JP2020139886A - Substrate inspection device, substrate inspection method, and program - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板検査装置、基板検査方法、およびプログラムに関する。 The present invention relates to a substrate inspection apparatus, a substrate inspection method, and a program.
基板製造プロセスにおいて、製造された基板の欠陥を検出するための検査工程が含まれる。例えば、下記特許文献1には、検査画像撮像部で撮像された画像(基板の画像)の中から検査に必要な部分を切り出して検査画像とし、当該検査画像を基準画像や隣接画像と比較することで、その基板の検査を行うことが開示されている。
The substrate manufacturing process includes an inspection step for detecting defects in the manufactured substrate. For example, in
基板を製造している現場において、基板製品の迅速かつ正確な検査を実現することが求められている。 At the site where the substrate is manufactured, it is required to realize quick and accurate inspection of the substrate product.
本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものである。本発明の目的の一つは、基板製品の迅速かつ正確な検査を実現する技術を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. One of the objects of the present invention is to provide a technique for realizing a quick and accurate inspection of a substrate product.
本発明によれば、
基板を異なる条件で撮影して生成された、複数の画像を取得する画像取得部と、
前記複数の画像を、機械学習によって生成された識別器を用いて処理することにより、
前記基板の異常の有無を判断する異常判断部と、
を備える基板検査装置が提供される。
According to the present invention
An image acquisition unit that acquires multiple images generated by shooting the board under different conditions,
By processing the plurality of images using a classifier generated by machine learning,
An abnormality determination unit that determines the presence or absence of an abnormality on the substrate,
A substrate inspection device is provided.
本発明によれば、
コンピュータが、
基板を異なる条件で撮影して生成された、複数の画像を取得し、
前記複数の画像を、機械学習によって生成された識別器を用いて処理することにより、
前記基板の異常の有無を判断する、
ことを含む基板検査方法が提供される。
According to the present invention
The computer
Acquire multiple images generated by shooting the board under different conditions,
By processing the plurality of images using a classifier generated by machine learning,
Judging whether or not there is an abnormality in the substrate,
A substrate inspection method including the above is provided.
本発明によれば、コンピュータに、上述の基板検査方法を実行させるプログラムが提供される。 According to the present invention, a program for causing a computer to execute the above-mentioned substrate inspection method is provided.
本発明によれば、基板製品の迅速かつ正確な検査を実現する技術を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a technique for realizing a quick and accurate inspection of a substrate product.
本発明は、セラミックス基板やセラミックス回路基板などを含む基板製品全般を対象とする。ここで、セラミックス基板は、原料粉を形成および焼結することによって生成されるセラミックスの板である。セラミックス回路基板とは、先述のセラミックス基板と金属板(例えば銅版やアルミ板など)とをろう材などを用いて接合した複合体(セラミックス金属複合体)に、レジスト塗布、エッチング、メッキ処理を行って、所望の回路パターンを形成したものである。 The present invention covers all substrate products including ceramic substrates and ceramic circuit boards. Here, the ceramic substrate is a ceramic plate produced by forming and sintering a raw material powder. A ceramic circuit board is a composite (ceramic metal composite) in which the above-mentioned ceramic substrate and a metal plate (for example, a copper plate or an aluminum plate) are joined by using a brazing material or the like, and resist coating, etching, or plating is performed on the composite. Therefore, a desired circuit pattern is formed.
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明するが、本発明はこれらに限定されて解釈されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、改良等を行うことができる。実施形態に開示されている複数の構成要素は、適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention should not be construed as being limited to these, and is based on the knowledge of those skilled in the art as long as it does not deviate from the gist of the present invention. Therefore, various changes and improvements can be made. The plurality of components disclosed in the embodiments can form various inventions by appropriate combinations. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment, or components of different embodiments may be combined as appropriate.
[第1実施形態]
<機能構成例>
図1は、第1実施形態における基板検査装置の機能構成を例示する図である。図1に示されるように、本実施形態の基板検査装置10は、画像取得部110、異常判断部120を備える。
[First Embodiment]
<Function configuration example>
FIG. 1 is a diagram illustrating a functional configuration of a substrate inspection device according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the
画像取得部110は、検査対象基板を異なる条件下で撮影することによって生成された、複数の画像を取得する。検査対象基板の画像は、図示しない撮像装置を用いて生成される。一例として、複数の撮像装置を用いて検査対象基板を様々な角度から撮影することによって、その検査対象基板の複数の画像が生成される。他の一例として、検査対象基板に照射される光の特徴(光の波長や光量など)を変えながら、1つ以上の撮像装置を用いて検査対象基板を複数回撮影することによって、その検査対象基板の複数の画像が生成される。画像取得部110は、生成された複数の画像の一部または全部を取得する。
The
異常判断部120は、画像取得部110により取得された複数の画像を、機械学習によって生成された識別器122を用いて処理することにより、検査対象基板の異常の有無を判断する。また、異常判断部120は、さらに、異常があると判断された検査対象基板を複数のグループに分類するように構成されていてもよい。以下では、異常判断部120が、検査対象基板に異常があるか否かを判断し、更に、異常があると判断された検査対象基板をその異常に基づいて複数のグループに分類する例について主に説明する。なお、以下の説明において、「異常があると判断された検査対象基板」を「異常有基板」とも表記する。
The
ここで、識別器122は、既知の機械学習アルゴリズム(例えば、ディープラーニングやSVM(Support Vector Machine)など)を利用して、検査対象基板上の異常を検出可能に構築された学習モデルである。例えば、学習用のデータセット(基板に生じ得る異常の画像データと、その異常の種類を識別する情報との組み合わせ)を用いて学習を行うことにより、画像の特徴量から、基板上に異常が存在するか否か、および、基板上に異常が存在する場合にはその異常の種類は何かを判定可能な識別器122が構築される。なお、識別器122を構築するために利用される機械学習アルゴリズムは、検査対象基板が有する各種異常を識別または分類できるものであれば、特に限定されない。識別器122は、画像取得部110により取得された検査対象基板の画像を入力として受け付けると、機械学習により構築されたモデルに基づいて、当該画像に写っている検査対象基板が異常を有する基板(異常有基板)であるか否かを判定する。また、識別器122は、検査対象基板が異常有基板と判定される場合には、当該基板が有する異常の種類を示す情報を更に出力する。異常判断部120は、識別器122から出力される情報を基に、検査対象基板が異常有基板か否か、および、検査対象基板が異常有基板と判断された場合に当該基板が有する異常の種類を識別することができる。
Here, the
一例として、検査対象基板がセラミック基板である場合、識別器122は、入力された検査対象基板の画像について、例えば当該セラミック基板に生じたクラック、基板表面の汚れや異物の存在、傷、欠けまたは凹凸などを「異常」として検出するように構築される。この場合、異常判断部120は、識別器122から出力される情報を基に、セラミック基板に生じたクラック、基板表面の汚れや異物の存在、傷、欠けまたは凹凸を、基板の異常として判別することができる。他の一例として、検査対象基板が回路基板である場合、識別器122は、入力された検査対象基板の画像について、例えば基板表面の汚れや異物の存在、傷、または凹凸などを「異常」として検出するように構築される。この場合、異常判断部120は、識別器122から出力される情報を基に、セラミック基板に生じたクラック、少なくとも、基板表面の汚れや異物の存在、傷、または凹凸を、基板の異常として判別することができる。また、識別器122は、上述したような基板に実在する異常のほか、基板に実在しない異常(例えばハレーションといった、撮影時の環境や撮像装置の構造などに起因して画像データ上でのみ生じる異常)を識別可能に学習されていてもよい。
As an example, when the substrate to be inspected is a ceramic substrate, the
ここで、異常有基板が有する異常の種類によって、その基板の取り扱い(後処理)は異なってくる。例えば、異常有基板として判断された検査対象基板について、識別器122の出力情報が「基板に実在しない異常」のみを異常の種類として含んでいる場合、その基板には実質的な異常はないと言える。この場合、その基板は、特別な後処理を必要とせず、そのままの状態で合格品として出荷ことができる。また例えば、異常有基板として判断された検査対象基板について、識別器122の出力情報が「基板に実在する異常」を異常の種類として含んでいる場合、その基板に対しては何らかの後処理が必要となる。そして、基板に対して行うべき後処理は、その基板が有する異常に応じて変わる。例えば、異常有基板として判断された検査対象基板の異常が、基板表面上に付着した汚れや異物である場合、その基板は、所定の洗浄処理を行った後、合格品として出荷することができる。また例えば、異常有基板として判断された検査対象基板の異常が軽度の傷などである場合、その基板は、所定の修復処理を行った後、合格品として出荷することができる。また例えば、異常有基板として判断された検査対象基板の異常が修復の見込みがないほど重度のクラックや傷などである場合、その基板は、例えば廃棄処分される。
Here, the handling (post-processing) of the substrate differs depending on the type of abnormality that the substrate with abnormality has. For example, if the output information of the
このように、異常有基板と判断された検査対象基板は、その基板が有する異常の種類に応じてその後の取り扱いが変わる。そこで、異常判断部120は、異常有基板として判断された基板が有する異常の種類に基づいて、その基板が属するグループ(すなわち、異常の種類に基づいて分類されるグループ)を判別する。例えば、識別器122に検査対象基板の画像を入力した結果、その検査対象基板が異常有基板と判断され、当該基板が有する異常の種類として「基板に実在しない異常」および「基板表面の汚れや異物による異常」を示す出力が得られたとする。この場合、異常判断部120は、識別器122の出力に基づいて、異常有基板が「基板に実在しない異常」に対応するグループ、および、「基板表面の汚れや異物による異常」に対応するグループに属すると判断する。
As described above, the inspection target substrate determined to have an abnormality is handled differently depending on the type of abnormality possessed by the substrate. Therefore, the
〔ハードウエア構成例〕
基板検査装置10の各機能構成部は、各機能構成部を実現するハードウエア(例:ハードワイヤードされた電子回路など)で実現されてもよいし、ハードウエアとソフトウエアとの組み合わせ(例:電子回路とそれを制御するプログラムの組み合わせなど)で実現されてもよい。以下、基板検査装置10の各機能構成部がハードウエアとソフトウエアとの組み合わせで実現される場合について、さらに説明する。
[Hardware configuration example]
Each functional component of the
図2は、基板検査装置10のハードウエア構成を例示するブロック図である。なお、図2に示される基板検査装置10のハードウエア構成はあくまで一例であり、基板検査装置10のハードウエア構成は図2の構成に限定されない。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a hardware configuration of the
図2に示されるように、基板検査装置10は、バス1010、プロセッサ1020、メモリ1030、ストレージデバイス1040、入出力インタフェース1050、及びネットワークインタフェース1060を有する。
As shown in FIG. 2, the
バス1010は、プロセッサ1020、メモリ1030、ストレージデバイス1040、入出力インタフェース1050、及びネットワークインタフェース1060が、相互にデータを送受信するためのデータ伝送路である。ただし、プロセッサ1020などを互いに接続する方法は、バス接続に限定されない。
The
プロセッサ1020は、CPU(Central Processing Unit) やGPU(Graphics Processing Unit)などで実現されるプロセッサである。
The
メモリ1030は、RAM(Random Access Memory)などで実現される主記憶装置である。
The
ストレージデバイス1040は、HDD(Hard Disk Drive)、SSD(Solid State Drive)、メモリカード、又はROM(Read Only Memory)などで実現される補助記憶装置である。ストレージデバイス1040は基板検査装置10の各機能(画像取得部110、異常判断部120など)を実現するプログラムモジュールを記憶している。プロセッサ1020がこれら各プログラムモジュールをメモリ1030上に読み込んで実行することで、そのプログラムモジュールに対応する各機能が実現される。
The
入出力インタフェース1050は、基板検査装置10と周辺機器とを接続するためのインタフェースである。図2の例では、撮像装置1052および入出力用機器1054が、入出力インタフェース1050を介して基板検査装置10に接続されている。撮像装置1052は、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサやCMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)イメージセンサなどを用いて、検査対象基板の画像を生成する装置である。図示されるように、1以上の撮像装置1052が、検査対象基板を載置する検査台に載置される検査対象基板を撮像範囲に含むように配置される。また、入出力用機器1054は、検査対象基板を撮影するための撮像装置15例えば、マウス、キーボード、スピーカー、ディスプレイ(タッチパネルディスプレイ)などの入出力用機器1054を含む。
The input /
ネットワークインタフェース1060は、基板検査装置10をネットワークに接続するためのインタフェースである。このネットワークは、例えばLAN(Local Area Network)やWAN(Wide Area Network)である。ネットワークインタフェース1060がネットワークに接続する方法は、無線接続であってもよいし、有線接続であってもよい。
The
<処理の流れ>
図3を用いて、本実施形態の基板検査装置10により実行される処理について説明する。図3は、第1実施形態の基板検査装置10により実行される処理の流れを例示するフローチャートである。
<Processing flow>
The process executed by the
まず、画像取得部110が、入出力インタフェース1050等を介して接続された撮像装置1052から、検査対象基板の画像を取得する(S102)。異常判断部120は、画像取得部110により取得された検査対象基板の画像を、機械学習によって予め構築された識別器122に入力する(S104)。そして、異常判断部120は、検査対象基板の画像を入力することで識別器122から得られる出力結果に基づいて、異常判断部120は、検査対象基板が異常有基板か否かを判別する(S106)。検査対象基板について異常が検出された場合(S106:YES)、異常判断部120は、異常があると判断された検査対象基板(異常有基板)について、その基板の分類先のグループを識別器122の出力結果(異常の種類)に基づいて特定する(S108)。そして、異常判断部120は、S108の処理で特定したグループに関する情報を、例えば基板検査装置10に接続されたディスプレイやランプなどを介して、製品基板の検査業務に携わる人物に通知する(S110)。一方、検査対象基板について異常が検出されなかった場合(S106:NO)、異常判断部120は、検査対象基板を合格品として判定する(S112)。合格品と判定された基板は、梱包作業を経て、製品として出荷される。
First, the
以上、本実施形態では、異常があると判断された検査対象基板(異常有基板)について、その基板が有する異常の種類に基づいてグループが特定される。そして、異常有基板について特定されたグループに関する情報が、製品基板の検査業務に携わる人物に対して通知される。このように基板検査装置10から出力される情報を確認することによって、業務経験の浅い人物(業務に関して習熟度の低い人物)であっても、異常有と判断された検査対象基板がどのような異常を有しているかを正確にかつ迅速に判断することができるようになる。また、本実施形態の基板検査装置10では、製品基板上の異常の有無を検出するために、機械学習が利用されている。これにより、人が画像を確認する場合と比べて、基板の異常の有無に関する判断の偏りが小さくなり、業務にあたる人物に依らず、業務の品質を一定以上に保つ効果も見込める。
As described above, in the present embodiment, the group of the inspection target substrate (board with abnormality) determined to have an abnormality is specified based on the type of abnormality possessed by the substrate. Then, the information about the group identified about the abnormal substrate is notified to the person engaged in the inspection work of the product substrate. By confirming the information output from the
<変形例>
本実施形態において、異常判断部120は、異常有基板を異常に基づいて分類する処理を行わなくてもよい。図11は、第1実施形態の変形例の基板検査装置10により実行される処理の流れを例示するフローチャートである。
<Modification example>
In the present embodiment, the
図11のS402〜S406、およびS410の処理は、それぞれ、図3のS102〜S106およびS110の処理と同様である。S406の処理において、検査対象基板について異常が検出された場合(S406:YES)、本変形例の異常判断部120は、基板検査装置10に接続されたディスプレイなどの出力用機器を介して、検査対象基板の異常を通知する(S408)。例えば、異常判断部120は、検査対象基板が異常有基板か否かを示す情報、検査対象基板において検出された異常の種類(汚れや異物の付着、クラック、傷、欠けまたは凹凸など)を示す情報、または、異常の検出位置を示す情報などを、出力用機器を介して通知する。
The processes of S402 to S406 and S410 in FIG. 11 are the same as the processes of S102 to S106 and S110 of FIG. 3, respectively. When an abnormality is detected in the substrate to be inspected in the process of S406 (S406: YES), the
本変形例では、S20の検査工程において基板検査装置10が検査対象基板の異常を検出した場合、当該検出された異常に関する情報が出力用機器を介して通知される。出力用機器を介して通知される情報は、製品基板の検査業務に携わる人物が、検査対象基板に異常があるか否かを判断したり、検査対象基板で検出された異常の種類やその検出位置などを把握したりする際の手助けとなる。このような情報により、異常のある検査対象基板に対する後処理を円滑に進める効果が見込める。
In this modification, when the
[第2実施形態]
本実施形態は、以下で説明する点を除き、上述の第1実施形態と同様である。
[Second Embodiment]
The present embodiment is the same as the first embodiment described above, except for the points described below.
<機能構成例>
図4は、第2実施形態に係る基板検査装置10の機能構成を示す図である。図4に示されるように、本実施形態の基板検査装置10は、第1実施形態の構成に加えて、後処理特定部130を更に備える。後処理特定部130は、異常有基板に対して実行すべき後処理を、異常判断部120において分類されたグループを用いて特定する。
<Function configuration example>
FIG. 4 is a diagram showing a functional configuration of the
ここで、異常有基板に対して実行すべき後処理は、例えば、以下に分類されるような処理の少なくともいずれか1つを含む。
(a)異常有基板をそのまま製品基板とする
(b)異常有基板に付着する異物を除去して製品基板とする
(c)異常有基板の異常(傷や反りなど)を修復して製品基板とする
(d)異常有基板を不合格品として廃棄する
なお、ここで「製品基板」とは、合格品として出荷される製品のことを意味する。
Here, the post-processing to be performed on the abnormal substrate includes, for example, at least one of the processes classified as follows.
(A) Use the abnormal substrate as it is (b) Remove foreign matter adhering to the abnormal substrate to make it a product substrate (c) Repair the abnormality (scratch, warp, etc.) of the abnormal substrate and use it as the product substrate (D) Discard the abnormal substrate as a rejected product. Here, the “product substrate” means a product shipped as a accepted product.
上記(a)の後処理は、異常があると判断された検査対象基板を、後処理を行わずに、そのまま合格品として出荷工程に進める処理である。異常有基板が「基板に実在しない異常」に対応するグループのみに分類されている場合、後処理特定部130は、上記(a)の後処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。
The post-treatment of (a) above is a process of advancing the inspection target substrate determined to have an abnormality to the shipping process as it is as a passing product without performing post-treatment. When the board with anomaly is classified only into the group corresponding to "abnormality that does not actually exist on the board", the
上記(b)の後処理は、検査対象基板の異常を解消する処理の1つであり、例えば、所定のガス(窒素ガスや炭酸ガスなど)または液体(純水など)による、基板に付着した汚れや異物の洗浄除去工程を含む。異常有基板が「基板表面の汚れや異物による異常」に対応するグループに分類された場合、後処理特定部130は、上記(b)の後処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。
The post-treatment of (b) above is one of the treatments for eliminating the abnormality of the substrate to be inspected, and is attached to the substrate by, for example, a predetermined gas (nitrogen gas, carbon dioxide gas, etc.) or liquid (pure water, etc.). Includes cleaning and removal steps for dirt and foreign matter. When the abnormal substrate is classified into the group corresponding to "abnormality due to dirt or foreign matter on the substrate surface", the
上記(c)の後処理は、検査対象基板の異常を解消する処理の1つであり、例えば、加熱または研磨による修復工程を含む。例えば、洗浄では取れない、セラミックス基板上のこびりついた汚れや異物、軽度の傷、乾燥シミ等は、研磨処理によって修復することが可能である。また、セラミックス基板などに生じた反りは、軽度のものであれば、加熱処理によって修復することが可能である。また、基板表面上に生じた傷、欠け、または凹凸は、軽度のものであれば、研磨処理によって修復することが可能である。異常有基板が「基板表面に生じた修復可能な異常」に対応するグループに分類された場合、後処理特定部130は、上記(c)の後処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。後処理特定部130は、異常有基板の異常の種類として、加熱処理で修復可能な「反り」などの異常のみを含むか、研磨処理で修復可能な「傷、欠けまたは凹凸」などの異常のみを含むか、或いはその双方を含むかに応じて、「加熱処理」および「研磨処理」のいずれか、或いは、それら両方を、「異常有基板に対して実行すべき後処理」として決定するように構成されていてもよい。
The post-treatment of (c) above is one of the treatments for eliminating the abnormality of the substrate to be inspected, and includes, for example, a repair step by heating or polishing. For example, sticky stains and foreign substances on the ceramic substrate, minor scratches, dry stains, etc. that cannot be removed by cleaning can be repaired by polishing treatment. Further, if the warp generated in the ceramic substrate or the like is mild, it can be repaired by heat treatment. In addition, scratches, chips, or irregularities generated on the surface of the substrate can be repaired by polishing if they are mild. When the abnormal substrate is classified into the group corresponding to "repairable abnormality occurring on the substrate surface", the
また、上記(c)の後処理として、上述の加熱処理や研磨処理のほか、形成された回路パターンの保護メッキを剥離した上で再度メッキを施す処理が含まれていてもよい。この場合、識別器122は、例えば、メッキの密着不良、膜厚バラツキ、メッキ面の面荒れ、メッキ液残渣のシミ不良といったメッキ部位の異常に関する学習用データセットを用いて機械学習を行い、メッキ部位の異常を検出可能に構築される。そして、識別器122に検査対象基板の画像を入力した結果、その検査対象基板が異常有基板と判断され、当該基板が有する異常の種類として「メッキ部位の異常」を示す出力が得られた場合、異常判断部120はその基板を「基板表面に生じた修復可能な異常」に対応するグループに分類する。後処理特定部130は、異常有基板が「基板表面に生じた修復可能な異常」に対応するグループに分類された場合、保護メッキを剥離した上で再度メッキを施す処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。
Further, as the post-treatment of (c) above, in addition to the above-mentioned heat treatment and polishing treatment, a treatment of peeling off the protective plating of the formed circuit pattern and then re-plating may be included. In this case, the
上記(d)の後処理は、異常があると判断された検査対象基板を、不合格品として廃棄処分とする処理である。異常有基板が「基板表面に生じた修復不可能な異常」に対応するグループに分類されている場合、後処理特定部130は、上記(d)の後処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。
The post-treatment of (d) above is a treatment of disposing of the inspection target substrate, which is determined to have an abnormality, as a rejected product. When the abnormal substrate is classified into the group corresponding to the "irreparable abnormality occurring on the substrate surface", the
また、異常有基板に対して実行すべき後処理は、上記(a)乃至(d)の処理に限定されない。例えば、異常有基板を他の基板の原料として再利用する処理が、異常有基板に対して実行すべき後処理として含まれていてもよい。異常有基板を他の基板の原料として再利用する処理とは、具体的には、セラミックス基盤部分を解砕して回収したセラミックス骨材を、別のセラミックス基板の材料として再利用する処理や、セラミックス回路基板の金属部分を溶解させて回収した金属を用いて、新たな金属板を生成する処理などである。後処理特定部130は、異常有基板が「基板表面に生じた修復不可能な異常」に対応するグループに分類されている場合、上述の(d)の処理(基板の廃棄処理)に代えて、異常有基板を他の基板の原料として再利用する処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定してもよい。
Further, the post-processing to be performed on the abnormal substrate is not limited to the above-mentioned processes (a) to (d). For example, a process of reusing the abnormal substrate as a raw material for another substrate may be included as a post-processing to be performed on the abnormal substrate. The process of reusing an abnormal substrate as a raw material for another substrate is specifically a process of reusing a ceramic aggregate recovered by crushing a ceramic substrate portion as a material of another ceramic substrate. This is a process of forming a new metal plate by using the metal recovered by melting the metal part of the ceramic circuit board. When the
<処理の流れ>
図5を用いて、本実施形態の基板検査装置10により実行される処理について説明する。図5は、第2実施形態の基板検査装置10により実行される処理の流れを例示するフローチャートである。図5に示される処理は、図3のS108の処理の後に実行される。
<Processing flow>
The process executed by the
後処理特定部130は、S108の処理で特定された異常有基板のグループに関する情報に基づいて、当該異常有基板に対して実行すべき後処理を決定する(S202)。
The
後処理特定部130は、例えば、図6に示されるような情報を用いて、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理を決定することができる。図6は、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理を決定する際に用いられる情報の一例を示す図である。図6には、異常判断部120の処理結果に応じて実行すべき後処理を定義するテーブルが描かれている。具体的には、異常判断部120の処理結果として、分類されたグループを示す情報毎に、実行すべき後処理を示す情報(後処理情報)が紐付けられている。例えば、異常判断部120が、S108の処理において、異常有基板をグループBに分類した場合、後処理特定部130は、図6に例示される情報を用いて、「洗浄除去処理」を当該異常有基板に対して実行すべき後処理として決定することができる。
The
そして、後処理特定部130は、異常有基板に対して実行すべき後処理を示す情報を、例えば基板検査装置10に接続されたディスプレイやランプなどを介して、製品基板の検査業務に携わる人物に通知する(S204)。例えば、後処理特定部130は、検査対象基板に対して実行すべき後処理を通知するメッセージ(例:「洗浄除去処理を行ってください」など)をディスプレイに表示させる。
Then, the
以上、本実施形態では、異常判断部120による異常有基板のグループの分類結果に基づいて、その異常有基板に対して実行すべき後処理が決定される。そして、異常有基板に対して実行すべき後処理を示す情報が、製品基板の検査業務に携わる人物に対して通知される。製品基板の検査業務に携わる人物は、本実施形態の基板検査装置10から出力される情報を確認することによって、異常有と判断された検査対象基板に対してどのような後処理を行なえばよいかを即座に判断することができる。その結果として、製品基板の検査業務の効率化が図れる。
As described above, in the present embodiment, the post-processing to be performed on the abnormal substrate is determined based on the classification result of the group of the abnormal substrate by the
<第1の変形例>
ここで、検査対象基板に複数種類の異常が存在する場合、その基板に存在する異常の種類によって、当該基板が複数のグループに分類されることもある。例えば、識別器122に検査対象基板の画像を入力した結果、その検査対象基板が異常有基板と判断され、当該基板が有する異常の種類として「基板の汚れや異物による異常」および「基板表面に生じた修復可能な異常」を示す出力が得られたとする。この場合、異常判断部120は、識別器122の出力に基づいて、異常有基板を「基板の汚れや異物による異常」に対応するグループ、および、「基板表面に生じた修復可能な異常」に対応するグループに分類する。そして、後処理特定部130は、「基板の汚れや異物による異常」に対応するグループに対応する上記(b)の後処理と、「基板表面に生じた修復可能な異常」に対応するグループに対応する上記(c)の後処理を、異常有基板に対して実行すべき後処理として決定する。
<First modification>
Here, when a plurality of types of abnormalities are present on the substrate to be inspected, the substrate may be classified into a plurality of groups depending on the types of abnormalities existing on the substrate. For example, as a result of inputting an image of the substrate to be inspected into the
この場合において、各グループに優先順位を示す情報を紐付けておくことで、後処理特定部130は、複数の後処理の実行順序を決定することができる。後処理特定部130は、例えば図7に示すような情報を用いて、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理の実行銃所を特定することができる。図7は、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理を決定する際に用いられる情報の一例を示す図である。例えば、検査対象基板の画像を識別器122に入力した結果、当該基板が「グループB」および「グループC」に分類された場合、後処理特定部130は、図7に例示される情報に基づいて、「洗浄除去処理」および「修復処理」を、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理として決定することができる。更に、後処理特定部130は、図7に例示される情報のうち、グループBおよびグループCに対して紐付けられている優先順位を示す情報に基づいて、後処理の実行順序を決定することができる。この場合、後処理特定部130は、「洗浄除去処理」、「修復処理」の順序を、後処理の実行順序として決定する。そして、後処理特定部130は、異常有と判断された検査対象基板に対して実行すべき後処理を示す情報に、実行順序を示す情報を付加して、製品基板の検査業務に携わる人物に通知する。例えば、後処理特定部130は、検査対象基板に対して実行すべき後処理と後処理の実行順序を通知するメッセージ(例:「洗浄除去処理の後、修復処理を行ってください」など)をディスプレイに表示させる。
In this case, by associating each group with information indicating the priority order, the
本変形例の構成によれば、製品基板の検査業務にあたる人物が、異常ありと判断された検査対象基板に対してどのような順序で後処理を行なえばよいかを、容易に判断することができる。これにより、製品検査業務の更なる効率化が見込める。 According to the configuration of this modification, it is possible for a person who inspects the product substrate to easily determine in what order the post-processing should be performed on the inspection target substrate judged to have an abnormality. it can. As a result, further efficiency of product inspection work can be expected.
<第2の変形例>
本実施形態において、例えば、複数のグループ各々に優先順位が設定されており、後処理特定部130は、グループ毎に設定された優先順位に基づいて、異常有基板に対して実行すべき後処理として、一の後処理を特定するように構成されていてもよい。例えば、ある特定の後処理が他の後処理を包含する関係にある場合には、前者の後処理の優先順位が後者の後処理の優先順位よりも高くなる。具体的な例として、検査対象基板が「修復処理」に対応するグループと「洗浄処理」に対応するグループとに分類されるケースを挙げる。ここで、研磨や再メッキなどの修復処理では、作業時に汚れやカス等が別途付着する可能性があるため、そのような汚れやカスを除去するために必ず基板の洗浄作業をセットで行うことになる。この場合、修復処理の中に洗浄処理が含まれているとも言える。そのため、異常判断部120が検査対象基板の画像を基に異常を判断した結果、当該検査対象基板が「修復処理」に対応するグループと「洗浄処理」に対応するグループに分類された場合、少なくとも修復処理を実行すれば、結果的に、洗浄処理も実行できることになる。このような場合に、例えば図7に示すように、修復処理に対応するグループの優先順位を、洗浄処理に対応するグループの優先順位よりも高く設定しておくことで、後処理特定部130は、当該図7に示される情報を用いて、「修復処理」と「洗浄処理」のうち、より優先順位の高い「修復処理」を実行すべきと判断することができる。図7に例示されるような情報は、例えば、メモリ1030やストレージデバイス1040など、後処理特定部130がアクセス可能な記憶領域に予め記憶される。このような構成により、後処理を含む作業の効率を向上させる効果が見込める。
<Second modification>
In the present embodiment, for example, priorities are set for each of a plurality of groups, and the post-processing
[第3実施形態]
本実施形態は、以下で説明する点を除き、上述の第1実施形態と同様である。
[Third Embodiment]
The present embodiment is the same as the first embodiment described above, except for the points described below.
<機能構成例>
図8は、第3実施形態に係る基板検査装置10の機能構成を例示する図である。図8に示されるように、本実施形態において、異常判断部120は、複数の識別器122を有する。これら複数の識別器122の各々は、属性別に収集された複数の学習用のデータセット(基板に生じた異常の画像とその異常の種類を識別する情報の組み合わせ)を用いて、属性別に構築されている。
<Function configuration example>
FIG. 8 is a diagram illustrating the functional configuration of the
ここで、基板の属性は、例えば、基板の種類(例えば基板材料に基づく種類や、セラミックス基板やセラミックス回路基板といった基板の構成に基づく種類など)、または、その基板を製造した場所(例えば、工場または工場内のラインなど)である。但し、基板の属性は、基板に生じる異常の種類に影響を及ぼし得るものであれば、特に限定されない。 Here, the attributes of the substrate are, for example, the type of the substrate (for example, the type based on the substrate material, the type based on the configuration of the substrate such as the ceramic substrate or the ceramic circuit board), or the place where the substrate is manufactured (for example, the factory). Or a line in the factory, etc.). However, the attributes of the substrate are not particularly limited as long as they can affect the type of abnormality occurring on the substrate.
本実施形態において、異常判断部120は、検査対象基板の属性を示す情報(以下、「基板属性情報」とも表記)を取得する。そして、異常判断部120は、当該基板属性情報が示す属性に対応する識別器122を、「検査対象基板の異常の有無を判断する際に利用する識別器」として特定する。そして、異常判断部120は、特定した識別器122を用いて、検査対象基板の異常の有無を判断する。
In the present embodiment, the
<処理の流れ>
図9を用いて、本実施形態の基板検査装置10により実行される処理の流れについて説明する。図9は、第3実施形態の基板検査装置10により実行される処理の流れを示すフローチャートである。
<Processing flow>
The flow of processing executed by the
まず、異常判断部120は、検査対象基板のデータ(基板属性情報)を取得する(S302)。例えば、異常判断部120は、基板検査装置10に接続された入力装置(キーボードやタッチパネル)を介して、検査対象基板の種類や製造場所を示す情報(基板属性情報)の入力を受け付ける。
First, the
異常判断部120は、入力された基板属性情報が示す属性に対応する識別器を、複数の識別器122の中から選択する(S304)。例えば、異常判断部120は、識別器毎に対応する属性を記憶するテーブル(例:図10)を用いて、S302の処理で取得した基板属性情報が示す属性に対応する識別器を選択することができる。図10は、識別器とその識別器に対応する属性とを紐付ける情報の一例を示す図である。図10に例示される情報は、例えば、メモリ1030やストレージデバイス1040などの記憶領域に予め記憶されている。例えば、基板属性情報によって示される属性が「セラミックス基板」である場合、異常判断部120は、図10に例示されるような情報に基づいて、異常判断部120は、セラミックス基板の検査用に構築された識別器Aを選択する。また、基板属性情報によって示される属性が「セラミックス回路基板」である場合、異常判断部120は、図10に例示されるような情報に基づいて、セラミックス回路基板の検査用に構築された識別器Bを選択する。また、基板属性情報によって示される属性が「セラミックス基板」でも「セラミックス回路基板」でもない場合、異常判断部120は、図10に例示されるような情報に基づいて、汎用的に構築された識別器Cを選択する。
The
その後、画像取得部110により検査対象基板の画像が取得されると(S306)、異常判断部120は、当該検査対象基板の画像をS304の処理で選択された識別器122に入力する(S308)。そして、異常判断部120は、検査対象基板の画像を入力することで識別器122から得られる出力結果に基づいて、異常判断部120は、検査対象基板が異常有基板か否かを判別する(S310)。検査対象基板について異常が検出された場合(S310:YES)、異常判断部120は、異常があると判断された検査対象基板(異常有基板)について、その基板の分類先のグループを識別器122の出力結果(異常の種類)に基づいて特定する(S312)。そして、異常判断部120は、S312の処理で特定したグループに関する情報を、例えば基板検査装置10に接続されたディスプレイやランプなどを介して、製品基板の検査業務に携わる人物に通知する(S314)。一方、検査対象基板について異常が検出されなかった場合(S310:NO)、異常判断部120は、検査対象基板を合格品として判定する(S316)。合格品と判定された基板は、梱包作業を経て、製品として出荷される。S306からS316までの処理の流れは、図3のS102からS112までの処理の流れと同様である。
After that, when the
以上、本実施形態では、検査対象基板の属性毎に識別器を切り替えて、その基板の異常の有無が判断される。ここで、基板の属性は、その基板に生じ得る異常の種類に影響を与え得る。例えば、基板の材料や構成によって、生じる異常の種類や傾向は変わってくる。また、製造場所で使用している製造用機械には個体差が少なからずあり、基板に生じる異常の種類や傾向は、製造用機械毎に異なる可能性がある。そこで、本実施形態で説明したように、検査対象基板の属性に合った識別器を適宜選択することにより、その基板の異常の有無を判別する精度を向上させる効果が見込める。 As described above, in the present embodiment, the classifier is switched for each attribute of the substrate to be inspected, and the presence or absence of abnormality in the substrate is determined. Here, the attributes of the substrate can affect the types of anomalies that can occur on the substrate. For example, the types and tendencies of abnormalities that occur vary depending on the material and composition of the substrate. In addition, there are considerable individual differences in the manufacturing machines used at the manufacturing site, and the types and tendencies of abnormalities that occur on the substrate may differ from one manufacturing machine to another. Therefore, as described in the present embodiment, by appropriately selecting a classifier that matches the attributes of the substrate to be inspected, the effect of improving the accuracy of determining the presence or absence of abnormality in the substrate can be expected.
10 基板検査装置
110 画像取得部
120 異常判断部
122 識別器
130 後処理特定部
1010 バス
1020 プロセッサ
1030 メモリ
1040 ストレージデバイス
1050 入出力インタフェース
1052 撮像装置
1054 入出力用機器
1060 ネットワークインタフェース
10
Claims (14)
前記複数の画像を、機械学習によって生成された識別器を用いて処理することにより、
前記基板の異常の有無を判断する異常判断部と、
を備える基板検査装置。 An image acquisition unit that acquires multiple images generated by shooting the board under different conditions,
By processing the plurality of images using a classifier generated by machine learning,
An abnormality determination unit that determines the presence or absence of an abnormality on the substrate,
A substrate inspection device equipped with.
請求項1に記載の基板検査装置。 The abnormality determination unit classifies the abnormal substrate, which is the substrate determined to have an abnormality, into a plurality of groups.
The substrate inspection apparatus according to claim 1.
請求項2に記載の基板検査装置。 A post-processing identification unit is provided, which specifies the post-processing to be performed on the abnormal substrate by using the classified group.
The substrate inspection apparatus according to claim 2.
前記後処理特定部は、前記優先順位に基づいて、前記異常有基板に対して実行すべき後処理として、一の後処理を特定する、
請求項3に記載の基板検査装置。 Priority is set for each of the plurality of groups.
The post-processing specifying unit specifies one post-processing as the post-processing to be performed on the abnormal substrate based on the priority.
The substrate inspection apparatus according to claim 3.
前記後処理特定部は、前記優先順位に基づいて、前記異常有基板に対して実行すべき後処理の実行順序を決定する、
請求項3に記載の基板検査装置。 Priority is set for each of the plurality of groups.
The post-processing specifying unit determines the execution order of post-processing to be executed on the abnormal substrate based on the priority.
The substrate inspection apparatus according to claim 3.
前記異常有基板が有する異常の種類を識別し、
当該異常の種類に基づいて前記異常有基板が属するグループを判別する、
請求項2から5のいずれか1項に記載の基板検査装置。 The abnormality determination unit
Identify the type of abnormality that the substrate with abnormality has,
The group to which the abnormal substrate belongs is determined based on the type of the abnormality.
The substrate inspection apparatus according to any one of claims 2 to 5.
前記基板がセラミック基板である場合、クラック、汚れ・異物の存在、傷、欠け、または凹凸を、前記基板の異常として判別し、
前記基板が回路基板である場合、表面の汚れ、傷、または凹凸を、前記基板の異常として判別する、
請求項1から6のいずれか1項に記載の基板検査装置。 The abnormality determination unit
When the substrate is a ceramic substrate, cracks, presence of dirt / foreign matter, scratches, chips, or irregularities are determined as abnormalities of the substrate.
When the board is a circuit board, dirt, scratches, or irregularities on the surface are determined as abnormalities on the board.
The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 6.
請求項1から7のいずれか1項に記載の基板検査装置。
(a)前記異常有基板を製品基板とする
(b)前記異常有基板に付着する異物を除去して製品基板とする
(c)前記異常有基板の異常を修復して製品基板とする
(d)前記異常有基板を不合格品として廃棄する The post-processing to be performed on the abnormal substrate, which is the substrate determined to have an abnormality, includes any one of (a) to (d) described below.
The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 7.
(A) Use the abnormal substrate as a product substrate (b) Remove foreign matter adhering to the abnormal substrate to make a product substrate (c) Repair the abnormality of the abnormal substrate to make a product substrate (d) ) Discard the abnormal board as a rejected product.
請求項8に記載の基板検査装置。 The post-treatment of (b) includes a step of cleaning and removing foreign substances with a predetermined gas or liquid.
The substrate inspection apparatus according to claim 8.
請求項8または9に記載の基板検査装置。 The post-treatment of (c) includes a repair step by heat or polishing.
The substrate inspection apparatus according to claim 8 or 9.
前記異常判断部は、
前記基板の属性を示す基板属性情報を取得し、当該基板属性情報が示す属性に対応する識別器を用いて、前記基板の異常の有無を判断する、
請求項1から10のいずれか1項に記載の基板検査装置。 The classifier is constructed for each attribute using learning data according to the attribute of the substrate.
The abnormality determination unit
The board attribute information indicating the attribute of the board is acquired, and the presence or absence of an abnormality of the board is determined by using the classifier corresponding to the attribute indicated by the board attribute information.
The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 10.
請求項1から11のいずれか1項に記載の基板検査装置。 The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 11, wherein the attributes of the substrate include at least one of the type of the substrate and the place where the substrate is manufactured.
基板を異なる条件で撮影して生成された、複数の画像を取得し、
前記複数の画像を、機械学習によって生成された識別器を用いて処理することにより、
前記基板の異常の有無を判断する、
ことを含む基板検査方法。 The computer
Acquire multiple images generated by shooting the board under different conditions,
By processing the plurality of images using a classifier generated by machine learning,
Judging whether or not there is an abnormality in the substrate,
Substrate inspection method including.
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