JP2005285865A - Multiple wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、広面積のセラミック母基板に各々が半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載するための小型の配線基板となる多数の配線基板領域を縦横の並びに一体的に配列形成して成る多数個取り配線基板に関するものである。 According to the present invention, a large number of wiring board regions, each of which is a small wiring board for mounting electronic components such as semiconductor elements and crystal resonators, are integrally formed in a vertical and horizontal arrangement on a large-area ceramic mother board. The present invention relates to a multi-piece wiring board.
従来、LSIや水晶振動子等の電子部品を搭載し収容するための小型の配線基板は、上面の中央部に電子部品を収容する凹部を有する絶縁基体と、凹部の内側から側面にかけて導出された配線導体と、絶縁基体の側面に、配線導体の導出端部分に接続するようにして形成されたメタライズ層(側面導体)とを具備する。なお、この側面のメタライズ層は、通常、絶縁基体の側面に、上下方向に形成された溝の内面に被着形成される。 Conventionally, a small-sized wiring board for mounting and housing electronic components such as LSIs and crystal resonators was led out from the inside to the side of the recess, with an insulating base having a recess for storing the electronic component in the center of the upper surface. A wiring conductor and a metallized layer (side conductor) formed on the side surface of the insulating base so as to be connected to the lead-out end portion of the wiring conductor are provided. The metallized layer on the side surface is usually deposited on the side surface of the insulating base and on the inner surface of the groove formed in the vertical direction.
この小型の配線基板は、一般に、このような配線基板となる四角形状の配線基板領域を、セラミック母基板に縦横に配列形成して成る多数個取り配線基板の形態で形成され、セラミック母基板を各配線基板領域の境界に沿って分割することにより製作されている。 This small wiring board is generally formed in the form of a multi-piece wiring board formed by arranging rectangular wiring board regions to be such wiring boards vertically and horizontally on a ceramic mother board. It is manufactured by dividing along the boundary of each wiring board region.
多数個取り配線基板は、図3(a),(b)にそれぞれ平面図およびY−Y’線での断面図で示すように、例えば酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料から成る二層の絶縁層を積層してなるセラミック母基板32の上面中央部に、電子部品を搭載するための凹部31が形成された配線基板領域33が複数縦横に配列形成されて成る構造である。
As shown in FIGS. 3A and 3B, respectively, a plan view and a cross-sectional view taken along the line YY ′, the multi-cavity wiring board is composed of two layers made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body. In this structure, a plurality of
各配線基板領域33の境界に沿って分割溝39が形成されており、この分割溝39にまたがるようにして横断面が円形状等の貫通孔34が複数個形成され、貫通孔34の内面にはメタライズ層36が被着されている。
A dividing
メタライズ層36は、例えば、凹部31の内面から貫通孔34にかけて導出された配線導体35と接続され、隣り合う配線基板領域33の間で互いの配線導体35同士を電気的に接続する機能や、配線導体35を絶縁基体の下面側に導出する機能等を有している。
The
隣り合う配線基板領域33の間で、互いに配線導体35同士を電気的に接続するのは、配線導体35の露出表面に酸化防止等のためのめっき層を電解めっき法で被着させるような場合に、めっき用の電流を各配線基板領域33の配線導体35に通電し供給すること等のためである。
The reason why the
また、通常、セラミック母基板32の下面の外周にはメタライズ層36と接続されるようにして外部接続用導体37が形成されている。さらに、各配線基板領域33のうち、凹部31を取り囲む上面部分には、金属製の蓋体(図示せず)を接合して凹部31を封止するための、封止用メタライズ層38が形成されている。
In general, an
そして、多数個取り配線基板を各絶縁基体31となる領域毎に分割することによって、各領域の境界上に形成された貫通孔34の内面のメタライズ層36が縦に2分割され、内面にメタライズ層36を有する溝から成る側面導体が形成された配線基板が製作される。
Then, by dividing the multi-cavity wiring board into regions to be the respective
このような配線基板は、凹部31内に電子部品(図示せず)を収容するとともに、電子部品の電極を凹部31底面の配線導体35にボンディングワイヤや導電性接着剤を介して電気的に接続し、しかる後、封止用メタライズ層38に蓋体を凹部31を塞ぐようにして接合させ、凹部31内に電子部品を気密に収容することによって製品としての電子装置となり、この電子装置は、外部接続用導体37を外部の電気回路基板の配線導体に半田を介して接続することにより外部電気回路基板に実装されるとともに、収容する電子部品の電極が外部電気回路に電気的に接続されることとなる。
Such a wiring board accommodates an electronic component (not shown) in the
多数個取り配線基板は、通常、酸化アルミニウム等の原料粉末をシート状に成形したセラミックグリーンシート(以下、単にグリーンシートともいう)を複数枚準備し、このグリーンシートの一部のものについて打ち抜き加工を施して凹部31を形成するための開口を設けるとともに、配線基板領域33の境界にまたがる貫通孔34を形成し、次に、グリーンシートの表面および貫通孔34の内面にタングステン等の金属粉末ペーストを所定の配線導体のパターンに印刷し、その後、これらのグリーンシートを順に積層、焼成することによって製作される。
A multi-cavity wiring board is usually prepared by preparing a plurality of ceramic green sheets (hereinafter also simply referred to as green sheets) obtained by forming a raw material powder such as aluminum oxide into a sheet, and punching a part of the green sheet. And forming a through
なお、貫通孔34の内面に被着したメタライズ層36の形成は、真空吸引を併用した周知のスクリーン印刷法等により行われており、例えば、印刷して貫通孔34内に充填された金属粉末ペーストをセラミック母基板32の下側から吸引して金属粉末ペーストの一部を除去することにより、金属粉末ペーストの残部を貫通孔34の内面に被着させることができる。この金属粉末ペースト(メタライズ層36)の厚みは、図4に示すように、全周にわたってほぼ同じ厚みとなっていた。図4は、図3に示した多数個取り配線基板を分割して形成した配線基板領域33のうち、メタライズ層36(貫通孔34を二分割してできた溝39の内面に被着されている)の部分を拡大した斜視図であり、図3と同じ部位には同じ符号を付している。
しかしながら、このような多数個取り配線基板は、近時の電子装置に対する小型化の要求に伴い、各配線基板領域33の大きさが数mm角程度の小さなものとなってきており、それに伴って封止用メタライズ層38の幅も、例えば300μm以下と非常に狭いものとなり、封止用メタライズ38に対する蓋体(図示せず)の良好な接合強度を確保するためには、封止用メタライズ38の幅が限界となってきている。そのため、さらに配線基板領域33を小さくしようとすると、配線基板領域33の境界に形成した複数個の貫通孔34の大きさを小さくしなければならなくなってきた。
However, in such a multi-piece wiring board, the size of each
この貫通孔34の大きさが小さいものとなると貫通孔34の内面に被着されたメタライズ層36の面積が小さくなる。通常、貫通孔34の内面に被着されたメタライズ層36は、その厚みが10〜15μm程度で形成されており、メタライズ層36の面積が小さくなると密着強度(メタライズ層を絶縁基体から引き剥がすために必要な力)が弱くなることから、セラミック母基板32を各配線基板領域33に個片状に分割する際に、隣り合う配線基板領域33同士の境界部分で、それぞれの配線基板領域32側に引っ張られるような方向に応力が作用するため、貫通孔34の内面に被着形成されたメタライズ層36が剥がれて、このメタライズ層36に、断線が生じたり、剥がれたメタライズ層36が隣り合うメタライズ層間を電気的に短絡する等の不具合が発生するという問題点があった。
If the size of the
本発明は、かかる従来の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、配線基板の小型化に応じて、メタライズ層が被着された貫通孔が小さくなったとしても、セラミック母基板を各配線基板領域に分割する際に、貫通孔の内面に被着形成されたメタライズ層の剥がれを効果的に防止することができるとともに、貫通孔の内面に被着形成されたメタライズ層の剥がれによる断線やメタライズ層間の短結等の発生がない多数個取り配線基板を提供することにある。 The present invention has been devised in view of such conventional problems. The purpose of the present invention is to reduce the size of the wiring board, even if the through-hole to which the metallized layer is deposited becomes smaller. When dividing the substrate into each wiring board region, it is possible to effectively prevent peeling of the metallized layer deposited on the inner surface of the through hole, and the metallized layer deposited on the inner surface of the through hole. An object of the present invention is to provide a multi-piece wiring board in which disconnection due to peeling or short-circuiting between metallized layers does not occur.
本発明の多数個取り配線基板は、四角形状の配線基板領域が縦横に配列形成されたセラミック母基板の主面に前記配線基板領域の境界に沿って分割溝が設けられるとともに、内面の全面にメタライズ層が被着された複数個の貫通孔が前記分割溝をまたがるようにして形成されている多数個取り配線基板であって、前記メタライズ層は、横断面において前記分割溝から最も遠い部位が最も厚く前記分割溝に接する部位が最も薄くなるように厚みが全周にわたって漸次変化していることを特徴とするものである。 The multi-cavity wiring board of the present invention is provided with a dividing groove along the boundary of the wiring board area on the main surface of the ceramic mother board in which rectangular wiring board areas are arranged vertically and horizontally, and on the entire inner surface. A multi-cavity wiring board in which a plurality of through-holes with a metallized layer deposited thereon are formed so as to straddle the divided grooves, and the metallized layer has a portion farthest from the divided grooves in a transverse section. The thickness is gradually changed over the entire circumference so that the thickest portion contacting the dividing groove is the thinnest.
また、本発明の多数個取り配線基板は、好ましくは、前記メタライズ層は、全周にわたる横断面形状が前記分割溝の延長線に対して線対称であることを特徴とするものである。 In the multi-piece wiring board of the present invention, it is preferable that the metallized layer has a cross-sectional shape over the entire circumference that is axisymmetric with respect to an extension line of the dividing groove.
また、本発明の多数個取り配線基板は、好ましくは、前記セラミック母基板は、その外周部に前記配線基板領域の全体を取り囲むように捨て代領域が形成されており、該捨て代領域は、その内部に前記配線基板領域の主面に形成された配線導体に前記貫通孔を介して電気的に接続された、前記配線基板領域の全体を取り囲む前記枠状導体層が形成されていることを特徴とするものである。 Further, in the multi-cavity wiring board of the present invention, preferably, the ceramic mother board has a disposal margin area formed so as to surround the entire wiring board area on the outer periphery thereof, The frame-like conductor layer surrounding the entirety of the wiring board region, which is electrically connected to the wiring conductor formed on the main surface of the wiring board region through the through hole, is formed therein. It is a feature.
本発明の多数個取り配線基板によれば、メタライズ層は、横断面において分割溝から最も遠い部位が最も厚く分割溝に接する部位が最も薄くなるように厚みが全周にわたって漸次変化していることから、厚肉部(メタライズ層の厚さの厚い、分割溝から遠い部位)によってメタライズ層の皮膜としての強度を強くすることができ、セラミック母基板を各配線基板領域に分割する際に、隣り合う配線基板領域が両側へ引っ張られることにより発生するメタライズ層の剥がれを防止することができる。また、薄肉部(メタライズ層の厚さの薄い、分割溝に接した部位)によりセラミック母基板を分割する際、メタライズ層を良好に縦に二分割することができ、亀裂がメタライズ層とセラミック母基板との界面に進行してメタライズ層が剥がれるのを有効に抑制することができる。 According to the multi-cavity wiring board of the present invention, the metallized layer has a thickness that gradually changes over the entire circumference so that the portion farthest from the dividing groove in the cross section is the thickest and the portion that contacts the dividing groove is the thinnest. Therefore, the strength of the metallized layer as a coating can be increased by the thick portion (the portion where the thickness of the metallized layer is thick and the part far from the dividing groove), and when the ceramic mother board is divided into each wiring board region, It is possible to prevent the metallized layer from peeling off when the matching wiring board region is pulled to both sides. In addition, when the ceramic mother substrate is divided by the thin-walled portion (the portion where the metallized layer is thin and in contact with the dividing groove), the metalized layer can be divided into two vertically in a favorable manner, and cracks are formed in the metalized layer and the ceramic mother. It is possible to effectively prevent the metallized layer from peeling off by proceeding to the interface with the substrate.
また、本発明の多数個取り配線基板は、好ましくは、メタライズ層は、全周にわたる横断面形状が分割溝の延長線に対して線対称であることから、隣り合う配線基板領域の貫通孔の内壁に被着形成されたメタライズ層同士の皮膜強度を均一とすることができるため、よりいっそう効果的に隣り合う配線基板領域が両側へ引っ張られることにより発生するメタライズ層の剥がれを防止することができる。 In the multi-cavity wiring board of the present invention, preferably, the metallized layer has a cross-sectional shape over the entire circumference that is axisymmetric with respect to the extension line of the dividing groove. Since the film strength of the metallized layers deposited on the inner wall can be made uniform, it is possible to prevent peeling of the metallized layer that occurs when the adjacent wiring board regions are pulled to both sides more effectively. it can.
また、本発明の多数個取り配線基板は、好ましくは、セラミック母基板は、その外周部に配線基板領域の全体を取り囲むように捨て代領域が形成されており、捨て代領域は、その内部に配線基板領域の主面に形成された配線導体に貫通孔を介して電気的に接続された、配線基板領域の全体を取り囲む枠状導体層が形成されていることから、捨て代領域によりセラミック母基板の取り扱いがより容易なものとなるとともに、その捨て代領域に形成された枠状導体層を介して、四角枠状の配線基板領域が縦横に配列形成されたセラミック母基板を電気的に一体に接続することが可能となり、配線基板領域の各配線導体に均一にめっきを被着形成することがより一層容易に可能となる。また、セラミック母基板の主面に前記配線基板領域の境界に沿って分割溝を形成したとしても、配線基板領域(配線導体等)と捨て代領域に形成された枠状導体層とはメタライズ層が被着された貫通孔により接続されており、分割溝の深さに関係なく安定した電気的接続とすることができる。 Further, in the multi-cavity wiring board of the present invention, preferably, the ceramic mother board has a disposal margin area formed so as to surround the entire wiring board area on the outer periphery thereof, and the disposal margin area is formed in the inside thereof. Since a frame-like conductor layer that surrounds the entire wiring board area and is electrically connected to the wiring conductor formed on the main surface of the wiring board area through the through-hole is formed, The board is easier to handle, and the ceramic mother board, in which square frame-like wiring board areas are arranged vertically and horizontally, is electrically integrated through a frame-like conductor layer formed in the disposal margin area. Therefore, it is possible to more easily form the plating uniformly on each wiring conductor in the wiring board region. Further, even if the dividing groove is formed along the boundary of the wiring board area on the main surface of the ceramic mother board, the wiring board area (wiring conductor, etc.) and the frame-like conductor layer formed in the disposal margin area are metallized layers. Are connected by the through-holes deposited, and stable electrical connection can be achieved regardless of the depth of the dividing groove.
次に、本発明の多数個取り配線基板について、添付の図面を基に詳細に説明する。図1(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す平面図であり、図1(b)は図1(a)のX−X’線における断面図である。また、図2は図1に示す多数個取り配線基板を分割して形成した配線基板領域のメタライズ層部分の拡大斜視図である。図中、1は電子部品を収納するための凹部、2は四角形状の配線基板領域を縦横に配列形成したセラミック母基板、3は配線基板領域、4は配線基板領域3の境界をまたがるように形成された貫通孔、5は配線導体、6は貫通孔4の内面に被着されたメタライズ層、10は貫通孔4が二分割されることにより形成された溝である。
Next, the multi-piece wiring board of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a plan view showing an example of an embodiment of a multi-piece wiring board according to the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line X-X ′ of FIG. FIG. 2 is an enlarged perspective view of a metallized layer portion of a wiring board region formed by dividing the multi-cavity wiring board shown in FIG. In the figure, 1 is a recess for storing electronic components, 2 is a ceramic mother board in which square-shaped wiring board areas are arranged vertically and horizontally, 3 is a wiring board area, and 4 is across the boundary of the
セラミック母基板2は、酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,ガラスセラミックス等のセラミック材料から成り、例えば、このようなセラミック材料から成る複数の絶縁層を積層することにより形成されている。
The
セラミック母基板2は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素等の原料粉末を有機溶剤,バインダーとともにシート状に成形して複数のセラミックグリーンシートを作製し、このセラミックグリーンシートに打抜き加工を施して所定の形状、寸法に加工するとともに上下に積層して積層体となし、高温(1500〜1600℃程度)で焼成することにより形成される。
If the
セラミック母基板2には、配線基板領域3が縦横に配列され、これらの境界線に沿って分割溝9が形成されている。そして、この分割溝9に沿ってセラミック母基板2に応力を加え、破断させることにより、各配線基板領域3に分割される。
In the
この分割溝9は、通常、セラミック母基板2の上下面に、それぞれ平面視で同じ位置となるように形成されている。これは、セラミック母基板2の各配線基板領域3をバリやカケ等の不具合を生じることなく確実に分割するためである。
The dividing
このような分割溝9はセラミック母基板2の各絶縁層となるセラミックグリーンシート積層体の上下面に、カッター刃や金型を押し当てて切り込みを入れる等の方法で形成される。また、分割溝9の深さは、分割時のクラックやバリ、カケを防止するために、セラミック母基板2のセラミック絶縁層の厚みに対して、その深さが20〜70%程度に設定される。なお、セラミック母基板2を取り扱い中に配線基板領域3に分割されるのを防止するため、分割溝9はセラミック母基板2の厚みの中央に達しないように形成される。
Such dividing
この配線基板領域3は、電子部品(図示せず)を気密に収容する機能をなし、通常、四角箱状であり、その上面中央部に電子部品を搭載するための搭載部を有しているとともに、その外周部に上面視で半円状の溝10を有している。
The
このような溝10は、セラミック母基板2に、分割溝9にまたがるようにして貫通孔4を形成しておくことにより形成される。つまり、各配線基板領域3に分割される際に貫通孔4も二分割されて溝10となる。
Such a
また、配線基板領域3の凹部1の内側から側面の貫通孔4にかけて配線導体5が被着されており、この配線導体5のうち凹部1の内側に露出する部位には電子部品の電極がボンディングワイヤ等を介して電気的に接続される。
Further, a
配線導体5は、タングステン,モリブデン,銅,銀等の金属材料から成り、例えば、タングステンから成る場合であれば、タングステンのペーストを配線基板領域3の各絶縁層となるセラミックグリーンシートの表面に所定パターンに印刷塗布しておき、一体焼成することにより形成することができる。
The
さらに、貫通孔4内の内面にはメタライズ層6が被着されており、配線導体5と同様の金属材料が用いられる。
Further, a
このメタライズ層6は、隣り合う配線基板領域3の配線導体5同士を互いに電気的に接続する機能をなす。
The metallized
隣り合う配線基板領域3の間で、互いに配線導体5同士を電気的に接続するのは、後述するように配線導体5の露出表面に酸化防止等のためのめっき層を電解めっき法で被着させるような場合に、めっき用の電流を各配線基板領域3の配線導体5に通電し供給すること等のためである。そのため、メタライズ層6は、貫通孔4の内周に、隣り合う配線基板領域3の間で連続させて形成する必要がある。
Between the
また、このメタライズ層6は配線導体5と外部接続用導体7とを接続するための導体としても機能し、外部接続用導体7を外部電気回路基板の回路導体に半田等を介して接続することにより内部に収容されるとともに配線導体5と接続された電子部品が、配線導体5と貫通孔4の内面に被着されたメタライズ層6と外部接続用導体7とを介して外部電気回路に電気的に接続されるようになっている。
The metallized
また、配線基板領域3の上面の外周には凹部1を取り囲むようにして四角枠状の封止用メタライズ層8が被着されており、この封止用メタライズ層8はメタライズ層6の少なくとも一つに接続されている。
Further, a rectangular frame-shaped
封止用メタライズ層8は、配線基板領域3の上に蓋体(図示せず)を接合させるための下地金属として機能し、例えば鉄−ニッケル−コバルト合金等の金属から成る四角平板状の蓋体を封止用メタライズ層8にろう材を介して接合することにより、配線基板領域3上に蓋体が接合される。なお、封止用メタライズ層8はメタライズ層6の一つに接続されていることにより、例えば電気的に接地されることが可能となる。
The sealing
ここで、図2に示すように、メタライズ層6は横断面において分割溝から最も遠い部位が最も厚く、また分割溝の接する部位が最も薄くなるように厚みが全周にわたって漸次変化するように形成されている。
Here, as shown in FIG. 2, the metallized
これにより、厚肉部(メタライズ層6の厚さの厚い、分割溝から遠い部位)によってメタライズ層6の皮膜としての強度を強くすることができ、セラミック母基板2を各配線基板領域3に分割する際に、隣り合う配線基板領域3が両側へ引っ張られることにより発生するメタライズ層6の剥がれを防止することができる。また、メタライズ層6の薄肉部(メタライズ層6の厚さの薄い、分割溝に接する部位)によって、セラミック母基板2を分割する際、メタライズ層6を良好に縦に二分割することができ、亀裂がメタライズ層6とセラミック母基板2との界面に進行してメタライズ層6が剥がれるのを有効に抑制することができる。
As a result, the strength of the metallized
この場合、セラミック母基板2を各配線基板領域3に分割する際に、分割溝9の先端部から進行した亀裂をメタライズ層6の最も薄く形成された部位に直線的に進行させることができるので、亀裂の進行方向が曲げられることなく良好に縦に二分割させることができる。その結果、亀裂の進行がばらつくことがないので、よりいっそう確実にメタライズ層6の剥がれを防止することができる。これは、一旦亀裂の方向が決まってしまえば、その亀裂はその方向に進行しようとする性質があるためである。
In this case, when the
よって、貫通孔4の内面のメタライズ層6は、上面の分割溝9の先端部から対向する分割溝9の先端部へ分割されることとなり、メタライズ層6の剥がれを効果的に防止する効果がある。
Therefore, the metallized
また、セラミック母基板2を各配線基板領域3に分割する際に、分割溝9の先端部から進行した亀裂が対向する分割溝9の先端部方向に進行するまでに蛇行したとしても、貫通孔4の内面に被着されたメタライズ層6は横断面において分割溝9から最も遠い部位に向かって厚く形成されるように厚肉部が設けられており皮膜としての強度を有していることから、貫通孔4の内面から剥がれてめくれ上がることがない。
Further, when the
なお、配線導体5やメタライズ層6、外部接続用導体7および封止用メタライズ層8は、その露出表面にニッケル、金等のめっき層を被着させておくことが好ましい。これにより、配線導体5やメタライズ層6、外部接続用導体7および封止用メタライズ層8の酸化を効果的に防止することができるとともに、配線導体5に対するボンディングワイヤのボンディング性や、封止用メタライズ層に対するろう材の濡れ性等を向上させることができ、より一層、電子部品の電気的接続等の信頼性に優れた配線基板を形成することが可能な多数個取り配線基板とすることができる。
The
このようなめっき層は、多数個取り配線基板をめっき用治具で保持し、めっき液中で、治具の端子から配線導体5に電気的導通を取ってめっき用の電流を供給することにより形成される。
Such a plating layer is obtained by holding a multi-piece wiring board with a plating jig, and electrically connecting the
また、メタライズ層6は、全周にわたる横断面形状が分割溝9の延長線に対して線対称であることが好ましい。これにより、隣り合う配線基板領域3の貫通孔4の内壁に被着形成されたメタライズ層6同士の皮膜強度を均一とすることができるため、よりいっそう効果的に隣り合う配線基板領域3が両側へ引っ張られることにより発生するメタライズ層6の剥がれを防止することができる。
Further, the metallized
このように、各絶縁層の貫通孔4の内面に薄肉部と厚肉部とを有するメタライズ層6を形成する方法としては、例えば以下のようにして作製される。先ず、各絶縁層となるセラミックグリーンシートの所定の位置に貫通孔4となる貫通孔を形成した後、このセラミックグリーンシートを貫通孔が印刷テーブルに設けられた吸引孔と一致するように印刷テーブルに載置する。しかる後、セラミックグリーンシートの貫通孔の上側に、スクリーン印刷用の製版に形成された楕円状の開口孔とセラミックグリーンシートの貫通孔とが重なるとともに楕円状の開口孔の短径が分割溝9と直交するように位置決めしてスクリーン印刷用の製版を載置する。そして、タングステン等のメタライズペーストを貫通孔4に流し込みながら印刷テーブルの吸引孔からメタライズペーストの一部を吸引除去することで形成することができる。
Thus, as a method of forming the metallized
このとき、使用するメタライズペーストの粘度を調整することにより、セラミックグリーンシートの分割溝9から最も遠い部位が厚くなるように、分割溝9に接する部位が最も薄くなるように形成することができる。例えば、印刷後に貫通孔の内部に被着されるメタライズ層6の厚みを分割溝9から最も遠い部位で30〜40μm、分割溝9に接する部位で10〜15μm程度となるようにするために、配線導体5を形成するメタライズペーストよりも粘度の高いものを使用すれば良い。そして、これらのセラミックグリーンシートを複数枚積層して焼成することにより、上記の貫通孔が重なって貫通孔4となり、その内面には横断面において分割溝から最も遠い部位が最も厚く分割溝9に接する部位が最も薄くなるように厚みが全周にわたって漸次変化してメタライズ層6が被着形成される。
At this time, by adjusting the viscosity of the metallized paste to be used, it is possible to form the ceramic green sheet so that the portion farthest from the dividing
ここで、各絶縁層の貫通孔4の内面に被着形成するメタライズ層6の厚みは、分割溝9から最も遠い部位で30〜40μm、また、分割溝9に接する部位で10〜15μm程度であるのが望ましい。10μm未満だと、各絶縁層に形成された配線導体5とメタライズ層6とを電気的に確実に接続することが難しくなる。また、40μmを超えるとメタライズ層6が形成された後の見かけ上の開口径が小さくなり、貫通孔4の内面に形成されたメタライズ層6にめっき液が充分に循環されなくなるため、めっきが被着され難くなるためである。
Here, the thickness of the metallized
また、本発明の多数個取り配線基板において、セラミック母基板2は、その外周部に配線基板領域3の全体を取り囲むように捨て代領域11が形成されており、捨て代領域11は、その内部に配線基板領域3の主面に形成された配線導体5に貫通孔4を介して電気的に接続された、配線基板領域3の全体を取り囲む枠状導体層12が形成されていることが好ましい。
Further, in the multi-cavity wiring board of the present invention, the
捨て代領域11によりセラミック母基板2の取り扱いがより容易なものとなるとともに、その捨て代領域11に形成された枠状導体層12を介して、四角枠状の配線基板領域3が縦横に配列形成されたセラミック母基板2を電気的に一体に接続することが可能となり、配線基板領域3の各配線導体5に均一にめっきを被着形成することがより一層容易に可能となる。また、セラミック母基板2の主面に配線基板領域3の境界に沿って分割溝を形成したとしても、配線基板領域3(配線導体5等)と捨て代領域11に形成された枠状導体層12とはメタライズ層6が被着された貫通孔4により接続されており、分割溝の深さに関係なく安定した電気的接続とすることができる。
The
例えば、枠状導体層12からセラミック母基板2の側面にめっき用の引き出し線を導出形成し、この引き出し線の導出部分にめっき用治具の端子を接続することにより、枠状導体層12を介して各配線基板領域3の配線導体5にめっき用の電流を一括して供給することができる。
For example, a lead wire for plating is led out and formed on the side surface of the
かくして、本発明の多数個取り配線基板によれば、セラミック母基板2を各配線基板領域3に分割する際に、隣り合う配線基板領域3が両側へ引っ張られることにより発生するメタライズ層6の剥がれを効果的に防止することができることから、貫通孔4の内面のメタライズ層6の剥がれに起因する断線やショートが防止され、電気的信頼性に優れた電子装置とすることができる。
Thus, according to the multi-piece wiring board of the present invention, when the
なお、本発明は上記実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で変更、改良を施すことは何ら差し支えない。 It should be noted that the present invention is not limited to the examples of the above-described embodiments, and changes and modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
2・・・・・セラミック母基板
3・・・・・配線基板領域
4・・・・・貫通孔
5・・・・・配線導体
6・・・・・メタライズ層
9・・・・・分割溝
11・・・・捨て代領域
12・・・・枠状導体層
2 ...
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