JP2020126895A - Multilayer electronic component - Google Patents

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Abstract

To provide a multilayer electronic component having high bending strength and thermal shock resistance.SOLUTION: In a multilayer electronic component including an element body having an inner layer part where an internal ceramic layer and an internal electrode layer are laminated alternately, and an outer layer part provided at the end of the inner layer part in the lamination direction, the internal ceramic layer contains an element α and an element β, where the element α is at least one selected from a group consisting of Ba, Sr and Ca, the element β consists of Ta or Ta and Nb, percentage content of the element α in the internal ceramic layer is 33.3-50.0 mol% in oxide equivalent, percentage content of the element β in the internal ceramic layer is 25.0-50.mol% in oxide equivalent, and when assuming the content of Ta in the internal ceramic layer is E0 in oxide equivalent, and the content of Ta in the external ceramic layer constituting the outer layer part is E1 in oxide equivalent, (E0-E1) satisfies a relationship of (E0-E1)>0.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、セラミックス層を有する積層電子部品に関し、たとえば積層セラミックコンデンサに関する。 The present invention relates to a laminated electronic component having a ceramic layer, for example, a laminated ceramic capacitor.

積層セラミックコンデンサは、その信頼性の高さやコストの安さから多くの電子機器に搭載されている。具体的な電子機器としては、携帯電話等の情報端末、家電、自動車電装品が挙げられる。この中でも自動車電装品などの車載用として使用される積層セラミックコンデンサは、家電や情報端末などに使用されている積層セラミックコンデンサに比べて、曲げ強度が高く、耐熱衝撃性が高いことが求められている。 A monolithic ceramic capacitor is mounted on many electronic devices because of its high reliability and low cost. Specific electronic devices include information terminals such as mobile phones, home appliances, and automobile electrical components. Among them, the monolithic ceramic capacitors used for automobiles such as automobile electrical components are required to have higher bending strength and higher thermal shock resistance than the monolithic ceramic capacitors used for home electric appliances and information terminals. There is.

たとえば特許文献1には一般式A(B1)(B2)15で表される正方晶タングステンブロンズ構造を有する主成分、およびSiなどを含む副成分を有する誘電体磁器組成物が開示されている。なお上記の一般式のAは、Ba、Sr、Caおよび希土類元素から選択される少なくとも1つであり、B1およびB2は、ZrおよびNbを含む。 For example, Patent Document 1 discloses a dielectric ceramic composition having a main component having a tetragonal tungsten bronze structure represented by the general formula A 3 (B1)(B2) 4 O 15 and a sub-component including Si and the like. ing. Note that A in the above general formula is at least one selected from Ba, Sr, Ca, and rare earth elements, and B1 and B2 include Zr and Nb.

特開2018−104209号公報JP, 2018-104209, A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、曲げ強度および耐熱衝撃性が高い積層電子部品を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a laminated electronic component having high bending strength and high thermal shock resistance.

上記の目的を達成するための本発明の積層電子部品は以下の通りである。 The laminated electronic component of the present invention for achieving the above object is as follows.

[1]内部セラミックス層と内部電極層とが交互に積層された内層部と、前記内層部の積層方向の端部に備えられた外層部と、を有する素子本体を具備する積層電子部品であって、
前記内部セラミックス層は、元素αおよび元素βとを含み、
前記元素αはBa、SrおよびCaからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、
前記元素βはTaまたは、TaおよびNbからなり、
前記内部セラミックス層における元素αの含有率は、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、
前記内部セラミックス層における元素βの含有率は、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であり、
前記内部セラミックス層におけるTaの酸化物換算での含有率をE0とし、前記外層部を構成する外部セラミックス層におけるTaの酸化物換算での含有率をE1としたとき、
(E0−E1)は、(E0−E1)>0の関係を満たす積層電子部品。
[1] A laminated electronic component including an element body having an inner layer portion in which inner ceramic layers and inner electrode layers are alternately laminated, and an outer layer portion provided at an end portion of the inner layer portion in the laminating direction. hand,
The internal ceramics layer contains an element α and an element β,
The element α is at least one selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca,
The element β is composed of Ta or Ta and Nb,
The content rate of the element α in the internal ceramics layer is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide.
The content rate of the element β in the internal ceramics layer is 25.0 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide,
When the oxide content of Ta in the internal ceramics layer is E0 and the oxide content of Ta in the external ceramics layer forming the outer layer portion is E1,
(E0-E1) is a laminated electronic component that satisfies the relationship of (E0-E1)>0.

上記[1]の具体的態様として、下記の態様が例示される。 The following modes are illustrated as specific modes of the above [1].

[2]前記内部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、前記外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、がそれぞれ略同量である上記[1]に記載の積層電子部品。 [2] The content of each element other than the element β in the internal ceramics layer in terms of oxide is substantially the same as the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer in terms of oxide. The laminated electronic component according to the above [1].

[3]前記(E0−E1)は、5mol%≦(E0−E1)≦15mol%の関係を満たす上記[1]または[2]に記載の積層電子部品。 [3] The laminated electronic component according to the above [1] or [2], wherein (E0-E1) satisfies the relationship of 5 mol%≦(E0-E1)≦15 mol%.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a monolithic ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明を具体的な実施形態に基づき、以下の順序で詳細に説明する。
1. 積層セラミックコンデンサ
2. 積層セラミックコンデンサの製造方法
3. 本実施形態のまとめ
Hereinafter, the present invention will be described in detail in the following order based on specific embodiments.
1. Multilayer ceramic capacitor 2. 2. Method of manufacturing monolithic ceramic capacitor Summary of this embodiment

1.積層セラミックコンデンサ
本発明の一実施形態として、積層セラミックコンデンサについて説明する。図1に、一般的な積層セラミックコンデンサ2の断面図を示す。
1. Multilayer Ceramic Capacitor A multilayer ceramic capacitor will be described as an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a cross-sectional view of a general monolithic ceramic capacitor 2.

積層セラミックコンデンサ2は、素子本体4と、一対の外部電極6,8と、を有する。素子本体4は、内層部13および外層部11を有する。内層部13はX軸およびY軸を含む平面に実質的に平行な内部セラミックス層10と内部電極層12とを有し、内部セラミックス層10と内部電極層12がZ軸の方向に沿って交互に積層されている。 The monolithic ceramic capacitor 2 has an element body 4 and a pair of external electrodes 6 and 8. The element body 4 has an inner layer portion 13 and an outer layer portion 11. The inner layer portion 13 has an internal ceramics layer 10 and an internal electrode layer 12 which are substantially parallel to a plane including the X axis and the Y axis, and the internal ceramics layer 10 and the internal electrode layer 12 alternate along the Z axis direction. Are stacked on.

ここで、「実質的に平行」とは、ほとんどの部分が平行であるが、多少平行でない部分を有していてもよいことを意味し、内部セラミックス層10と内部電極層12は、多少、凹凸があったり傾いていたりしてもよいという趣旨である。 Here, “substantially parallel” means that most of the parts are parallel, but may have some parts that are not parallel to each other. It means that it may be uneven or inclined.

なお、図において、X軸とY軸とZ軸とは相互に垂直である。 In the drawing, the X axis, the Y axis, and the Z axis are perpendicular to each other.

外層部11は内層部13の積層方向(Z軸方向)の端部に備えられている。 The outer layer portion 11 is provided at an end portion of the inner layer portion 13 in the stacking direction (Z-axis direction).

内部電極層12は、各端部が素子本体4の対向する両端面の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極6,8は、素子本体4の両端面に形成され、交互に配置された内部電極層12の露出端に接続されて、コンデンサ回路を構成する。 The internal electrode layers 12 are laminated so that their ends are alternately exposed on the surfaces of the opposite end faces of the element body 4. The pair of external electrodes 6 and 8 are formed on both end surfaces of the element body 4 and are connected to the exposed ends of the alternately arranged internal electrode layers 12 to form a capacitor circuit.

素子本体4のサイズは特に限定されないが、X0は1.0mm〜5.7mmであり、Y0は0.5mm〜5.0mm、Z0は0.5mm〜3.0mmである。ここで、X0はX軸方向に沿った寸法であり、Y0はY軸方向に沿った寸法であり、Z0はZ軸方向に沿った寸法である。 The size of the element body 4 is not particularly limited, but X0 is 1.0 mm to 5.7 mm, Y0 is 0.5 mm to 5.0 mm, and Z0 is 0.5 mm to 3.0 mm. Here, X0 is a dimension along the X-axis direction, Y0 is a dimension along the Y-axis direction, and Z0 is a dimension along the Z-axis direction.

内部セラミックス層10の厚みtdは、特に限定されないが、30μm以下であることが好ましく、より好ましくは2μm〜25μmである。 The thickness td of the internal ceramics layer 10 is not particularly limited, but is preferably 30 μm or less, more preferably 2 μm to 25 μm.

内部セラミックス層10の積層数は、特に限定されないが、好ましくは20以上であり、より好ましくは50以上である。 The number of laminated internal ceramic layers 10 is not particularly limited, but is preferably 20 or more, and more preferably 50 or more.

また、外層部11の厚みtoは、特に限定されないが、20μm〜300μmであることが好ましい。 The thickness to of the outer layer portion 11 is not particularly limited, but is preferably 20 μm to 300 μm.

本実施形態では、内部セラミックス層10は、元素αおよび元素βを含み、元素αはBa、SrおよびCaからなる群から選ばれる少なくとも1つである。 In the present embodiment, the internal ceramics layer 10 contains the element α and the element β, and the element α is at least one selected from the group consisting of Ba, Sr, and Ca.

また、元素βはTaまたは、TaおよびNbからなり、好ましくは、元素βはTaを4原子%以上100原子%以下含む。 Further, the element β is composed of Ta or Ta and Nb, and preferably the element β contains Ta in an amount of 4 atomic% or more and 100 atomic% or less.

内部セラミックス層10は、元素αおよび元素βの他に、Zr、Tiもしくは希土類元素を含んでもよく、またはZr、Tiおよび希土類元素の中の適宜の組み合わせを含んでもよい。希土類元素としては、たとえばLa、Eu、Sm、Dy、Ceなどが挙げられる。 The internal ceramics layer 10 may contain Zr, Ti or a rare earth element in addition to the elements α and β, or may contain an appropriate combination of Zr, Ti and a rare earth element. Examples of the rare earth element include La, Eu, Sm, Dy, Ce and the like.

内部セラミックス層10における元素αの含有率は、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%である。これにより曲げ強度および耐熱衝撃性を高めることができる。 The content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide. Thereby, bending strength and thermal shock resistance can be improved.

なお、耐熱衝撃性とは、積層セラミックコンデンサ2に対して−55℃〜150℃の間の熱衝撃試験を行った際に、積層セラミックコンデンサ2へのクラックの発生を抑制できることをいう。 The thermal shock resistance means that the occurrence of cracks in the laminated ceramic capacitor 2 can be suppressed when the laminated ceramic capacitor 2 is subjected to a thermal shock test at −55° C. to 150° C.

内部セラミックス層10における元素βの含有率は、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%である。これにより曲げ強度および耐熱衝撃性を高めることができる。 The content rate of the element β in the internal ceramics layer 10 is 25.0 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide. Thereby, bending strength and thermal shock resistance can be improved.

本実施形態では、内部セラミックス層10におけるTaの酸化物換算での含有率をE0とし、少なくとも一方の外層部11を構成する外部セラミックス層におけるTaの酸化物換算での含有率をE1としたとき、(E0−E1)が(E0−E1)>0の関係を満たす。これにより、耐熱衝撃性が良好となる。図1に示す両方の外層部11で(E0−E1)が上記の関係を満たすことが好ましく、また、(E0−E1)が、5mol%≦(E0−E1)≦15mol%の関係を満たすことが好ましい。 In the present embodiment, when the oxide content of Ta in the internal ceramics layer 10 is E0, and the oxide content of Ta in the external ceramics layer forming at least one outer layer portion 11 is E1. , (E0-E1) satisfy the relationship of (E0-E1)>0. This improves the thermal shock resistance. In both outer layer portions 11 shown in FIG. 1, (E0-E1) preferably satisfies the above relationship, and (E0-E1) satisfies the relationship of 5 mol%≦(E0-E1)≦15 mol%. Is preferred.

本実施形態では、内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、少なくとも一方の外層部11を構成する外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率がそれぞれ略同量である。これにより、耐熱衝撃性がより良好になる。上記の観点から、内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、両方の外層部11を構成する外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率がそれぞれ略同量であることが好ましい。 In the present embodiment, the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxide and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer constituting at least one outer layer portion 11 in terms of oxide are calculated. The content rates of are approximately the same. Thereby, the thermal shock resistance becomes better. From the above viewpoint, the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxide, and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer constituting both outer layer portions 11 in terms of oxide. It is preferable that the contents are substantially the same.

ここで、「略同量」とは、内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、少なくとも一方の外層部11を構成する外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率の差が±2mol%未満の場合をいう。すなわち、たとえば「酸化物種A」が「元素β以外の元素の酸化物」であり、「内部セラミックス層10の酸化物種Aの含有率[mol%]−外部セラミックス層の酸化物種Aの含有率[mol%]=±2mol%」を満たす場合には、「内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率が略同量である」と言える。 Here, “substantially the same amount” means the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxide, and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer constituting at least one outer layer portion 11. It refers to the case where the difference in the content of elements in terms of oxide is less than ±2 mol %. That is, for example, the “oxide species A” is an “oxide of an element other than the element β”, and the “content rate of the oxide species A of the inner ceramic layer 10 [mol %]-the content rate of the oxide species A of the outer ceramic layer [[ mol%]=±2 mol%”, the content of “elements other than element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxides and the oxide content of elements other than element β in the outer ceramics layer in terms of oxides” It is said that the content rate in is about the same amount.”

内部セラミックス層10と外部セラミックス層の組成を求める方法は特に限定されないが、たとえば積層セラミックコンデンサ2を積層方向(Z軸方向)に平行に切断した切断面について求めることができる。具体的には、切断面の内部セラミックス層10および外層セラミックス層について、各元素を走査型電子顕微鏡―エネルギー分散型X線分析(SEM−EDS)、走査型透過電子顕微鏡ーエネルギー分散型X線分析(STEM−EDS)またはレーザーアブレーションICP質量分析装置(LA−ICP−MS)により測定し、組成を求めることができる。 The method for obtaining the composition of the internal ceramic layer 10 and the external ceramic layer is not particularly limited, but for example, it can be obtained for a cut surface obtained by cutting the multilayer ceramic capacitor 2 in parallel to the stacking direction (Z-axis direction). Specifically, for each of the inner ceramic layer 10 and the outer ceramic layer of the cut surface, each element is analyzed by scanning electron microscope-energy dispersive X-ray analysis (SEM-EDS), scanning transmission electron microscope-energy dispersive X-ray analysis ( STEM-EDS) or laser ablation ICP mass spectrometer (LA-ICP-MS) can be used to determine the composition.

本実施形態に係る内部セラミックス層10および外部セラミックス層は、好ましくはタングステンブロンズ型の結晶構造を有する。これにより、曲げ強度および耐熱衝撃性を高めると共に、絶縁抵抗の向上との効果を得ることができる。内部セラミックス層10および外部セラミックス層がタングステンブロンズ型の結晶構造を有するか否かは、内部セラミックス層10および外部セラミックス層のX線回折(XRD)パターンにより確認できる。 The inner ceramic layer 10 and the outer ceramic layer according to the present embodiment preferably have a tungsten bronze type crystal structure. As a result, bending strength and thermal shock resistance can be enhanced, and an effect of improving insulation resistance can be obtained. Whether or not the internal ceramic layer 10 and the external ceramic layer have a tungsten bronze type crystal structure can be confirmed by X-ray diffraction (XRD) patterns of the internal ceramic layer 10 and the external ceramic layer.

内部電極層12に含有される導電材は特に限定されないが、Ni、Ni系合金、CuまたはCu系合金が好ましい。なお、Ni、Ni系合金、CuまたはCu系合金中には、P等の各種微量成分が0.1質量%程度以下含まれていてもよい。また、内部電極層12は、市販の電極用ペーストを使用して形成してもよい。内部電極層12の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよい。 The conductive material contained in the internal electrode layer 12 is not particularly limited, but Ni, Ni-based alloy, Cu or Cu-based alloy is preferable. Note that various trace components such as P may be contained in Ni, Ni-based alloy, Cu or Cu-based alloy in an amount of about 0.1% by mass or less. The internal electrode layer 12 may be formed by using a commercially available electrode paste. The thickness of the internal electrode layer 12 may be appropriately determined according to the application and the like.

外部電極6,8に含有される導電材は特に限定されないが、本実施形態では安価なNi、Cu及び耐熱性の高いAu、Ag、Pdや、これらの合金を用いることができる。外部電極6,8の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。 The conductive material contained in the external electrodes 6 and 8 is not particularly limited, but inexpensive Ni, Cu, Au, Ag, Pd having high heat resistance, and alloys thereof can be used in the present embodiment. The thickness of the external electrodes 6 and 8 may be appropriately determined according to the application etc., but is usually preferably about 10 to 50 μm.

2.積層セラミックコンデンサ2の製造方法
次に、図1示す積層セラミックコンデンサ2の製造方法の一例について説明する。
2. Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor 2 Next, an example of a manufacturing method of the multilayer ceramic capacitor 2 shown in FIG. 1 will be described.

焼成後に内部セラミックス層10となる内部セラミックス層用ペーストを作製する。まず、仮焼き粉末を準備する。出発原料として、主としてSr、Ba、Ca、Ti、Zr、Nb、Ta、希土類元素などにより構成される酸化物やその混合物の原料粉を用いることができる。また、焼成により上述した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択し、混合して用いることもできる。具体的には、Srの原料としてSrOを用いてもよいし、SrCOを用いてもよい。原料粉の平均粒子径は、好ましくは1.0μm以下である。各成分を所定の組成比となるように秤量した後、ボールミルなどを用いて所定の時間、湿式混合を行う。 An internal ceramics layer paste that will become the internal ceramics layer 10 after firing is prepared. First, a calcined powder is prepared. As a starting material, it is possible to use a material powder of an oxide or a mixture thereof mainly composed of Sr, Ba, Ca, Ti, Zr, Nb, Ta, a rare earth element, or the like. In addition, various compounds that become the above-mentioned oxides or complex oxides by firing, such as carbonates, oxalates, nitrates, hydroxides, and organic metal compounds, can be appropriately selected and mixed and used. Specifically, SrO may be used as the raw material of Sr, or SrCO 3 may be used. The average particle size of the raw material powder is preferably 1.0 μm or less. After weighing each component so as to have a predetermined composition ratio, wet mixing is performed for a predetermined time using a ball mill or the like.

得られた混合粉を乾燥後、大気中において1000℃以下の熱処理を行い、仮焼き粉末を得る。 After the obtained mixed powder is dried, it is heat-treated at 1000° C. or lower in the air to obtain a calcined powder.

その後、得られた仮焼き粉末を解砕し、内部セラミックス層用原料を得る。内部セラミックス層用原料は、たとえば、平均粒子径が0.5μm〜2.0μmの混合粉末である。 Then, the obtained calcined powder is crushed to obtain a raw material for the internal ceramics layer. The raw material for the internal ceramics layer is, for example, a mixed powder having an average particle diameter of 0.5 μm to 2.0 μm.

上記で得られた内部セラミックス層用原料を塗料化して、内部セラミックス層用ペーストを作製する。内部セラミックス層用ペーストは、内部セラミックス層用原料と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。 The raw material for the internal ceramics layer obtained above is made into a coating material to prepare a paste for the internal ceramics layer. The paste for the internal ceramics layer may be an organic paint obtained by kneading the raw material for the internal ceramics layer and an organic vehicle, or may be an aqueous paint.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラールなどの通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトンなどの各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 The organic vehicle is a binder dissolved in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited and may be appropriately selected from various ordinary binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, and acetone according to the method to be used such as the printing method and the sheet method.

また、内部セラミックス層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、内部セラミックス層用原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。 Further, when the internal ceramics layer paste is used as a water-based paint, an aqueous vehicle in which a water-soluble binder or dispersant is dissolved in water and the internal ceramics layer raw material may be kneaded. The water-soluble binder used in the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin or the like may be used.

焼成後に外部セラミックス層となる外部セラミックス層用ペーストを作製する。外部セラミックス層用ペーストは、焼成後に所定の外部セラミックス層の組成となるように出発原料を秤量する以外は内部セラミックス層用ペーストと同様にして得ることができる。 An external ceramics layer paste that becomes an external ceramics layer after firing is prepared. The external ceramics layer paste can be obtained in the same manner as the internal ceramics layer paste except that the starting materials are weighed so that the composition of the external ceramics layer becomes a predetermined value after firing.

内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属または合金からなる導電材と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。導電材の代わりに、酸化物、有機金属化合物またはレジネートなども用いることができる。上記した酸化物、有機金属化合物およびレジネートは、焼成後に上記した導電材となる。 The internal electrode layer paste is prepared by kneading the above-mentioned organic vehicle with a conductive material made of various conductive metals or alloys described above. Oxides, organometallic compounds, resinates, or the like can be used instead of the conductive material. The above-mentioned oxide, organometallic compound and resinate become the above-mentioned conductive material after firing.

外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。 The external electrode paste may be prepared in the same manner as the above internal electrode layer paste.

上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、例えば、バインダは1質量%〜5質量%程度、溶剤は10質量%〜50質量%程度とすれば良い。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体材料、絶縁体材料などから選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10質量%以下とすることが好ましい。 The content of the organic vehicle in each paste described above is not particularly limited, and may be a normal content, for example, the binder is about 1% by mass to 5% by mass, and the solvent is about 10% by mass to 50% by mass. In addition, each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectric materials, insulating materials, and the like, if necessary. The total content of these is preferably 10% by mass or less.

シート法を用いる場合、内部セラミックス層用ペーストを用いて、内部グリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層し、内部積層体を得る。次に、内部積層体に、外部セラミックス層用ペーストを用いて、外部グリーンシートを形成し、積層方向に加圧して、グリーン積層体を得る。グリーン積層体を所定形状に切断してグリーンチップとする。 When the sheet method is used, an internal green sheet is formed using the internal ceramic layer paste, the internal electrode layer paste is printed on the internal green sheet, and then these are laminated to obtain an internal laminate. Next, an external ceramic green sheet is formed on the internal laminate by using the external ceramic layer paste, and pressure is applied in the laminating direction to obtain a green laminate. The green laminated body is cut into a predetermined shape to obtain a green chip.

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ処理条件としては、昇温速度を好ましくは5℃/時間〜300℃/時間、保持温度を好ましくは180℃〜500℃、温度保持時間を好ましくは0.5時間〜24時間とする。また、脱バインダ処理の雰囲気は、空気もしくは還元雰囲気とする。脱バインダ処理において、Nガスや混合ガスなどを加湿するには、たとえばウェッターなどを使用すればよい。この場合、水温は5℃〜75℃程度が好ましい。 Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. As the binder removal treatment condition, the temperature rising rate is preferably 5° C./hour to 300° C./hour, the holding temperature is preferably 180° C. to 500° C., and the temperature holding time is preferably 0.5 hour to 24 hours. The atmosphere for the binder removal processing is air or a reducing atmosphere. In the binder removal treatment, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas or the mixed gas. In this case, the water temperature is preferably about 5°C to 75°C.

また、焼成時の保持温度は、好ましくは1100℃〜1400℃とする。 The holding temperature during firing is preferably 1100°C to 1400°C.

昇温速度を好ましくは、200℃/時間〜5000℃/時間とする。温度保持時間を好ましくは0.5時間〜2.0時間、冷却速度を好ましくは100℃/時間〜500℃/時間とする。 The heating rate is preferably 200° C./hour to 5000° C./hour. The temperature holding time is preferably 0.5 hours to 2.0 hours, and the cooling rate is preferably 100°C/hour to 500°C/hour.

また、焼成する雰囲気としては、加湿したNとHとの混合ガスを用い、酸素分圧10−2〜10−9Paで焼成することが好ましい。 Moreover, as the atmosphere for firing, it is preferable to use a mixed gas of humidified N 2 and H 2 and fire at an oxygen partial pressure of 10 −2 to 10 −9 Pa.

焼成後、得られた素子本体4に対し、必要に応じてアニール処理を行う。アニール処理条件は、公知の条件とすればよい。たとえば、アニール処理時の酸素分圧を焼成時の酸素分圧よりも高い酸素分圧とし、保持温度を1000℃以下とすることが好ましい。 After firing, the obtained element body 4 is annealed if necessary. The annealing conditions may be known conditions. For example, it is preferable that the oxygen partial pressure during the annealing treatment is higher than the oxygen partial pressure during the firing, and the holding temperature is 1000° C. or lower.

また、上記には脱バインダ処理、焼成およびアニール処理を独立して行う製造方法を記載しているが、連続して行なってもよい。 Further, although the manufacturing method in which the binder removal treatment, the firing and the annealing treatment are independently performed is described above, they may be continuously performed.

上記のようにして得られた素子本体4に、たとえばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを塗布して焼成し、外部電極6,8を形成する。そして、必要に応じ、外部電極6,8の表面に、めっきなどにより被覆層を形成する。 The element body 4 obtained as described above is subjected to end face polishing by, for example, barrel polishing or sandblasting, and the external electrode paste is applied and baked to form the external electrodes 6 and 8. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surfaces of the external electrodes 6 and 8 by plating or the like.

このようにして、積層セラミックコンデンサ2が作製される。 In this way, the laminated ceramic capacitor 2 is manufactured.

3.本実施形態のまとめ
本実施形態の積層セラミックコンデンサ2では、内部セラミックス層10における元素αの含有率は、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、内部セラミックス層10における元素βの含有率は、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であり、(E0−E1)は(E0−E1)>0の関係を満たす。
3. Summary of this Embodiment In the multilayer ceramic capacitor 2 of this embodiment, the content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and the element β in the internal ceramics layer 10 is Is in the range of 25.0 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and (E0-E1) satisfies the relationship of (E0-E1)>0.

これにより、積層セラミックコンデンサ2の曲げ強度および耐熱衝撃性が良好となる。これは、外層部11のTaが少ないことで、外層部11のヤング率や線膨張係数が増大するとことによるものと考えられる。すなわち、外層部11のヤング率や線膨張係数が増大することによって、基板などから受ける外部応力が緩和され、素子本体4への負荷が低減する。その結果、曲げ強度が良好となると共に、クラックなどが抑制されることから耐熱衝撃性が良好となる。 This improves the bending strength and thermal shock resistance of the monolithic ceramic capacitor 2. It is considered that this is because the Young's modulus and the coefficient of linear expansion of the outer layer portion 11 increase due to the small Ta of the outer layer portion 11. That is, by increasing the Young's modulus and the coefficient of linear expansion of the outer layer portion 11, the external stress received from the substrate or the like is relaxed, and the load on the element body 4 is reduced. As a result, the bending strength is improved, and cracks are suppressed, so that the thermal shock resistance is improved.

本実施形態の積層セラミックコンデンサ2は、高い信頼性を達成できることから、携帯電話などの情報端末および家電はもちろんのこと、車載用としても用いることができる。 Since the multilayer ceramic capacitor 2 of the present embodiment can achieve high reliability, it can be used not only for information terminals such as mobile phones and home appliances, but also for in-vehicle use.

また、本実施形態では、積層セラミックコンデンサ2の内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率がそれぞれ略同量である。 In addition, in the present embodiment, the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 of the multilayer ceramic capacitor 2 in terms of oxide, and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer in terms of oxide. The rates are about the same.

これにより、内層部13と外層部11の接合強度が向上する。その結果、耐熱衝撃性がさらに良好となる。 This improves the bonding strength between the inner layer portion 13 and the outer layer portion 11. As a result, the thermal shock resistance is further improved.

また、本実施形態では、(E0−E1)は、5mol%≦(E0−E1)≦15mol%の関係を満たす。 Further, in the present embodiment, (E0-E1) satisfies the relationship of 5 mol%≦(E0-E1)≦15 mol%.

これにより、曲げ強度および耐熱衝撃性がさらに良好となる。 This further improves the bending strength and thermal shock resistance.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

たとえば上記の実施形態では、外層部11が内層部13の積層方向(Z軸方向)の両端部に備えられているが、外層部11が内層部13の積層方向(Z軸方向)の一方の端部のみに備えられていてもよい。 For example, in the above embodiment, the outer layer portion 11 is provided at both ends of the inner layer portion 13 in the stacking direction (Z-axis direction), but the outer layer portion 11 is provided in one of the inner layer portion 13 in the stacking direction (Z-axis direction). It may be provided only at the end.

本発明の積層電子部品は、積層セラミックコンデンサ2に限らず、その他の積層電子部品に適用することが可能である。その他の積層電子部品としては、たとえば、バンドパスフィルタ、インダクタ、積層三端子フィルタ、圧電素子、PTCサーミスタ、NTCサーミスタ、バリスタなどである。 The laminated electronic component of the present invention is not limited to the laminated ceramic capacitor 2 and can be applied to other laminated electronic components. Other laminated electronic components include, for example, bandpass filters, inductors, laminated three-terminal filters, piezoelectric elements, PTC thermistors, NTC thermistors, and varistors.

以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples of the present invention, but the present invention is not limited to these Examples.

・表1〜表5の各試料
内部セラミックス層用ペーストの出発原料として、SrCO、BaCO、CaCO、TiO、ZrO、Nb、Ta、La、Eu、Sm、Dy、Ceの各粉末を用意した。これらを表1〜表5の各試料番号の内部セラミックス層10の酸化物換算組成となるように秤量し、分散媒としてのエタノールを用いでボールミルにより24時間湿式混合した。得られた混合物を乾燥し、大気中で保持温度900℃、保持時間2時間の条件で熱処理を行い、仮焼き粉末を得た。
As the starting material for each sample inner ceramic layer paste-tables 1 5, SrCO 3, BaCO 3, CaCO 3, TiO 2, ZrO 2, Nb 2 O 5, Ta 2 O 5, La 2 O 3, Eu Powders of 2 O 3 , Sm 2 O 3 , Dy 2 O 3 and Ce 2 O 3 were prepared. These were weighed so as to have the oxide conversion composition of the internal ceramics layer 10 of each sample number in Tables 1 to 5, and wet mixed for 24 hours by a ball mill using ethanol as a dispersion medium. The obtained mixture was dried and heat-treated in the atmosphere at a holding temperature of 900° C. for a holding time of 2 hours to obtain a calcined powder.

上記の方法で得られた仮焼き粉末を解砕し、内部セラミックス層用原料を得た。得られた内部セラミックス層用原料:100質量部と、ポリビニルブチラール樹脂:10質量部と、可塑剤としてのジブチルフタレート(DOP):5質量部と、溶媒としてのアルコール:100質量部とをボールミルで混合してペースト化し、内部セラミックス層用ペーストを作製した。 The calcined powder obtained by the above method was crushed to obtain a raw material for the internal ceramics layer. The resulting internal ceramics layer raw material: 100 parts by mass, polyvinyl butyral resin: 10 parts by mass, dibutyl phthalate (DOP) as a plasticizer: 5 parts by mass, and alcohol as a solvent: 100 parts by mass in a ball mill. The mixture was mixed into a paste to prepare an internal ceramic layer paste.

外部セラミックス層用ペーストは、焼成後に所定の外部セラミックス層の組成となるように出発原料を秤量した以外は内部セラミックス層用ペーストと同様にして作製した。 The external ceramics layer paste was prepared in the same manner as the internal ceramics layer paste, except that the starting materials were weighed so that the composition of the external ceramics layer was predetermined after firing.

内部電極層12の原料として、Ni粒子100質量部と、有機ビヒクル(エチルセルロース樹脂8質量部をブチルカルビトール92質量部に溶解したもの)30質量部、及びブチルカルビトール8質量部とを、3本ロールにより混練、ペースト化し、内部電極層用ペーストを得た。 3 parts by weight of 100 parts by mass of Ni particles, 30 parts by mass of an organic vehicle (8 parts by mass of ethyl cellulose resin dissolved in 92 parts by mass of butyl carbitol), and 8 parts by mass of butyl carbitol were used as raw materials for the internal electrode layer 12. This roll was kneaded and made into a paste to obtain an internal electrode layer paste.

そして、作製した内部セラミックス層用ペーストを用いて、内部グリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層し、内部積層体を得た。次に、内部積層体に、外部セラミックス層用ペーストを用いて、適宜の枚数の外部グリーンシートを形成し、積層方向に加圧して、グリーン積層体を得た。グリーン積層体を所定形状に切断してグリーンチップとした。 Then, an internal green sheet was formed using the produced internal ceramic layer paste, the internal electrode layer paste was printed on the internal green sheet, and these were laminated to obtain an internal laminate. Next, an appropriate number of external green sheets were formed on the internal laminate using the external ceramic layer paste, and pressure was applied in the laminating direction to obtain a green laminate. The green laminate was cut into a predetermined shape to obtain a green chip.

次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成、アニール処理を行うことで素子本体4を得た。なお、脱バインダ処理、焼成及びアニールの条件は、以下の通りである。また、それぞれの雰囲気ガスの加湿にはウェッターを用いた。 Next, the obtained green chip was subjected to binder removal processing, firing, and annealing processing to obtain the element body 4. The conditions for binder removal processing, firing and annealing are as follows. A wetter was used to humidify each atmosphere gas.

(脱バインダ処理)
昇温速度:100℃/時間
保持温度:400℃
温度保持時間:8.0時間
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス
(Binder removal processing)
Temperature rising rate: 100°C/hour Holding temperature: 400°C
Temperature holding time: 8.0 hours Atmosphere gas: A mixed gas of humidified N 2 and H 2.

(焼成)
昇温速度:500℃/時間
保持温度:1200℃〜1350℃
温度保持時間:2.0時間
冷却速度:100℃/時間
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス
酸素分圧:10−5〜10−9Pa
(Baking)
Temperature rising rate: 500°C/hour Holding temperature: 1200°C to 1350°C
Temperature holding time: 2.0 hours Cooling rate: 100° C./hour Atmosphere gas: Moistened mixed gas of N 2 and H 2 Oxygen partial pressure: 10 −5 to 10 −9 Pa

(アニール処理)
保持温度:800℃〜1000℃
温度保持時間:2.0時間
昇温、降温速度:200℃/時間
雰囲気ガス:加湿したNガス
(Annealing treatment)
Holding temperature: 800 ℃ ~ 1000 ℃
Temperature holding time: 2.0 hours Temperature rising/falling rate: 200° C./hour Atmosphere gas: Humidified N 2 gas

得られた素子本体4の端面を研磨した後、外部電極6,8を、Cu粉末、ガラスフリットおよびビヒクルを所定量配合して得たペーストを、素子本体4の端面に塗布して750℃で焼き付けて形成した。その後外部電極6、8の表面にNiめっき層とSnめっき層を順番に形成し、図1に示す積層セラミックコンデンサ2と同形状の積層セラミックコンデンサ試料を得た。得られた積層セラミックコンデンサ試料は、いずれもの積層方向(Z軸方向)の素子本体4の厚みZ0が1.2mmであり、内部セラミックス層10の厚みtdが10μm、外層部11の厚みtoが100μmであった。 After polishing the end surface of the obtained element body 4, a paste obtained by mixing the external electrodes 6 and 8 with a predetermined amount of Cu powder, glass frit and vehicle was applied to the end surface of the element body 4 and then at 750° C. Formed by baking. After that, a Ni plating layer and a Sn plating layer were sequentially formed on the surfaces of the external electrodes 6 and 8 to obtain a multilayer ceramic capacitor sample having the same shape as the multilayer ceramic capacitor 2 shown in FIG. In each of the obtained multilayer ceramic capacitor samples, the thickness Z0 of the element body 4 in any stacking direction (Z-axis direction) was 1.2 mm, the thickness td of the internal ceramics layer 10 was 10 μm, and the thickness to of the outer layer portion 11 was 100 μm. Met.

得られた各積層セラミックコンデンサ試料について、内部セラミックス層10および外部セラミックス層の元素分析を行い、曲げ強度および耐熱衝撃性を下記に示す方法により評価した。結果を表1〜5に示す。 Each of the obtained multilayer ceramic capacitor samples was subjected to elemental analysis of the internal ceramic layer 10 and the external ceramic layer, and the bending strength and thermal shock resistance were evaluated by the methods shown below. The results are shown in Tables 1-5.

・元素分析
積層セラミックコンデンサ試料を積層方向(Z軸方向)に平行に切断した。上記の切断面の内部セラミックス層10の3か所からサンプリングし、走査型電子顕微鏡―エネルギー分散型X線分析(SEM−EDS)で測定し、各元素の含有率の平均値を求めた。
Elemental analysis A multilayer ceramic capacitor sample was cut parallel to the stacking direction (Z-axis direction). Samples were sampled from three points on the inner ceramic layer 10 on the cut surface and measured by a scanning electron microscope-energy dispersive X-ray analysis (SEM-EDS) to obtain the average content of each element.

また、上記の切断面の外層部11において、外層部11の表面から内層部13に向かって、積層方向(Z軸方向)に1/4toの箇所をP1とし、P1から内層部13に向かって、積層方向(Z軸方向)に1/4toの箇所をP2とし、P2から内層部13に向かって、積層方向(Z軸方向)に1/4toの箇所をP3としたとき、P1、P2およびP3からサンプリングし、走査型電子顕微鏡―エネルギー分散型X線分析(SEM−EDS)で測定し、その各元素の平均値を求めた。これらの値を基に、表1〜表5の内部セラミックス層10および外部セラミックス層の組成に関する項目を記載した。 In addition, in the outer layer portion 11 of the above-mentioned cut surface, from the surface of the outer layer portion 11 toward the inner layer portion 13, a portion of 1/4 to in the stacking direction (Z-axis direction) is defined as P1, and from P1 toward the inner layer portion 13. , Where P1 is a portion of 1/4 to in the stacking direction (Z-axis direction) and P3 is a portion of 1/4 to in the stacking direction (Z-axis direction) from P2 toward the inner layer portion 13, P1, P2 and It sampled from P3, it measured by the scanning electron microscope-energy dispersive X-ray analysis (SEM-EDS), and the average value of each element was calculated|required. Based on these values, the items relating to the compositions of the internal ceramic layer 10 and the external ceramic layer in Tables 1 to 5 are described.

なお、表4および表5において、各試料は、内部セラミックス層10における元素αの含有率が、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、内部セラミックス層10における元素βの含有率が、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であった。 In Tables 4 and 5, in each sample, the content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and the content of the element β in the internal ceramics layer 10 is The rate was 25.0 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide.

・X線回折
X線回折パターンにより、試料25以外の積層セラミックコンデンサ試料の内部セラミックス層10および外部セラミックス層がタングステンブロンズ型の結晶構造を有していることが確認できた。
X-Ray Diffraction From the X-ray diffraction pattern, it was confirmed that the internal ceramic layers 10 and the external ceramic layers of the multilayer ceramic capacitor samples other than Sample 25 had a tungsten bronze type crystal structure.

・曲げ強度
20個の試料に対して、測定器(商品名:5543、Instron社製)を用いて試料のX軸方向の中央部での曲げ強度を測定した。測定時に試験片を支える2点間の治具距離は400μmとし、測定速度は0.5mm/minとし、得られた値の平均値を表1〜表5に示す。
-Bending strength With respect to 20 samples, the bending strength in the center part of the sample in the X-axis direction was measured using a measuring device (trade name: 5543, manufactured by Instron). The jig distance between two points supporting the test piece at the time of measurement was 400 μm, the measurement speed was 0.5 mm/min, and average values of the obtained values are shown in Tables 1 to 5.

・耐熱衝撃性
20個の試料に対して、気槽−55℃で30分保持した後、気槽150℃で30分保持する繰り返しを1000サイクル、1500サイクル、2000サイクル実施した。2000サイクル後にクラックが発生しなかった場合はAとした。1500サイクル後までクラックが発生しなかったが、2000サイクル後に1個以上の試料にクラックが発生した場合はBとした。1000サイクル後までクラックが発生しなかったが、1500サイクル後に1個以上の試料にクラックが発生した場合はCとした。試料のクラックを、試料が実装された基板の状態で樹脂埋め、研磨し、顕微鏡にて確認した。
-Heat resistance 20 samples were held at -55°C for 30 minutes in a gas tank, and then held at 150°C in a gas tank for 30 minutes. These cycles were repeated 1000 cycles, 1500 cycles, and 2000 cycles. When no cracks were generated after 2000 cycles, the value was A. When no crack was generated until 1500 cycles, but one or more samples were cracked after 2000 cycles, it was designated as B. When no cracks were generated after 1000 cycles but one or more samples were cracked after 1500 cycles, it was designated as C. The crack of the sample was filled with resin in the state of the substrate on which the sample was mounted, polished, and confirmed with a microscope.

Figure 2020126895
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表1〜表5より、内部セラミックス層10における元素αの含有率が、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、内部セラミックス層10における元素βの含有率が、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であり、(E0−E1)が(E0−E1)>0の関係を満たす場合(試料番号21〜25、31〜66)は、内部セラミックス層10における元素αの含有率が、酸化物換算で66.7mol%である場合(試料番号1)または71.4mol%である場合(試料番号2)に比べて曲げ強度および耐熱衝撃性が高いことが確認できた。 From Table 1 to Table 5, the content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and the content rate of the element β in the internal ceramics layer 10 is in terms of oxide. Is 25.0 mol% to 50.0 mol% and (E0-E1) satisfies the relationship of (E0-E1)>0 (Sample Nos. 21 to 25, 31 to 66), the elements in the internal ceramics layer 10 are It can be confirmed that the bending strength and thermal shock resistance are higher than when the content rate of α is 66.7 mol% in the oxide conversion (Sample No. 1) or 71.4 mol% (Sample No. 2). It was

表1〜表5より、内部セラミックス層10における元素αの含有率が、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、内部セラミックス層10における元素βの含有率が、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であり、(E0−E1)が(E0−E1)>0の関係を満たす場合(試料番号21〜25、31〜66)は、内部セラミックス層10における元素βの含有率が、酸化物換算で14.3mol%である場合(試料番号3)に比べて曲げ強度および耐熱衝撃性が高いことが確認できた。 From Table 1 to Table 5, the content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and the content rate of the element β in the internal ceramics layer 10 is in terms of oxide. Is 25.0 mol% to 50.0 mol% and (E0-E1) satisfies the relationship of (E0-E1)>0 (Sample Nos. 21 to 25, 31 to 66), the elements in the internal ceramics layer 10 are It was confirmed that the bending strength and thermal shock resistance were higher than those in the case where the β content was 14.3 mol% in terms of oxide (Sample No. 3).

表2〜表5より、内部セラミックス層10における元素αの含有率が、酸化物換算で33.3mol%〜50.0mol%であり、内部セラミックス層10における元素βの含有率が、酸化物換算で25.0mol%〜50.0mol%であり、(E0−E1)が(E0−E1)>0の関係を満たす場合(試料番号21〜25、31〜66)は、(E0−E1)が(E0−E1)>0の関係を満たさない場合(試料番号11〜18)に比べて曲げ強度および耐熱衝撃性が高いことが確認できた。 From Table 2 to Table 5, the content rate of the element α in the internal ceramics layer 10 is 33.3 mol% to 50.0 mol% in terms of oxide, and the content rate of the element β in the internal ceramics layer 10 is in oxide conversion. Is 25.0 mol% to 50.0 mol% and (E0-E1) satisfies the relationship of (E0-E1)>0 (sample numbers 21 to 25, 31 to 66), (E0-E1) is It was confirmed that the bending strength and the thermal shock resistance were higher than in the case where the relationship of (E0-E1)>0 was not satisfied (Sample Nos. 11 to 18).

表3〜表5より、内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、がそれぞれ略同量である場合(試料番号35〜62)は、内部セラミックス層10における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、がそれぞれ略同量ではない場合(試料番号21〜25、31〜34、63〜66)に比べて耐熱衝撃性が高いことが確認できた。 From Table 3 to Table 5, the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxide and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer in terms of oxide are respectively shown. When the amounts are substantially the same (Sample Nos. 35 to 62), the content of each element other than the element β in the internal ceramics layer 10 in terms of oxide and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer in terms of oxide are converted. It can be confirmed that the thermal shock resistance is higher than that in the case where the content ratios in Table 2 are not substantially equal to each other (Sample Nos. 21 to 25, 31 to 34, 63 to 66).

2… 積層セラミックコンデンサ
4… 素子本体
6,8… 外部電極
10… 内部セラミックス層
11… 外層部
12… 内部電極層
13… 内層部
2... Multilayer ceramic capacitor 4... Element bodies 6, 8... External electrode 10... Internal ceramics layer 11... Outer layer part 12... Inner electrode layer 13... Inner layer part

Claims (3)

内部セラミックス層と内部電極層とが交互に積層された内層部と、前記内層部の積層方向の端部に備えられた外層部と、を有する素子本体を具備する積層電子部品であって、
前記内部セラミックス層は、元素αおよび元素βとを含み、
前記元素αはBa、SrおよびCaからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、
前記元素βはTaまたは、TaおよびNbからなり、
前記内部セラミックス層における元素αの含有率は、酸化物換算で33.3〜50.0mol%であり、
前記内部セラミックス層における元素βの含有率は、酸化物換算で25.0〜50.mol%であり、
前記内部セラミックス層におけるTaの酸化物換算での含有率をE0とし、前記外層部を構成する外部セラミックス層におけるTaの酸化物換算での含有率をE1としたとき、
(E0−E1)は、(E0−E1)>0の関係を満たす積層電子部品。
A laminated electronic component comprising an element body having an inner layer portion in which inner ceramic layers and inner electrode layers are alternately laminated, and an outer layer portion provided at an end of the inner layer portion in the laminating direction,
The internal ceramics layer contains an element α and an element β,
The element α is at least one selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca,
The element β is composed of Ta or Ta and Nb,
The content rate of the element α in the internal ceramics layer is 33.3 to 50.0 mol% in terms of oxide,
The content rate of the element β in the internal ceramics layer is 25.0 to 50.mol% in terms of oxide,
When the oxide content of Ta in the internal ceramics layer is E0 and the oxide content of Ta in the external ceramics layer forming the outer layer portion is E1,
(E0-E1) is a laminated electronic component that satisfies the relationship of (E0-E1)>0.
前記内部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、前記外部セラミックス層における元素β以外の各元素の酸化物換算での含有率と、がそれぞれ略同量である請求項1に記載の積層電子部品。 The content of each element other than the element β in the internal ceramics layer in terms of oxide and the content of each element other than the element β in the outer ceramics layer in terms of oxide are substantially the same. Item 1. The laminated electronic component according to item 1. 前記(E0−E1)は、5mol%≦(E0−E1)≦15mol%の関係を満たす請求項1または2に記載の積層電子部品。
The multilayer electronic component according to claim 1, wherein the (E0-E1) satisfies the relationship of 5 mol%≦(E0-E1)≦15 mol%.
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