JP2020160164A - Optical device, exposure device and article producing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学装置、露光装置および物品製造方法に関する。 The present invention relates to an optical device, an exposure device, and a method for manufacturing an article.
レンズまたはミラーのような光学部品を支持機構によって支持した光学装置では、光学部品がその自重等によって発生する応力によって変形しうる。例えば、特許文献1には、レンズとレンズ設置部とが複数の点で接触するような構成において、レンズが変形し光学特性が悪化しうることが記載されている。
In an optical device in which an optical component such as a lens or a mirror is supported by a support mechanism, the optical component can be deformed by stress generated by its own weight or the like. For example,
応力による光学部品の変形は、特に、露光装置や大型望遠鏡のように大型の光学部品を有する光学装置において結像性能に大きな影響を与えうる。また、小型の光学部品を有する光学装置においても、要求される結像性能が高くなれば、応力による光学部品の変形が無視できなくなるかもしれない。 Deformation of optical components due to stress can have a significant effect on imaging performance, especially in optical devices having large optical components such as exposure devices and large telescopes. Further, even in an optical device having a small optical component, if the required imaging performance is high, the deformation of the optical component due to stress may not be negligible.
本発明は、光学部品に作用する応力による影響を低減するために有利な技術を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an advantageous technique for reducing the influence of stress acting on an optical component.
本発明の1つの側面は、光学装置に係り、前記光学装置は、光学部品と、前記光学部品を支持する支持部および第1方向における前記光学部品の位置を規制する位置規制部を有する支持機構と、前記光学部品に対して、前記第1方向とは異なる第2方向に力を加え、前記光学部品を操作するための操作機構と、を備え、前記操作機構は、前記光学部品と接触する接触部と、前記接触部を前記第2方向に移動させる操作部と、前記接触部と前記操作部とを連結する連結部と、を含み、前記連結部は、前記第1方向に関して、前記操作部と前記接触部とが相対的に移動可能に構成されている。 One aspect of the present invention relates to an optical device, which is a support mechanism having an optical component, a support portion that supports the optical component, and a position regulating portion that regulates the position of the optical component in a first direction. The optical component is provided with an operating mechanism for operating the optical component by applying a force to the optical component in a second direction different from the first direction, and the operating mechanism comes into contact with the optical component. The contact portion includes, an operation portion for moving the contact portion in the second direction, and a connecting portion for connecting the contact portion and the operation portion, and the connecting portion includes the operation in the first direction. The portion and the contact portion are configured to be relatively movable.
本発明によれば、光学部品に作用する応力による影響を低減するために有利な技術が提供される。 According to the present invention, an advantageous technique for reducing the influence of stress acting on an optical component is provided.
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments do not limit the invention according to the claims. Although a plurality of features are described in the embodiment, not all of the plurality of features are essential for the invention, and the plurality of features may be arbitrarily combined. Further, in the attached drawings, the same or similar configurations are designated by the same reference numbers, and duplicate description is omitted.
図1〜図6には、本発明の第1実施形態の光学装置100の構成が模式的に示されている。図1は、本発明の第1実施形態の光学装置100の正面図、図2は、図1のA−A断面図、図3は、図1のB−B断面図である。光学装置100は、1つの光学部品111と、光学部品111を支持する1又は複数の支持機構130と、光学部品111を操作するための1又は複数の操作機構140とを備えうる。一例において、光学装置100は、1つの光学部品111と、2つの支持機構130と、2つの操作機構140とを備えうる。ここで、2つの支持機構130を相互に区別して説明する場合には、支持機構130a、130bと記載し、これらを相互に区別しない場合には、支持機構130と記載する。単に支持機構130として説明する場合には、支持機構130の個数は、1又は複数でありうる。同様に、2つの操作機構140を相互に区別する場合には、操作機構140a、140bと記載し、これらを相互に区別しない場合には、操作機構140と記載する。単に操作機構140として説明する場合には、操作機構140の個数は、1又は複数でありうる。
1 to 6 schematically show the configuration of the
支持機構130は、光学部品111を支持する支持部120と、第1方向202における光学部品111の位置を規制する位置規制部131、132とを有しうる。ここで、支持機構130aの支持部120を支持部120aと記載し、支持機構130bの支持部120を支持部120bとも記載する。2つの支持機構130は、対称軸110に関して互いに対称な構造を有しうる。2つの支持機構130によって、光学部品111は、第2方向203および第3方向201における位置が規制されうる。第3方向は、第1方向202および第2方向203の双方と異なる方向でありうる。一例において、第1方向202、第2方向203および第3方向201は、互いに90度をなす角度でありうる。他の観点において、第1方向202、第2方向203および第3方向201は、XYZ直交座標系におけるX軸方向、Z軸方向、Y軸方向にそれぞれ対応しうる。
The
操作機構140は、光学部品111に対して第1方向202とは異なる第2方向203に力を加えて光学部品111を操作するために設けられうる。操作機構140は、例えば、光学部品111に対して第2方向203に力を加えて光学部品111を駆動する駆動機構でありうる。2つの操作機構140は、対称軸110に関して互いに対称な構造を有しうる。対称軸110は、光学部品111の中心を通るように配置されうる。そのような駆動機構は、不図示の制御部によって、後述の応力低減動作を実行するように制御されうる。
The
操作機構140は、光学部品111と接触する接触部141と、接触部141を第2方向203に移動させる操作部142と、接触部141と操作部142とを連結する連結部145とを含みうる。操作部142が第2方向203に移動することによって連結部145および接触部141も第2方向203に移動し、光学部品111に対して第2方向203の力が加えられる。これにより、光学部品111が第2方向203に駆動されうる。連結部145は、操作部142に固定された第1部分146と、接触部141に固定された第2部分147とを含みうる。連結部145は、第1方向に関して、操作部142と接触部141とが相対的に移動可能に構成されうる。
The
操作機構140は、光学部品111に作用する応力による影響(例えば、光学部品111の変形、あるいは、それによる光学部品111の光学性能の変化)を低減するために使用されうる。光学部品111は、使用状態において2つの支持機構130a、130bによって支持されうる。光学部品111が支持機構130a、130bによって支持される際に、光学部品111が最初に支持機構130aの支持部120に接触し、次に支持機構130bの支持部120に接触する場合もありうるし、その逆の場合にありうる。あるいは、光学部品111が支持機構130の支持部120によって支持される際に、光学部品111と支持部120との接触個所を中心として光学部品111が回転する場合もありうるし、回転しない場合もありうる。このように、支持機構130の支持部120による光学部品111の支持の開始状態は様々であり、一定ではない。したがって、最終的に支持機構130によって支持された光学部品111に作用する応力、そして、その応力による影響も様々でありうる。そこで、操作機構140は、光学部品111に作用する応力による影響(例えば、光学部品111の変形、あるいは、それによる光学部品111の光学性能の変化)を低減するために使用されうる。
The
図4(a)〜図4(e)には、光学部品111に作用する応力による影響を低減するための操作(以下、応力低減操作ともいう)が例示されている。操作機構140a、140bは、光学部品111の状態を変更可能に構成され、該状態は、以下で詳述されるように、光学部品111が支持機構130によって支持された第1状態と、光学部品111が操作機構140によって支持された第2状態とを含みうる。光学部品111の設置時に、第1状態から第2状態を経て第1状態に移行させるように設置ルールを決めておくことによって、光学部品111に作用する応力を一定にすることができる。例えば、出荷前の調整時に設置ルールに従って光学部品111を設置した後に光学部品111を調整し、その後、出荷後の調整時においても設置ルールに従って光学部品111を設置した後に光学部品111を調整することが有用である。このような方法によれば、出荷前の調整時に光学部品111に作用している応力と出荷後の調整時に光学部品111に作用している応力とを等しくすることができるので出荷後の調整作業を容易化することができる。
4 (a) to 4 (e) exemplify an operation for reducing the influence of stress acting on the optical component 111 (hereinafter, also referred to as a stress reduction operation). The
以下、図4(a)〜図4(e)を参照しながら操作機構140による操作例を説明する。図4(a)〜図4(e)では、支持機構130の構成要素のうち支持部120(120a、120b)のみが示されている。図4(a)には、初期状態が示されている。初期状態は、第1状態に相当する。初期状態では、支持機構130a、130bによる光学部品111の支持が開始された時の状態に依存する応力が光学部品111に存在しうる。あるいは、初期状態では、光学部品111が支持機構130a、130bによって支持されている状態で光学装置100に加わった衝撃、振動(例えば、運搬時の衝撃、振動)による応力が光学部品111に存在しうる。
Hereinafter, an operation example by the
まず、図4(b)に示されように、支持機構130aの支持部120aから光学部品111が離れるように操作機構140aが操作されうる。この状態では、光学部品111は、支持機構130bの支持部120bおよび操作機構140aによって支持されている。
First, as shown in FIG. 4B, the
次に、図4(c)に示されるように、操作機構140bによって、支持機構130bの支持部120bから光学部品111が離れるように操作機構140aが操作されうる。これにより、光学部品111が操作機構140a、140bによって支持された第2状態になる。
Next, as shown in FIG. 4 (c), the
次に、図4(d)に示されるように、支持機構130aの支持部120aと光学部品111とが接触するように操作機構140aが操作されうる。この状態では、光学部品111は、支持機構130bの支持部120bおよび操作機構140bによって支持されている。次に、図4(e)に示されるように、支持機構130bの支持部120bと光学部品111とが接触するように操作機構140bが操作されうる。これにより、光学部品111が支持機構130a、130bの支持部120a、120bによって支持された第1状態になる。つまり、図4(a)〜図4(e)の例では、光学部品111の状態は、第1状態から第2状態を経て第1状態となる。
Next, as shown in FIG. 4D, the
図5は、図4(b)のC−C断面図である。操作機構140は、第2方向203にのみ移動することが好ましいが、現実には、操作機構140の加工誤差、組立誤差、調整残差等により、図5に例示されるように、第2方向203における操作時に第1方向202にも移動しうる。操作部142が第1方向202に移動すると、操作部142と連結された連結部145、連結部145と連結された接触部141、および、光学部品111に対して、第1方向202における操作力151、161、171が作用する。図6は、図4(b)のD−D断面図である。光学部品111は、支持機構130により第1方向202の位置が規制されているため、光学部品111には、操作力171に抵抗する反力172が作用し、移動しない。また、接触部141は、光学部品111から操作力161に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 4 (b). The
連結部145は、第1部分146と、第2部分147とを含みうる。第1部分146と第2部分147とは、第1方向202の方向に相対的に移動可能でありうる。第1方向に関して、第1部分146を第2部分147に対して相対的に移動させるために要する力(これを可動抵抗ともいう)は、光学部品111と接触部141との間に作用する静止摩擦抵抗より小さい。可動抵抗は、第1方向に関して、操作部142を接触部141に対して相対的に移動させるために要する力である。換言すると、可動抵抗は、第1方向に関して、操作部142と接触部141とを相対的に移動させるために要する力である。
The connecting
第1部分146は、操作部142から操作力151を受けて、第2部分147に対して、第1方向202に相対的に移動する。第2部分147は、第1部146が移動することに伴って、上記の可動抵抗の反作用により、第1方向202に操作力152を受けるが、接触部141から操作力152に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
The
以上のように、操作部142が第1方向202に移動することに伴って第1部分146が第1方向202に移動する。第2部分147、接触部141および光学部品111は、可動抵抗の反作用による力と、支持機構130からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。この時、光学部品111に作用する操作力171および反力172の大きさは、可動抵抗の大きさに等しい。
As described above, as the
光学部品111に作用する操作力171および反力172により、光学部品111に応力が作用すると、光学部品111に歪みが発生し、光学部品111の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力171および反力172を小さく抑えることが好ましい。操作機構140は、連結部145を含み、これによって可動抵抗を小さくすることで、操作力171および反力172を小さく抑えることができる。結果として、光学部品111に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品111に発生する歪みが低減し、光学部品111の光学性能の低下が抑えられる。
When stress acts on the
図7には、連結部145の第1構成例が示されている。連結部145は、操作部142に固定された第1部分246と、接触部141に固定された第2部分247とを含みうる。第1部分246は、第2部分247に対して相対的に移動可能でありうる。連結部145は、第1方向202に関して操作部142と接触部141とが相対的に移動することを可能にする弾性部を含みうる。一例において、第1部分246がそのような弾性部で構成されうる。他の例において、第2部分247がそのような弾性部で構成されうる。更に他の例において、第1部分246および第2部分247がそのような弾性部で構成されうる。
FIG. 7 shows a first configuration example of the connecting
図7には、第1部分246が弾性部で構成された例が示されている。第1部分246が変形する際の抵抗(これを変形抵抗ともいう)の大きさは、第1部分246が操作部142から受ける操作力251の大きさ以下にされうる。第1部分246は、操作部142から操作力251を受け、第1方向202に関して変形する。第2部分247は、第1部分246が変形することに伴って、変形抵抗の反作用により、第1方向202に操作力252を受けるが、接触部141から操作力252に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
接触部141および光学部品111は、変形抵抗の反作用による力と、支持機構130からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。
FIG. 7 shows an example in which the
The
この時、光学部品111に作用する操作力271の大きさと、支持機構130からの反力の大きさは、変形抵抗の大きさに等しい。よって、変形抵抗を小さくすることで、操作力271および支持機構130からの反力を小さく抑えることができる。結果として、光学部品111に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品111に発生する歪みが低減し、光学部品111の光学性能の低下が抑えられる。
At this time, the magnitude of the operating force 271 acting on the
図8(a)〜図8(c)には、支持機構130の他の構成例および動作例が示されている。支持機構130は、光学部品111を支持する支持部120と、第1方向202における光学部品111の位置を規制する位置規制部131、132と、位置規制部131、132の位置をそれぞれ変更させる変更機構133、135とを有しうる。図8(a)〜図8(c)には、光学部品111のうち位置規制部131、132と当接する領域に作用する応力を所定の応力状態にし、光学部品111を押圧して第1方向202に関して位置決めする工程が示されている。
8 (a) to 8 (c) show other configuration examples and operation examples of the
図8(a)は、図4(c)のE−E断面図である。図8(b)には、図8(a)の状態から、変更機構133、135によって位置規制部131、132の位置を光学部品111から離間した位置に変更した状態が示されている。位置規制部131、132の位置を光学部品111から離間した位置に変更することによって、位置規制部131、132と光学部品111との接触によって光学部品111に作用していた応力が除去される。この時、光学部品111は、該応力を除去する前の応力状態によって第1方向202に移動することがある。図8(b)には、光学部品111が位置規制部132の側に移動した状態が例示されている。
FIG. 8A is a cross-sectional view taken along the line EE of FIG. 4C. FIG. 8B shows a state in which the positions of the
図8(c)には、図8(b)の状態から、変更機構133、135によって位置規制部131、132の位置を、位置規制部131、132が光学部品111と当接する位置に変更し、光学部品111が所定位置に配置された状態が示されている。この例では、位置規制部132の位置は、位置規制部132が光学部品111と当接した後、点線で示された位置(図8(b)の位置)から実線で示された所定位置まで光学部品111を押圧しながら移動させるように変更される。
In FIG. 8 (c), from the state of FIG. 8 (b), the positions of the
変更機構133、135によって位置規制部131、132の位置を変更すると、光学部品111と接触している接触部141、および、接触部141と連結された第2部分147が光学部品111とともに移動する。一方、第1部分146には第1部146と操作部142との摩擦抵抗が作用するため、第1部分146は移動しない。位置規制部132によって光学部品111を押圧する押圧力181は、第2部分147が第1部分146に対して相対的に移動する際の抵抗(これを押圧抵抗ともいう)の大きさに等しい。
When the positions of the
光学部品111に作用する押圧力181によって光学部品111に応力が作用すると、光学部品111に歪みが発生し、光学部品111の光学性能が低下する可能性があるので、押圧力181を小さく抑えることが好ましい。操作機構140は、操作部142と接触部141とが相対的に移動することを可能にする連結部145を含み、これによって押圧抵抗を小さくすることができ、押圧力181を小さく抑えることができる。結果として、光学部品111に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品111に発生する歪みが低減し、光学部品111の光学性能の低下が抑えられる。
When stress acts on the
図9には、第1実施形態の第1実施例としての光学装置300の正面図が示されている。光学装置300は、光学部品としてのミラー311と、ミラー311を支持する支持機構330a、330bと、ミラー311を操作する操作機構340a、340bとを備えうる。光学装置300は、更に、支持機構330a、330bおよび操作機構340a、340bが固定された鏡筒301を備えうる。
FIG. 9 shows a front view of the
図10は、図9のF−F断面図である。支持機構330aは、ミラー311の光軸と平行な第1方向402に関してミラー311の位置を規制するための突起を有する金属体331、332と、ミラー311の重量を支持するための弾性シートを表面に有する弾性体付き金属体320とを含みうる。支持機構330bは、支持機構330aと同一の構成を有する。支持機構330a、330bは、光学装置300の対称軸310に対して対称に配置されうる。対称軸310は、ミラー311の中心(光軸)を通るように配置されうる。
FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG. The
図11は、図9のG−G断面図である。操作機構340は、ミラー311と接触する弾性体付き金属体341と、重力方向と平行な第2方向203に移動可能なスクリューボルト(操作部)342と、弾性体付き金属体341とスクリューボルト342とを連結する連結部345とを含みうる。スクリューボルト342は、鏡筒301とねじ係合していて、スクリューボルト342を回転させると、連結部345を第203に移動させることができる。連結部345が第2方向203に移動すると、連結部345と連結された弾性体付き金属体341も第2方向203に移動する。
FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line GG of FIG. The
連結部345は、第1方向202に関して自由度を有するリニアガイドを有する構造体でありうる。連結部345は、例えば、金属プレート348とレール343との結合体で構成されるレール部346と、キャリッジ344と金属プレート349との結合体で構成されるキャリッジ部347とを含みうる。一例において、該リニアガイドの動摩擦係数は、荷重比率が0.1の時に0.003であり、ミラー311、弾性体付き金属体341の重量が作用した状態で0.02である。光学装置300においても、図4(a)から図4(e)までの一連の工程を経ることにより、ミラー311に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となりうる。
The connecting
図12は、図4(b)の工程を実施している露光装置300のD−D断面図である。ここで、スクリューボルト342、連結部345および弾性体付き金属体341は、第2方向203に移動する他、加工誤差、組立誤差、調整誤差等によって第1方向202にも僅かに移動しうる。そこで、図12では、便宜的に、スクリューボルト342が第2方向203に移動しながら第1方向202にも移動した状態が示されている。
FIG. 12 is a DD cross-sectional view of the
スクリューボルト342が第1方向202に移動すると、レール部346、キャリッジ部347、弾性体付き金属体341およびミラー311に対して、第1方向202に関して、操作力351、352、361、371が作用する。ミラー311は、支持機構320、330により第1方向202における位置が規制されているので、ミラー311には操作力371に抵抗する反力が作用し、移動しない。弾性体付き金属体341は、ミラー311から操作力361に抵抗する反力を受けるため、移動しない。レール部346は、スクリューボルト342から操作力351を受け、キャリッジ部347に対して、第1方向202に関して相対的に移動する。キャリッジ部347は、レール部346が移動することに伴って、前記リニアガイドの抵抗の反作用によって第1方向202に操作力352を受けるが、弾性体付き金属体341から操作力352に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
When the
以上のように、スクリューボルト342が第1方向202に移動することに伴って、レール部346が第1方向202に移動する。キャリッジ部347、弾性体付き金属体341およびミラー311は、前記リニアガイドの抵抗の反作用による力と、支持機構320、330からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。この時、ミラー311に作用する操作力371、および、支持機構320、330からの反力の大きさは、前記リニアガイドの抵抗の大きさに等しい。
As described above, as the
一例において、前記リニアガイドの抵抗は、ミラー311と弾性体付き金属体341とによって前記リニアガイドに作用する重量の和をMgとすると、0.02Mgである。これは、連結部345を有しない構成、つまりスクリューボルト342と弾性体付き金属体341とが直接結合された構成の10分の1の大きさである(スクリューボルト342と弾性体付き金属体341との動摩擦係数が0.2の場合)。
In one example, the resistance of the linear guide is 0.02 Mg, where Mg is the sum of the weights acting on the linear guide by the
ミラー311に作用する操作力371および支持機構320、330からの反力により、ミラー311に応力が作用すると、ミラー311に歪みが発生し、ミラー311の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力371および支持機構320、330からの反力を小さく抑えることが好ましい。操作機構340は、操作部342と接触部341とが相対的に移動することを可能にする連結部345を含み、これによって前記リニアガイドの動摩擦係数を小さくすることができ、操作力371および支持機構330からの反力372を小さく抑えることができる。結果として、ミラー311に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー311に発生する歪みが低減し、ミラー311の光学性能の低下が抑えられる。
When stress acts on the
図13には、第1実施形態の第2実施例としての光学装置500の正面図が示されている。光学装置500は、光学部品としてのミラー511と、ミラー511を支持する支持機構530a、530bと、ミラー511を操作する操作機構540a、540bとを備えうる。光学装置500は、更に、支持機構530a、530bおよび操作機構540a、540bが固定された鏡筒501を備えうる。支持機構530a、530bの構成は、光学装置300の支持機構330a、330bと同様でありうる。
FIG. 13 shows a front view of the
図14は、操作機構540の斜視図である。図15は、図13のH−H断面図である。操作機構540は、ミラー511の重量を支持するための弾性シートを表面に有する弾性体付き金属体(接触部)541と、重力方向に平行な第2方向に可動部を駆動するステッピングモーターを有するリニアアクチュエータ542とを含みうる。金属体(接触部)541とリニアアクチュエータ542は、板ばね543および金属体546、547、548を有する連結部によって互いに連結されている。リニアアクチュエータ542は、鏡筒501に固定されている。リニアアクチュエータ542を駆動すると、連結部545を第2方向203に移動させることができる。連結部545の移動に伴って、弾性体付き金属体541も、第2方向603に移動する。光学装置500においても、図4(a)から図4(e)までの一連の工程を経ることにより、ミラー511に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となる。
FIG. 14 is a perspective view of the
図16は、図4(b)の工程を実施している第2実施例の光学装置500のD−D断面図である。ここで、リニアアクチュエータ542の可動部、連結部545、弾性体付き金属体541は、第2方向203に移動する他、加工誤差、組立誤差、調整誤差等によって第1方向202にも移動しうる。そこで、図16では、便宜的に、リニアアクチュエータ542がその可動部を駆動する第2方向203に加えて、第1方向202にも駆動成分を持つ状態が示されている。
FIG. 16 is a DD cross-sectional view of the
リニアアクチュエータ542がその可動部を第2方向202に駆動すると、板ばね543、金属体547、弾性体付き金属体541、ミラー511に対して、第2方向202の操作力551、552、561、571が作用する。ミラー511は、支持機構520、530により第1方向202における位置が規制されているので、ミラー511には操作力571に抵抗する反力が作用し、移動しない。弾性体付き金属体541は、ミラー511から操作力561に抵抗する反力を受けるため、移動しない。板ばね543は、リニアアクチュエータ542から操作力551を受けて、第1方向202に関して変形する。金属体547は、板ばね543が変形することに伴って、板ばね543の弾性力によって第2方向202に操作力552を受けるが、弾性体付き金属体541から操作力552に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
When the
以上のように、リニアアクチュエータ542がその可動部を第1方向202に移動させることに伴って板ばね543が第1方向202に関して変形する。金属体547、弾性体付き金属体541、ミラー511は、板ばね543の弾性力と、支持機構520、530からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。
この時、ミラー511に作用する操作力571、反力の大きさは、板ばね543の弾性力の大きさに等しい。
As described above, as the
At this time, the magnitude of the operating
一例において、板ばね543の第1方向202に関する最大変形量を0.10mm、板ばね543の変形部の寸法を80mm×67mm、厚さを1.6mm、材質を、比重が7.9、ヤング率が186GPaのばね用ステンレス鋼SUS304とすることができる。この場合、板ばね543の弾性力は、約10Nである。
In one example, the maximum amount of deformation of the
連結部545を有しない構成、つまりリニアアクチュエータ542と弾性体付き金属体541とが直接結合された構成では、ミラー511に作用する操作力571は、次に述べる条件の下では1000Nである。
In the configuration without the connecting
<条件>ミラー511と弾性体付き金属体541とがリニアアクチュエータ542に作用する重量の和が500kgf、リニアアクチュエータ542と弾性体付き金属体541との動摩擦係数が0.2。
<Conditions> The sum of the weights of the
ミラー511に作用する操作力571、支持機構520、530からの反力によってミラー511に応力が作用すると、ミラー511に歪みが発生し、ミラー511の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力571および反力572を小さく抑えることが好ましい。操作機構540は、リニアアクチュエータ542と金属体541とが相対的に移動することを可能にする連結部545を含み、これによって操作力571、支持機構520、530からの反力を小さく抑えることができる。結果として、ミラー511に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー511に発生する歪みが低減し、ミラー511の光学性能の低下が抑えられる。
When stress acts on the
図17には、第1実施形態の第3実施例としての光学装置700の正面図が示されている。光学装置700は、光学部品としてのミラー711と、ミラー711を支持する支持機構730a、730bと、ミラー711を操作する操作機構740a、740bとを備えうる。光学装置700は、更に、支持機構730a、730bおよび操作機構740a、740bが固定された鏡筒701を備えうる。
FIG. 17 shows a front view of the
図18は、図16のI−I断面図である。支持機構730aは、ミラー711の光軸と平行な第1方向202に位置規制部731、732を駆動する変更機構としてのエアシリンダ734、736を含みうる。支持機構730aは、更に、エアシリンダ734、736を鏡筒701に固定するための金属製のハウジング733、735を含みうる。支持機構730bは、支持機構730aと同様の構成を有しうる。支持機構730a、730bは、光学装置700の対称軸710に対して対称に配置されうる。対称軸710は、ミラー711の中心(光軸)を通るように配置されうる。操作機構740a、740bは、第2実施例の操作機構540a、540bと同様の構成を有しうる。光学装置700においても、図4(a)から図4(e)までの一連の工程を経ることにより、ミラー711に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となる。
FIG. 18 is a sectional view taken along line II of FIG. The
図19(a)〜図19(c)には、ミラー711のうち位置規制部731、732と当接する領域に作用する応力を所定の応力状態にし、ミラー711を押圧して第1方向202に関して位置決めする工程が示されている。図19(a)は、光学装置700の、図4(c)の工程のE−E断面図である。図19(b)は、図19(a)の状態から、エアシリンダ734、736によって位置規制部731、732の位置をミラー711から離間した位置に変更した状態が示されている。位置規制部131、132の位置をミラー711から離間した位置に変更することによって、位置規制部131、132とミラー711との接触によってミラー711に作用していた応力が除去される。
19 (a) to 19 (c) show that the stress acting on the region of the
図19(c)には、図19(b)の状態から、エアシリンダ734、736によって位置規制部131、132の位置を、位置規制部131、132がミラー711と当接する位置に変更し、ミラー711が所定の位置に配置された状態が示されている。エアシリンダ734、736によって位置規制部131、132を駆動し、ミラー711を押圧すると、ミラー711を支持している弾性体付き金属体541、弾性体付き金属体541と連結された金属体547が、ミラー711とともに移動する。一方、板ばね543は、金属体547の移動に伴って変形する。エアシリンダ734、736がミラー711を押圧する押圧力781は、板ばね543の弾性力に等しい。
In FIG. 19 (c), from the state of FIG. 19 (b), the positions of the
一例において、板ばね543の弾性力は、第2実施例において説明した寸法、材質、最大変形量の板ばね543を用いると、約10Nである。連結部545を有しない構成、つまりリニアアクチュエータ542と弾性体付き金属体541とが直接結合された構成では、ミラー711を押圧して駆動するのに必要な押圧力781は、次に述べる条件の下では1000Nである。
In one example, the elastic force of the
<条件>ミラー711と弾性体付き金属体541とがリニアアクチュエータ542に作用する重量の和が500kgf、リニアアクチュエータ542と弾性体付き金属体541との動摩擦係数が0.2。
<Conditions> The sum of the weights of the
ミラー711に作用する押圧力781によってミラー711に応力が作用すると、ミラー711に歪みが発生し、ミラー711の光学性能が低下する可能性がある。そのため、押圧力781を小さく抑えることが好ましい。操作機構740は、リニアアクチュエータ542と金属体541とが相対的に移動することを可能にする連結部545を含み、これによって押圧力781を小さく抑えることができる。結果として、ミラー711に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー711に発生する歪みが低減し、ミラー711の光学性能の劣化が抑えられる。
When stress acts on the
図20は、本発明の第2実施形態の露光装置1000の側面図である。露光装置1000は、照明装置1100、露光パターン形成装置1200、投影光学装置(投影光学系)1300、ステージ装置1400、および、電気制御装置1500を備えうる。照明装置1100、露光パターン形成装置1200、投影光学装置1300、ステージ装置1400および電気制御装置1500は、チャンバー1600に収容されうる。第1実施形態の光学装置100等に代表される光学装置は、例えば、投影光学装置1300の一部を構成しうる。
FIG. 20 is a side view of the
電気制御装置1500は、照明装置1100、露光パターン形成装置1200、投影光学装置1300、ステージ装置1400、チャンバー1600の内部空間の温度を所定の温度範囲に保つための電気制御を行う。また、露光時において、照明装置1100、露光パターン形成装置1200、投影光学装置1300、ステージ装置1400、の操作部を連動させるための電気制御を行う。
The
照明装置1100で生成された露光光は、露光パターン形成装置1200に照射され、露光パターンが形成される。露光パターンは、投影光学装置1300によって、ステージ装置1400のステージ上に搭載された基板(ウェハーまたはガラスプレート)に投影される。
The exposure light generated by the
光学装置100を構成する光学部品111は、投影光学装置1300を構成する光学系の一部として、露光パターン形成装置で形成された露光パターンをウェハーやガラスプレートに結像する際の結像性能に大きく影響する。そのため、光学部品111に応力が作用すると、光学部品111に歪みが発生し、前記結像性能が低下する可能性がある。光学装置100では、光学部品111に作用する応力が小さく抑えられるため、光学部品111に発生する歪みが低減する。結果として、光学部品111の結像性能の劣化を小さく抑制することができ、良好な結像性能を有する露光装置1000を提供することができる。
The
図21は、本発明の第3実施形態の露光装置2000の側面図である。露光装置2000は、照明ユニット2100、露光マスクユニット2200、投影ユニット(投影光学系)2300、ステージユニット2400および電気制御ユニット2500を備えうる。照明ユニット2100、露光マスクユニット2200、投影ユニット2300、ステージユニット2400および電気制御ユニット2500は、チャンバー2600に収容されうる。第1実施形態の光学装置300等に代表される光学装置は、投影ユニット2300の一部を構成しうる。
FIG. 21 is a side view of the
電気制御ユニット2500は、照明ユニット2100、露光マスクユニット2200、投影ユニット2300、ステージユニット2400、チャンバー2600の内部空間の温度を所定の温度範囲に保つための電気制御を行う。具体的には、電気制御ユニット2500は、各ユニットの内部空間に配置された温度センサの値を基に、各ユニットに送気するクリーンな乾燥空気の温度をフィードバック制御しうる。
The
露光を行う際には、以下で述べる各ユニットの動作を同期させる必要がある。照明ユニットの動作は、照明光を照射するタイミングと照射時間である。露光マスクユニット2200の動作は、露光マスクユニット2200を構成する露光マスクをスキャンするタイミングとスキャンする速度である。投影ユニット2300の動作は、投影ユニット2300を構成する投影光学系において、駆動を伴う光学系を駆動するタイミングと駆動する速度である。ステージユニット2400の動作は、ステージユニット2400を構成するステージを駆動するタイミングと駆動する速度である。電気制御ユニット2500は、上述した各ユニットの動作を同期するための電気制御を行う。
When performing exposure, it is necessary to synchronize the operation of each unit described below. The operation of the lighting unit is the timing and irradiation time of irradiating the illumination light. The operation of the
照明ユニット2100で生成された露光光は、露光マスクユニット2200を構成する露光マスク2201に照射され、前記露光マスクを透過することにより、露光マスクを物体面とする露光パターンが形成される。露光パターンは、投影ユニット2300によって、ステージユニット2400のステージ上に搭載されたガラスプレート2401に投影される。
The exposure light generated by the
光学装置300を構成するミラー311は、投影ユニット2300を構成する投影光学系2301の一部として、露光マスク2201を透過した露光光をガラスプレート2401に塗布されたレジストに結像する際の結像性能に大きく影響する。そのため、ミラー311に応力が作用していると、ミラー311に歪みが発生し、前記結像性能が劣化する可能性がある。光学装置300では、ミラー311に作用する応力が小さく抑えられるため、ミラー311に発生する歪みが低減する。結果として、ミラー311の結像性能の劣化を小さく抑制することができ、良好な結像性能を有する露光装置2000を提供することができる。
The
以下、上記の露光装置を使って物品(半導体IC素子、液晶表示素子、MEMS等)を製造する物品製造方法を説明する。物品は、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板(ウェハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板の感光剤を現像してパターンを形成する工程と、そのパターンを使って基板を処理する工程を経て、該処理された基板から製造されうる。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本物品製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。 Hereinafter, a method for manufacturing an article (semiconductor IC element, liquid crystal display element, MEMS, etc.) using the above-mentioned exposure apparatus will be described. The article has a step of exposing a substrate (wafer, glass substrate, etc.) coated with a photosensitizer using the above-mentioned exposure apparatus, a step of developing the photosensitizer of the substrate to form a pattern, and the pattern. It can be manufactured from the processed substrate through the process of processing the substrate using. Other well-known steps include etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging and the like. According to this article manufacturing method, it is possible to manufacture an article of higher quality than before.
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。 The invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, a claim is attached to make the scope of the invention public.
100:光学装置、111:光学部品、131、132:位置規制部、140:操作機構、145:連結部 100: Optical device, 111: Optical parts, 131, 132: Position regulation part, 140: Operation mechanism, 145: Connection part
Claims (11)
前記光学部品を支持する支持部および第1方向における前記光学部品の位置を規制する位置規制部を有する支持機構と、
前記光学部品に対して、前記第1方向とは異なる第2方向に力を加え、前記光学部品を操作するための操作機構と、を備え、
前記操作機構は、前記光学部品と接触する接触部と、前記接触部を前記第2方向に移動させる操作部と、前記接触部と前記操作部とを連結する連結部と、を含み、前記連結部は、前記第1方向に関して、前記操作部と前記接触部とが相対的に移動可能に構成されている、
ことを特徴とする光学装置。 Optical parts and
A support mechanism having a support portion for supporting the optical component and a position regulating portion for regulating the position of the optical component in the first direction,
The optical component is provided with an operation mechanism for operating the optical component by applying a force to the optical component in a second direction different from the first direction.
The operating mechanism includes a contact portion that comes into contact with the optical component, an operating portion that moves the contact portion in the second direction, and a connecting portion that connects the contact portion and the operating portion. The unit is configured such that the operation unit and the contact unit can be relatively movable with respect to the first direction.
An optical device characterized by that.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 With respect to the first direction, the force required to move the operating portion relative to the contact portion is smaller than the static frictional resistance acting between the optical component and the contact portion.
The optical device according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。 Further provided with a changing mechanism for changing the position of the position regulating unit in the first direction.
The optical device according to claim 1 or 2.
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学装置。 The connecting portion includes an elastic portion that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above.
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学装置。 The connecting portion includes a linear guide that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above.
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学装置。 The connecting portion includes a leaf spring that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above.
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学装置。 The operation mechanism is configured so that the state of the optical component can be changed, and the state is a first state in which the optical component is supported by the support mechanism and a second state in which the optical component is supported by the operation mechanism. Including state,
The optical device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that.
ことを特徴とする請求項7に記載の光学装置。 The state is changed from the first state to the first state through the second state.
The optical device according to claim 7.
ことを特徴とする請求項7に記載の光学装置。 The operation mechanism includes a drive mechanism, and the drive mechanism operates so that the state is changed from the first state to the first state through the second state.
The optical device according to claim 7.
前記投影光学系は、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光学装置を含む、
ことを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus provided with a projection optical system that projects an exposure pattern onto a substrate.
The projection optical system includes the optical device according to any one of claims 1 to 9.
An exposure apparatus characterized in that.
前記感光剤を現像してパターンを形成する工程と、
前記パターンを使って前記基板を処理する工程と、
を含み、前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。 A step of exposing a substrate coated with a photosensitive agent by using the exposure apparatus according to claim 10.
The process of developing the photosensitizer to form a pattern and
The process of processing the substrate using the pattern and
A method for producing an article, which comprises the present invention and comprises producing an article from the substrate.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003227986A (en) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Nikon Corp | Method and device for positioning optical element, projection optical system and aligner |
JP2013142850A (en) * | 2012-01-12 | 2013-07-22 | Seiko Epson Corp | Fixation member of optical component and projector |
CN103969788A (en) * | 2014-05-05 | 2014-08-06 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Lateral flexible supporting structure of space optical remote sensor circulator reflector |
JP2016080906A (en) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | キヤノン株式会社 | Supporting apparatus, method for supporting, measurement device, and method for manufacturing products |
JP2018005189A (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | Holding device, optical device, and moving body |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001242364A (en) | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Canon Inc | Optical device holding mechanism and exposure device equipped with projection optical system constituted of holding mechanism |
JP4956680B2 (en) * | 2000-03-30 | 2012-06-20 | キヤノン株式会社 | Support structure for optical element, exposure apparatus using the same, and method for manufacturing semiconductor device |
JP3862678B2 (en) * | 2003-06-27 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | Exposure apparatus and device manufacturing method |
WO2005076325A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Nikon Corporation | Exposure equipment and method, position control method and device manufacturing method |
JP2006113414A (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Canon Inc | Optical element holding apparatus, lens barrel, exposure apparatus, and method for manufacturing micro device |
KR20130079603A (en) * | 2006-07-06 | 2013-07-10 | 가부시키가이샤 니콘 | Optical device, exposure device, and device manufacturing method |
DE112007003294T5 (en) * | 2007-03-30 | 2010-03-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Supporting a component of an optical device |
US8598538B2 (en) * | 2010-09-07 | 2013-12-03 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
TW201314384A (en) * | 2011-09-16 | 2013-04-01 | V Technology Co Ltd | Film exposure device |
JP6035670B2 (en) * | 2012-08-07 | 2016-11-30 | 株式会社ニコン | Exposure method, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, and exposure apparatus |
KR102679765B1 (en) * | 2015-09-01 | 2024-06-28 | 가부시키가이샤 니콘 | Object holding device, exposure device, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, object holding method, and exposure method |
JP6885335B2 (en) * | 2015-09-30 | 2021-06-16 | 株式会社ニコン | Mobile device, exposure device, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, and object moving method |
JP6748482B2 (en) * | 2016-05-25 | 2020-09-02 | キヤノン株式会社 | Exposure apparatus and method for manufacturing article |
JP6808381B2 (en) * | 2016-07-07 | 2021-01-06 | キヤノン株式会社 | Holding device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method |
KR20230110827A (en) * | 2017-03-31 | 2023-07-25 | 가부시키가이샤 니콘 | Exposure device, exposure method, production method for flat panel display, and device production method |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003227986A (en) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Nikon Corp | Method and device for positioning optical element, projection optical system and aligner |
JP2013142850A (en) * | 2012-01-12 | 2013-07-22 | Seiko Epson Corp | Fixation member of optical component and projector |
CN103969788A (en) * | 2014-05-05 | 2014-08-06 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Lateral flexible supporting structure of space optical remote sensor circulator reflector |
JP2016080906A (en) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | キヤノン株式会社 | Supporting apparatus, method for supporting, measurement device, and method for manufacturing products |
JP2018005189A (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | Holding device, optical device, and moving body |
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