JP2020155700A - セラミックチップ部品の処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一形態に係るセラミックチップ部品の処理方法は、第1方向に形成された複数の凹部を有する治具の表面に沿って磁石を移動させることで、内部電極が露出した側面を有し上記治具の各凹部内にそれぞれ配置された複数のセラミックチップ部品を整列させる工程を含む。整列後に、上記複数のセラミックチップ部品のうち、上記凹部内に収容され上記第1方向に上記側面が向いた整列姿勢のセラミック部品よりも、上記凹部の開口から上記第1方向に突出した不良姿勢のセラミックチップ部品が除去される。
【選択図】図15
Description
整列後に、上記複数のセラミックチップ部品のうち、上記凹部内に収容され上記第1方向に上記側面が向いた整列姿勢のセラミック部品よりも、上記凹部の開口から上記第1方向に突出した不良姿勢のセラミックチップ部品が除去される。
これにより、付着部材によって不良姿勢のセラミックチップ部品を除去する作業を自動化することができ、除去工程の作業効率を高めることができる。
上記セラミックチップ部品を除去する工程では、上記付着部材を、上記治具に対して上記第2方向に沿って相対的に移動させてもよい。
これにより、複数の凹部内のセラミックチップ部品に対して連続的に除去を行うことができ、除去工程における作業効率をより高めることができる。
これにより、治具から除去された不良姿勢のセラミックチップ部品が回収され、廃棄等の処理を行うことができる。
上記粘着面を上記開口と上記第1方向に対向させて上記不良姿勢の上記セラミックチップ部品を除去してもよい。
上記吸着面を上記開口と上記第1方向に対向させて上記不良姿勢の上記セラミックチップ部品を除去してもよい。
検出された上記不良姿勢の上記セラミックチップ部品を上記治具から除去してもよい。
これにより、予め不良姿勢のセラミックチップ部品を検出し、必要に応じて除去を行うことができ、作業の効率化を図ることができる。
これにより、不良姿勢のセラミックチップ部品を治具から確実に除去することができ、したがって、整列処理後の作業効率をより確実に高めることができる。
これにより、整列姿勢のセラミックチップ部品は凹部の開口から突出せず、不良姿勢のセラミックチップ部品のみが凹部の開口から突出することになる。したがって、開口から突出しているセラミックチップ部品を不良姿勢として扱えばよく、不良姿勢のみを選択的に除去する作業が容易になる。
図1〜3は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10を示す図である。図1は、積層セラミックコンデンサ10の斜視図である。図2は、積層セラミックコンデンサ10の図1のA−A'線に沿った断面図である。図3は、積層セラミックコンデンサ10の図1のB−B'線に沿った断面図である。
なお、図には、適宜相互に直交するx軸、y軸、及びz軸が示されている。これらの3軸は、積層セラミックコンデンサ10及び後述するセラミック積層チップ116の姿勢を示す座標軸である。
図4は、積層セラミックコンデンサ10の製造方法を示すフローチャートである。図5〜7は積層セラミックコンデンサ10の製造過程を模式的に示す図である。以下、積層セラミックコンデンサ10の製造方法について、図4に沿って、図5〜7を適宜参照しながら説明する。
ステップS11では、容量形成部18を形成するための第1セラミックシート101及び第2セラミックシート102と、カバー部19を形成するための第3セラミックシート103と、を積層し、切断することで、未焼成のセラミック積層チップ(積層チップ)116を作製する。
なお、セラミックシート101,102,103の積層枚数等は、適宜調整可能である。
ステップS12では、側面116bが一定方向(例えば鉛直方向)を向くように、積層チップ116を整列させる。さらに、本ステップでは、整列後に姿勢が不良である状態の積層チップ116が除去され、一定の姿勢の積層チップ116のみが残される。本ステップの詳細な説明は、後述する。
ステップS13では、一定の方向を向いた積層チップ116の側面116bに未焼成のサイドマージン部117を形成する。
ステップS14では、ステップS13で得られた未焼成のセラミック素体11を焼成することにより、図1〜3に示す積層セラミックコンデンサ10のセラミック素体11を作製する。ステップS14における焼成温度は、未焼成のセラミック素体11の焼結温度に基づいて決定することができる。また、焼成は、例えば、還元雰囲気下、又は低酸素分圧雰囲気下において行うことができる。
ステップS15では、ステップS14で得られたセラミック素体11のx軸方向両端部に外部電極14を形成する。一例として、まず、導電性ペーストをセラミック素体11のx軸方向両端部に塗布し、この導電性ペーストを焼き付けて下地膜を形成する。次に、下地膜が形成されたセラミック素体11をメッキ液に浸漬させて電解メッキを行うことで、1又は複数のメッキ膜を形成する。
これにより、図1〜3に示すような積層セラミックコンデンサ10が形成される。
図8は、積層チップ116の整列処理方法を示すフローチャートである。図9〜20は積層チップ116の整列処理過程を模式的に示す断面図である。
なお、以下の図には、適宜、相互に直交するX軸、Y軸、及びZ軸が示されている。X軸方向及びY軸方向は後述する治具100の平面方向、Z軸方向は治具100の厚さ方向を示す。さらに、以下の図には、必要に応じて積層チップ116の姿勢を示すx軸、y軸及びz軸も示している。
ステップS21では、積層チップ116を、複数の凹部110を有する治具100の各凹部110内に配置する。
ステップS22では、積層チップ116に対して磁場を作用させることで、積層チップ116を整列させる。
ステップS23では、不良姿勢の積層チップ116を検出する。本実施形態では、不良姿勢を検出可能な検出装置Dを用いて、不良姿勢の積層チップ116を検出する。
ステップS24では、不良姿勢の積層チップ116を除去する。本実施形態では、積層チップ116を付着させることが可能な付着部材Eを、開口110aとZ軸方向に対向させることにより、積層チップ116を除去する。
ステップS25では、積層チップ116が付着した粘着面E11から積層チップ116を回収する。
本実施形態では、粘着面E11に付着した積層チップ116を、より粘着性の高い粘着テープFに付着させる。これにより、粘着面E11上の積層チップ116を回収できる。
ステップS26では、ステップS24の除去工程後、不良姿勢の積層チップ116が治具100から除去されたか否か確認する。本実施形態では、ステップS23と同様に、不良姿勢の積層チップ116を検出する処理を行うことで、不良姿勢の積層チップ116の除去を確認する。
ステップS24の除去工程では、付着部材Eとして、粘着ローラE1に替えて、板状の粘着プレートE2を用いてもよい。
以下の各実施形態において、主に上述の実施形態と異なる部分について説明し、同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
図21に示すように、粘着プレートE2は、粘着面E21を有する粘着層E20と、プレート本体E22と、図示しない駆動部と、を有する。粘着面E21は、例えば、粘着性材料を含む粘着層E20の表面として構成される。プレート本体E22は、例えばX−Y平面に延びる平板状のプレートとして構成される。
ステップS24に板状の付着装置Eを用いる場合、例えば吸着面を有する吸着プレートE3を用いてもよい。
ステップS24に用いられる吸着プレートは、例えば負圧を発生させることで積層チップ116を吸着させる構成でもよい。
ステップS24では、粘着面を有する長尺の粘着テープによって不良姿勢の積層チップ116を除去してもよい。
本発明のセラミックチップ部品は、積層チップ116に限定されない。例えば、3端子型の積層セラミックコンデンサにおけるセラミック素体に対しても、本発明を適用することができる。
図33は、本発明の第6実施形態に係る積層セラミックコンデンサ20を示す斜視図である。積層セラミックコンデンサ20は、3端子型の積層セラミックコンデンサとして構成される。
図34は、積層セラミックコンデンサ20の製造方法を示すフローチャートである。図35及び36は積層セラミックコンデンサ20の製造過程を模式的に示す図である。以下、積層セラミックコンデンサ20の製造方法について、図34に沿って、図35及び36を適宜参照しながら説明する。
ステップS31では、未焼成の内部電極122,123が形成された第1セラミックシート201及び第2セラミックシート202と、内部電極が形成されていない第3セラミックシート203と、を積層することで、未焼成のセラミック素体121を作製する。さらに、未焼成のセラミック素体121を焼成することで、セラミック素体21を作製する。
ステップS32では、第1実施形態におけるステップS12の積層チップ116の整列処理と同様に、セラミック素体21の整列処理が行われる。これにより、側面21bが一定方向を向いた状態で整列し、後の工程において側面21bに側面外部電極25を形成することが容易になる。
ステップS33では、整列処理後のセラミック素体21の側面21bに側面外部電極25を形成する。側面外部電極25は、例えば側面21bに導電性ペーストを塗布し、当該導電性ペーストを焼き付けることにより形成される。導電性ペーストの塗布は、例えば印刷法等により行われる。導電性ペーストの焼き付けは、例えば、還元雰囲気、又は低酸素分圧雰囲気で行うことができる。
ステップS34では、セラミック素体21の端面21aに端面外部電極24を形成する。端面外部電極24は、例えば端面21aに導電性ペーストを塗布し、当該導電性ペーストを焼き付けることにより形成される。導電性ペーストの塗布は、例えばディップ法、印刷法等により行われる。導電性ペーストの焼き付けは、例えば、還元雰囲気、又は低酸素分圧雰囲気で行うことができる。
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
11,21…セラミック素体(セラミックチップ部品)
21b…セラミック素体の側面
12,13,112,113,122,123…内部電極
116…未焼成の積層チップ(セラミックチップ部品)
116b…未焼成の積層チップの側面
100…治具
110…凹部
110a…開口
120…磁石
E…付着部材
Claims (10)
- 第1方向に形成された複数の凹部を有する冶具の表面に沿って磁石を移動させることで、内部電極が露出した側面を有し前記治具の各凹部内にそれぞれ配置された複数のセラミックチップ部品を整列させ、
整列後に、前記複数のセラミックチップ部品のうち、前記凹部内に収容され前記第1方向に前記側面が向いた整列姿勢のセラミック部品よりも、前記凹部の開口から前記第1方向に突出した不良姿勢のセラミックチップ部品を除去する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項1に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記セラミックチップ部品を付着させることが可能な付着部材を、前記開口から前記第1方向に、前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品は付着させ、かつ前記整列姿勢の前記セラミックチップ部品は付着させない距離をあけて対向させることで、前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品を除去する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項2に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記複数の凹部は、前記第1方向と直交する第2方向に列をなして前記冶具上に配置され、
前記セラミックチップ部品を除去する工程では、前記付着部材を、前記治具に対して前記第2方向に沿って相対的に移動させる
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項2又は3に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記セラミックチップ部品を除去する工程の後に、前記付着部材に付着した前記セラミックチップ部品を回収する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項2から4のいずか一項に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記付着部材は、前記セラミックチップ部品を粘着させることが可能な粘着面を有し、
前記粘着面を前記開口と前記第1方向に対向させて前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品を除去する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項2から4のいずか一項に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記付着部材は、前記セラミックチップ部品を吸着させることが可能な吸着面を有し、
前記吸着面を前記開口と前記第1方向に対向させて前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品を除去する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項6に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記吸着面は、磁力によって前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品を吸着させる
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項1から7のいずか一項に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記整列後であって前記セラミックチップ部品を除去する工程の前に、前記不良姿勢のセラミックチップ部品を検出し、
検出された前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品を前記冶具から除去する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項1から8のいずか一項に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記セラミックチップ部品を除去する工程の後に、前記不良姿勢の前記セラミックチップ部品が前記治具から除去されたか否か確認する
セラミックチップ部品の処理方法。 - 請求項1から9のいずか一項に記載のセラミックチップ部品の処理方法であって、
前記凹部は、前記整列姿勢の前記セラミックチップ部品の前記第1方向における寸法よりも、前記第1方向に大きい寸法の深さを有する
セラミックチップ部品の処理方法。
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