JP2020127024A - Wiring board and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

To provide a wiring board that prevents disconnection of a side conductor on an inside surface of a castellation.SOLUTION: A wiring board 202 has an insulating substrate that includes a first insulating layer 101b and a second insulating layer 101a, a first castellation that is formed from a first principal surface 103 to a side face, and a side conductor 109 that is adhered to an inside surface of the first castellation. At least a portion of the inside surface of the first castellation to which the side conductor 109 is adhered becomes narrower from an end facing a second principal surface 104 toward an end facing the first principal surface 103, and the second insulating layer 101a is located on the end facing the second principal surface 104 of the side conductor 109. The insulating substrate has a second castellation on the second principal surface 104, and the width thereof facing the second principal surface 104 is larger than the width thereof facing the first principal surface 103.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、配線基板および電子装置に関するものである。 The present invention relates to a wiring board and an electronic device.

従来、半導体素子や弾性表面波素子等の電子部品を搭載するために用いられる配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミック焼結体等のセラミック焼結体からなる絶縁基板に、電子部品を搭載するための搭載部を有している。搭載部に電子部品が搭載されたのちに、絶縁基板上に蓋体が接合されて搭載部が気密に封止される。 Conventionally, a wiring board used for mounting electronic components such as semiconductor elements and surface acoustic wave elements is an insulating substrate made of a ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body or a glass ceramic sintered body. It has a mounting part for mounting. After the electronic component is mounted on the mounting portion, the lid is joined to the insulating substrate to hermetically seal the mounting portion.

このような配線基板は、一般に、1枚の広面積の母基板から複数個の配線基板を同時集約的に得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作されている。多数個取り配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板に複数の配線基板領域が縦横に配列されている。配線基板領域の境界に沿って、母基板の上面等の主面に分割溝が形成されている。この分割溝を挟んで母基板に曲げ応力が加えられて母基板が破断することによって、個片の配線基板に分割される。分割溝は、例えば未焼成の母基板の上面および下面に、配線基板領域の外周に沿ってカッター刃等を用いて所定の深さで切り込みを入れることによって形成される(特許文献1を参照)。 Such a wiring board is generally manufactured in the form of a so-called multi-cavity wiring board in which a plurality of wiring boards are simultaneously and collectively obtained from one large-area mother board. In the multi-cavity wiring board, a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on a mother board made of, for example, an aluminum oxide sintered body. Dividing grooves are formed on the main surface such as the upper surface of the mother board along the boundary of the wiring board region. A bending stress is applied to the mother board across the dividing groove to break the mother board, whereby the mother board is divided into individual wiring boards. The dividing grooves are formed, for example, by making a notch on the upper surface and the lower surface of the unbaked mother substrate along the outer periphery of the wiring substrate region with a predetermined depth using a cutter blade or the like (see Patent Document 1). ..

配線基板領域の境界には貫通孔が設けられ、貫通孔の内側面には隣り合う配線基板領域の間で、それぞれの配線導体同士を互いに電気的に接続するための導体層(側面導体)が設けられている。この側面導体によって、複数の配線基板領域の配線導体が互いに電気的に接続されている。これにより、例えば複数の配線基板領域の配線導体を一体的にまとめて、保護用等の電解めっきを施すことができる。 Through holes are provided at the boundaries of the wiring board regions, and conductor layers (side surface conductors) for electrically connecting the respective wiring conductors to each other are provided on the inner side surfaces of the through holes between the adjacent wiring board regions. It is provided. The side surface conductors electrically connect the wiring conductors in the plurality of wiring board regions to each other. Thereby, for example, the wiring conductors in a plurality of wiring board regions can be integrated and subjected to electrolytic plating for protection or the like.

近年、配線基板は小さなものとなってきており、例えば縦横の寸法が1.6×1.2mmの大きさのものが製作されている。この配線基板の小型化に応じて、多数個取り配線基板における配線基板領域も小さくなってきている。このような小型化が著しい配線基板領域が配列された多数個取り配線基板においては、機械的な加工の精度等の理由により、未焼成の状態で、隣り合う配線基板領域の境界にカッター刃を用いて分割溝を設けることが難しい。そこで、位置精度に優れるレーザー加工によって分割溝を成形する方法が提案されている(特許文献2を参照)。 In recent years, wiring boards have become smaller, and for example, one having a size of 1.6×1.2 mm in length and width is manufactured. Along with the miniaturization of this wiring board, the wiring board area in the multi-cavity wiring board is also becoming smaller. In such a multi-cavity wiring board in which wiring board areas that are remarkably miniaturized are arranged, a cutter blade is placed at the boundary between adjacent wiring board areas in an unfired state due to reasons such as the accuracy of mechanical processing. It is difficult to provide a dividing groove by using it. Therefore, a method has been proposed in which the dividing groove is formed by laser processing with excellent positional accuracy (see Patent Document 2).

特開2006−5035号公報JP 2006-5035 JP 特開2012−81647号公報JP 2012-81647 JP

しかし、従来の技術の多数個取り配線基板については、次のような不具合が生じる可能性があった。すなわち、レーザー加工によって母基板の各配線基板領域の境界に分割溝が形成される際に、この貫通孔内の側面導体の一部が切断される可能性がある。この場合、例えば溝を形成した後に電解めっきを施すときに、複数の配線基板領域の少なくとも一部で、配線導体にめっき層が被着されないという問題が生じる可能性があった。 However, the following problems may occur in the conventional multi-cavity wiring board. That is, when the dividing groove is formed at the boundary of each wiring board region of the mother board by laser processing, there is a possibility that a part of the side surface conductor in this through hole is cut. In this case, for example, when electrolytic plating is performed after forming the groove, there is a possibility that a plating layer is not deposited on the wiring conductor in at least a part of the plurality of wiring board regions.

本発明の一つの態様の配線基板は、第1主面を有する第1絶縁層および該第1主面と相
対する第2主面を有する第2絶縁層を含む絶縁基板と、前記第1主面から側面にかけて形成された第1キャスタレーションと、該第1キャスタレーションの内側面に被着された側面導体とを有しており、前記第1キャスタレーションのうち少なくとも前記内側面に前記側面導体が被着された部分は、前記第2主面側の端部から前記第1主面側の端部にかけて内側に狭まっており、前記第2絶縁層は、前記側面導体における前記第2主面側の端部上に位置しており、前記絶縁基板が前記第2主面に第2キャスタレーションを有しており、該第2キャスタレーションは前記第1キャスタレーションと連通しているとともに、前記第2主面側の幅が前記第1主面側の幅よりも大きい。また、第1主面を有する第1絶縁層および該第1主面と相対する第2主面を有する第2絶縁層を含む絶縁基板と、前記第1主面から側面にかけて形成された第1キャスタレーションと、該第1キャスタレーションの内側面に被着された側面導体とを有しており、前記第1キャスタレーションのうち少なくとも前記内側面に前記側面導体が被着された部分は、前記第2主面側の端部から前記第1主面側の端部にかけて内側に狭まっており、前記第2絶縁層は、前記側面導体における前記第2主面側の端部上に位置しており、前記側面導体は、前記第2主面側の端部において、前記第1主面側の端部よりも厚い。
A wiring board according to one aspect of the present invention includes an insulating substrate including a first insulating layer having a first main surface and a second insulating layer having a second main surface opposite to the first main surface; A first castellation formed from a surface to a side surface; and a side surface conductor attached to an inner side surface of the first castellation, wherein the side surface conductor is provided on at least the inner side surface of the first castellation. The portion to which is adhered is narrowed inward from the end portion on the second main surface side to the end portion on the first main surface side, and the second insulating layer is the second main surface of the side surface conductor. Is located on an end on the side, the insulating substrate has a second castellation on the second major surface, the second castellation being in communication with the first castellation, and The width on the second main surface side is larger than the width on the first main surface side. Also, an insulating substrate including a first insulating layer having a first main surface and a second insulating layer having a second main surface facing the first main surface, and a first substrate formed from the first main surface to the side surface. A castellation and a side surface conductor attached to the inner side surface of the first castellation, and a portion of the first castellation where the side surface conductor is attached to at least the inner side surface is The second insulating layer is narrowed inward from the end portion on the second main surface side to the end portion on the first main surface side, and the second insulating layer is located on the end portion on the second main surface side in the side surface conductor. The side conductor is thicker at the end on the second main surface side than at the end on the first main surface side.

本発明の一つの態様の電子装置は、上記構成の配線基板と、該配線基板に搭載された電子部品とを有している。 An electronic device according to one aspect of the present invention includes the wiring board having the above-described configuration and an electronic component mounted on the wiring board.

本発明の一つの態様の配線基板によれば、側面導体の断線が抑制された配線基板を提供することができる。すなわち、第1キャスタレーションが第2主面側の端部から第1主面側の端部にかけて内側に狭まっている構造となっている。言い換えれば、第1主面側から見たときに、第1孔部内の側面導体が母基板の第1主面側に隠れて見えにくい。よって、レーザー加工により母基板の各配線基板領域の境界に形成されたキャスタレーションとなる孔部を跨いで分割溝を形成する際に、第1孔部内の側面導体にレーザーが照射され難く側面導体の断線が抑制される。 According to the wiring board of one aspect of the present invention, it is possible to provide a wiring board in which disconnection of the side surface conductor is suppressed. That is, the structure is such that the first castellation is narrowed inward from the end on the second main surface side to the end on the first main surface side. In other words, when viewed from the first main surface side, the side surface conductor in the first hole is hidden behind the first main surface side of the mother substrate and is difficult to see. Therefore, when the split groove is formed across the hole for castellation formed at the boundary of each wiring board region of the mother board by laser processing, it is difficult for the side surface conductor in the first hole portion to be irradiated with laser, and thus the side surface conductor. Is prevented.

本発明の一つの態様の電子装置によれば、上記構成の配線基板を有することから、側面導体の断線が抑制された電子装置を提供することができる。 According to the electronic device of one aspect of the present invention, it is possible to provide the electronic device in which the disconnection of the side surface conductor is suppressed because the electronic device has the wiring board having the above configuration.

(a)は本発明の実施形態の配線基板を含む多数個取り配線基板における要部を示す上面図であり、(b)は(a)のX−X’線における断面図である。(A) is a top view which shows the principal part in the multi-cavity wiring board containing the wiring board of embodiment of this invention, (b) is sectional drawing in the X-X' line of (a). (a)は、本発明の実施形態の配線基板を示す上面図であり、(b)はその下面図である。(A) is a top view which shows the wiring board of embodiment of this invention, (b) is the bottom view. 図1に示す配線基板を含む多数個取り配線基板の要部をさらに拡大して示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing further enlarged main parts of a multi-cavity wiring board including the wiring board shown in FIG. 1. 本発明の他の実施形態の配線基板を含む多数個取り配線基板を示す要部を拡大した断面図である。It is sectional drawing which expanded the principal part which shows the multi-cavity wiring board containing the wiring board of other embodiment of this invention. (a)〜(e)は、本発明の実施形態の配線基板を含む多数個取り配線基板の製造方法を示す断面図である。(A)-(e) is sectional drawing which shows the manufacturing method of the multi-cavity wiring board containing the wiring board of embodiment of this invention.

本発明の配線基板および電子装置について、添付の図面を参照しつつ説明する。 A wiring board and an electronic device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1(a)は、本発明の実施形態の配線基板を含む多数個取り配線基板における要部を示す上面図であり、図1(b)は、図1(a)のX−X’線における断面図である。また、図2は、本発明の実施形態の配線基板を示す上面図であり、(b)はその下面図である。また、図3は、図1に示す配線基板を含む多数個取り配線基板の要部をさらに拡大して
示す断面図である。また、図4(a)は、図1に示す配線基板を含む多数個取り配線基板の第1の変形例における要部を拡大して示す断面図であり、図4(b)はその下面図である。実施形態の多数個取り配線基板は、例えば図1に示すような部分がさらに多数個連結されたものでもよい。
1A is a top view showing a main part of a multi-cavity wiring board including a wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a line XX′ of FIG. 1A. FIG. 2 is a top view showing a wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2(b) is a bottom view thereof. Further, FIG. 3 is a cross-sectional view further enlarging a main part of a multi-cavity wiring board including the wiring board shown in FIG. 4(a) is an enlarged cross-sectional view showing a main part of a first modified example of a multi-cavity wiring board including the wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 4(b) is a bottom view thereof. Is. The multi-cavity wiring board of the embodiment may be a multi-cavity wiring board in which a larger number of parts as shown in FIG. 1 are connected.

実施形態の多数個取り配線基板において、母基板101に複数の配線基板領域102が配列されている。母基板101は、第1主面103および第2主面104を有している。配線基板領域102の境界105に沿って分割溝106が設けられている。分割溝106が設けられている部分におい
て、母基板101は貫通孔(符号なし)を有している。貫通孔は、第1孔部107および第2孔部108を有している。第1孔部107の内側面には側面導体109が設けられている。各配線基
板領域102において、母基板101の上面には電子部品を収容する凹状の搭載部110が設けら
れている。搭載部110の底面には接続導体111が設けられている。また、多数個取り配線基板は他の導体部分として補助導体112、配線導体113、枠状メタライズ層114、および外部
接続導体115等を有している。また、多数個取り配線基板の各搭載部110は、例えば蓋体等の封止材によって封止される。母基板101は、上部絶縁層101aと、上部絶縁層101aの下
に積層された下部絶縁層101bとを含んでいる。上部絶縁層101aは、搭載部110となる複数の貫通部(符号なし)を有している。下部絶縁層101bは平板状である。
In the multi-cavity wiring board of the embodiment, a plurality of wiring board regions 102 are arranged on a mother board 101. The mother substrate 101 has a first main surface 103 and a second main surface 104. A dividing groove 106 is provided along the boundary 105 of the wiring board region 102. In the portion where the dividing groove 106 is provided, the mother substrate 101 has a through hole (no reference numeral). The through hole has a first hole portion 107 and a second hole portion 108. A side surface conductor 109 is provided on the inner side surface of the first hole portion 107. In each wiring board region 102, a concave mounting portion 110 for housing an electronic component is provided on the upper surface of the mother board 101. A connection conductor 111 is provided on the bottom surface of the mounting portion 110. Further, the multi-cavity wiring board has an auxiliary conductor 112, a wiring conductor 113, a frame-shaped metallized layer 114, an external connection conductor 115 and the like as other conductor portions. Further, each mounting portion 110 of the multi-cavity wiring board is sealed with a sealing material such as a lid. The mother substrate 101 includes an upper insulating layer 101a and a lower insulating layer 101b stacked under the upper insulating layer 101a. The upper insulating layer 101a has a plurality of penetrating portions (no reference numeral) to be the mounting portion 110. The lower insulating layer 101b has a flat plate shape.

下部絶縁層101bの上面のうち上部絶縁層101aの貫通部の内側露出する部分が搭載部110の底面に相当する。また、上部絶縁層101aの貫通部は、搭載部110を囲む側壁部分に相
当する。配線基板領域102が個々に分割されて後述する個片の配線基板202になる。この個片の配線基板202のそれぞれが上面の中央部に凹状の搭載部110を有している。この搭載部110を囲む枠部は、上部絶縁層101aの貫通部を囲む枠状の部分が個片に分割されてなるものである。
A portion of the upper surface of the lower insulating layer 101b, which is exposed inside the through portion of the upper insulating layer 101a, corresponds to the bottom surface of the mounting portion 110. The penetrating portion of the upper insulating layer 101 a corresponds to the side wall portion surrounding the mounting portion 110. The wiring board region 102 is divided into individual wiring boards 202, which will be described later. Each of the individual wiring boards 202 has a concave mounting portion 110 at the center of the upper surface. The frame portion surrounding the mounting portion 110 is formed by dividing the frame-shaped portion surrounding the through portion of the upper insulating layer 101a into individual pieces.

上記のように、母基板101が配線基板領域102の境界105に沿って分割されて、例えば図
2に示すような個片の配線基板202が作製される。作製される個片の配線基板202は、下部絶縁層101bの上面に枠状の上部絶縁層101aが積層されてなる絶縁基板(符号なし)に、上記枠状メタライズ層114および配線導体113等が設けられて、基本的に構成されている。この配線基板202の搭載部110内に電子部品が実装されて電子装置(図示せず)が作製される。なお、以下の個片の配線基板202に関する説明において、上記多数個取り配線基板と
同様の部位については、特に両者区別することなく同様の符号を用いている。
As described above, the mother board 101 is divided along the boundary 105 of the wiring board region 102, and the individual wiring board 202 as shown in FIG. 2, for example, is manufactured. The individual wiring board 202 to be produced is such that the frame-shaped metallized layer 114 and the wiring conductor 113 are formed on an insulating substrate (no reference numeral) in which a frame-shaped upper insulating layer 101a is laminated on the upper surface of the lower insulating layer 101b. It is provided and basically configured. Electronic components are mounted in the mounting portion 110 of the wiring board 202 to manufacture an electronic device (not shown). In the following description of the individual wiring board 202, the same parts as those of the multi-piece wiring board are denoted by the same reference numerals without particularly distinguishing them.

母基板101は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体,ガラスセラミック焼結体,窒化ア
ルミニウム質焼結体,炭化珪素質焼結体,窒化珪素質焼結体またはムライト質焼結体等のセラミック焼結体により形成されている。
The mother substrate 101 is, for example, a ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body, a glass ceramic sintered body, an aluminum nitride sintered body, a silicon carbide sintered body, a silicon nitride sintered body or a mullite sintered body. It is formed by a united body.

なお、この実施の形態の例において、図1等に示すように母基板101の外周には、図示
しないが配列された複数の配線基板領域102を取り囲むように捨て代領域が設けられてい
る。捨て代領域は、多数個取り配線基板の取り扱いを容易とすること等のために設けられている。また、例えば捨て代領域の対向する辺部には、各配線基板領域102の配線導体113等に電解めっきを被着させるため、めっき用端子(図示せず)が設けられている。
In the example of this embodiment, as shown in FIG. 1 and the like, a discard margin region is provided on the outer periphery of the mother substrate 101 so as to surround a plurality of arranged wiring substrate regions 102 (not shown). The discarding margin area is provided for facilitating the handling of the multi-cavity wiring board. Further, for example, terminals for plating (not shown) are provided on opposite sides of the discarding margin area in order to deposit electrolytic plating on the wiring conductors 113 and the like in each wiring board area 102.

母基板101は、例えば上部絶縁層101aおよび下部絶縁層101b等が一体焼成されて作製
されている。すなわち、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等の、ガラス成分を含む原料粉末に適当な有機溶剤およびバインダーを添加してシート状に成形して複数のセラミックグリーンシートを作製し、この一部のものについて打ち抜き加工を施して複数の貫通部を形成した後、打ち抜き加工を施していない平板状のセラミックグリーンシートの上に、貫通部を形成したセラミックグリーンシートを積層し、この積層体を一体焼成すれば、上部絶縁層101aおよび下部絶縁層101bが積層されてなる母基板101を作製することができる
The mother substrate 101 is manufactured, for example, by integrally firing the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b. That is, by adding an appropriate organic solvent and a binder to a raw material powder containing a glass component such as aluminum oxide and silicon oxide, a plurality of ceramic green sheets are produced by forming into a sheet shape, and a part of this is punched. After forming a plurality of through-holes, the ceramic green sheet with through-holes is laminated on a flat ceramic green sheet that has not been punched, and the laminated body is integrally fired, The mother substrate 101 in which the insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b are stacked can be manufactured.

母基板101に配列された複数の配線基板領域102は、上記のように、第2主面104(本実
施形態においては上面)において、中央部等に電子部品(図示せず)の凹状の搭載部110
を有している。それぞれの配線基板領域102において、例えば搭載部110内に露出する下部絶縁層101bの上面に電子部品が搭載、固定される。また、この電子部品は、搭載部110(上部絶縁層101aの貫通部)を囲む上部絶縁層101aの枠状の部分によって保護される。
As described above, the plurality of wiring board regions 102 arranged on the mother board 101 are provided with concave mounting of electronic components (not shown) in the central portion or the like on the second main surface 104 (upper surface in this embodiment). Part 110
have. In each wiring board region 102, for example, an electronic component is mounted and fixed on the upper surface of the lower insulating layer 101b exposed in the mounting portion 110. Further, this electronic component is protected by the frame-shaped portion of the upper insulating layer 101a surrounding the mounting portion 110 (the penetrating portion of the upper insulating layer 101a).

この配線基板領域102が個片に分割されてなる配線基板202においても、下部絶縁層101
b上に電子部品が搭載され、枠状の上部絶縁層101aによって、搭載部110に収容されて電子部品が保護される。なお、配線基板202は、それぞれの角部分に上記孔部の跡としてキ
ャスタレーション118を有している。
Also in the wiring board 202 formed by dividing the wiring board region 102 into individual pieces, the lower insulating layer 101 is formed.
The electronic component is mounted on b and is housed in the mounting portion 110 and protected by the frame-shaped upper insulating layer 101a. The wiring board 202 has castellations 118 as marks of the hole portions at the corners.

搭載部110に収容される電子部品としては、水晶振動子等の圧電振動子,弾性表面波素
子,半導体集積回路素子(IC)等の半導体素子,容量素子,インダクタ素子および抵抗器等の種々の電子部品を挙げることができる。
The electronic components accommodated in the mounting portion 110 include various types of piezoelectric vibrators such as a crystal resonator, surface acoustic wave elements, semiconductor elements such as semiconductor integrated circuit elements (ICs), capacitive elements, inductor elements and resistors. Electronic components can be mentioned.

母基板101の内部および表面には、搭載部110の底部から母基板101の下面にかけて配線
導体113が形成されている。配線導体113のうち搭載部110の底部に形成された部分は、例
えば搭載部110の短辺側の端部に設けられた接続導体111と直接に接続されている。配線導体113のうち母基板101の下面に形成された部位は、例えばそれぞれの配線基板領域102に
おける下面の外周部に位置している外部接続導体115と直接に接続されている。外部接続
導体115は、例えば個片の配線基板202(電子装置)を外部の電気回路(図示せず)に電気的に接続させるための接続パッドとして機能する。配線導体113のうち母基板101の内部に形成されたもの(図示せず)は、いわゆるビア導体や内部配線層等の形態である。搭載部110に搭載される電子部品が接続導体111を介して配線導体113に電気的に接続されること
により、接続導体111、配線導体113および外部接続導体115等を介して、電子部品が外部
の電気回路に電気的に接続される。
A wiring conductor 113 is formed inside and on the surface of the mother board 101 from the bottom of the mounting portion 110 to the lower surface of the mother board 101. The portion of the wiring conductor 113 formed at the bottom of the mounting portion 110 is directly connected to, for example, the connection conductor 111 provided at the end of the mounting portion 110 on the short side. The portion of the wiring conductor 113 formed on the lower surface of the mother board 101 is directly connected to, for example, the external connection conductor 115 located on the outer peripheral portion of the lower surface of each wiring board region 102. The external connection conductor 115 functions as a connection pad for electrically connecting, for example, the individual wiring board 202 (electronic device) to an external electric circuit (not shown). Among the wiring conductors 113, those formed inside the mother board 101 (not shown) are in the form of so-called via conductors or internal wiring layers. By electrically connecting the electronic component mounted on the mounting portion 110 to the wiring conductor 113 via the connection conductor 111, the electronic component is externally connected via the connection conductor 111, the wiring conductor 113, the external connection conductor 115, and the like. Is electrically connected to the electric circuit of.

配線導体113等の導体部分は、例えば銅や銀,パラジウム,金,白金,タングステン,
モリブデン,マンガン等の金属材料からなる。配線導体113等が、例えば、モリブデンか
らなる場合であれば、モリブデンの粉末に有機溶剤およびバインダーを添加して作製した金属ペースト(図示せず)を母基板101となるセラミックグリーンシートに所定パターン
に塗布しておき、同時焼成することによって形成することができる。
The conductor portion such as the wiring conductor 113 is, for example, copper, silver, palladium, gold, platinum, tungsten,
It is made of a metal material such as molybdenum or manganese. If the wiring conductor 113 and the like are made of, for example, molybdenum, a metal paste (not shown) prepared by adding an organic solvent and a binder to molybdenum powder is formed into a predetermined pattern on the ceramic green sheet serving as the mother substrate 101. It can be formed by applying and baking it simultaneously.

このような形態の多数個取り配線基板が個片に分割されて作製される配線基板202は、
例えば電子部品として圧電振動素子が搭載されて、携帯電話や自動車電話等の通信機器、コンピュータ、ICカード等の情報機器等の電子機器において、周波数や時間の基準となる発振器として使用される。
The wiring board 202 manufactured by dividing the multi-cavity wiring board of such a form into individual pieces,
For example, a piezoelectric vibrating element is mounted as an electronic component, and is used as an oscillator serving as a frequency or time reference in electronic devices such as communication devices such as mobile phones and car phones, and information devices such as computers and IC cards.

前述したように、母基板101を分割するために、母基板101の第1主面103および第2主
面104には、配線基板領域102の外周に沿って分割溝106が形成されている。分割溝106が形成されている部分(配線基板領域102の境界105)で母基板101に応力を加えて母基板101を厚み方向に破断させることによって、多数個取り配線基板が個片の配線基板202に分割さ
れる。
As described above, in order to divide the mother board 101, the division grooves 106 are formed on the first main surface 103 and the second main surface 104 of the mother board 101 along the outer periphery of the wiring board region 102. By applying stress to the mother substrate 101 at the portion where the dividing groove 106 is formed (boundary 105 of the wiring substrate region 102) and breaking the mother substrate 101 in the thickness direction, the multi-cavity wiring substrate is an individual wiring substrate. Divided into 202.

分割溝106は、例えば母基板101の第1主面103および第2主面104に対して、配線基板領域102の外周に沿ってレーザー光による溝加工(以下、単にレーザ−加工ともいう)が施
されて形成されている。
The dividing groove 106 is, for example, a groove processed by laser light (hereinafter, also simply referred to as laser processing) along the outer periphery of the wiring board region 102 with respect to the first main surface 103 and the second main surface 104 of the mother substrate 101. It is applied and formed.

この実施形態の例においては、分割溝106に接するそれぞれの配線基板領域102の上面には枠状メタライズ層114が形成されている。枠状メタライズ層114に蓋体が接合されて搭載部110が封止される。また、枠状メタライズ層114上にニッケルめっき層および金めっき層等のめっき層(図示せず)が順次被着されている。枠状メタライズ層114は、例えば配線
導体113等と同様の金属材料からなる。例えば、枠状メタライズ層114がモリブデンのメタライズ層からなる場合であれば、モリブデンの粉末に有機溶剤、バインダー等を添加して作製した金属ペーストを、セラミック絶縁層(上記枠部)となるセラミックグリーンシートの上面に所定パターンで印刷しておくことにより形成することができる。金属ペーストは、例えば、焼成後の枠状メタライズ層114の厚みが5〜20μm程度となるように形成される。
In the example of this embodiment, a frame-shaped metallized layer 114 is formed on the upper surface of each wiring board region 102 in contact with the division groove 106. The lid is joined to the frame-shaped metallized layer 114 to seal the mounting portion 110. Further, plating layers (not shown) such as a nickel plating layer and a gold plating layer are sequentially deposited on the frame-shaped metallized layer 114. The frame-shaped metallized layer 114 is made of, for example, the same metal material as the wiring conductor 113 and the like. For example, when the frame-shaped metallized layer 114 is formed of a molybdenum metallized layer, a metal paste prepared by adding an organic solvent, a binder or the like to molybdenum powder is used as a ceramic green layer (the frame portion). It can be formed by printing a predetermined pattern on the upper surface of the sheet. The metal paste is formed, for example, so that the thickness of the frame-shaped metallized layer 114 after firing is about 5 to 20 μm.

また、枠状メタライズ層114を被覆するニッケル等のめっき層は、枠状メタライズ層114の酸化腐食を防止するとともに、ろう付けなどの際の濡れ性向上や接合強度向上のために形成されたものである。めっき層は、例えば下側にニッケルめっき層が形成され、上側に金めっき層が形成されてなる二層構造となっているのが好ましい。ここで、コストの面から金属めっき膜は薄く形成されるのが好ましく、ニッケルめっき層は1〜20μm程度、金
めっき層は0.1〜1.0μm程度に形成される。これらの金属めっき膜は、例えばめっき液中で被めっき部(枠状メタライズ層114の露出表面)にめっき被着用の電流を供給し、電気
めっきを施すことにより形成することができる。
Further, the plating layer of nickel or the like covering the frame-shaped metallized layer 114 is formed to prevent oxidative corrosion of the frame-shaped metallized layer 114 and to improve wettability and bonding strength during brazing and the like. Is. The plating layer preferably has a two-layer structure in which, for example, a nickel plating layer is formed on the lower side and a gold plating layer is formed on the upper side. Here, from the viewpoint of cost, it is preferable that the metal plating film is thinly formed, and the nickel plating layer is formed to have a thickness of about 1 to 20 μm and the gold plating layer is formed to have a thickness of about 0.1 to 1.0 μm. These metal plating films can be formed, for example, by supplying an electric current for plating to a plated portion (exposed surface of the frame-shaped metallized layer 114) in a plating solution to perform electroplating.

母基板101について、分割溝106が設けられた部分において母基板101の厚み方向に貫通
する孔部(符号なし)を有している。孔部は、第1孔部107および第2孔部108を含んでいる。このうち、第1主面103から上方向に形成されている第1孔部107には、その内周面に側面導体109が被着されている。側面導体109は、例えば配線導体113等と同様の金属材料
からなるメタライズ層である。この側面導体109は、隣り合う配線基板領域102の間で、それぞれの配線導体113等の導体部分同士を互いに電気的に接続するための導通経路として
作用する。この側面導体109によって、複数の配線基板領域102の導体部分同士が互いに電気的に接続されている。これにより、例えば複数の配線基板領域102の導体部分同士が一
体的に電気的に接続されたものになり、その露出部分(接続導体111および外部接続導体115等)にまとめて、ニッケル等のめっき層を被着させることができる。側面導体109は、
個片の配線基板202における外部接続用等の端子が設けられる部分となる。
The mother substrate 101 has a hole (no reference numeral) penetrating in the thickness direction of the mother substrate 101 in a portion where the dividing groove 106 is provided. The hole portion includes a first hole portion 107 and a second hole portion 108. Of these, the side surface conductor 109 is attached to the inner peripheral surface of the first hole portion 107 formed upward from the first main surface 103. The side surface conductor 109 is, for example, a metallized layer made of the same metal material as the wiring conductor 113 and the like. The side surface conductor 109 acts as a conduction path for electrically connecting the conductor portions such as the wiring conductors 113 between the adjacent wiring board regions 102 to each other. The side surface conductors 109 electrically connect the conductor portions of the plurality of wiring board regions 102 to each other. As a result, for example, the conductor portions of the plurality of wiring board regions 102 are integrally and electrically connected to each other, and the exposed portions (the connection conductor 111, the external connection conductor 115, and the like) are collectively plated with nickel or the like. Layers can be applied. The side conductor 109 is
This is a portion where terminals for external connection and the like are provided in the individual wiring board 202.

この実施形態の例では、第1孔部107のうち内側面に側面導体109が被着された部分が、第2主面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に狭まっている。 In the example of this embodiment, the portion of the first hole portion 107 where the side surface conductor 109 is attached to the inner side surface is inward from the end portion on the second main surface 104 side to the end portion on the first main surface 103 side. It is narrowing.

すなわち、例えば第1主面103側から見て円形状である第1孔部107について、その内径が第2主面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に狭まっている構造となっている。言い換えれば、第1主面103側から見たときに、第1孔部107内の側面導体109が
母基板101の第1主面103側に隠れて見えにくい構造となっている。よって、レーザー加工により母基板101の各配線基板領域102の境界105に分割溝106を形成する際に、第1孔部107内の側面導体109にレーザー光(以下、単にレーザ−という)119が照射されにくく側面
導体109の断線が抑制される。この状態を、以下の通り図3で詳細に説明する。
That is, for example, the inner diameter of the first hole portion 107, which is circular when viewed from the first main surface 103 side, narrows inward from the end portion on the second main surface 104 side to the end portion on the first main surface 103 side. It has a structure. In other words, when viewed from the first main surface 103 side, the side surface conductor 109 in the first hole portion 107 is hidden by the first main surface 103 side of the mother substrate 101 to make it difficult to see. Therefore, when the dividing groove 106 is formed in the boundary 105 of each wiring substrate region 102 of the mother substrate 101 by laser processing, a laser beam (hereinafter, simply referred to as a laser) 119 is applied to the side surface conductor 109 in the first hole portion 107. It is difficult to irradiate and the disconnection of the side surface conductor 109 is suppressed. This state will be described in detail below with reference to FIG.

母基板101の各配線基板領域102の境界105に形成された孔部は、第1主面103側に形成された第1孔部107と第2主面104側に形成された第2孔部108とが互いに母基板101の厚み方向に連通するように形成されている。母基板101の境界105にレーザー119により分割溝106を形成する場合、この孔部の直径に沿ってレーザー119が連続して照射される。レーザー119による分割溝106は、第1主面103側、第2主面104側の両方に形成される。第1孔部107の内側面には側面導体109が被着されているため、仮に、この側面導体109にもレーザー119が照射された場合、側面導体109が削られる可能性がある。この場合、側面導体109の断
線や導通抵抗の増加等が生じる可能性がある。すなわち、隣接する配線導体113間におい
て電気めっき用の電流の導通性が低下する可能性があった。
The holes formed at the boundaries 105 of the respective wiring board regions 102 of the mother substrate 101 are the first holes 107 formed on the first main surface 103 side and the second holes formed on the second main surface 104 side. And 108 are formed so as to communicate with each other in the thickness direction of the mother substrate 101. When the dividing groove 106 is formed on the boundary 105 of the mother substrate 101 by the laser 119, the laser 119 is continuously irradiated along the diameter of the hole. The dividing groove 106 formed by the laser 119 is formed on both the first main surface 103 side and the second main surface 104 side. Since the side surface conductor 109 is attached to the inner side surface of the first hole portion 107, if the side surface conductor 109 is also irradiated with the laser 119, the side surface conductor 109 may be scraped. In this case, the side conductor 109 may be broken or the conduction resistance may increase. That is, the conductivity of the current for electroplating may be reduced between the adjacent wiring conductors 113.

これに対して、例えば図3のように第1孔部107の内径が第2主面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に狭まっている構造としたことから、母基板101の第1主面103側がレーザー119の遮蔽部として作用する。これにより側面導体109へのレーザー119の照射を抑制することができる。よって、側面導体109の断線および導通抵抗の増加等が抑
制される。なお、孔部付近のレーザー119による分割溝106の加工では、図3において破線で示すように、レーザー119が孔部の内側面に連続して照射されることにより分割溝106の深さが若干深くなる傾向がある。
On the other hand, for example, as shown in FIG. 3, the inner diameter of the first hole 107 is narrowed inward from the end on the second main surface 104 side to the end on the first main surface 103 side. The first main surface 103 side of the mother substrate 101 acts as a shield for the laser 119. Thereby, irradiation of the laser 119 to the side surface conductor 109 can be suppressed. Therefore, disconnection of the side surface conductor 109 and increase in conduction resistance are suppressed. In the processing of the dividing groove 106 by the laser 119 near the hole, the depth of the dividing groove 106 is slightly increased by continuously irradiating the inner surface of the hole with the laser 119 as shown by the broken line in FIG. Tends to deepen.

側面導体109は、上記のように、隣り合う配線基板領域102の間で、それぞれの配線導体113同士を互いに電気的に接続するための導通経路として作用する。そのため、分割溝106が深すぎると側面導体109が分割溝106部分で削られて、隣接する配線導体113間の導通性
が低下する可能性がある。したがって、分割溝106はこの側面導体109の厚み方向に対して30〜70%程度の深さで形成される。また、側面導体109と搭載部110の接続導体111との導
通確保は、例えば上部絶縁層101aと下部絶縁層101bとの層間に形成された配線導体113
によって行なわれる。この場合、側面導体109と接続導体111とが、配線導体113を介して
接続される。
As described above, the side surface conductor 109 acts as a conduction path for electrically connecting the wiring conductors 113 to each other between the adjacent wiring board regions 102. Therefore, if the dividing groove 106 is too deep, the side surface conductor 109 may be scraped by the dividing groove 106, and the conductivity between the adjacent wiring conductors 113 may be reduced. Therefore, the dividing groove 106 is formed with a depth of about 30 to 70% with respect to the thickness direction of the side surface conductor 109. Further, the conduction between the side surface conductor 109 and the connection conductor 111 of the mounting portion 110 is ensured by, for example, the wiring conductor 113 formed between the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b.
Done by. In this case, the side surface conductor 109 and the connection conductor 111 are connected via the wiring conductor 113.

本実施形態においては、第1主面103側と同様に第2主面104側にもレーザー119によっ
て分割溝106が形成されている。第2主面104側に上記めっき用の導通経路となる配線導体が形成されていない場合には、導通性の低下や断線等のために分割溝106の深さに対する
制限が少なくなる。すなわち、例えば第1主面103側よりも深い分割溝106が第2主面104
側に設けられて、母基板101の破断をより容易にすることもできる。
In this embodiment, the dividing groove 106 is formed by the laser 119 on the second main surface 104 side as well as on the first main surface 103 side. When the wiring conductor serving as the conductive path for plating is not formed on the second main surface 104 side, the restriction on the depth of the dividing groove 106 is reduced due to deterioration of conductivity, disconnection, or the like. That is, for example, the dividing groove 106 deeper than the first main surface 103 side has the second main surface 104.
It may be provided on the side to facilitate breakage of the mother substrate 101.

また、母基板101が第2主面104に第2孔部108を有しているときに、第2孔部108は、第1孔部107と連通しているとともに、第2主面104側の開口が第1主面103側の開口よりも
大きいものであってもよい。この場合にも、第1主面103側(下部絶縁層101bの領域)にレーザー119で分割溝106を形成する際に、第1孔部107内の側面導体109にレーザー119が
照射されにくく、側面導体109の断線が抑制される。また、第2主面104側(上部絶縁層101aの領域)にレーザー119で分割溝106を形成する際に、第2孔部108の奥までレーザー119が照射されやすい。そのため、第2孔部108が位置している部分においても分割溝106を
十分に深く形成することができる。したがって、母基板101分割性を向上させる上でより
有利な形態とすることができる。
Further, when the mother substrate 101 has the second hole portion 108 on the second main surface 104, the second hole portion 108 communicates with the first hole portion 107 and at the side of the second main surface 104 side. The opening may be larger than the opening on the first main surface 103 side. Also in this case, when the dividing groove 106 is formed by the laser 119 on the first main surface 103 side (the region of the lower insulating layer 101b), the side surface conductor 109 in the first hole 107 is less likely to be irradiated with the laser 119, The disconnection of the side surface conductor 109 is suppressed. Further, when the dividing groove 106 is formed by the laser 119 on the second main surface 104 side (the region of the upper insulating layer 101a), the laser 119 is likely to be irradiated to the depth of the second hole 108. Therefore, the dividing groove 106 can be formed sufficiently deep even in the portion where the second hole portion 108 is located. Therefore, it is possible to provide a more advantageous form for improving the dividing property of the mother substrate 101.

これについてより詳細に説明する。母基板101の第1および第2両主面103、104(以下
、単に両主面ともいう)に分割溝106を形成する場合には、平面透視において第1主面103側の分割溝106と第2主面104側の分割溝106とが互いにほぼ同じ位置に形成されることに
より、母基板101が厚み方向に破断するときに上下の分割溝106間で破断がより容易に生じる。これによって、母基板101の分割後に側面(破断面)にバリや欠けが抑制された配線
基板202を製作することができる。そのため、母基板101の破断の容易さを考慮すれば、上下の分割溝106は互いに平面透視で同じ位置に重なるように形成されていることが好まし
く、このような位置で分割溝106を形成するレーザー加工等が行なわれる。
This will be described in more detail. When the dividing groove 106 is formed in the first and second main surfaces 103, 104 (hereinafter, also simply referred to as both main surfaces) of the mother substrate 101, the dividing groove 106 on the first main surface 103 side is seen in plan view. Since the dividing grooves 106 on the second main surface 104 side are formed at substantially the same positions as each other, when the mother substrate 101 is broken in the thickness direction, breakage easily occurs between the upper and lower dividing grooves 106. This makes it possible to manufacture the wiring board 202 in which burrs and chips are suppressed on the side surface (broken surface) after the mother board 101 is divided. Therefore, considering the easiness of breaking of the mother substrate 101, it is preferable that the upper and lower dividing grooves 106 are formed so as to overlap each other at the same position in plan perspective, and the dividing grooves 106 are formed at such positions. Laser processing etc. are performed.

しかしながら、母基板101の配線基板領域102の境界105にレーザー119により分割溝106
を形成すると、上記のように第1孔部107と第2孔部108とが同じ径で連通している場合、側面導体109にレーザー119が2回にわたって照射される可能性がある。すなわち、第2主面104側の分割溝106を形成するときのレーザー119と、第1主面103側の分割溝106を形成
するときのレーザー119とである。このときには、孔部(分割溝106の仮想の延長線上)に
おいて重複して照射されることになり、側面導体109がさらにレーザー119で削られやすくなる。そのため、上記のような断線や導通性の低下の可能性が高くなる可能性がある。
However, the dividing groove 106 is formed by the laser 119 at the boundary 105 of the wiring board region 102 of the mother board 101.
If the first hole portion 107 and the second hole portion 108 communicate with each other with the same diameter as described above, the side surface conductor 109 may be irradiated with the laser 119 twice. That is, a laser 119 for forming the dividing groove 106 on the second main surface 104 side and a laser 119 for forming the dividing groove 106 on the first main surface 103 side. At this time, the holes (on the virtual extension line of the dividing groove 106) are overlapped and irradiated, and the side surface conductor 109 is more likely to be scraped by the laser 119. Therefore, there is a possibility that the disconnection or the decrease in conductivity as described above increases.

これに対して、図3の例のように第2孔部108において第2主面104側の開口が第1主面103側の開口よりも大きい場合には、第1主面103側では側面導体109の断線や導通性の低
下を抑制しながら、第2主面104側では上面視で第2孔部108の側面が見通せる状態になる。つまり、レーザー119が第2孔部108の奥まで照射されやすいため、第2主面104側の第
2孔部108の近傍に形成される分割溝106がより深く形成される。よって、母基板101の分
割性が向上する。
On the other hand, when the opening on the second main surface 104 side is larger than the opening on the first main surface 103 side in the second hole portion 108 as in the example of FIG. 3, the side surface is on the first main surface 103 side. The side surface of the second hole portion 108 can be seen through from the top view on the second main surface 104 side while suppressing the disconnection of the conductor 109 and the decrease in conductivity. That is, since the laser 119 is likely to be irradiated deep inside the second hole 108, the dividing groove 106 formed near the second hole 108 on the second main surface 104 side is formed deeper. Therefore, the dividing property of the mother substrate 101 is improved.

また、この場合には、第2孔部108の第1主面103側の開口が小さいため、第2孔部108
の内側面自体が第1孔部107の内側面の側面導体109に対するレーザー119の遮蔽領域とし
て作用する。そのため、第2主面104側からのレーザー119は側面導体109に照射されにく
い。よってレーザー119による側面導体109の断線や導通性の低下の可能性はより小さい。
Further, in this case, since the opening of the second hole portion 108 on the first main surface 103 side is small, the second hole portion 108 is small.
The inner side surface of the first hole 107 acts as a shielding region of the laser 119 with respect to the side surface conductor 109 on the inner side surface of the first hole 107. Therefore, the side surface conductor 109 is less likely to be irradiated with the laser 119 from the second main surface 104 side. Therefore, there is less possibility that the laser 119 will break the side conductor 109 or reduce the conductivity.

また、この場合には、次のような効果も得られる。すなわち、第2孔部108について第
2主面104側の開口が第1主面103側の開口よりも大きく、かつ第2主面104側から比較的
深く分割溝106が形成されるため、めっき液の孔部(第1孔部107や第2孔部108)内への
循環がよくなり、さらにめっき時に発生する気泡(水素ガス)等の孔部外への排出性が向上する。よって、めっき層の欠けや所定のめっき厚みよりも薄くなることが抑制されて、側面導体109に良好にめっき層を被着させることができる。
Further, in this case, the following effects are also obtained. That is, in the second hole portion 108, the opening on the second main surface 104 side is larger than the opening on the first main surface 103 side, and the dividing groove 106 is formed relatively deeply from the second main surface 104 side. The circulation of the liquid into the holes (the first holes 107 and the second holes 108) is improved, and the dischargeability of bubbles (hydrogen gas) and the like generated during plating to the outside of the holes is improved. Therefore, it is possible to prevent the plating layer from being chipped or becoming thinner than a predetermined plating thickness, and the side surface conductor 109 can be properly coated with the plating layer.

また、側面導体109は、第2主面104側の端部において、第1主面103側の端部よりも厚
くてもよい。このような場合にも、第1主面103側(下部絶縁層101bの領域)にレーザー119で分割溝106を形成する際に、第1孔部107内の側面導体109にレーザー119が照射され
にくい。また、側面導体109の厚みが第2主面104側の端部において厚いことにより、導体としての断面積(導体を伝送される電流に直交する方向における断面の面積)を確保しやすい構造となるため、側面導体109の断線および導通性の低下等がより効果的に抑制され
る。なお、以下の説明において上記導体としての断面を単に断面という。
The side surface conductor 109 may be thicker at the end portion on the second main surface 104 side than at the end portion on the first main surface 103 side. Even in such a case, when the dividing groove 106 is formed with the laser 119 on the first main surface 103 side (the region of the lower insulating layer 101b), the side surface conductor 109 in the first hole 107 is irradiated with the laser 119. Hateful. Further, since the thickness of the side surface conductor 109 is large at the end portion on the side of the second main surface 104, it becomes a structure in which a cross-sectional area (a cross-sectional area in a direction orthogonal to a current transmitted through the conductor) as a conductor can be easily secured. Therefore, the disconnection of the side surface conductor 109 and the decrease in conductivity are suppressed more effectively. In the following description, the cross section as the conductor is simply referred to as a cross section.

この例を図3の要部断面図で示した。図3では、側面導体109の厚みが第2主面104側の端部において厚くなっており、第1孔部107の奥側(つまり、第2主面104側)において導体としての断面積が大きくなっている。また、この例では、第1孔部107の側面導体109が被着された内側面が、第2主面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に傾斜している。つまり、側面導体109のうち第2主面104の端部は、第1孔部107の内側に張り
出すことなく、その厚みが厚くなっている。この状態でレーザー119で分割溝106が形成されると、より効果的に側面導体109の導通性の低下や断線等が抑制される。
This example is shown in the cross-sectional view of the main part of FIG. In FIG. 3, the thickness of the side surface conductor 109 is thicker at the end portion on the second main surface 104 side, and the cross-sectional area as a conductor on the inner side of the first hole portion 107 (that is, the second main surface 104 side) is larger. It's getting bigger. Further, in this example, the inner side surface of the first hole portion 107 to which the side surface conductor 109 is attached is inclined inward from the end portion on the second main surface 104 side to the end portion on the first main surface 103 side. .. That is, the end portion of the second main surface 104 of the side surface conductor 109 is thickened without protruding to the inside of the first hole portion 107. When the dividing groove 106 is formed by the laser 119 in this state, deterioration of the conductivity of the side surface conductor 109, disconnection, etc. can be suppressed more effectively.

また、母基板101の両主面に分割溝106が形成される場合、第1主面103側と同様に第2
主面104側にもレーザー119による分割溝106が形成される。そして、第2孔部108は第2主面104側の開口が第1主面103側の開口よりも大きいため、側面導体109に第1主面103側のレーザー119だけでなく第2主面104側のレーザー119が分割溝106の延長線上において重複して照射されることがある。しかし、側面導体109の厚みが第2主面104側の端部において厚いことにより、側面導体109の断線や導通性の低下の可能性が低減される。
When the dividing grooves 106 are formed on both main surfaces of the mother substrate 101, the second groove is formed in the same manner as the first main surface 103 side.
The dividing groove 106 formed by the laser 119 is also formed on the main surface 104 side. Since the opening of the second hole portion 108 on the side of the second main surface 104 is larger than the opening on the side of the first main surface 103, the side surface conductor 109 includes not only the laser 119 on the side of the first main surface 103 but also the second main surface. The laser 119 on the 104 side may be overlapped and irradiated on the extension line of the dividing groove 106. However, since the thickness of the side surface conductor 109 is large at the end portion on the second main surface 104 side, the possibility of disconnection of the side surface conductor 109 or deterioration of conductivity is reduced.

また、図4に、母基板101の第2主面104に孔部が形成されない、つまり孔部(第1孔部107)が第2主面104側には開口を有していない構造を示している。また、図4の例においても、側面導体109の厚みが第2主面104側の端部において厚い。このような場合にも、第1孔部107の奥側(つまり、第2主面104側)において導体としての断面積が大きくなり、より効果的に側面導体109の導通性の低下や断線等が抑制される。 Further, FIG. 4 shows a structure in which no hole is formed in the second main surface 104 of the mother substrate 101, that is, the hole (first hole 107) has no opening on the second main surface 104 side. ing. Also in the example of FIG. 4, the thickness of the side surface conductor 109 is thick at the end portion on the second main surface 104 side. Even in such a case, the cross-sectional area as a conductor becomes large on the back side of the first hole portion 107 (that is, the second main surface 104 side), so that the conductivity of the side surface conductor 109 is reduced, the disconnection or the like is more effectively performed. Is suppressed.

なお、図4で示す構造では、母基板101の両主面に分割溝106が形成される場合、第1主面103側と同様に第2主面104側にレーザー119による分割溝106が形成されていても、第2主面104側に孔部が開口していないため、上部絶縁層101aがレーザー119の遮蔽領域とな
り、側面導体109に第2主面104側の分割溝106を形成するレーザー119が側面導体109に重
複して(上下から)照射されることがない。よって、側面導体109の導通性の低下や断線
等がさらに効果的に抑制される。
In the structure shown in FIG. 4, when the dividing grooves 106 are formed on both main surfaces of the mother substrate 101, the dividing grooves 106 by the laser 119 are formed on the second main surface 104 side similarly to the first main surface 103 side. However, since the holes are not opened on the second main surface 104 side, the upper insulating layer 101a serves as a shield region for the laser 119, and the side surface conductor 109 is formed with the dividing groove 106 on the second main surface 104 side. The laser 119 does not overlap the side surface conductor 109 (from above and below). Therefore, the decrease in the conductivity of the side surface conductor 109, the disconnection, and the like are further effectively suppressed.

また、この例において、第1主面103側の分割溝106と第2主面104側の分割溝106とが、第1孔部107の上方において連通した構造(図示せず)としてもよい。この例では第2主
面104側に孔部が存在しないため、第1主面103側のレーザー119は第1孔部107の底部に露出した上部絶縁層101aに照射される。これによって、孔部において上部絶縁層101aの第1主面103側(孔部の底部)にも分割溝106が形成される。このときに、第2主面104側に
レーザー119が、配線基板領域102の境界105に沿って照射されると、第2主面104側の分割溝106の底部と第1主面103側の分割溝106の底部とが孔部において互いに連通し合う。
Further, in this example, the dividing groove 106 on the first main surface 103 side and the dividing groove 106 on the second main surface 104 side may communicate with each other above the first hole portion 107 (not shown). In this example, since no hole exists on the second main surface 104 side, the laser 119 on the first main surface 103 side irradiates the upper insulating layer 101a exposed at the bottom of the first hole 107. As a result, the division groove 106 is also formed in the hole portion on the side of the first main surface 103 of the upper insulating layer 101a (bottom portion of the hole portion). At this time, when the laser 119 is irradiated to the second main surface 104 side along the boundary 105 of the wiring board region 102, the bottom of the dividing groove 106 on the second main surface 104 side and the first main surface 103 side. The bottom of the dividing groove 106 communicates with each other at the hole.

この場合、第2主面104側のレーザー119により形成される分割溝106の深さは孔部以外
の領域においては、上部絶縁層101aの厚みを超えない。そのため、この分割溝106によって配線導体113や側面導体109が断線したり、断面の一部が切断されて導通性が低下する可能性は小さい。また、この場合にも、連通した分割溝106によってめっき液の第1孔部107への循環がよくなり、側面導体109に良好にめっき層が被着される効果が得られる。
In this case, the depth of the dividing groove 106 formed by the laser 119 on the second main surface 104 side does not exceed the thickness of the upper insulating layer 101a in the region other than the hole. Therefore, there is little possibility that the wiring conductor 113 or the side surface conductor 109 will be broken by the dividing groove 106 or a part of the cross-section will be cut to lower the conductivity. Also in this case, the communication of the divided grooves 106 improves the circulation of the plating solution to the first holes 107, so that the side surface conductor 109 can be satisfactorily coated with the plating layer.

なお、分割溝106の形状や深さは、例えば、上部絶縁層101aと下部絶縁層101bの厚み
関係(厚みの比率)や配線導体113の位置、またはレーザーの種類、強度(レーザー加工
装置の出力)等の各種の条件により、種々に設定され得る。レーザーの種類は、例えば紫外線領域の波長のものを使用できる。紫外線領域の波長のレーザーは、固体レーザーによるパルス周波数10〜200kHz、パルス幅5ns以上、加工点出力1〜40W程度のものである。紫外線領域の波長の固体レーザーとしては、YAG、YVOなどの結晶より励起されるものがあり、それぞれのパルス特性および、被加工物の加工性に応じて最適なものを選定すればよい。
The shape and depth of the dividing groove 106 may be, for example, the thickness relationship (thickness ratio) between the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b, the position of the wiring conductor 113, the type of laser, the intensity (output of the laser processing apparatus). ), etc., and can be set variously. As the type of laser, for example, one having a wavelength in the ultraviolet region can be used. A laser having a wavelength in the ultraviolet region has a pulse frequency of 10 to 200 kHz by a solid laser, a pulse width of 5 ns or more, and a processing point output of about 1 to 40 W. Some solid-state lasers having a wavelength in the ultraviolet region are excited by crystals such as YAG and YVO 4, and the optimum one may be selected according to their pulse characteristics and the workability of the workpiece.

また、母基板101は、その内部に補助導体112を有していてもよい。補助導体112は、例
えば側面導体109の第2主面104側の端部(上端部)と配線導体113とを互いに接続するた
めの内部導体である。補助導体112は、例えば側面導体109と配線導体113との電気的な接
続信頼性向上のために、上部絶縁層101aと下部絶縁層101bとの界面部分における上部絶縁層101aおよび下部絶縁層101bの両方の表面にそれぞれ設けられていてもよい(この状態は図示せず)。
Further, the mother board 101 may have an auxiliary conductor 112 therein. The auxiliary conductor 112 is, for example, an internal conductor for connecting the end portion (upper end portion) of the side surface conductor 109 on the second main surface 104 side and the wiring conductor 113 to each other. The auxiliary conductor 112 includes, for example, the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b at the interface between the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b in order to improve the electrical connection reliability between the side surface conductor 109 and the wiring conductor 113. It may be provided on both surfaces (this state is not shown).

また、補助導体112が設けられている場合に、側面導体109の上端部分を比較的厚くして、上部絶縁層101aと下部絶縁層101bとの界面部分における平面視で第1孔部107の周囲
の側面導体109の幅を比較的広くするようにしてもよい。この場合には、側面導体109と補助導体112とがより広い範囲で接続されるため、下部絶縁層101bに補助導体112を形成せ
ずとも側面導体109と上部絶縁層101aの補助導体112とを良好に接続することができる。
In addition, when the auxiliary conductor 112 is provided, the upper end portion of the side surface conductor 109 is made relatively thick to surround the first hole portion 107 in a plan view at the interface portion between the upper insulating layer 101a and the lower insulating layer 101b. The side conductor 109 may have a relatively large width. In this case, since the side conductor 109 and the auxiliary conductor 112 are connected in a wider range, the side conductor 109 and the auxiliary conductor 112 of the upper insulating layer 101a can be connected to each other without forming the auxiliary conductor 112 on the lower insulating layer 101b. Can be connected well.

なお、側面導体109の上端が比較的厚いときに、図3に示すように側面導体109の上端の一部が変形して第2孔部108側(上方向)に突出したはみ出し部117が形成されてもよい。このはみ出し部117が上部絶縁層101aに形成された補助導体112と孔部の内側面(母基板101の露出表面)において重なるため、さらに側面導体109と配線導体113との補助導体112
を介した電気的な接続を確実なものとすることができる。なお、側面導体109のはみ出し
部117を効果的に形成するには、第1孔部107の第2主面104側の径が、第2孔部108の第1
主面103側の径よりも若干小さくなるように、つまり、第2孔部108の第1主面103側の下
端が第1孔部107の第2主面104側の上端に、第1孔部107の内周が露出した状態で積層す
ればよい。なお、積層工程での側面導体109はメタライズ層が乾燥したものであり、バイ
ンダーを含有していることから、柔軟性を持った状態となっている。
When the upper end of the side surface conductor 109 is relatively thick, a part of the upper end of the side surface conductor 109 is deformed to form a protruding portion 117 protruding toward the second hole 108 (upward) as shown in FIG. May be done. Since the protruding portion 117 overlaps the auxiliary conductor 112 formed on the upper insulating layer 101a on the inner side surface of the hole (exposed surface of the mother substrate 101), the side conductor 109 and the auxiliary conductor 112 of the wiring conductor 113 are further overlapped.
The electrical connection via the can be ensured. In order to effectively form the protruding portion 117 of the side surface conductor 109, the diameter of the first hole portion 107 on the second main surface 104 side is set to be the first diameter of the second hole portion 108.
The diameter of the first hole is slightly smaller than the diameter of the main surface 103 side, that is, the lower end of the second hole portion 108 on the first main surface 103 side is the upper end of the first hole portion 107 on the second main surface 104 side. The layers may be stacked with the inner periphery of the portion 107 exposed. The side surface conductor 109 in the laminating step is a dried metallized layer and contains a binder, and thus has a flexible state.

また、このはみ出し部117は、第2孔部108において下端周辺(第1主面103側の開口周
辺)から内側に突出しているため、言い換えれば、このはみ出し部117の開口が第2孔部108の第1主面103側の開口よりも小さいため、このはみ出し部117も第2主面104側からの
レーザー119の遮蔽領域として作用する。そのため、この場合には第1孔部107の内側面に形成されている側面導体109にレーザー119がさらに照射されにくい。よって、第2主面104側から照射されるレーザー119による側面導体109の断線や導通性の低下の可能性がさら
に低減される。
Further, since the protruding portion 117 projects inward from the periphery of the lower end (around the opening on the side of the first main surface 103) in the second hole portion 108, in other words, the opening of the protruding portion 117 has the second hole portion 108. Since the opening is smaller than the opening on the side of the first main surface 103, the protruding portion 117 also acts as a shielding region of the laser 119 from the side of the second main surface 104. Therefore, in this case, the side surface conductor 109 formed on the inner side surface of the first hole 107 is less likely to be irradiated with the laser 119. Therefore, the possibility that the laser 119 emitted from the second main surface 104 side may cause disconnection of the side surface conductor 109 or decrease in conductivity may be further reduced.

個片の配線基板202は、例えば上記実施形態の多数個取り配線基板が配線基板領域102毎に分割されてなる。これにより、側面導体109の断線が抑制されるとともに、分割時のバ
リや欠けが抑制されて外形寸法精度に優れた配線基板202を提供できる。このような配線
基板202を図2(a)、(b)に上面図および下面図で示す。
The individual wiring substrate 202 is, for example, the multiple-cavity wiring substrate of the above-described embodiment divided for each wiring substrate region 102. As a result, the wiring of the side surface conductor 109 is suppressed, and burrs and chips at the time of division are suppressed, so that it is possible to provide the wiring board 202 having excellent external dimension accuracy. Such a wiring board 202 is shown in FIGS. 2A and 2B in a top view and a bottom view.

上記説明の通り、例えば加工の位置精度が高いレーザー加工によって分割溝106が成形
される。配線基板202の絶縁基板は、例えば上部絶縁層101aが下部絶縁層101bよりも厚
い。この場合には、分割前の母基板101において第2主面104の分割溝106を比較的深く(
例えば第1主面103の分割溝106よりも深く)して、第2主面104側、つまり上部絶縁層101a側の分割をより容易にできるようにすればよい。分割溝106を比較的深くするには、例
えば、第2孔部108において第2主面104側の開口を第1主面103側の開口よりも大きくす
ればよい。これにより、第2主面104側から見たときに第2孔部108の内側面を見通せる状態になり、レーザー119が第2孔部108の奥まで照射されやすい。よって、第2主面104側
(特に第2孔部108の近傍)に形成される分割溝106がより深くなり、母基板101の分割性
がさらに向上する。これにより分割時のバリや欠けがより効果的に抑制され、外形寸法精度にさらに優れた配線基板202を提供できる。
As described above, the dividing groove 106 is formed by, for example, laser processing with high processing positional accuracy. In the insulating substrate of the wiring board 202, for example, the upper insulating layer 101a is thicker than the lower insulating layer 101b. In this case, the dividing groove 106 of the second main surface 104 in the mother substrate 101 before division is relatively deep (
For example, it may be deeper than the dividing groove 106 of the first main surface 103) so that the second main surface 104 side, that is, the upper insulating layer 101a side can be divided more easily. To make the dividing groove 106 relatively deep, for example, in the second hole 108, the opening on the second main surface 104 side may be made larger than the opening on the first main surface 103 side. As a result, when viewed from the second main surface 104 side, the inside surface of the second hole portion 108 can be seen through, and the laser 119 is likely to be irradiated deep into the second hole portion 108. Therefore, the dividing groove 106 formed on the second main surface 104 side (particularly in the vicinity of the second hole portion 108) becomes deeper, and the dividing property of the mother substrate 101 is further improved. This makes it possible to more effectively suppress burrs and chips at the time of division, and to provide the wiring board 202 with further excellent external dimension accuracy.

また、上述のように側面導体109のレーザー119による断線や導通性の低下の可能性が低減されるため、この側面導体109を介して隣り合う配線基板領域102の被めっき部(接続導体111および枠状メタライズ層114等の露出した表面)をより確実に電気的に接続させることができる。そのため、被めっき部にめっき被着用の電流をより確実に供給して電気めっきを被着させることができる。 Further, as described above, since the possibility of disconnection of the side surface conductor 109 due to the laser 119 and a decrease in conductivity is reduced, the plated portions (connection conductors 111 and The exposed surface of the frame-shaped metallized layer 114 and the like can be more reliably electrically connected. Therefore, it is possible to more reliably supply the current for plating plating to the plating target part and deposit the electroplating.

また、側面導体109が第2主面104側の端部において、第1主面103側の端部よりも厚い
場合には、個片の配線基板202に関して次のような効果も得られる。すなわち、母基板101を各配線基板202に分割するために、例えば、母基板101を第1主面103側が谷(凹側)に
なるように、第1主面103側から押圧して曲げ応力を加える際に、第2主面104側の分割溝106の先端部から第1主面103の方向に進行する亀裂を、側面導体109が厚い部分から薄い
部分にかけてより容易に直線的に進行させることができる。これは、次のような理由による。
Further, when the side surface conductor 109 is thicker at the end portion on the second main surface 104 side than at the end portion on the first main surface 103 side, the following effects can be obtained for the individual wiring board 202. That is, in order to divide the mother board 101 into the wiring boards 202, for example, the mother board 101 is pressed from the first main surface 103 side so that the first main surface 103 side is a valley (concave side), and bending stress is applied. When adding, a crack that progresses from the tip of the dividing groove 106 on the second main surface 104 side toward the first main surface 103 is more easily linearly advanced from the thick portion to the thin portion of the side conductor 109. be able to. This is for the following reason.

つまり、側面導体109の厚みが勾配を有していること、およびメタライズ導体において
は厚みが比較的大きい部分から小さい部分に向かって亀裂が進行しやすい傾向があることから、側面導体109のうち厚みの大きい側から小さい側に分割時の亀裂が進行しやすい。
よって、亀裂の進行方向が曲がることが抑制されて、側面導体109を配線基板領域102の境界105に沿って縦に二分割させることができる。その結果、亀裂の進行が曲がることに起
因したバリや欠けが抑制される。したがって、外形寸法精度に優れるとともに、側面導体
109の剥がれも防止された配線基板202を提供できる。
That is, since the thickness of the side surface conductor 109 has a gradient, and in the metallized conductor, there is a tendency for cracks to easily progress from a portion having a relatively large thickness to a portion having a small thickness. The cracks during division tend to progress from the larger side to the smaller side.
Therefore, it is possible to suppress bending of the crack in the advancing direction, and it is possible to vertically divide the side surface conductor 109 into two along the boundary 105 of the wiring board region 102. As a result, burrs and chips caused by the bending of cracks are suppressed. Therefore, it has excellent external dimension accuracy and side conductors.
It is possible to provide the wiring board 202 in which peeling of the 109 is prevented.

次に、本発明の実施形態の配線基板を含む多数個取り配線基板の製造方法について、図5(a)〜(e)を参照して説明する。なお、以下の説明において、上述した実施形態の多数個取り配線基板等に関する説明と重複する点については説明を省略する。 Next, a method for manufacturing a multi-cavity wiring board including the wiring board according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. It should be noted that in the following description, description of points that are the same as those of the above-described multi-cavity wiring board and the like will be omitted.

まず、図5(a)に示すように、第1主面103を有し、下部絶縁層101bとなる第1セラミックグリーンシート(101b)を準備して、金型による打ち抜き加工等により第1孔部107となる貫通孔(貫通孔としては符号なし)を形成する。なお、第1孔部107が、第2主
面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に狭まっている構造とするためには、例えば第1主面103側が打ち抜き開始面となるように第1セラミックグリーンシート(101b)を厚み方向に打ち抜けばよい。これにより、上金型(パンチ部)と下金型(凹部)とのクリアランス(隙間)により、打ち抜き開始面よりも打ち抜き終了面の径が大きくなり、この径の差に応じたテーパーが形成された孔部を形成することができる。
First, as shown in FIG. 5A, a first ceramic green sheet (101b) having a first main surface 103 and serving as a lower insulating layer 101b is prepared, and a first hole is formed by punching with a mold or the like. A through hole (the through hole has no reference numeral) to be the portion 107 is formed. In order to have a structure in which the first hole 107 is narrowed inward from the end on the second main surface 104 side to the end on the first main surface 103 side, for example, the first main surface 103 side starts punching. The first ceramic green sheet (101b) may be punched in the thickness direction so that it becomes a surface. Thus, due to the clearance (gap) between the upper die (punch part) and the lower die (recess), the diameter of the punching end surface is larger than the diameter of the punching start surface, and a taper corresponding to this difference in diameter is formed. Open holes can be formed.

次に、図5(b)に示すように、上記実施形態の多数個取り配線基板における第2主面104に相当する主面を有し、上部絶縁層101aとなる第2セラミックグリーンシート(101
a)を準備する。この第2セラミックグリーンシート(101a)についても、第1孔部107となる貫通孔と同様に第2孔部108となる貫通孔(貫通孔としては符号なし)を形成する
。また、第2セラミックグリーンシート(101a)の中央部を打ち抜いて開口部(符号な
し)を形成して枠状に加工する。枠状の第2セラミックグリーンシート(101a)を第1
セラミックグリーンシート(101b)上に積層して、上記実施形態の多数個取り配線基板
における搭載部110を囲む枠部を形成する。ここで、第2孔部108は、第2主面104側の開
口がこれと反対側の開口よりも大きくなるように形成してもよい。なお、第2孔部108と
なる貫通孔と枠部を形成するための開口部とは、一括して形成してもよい。
Next, as shown in FIG. 5B, a second ceramic green sheet (101 having a main surface corresponding to the second main surface 104 in the multi-cavity wiring substrate of the above embodiment and serving as the upper insulating layer 101a.
Prepare a). Also in this second ceramic green sheet (101a), a through hole (a through hole having no reference numeral) to be the second hole portion 108 is formed similarly to the through hole to be the first hole portion 107. Further, the central portion of the second ceramic green sheet (101a) is punched out to form an opening (no reference numeral) and processed into a frame shape. First frame-shaped second ceramic green sheet (101a)
By laminating on the ceramic green sheet (101b), a frame portion surrounding the mounting portion 110 in the multi-cavity wiring board of the above-described embodiment is formed. Here, the second hole portion 108 may be formed such that the opening on the second main surface 104 side is larger than the opening on the opposite side. Note that the through hole to be the second hole portion 108 and the opening portion for forming the frame portion may be collectively formed.

次に、図5(c)に示すように、第1セラミックグリーンシート(101b)の貫通孔の
内側面に、側面導体109となる金属ペースト205を塗布する。具体的には次の通りである。まず、孔部に対応した位置に吸引孔を有する載置台の上に第1セラミックグリーンシート(101b)を載置するとともに、この第1セラミックグリーンシート(101b)の上面に、第1セラミックグリーンシート(101b)の貫通孔を露出させる開口部を有する印刷マス
クを載置する。そして、この印刷マスクの上から貫通孔内にスキージの摺動により金属ペースト205を供給するとともに、その金属ペースト205を吸引孔から吸引する。以上の工程によって第1セラミックグリーンシート(101b)の貫通孔の内側面に金属ペースト205を塗布することができる。塗布された金属ペースト205は、焼成時に焼結して第1孔部107内の側面導体109となる。
Next, as shown in FIG. 5C, a metal paste 205 to be the side surface conductor 109 is applied to the inner surface of the through hole of the first ceramic green sheet (101b). Specifically, it is as follows. First, the first ceramic green sheet (101b) is placed on a placing table having suction holes at positions corresponding to the holes, and the first ceramic green sheet (101b) is placed on the upper surface of the first ceramic green sheet (101b). A print mask having an opening for exposing the through hole of (101b) is placed. Then, the metal paste 205 is supplied from above the print mask into the through hole by sliding the squeegee, and the metal paste 205 is sucked through the suction hole. Through the above steps, the metal paste 205 can be applied to the inner surface of the through hole of the first ceramic green sheet (101b). The applied metal paste 205 is sintered during firing to become the side surface conductor 109 in the first hole 107.

ここで、側面導体109を第2主面104側の端部において、第1主面103側の端部よりも厚
く形成する場合には、例えば図5(c)に示すように印刷マスクの上から第1孔部107と
なる貫通孔内に金属ペースト205をスキージ等により供給する際に、その貫通孔の開口の
小さい側から大きい側に向かう方向で金属ペースト205を吸引すればよい。これにより、
第1孔部107となる貫通孔の開口の大きい側(下側)に、吸引した金属ペースト205の一部が重力により垂れ下がって金属ペースト205が厚く形成される。よって、側面導体109を第2主面104側の端部において、第1主面103側の端部よりも厚く形成することができる。
Here, when the side surface conductor 109 is formed thicker at the end portion on the second main surface 104 side than at the end portion on the first main surface 103 side, for example, as shown in FIG. Therefore, when the metal paste 205 is supplied into the through hole to be the first hole portion 107 with a squeegee or the like, the metal paste 205 may be sucked in the direction from the smaller opening side to the larger opening side of the through hole. This allows
A part of the sucked metal paste 205 hangs down due to gravity on the side (lower side) of the opening of the through-hole that becomes the first hole 107, and the metal paste 205 is formed thick. Therefore, the side surface conductor 109 can be formed thicker at the end portion on the second main surface 104 side than at the end portion on the first main surface 103 side.

次に、図5(d)に示すように、下部絶縁層101bとなる第1セラミックグリーンシー
ト(101b)に、上部絶縁層101aとなる第2セラミックグリーンシート(101a)を積層
することにより、母基板101となるセラミックグリーンシート積層体が形成される。なお
、第1孔部107と第2孔部108とは積層後に連通した構造となる。この実施形態の例で作製した母基板101は、例えば、内部に形成された配線導体113と補助導体112とを備えており
、補助導体112が側面導体109の第2主面104側の端部(側面導体109の厚い側)と配線導体113とに接続されている。配線導体113および補助導体112は、例えば上述した実施形態の
多数個取り配線基板に関する説明と同様の材料および方法で形成されている。
Next, as shown in FIG. 5(d), the second ceramic green sheet (101a) serving as the upper insulating layer 101a is laminated on the first ceramic green sheet (101b) serving as the lower insulating layer 101b, whereby the mother A ceramic green sheet laminate to be the substrate 101 is formed. The first hole 107 and the second hole 108 have a structure in which they communicate with each other after being laminated. The mother substrate 101 manufactured in the example of this embodiment includes, for example, a wiring conductor 113 and an auxiliary conductor 112 formed inside, and the auxiliary conductor 112 is an end portion of the side surface conductor 109 on the second main surface 104 side. It is connected to (the thick side of the side surface conductor 109) and the wiring conductor 113. The wiring conductor 113 and the auxiliary conductor 112 are formed, for example, by the same material and method as those described for the multi-cavity wiring board of the above-described embodiment.

上述したように、第1セラミックグリーンシート(101b)と第2セラミックグリーン
シート(101a)とを互いに上下に積層した場合、加圧時の圧力により側面導体109となる金属ペースト(塗布後は符号なし)の上端の一部が変形して第2孔部108(貫通孔)側(
上方向)に突出し、はみ出し部117が形成される場合がある。このはみ出し部117は、第2セラミックグリーンシート(101a)に形成された補助導体112と露出表面において重なるため、さらに配線導体113同士の接続を確実なものとすることができる。
As described above, when the first ceramic green sheet (101b) and the second ceramic green sheet (101a) are stacked on top of each other, the metal paste becomes the side conductor 109 due to the pressure at the time of pressurization (no reference numeral after application). A part of the upper end of) is deformed and the second hole portion 108 (through hole) side (
In some cases, the protruding portion 117 is formed by projecting upward (upward). Since the protruding portion 117 overlaps the auxiliary conductor 112 formed on the second ceramic green sheet (101a) on the exposed surface, the connection between the wiring conductors 113 can be further ensured.

なお、側面導体109のはみ出し部117を効果的に形成するには、例えば、上述したように、第1孔部107の第2主面104側の径が、第2孔部108の第1主面103側の径よりも若干小さくなるように、つまり、第2孔部108の第1主面103側の下端が第1孔部107の第2主面104側の上端に、第1孔部107の内周が露出した状態で積層すればよい。 In order to effectively form the protruding portion 117 of the side surface conductor 109, for example, as described above, the diameter of the first hole 107 on the second main surface 104 side is the first main portion of the second hole 108. The diameter is slightly smaller than the diameter on the surface 103 side, that is, the lower end of the second hole portion 108 on the first main surface 103 side is the upper end of the first hole portion 107 on the second main surface 104 side. The layers may be stacked with the inner periphery of 107 exposed.

その後、このように製作されたセラミックグリーンシート積層体を高温で焼成して、次の工程で分割溝106を形成すれば多数個取り配線基板を製作することができる。 After that, the ceramic green sheet laminate manufactured in this manner is fired at a high temperature, and the dividing grooves 106 are formed in the next step, whereby a multi-cavity wiring board can be manufactured.

そして、図5(e)に示すように、上記積層体のうち第1セラミックグリーンシート(101b)の第1主面103に、貫通孔を通過するようにレーザー119を照射する。レーザー119の照射位置は、上述した実施形態の多数個取り配線基板における配線基板領域(図5では符号なし)の境界105である。直線状の境界105に沿って順次照射位置を移動させながらレーザー119の照射を行なう。このレーザー加工により、境界105に沿って分割溝106が形成
される。なお、図5(e)は搭載部110を下側とした状態で、第1主面103側からレーザー119を照射する状態を示している。
Then, as shown in FIG. 5E, a laser 119 is irradiated onto the first main surface 103 of the first ceramic green sheet (101b) of the laminated body so as to pass through the through hole. The irradiation position of the laser 119 is the boundary 105 of the wiring board region (not shown in FIG. 5) in the multi-cavity wiring board of the above-described embodiment. Irradiation with the laser 119 is performed while sequentially moving the irradiation position along the linear boundary 105. By this laser processing, the dividing groove 106 is formed along the boundary 105. Note that FIG. 5E shows a state in which the mounting portion 110 is on the lower side and the laser 119 is irradiated from the first main surface 103 side.

第1孔部107の内径が第2主面104側の端部から第1主面103側の端部にかけて内側に狭
まっている構造となっている。よって、レーザー加工により母基板101に分割溝106を形成する際に、第1孔部107内の側面導体109にレーザー119が照射されにくく側面導体109の断線が抑制される。つまり、第1主面103側の端部がレーザー119の遮蔽領域として作用する。
The inner diameter of the first hole portion 107 is narrowed inward from the end portion on the second main surface 104 side to the end portion on the first main surface 103 side. Therefore, when the dividing groove 106 is formed in the mother substrate 101 by laser processing, the side surface conductor 109 in the first hole 107 is less likely to be irradiated with the laser 119, and the disconnection of the side surface conductor 109 is suppressed. That is, the end portion on the first main surface 103 side acts as a shield region for the laser 119.

また、例えば、第1主面103側において、側面導体109と外部接続導体115との接続性を
良好なものとするために、第1孔部107の周囲にリング状導体(図示せず)を形成した場
合には、母基板101に分割溝106を形成する際に、このリング状導体の厚み分だけレーザー119に対する遮蔽効果がより有効に得られる。そのため、この場合には、より一層第1孔
部107内の側面導体109にレーザー119が照射されにくくなり、さらに効果的に側面導体109の断線が抑制される。
Further, for example, on the first main surface 103 side, in order to improve the connectivity between the side surface conductor 109 and the external connection conductor 115, a ring-shaped conductor (not shown) is provided around the first hole portion 107. When it is formed, when the dividing groove 106 is formed in the mother substrate 101, the shielding effect against the laser 119 is more effectively obtained by the thickness of the ring-shaped conductor. Therefore, in this case, the side surface conductor 109 in the first hole portion 107 is more difficult to be irradiated with the laser 119, and the disconnection of the side surface conductor 109 is further effectively suppressed.

また、第2孔部108は第1孔部107と連通しているとともに、第2主面104側の開口が第
1主面103側の開口よりも大きい場合には、第2主面104側(上部絶縁層101aの領域)に
レーザー119で分割溝106を形成する際に、第2孔部108の奥までレーザー119が照射されやすいため、母基板101分割性を向上させることができる。よって、この場合には、第1主
面103側では側面導体109の断線や導通性の低下が抑制され、第2主面104側では母基板101の分割性が向上された多数個取り配線基板を実現できる。
The second hole portion 108 communicates with the first hole portion 107, and when the opening on the second main surface 104 side is larger than the opening on the first main surface 103 side, the second main surface 104 side. When the dividing groove 106 is formed in the region of the upper insulating layer 101a with the laser 119, the laser 119 is likely to be irradiated to the depth of the second hole 108, and thus the dividing property of the mother substrate 101 can be improved. Therefore, in this case, the multi-cavity wiring board in which the disconnection and the decrease in the conductivity of the side surface conductor 109 are suppressed on the first main surface 103 side, and the divisibility of the mother board 101 is improved on the second main surface 104 side. Can be realized.

なお、本発明の配線基板および電子装置は、以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えても何ら差し支えない。例えば、上記実施形態の例において、母基板101および配線基板202を1層の上部絶縁層101a
と1層の下部絶縁層101bの合計2層の絶縁層で構成したが、3層以上の絶縁層(図示せ
ず)で母基板101および配線基板202を構成してもよい。また、配線基板202の枠状メタラ
イズ層114は、ニッケルめっき層および金めっき層が上面に被着されたものとしたが、枠
状メタライズ層114には、被着されためっき層に、例えば鉄−ニッケル−コバルト合金か
らなる金属枠体(図示せず)が接合されていてもよい。
The wiring board and the electronic device of the present invention are not limited to the examples of the above embodiment, and various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the example of the above-described embodiment, the mother substrate 101 and the wiring substrate 202 are formed as one upper insulating layer 101a.
However, the mother board 101 and the wiring board 202 may be composed of three or more insulating layers (not shown). Further, the frame-shaped metallization layer 114 of the wiring board 202 is assumed to have the nickel plating layer and the gold plating layer deposited on the upper surface thereof, but the frame-shaped metallization layer 114 has, for example, iron. A metal frame (not shown) made of a nickel-cobalt alloy may be joined.

また、第1孔部107や第2孔部108を金型による打ち抜き加工で形成したが、レーザー加工装置による孔空け加工としてもよい。この場合、レーザー119の照射開始面が終了面よ
りも開口径が大きくなる傾向があり、これを応用して第1孔部107や第2孔部108を形成することもできる。
Further, although the first hole portion 107 and the second hole portion 108 are formed by punching using a die, they may be punched by a laser processing device. In this case, the irradiation start surface of the laser 119 tends to have a larger opening diameter than the end surface, and this can be applied to form the first hole portion 107 and the second hole portion 108.

また、例えば平面視で四角形状である配線基板領域102の角部に限らず、辺部分に第1
孔部107等が設けられていてもよい。
Further, for example, not only the corners of the wiring board region 102 having a quadrangular shape in a plan view but also the first portions on the sides.
The hole 107 and the like may be provided.

101・・・母基板
101a・・・上部絶縁層
101b・・・下部絶縁層
102・・・配線基板領域
103・・・第1主面
104・・・第2主面
105・・・境界
106・・・分割溝
107・・・第1孔部
108・・・第2孔部
109・・・側面導体
110・・・搭載部
111・・・接続導体
112・・・補助導体
113・・・配線導体
114・・・枠状メタライズ層
115・・・外部接続導体
117・・・はみ出し部
118・・・キャスタレーション
119・・・レーザー
202・・・配線基板
205・・・金属ペースト
101... Mother board
101a: upper insulating layer
101b...Lower insulating layer
102: Wiring board area
103... 1st main surface
104...Second main surface
105...boundary
106...dividing groove
107...First hole
108...Second hole
109... Side conductor
110...Mounting part
111...Connection conductor
112...Auxiliary conductor
113... Wiring conductor
114...Frame-shaped metallized layer
115...External connection conductor
117・・・Overhanging part
118...Castellation
119...Laser
202...wiring board
205・・・Metal paste

Claims (5)

第1主面を有する第1絶縁層および該第1主面と相対する第2主面を有する第2絶縁層を含む絶縁基板と、
前記第1主面から側面にかけて形成された第1キャスタレーションと、
該第1キャスタレーションの内側面に被着された側面導体とを有しており、
前記第1キャスタレーションのうち少なくとも前記内側面に前記側面導体が被着された部分は、前記第2主面側の端部から前記第1主面側の端部にかけて内側に狭まっており、
前記第2絶縁層は、前記側面導体における前記第2主面側の端部上に位置しており、
前記絶縁基板が前記第2主面に第2キャスタレーションを有しており、該第2キャスタレーションは前記第1キャスタレーションと連通しているとともに、前記第2主面側の幅が前記第1主面側の幅よりも大きいことを特徴とする配線基板。
An insulating substrate including a first insulating layer having a first main surface and a second insulating layer having a second main surface facing the first main surface;
A first castellation formed from the first main surface to the side surface;
A side surface conductor attached to the inner side surface of the first castellation,
At least a portion of the first castellation to which the side surface conductor is attached to the inner side surface is narrowed inward from the end portion on the second main surface side to the end portion on the first main surface side,
The second insulating layer is located on an end portion of the side surface conductor on the second main surface side,
The insulating substrate has a second castellation on the second main surface, the second castellation communicates with the first castellation, and the width on the second main surface side is the first castellation. A wiring board having a width larger than that of the main surface.
前記側面導体は、前記第2主面側の端部において、前記第1主面側の端部よりも厚いことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the side surface conductor is thicker at an end portion on the second main surface side than at an end portion on the first main surface side. 第1主面を有する第1絶縁層および該第1主面と相対する第2主面を有する第2絶縁層を含む絶縁基板と、
前記第1主面から側面にかけて形成された第1キャスタレーションと、
該第1キャスタレーションの内側面に被着された側面導体とを有しており、
前記第1キャスタレーションのうち少なくとも前記内側面に前記側面導体が被着された部分は、前記第2主面側の端部から前記第1主面側の端部にかけて内側に狭まっており、
前記第2絶縁層は、前記側面導体における前記第2主面側の端部上に位置しており、
前記側面導体は、前記第2主面側の端部において、前記第1主面側の端部よりも厚いことを特徴とする配線基板。
An insulating substrate including a first insulating layer having a first main surface and a second insulating layer having a second main surface facing the first main surface;
A first castellation formed from the first main surface to the side surface;
A side surface conductor attached to the inner side surface of the first castellation,
At least a portion of the first castellation to which the side surface conductor is attached to the inner side surface is narrowed inward from the end portion on the second main surface side to the end portion on the first main surface side,
The second insulating layer is located on an end portion of the side surface conductor on the second main surface side,
The wiring board, wherein the side surface conductor is thicker at an end portion on the second main surface side than at an end portion on the first main surface side.
前記絶縁基板の内部に形成された配線導体と、前記絶縁基板の内部に形成された補助導体とを備えており、前記補助導体は、前記側面導体の前記第2主面側の端部および前記配線導体に接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の配線基板。 A wiring conductor formed inside the insulating substrate and an auxiliary conductor formed inside the insulating substrate are provided, and the auxiliary conductor includes an end portion of the side surface conductor on the second main surface side and the side conductor. The wiring board according to any one of claims 1 to 3, which is connected to a wiring conductor. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の配線基板と、
該配線基板に搭載された電子部品とを有していることを特徴とする電子装置。
A wiring board according to any one of claims 1 to 4,
An electronic device having an electronic component mounted on the wiring board.
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