JP2020140057A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、小型化ができる光走査装置を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 開口を有する容器と、前記開口を覆う光透過部材と、前記光透過部材を支持する支持部と、を有し、前記支持部は、前記光透過部材の長手方向の端部のみを支持することを特徴とする。更に、前記容器は、光学箱と、前記光学箱を覆うカバーと、を有し、前記開口は、前記カバーに設けられ、前記開口の長手方向の縁部に前記支持部が設けられていることを特徴とする。【選択図】 図5
Description
本発明は、複写機やプリンタ等の画像形成装置に用いられる光走査装置に関するものである。
画像形成装置に用いられる光走査装置は、画像信号に応じて光源から出射されたレーザ光を、例えば、回転多面鏡からなる光偏向器で偏向走査する。偏向走査されたレーザ光は、走査レンズや反射ミラーを介して像担持体上に走査される。この光走査装置を構成する偏向器や走査レンズ等の光学部品は、光学箱の内部に収容され、光学箱をカバーにより閉塞する構成になっている。光学箱やカバーには、回転多面鏡により偏向走査されたレーザ光を光学箱の内部から外部に出射させるための開口と、開口を閉塞する光透過部材が設けられている。
特許文献1には、図13に示すように、カバー220の開口221を閉塞する光透過部材223を、カバー220に設けた凹部402に取り付ける構成が開示されている。この凹部402の底部402a,402bに両面テープ401を貼り付け、両面テープ401に合わせて光透過部材223を取り付けている。光透過部材223は両面テープ401に合わせて取り付けるので、開口221よりも幅の大きいものが必要となる。
また、特許文献2では、図14に示すように、カバー11に設けられた開口114を閉塞するために防塵ガラス112を用いているが、防塵ガラス112の幅は開口114の幅よりも大きく、防塵ガラス112は開口114を覆うことが可能な大きさである。そして、開口114の長手方向(図14の紙面に対して垂直な方向)に沿って設けられているリブ115a,115bと防塵ガラス112との間に接着剤116を塗布することにより防塵ガラス112を固定している。
画像形成装置の小型化やトナーカートリッジ容量の増大により光走査装置も小型化や薄型化が要求されている。光走査装置を小型化するために光走査装置に収容された、それぞれの光学部品の距離が近接して配置されるようになってきている。特に、レーザ光の出射口となる開口を閉塞する光透過部材と、その直前に配置されている走査レンズやミラー等の光学部品は、特に近接した配置になっている。
特許文献1、2に開示されている構成は、光透過部材223や防塵ガラス112の長手方向に亘って、これらの光学部品を支持する台座27を必要とする構成である。従って、台座27の厚み(図13の上下方向)分だけ光透過部材223や防塵ガラス112と、光学箱の内部に収容されている光学部品との間に隙間を用意しておく必要がある。このように、光学箱に台座27の厚み分のスペースが必要になってしまい、光走査装置の高さの低減には限界があった。
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、小型化ができる光走査装置を提供するものである。
前記目的を達成するための本発明に係る光走査装置の代表的な構成は、開口を有する容器と、前記開口を覆う光透過部材と、前記光透過部材を支持する支持部と、を有し、前記支持部は、前記光透過部材の長手方向の端部のみを支持することを特徴とする。
本発明によれば、光走査装置の小型化ができる。
図により光走査装置を備えた画像形成装置の実施形態を具体的に説明する。ただし、以下の実施形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対位置等は、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
〔第1実施形態〕
先ず、図1〜図8を用いて光走査装置1を備えた画像形成装置101の第1実施形態の構成について説明する。
先ず、図1〜図8を用いて光走査装置1を備えた画像形成装置101の第1実施形態の構成について説明する。
<画像形成装置>
図1を用いて光走査装置1を備えた画像形成装置101の構成について説明する。図1は、2つの光走査装置1を備えた画像形成装置101の構成を示す断面図である。図1に示す画像形成装置101は、電子写真方式を用いたレーザビームプリンタの一例である。画像形成装置101には、イエローy、マゼンタm、シアンc、ブラックkの各色の画像形成部107y,107m,107c,107kが設けられている。尚、各色の画像形成部107y,107m,107c,107kは、使用するトナーの色以外は、同様に構成されるため画像形成部107を用いて説明する場合もある。他の画像形成プロセス手段についても同様である。
図1を用いて光走査装置1を備えた画像形成装置101の構成について説明する。図1は、2つの光走査装置1を備えた画像形成装置101の構成を示す断面図である。図1に示す画像形成装置101は、電子写真方式を用いたレーザビームプリンタの一例である。画像形成装置101には、イエローy、マゼンタm、シアンc、ブラックkの各色の画像形成部107y,107m,107c,107kが設けられている。尚、各色の画像形成部107y,107m,107c,107kは、使用するトナーの色以外は、同様に構成されるため画像形成部107を用いて説明する場合もある。他の画像形成プロセス手段についても同様である。
画像形成装置101は、記録材19に画像を形成する。画像形成部107には、感光ドラム9が図1の時計回り方向に回転可能に設けられている。感光ドラム9の表面は、帯電ローラ24により一様に帯電される。
画像形成装置101には、筐体の一部である支持部102が設けられている。支持部102には、レーザスキャナである光走査装置1が2つ設置されている。各帯電ローラ24により一様に帯電された各感光ドラム9の表面に各光走査装置1から画像情報に応じたレーザ光Lがそれぞれ照射される。これにより各感光ドラム9の表面上に静電潜像が形成される。その後、各現像ユニット23に設けられた各現像ローラ15により各感光ドラム9の表面上に形成された静電潜像に対してトナーが供給されてトナー像として現像される。
各感光ドラム9に対向して中間転写ベルト16が設けられている。中間転写ベルト16は、張架ローラ29,30により図1の反時計回り方向に回転可能に張架されている。中間転写ベルト16の内周面側には、各感光ドラム9に対向して一次転写ローラ105がそれぞれ設けられている。
図示しない一次転写電源から各一次転写ローラ105に一次転写バイアスが印加されることで、各感光ドラム9の表面上に形成されたトナー像が中間転写ベルト16の外周面上に重畳して転写される。転写後に各感光ドラム9の表面上に残留したトナーは、図示しないクリーニング手段により除去されて回収される。張架ローラ29に対向し中間転写ベルト16を介在しての二次転写ローラ31が設けられている。
画像形成装置101の下部には、給送ユニット103が設けられており、給送ユニット103に収容された記録材19は、給送ローラ104により1枚ずつ分離給送される。給送ローラ104により給送された記録材19は、停止したレジストローラ25のニップ部に先端が突き当てられて記録材19の斜行が補正される。
中間転写ベルト16の外周面上に形成されたトナー像の画先が中間転写ベルト16の外周面と二次転写ローラ31とにより形成される二次転写ニップ部Nに到達する。そのタイミングに合わせて記録材19の先端部が二次転写ニップ部Nに到達するように、レジストローラ25により記録材19が搬送される。
図示しない二次転写電源から二次転写ローラ31に二次転写バイアスが印加されることにより二次転写ニップ部Nにおいて中間転写ベルト16の外周面上に形成されたトナー像が記録材19に一括して転写される。転写後に中間転写ベルト16の外周面上に残留した残留トナーは、図示しないクリーニング手段により除去されて回収される。
二次転写ニップ部Nにおいて、トナー像が転写された記録材19は、定着装置106に搬送される。定着装置106には、加熱ローラ106aと加圧ローラ106bが設けられており、トナー像を担持した記録材19が加熱ローラ106aと加圧ローラ106bとにより挟持搬送される間に加熱及び加圧されてトナー像が記録材19に熱定着される。その後、記録材19は、排出ローラ108により搬送されて排出トレイ14上に排出される。
<光走査装置>
次に、図2〜図5を用いて本実施形態の光走査装置1の構成について説明する。図2は、本実施形態の光走査装置1の、カバー11を取り除いた状態の内部構成を示す斜視図である。図3は、本実施形態の光走査装置1をカバー11の上方から見た斜視図である。図4は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す図3のA−A断面図である。図5は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す図3のB−B断面図である。
次に、図2〜図5を用いて本実施形態の光走査装置1の構成について説明する。図2は、本実施形態の光走査装置1の、カバー11を取り除いた状態の内部構成を示す斜視図である。図3は、本実施形態の光走査装置1をカバー11の上方から見た斜視図である。図4は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す図3のA−A断面図である。図5は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す図3のB−B断面図である。
図2〜図5に示す光走査装置1は、容器の一部としての光学箱10と、容器の一部としてのカバー11とを有する。光学箱10の側面には、レーザ駆動基板7が設けられており、レーザ駆動基板7には、2組の半導体レーザ17が実装されている。
光学箱10の内部には、図示しないコリメータレンズと、シリンドリカルレンズ2と、回転多面鏡3aと、スキャナモータ3bと、第一走査レンズ4と、ミラー5と、第二走査レンズ6とが収容されている。回転多面鏡3aと、スキャナモータ3bとにより偏向器18が構成される。光学箱10は、これらの各光学部品を収容しており、カバー11は光学箱10を覆うように設けられている。
図1に示す画像形成装置101が画像形成する時、レーザ駆動基板7により駆動制御された半導体レーザ17がレーザ光Lを出射する。半導体レーザ17から出射されたレーザ光Lは、図示しないコリメータレンズにより平行光化され、更に、シリンドリカルレンズ2により回転多面鏡3a上に線上に結像される。
回転多面鏡3aは、スキャナモータ3bにより回転駆動され、レーザ光Lを偏向走査する。偏向走査されたレーザ光Lは、第一走査レンズ4を透過し、ミラー5で反射する。更に、レーザ光Lは、第二走査レンズ6を透過し、更に、防塵ガラス8を透過して防塵ガラス8の外側に出射される。更に、レーザ光Lは、感光ドラム9の表面上にスポットを形成するように結像される。第二走査レンズ6は、偏向走査されたレーザ光Lのスポットの走査速度が感光ドラム9の表面上で等速度になるように設計されている。
感光ドラム9の表面上に結像されるレーザ光Lは、回転多面鏡3aの回転によりレーザ光Lの偏向される角度が変化して、感光ドラム9の回転軸線方向である主走査方向に走査される。また、感光ドラム9が感光ドラム9の回転軸線方向に直交する方向である副走査方向に回転することで、感光ドラム9の表面上に静電潜像が形成される。
図3及び図4に示すように、光走査装置1は、各光学部品を光学箱10の内部に収容した後、カバー11により密閉される。カバー11は、樹脂等により形成されており、第二走査レンズ6を透過したレーザ光Lが通過する長尺状の開口12が設けられている。第二走査レンズ6は、光学箱10の容器の内部で開口12のレーザ光Lの進行方向の上流直前に設けられている。開口12は、光透過部材である防塵ガラス8により覆われている。防塵ガラス8は、薄板短冊状のガラス部材で構成され、レーザ光Lが透過可能であると共に、防塵ガラス8で光学箱10を密閉することで埃等の汚れから光学箱10に収容された光学部品を保護している。
<防塵ガラスと第二走査レンズとの相対位置>
次に、図5を用いて、防塵ガラス8と第二走査レンズ6との相対位置について説明する。光学箱10の内部の位置であって、レーザ光Lの進行方向において開口12よりも上流側で且つ開口12の直前の位置に第二走査レンズ6が設けられている。第二走査レンズ6は、図4に示すように、感光ドラム9の表面上での副走査方向の照射位置の敏感度を極力低減し、印字品質を安定させるために、光学箱10の内部で最も感光ドラム9に近い位置に配置されている。
次に、図5を用いて、防塵ガラス8と第二走査レンズ6との相対位置について説明する。光学箱10の内部の位置であって、レーザ光Lの進行方向において開口12よりも上流側で且つ開口12の直前の位置に第二走査レンズ6が設けられている。第二走査レンズ6は、図4に示すように、感光ドラム9の表面上での副走査方向の照射位置の敏感度を極力低減し、印字品質を安定させるために、光学箱10の内部で最も感光ドラム9に近い位置に配置されている。
更に、光走査装置1の小型化及び薄型化を達成するためにカバー11及び防塵ガラス8は、第二走査レンズ6に近接して配置されている。第二走査レンズ6は凸レンズであり、レンズ面6d,6e(図7参照)を成型する際に残る縁部6f,6gがある。また、第二走査レンズ6は、レーザ光Lの進行方向に凸となるように湾曲している。
<防塵ガラスのカバーへの固定>
次に、図5〜図8を用いて、防塵ガラス8のカバー11への固定について説明する。図6(a)は、カバー11に設けた開口12に防塵ガラス8を取り付けていない状態での台座(支持部)12a,12bの構成を示す部分斜視図である。図6(b)は、カバー11に設けた開口12に防塵ガラス8を取り付けた状態での台座(支持部)12a,12bの構成を示す部分斜視図である。図7及び図8は、図4の部分拡大図である。
次に、図5〜図8を用いて、防塵ガラス8のカバー11への固定について説明する。図6(a)は、カバー11に設けた開口12に防塵ガラス8を取り付けていない状態での台座(支持部)12a,12bの構成を示す部分斜視図である。図6(b)は、カバー11に設けた開口12に防塵ガラス8を取り付けた状態での台座(支持部)12a,12bの構成を示す部分斜視図である。図7及び図8は、図4の部分拡大図である。
<防塵ガラスの矢印Z方向の位置決め>
まず、防塵ガラス8の位置決め方法について説明する。防塵ガラス8は、カバー11の開口12の長手方向の両縁部に設けられた台座12a,12bの座面(支持面)12a2,12b2に当接している。これにより、防塵ガラス8の、図5の矢印Z方向の位置が決められている。台座12a,12bは、防塵ガラス8の長手方向の端部のみを支持する支持部として構成される。
まず、防塵ガラス8の位置決め方法について説明する。防塵ガラス8は、カバー11の開口12の長手方向の両縁部に設けられた台座12a,12bの座面(支持面)12a2,12b2に当接している。これにより、防塵ガラス8の、図5の矢印Z方向の位置が決められている。台座12a,12bは、防塵ガラス8の長手方向の端部のみを支持する支持部として構成される。
上述したように、第二走査レンズ6はレーザ光Lの進行方向に凸となるように湾曲している。このため、第二走査レンズ6を防塵ガラス8と接触する直前の位置に配置しても、第二走査レンズ6の長手方向端部の上面6b,6cと、台座12a,12bの底面12a1,12b1との間の距離Gを十分に確保できる。このように、防塵ガラス8を支持する台座12a,12bは、防塵ガラス8と第二走査レンズ6との間の距離を十分に確保できる、第二走査レンズ6の長手方向(主走査方向)の両端部の近傍に設けられている。
次に、台座12a,12bの防塵ガラス8が当接する座面12a2,12b2の矢印Z方向の位置を考慮する。座面12a2,12b2の位置は、第二走査レンズ6の長手方向の中央部6aの位置と同一高さか、或いは、第二走査レンズ6の長手方向の中央部6aよりも矢印Z方向の下流側に設けられている。これにより防塵ガラス8と、防塵ガラス8に最も近接する第二走査レンズ6の長手方向の中央部6aとの間に十分な距離dが確保できる位置に第二走査レンズ6を位置決めできる。
一方、矢印Z方向において、第二走査レンズ6は、その中央部6aが、台座12a,12bの底面12a1,12b1と同じ位置、又は底面12a1,12b1よりも防塵ガラス8に近い位置となるように配置されている。このため、光走査装置1の矢印Z方向の高さを抑えることができる。
なお、本例の第二走査レンズ6は、長手方向の中央部6aが最も突出した形状となっている。しかしながら、レンズの長手方向において、中央部6a以外の位置が最も突出する走査レンズを用いるケースも考えられる。いずれにせよ、防塵ガラス8に向って最も突出した部分が、台座12a,12bの底面12a1,12b1と同じ位置、又は底面12a1,12b1よりも防塵ガラス8に近い位置となるように走査レンズを配置すれば良い。
図13及び図14に示すように、開口221,114の周縁部の全周を光透過部材223や防塵ガラス112の台座27とする場合を考慮する。その場合、台座27の厚み分だけ光透過部材223や防塵ガラス112と光学部品との間に隙間を用意しておく必要がある。そのため台座27の厚み分のスペースが必要になってしまい、光走査装置1の小型化及び薄型化の制約となっていた。本実施形態では、台座12a,12bが防塵ガラス8の長手方向の端部のみを支持するので、防塵ガラス8と第二走査レンズ6との間に台座12a,12bの厚み分以上のスペースを確保しておく必要がなく、光走査装置1の更なる小型化及び薄型化が可能となる。
また、特許文献2では、図14に示すように、防塵ガラス112の外面がカバー11の外面よりも外側に突出している。このため光走査装置を画像形成装置の内部へ組み込む際に、防塵ガラス112が画像形成装置の部品と接触して破損するといったリスクがある。このリスクを減らすために、カバー11の外面にリブ115a,115bを設けて、リブ115a,115bが画像形成装置の部品に接触するようにしていた。もしくは、カバー11の外面の高さを全体的に防塵ガラスよりも高くして、画像形成装置の部品が防塵ガラスに触れないようにしていた。その結果、光走査装置が大型化するといった問題があった。
本実施形態では、防塵ガラス8の外面をカバー11の外面と同一位置、或いは、防塵ガラス8の外面をカバー11の外面よりも低い位置に設けることができる。このため光走査装置1を画像形成装置101の内部へ組み込む際に、防塵ガラス8が画像形成装置101の部品に接触して破損することもなく、光走査装置1を小型化することができる。
また、図5に示すように、偏向走査されたレーザ光Lは、感光ドラム9に近づくほどに走査幅が大きくなっていく。このため各光学部品は、偏向器18から離れていくほど、レーザ光Lの通過領域Rを大きく確保しなくてはならない。本実施形態では、図5に示すように、防塵ガラス8を第二走査レンズ6に近接して配置させることが可能なため防塵ガラス8を透過するレーザ光Lの通過領域Rを小さく抑えることができる。その結果、防塵ガラス8の長手方向の長さを短くすることができるため部品コストの削減効果も期待できる。
<防塵ガラスの矢印X方向の位置決め>
次に、図6及び図7を用いて、防塵ガラス8の短手方向(図6(b)の矢印X方向)の位置決め及び固定方法について説明する。図6(a)に示すように、台座12aには、防塵ガラス8の短手方向の位置決めを行うリブ13a,13bが設けられている。尚、図示しないが、開口12の長手方向において、台座12aとは反対側に設けられた台座12bにも同様に防塵ガラス8の短手方向の位置決めを行うリブ13a,13bが設けられている。
次に、図6及び図7を用いて、防塵ガラス8の短手方向(図6(b)の矢印X方向)の位置決め及び固定方法について説明する。図6(a)に示すように、台座12aには、防塵ガラス8の短手方向の位置決めを行うリブ13a,13bが設けられている。尚、図示しないが、開口12の長手方向において、台座12aとは反対側に設けられた台座12bにも同様に防塵ガラス8の短手方向の位置決めを行うリブ13a,13bが設けられている。
図6(b)に示すように、各台座12a,12bに防塵ガラス8を載置したとき、各台座12a,12bに設けられたリブ13a,13bのうちの一方が防塵ガラス8の縁部8aに当接する。これにより開口12に対する防塵ガラス8の短手方向(図6(b)の矢印X方向)の位置を規制している。この位置決めにより、後述する接着剤を塗布するための空間を確保できる。
図7に示すように、開口12の短手方向の幅12Wは、防塵ガラス8の短手方向の幅8Wよりも大きい。更に、図6(a)に示すように、リブ13a,13bの間の幅13Wは、以下の数1式の関係に設定されている。
[数1]
12W>13W>8W
12W>13W>8W
<防塵ガラスのカバーへの接着固定>
次に、図8を用いて、防塵ガラス8のカバー11への接着固定について説明する。防塵ガラス8とカバー11との固定は、接着剤U等を用いることができる。防塵ガラス8の縁部(防塵ガラス8の長辺の縁)8aと開口12の縁部12cとの間に形成された隙間12dに、図示しないディズペンサーを用いて紫外線硬化性の接着剤Uを塗布する。なお、防塵ガラス8の長手方向において、台座12a,12bが設けられた領域には接着剤Uを塗布していない。防塵ガラス8と台座12a,12bの接触により、光学箱10の内部へ通じる空間を略なくすことができるからである。
次に、図8を用いて、防塵ガラス8のカバー11への接着固定について説明する。防塵ガラス8とカバー11との固定は、接着剤U等を用いることができる。防塵ガラス8の縁部(防塵ガラス8の長辺の縁)8aと開口12の縁部12cとの間に形成された隙間12dに、図示しないディズペンサーを用いて紫外線硬化性の接着剤Uを塗布する。なお、防塵ガラス8の長手方向において、台座12a,12bが設けられた領域には接着剤Uを塗布していない。防塵ガラス8と台座12a,12bの接触により、光学箱10の内部へ通じる空間を略なくすことができるからである。
この接着剤Uは、塗布する際に他の光学部品への付着を防止し、防塵ガラス8の表面上に流れ込むのを防止するために粘度やチクソ性の高いものを用いる。尚、チクソ性とは、粘度が時間経過とともに変化する特性をいう。接着剤Uを塗布した後に、十分に紫外線を照射させることで接着剤Uを硬化させて、防塵ガラス8を開口12の縁部12cに固定するとともに、開口12を完全に密閉する。
本実施形態によれば、防塵ガラス8と第二走査レンズ6との間の距離を近づけることができ、光走査装置1の小型化及び薄型化が可能となる。また、防塵ガラス8を通過するレーザ光Lの通過領域Rが小さくなるため防塵ガラス8の大きさを小さくすることが可能になり、コスト削減の効果がある。
また、図8のように、防塵ガラス8の外面をカバー11の外面の位置と同じ高さに配置する。或いは、防塵ガラス8の外面をカバー11の外面よりも低くする。これにより光走査装置1を画像形成装置101へ組み付ける際に防塵ガラス8のガラス面を意図せず画像形成装置101の部品に接触させて防塵ガラス8が破損する等のリスクを減らすことが可能である。
〔第2実施形態〕
次に、図9〜図12を用いて光走査装置1の第2実施形態の構成について説明する。尚、前記第1実施形態と同様に構成したものは同一の符号、或いは符号が異なっても同一の部材名を付して説明を省略する。図9は、本実施形態の光走査装置1の防塵ガラス28とカバー21との相対位置を示す部分斜視図である。図10は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す部分斜視図である。図11は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す断面図である。図12は、本実施形態の第二走査レンズ26の構成を示す斜視図である。
次に、図9〜図12を用いて光走査装置1の第2実施形態の構成について説明する。尚、前記第1実施形態と同様に構成したものは同一の符号、或いは符号が異なっても同一の部材名を付して説明を省略する。図9は、本実施形態の光走査装置1の防塵ガラス28とカバー21との相対位置を示す部分斜視図である。図10は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す部分斜視図である。図11は、本実施形態の光走査装置1の構成を示す断面図である。図12は、本実施形態の第二走査レンズ26の構成を示す斜視図である。
図10及び図11に示すように、容器としての光学箱20の内部の位置であって、レーザ光Lの進行方向において開口22よりも上流側で且つ開口22の直前の位置に第二走査レンズ26が設けられている。図12に示すように、第二走査レンズ26は、レーザ光Lの進行方向に凸となるように湾曲している。そして、第二走査レンズ26の長手方向の中央部26aが防塵ガラス28に最も近接した配置となっている。
第二走査レンズ26は凸レンズであり、レンズ面26d,26eを成型する際に残る縁部26f,26gがある。図10〜図12に示すように、第二走査レンズ26の長手方向の端部には、第二走査レンズ26の長手方向の中央部26aよりも突出した支持部となる台座27a,27bが設けられている。
図11に示すように、防塵ガラス28は、第二走査レンズ26の座面27a1,27b1に当接して、矢印Z方向における位置が決められている。台座27a,27bの座面27a1,27b1上には紫外線硬化樹脂等の接着剤Uが塗布されて防塵ガラス28が第二走査レンズ26に接着固定される。これにより防塵ガラス28と、防塵ガラス28に最も近接する第二走査レンズ26の長手方向の中央部26aとの間に十分な距離dが確保できる位置に位置決めできる。
防塵ガラス28が第二走査レンズ26に固定された後、開口22が設けられたカバー21を光学箱20に組み付ける。カバー21に設けられた開口22と防塵ガラス28との隙間には接着剤Uやホットメルト等を充填することで閉塞させ、埃や汚れ等の侵入を防ぐ。光学箱20と、光学箱20の容器の開口20aを覆うカバー21とにより光走査装置1の容器を構成する。
このように、第二走査レンズ26に設けられた台座27a,27bの座面27a1,27b1上に防塵ガラス28を載置して位置決めする。これにより第1実施形態のように、カバー11に設けられた台座12a,12bの座面12a2,12b2上に防塵ガラス8を載置して位置決めする場合と比べて、第二走査レンズ26と防塵ガラス28とをより近接させて配置することが可能となる。これにより光走査装置1の更なる小型化及び薄型化が実現できる。
更に、第二走査レンズ26と防塵ガラス28との間の距離を短くできるので、防塵ガラス28を透過する主走査方向におけるレーザ光Lの通過領域Rを小さくできる。これにより防塵ガラス28の長手方向の長さを最小限に抑えることが可能になる。防塵ガラス28を小さくできるので、カバー21に設けられた開口22の大きさも小さくすることができ、カバー21の強度の低下を防止することもできる。他の構成は前記第1実施形態と同様に構成され、同様の効果を得ることが出来る。
1…光走査装置
8…防塵ガラス(光透過部材)
10…光学箱(容器の一部)
11…カバー(容器の一部)
12…開口
12a,12b…台座(支持部)
8…防塵ガラス(光透過部材)
10…光学箱(容器の一部)
11…カバー(容器の一部)
12…開口
12a,12b…台座(支持部)
Claims (9)
- 開口を有する容器と、
前記開口を覆う光透過部材と、
前記光透過部材を支持する支持部と、
を有し、
前記支持部は、前記光透過部材の長手方向の端部のみを支持することを特徴とする光走査装置。 - 前記容器は、
光学箱と、
前記光学箱を覆うカバーと、
を有し、
前記開口は、前記カバーに設けられ、
前記開口の長手方向の縁部に前記支持部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。 - 前記容器の内部で前記開口の光の進行方向の上流直前に走査レンズが設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光走査装置。
- 前記容器の内部で前記開口の光の進行方向の上流直前に走査レンズが設けられ、
前記走査レンズの長手方向の端部に前記支持部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。 - 前記開口の短手方向の幅が、前記光透過部材の短手方向の幅よりも大きいことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光走査装置。
- 前記開口の縁部と前記光透過部材との間に形成された隙間に接着剤を塗布して前記光透過部材を前記縁部に固定することを特徴とする請求項5に記載の光走査装置。
- 前記開口の長手方向に沿った縁部に前記開口の短手方向に向かって互いに対向するリブが突出され、
前記リブに前記光透過部材の長手方向に沿った縁部が当接されて、前記開口の縁部に対する前記光透過部材の位置が規制されていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の光走査装置。 - 前記走査レンズは、長手方向の中央部が前記開口に向かって突出していることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光走査装置。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光走査装置を有し、記録材に画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019035131A JP2020140057A (ja) | 2019-02-28 | 2019-02-28 | 光走査装置及び画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019035131A JP2020140057A (ja) | 2019-02-28 | 2019-02-28 | 光走査装置及び画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020140057A true JP2020140057A (ja) | 2020-09-03 |
Family
ID=72264900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2019035131A Pending JP2020140057A (ja) | 2019-02-28 | 2019-02-28 | 光走査装置及び画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2020140057A (ja) |
-
2019
- 2019-02-28 JP JP2019035131A patent/JP2020140057A/ja active Pending
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