or more and 200% or less. The base material stretching step may be carried out in a state where the base material 20 is heated, or may be carried out at room temperature. When the base material 20 is heated, the temperature of the base material 20 is, for example, 50 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

次に、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面20a側に、導電層90を形成する導電層形成工程を実施する。 Next, a conductive layer forming step of forming the conductive layer 90 on the first surface 20a side of the base material 20 stretched by the tensile stress T is carried out.

続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面20a側に、すなわち、上記導電層形成工程で形成した導電層90の上側に、上記の被覆シールド部形成工程を実施した支持基材31を接合するとともに、導電層90と貫通部31a、31bに形成した被覆シールド部71の一部とを接続する支持基材接合工程を実施する。 Subsequently, the support in which the coating shield portion forming step is carried out is carried out on the first surface 20a side of the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T, that is, on the upper side of the conductive layer 90 formed in the conductive layer forming step. A support base material joining step is carried out in which the base material 31 is joined and the conductive layer 90 and a part of the covering shield portion 71 formed in the penetrating parts 31a and 31b are connected.

その後、基材20から引張応力Tを取り除く基材収縮工程を実施する。この基材20の収縮に伴って、導電層90、支持基材31、および支持基材31の上側の積層構成体を構成するそれぞれの構成要素が、いずれも基材20の第1面20aの法線方向における山部M及び谷部Vが基材20の第1面20aの面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状となる。
以上のような工程を経ることにより、配線基板15を得ることができる。
Then, a base material shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 20 is carried out. With the shrinkage of the base material 20, the conductive layer 90, the support base material 31, and the respective components constituting the upper laminated structure of the support base material 31 are all on the first surface 20a of the base material 20. The peaks M and valleys V in the normal direction have a bellows shape that repeatedly appears along the in-plane direction of the first surface 20a of the base material 20.
The wiring board 15 can be obtained through the above steps.

また、他の製造方法として、以下のような方法を採用してもよい。
この方法では、被覆シールド部形成工程の前に支持基材31の下側の面に導電層90を形成する導電層形成工程を実施する。
Further, as another manufacturing method, the following method may be adopted.
In this method, the conductive layer forming step of forming the conductive layer 90 on the lower surface of the supporting base material 31 is carried out before the covering shield portion forming step.

例えば、まず、支持基材31を準備し、支持基材31の下側の面に導電層90を形成する導電層形成工程を実施する。
次に、支持基材31の上側に、配線40を形成する配線形成工程を実施する。
次に、配線40を覆う絶縁部60を形成する絶縁部形成工程を実施し、その後、絶縁部60を覆う被覆シールド部71を形成しつつ、貫通部31a、31bに被覆シールド部71の一部を形成し、貫通部31a、31bに形成した被覆シールド部71の一部と導電層90とを接続する被覆シールド部形成工程を実施する。
For example, first, the supporting base material 31 is prepared, and the conductive layer forming step of forming the conductive layer 90 on the lower surface of the supporting base material 31 is carried out.
Next, a wiring forming step of forming the wiring 40 on the upper side of the supporting base material 31 is performed.
Next, an insulating portion forming step of forming the insulating portion 60 covering the wiring 40 is performed, and then a part of the covering shield portion 71 is formed in the penetrating portions 31a and 31b while forming the covering shield portion 71 covering the insulating portion 60. Is formed, and a step of forming a covering shield portion for connecting a part of the covering shield portion 71 formed in the penetrating portions 31a and 31b and the conductive layer 90 is carried out.

次に、別途準備した基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる基材伸長工程を実施する。続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面20a側に、上記導電層90を形成した支持基材31を接合する支持基材接合工程を実施する。その後、基材20から引張応力Tを取り除く基材収縮工程を実施する。
以上のような工程を経ることにより、配線基板15を得ることができる。
Next, a base material stretching step of applying a tensile stress T to the separately prepared base material 20 to extend the base material 20 is performed. Subsequently, a support base material joining step of joining the support base material 31 on which the conductive layer 90 is formed is carried out on the first surface 20a side of the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T. Then, a base material shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 20 is carried out.
The wiring board 15 can be obtained through the above steps.

また、他の製造方法として、以下のような方法を採用してもよい。
この方法では、被覆シールド部形成工程の後であって支持基材接合工程の前に、支持基材31の下側の面に導電層90を形成し、貫通部31a、31bに形成した被覆シールド部71の一部と導電層90とを接続する。
Further, as another manufacturing method, the following method may be adopted.
In this method, after the coating shield portion forming step and before the supporting base material joining step, the conductive layer 90 is formed on the lower surface of the supporting base material 31, and the covering shield formed on the penetrating portions 31a and 31b. A part of the portion 71 and the conductive layer 90 are connected.

例えば、まず、支持基材31を準備し、支持基材31の上側に、配線40を形成する配線形成工程を実施する。
次に、配線40を覆う絶縁部60を形成する絶縁部形成工程を実施し、その後、絶縁部60を覆う被覆シールド部71を形成しつつ、貫通部31a、31bに被覆シールド部71の一部を形成する被覆シールド部形成工程を実施する。
次に、上記の被覆シールド部71を形成した支持基材31の下側の面に導電層90を形成し、貫通部31a、31bに形成した被覆シールド部71の一部と導電層90とを接続する導電層形成工程を実施する。
For example, first, the support base material 31 is prepared, and a wiring formation step of forming the wiring 40 on the upper side of the support base material 31 is performed.
Next, an insulating portion forming step of forming the insulating portion 60 covering the wiring 40 is carried out, and then a part of the covering shield portion 71 is formed in the penetrating portions 31a and 31b while forming the covering shield portion 71 covering the insulating portion 60. The step of forming the covering shield portion for forming the above is carried out.
Next, the conductive layer 90 is formed on the lower surface of the support base material 31 on which the covering shield portion 71 is formed, and a part of the covering shield portion 71 formed on the penetrating portions 31a and 31b and the conductive layer 90 are formed. A step of forming a conductive layer to be connected is carried out.

次に、別途準備した基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる基材伸長工程を実施する。続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面20a側に、上記導電層90を形成した支持基材31を接合する支持基材接合工程を実施する。その後、基材20から引張応力Tを取り除く基材収縮工程を実施する。
以上のような工程を経ることにより、配線基板15を得ることができる。
Next, a base material stretching step of applying a tensile stress T to the separately prepared base material 20 to extend the base material 20 is performed. Subsequently, a support base material joining step of joining the support base material 31 on which the conductive layer 90 is formed is carried out on the first surface 20a side of the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T. Then, a base material shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 20 is carried out.
The wiring board 15 can be obtained through the above steps.

10、11、12、13、14、15 配線基板
20、21 基材
20a、21a 第1面
20b、21b 第2面
30、31 支持基材
31a、31b 貫通部
40、40a、40b、41 配線
50a、50b、51、52、53、54、55a、55b 側面側シールド線
60 絶縁部
62a、62b 貫通孔
63 絶縁部露出領域
70、70a、70b、70c、70d、71 被覆シールド部
80 ブリッジ配線
90 導電層
M 山部
V 谷部
10, 11, 12, 13, 14, 15 Wiring board 20, 21 Base material 20a, 21a First surface 20b, 21b Second surface 30, 31 Support base material 31a, 31b Penetration 40, 40a, 40b, 41 Wiring 50a , 50b, 51, 52, 53, 54, 55a, 55b Side shield wire 60 Insulation part 62a, 62b Through hole 63 Insulation part exposed area 70, 70a, 70b, 70c, 70d, 71 Covered shield part 80 Bridge wiring 90 Conductive Layer M Yamabe V Tanibe

Claims (26)

第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上側に設けられた配線と、
前記支持基材の上側に設けられ、前記配線と並列に配置される側面側シールド線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
を備え、
前記被覆シールド部と前記側面側シールド線とは、少なくとも一部が接続しており、
前記配線および前記側面側シールド線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板。
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the upper side of the supporting base material and
A side shield wire provided on the upper side of the support base material and arranged in parallel with the wiring,
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
With
At least a part of the covering shield portion and the side surface side shield wire is connected.
The wiring and the side shield wire have a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. Wiring board.
前記配線と前記側面側シールド線は、同じ材料から構成されている、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the wiring and the side shield wire are made of the same material. 前記配線と前記側面側シールド線は、同じ厚さを有する、請求項1または請求項2に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1 or 2, wherein the wiring and the side shield wire have the same thickness. 前記配線が一対となる2本の配線を含み、
前記絶縁部の上側に設けられ、前記一対となる2本の配線の各々と接続するブリッジ配線を備え、
前記ブリッジ配線の周囲の前記絶縁部は、前記被覆シールド部から露出する絶縁部露出領域を有し、
前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、
前記ブリッジ配線と前記一対となる2本の配線の各々とが重なる領域の前記絶縁部に貫通孔が設けられており、
前記貫通孔を通して、前記一対となる2本の配線の各々と前記ブリッジ配線とが接続している、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の配線基板。
Includes two wires in which the wires are paired
A bridge wiring provided on the upper side of the insulating portion and connecting to each of the two pairs of wirings is provided.
The insulating portion around the bridge wiring has an insulating portion exposed region exposed from the covering shield portion.
When viewed along the normal direction of the first surface of the base material,
A through hole is provided in the insulating portion in the region where the bridge wiring and each of the two pairs of wirings overlap.
The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein each of the pair of two wirings and the bridge wiring are connected through the through hole.
前記ブリッジ配線が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項4に記載の配線基板。 Claimed that the bridge wiring has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. Item 4. The wiring board according to item 4. 前記ブリッジ配線と前記被覆シールド部は、同じ材料から構成されている、請求項4または請求項5に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 4 or 5, wherein the bridge wiring and the covering shield portion are made of the same material. 前記ブリッジ配線と前記被覆シールド部は、同じ厚さを有する、請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 4 to 6, wherein the bridge wiring and the covering shield portion have the same thickness. 前記基材が導電性を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記貫通部を通して、前記基材と前記側面側シールド線とが接続している、請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の配線基板。
The substrate has conductivity and
The supporting base material has a penetration portion and
The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein the base material and the side surface side shielded wire are connected through the penetrating portion.
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を備え、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記貫通部を通して、前記導電層と前記側面側シールド線とが接続している、請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の配線基板。
A conductive layer located between the base material and the supporting base material is provided.
The supporting base material has a penetration portion and
The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein the conductive layer and the side shield wire are connected through the penetrating portion.
前記導電層が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項9に記載の配線基板。 Claimed that the conductive layer has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. Item 9. The wiring board according to Item 9. 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上側に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
を備え、
前記基材が導電性を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記貫通部を通して、前記基材と前記被覆シールド部とが接続しており、
前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板。
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the upper side of the supporting base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
With
The substrate has conductivity and
The supporting base material has a penetration portion and
The base material and the covering shield portion are connected through the penetrating portion.
The wiring board has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. ..
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上側に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、
を備え、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記貫通部を通して、前記被覆シールド部と前記導電層とが接続しており、
前記配線は、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、配線基板。
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the upper side of the supporting base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
A conductive layer located between the base material and the supporting base material,
With
The supporting base material has a penetration portion and
Through the penetrating portion, the coating shield portion and the conductive layer are connected to each other.
The wiring board has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. ..
前記導電層が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項12に記載の配線基板。 Claimed that the conductive layer has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. Item 12. The wiring board according to Item 12. 前記被覆シールド部が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項1乃至請求項13のいずれか一項に記載の配線基板。 The covering shield portion has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. The wiring board according to any one of claims 1 to 13. 前記支持基材が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項1乃至請求項14のいずれか一項に記載の配線基板。 The supporting base material has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. The wiring board according to any one of claims 1 to 14. 前記絶縁部が、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有している、請求項1乃至請求項15のいずれか一項に記載の配線基板。 Claims that the insulating portion has a bellows shape in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. The wiring board according to any one of items 1 to 15. 配線基板の製造方法であって、
前記配線基板は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上側に設けられた配線と、
前記支持基材の上側に設けられ、前記配線と並列に配置される側面側シールド線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
を有し、
前記配線と前記側面側シールド線を形成する配線形成工程と、
前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、
前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、
前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、
前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、
を備え、
前記被覆シールド部形成工程において、前記被覆シールド部の少なくとも一部と前記側面側シールド線とを接続し、
前記基材収縮工程において、前記配線および前記側面側シールド線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
The wiring board
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the upper side of the supporting base material and
A side shield wire provided on the upper side of the support base material and arranged in parallel with the wiring,
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
Have,
The wiring forming step of forming the wiring and the side shield wire, and
Insulation part forming step for forming the insulation part and
The step of forming the covering shield portion for forming the covering shield portion and
A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to stretch the base material, and
A support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material,
A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded, and
With
In the coating shield portion forming step, at least a part of the coating shield portion and the side surface side shield wire are connected.
In the base material shrinkage step, the form of the wiring and the side surface side shield wire is changed so that the peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material are in-plane directions of the first surface of the base material. A method for manufacturing a wiring board, which has a bellows shape that repeatedly appears along the above.
前記配線が一対となる2本の配線を含み、
前記配線基板は、
前記絶縁部の上に設けられ、前記一対となる2本の配線を接続するブリッジ配線を備え、
前記絶縁部形成工程において、前記ブリッジ配線と前記一対となる2本の配線の各々とが重なる領域の前記絶縁部に貫通孔を設け、
前記被覆シールド部形成工程において、前記被覆シールド部と前記ブリッジ配線とを形成しつつ、前記ブリッジ配線の周囲の前記絶縁部が前記被覆シールド部から露出する絶縁部露出領域を形成し、前記貫通孔を通して、前記一対となる2本の配線の各々と、前記ブリッジ配線とを接続する、請求項17に記載の配線基板の製造方法。
Includes two wires in which the wires are paired
The wiring board
A bridge wiring provided on the insulating portion and connecting the two pairs of wirings is provided.
In the insulating portion forming step, a through hole is provided in the insulating portion in a region where the bridge wiring and each of the two paired wirings overlap.
In the covering shield portion forming step, while forming the covering shield portion and the bridge wiring, the insulating portion around the bridge wiring forms an insulating portion exposed region exposed from the covering shield portion, and the through hole is formed. The method for manufacturing a wiring board according to claim 17, wherein each of the pair of two wirings is connected to the bridge wiring through the wiring.
前記基材が導電性を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、
前記支持基材接合工程において、前記基材と前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部とを接続する、請求項17または請求項18に記載の配線基板の製造方法。
The substrate has conductivity and
The supporting base material has a penetration portion and
In the wiring forming step, a part of the side shield wire is formed in the penetrating portion.
The method for manufacturing a wiring board according to claim 17 or 18, wherein in the supporting base material joining step, the base material and a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion are connected.
前記配線基板は、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、
前記基材伸長工程と前記支持基材接合工程との間に、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、
前記支持基材接合工程において、前記導電層と前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部とを接続する、請求項17または請求項18に記載の配線基板の製造方法。
The wiring board
It has a conductive layer located between the base material and the support base material, and has a conductive layer.
The supporting base material has a penetration portion and
In the wiring forming step, a part of the side shield wire is formed in the penetrating portion.
Between the base material stretching step and the supporting base material joining step, a conductive layer forming step of forming the conductive layer on the first surface side of the stretched base material is provided.
The method for manufacturing a wiring board according to claim 17 or 18, wherein in the support base material joining step, the conductive layer and a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion are connected.
前記配線基板は、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記配線形成工程の前に前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、
前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部と前記導電層とを接続する、請求項17または請求項18に記載の配線基板の製造方法。
The wiring board
It has a conductive layer located between the base material and the support base material, and has a conductive layer.
The supporting base material has a penetration portion and
A conductive layer forming step of forming the conductive layer on the lower surface of the supporting base material is provided before the wiring forming step.
17 or claim, wherein in the wiring forming step, a part of the side surface side shielded wire is formed in the penetrating portion, and a part of the side surface side shielded wire formed in the penetrating portion is connected to the conductive layer. Item 18. The method for manufacturing a wiring board according to Item 18.
前記配線基板は、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層を有し、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記配線形成工程において、前記貫通部に前記側面側シールド線の一部を形成し、
前記配線形成工程の後であって前記支持基材接合工程の前に、前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成し、前記貫通部に形成した前記側面側シールド線の一部と前記導電層とを接続する導電層形成工程を備える、請求項17または請求項18に記載の配線基板の製造方法。
The wiring board
It has a conductive layer located between the base material and the support base material, and has a conductive layer.
The supporting base material has a penetration portion and
In the wiring forming step, a part of the side shield wire is formed in the penetrating portion.
After the wiring forming step and before the supporting base material joining step, the conductive layer is formed on the lower surface of the supporting base material, and a part of the side surface side shield wire formed in the penetrating portion. The method for manufacturing a wiring substrate according to claim 17 or 18, further comprising a conductive layer forming step for connecting the conductive layer and the conductive layer.
配線基板の製造方法であって、
前記配線基板は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上側に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
を有し、
前記配線を形成する配線形成工程と、
前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、
前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、
前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、
前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、
を備え、
前記基材が導電性を有し、前記支持基材が貫通部を有し、
前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、
前記支持基材接合工程において、前記基材と前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部とを接続し、
前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
The wiring board
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the upper side of the supporting base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
Have,
The wiring forming process for forming the wiring and
Insulation part forming step for forming the insulation part and
The step of forming the covering shield portion for forming the covering shield portion and
A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to stretch the base material, and
A support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material,
A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded, and
With
The base material has conductivity, and the support base material has a penetration portion.
In the coating shield portion forming step, a part of the coating shield portion is formed in the penetration portion.
In the supporting base material joining step, the base material and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion are connected to each other.
In the base material shrinkage step, the form of the wiring is a bellows in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. A method for manufacturing a wiring board having a shape.
配線基板の製造方法であって、
前記配線基板は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、
を有し、
前記配線を形成する配線形成工程と、
前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、
前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、
前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、
前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、
を備え、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、
前記基材伸長工程と前記支持基材接合工程との間に、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、
前記支持基材接合工程において、前記導電層と前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部とを接続し、
前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
The wiring board
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the support base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
A conductive layer located between the base material and the supporting base material,
Have,
The wiring forming process for forming the wiring and
Insulation part forming step for forming the insulation part and
The step of forming the covering shield portion for forming the covering shield portion and
A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to stretch the base material, and
A support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material,
A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded, and
With
The supporting base material has a penetration portion and
In the coating shield portion forming step, a part of the coating shield portion is formed in the penetration portion.
Between the base material stretching step and the supporting base material joining step, a conductive layer forming step of forming the conductive layer on the first surface side of the stretched base material is provided.
In the supporting base material joining step, the conductive layer and a part of the covering shield portion formed in the penetrating portion are connected to each other.
In the base material shrinkage step, the form of the wiring is a bellows in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. A method for manufacturing a wiring board having a shape.
配線基板の製造方法であって、
前記配線基板は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、
を有し、
前記配線を形成する配線形成工程と、
前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、
前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、
前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、
前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、
を備え、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記被覆シールド部形成工程の前に前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成する導電層形成工程を備え、
前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部と前記導電層とを接続し、
前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
The wiring board
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the support base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
A conductive layer located between the base material and the supporting base material,
Have,
The wiring forming process for forming the wiring and
Insulation part forming step for forming the insulation part and
The step of forming the covering shield portion for forming the covering shield portion and
A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to stretch the base material, and
A support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material,
A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded, and
With
The supporting base material has a penetration portion and
A conductive layer forming step of forming the conductive layer on the lower surface of the supporting base material is provided before the covering shield portion forming step.
In the coating shield portion forming step, a part of the coating shield portion is formed in the penetration portion, and a part of the coating shield portion formed in the penetration portion is connected to the conductive layer.
In the base material shrinkage step, the form of the wiring is a bellows in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. A method for manufacturing a wiring board having a shape.
配線基板の製造方法であって、
前記配線基板は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する支持基材と、
前記基材の前記第1面の法線方向における前記第2面から前記第1面に向かう方向を上側とした場合に、
前記支持基材の上に設けられた配線と、
前記配線を覆う絶縁部と、
前記絶縁部を覆う被覆シールド部と、
前記基材と前記支持基材との間に位置する導電層と、
を有し、
前記配線を形成する配線形成工程と、
前記絶縁部を形成する絶縁部形成工程と、
前記被覆シールド部を形成する被覆シールド部形成工程と、
前記基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる基材伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基材を接合する支持基材接合工程と、
前記支持基材を接合した前記基材から前記引張応力を取り除く基材収縮工程と、
を備え、
前記支持基材が貫通部を有し、
前記被覆シールド部形成工程において、前記貫通部に前記被覆シールド部の一部を形成し、
前記被覆シールド部形成工程の後であって前記支持基材接合工程の前に、前記支持基材の下側の面に前記導電層を形成し、前記貫通部に形成した前記被覆シールド部の一部と前記導電層とを接続する導電層形成工程を備え、
前記基材収縮工程において、前記配線の形態を、前記基材の前記第1面の法線方向における山部及び谷部が前記基材の前記第1面の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状を有する形態とする、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
The wiring board
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A support base material located on the first surface side of the base material and
When the direction from the second surface to the first surface in the normal direction of the first surface of the base material is the upper side,
The wiring provided on the support base material and
The insulating part that covers the wiring and
A covering shield portion that covers the insulating portion and
A conductive layer located between the base material and the supporting base material,
Have,
The wiring forming process for forming the wiring and
Insulation part forming step for forming the insulation part and
The step of forming the covering shield portion for forming the covering shield portion and
A base material stretching step of applying tensile stress to the base material to stretch the base material, and
A support base material joining step of joining the support base material to the first surface side of the stretched base material,
A base material shrinkage step of removing the tensile stress from the base material to which the support base material is bonded, and
With
The supporting base material has a penetration portion and
In the coating shield portion forming step, a part of the coating shield portion is formed in the penetration portion.
One of the coated shield portions formed in the penetrating portion by forming the conductive layer on the lower surface of the supporting base material after the covering shield portion forming step and before the supporting base material joining step. A conductive layer forming step for connecting the portion and the conductive layer is provided.
In the base material shrinkage step, the form of the wiring is a bellows in which peaks and valleys in the normal direction of the first surface of the base material repeatedly appear along the in-plane direction of the first surface of the base material. A method for manufacturing a wiring board having a shape.
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