JP2020120085A - Manufacturing method of wiring board and manufacturing installation of wiring board - Google Patents

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JP2020120085A JP2019012434A JP2019012434A JP2020120085A JP 2020120085 A JP2020120085 A JP 2020120085A JP 2019012434 A JP2019012434 A JP 2019012434A JP 2019012434 A JP2019012434 A JP 2019012434A JP 2020120085 A JP2020120085 A JP 2020120085A
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弘 金子
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Abstract

To provide a manufacturing method of wiring board and a manufacturing installation of wiring board capable of coating a wiring board with insulation paste suitably.SOLUTION: By analyzing the image of the surface of a work substrate 31 (i.e., a work substrate 31 to which an output line 9 is joined) photographed by means of a camera 95, determination is made whether or not there is a portion coated with glass paste in the coating region TR on the surface of the work substrate 31 (more specifically, an image processing region GR). When coating region TR is coated with glass paste, subsequent processing content for the work substrate 31 is changed. More specifically, when the coating region TR is coated with glass paste, first time coating is carried out for the work substrate 31, according to the first time coating conditions of coating with glass paste. Meanwhile, when the coating region TR is coated with glass paste, second time coating is carried out according to the second time coating conditions of coating with glass paste.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本開示は、絶縁基板の表面に形成された配線層に導電線を接合した配線基板の製造方法及び配線基板の製造装置に関する。 The present disclosure relates to a method for manufacturing a wiring board in which a conductive wire is joined to a wiring layer formed on the surface of an insulating substrate, and a manufacturing apparatus for the wiring board.

従来より、内燃機関(例えば、自動車エンジンなど)の排気系において使用される温度センサとして、金属抵抗体(白金抵抗体など)を有する感温素子を備えた温度センサが知られている。この温度センサは、温度変化による金属抵抗体の電気抵抗値の変化を利用して、被測定物(被測定ガスなど)の温度を検出するものである(特許文献1参照)。 Conventionally, as a temperature sensor used in an exhaust system of an internal combustion engine (for example, an automobile engine), a temperature sensor including a temperature sensitive element having a metal resistor (platinum resistor) is known. This temperature sensor detects the temperature of an object to be measured (gas to be measured, etc.) by utilizing the change in the electric resistance value of the metal resistor due to the temperature change (see Patent Document 1).

上述した感温素子としては、図13に例示するように、アルミナ基板P1の表面に、白金抵抗体P2に接続された薄膜端子P3が形成され、薄膜端子P3の表面に厚膜のパッド部(即ち配線層)P4が形成され、パッド部P4に出力線(即ち導電線)P5が接合された配線基板が知られている。 As the temperature-sensitive element described above, as illustrated in FIG. 13, a thin film terminal P3 connected to a platinum resistor P2 is formed on the surface of an alumina substrate P1, and a thick film pad portion ( That is, there is known a wiring board in which a wiring layer) P4 is formed and an output line (that is, a conductive line) P5 is joined to the pad portion P4.

また、パッド部P4や出力線P5は、電気絶縁材であるガラスからなる絶縁被覆部P6に覆われている。この絶縁被覆部P6は、出力線P5の剥離の防止(即ち補強)と電気絶縁性の確保のための部材である。この絶縁被覆部P6を形成する場合には、出力線P5やパッド部P4を覆うように、ガラスペースト(即ち絶縁ペースト)を塗布し、乾燥した後に焼成していた。 The pad portion P4 and the output line P5 are covered with an insulating coating portion P6 made of glass which is an electric insulating material. The insulating coating portion P6 is a member for preventing the output line P5 from peeling (that is, for reinforcing) and for ensuring electrical insulation. When forming the insulating coating portion P6, glass paste (that is, insulating paste) was applied so as to cover the output line P5 and the pad portion P4, dried, and then baked.

特開2015−180861号公報JP, 2005-180861, A

ところで、上述した絶縁被覆部を形成する際には、従来は、作業者等が、出力線やパッド部の周囲にガラスペーストを1回塗布していただけなので、出力線等の周囲にガラスペーストが充填されていない隙間(即ち気泡等による隙間)が発生し易いという問題があった。 By the way, when forming the above-mentioned insulating coating portion, conventionally, since the operator or the like has only applied the glass paste once around the output line and the pad portion, the glass paste is not applied around the output line and the like. There has been a problem that unfilled gaps (that is, gaps due to bubbles or the like) are likely to occur.

その結果、出力線等の周囲に隙間がある場合に、例えば出力線に外力が加わったときには、出力線等が剥離する恐れがあった。また、1回塗布する際のガラスペーストの量が十分でない場合には、電気絶縁性が十分でない恐れがあった。 As a result, when there is a gap around the output line or the like, for example, when an external force is applied to the output line, the output line or the like may be separated. In addition, if the amount of the glass paste applied once is not sufficient, there is a possibility that the electrical insulation is not sufficient.

本開示は、導電線等の剥離などが生じにくいように、配線基板に好適に絶縁ペーストを塗布することができる、配線基板の製造方法及び配線基板の製造装置を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a wiring board manufacturing method and a wiring board manufacturing apparatus capable of suitably applying an insulating paste to a wiring board so that peeling of a conductive wire or the like does not easily occur.

(1)本開示の第1局面は、絶縁基板の表面に形成された配線層に導電線を接合した配線基板に対し、配線層及び導電線を覆うように絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを塗布して塗布部を形成する配線基板の製造方法に関するものである。 (1) According to the first aspect of the present disclosure, an insulating paste is applied to a surface side of an insulating substrate so as to cover the wiring layer and the conductive line, with respect to the wiring substrate in which the conductive line is joined to the wiring layer formed on the surface of the insulating substrate. The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board by applying to form an applying portion.

この配線基板の製造方法は、第1塗布工程と第2塗布工程と撮影工程と判定工程とを有する。
第1塗布工程では、絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを最初に塗布する。
This method of manufacturing a wiring board has a first coating step, a second coating step, a photographing step, and a determination step.
In the first coating step, the insulating paste is first coated on the surface side of the insulating substrate.

第2塗布工程では、絶縁ペーストを最初に塗布した箇所に再度絶縁ペーストを塗布する。 撮影工程では、カメラを用いて配線層及び導電線が設けられた配線基板の表面を撮影する。 In the second applying step, the insulating paste is applied again to the place where the insulating paste was first applied. In the photographing step, the surface of the wiring board provided with the wiring layer and the conductive wires is photographed using a camera.

判定工程では、撮影された画像を解析して配線基板の表面に塗布部があるか否かを判定する。
そして、前記判定結果に基づいて、配線基板の表面に塗布部がある場合と無い場合とで、配線基板に対して行う後の処理の内容を変更する。
In the determination step, the captured image is analyzed to determine whether or not there is a coating portion on the surface of the wiring board.
Then, based on the determination result, the content of the subsequent processing to be performed on the wiring board is changed depending on whether or not there is a coating portion on the surface of the wiring board.

このように、本第1局面では、撮影された配線層及び導電線が設けられた配線基板の画像を解析して配線基板の表面に塗布部があるか否かを判定し、配線基板の表面に塗布部がある場合と無い場合とで、配線基板に対して行う後の処理の内容を変更するので、好適に必要な後処理を行うことができる。 As described above, in the first aspect, the photographed image of the wiring board on which the wiring layer and the conductive lines are provided is analyzed to determine whether or not there is a coating portion on the surface of the wiring board, and to determine the surface of the wiring board. Since the content of the post-treatment performed on the wiring board is changed depending on whether the coating portion is provided or not, it is possible to suitably perform the necessary post-treatment.

例えば、配線基板の表面に塗布部が無い場合には、第1塗布工程にて、配線基板の表面に絶縁ペーストを最初に塗布することができる。一方、配線基板の表面に塗布部がある場合には、第2塗布工程にて、絶縁ペーストを最初に塗布した箇所に再度絶縁ペーストを塗布することができる。 For example, when there is no coating part on the surface of the wiring board, the insulating paste can be first coated on the surface of the wiring board in the first coating step. On the other hand, if there is an applied portion on the surface of the wiring board, the insulating paste can be applied again to the place where the insulating paste was first applied in the second applying step.

これにより、第1塗布工程にて最初に塗布した部分(例えば第1の塗布部)の表面に、第2塗布工程にて再度塗布を行って再度の塗布部分(例えば第2の塗布部)を形成できる。
そのため、最初に塗布を行う場合には、例えば従来の1回のみの塗布の場合に比べて、厚みが薄い第1の塗布部を形成するように絶縁ペーストを供給することにより、導電線等の周囲に絶縁ペーストが充填されていない隙間が生じにくいようにすることができる。しかも、第1の塗布部の上に再度絶縁ペーストを塗布することにより、導電線や配線層の周囲に十分な量の絶縁ペーストを供給できる。
As a result, the surface of the portion (for example, the first coating portion) first coated in the first coating step is coated again in the second coating step to form the coating portion (for example, the second coating portion) again. Can be formed.
Therefore, when the first coating is performed, for example, by supplying the insulating paste so as to form the first coating portion having a smaller thickness as compared with the conventional one-time coating, the conductive wire and the like can be formed. It is possible to prevent the formation of a gap that is not filled with the insulating paste around the periphery. Moreover, by coating the insulating paste again on the first coating portion, it is possible to supply a sufficient amount of the insulating paste around the conductive lines and the wiring layer.

従って、上述のような塗布部が形成された配線基板を焼成することにより、好ましい特性を有する絶縁被覆部を形成することができる。つまり、絶縁被覆部には導電線等の周囲に隙間が少なく、しかも、絶縁被覆部は十分な量の絶縁材料からなるので、導電線等の接合強度が大きく(従って剥離が生じにくく)、高い電気絶縁性を有するという効果がある。 Therefore, by baking the wiring substrate having the above-mentioned coating portion formed thereon, the insulating coating portion having preferable characteristics can be formed. In other words, there are few gaps around the conductive wire in the insulating coating, and since the insulating coating is made of a sufficient amount of insulating material, the bonding strength of the conductive wire is large (thus peeling is less likely to occur) and high. It has an effect of having electric insulation.

(2)本開示の第2局面では、配線基板の表面に塗布部がある場合と無い場合とで、絶縁ペーストを塗布する塗布条件を変更してもよい。
例えば、配線基板の表面に塗布部がない場合には、導電線等の周囲に隙間なく絶縁ペーストを充填するために、例えば従来の1回の塗布の場合に比べて、厚みが薄くなるように絶縁ペーストを塗布してもよい。
(2) In the second aspect of the present disclosure, the coating condition for coating the insulating paste may be changed depending on whether the surface of the wiring board has the coating portion or not.
For example, when there is no coating portion on the surface of the wiring board, the thickness of the wiring board should be smaller than that of the conventional one-time coating in order to fill the insulating paste around the conductive wires without any gaps. An insulating paste may be applied.

一方、配線基板の表面に塗布部がある場合には、導電線等の接合強度や電気絶縁性を高めるために、例えば第1の塗布部を形成する場合よりも多量の絶縁ペーストを供給して第2の塗布部を形成してもよい。 On the other hand, when there is a coating portion on the surface of the wiring board, in order to enhance the bonding strength and electrical insulation of the conductive wire, for example, a larger amount of insulating paste is supplied than in the case of forming the first coating portion. You may form a 2nd application part.

これにより、導電線等の周囲に隙間なく絶縁ペーストを充填できるとともに、十分な量の絶縁ペーストを供給できるので、導電線等の接合強度や電気絶縁性を高めることができる。 As a result, the insulating paste can be filled around the conductive wires without any gaps and a sufficient amount of the insulating paste can be supplied, so that the bonding strength and electrical insulation of the conductive wires can be improved.

(3)本開示の第3局面では、第1塗布工程を行った配線基板を、第1の経路にて第1の位置に搬送し、第2塗布工程を行った配線基板を、第2の経路にて第2の位置に搬送してもよい。 (3) In the third aspect of the present disclosure, the wiring board that has been subjected to the first coating step is transported to the first position through the first path, and the wiring board that has been subjected to the second coating step is transferred to the second position. It may be conveyed to the second position along the route.

このように、塗布工程が異なる配線基板を異なる位置に搬送することにより、異なる位置にて、必要な処理を容易に且つ間違いなく行うことができる。
(4)本開示の第4局面では、第1乾燥工程と第2乾燥工程と焼成工程とを備えていてもよい。
In this way, by transporting wiring boards having different coating processes to different positions, it is possible to easily and without fail perform necessary processing at different positions.
(4) The fourth aspect of the present disclosure may include a first drying step, a second drying step, and a firing step.

第1乾燥工程では、第1の経路にて配線基板を搬送する場合には、配線基板を第1の搬送用部材に載置し、第1の経路にて搬送して、絶縁ペーストの乾燥を行う。
第2乾燥工程では、第2の経路にて配線基板を搬送する場合には、配線基板を第1の搬送用部材より耐熱性の高い焼成用の第2の搬送用部材に載置し、第2の経路にて搬送して、絶縁ペーストの乾燥を行う。
In the first drying step, when the wiring board is transported through the first path, the wiring board is placed on the first transport member and transported through the first path to dry the insulating paste. To do.
In the second drying step, when the wiring board is transported through the second path, the wiring board is placed on the second transporting member for firing which has higher heat resistance than the first transporting member, The insulating paste is conveyed by the route 2 and dried.

焼成工程では、第2乾燥工程の後に、絶縁ペーストを焼成して絶縁被覆部を形成する。
本第4局面では、第1の塗布部が形成された配線基板を第1の搬送部材に載置して第1層の絶縁ペーストの乾燥を行うことができる。また、第1の塗布部及び第2の塗布部が形成された配線基板を第2の搬送部材に載置して第2の塗布部の絶縁ペーストの乾燥を行うことができる。
In the firing step, the insulating paste is fired after the second drying step to form the insulating coating portion.
In the fourth aspect, the wiring board on which the first coating section is formed can be placed on the first transport member to dry the insulating paste of the first layer. Further, the wiring substrate on which the first coating section and the second coating section are formed can be placed on the second transport member to dry the insulating paste of the second coating section.

しかも、この第2の搬送部材は、耐熱性の高い焼成用の部材であるので、焼成工程では、第2の塗布部の乾燥後の配線基板を、焼成用の第2の搬送部材に載置した状態で焼成することができる。よって、製造工程を簡易化できる。 Moreover, since the second transport member is a member for firing having high heat resistance, the wiring substrate after the drying of the second coating section is placed on the second transport member for firing in the firing step. It can be fired in this state. Therefore, the manufacturing process can be simplified.

(5)本開示の第5局面は、絶縁基板の表面に形成された配線層に導電線が接合された配線基板に対し、塗布装置を駆動して、配線層及び導電線を覆うように絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを塗布して塗布部を形成する配線基板の製造装置に関するものである。 (5) In a fifth aspect of the present disclosure, a coating device is driven to a wiring board in which a conductive wire is bonded to a wiring layer formed on the surface of an insulating substrate, and insulation is performed so as to cover the wiring layer and the conductive wire. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a wiring board, in which an insulating paste is applied to the front surface side of a board to form an applied portion.

この配線基板の製造装置は、第1塗布制御部と第2塗布制御部と撮影制御部と判定部と後処理部とを有する。
第1塗布制御部は、絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを最初に塗布する動作を制御する。
This wiring board manufacturing apparatus has a first coating control unit, a second coating control unit, a photographing control unit, a determination unit, and a post-processing unit.
The first application control unit controls the operation of first applying the insulating paste to the front surface side of the insulating substrate.

第2塗布制御部は、絶縁ペーストを最初に塗布した箇所に再度絶縁ペーストを塗布する動作を制御する。
撮影制御部は、カメラを用いて配線層及び導電線が設けられた配線基板の表面を撮影する。
The second application control unit controls the operation of applying the insulating paste again to the location where the insulating paste was first applied.
The imaging control unit uses a camera to image the surface of the wiring board on which the wiring layer and the conductive wires are provided.

判定部は、撮影された画像を解析して配線基板の表面に塗布部があるか否かを判定する。
後処理部は、前記判定結果に基づいて、配線基板の表面に塗布部がある場合と無い場合とで、配線基板に対して行う後の処理の内容を変更する。
The determination unit analyzes the captured image and determines whether or not there is a coating unit on the surface of the wiring board.
The post-processing section changes the content of the post-processing performed on the wiring board, based on the determination result, depending on whether the surface of the wiring board has the coating section or not.

本5局面の配線基板の製造装置は、前記第1局面と同様な作用効果を奏する。
(6)本開示の第6局面では、配線基板の表面に塗布部がある場合と無い場合とで、絶縁ペーストを塗布する塗布条件を変更してもよい。
The wiring board manufacturing apparatus according to the fifth aspect has the same operational effects as those of the first aspect.
(6) In the sixth aspect of the present disclosure, the coating conditions for coating the insulating paste may be changed depending on whether the surface of the wiring board has a coating portion or not.

本第6局面は、前記第2局面と同様な作用効果を奏する。
(7)本開示の第7局面では、第1塗布制御部の動作後の配線基板を、第1の経路にて第1の位置に搬送し、第2塗布制御部の動作後の配線基板を、第2の経路にて第2の位置に搬送してもよい。
The sixth aspect has the same effects as the second aspect.
(7) In the seventh aspect of the present disclosure, the wiring board after the operation of the first coating control section is conveyed to the first position through the first path, and the wiring board after the operation of the second coating control section is transferred. , May be conveyed to the second position on the second path.

本第7局面は、前記第3局面と同様な作用効果を奏する。
(8)本開示の第8局面では、絶縁ペーストを乾燥する乾燥部と、乾燥した絶縁ペーストを焼成する焼成部と、を有していてもよい。
The seventh aspect has the same effects as the third aspect.
(8) In the eighth aspect of the present disclosure, a drying unit for drying the insulating paste and a baking unit for baking the dried insulating paste may be included.

第1の経路にて配線基板を搬送する場合には、配線基板を第1の搬送用部材に載置して、第1の経路にて乾燥部に搬送して、絶縁ペーストの乾燥を行う。
また、第2の経路にて配線基板を搬送する場合には、配線基板を第1の搬送用部材より耐熱性の高い焼成用の第2の搬送用部材に載置して、第2の経路にて乾燥部に搬送して、絶縁ペーストの乾燥を行う。
When the wiring board is transported through the first route, the wiring substrate is placed on the first transport member and transported to the drying section through the first route to dry the insulating paste.
When the wiring board is transported through the second route, the wiring board is placed on the second transporting member for firing, which has higher heat resistance than the first transporting member, and the second route is used. Then, the insulating paste is conveyed to a drying section to dry the insulating paste.

そして、焼成部では、第2の搬送用部材上の配線基板における乾燥後の絶縁ペーストを焼成して絶縁被覆部を形成する、
本第8局面は、前記第4局面と同様な作用効果を奏する。
<以下、本開示の各構成について説明する>
・絶縁基板の材料としては、例えばAl、MgOなどの高絶縁材を採用できる。
Then, in the baking section, the dried insulating paste on the wiring substrate on the second carrying member is baked to form an insulating coating section.
The eighth aspect has the same effects as the fourth aspect.
<Description of Each Configuration of the Present Disclosure>
As a material for the insulating substrate, a high insulating material such as Al 2 O 3 or MgO can be used.

・絶縁ペーストの材料としては、例えばSiOを主とした(即ち主成分とした)材料を採用できる。
・配線層の材料としては、例えばPtを主とした材料を採用できる。
As the material of the insulating paste, for example, a material mainly containing SiO 2 (that is, containing the main component) can be adopted.
As the material of the wiring layer, for example, a material mainly containing Pt can be adopted.

・導電線の材料としては、例えばPtを主とした材料を採用できる。
・塗布条件としては、例えば、塗布する際に絶縁ペーストを吐出する塗布部材の高さ(例えばニードルの吐出口の高さ)、絶縁ペーストを押し出す圧力、供給速度(単位時間当たりの吐出量)、塗布部材の移動速度などが挙げられる。
As the material of the conductive wire, for example, a material mainly containing Pt can be adopted.
The application conditions include, for example, the height of the application member that ejects the insulating paste when applying (for example, the height of the ejection port of the needle), the pressure for pushing out the insulating paste, the supply speed (the ejection amount per unit time), Examples include the moving speed of the coating member.

・第2の塗布部を第1の塗布部より厚く塗布する場合には、例えば、「塗布部材の高さを高くする」、「絶縁ペーストを押し出す圧力を高くする」、「供給速度を大きくする」、「塗布部材の移動速度を小さくする」などの方法が挙げられる。 When the second coating portion is coated thicker than the first coating portion, for example, “increasing the height of the coating member”, “increasing the pressure for pushing the insulating paste”, and “increasing the supply speed” And “reducing the moving speed of the coating member”.

実施形態の温度センサ1の先端側の構造を示す部分破断断面図である。It is a partial fracture sectional view showing the structure by the side of the tip of temperature sensor 1 of an embodiment. 図2Aは感温素子の一部の縦断面(図2BのA−A断面)を示す断面図、図2Bは感温素子の表面側(但し絶縁被覆部等を除いた表面)を示す平面図である。FIG. 2A is a cross-sectional view showing a vertical cross-section (A-A cross section of FIG. 2B) of a part of the temperature-sensitive element, and FIG. Is. 感温素子の製造工程の全体を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows the whole manufacturing process of a temperature sensing element. 塗布システムの全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of a coating system. 図5Aはパレットを示す平面図、図5Bはセッターを示す平面図である。5A is a plan view showing a pallet, and FIG. 5B is a plan view showing a setter. 図6Aはガラス塗布ユニットやガラス塗布ステージを示す正面図、図6Bはガラス塗布ユニットやガラス塗布ステージを示す側面図である。FIG. 6A is a front view showing the glass coating unit and the glass coating stage, and FIG. 6B is a side view showing the glass coating unit and the glass coating stage. 図7Aはガラス塗布ステージの回転移動の状態を示す正面図、図7Bはガラス塗布ステージのY軸方向への移動状態を示す平面図である。7A is a front view showing the rotational movement state of the glass coating stage, and FIG. 7B is a plan view showing the movement state of the glass coating stage in the Y-axis direction. 電子制御装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of an electronic controller. ガラスペーストの塗布工程を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows the application process of glass paste. ワーク基板を示す平面図である。It is a top view showing a work substrate. カメラで撮影された画像を示し、図11Aはガラスペーストが塗布されていないワーク基板の画像を示す説明図、図11Bは図11Aにおける画像処理領域を示す説明図、図11Cはガラスペーストが塗布されたワーク基板の画像を示す説明図、図11Dは図11Dにおける画像処理領域を示す説明図である。FIG. 11A shows an image taken by a camera, FIG. 11A is an explanatory view showing an image of a work substrate to which glass paste is not applied, FIG. 11B is an explanatory view showing an image processing area in FIG. 11A, and FIG. 11C is glass paste applied. 11D is an explanatory diagram showing an image of the work substrate, and FIG. 11D is an explanatory diagram showing an image processing area in FIG. 11D. ワーク基板にガラスペーストが塗布されてからガラス層が形成されるまでの手順を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the procedure after a glass paste is applied to a work substrate until a glass layer is formed. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art.

以下に、本開示の配線基板の製造方法及び配線基板の製造装置の実施形態を図面とともに説明する。
[1.実施形態]
本実施形態における配線基板は、温度センサの感温素子に用いられるものである。
[1−1.温度センサの構成]
まず、感温素子が配置された温度センサについて簡単に説明する。
Embodiments of a wiring board manufacturing method and a wiring board manufacturing apparatus of the present disclosure will be described below with reference to the drawings.
[1. Embodiment]
The wiring board in this embodiment is used for a temperature sensitive element of a temperature sensor.
[1-1. Configuration of temperature sensor]
First, a temperature sensor having a temperature sensitive element will be briefly described.

図1に一部を示すように、温度センサ1は、棒状の長尺のセンサであり、図示しないが、流通管(例えば車両の内燃機関の排気管)に取り付けられて、流通管内に流れる測定対象ガス(例えば排気ガス)の温度を検出するものである。 As shown in a part in FIG. 1, the temperature sensor 1 is a long rod-shaped sensor, and although not shown, is attached to a distribution pipe (for example, an exhaust pipe of an internal combustion engine of a vehicle) to measure a flow in the distribution pipe. The temperature of a target gas (for example, exhaust gas) is detected.

この温度センサ1は、例えば−40〜1000℃の範囲の温度を測定可能なセンサである。つまり、高温域における温度を測定できる温度センサである。
この温度センサ1には、先端側(図1の下方)に、周知のような金属チューブ3が設けられており、この金属チューブ3の内部の先端側に、感温素子5が配置されている。
The temperature sensor 1 is a sensor capable of measuring a temperature in the range of −40 to 1000° C., for example. That is, it is a temperature sensor that can measure the temperature in a high temperature range.
The temperature sensor 1 is provided with a known metal tube 3 on the tip side (downward in FIG. 1), and the temperature sensitive element 5 is arranged on the tip side inside the metal tube 3. ..

感温素子5には、後述するように、温度によって内部の金属抵抗体の電気的特性(電気抵抗値)が変化する感温部7と、感温部7に接続された一対の出力線(素子電極線)9a、9b(9と総称する)とが設けられている。
[1−2.感温素子の構成]
次に、感温素子5の構成について詳しく説明する。
As will be described later, the temperature-sensitive element 5 has a temperature-sensing section 7 in which the electrical characteristics (electrical resistance value) of the internal metal resistor changes with temperature, and a pair of output lines connected to the temperature-sensing section 7 ( Element electrode lines) 9a and 9b (collectively referred to as 9) are provided.
[1-2. Configuration of temperature sensor]
Next, the configuration of the temperature sensitive element 5 will be described in detail.

図2に示すように、感温素子5は、セラミックス基板11と、セラミックス基板11の一方(図2Aの上側)の主面に形成された金属抵抗体層13と、同じ主面に形成された揮発抑制層15と、同じ主面の後端側(図2Aの左側)にて金属抵抗体層13の表面の一部に形成された一対のパッド部17a、17b(17と総称する)と、各パッド部17の表面に接合された前記一対の出力線9a、9bと、金属抵抗体層13の先端側の上側(図2Aの上側)を覆うセラミックス被覆層19と、出力線9の先端側及び一対のパッド部17等を覆う絶縁被覆部21と、を備えている。 As shown in FIG. 2, the temperature sensitive element 5 is formed on the same main surface as the ceramic substrate 11 and the metal resistor layer 13 formed on one main surface (upper side of FIG. 2A) of the ceramic substrate 11. The volatilization suppressing layer 15 and a pair of pad portions 17a and 17b (collectively referred to as 17) formed on a part of the surface of the metal resistor layer 13 on the rear end side (left side in FIG. 2A) of the same main surface, The pair of output lines 9a and 9b bonded to the surface of each pad portion 17, the ceramic coating layer 19 covering the upper side (upper side of FIG. 2A) of the metal resistor layer 13 on the tip side, and the tip side of the output line 9 And an insulating coating portion 21 that covers the pair of pad portions 17 and the like.

なお、感温部7は、感温素子5のうち、出力線9以外の板状部分である。
以下、各構成について説明する。
セラミックス基板11は、例えば純度99.9%のアルミナからなる(平面視で)長方形の板材(即ち電気絶縁性を有する絶縁基板)である。
The temperature sensing unit 7 is a plate-shaped portion of the temperature sensing element 5 other than the output line 9.
Each configuration will be described below.
The ceramics substrate 11 is, for example, a rectangular plate material (that is, an insulating substrate having an electrical insulating property) made of alumina having a purity of 99.9% (in a plan view).

金属抵抗体層13は、金属抵抗体である例えばPtからなる導電性を有する薄膜であり、先端側の細線部23と後端側の一対の端子部25a、25b(25と総称する)とからなる。 The metal resistor layer 13 is a metal thin film made of, for example, Pt having conductivity, and is composed of a thin wire portion 23 on the front end side and a pair of terminal portions 25a, 25b (collectively referred to as 25) on the rear end side. Become.

このうち、細線部23は、線幅の狭い(例えば幅20μmの)細線であり、セラミックス被覆層19で覆われた領域内にて複数回蛇行するように形成されている。
一方、各端子部25は、細線部23の後端側の一対の端部にそれぞれ接続されて後端側に伸びるように形成された(細線部23より幅の広い)端子である。
Among them, the thin line portion 23 is a thin line having a narrow line width (for example, a width of 20 μm), and is formed so as to meander a plurality of times in the region covered with the ceramic coating layer 19.
On the other hand, each terminal portion 25 is a terminal (wider than the thin wire portion 23) formed so as to be connected to a pair of end portions on the rear end side of the thin wire portion 23 and extend to the rear end side.

揮発抑制層15は、金属抵抗体層13と同様な材料からなる同様な厚さの層である。
各パッド部17は、各端子部25の表面に形成された導電性を有する層である。このパッド部17は、Pt及びガラスからなる混合材料で形成されている。
The volatilization suppressing layer 15 is a layer made of the same material as the metal resistor layer 13 and having the same thickness.
Each pad portion 17 is a conductive layer formed on the surface of each terminal portion 25. The pad portion 17 is made of a mixed material composed of Pt and glass.

出力線9は、Ptからなる線材(Pt線)であり、その先端は、パッド部17の表面に接合されている。なお、出力線9としては、Pt合金を用いてもよい。この出力線9は、パラレル溶接(抵抗溶接)によってパッド部17に接合されている。 The output wire 9 is a wire made of Pt (Pt wire), and its tip is joined to the surface of the pad portion 17. The output line 9 may be made of Pt alloy. The output line 9 is joined to the pad portion 17 by parallel welding (resistance welding).

セラミックス被覆層19は、例えば純度99.9%のアルミナからなる基板であり、このセラミックス被覆層19によって、金属抵抗体層13の細線部23及び揮発抑制層15等が覆われている。 The ceramic coating layer 19 is, for example, a substrate made of alumina having a purity of 99.9%, and the ceramic coating layer 19 covers the thin line portion 23 of the metal resistor layer 13, the volatilization suppressing layer 15, and the like.

なお、セラミックス被覆層19は、例えば純度99.9%のアルミナからなる接合層27によって、セラミックス基板11等に接合されている。
絶縁被覆部21は、例えば前記パッド部17のガラスと同じガラス材料(異なっていてもよい)からなる電気絶縁性を有するガラス被覆層である。この絶縁被覆部21によって、セラミックス基板11の後端側の表面側、即ち出力線9の先端側、パッド部17、セラミックス被覆層19の後端側などが覆われて気密されている。
The ceramic coating layer 19 is bonded to the ceramic substrate 11 or the like by a bonding layer 27 made of alumina having a purity of 99.9%, for example.
The insulating coating portion 21 is a glass coating layer having an electrical insulating property made of the same glass material (may be different) as the glass of the pad portion 17, for example. The surface side of the rear end side of the ceramic substrate 11, that is, the front end side of the output line 9, the pad portion 17, the rear end side of the ceramic coating layer 19, and the like are covered and hermetically sealed by the insulating coating portion 21.

なお、前記ガラスは、例えば転移点700℃以上で軟化点900℃以上の高耐熱ガラスであり、ここでは、その組成は、例えば、SiO:52質量%、CaO:25質量%、Al:15質量%、SrO:8質量%である。 The glass is, for example, a high heat-resistant glass having a transition point of 700° C. or higher and a softening point of 900° C. or higher, and the composition thereof is, for example, SiO 2 : 52 mass %, CaO: 25 mass %, Al 2 O. 3:15 wt%, SrO: 8% by mass.

このガラスとしては、ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、リンケイ酸塩ガラス等、各種のガラスを採用できる。
[1−3.感温素子の製造方法]
次に、感温素子5の製造方法の全体について説明する。なお、感温素子5の製造方法のうち、ガラスペーストの塗布方法については、後に詳述する。
As this glass, various kinds of glass such as silicate glass, aluminosilicate glass, borate glass, borosilicate glass, and phosphosilicate glass can be adopted.
[1-3. Manufacturing method of temperature sensitive device]
Next, the entire method of manufacturing the temperature sensitive element 5 will be described. The method of applying the glass paste in the method of manufacturing the temperature sensitive element 5 will be described in detail later.

図3に示すように、まず、セラミックス基板11の母材(図示せず)を、超音波洗浄によって洗浄する(S100)。なお、この母材とは、複数の感温素子5を1枚の大判の基板から作製するための板材(即ち縦横がほぼ同様な寸法の長方形の板材)である。 As shown in FIG. 3, first, a base material (not shown) of the ceramic substrate 11 is cleaned by ultrasonic cleaning (S100). The base material is a plate material (that is, a rectangular plate material having substantially the same vertical and horizontal dimensions) for manufacturing the plurality of temperature sensitive elements 5 from one large-sized substrate.

次に、金属抵抗体層13及び揮発抑制層15を形成するために、前記母材の表面のうち、金属抵抗体層13及び揮発抑制層15を形成する表面部分に、周知のPVD法(例えば、スパッタリング法)によってPt膜(図示せず)を形成する(S110)。 Next, in order to form the metal resistor layer 13 and the volatilization suppressing layer 15, a well-known PVD method (for example, a PVD method) is applied to a surface portion of the surface of the base material where the metal resistor layer 13 and the volatilization suppressing layer 15 are formed. Then, a Pt film (not shown) is formed by a sputtering method (S110).

次に、周知のレジスト膜形成、露光処理、現像、エッチング、レジスト膜剥離等のフォトリソグラフィ工程によって、金属抵抗体層13及び揮発抑制層15を形成する(S120)。 Next, the metal resistor layer 13 and the volatilization suppressing layer 15 are formed by a well-known photolithography process such as resist film formation, exposure treatment, development, etching, and resist film peeling (S120).

次に、アニール処理(エイジング処理)を行う(S130)。
次に、パッド部17の組成となるように、例えばPt材料(粉末)93質量部及び前記組成のガラス粉末7質量部の合計100質量部に対してセルロース樹脂10質量部を加えた材料を用いて、Pt−ガラスペーストを作製する。
Next, an annealing process (aging process) is performed (S130).
Next, a material obtained by adding 10 parts by mass of a cellulose resin to 100 parts by mass of a total of 100 parts by mass of Pt material (powder) and 7 parts by mass of glass powder having the composition is used so that the composition of the pad part 17 is obtained. To prepare a Pt-glass paste.

そして、そのPt−ガラスペーストを、パッド部17を形成する箇所に印刷する(S140)。
次に、アルミナ粉末90質量部とブチラール樹脂10質量部とを加えてアルミナペースト(図示せず)を作製し、そのアルミナペーストを、前記母材上の所定箇所、即ちセラミックス被覆層19で覆う箇所に印刷する(S150)。
Then, the Pt-glass paste is printed on the place where the pad portion 17 is formed (S140).
Next, 90 parts by mass of alumina powder and 10 parts by mass of butyral resin are added to prepare an alumina paste (not shown), and the alumina paste is covered with a predetermined portion on the base material, that is, a portion covered with the ceramic coating layer 19. Is printed (S150).

次に、アルミナペーストを印刷した箇所に重ねるように、セラミックス被覆層19の母材である被覆層基板(図示せず)を配置する(S160)。この被覆層基板は、焼成済みのセラミックス基板である。 Next, a coating layer substrate (not shown), which is a base material of the ceramic coating layer 19, is arranged so as to overlap the printed area of the alumina paste (S160). The coating layer substrate is a fired ceramics substrate.

次に、上述したように、表面に各層などが配置された母材(従ってセラミックス基板11)を、焼成温度1000〜1400℃で2時間焼成する(S170)。これによって、各ペーストが焼成される。 Next, as described above, the base material (thus the ceramics substrate 11) having the layers and the like arranged on the surface is fired at a firing temperature of 1000 to 1400° C. for 2 hours (S170). As a result, each paste is fired.

次に、ダイシングによって、前記母材を後述する溶接向けの長尺のワークサイズにカットして、短冊状の中間基板(図示せず)を作製する(S180)。この中間基板は、複数(例えば16個)の感温素子5を同時に作製するための基板である。 Next, the base material is cut into a long work size for welding described later by dicing to produce a strip-shaped intermediate substrate (not shown) (S180). This intermediate substrate is a substrate for simultaneously producing a plurality (for example, 16) of temperature sensitive elements 5.

次に、中間基板の各パッド部17上にそれぞれ出力線9を配置し、パラレル溶接(抵抗溶接)によって、各出力線9を各パッド部17に接合する(S190)。なお、以下では、出力線9が接続された中間基板を、ワーク基板31(図10A参照)と称する。なお、図10Aでは、パッド部17等の一部を省略してある。 Next, the output line 9 is arranged on each pad portion 17 of the intermediate substrate, and each output line 9 is joined to each pad portion 17 by parallel welding (resistance welding) (S190). In the following, the intermediate substrate to which the output line 9 is connected is referred to as a work substrate 31 (see FIG. 10A). In addition, in FIG. 10A, a part of the pad portion 17 and the like is omitted.

次に、絶縁被覆部21の組成のガラス材料(粉末)90質量部とブチラール樹脂10質量部とを加えてガラスペースト(図示せず)を作製する。
そして、後に詳述するように、ガラスペーストの塗布システム33(図4参照)を用いて、ワーク基板31の表面のうち、絶縁被覆部21を形成する箇所(短冊形状の塗布領域TR:図10B参照)に、ガラスペーストを2回塗布する(S200)。
Next, 90 parts by mass of a glass material (powder) having the composition of the insulating coating part 21 and 10 parts by mass of butyral resin are added to prepare a glass paste (not shown).
Then, as will be described later in detail, using the glass paste coating system 33 (see FIG. 4), a portion of the surface of the work substrate 31 where the insulating coating portion 21 is formed (a strip-shaped coating region TR: FIG. 10B). (See), the glass paste is applied twice (S200).

次に、例えば焼成温度1000〜1400℃で2時間、ガラスを焼成する(S210)。
次に、ダイシングによって、ワーク基板31をカットして、各感温素子5を分離する。ここで1個の感温素子5とは、図12Eにて破線で囲まれた範囲の素子である。
Next, the glass is fired at a firing temperature of 1000 to 1400° C. for 2 hours (S210).
Next, the work substrate 31 is cut by dicing to separate the temperature sensitive elements 5. Here, one temperature sensitive element 5 is an element in the range surrounded by a broken line in FIG. 12E.

このように、上述した工程によって、感温素子5を製造することができる。
なお、温度センサ1は、上述したように製造された感温素子5を、従来と同様な手順で組み付けることによって製造することができる。
[1−4.ガラスペーストの塗布システム]
次に、ガラスペーストの塗布方法に用いる塗布システム33について説明する。
In this way, the temperature sensitive element 5 can be manufactured by the steps described above.
The temperature sensor 1 can be manufactured by assembling the temperature sensitive element 5 manufactured as described above in the same procedure as the conventional one.
[1-4. Glass paste application system]
Next, the coating system 33 used for the glass paste coating method will be described.

図4に示すように、本実施形態の塗布システム33は、電子制御装置35と、電子制御装置35によって制御されて、ワーク基板31に対して自動的にガラスペーストを塗布する塗布装置37と、を備えている。 As shown in FIG. 4, the coating system 33 according to the present embodiment includes an electronic control device 35, a coating device 37 that is controlled by the electronic control device 35 to automatically apply a glass paste to the work substrate 31. Equipped with.

塗布装置37は、ワーク基板31を上流側(図4の右側)から下流側(図4の左側)に供給するとともに、その供給の際に、ワーク基板31に対してガラスペーストを1回ずつ(合計2回)塗布できるように構成されている。 The coating device 37 supplies the work substrate 31 from the upstream side (the right side in FIG. 4) to the downstream side (the left side in FIG. 4), and at the time of the supply, the glass paste is supplied to the work substrate 31 once ( It is configured to be applied twice in total.

この塗布装置37では、ワーク基板31を供給する経路として、前記上流側からX軸方向に沿って塗布装置37の略中央部分に至る共通経路K0と、共通経路K0から図4の上下方向に分岐して、X軸方向に沿って下流側に向かって平行に延びる第1の経路K1と第2の経路K2とを有している。 In this coating device 37, as a route for supplying the work substrate 31, a common route K0 from the upstream side to the substantially central portion of the coating device 37 along the X-axis direction, and a branch from the common route K0 in the vertical direction of FIG. Further, it has a first path K1 and a second path K2 extending in parallel toward the downstream side along the X-axis direction.

(1)まず、塗布装置37の全体構成について簡単に説明する。
塗布装置37は、塗布前パレット待機位置にある塗布前パレット待機部41と、塗布前パレット供給位置にある塗布前パレット供給部43と、塗布前パレット排出位置にある塗布前パレット排出部45と、を備える。塗布前パレット待機部41と塗布前パレット供給部43と塗布前パレット排出部45とは、塗布装置37の上流側にあり、Y軸方向に沿って一列に配置されている。
(1) First, the overall configuration of the coating device 37 will be briefly described.
The coating device 37 includes a pre-coating pallet standby unit 41 at a pre-coating pallet standby position, a pre-coating pallet supply unit 43 at a pre-coating pallet supply position, and a pre-coating pallet discharge unit 45 at a pre-coating pallet discharge position. Equipped with. The pre-coating pallet standby unit 41, the pre-coating pallet supplying unit 43, and the pre-coating pallet discharging unit 45 are on the upstream side of the coating device 37 and are arranged in a line along the Y-axis direction.

さらに、これらの各構成の下流側に、ガラス塗布ステージ47を備える。
ガラス塗布ステージ47の下流側に、塗布後パレット待機位置にある塗布後パレット待機部49と、塗布後パレット供給位置にある塗布後パレット供給部51と、セッター待機位置にあるセッター待機部53と、セッター供給位置にあるセッター供給部55と、を備える。塗布後パレット待機部49と塗布後パレット供給部51とセッター待機部53とセッター供給部55とは、Y軸方向に沿って一列に配置されている。
Further, a glass coating stage 47 is provided on the downstream side of each of these components.
On the downstream side of the glass coating stage 47, a post-coating pallet standby unit 49 at the post-coating pallet standby position, a post-coating pallet supply unit 51 at the post-coating pallet supply position, and a setter standby unit 53 at the setter standby position, And a setter supply unit 55 located at the setter supply position. The post-application pallet standby part 49, the post-application pallet supply part 51, the setter standby part 53, and the setter supply part 55 are arranged in a line along the Y-axis direction.

さらに、これらの各構成の下流側に、ベルトコンベア57と、乾燥炉59と、塗布後パレット排出位置にある塗布後パレット排出部61と、セッター排出位置にあるセッター排出部63と、を備える。塗布後パレット排出部61とセッター排出部63とは、Y軸方向に沿って一列に配置されている。 Further, a belt conveyor 57, a drying oven 59, a post-coating pallet discharging section 61 at a post-coating pallet discharging position, and a setter discharging section 63 at a setter discharging position are provided on the downstream side of each of these components. The post-application pallet discharging section 61 and the setter discharging section 63 are arranged in a line along the Y-axis direction.

また、前記各構成とは別に、X軸方向に沿って、上流側から、第1ロボット71と、ガラス塗布ユニット73と、第2ロボット75と、第3ロボット77と、第4ロボット79と、を備える。 In addition to the above respective configurations, the first robot 71, the glass coating unit 73, the second robot 75, the third robot 77, and the fourth robot 79 are arranged from the upstream side along the X-axis direction. Equipped with.

(2)以下、上述した各構成について詳細に説明する。
<塗布前パレット待機部>
図4に示すように、塗布前パレット待機部41は、複数のワーク基板31を搭載したパレット81を、所定位置(塗布前パレット待機位置)にて待機させる部分である。なお、パレット81は複数段の積み重ねが可能である。
(2) Hereinafter, each of the above-mentioned configurations will be described in detail.
<Pallet standby section before coating>
As shown in FIG. 4, the pre-coating pallet standby unit 41 is a part that causes the pallet 81 on which a plurality of work substrates 31 are mounted to stand by at a predetermined position (pre-coating pallet standby position). The pallet 81 can be stacked in a plurality of stages.

パレット81は、図5Aに示すように、厚み方向から見た平面視で矩形形状であり、プラスチック製の部材である。このパレット81の表面には、ワーク基板31が収容される凹部81aが複数個(例えば20個)形成されている。この凹部81aの平面視の形状は、1個のワーク基板31が丁度嵌まり込むことができるように、ワーク基板31の外形形状(図10Aの一点鎖線で示す短冊形状)に沿った短冊形状である。 As shown in FIG. 5A, the pallet 81 has a rectangular shape in a plan view as seen from the thickness direction and is a plastic member. On the surface of the pallet 81, a plurality of (for example, 20) recesses 81a for accommodating the work substrate 31 are formed. The shape of the recess 81a in plan view is a strip shape along the outer shape of the work substrate 31 (the strip shape shown by the one-dot chain line in FIG. 10A) so that one work substrate 31 can be just fitted. is there.

<塗布前パレット供給部>
塗布前パレット供給部43は、複数のワーク基板31を搭載したパレット81を、所定位置(塗布前パレット供給位置)にて待機させる部分である。塗布前パレット供給部43は、ガラス塗布ステージ47のX軸方向における上流側に設けられている。
<Pre-coating pallet supply unit>
The pre-coating pallet supply unit 43 is a part that makes the pallet 81 on which the plurality of work substrates 31 are mounted stand by at a predetermined position (pre-coating pallet supply position). The pre-coating pallet supply unit 43 is provided on the upstream side of the glass coating stage 47 in the X-axis direction.

なお、後述するように、塗布前パレット供給位置にあるパレット81からワーク基板31が取り出されて、ガラス塗布ステージ47上に載置される。
<塗布前パレット排出部>
塗布前パレット排出部45は、全てのワーク基板31が取り出された空のパレット81を、所定位置(塗布前パレット排出位置)にて待機させる部分である。
As will be described later, the work substrate 31 is taken out from the pallet 81 at the pre-coating pallet supply position and placed on the glass coating stage 47.
<Before application pallet discharge part>
The pre-coating pallet discharging section 45 is a part for waiting the empty pallet 81 from which all the work substrates 31 have been taken out at a predetermined position (pre-coating pallet discharging position).

なお、パレット81は、搬送装置83により、塗布前パレット待機位置から、塗布前パレット供給位置を介して、塗布前パレット排出位置に搬送される。
<ガラス塗布ステージ>
ガラス塗布ステージ47は、図6及び図7に示すように、ワーク基板31を載置するステージ(即ち垂直方向から見た平面視が円形のステージ)であり、ベース部材85の上部に設けられている。このガラス塗布ステージ47は、上部47aと下部47bとの2層構造を有している。
The pallet 81 is transported by the transport device 83 from the pre-coating pallet standby position to the pre-coating pallet discharging position via the pre-coating pallet supplying position.
<Glass coating stage>
As shown in FIGS. 6 and 7, the glass coating stage 47 is a stage on which the work substrate 31 is placed (that is, a stage having a circular plan view when viewed from the vertical direction), and is provided above the base member 85. There is. The glass coating stage 47 has a two-layer structure including an upper portion 47a and a lower portion 47b.

下部47bはY軸方向に移動可能であり、上部47aは円の中心を軸中心として回転可能(例えば0度〜180度の間の角度θの範囲で回転可能)である。なお、軸方向に移動するための構成としては、例えば周知のアクチュエータのような構成を採用できる(以下同様)。また、回転方向への移動は、例えばステッピングモータ等により実現できる。 The lower portion 47b is movable in the Y-axis direction, and the upper portion 47a is rotatable about the center of the circle as an axis (for example, rotatable in a range of an angle θ between 0 degrees and 180 degrees). As a configuration for moving in the axial direction, for example, a configuration such as a well-known actuator can be adopted (the same applies hereinafter). The movement in the rotation direction can be realized by, for example, a stepping motor or the like.

また、ガラス塗布ステージ47には、上部47aの表面から下方に向けて空気を吸引するための吸引機構(図示せず)が設けられている。よって、上部47aの表面に載置されたワーク基板31を吸着固定することができる。 Further, the glass coating stage 47 is provided with a suction mechanism (not shown) for sucking air downward from the surface of the upper portion 47a. Therefore, the work substrate 31 placed on the surface of the upper portion 47a can be fixed by suction.

<塗布後パレット待機部>
図4に示すように、塗布後パレット待機部49は、ワーク基板31が搭載されていない空のパレット81を、所定位置(塗布後パレット待機位置)にて待機させる部分である。なお、パレット81は複数段の積み重ねが可能である。
<Palette standby section after coating>
As shown in FIG. 4, the post-coating pallet standby unit 49 is a part that makes an empty pallet 81 on which the work substrate 31 is not mounted stand by at a predetermined position (post-coating pallet standby position). The pallet 81 can be stacked in a plurality of stages.

<塗布後パレット供給部>
塗布後パレット供給部51は、ガラス塗布ステージ47にてガラスペーストが1回塗布されたワーク基板31を収容するパレット81、即ちガラスペーストによって第1の塗布部T1(図12A参照)が形成されたワーク基板31を収容するパレット81を、所定位置(塗布後パレット供給位置)にて待機させる部分である。
<Palette supply section after coating>
In the post-application pallet supply unit 51, the pallet 81 that accommodates the work substrate 31 to which the glass paste has been applied once by the glass application stage 47, that is, the first application unit T1 (see FIG. 12A) is formed by the glass paste. The pallet 81 accommodating the work substrate 31 is a part to stand by at a predetermined position (post-application pallet supply position).

なお、パレット81は、搬送装置87により、塗布後パレット待機位置から、塗布後パレット供給位置に搬送される。
<セッター待機部>
セッター待機部53は、ワーク基板31が搭載されていない空のセッター89を、所定位置(セッター待機位置)にて待機させる部分である。
The pallet 81 is transported from the post-application pallet standby position to the post-application pallet supply position by the transport device 87.
<Setter standby unit>
The setter standby part 53 is a part which makes an empty setter 89 on which the work substrate 31 is not mounted stand by at a predetermined position (setter standby position).

セッター89は、図5Bに示すように、厚み方向から見た平面視で、略正方形のセラミックス製の部材である。つまり、セッター89は、パレット81に比べて耐熱性に優れた部材である。よって、後の工程で、このセッター89にガラスペーストを塗布したワーク基板31を載置して、ガラスの焼成を行うことができる。 As shown in FIG. 5B, the setter 89 is a substantially square member made of ceramics when viewed in a plan view from the thickness direction. That is, the setter 89 is a member having higher heat resistance than the pallet 81. Therefore, in a later step, the work substrate 31 coated with the glass paste can be placed on the setter 89 and the glass can be fired.

<セッター供給部>
セッター供給部55は、ガラス塗布ステージ47にてガラスペーストが2回塗布されたワーク基板31を載置するセッター89、即ちガラスペーストによって第2の塗布部T2(図12C参照)が形成されたワーク基板31を載置するセッター89を、所定位置(セッター供給位置)にて待機させる部分である。
<Setter supply unit>
The setter supply unit 55 is a setter 89 on which the work substrate 31 to which the glass paste is applied twice by the glass application stage 47 is placed, that is, a work in which the second application unit T2 (see FIG. 12C) is formed by the glass paste. The setter 89 on which the substrate 31 is placed is made to stand by at a predetermined position (setter supply position).

なお、セッター89は、搬送装置(図示せず)により、セッター待機位置からセッター供給位置に搬送される。
<ベルトコンベア>
ベルトコンベア57は、第1の塗布部T1が形成されたワーク基板31を収容したパレット81、または、第2の塗布部T2が形成されたワーク基板31が載置されたセッター89を、乾燥炉59内を通過させるように、図4の右側から左側に搬送する搬送装置である。
The setter 89 is transported from the setter standby position to the setter supply position by a transport device (not shown).
<Belt conveyor>
The belt conveyor 57 includes a pallet 81 accommodating the work substrate 31 on which the first coating portion T1 is formed, or a setter 89 on which the work substrate 31 on which the second coating portion T2 is formed is placed in a drying oven. It is a transport device that transports from the right side to the left side in FIG.

<乾燥炉>
乾燥炉59では、パレット81に収容された、第1の塗布部T1を有するワーク基板31に対し、その第1の塗布部T1を乾燥させる。同様に、乾燥炉59では、セッター89上に載置された、第2の塗布部T2を有するワーク基板31に対し、その第2の塗布部T2を乾燥させる。
<Drying oven>
In the drying oven 59, the first coating section T1 is dried on the work substrate 31 having the first coating section T1 housed in the pallet 81. Similarly, in the drying furnace 59, the second coating section T2 is dried on the work substrate 31 having the second coating section T2 placed on the setter 89.

<塗布後パレット排出部>
塗布後パレット排出部61は、ベルトコンベア57にて乾燥炉59から排出されたパレット81を、所定位置(塗布後パレット排出位置)にて保持する部分である。
<Palette discharging section after coating>
The post-coating pallet discharging section 61 is a part for holding the pallet 81 discharged from the drying furnace 59 by the belt conveyor 57 at a predetermined position (post-coating pallet discharging position).

<セッター排出部>
セッター排出部63は、ベルトコンベア57にて乾燥炉59から排出されたセッター89を、所定位置(セッター排出位置)にて保持する部分である。
<Setter discharge part>
The setter discharge part 63 is a part that holds the setter 89 discharged from the drying furnace 59 by the belt conveyor 57 at a predetermined position (setter discharge position).

<第1ロボット>
第1ロボット71は、周知の2軸のロボットのように、X軸方向とY軸方向とに移動可能となっている。第1ロボット71の先端のヘッド部71aには、上下動が可能で、ワーク基板31を吸引して保持することができるノズル(図示せず)を備えている。
<First robot>
The first robot 71 is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction like a known two-axis robot. The head portion 71a at the tip of the first robot 71 is provided with a nozzle (not shown) that can move up and down and can suck and hold the work substrate 31.

<ガラス塗布ユニット>
ガラス塗布ユニット73は、図6Aに示すように、X軸方向とZ軸方向とに移動可能に構成されている。なお、一定方向に移動可能な構成は、前記ガラス塗布ステージ47の下部47bを移動させる周知の構成と同様である。
<Glass coating unit>
As shown in FIG. 6A, the glass coating unit 73 is configured to be movable in the X axis direction and the Z axis direction. The structure capable of moving in a fixed direction is the same as the well-known structure for moving the lower portion 47b of the glass coating stage 47.

このガラス塗布ユニット73は、図6Bに示すように、支持部91に固定された基台93の一方の側に、ガラス塗布ステージ47の上面を撮影するカメラ(例えばCCDカメラ)95を備えている。 As shown in FIG. 6B, the glass coating unit 73 is provided with a camera (for example, a CCD camera) 95 for taking an image of the upper surface of the glass coating stage 47 on one side of a base 93 fixed to the support portion 91. ..

また、基台93の他方に側に、ワーク基板31にガラスペーストを塗布する塗布機構97を備えている。この塗布機構97は、その先端側にガラスペーストを吐出するニードル97aを備え、後端側にニードル97aにガラスペーストを供給するシリンジ97b等を備えている。 Further, on the other side of the base 93, a coating mechanism 97 for coating the work substrate 31 with the glass paste is provided. The coating mechanism 97 is provided with a needle 97a for ejecting the glass paste on the front end side thereof, and a syringe 97b for supplying the glass paste to the needle 97a on the rear end side thereof.

<第2ロボット>
第2ロボット75は、第1ロボット71と同様な構成である。つまり、周知の2軸のロボットのように、X軸方向とY軸方向とに移動可能となっている。第2ロボット75の先端のヘッド部75aには、上下動が可能で、ワーク基板31を吸引して保持することができるノズル(図示せず)を備えている。
<Second robot>
The second robot 75 has the same configuration as the first robot 71. That is, like a well-known two-axis robot, it can move in the X-axis direction and the Y-axis direction. The head portion 75a at the tip of the second robot 75 is provided with a nozzle (not shown) that can move up and down and can suck and hold the work substrate 31.

<第3ロボット>
第3ロボット77は、周知の2軸のロボットのように、X軸方向とY軸方向とに移動可能となっている。第3ロボット77の先端のヘッド部77aには、上下動が可能で、パレット81又はセッター89を着脱可能に保持することができる保持部(図示せず)を備えている。
<Third robot>
The third robot 77 is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction like a well-known two-axis robot. The head portion 77a at the tip of the third robot 77 is provided with a holding portion (not shown) that can move up and down and detachably holds the pallet 81 or the setter 89.

<第4ロボット>
第4ロボット79は、第3ロボット77と同様な構成である。つまり、周知の2軸のロボットのように、X軸方向とY軸方向とに移動可能となっている。第4ロボット79の先端のヘッド部79aには、上下動が可能で、パレット81又はセッター89を着脱可能に保持することができる保持部(図示せず)を備えている。
<4th robot>
The fourth robot 79 has the same configuration as the third robot 77. That is, like a well-known two-axis robot, it can move in the X-axis direction and the Y-axis direction. The head portion 79a at the tip of the fourth robot 79 is provided with a holding portion (not shown) that can move up and down and detachably holds the pallet 81 or the setter 89.

(3)次に、電子制御装置35について簡単に説明する。
電子制御装置35は、周知のように、マイクロコンピュータ等を備えた制御装置であり、電子制御装置35によって、塗布装置37の動作を制御する。
(3) Next, the electronic control unit 35 will be briefly described.
As is well known, the electronic control unit 35 is a control unit including a microcomputer and the like, and controls the operation of the coating unit 37 by the electronic control unit 35.

この電子制御装置35は、図8に示すように、機能的に、第1塗布制御部35aと第2塗布制御部35bと撮影制御部35cと判定部35dと後処理部35eとを備えている。
第1塗布制御部35aでは、ワーク基板31に最初にガラスペーストを塗布する動作を制御する。
As shown in FIG. 8, the electronic control device 35 functionally includes a first coating control unit 35a, a second coating control unit 35b, a photographing control unit 35c, a determination unit 35d, and a post-processing unit 35e. ..
The first application controller 35a controls the operation of first applying the glass paste to the work substrate 31.

第2塗布制御部35bでは、ガラスペーストを最初に塗布した箇所に再度ガラスペーストを塗布する動作を制御する。
撮影制御部35cでは、カメラ95を駆動して、出力線9等が配置されたワーク基板31の表面を撮影するための制御を行う。
The second application control unit 35b controls the operation of applying the glass paste again to the place where the glass paste was first applied.
The imaging control unit 35c drives the camera 95 to perform control for imaging the surface of the work substrate 31 on which the output lines 9 and the like are arranged.

判定部35dでは、カメラ95で撮影された画像を解析して、ワーク基板31の表面にガラスペーストが塗布された部分があるか否かを判定する。
後処理部35eでは、前記判定結果に基づいて、ワーク基板31の表面にガラスペーストが塗布された部分がある場合と無い場合とで、その後のワーク基板31の搬送経路を変更する。
The determination unit 35d analyzes the image captured by the camera 95 and determines whether or not the surface of the work substrate 31 has a portion coated with the glass paste.
The post-processing unit 35e changes the transport path of the work substrate 31 thereafter, depending on whether the surface of the work substrate 31 is coated with the glass paste or not, based on the determination result.

なお、上述した塗布システム33以外に、後述するように、焼成炉99(図4参照)を用いてガラスの焼成を行うことができる。
[1−5.ガラスペーストの塗布方法]
次に、ガラスペーストの塗布方法について、図4及び図9等に基づいて説明する。
In addition to the coating system 33 described above, the glass can be baked using a baking furnace 99 (see FIG. 4) as described later.
[1-5. Glass paste application method]
Next, a method for applying the glass paste will be described with reference to FIGS.

図4に示すように、まず、ワーク基板31が収容されたパレット81が、塗布前パレット待機部41の位置に配置され、その後、搬送装置83によって、塗布前パレット供給部43の位置に搬送される。 As shown in FIG. 4, first, the pallet 81 accommodating the work substrate 31 is arranged at the position of the pre-coating pallet standby section 41, and then is transferred to the position of the pre-coating pallet supply section 43 by the transfer device 83. It

次に、第1ロボット71のノズルによって、塗布前パレット供給部43の位置にあるパレット81から、ワーク基板31を吸引して保持して移動させ、ワーク基板31を、ガラス塗布ステージ47上に載置する(S300)。 Next, the nozzle of the first robot 71 sucks, holds and moves the work substrate 31 from the pallet 81 at the position of the pre-coating pallet supply unit 43, and the work substrate 31 is mounted on the glass coating stage 47. (S300).

次に、カメラ95によって、ガラス塗布ステージ47上のワーク基板31を撮影する(S310)。
次に、カメラ95によって撮影された画像に基づいて、ガラス塗布ステージ47の位置調整を行う(S320)。つまり、ワーク基板31に対してガラスペーストを塗布することができるように、即ちワーク基板31が目的とする位置となるように、ガラス塗布ステージ47の回転方向やY軸方向への移動を行う。
Next, the work substrate 31 on the glass coating stage 47 is photographed by the camera 95 (S310).
Next, the position of the glass coating stage 47 is adjusted based on the image taken by the camera 95 (S320). That is, the glass coating stage 47 is moved in the rotational direction or the Y-axis direction so that the glass paste can be applied to the work substrate 31, that is, the work substrate 31 is at the target position.

例えばワーク基板31が、図7Aに示す位置にある場合には、まず、ガラス塗布ステージ47の上部47aを回転させて、ワーク基板31をX軸方向に平行とする。
詳しくは、図10Aに示すように、ワーク基板31には、長手方向(図10Aの左右方向)の右端部と左端部にアライメントマークARが設けられている。よって、上述のようにして撮影された画像から、この左右のアライメントマークARに基づいて、図7Aに示すように、ワーク基板31がX軸方向に対してどの程度回転した位置にあるかが分かる。 つまり、左右のアライメントマークARを結ぶ線分がX軸方向に対してどの程度傾斜しているかが分かる。従って、前記線分(従ってワーク基板31)とX軸方向とが平行となるように、上部47aを回転させる。
For example, when the work substrate 31 is in the position shown in FIG. 7A, first, the upper portion 47a of the glass coating stage 47 is rotated to make the work substrate 31 parallel to the X-axis direction.
Specifically, as shown in FIG. 10A, the work substrate 31 is provided with alignment marks AR at the right end and the left end in the longitudinal direction (the left-right direction in FIG. 10A). Therefore, based on the left and right alignment marks AR, it is possible to know how much the work substrate 31 is rotated with respect to the X-axis direction from the images taken as described above, as shown in FIG. 7A. .. That is, it is possible to know how much the line segment connecting the left and right alignment marks AR is inclined with respect to the X-axis direction. Therefore, the upper portion 47a is rotated so that the line segment (and thus the work substrate 31) and the X-axis direction are parallel to each other.

その後、前記線分とX軸方向とが平行になったワーク基板31を、図7Bに示すように、Y軸方向に移動させる(例えば図7Bの上方に移動させる)。つまり、ガラスペーストを塗布するニードル97aは、図7の一点鎖線(即ち塗布ラインTL)に沿って移動するので、ワーク基板31のガラスペーストを塗布する位置(即ち塗布領域TR:図10B参照)が、塗布ラインTLに沿った位置となるように、ワーク基板31を載置したガラス塗布ステージ47(詳しくは下部47b)をY軸方向に移動させる。 After that, the work substrate 31 in which the line segment and the X-axis direction are parallel to each other is moved in the Y-axis direction as shown in FIG. 7B (for example, moved upward in FIG. 7B). That is, since the needle 97a that applies the glass paste moves along the alternate long and short dash line (that is, the application line TL) in FIG. 7, the position where the glass paste is applied on the work substrate 31 (that is, the application region TR: see FIG. 10B). The glass coating stage 47 (more specifically, the lower portion 47b) on which the work substrate 31 is placed is moved in the Y-axis direction so as to be positioned along the coating line TL.

ここで、ガラス塗布ユニット73(従ってニードル97a)は、Y軸方向ではなく、X軸方向に沿って移動するように構成されているので、上述したようにガラス塗布ステージ47をY軸方向に移動させておくのである。 Here, since the glass coating unit 73 (and therefore the needle 97a) is configured to move along the X-axis direction, not the Y-axis direction, the glass coating stage 47 moves in the Y-axis direction as described above. Let me do it.

なお、ニードル97aの位置としては、平面視で、例えば塗布領域TRにおける中央(図10Bの上下方向における中央)が挙げられる。
次に、再度、カメラ95によって、ガラス塗布ステージ47上のワーク基板31を撮影する(S330)。
The position of the needle 97a may be, for example, the center in the application region TR (the center in the vertical direction of FIG. 10B) in plan view.
Next, the work substrate 31 on the glass coating stage 47 is photographed again by the camera 95 (S330).

次に、この再度撮影された画像に基づいて、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されているか否かを判定する(S340)。
ここで、前記判定の方法について説明する。
Next, it is determined whether the glass paste is applied to the work substrate 31 based on the image captured again (S340).
Here, the determination method will be described.

カメラ95によって撮影された画像としては、例えば図11A又は図11Cに示す画像が挙げられる。図11Aの画像は、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されていない状態を示し、図11Cの画像は、ワーク基板31にガラスペーストが塗布された画像(詳しくは乾燥後の画像)を示している。なお、ガラスペーストは、多数の出力線9の根元部分を覆うように、図11A及び図11Cの左右方向に長い短冊状に塗布される。 Examples of the image captured by the camera 95 include the images shown in FIG. 11A or 11C. The image in FIG. 11A shows a state in which the glass paste is not applied to the work substrate 31, and the image in FIG. 11C shows an image in which the glass paste is applied to the work substrate 31 (specifically, an image after drying). .. The glass paste is applied in a strip shape that is long in the left-right direction in FIGS. 11A and 11C so as to cover the root portions of the many output lines 9.

この図11A及び図11Cから明らかなように、ガラスペーストが塗布されている部分(即ち図11Cにおいて左右方向に延びる明るい灰色部分)は、塗布されていない部分(即ち図11Aにおいて多数の出力線9の根元部分が左右方向に配列されている部分)に比べて輝度が高い(即ち明るい)。 As is clear from FIGS. 11A and 11C, the portion where the glass paste is applied (that is, the light gray portion extending in the left-right direction in FIG. 11C) is the portion where it is not applied (that is, the large number of output lines 9 in FIG. 11A). The brightness is higher (that is, brighter) than the area in which the root parts of the are arranged in the left-right direction.

従って、上述したガラスペーストが塗布される領域において、図11B及び図11Dに示すように、短冊状の画像処理領域GRを設定し、この画像処理領域GRにおける明るさの程度(レベル)に応じて、ガラスペーストが塗布されているか否かを判定することができる。 Therefore, in the area where the above-mentioned glass paste is applied, a strip-shaped image processing area GR is set as shown in FIGS. 11B and 11D, and the image processing area GR is set in accordance with the degree of brightness (level) in the image processing area GR. , It is possible to determine whether or not the glass paste is applied.

例えば図11Bに示すように、ガラスペーストが塗布されていない場合には、その画像処理領域GRにおける明るさの程度は低く、一方、例えば図11Dに示すように、ガラスペーストが塗布されている場合には、その画像処理領域GRにおける明るさの程度は高い。従って、その画像処理領域GRの明るさの程度を、所定の閾値で区別することにより、ガラスペーストが塗布されているか否かを判定することができる。 For example, as shown in FIG. 11B, when the glass paste is not applied, the degree of brightness in the image processing region GR is low, while, for example, as shown in FIG. 11D, when the glass paste is applied. In particular, the degree of brightness in the image processing area GR is high. Therefore, it is possible to determine whether or not the glass paste is applied by distinguishing the degree of brightness of the image processing area GR with a predetermined threshold value.

ここで、ガラスペーストが塗布されていないと判定された場合には、1回目のガラスペーストを塗布する処理を実行する(S350)
具体的には、アライメントマークARによって、ワーク基板31のX軸方向における位置は分かっているので、ガラス塗布ユニット73を駆動して、1回目のガラスペーストの塗布条件にて塗布を行う。
If it is determined that the glass paste has not been applied, the first glass paste application process is executed (S350).
Specifically, since the position of the work substrate 31 in the X-axis direction is known from the alignment mark AR, the glass coating unit 73 is driven to perform coating under the first glass paste coating condition.

つまり、ニードル97aの先端の高さを1回目の塗布に応じて所定高さに設定し、ニードル97aから所定の供給速度(単位時間当たりの吐出量)でガラスペーストを供給しながら、ガラス塗布ユニット73(従ってニードル97a)を、X軸方向に沿って塗布開始位置から塗布終了位置まで移動させる。 That is, the height of the tip of the needle 97a is set to a predetermined height according to the first application, and the glass coating unit is supplied while the glass paste is supplied from the needle 97a at a predetermined supply rate (discharge amount per unit time). 73 (hence needle 97a) is moved from the coating start position to the coating end position along the X-axis direction.

これによって、図12Aに示すように、ワーク基板31の表面の塗布領域TRに、短冊状の厚みが薄い第1の塗布部T1が形成される。
次に、第2ロボット75を駆動して、ガラス塗布ステージ47上にあるワーク基板31、即ち第1の塗布部T1を形成したワーク基板31を保持し移動させて、塗布後パレット供給部51の位置にあるパレット81に収容する(S360)。なお、これにより、以後、ワーク基板31は、共通経路K0から、第1の経路K1に沿って搬送されることになる。
As a result, as shown in FIG. 12A, a strip-shaped thin first coating portion T1 is formed in the coating region TR on the surface of the work substrate 31.
Next, the second robot 75 is driven to hold and move the work substrate 31 on the glass coating stage 47, that is, the work substrate 31 on which the first coating portion T1 is formed, to move the post-coating pallet supplying portion 51. It is stored in the pallet 81 located at the position (S360). It should be noted that, as a result, the work substrate 31 is thereafter transported from the common route K0 along the first route K1.

次に、第3ロボット77を駆動して、塗布後パレット供給部51の位置にあるパレット81を保持して、ベルトコンベア57上に載置する(S370)。
次に、ベルトコンベア57によって、パレット81を乾燥炉59内に搬送し、乾燥炉59にて、ワーク基板31の第1の塗布部T1を乾燥させる。これにより、ワーク基板31に、第1の塗布部T1が乾燥した第1の乾燥部Ka1(図12B参照)が形成される(S380)。
Next, the third robot 77 is driven to hold the pallet 81 at the position of the pallet supply unit 51 after coating and place it on the belt conveyor 57 (S370).
Next, the pallet 81 is conveyed into the drying oven 59 by the belt conveyor 57, and the first coating section T1 of the work substrate 31 is dried in the drying oven 59. As a result, the first drying portion Ka1 (see FIG. 12B) obtained by drying the first coating portion T1 is formed on the work substrate 31 (S380).

次に、第4ロボット79を駆動して、乾燥炉59から排出された、ベルトコンベア57上のパレット81を保持し、塗布後パレット排出部61に搬送する。
なお、その後、塗布後パレット排出部61上にパレット81は、作業者によって、塗布前パレット待機部41に搬送されるが、ロボット等の装置によって、自動的に搬送するようにしてもよい。
Next, the fourth robot 79 is driven to hold the pallet 81 on the belt conveyor 57 discharged from the drying furnace 59, and conveys it to the pallet discharging section 61 after coating.
After that, the pallet 81 is transferred to the pre-application pallet standby part 41 on the post-application pallet discharging part 61, but it may be automatically transferred by a device such as a robot.

一方、再度撮影された画像に基づいて、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されているか否かを判定した結果、ガラスペーストが塗布されていると判定された場合には、2回目のガラスペーストを塗布する処理を実行する(S400)
つまり、再度ガラス塗布ユニット73を駆動して、2回目のガラスペーストの塗布条件にて、第1の乾燥部Ka1の表面の全体を覆うように、2回目のガラスペーストの塗布を行う。具体的には、ニードル97aの先端の高さを2回目の塗布に応じて所定高さに設定する。なお、2回目では1回目よりも、ニードル97aの先端を高くする。その他の条件は、1回目と同じであるが、適宜変更してよい。
On the other hand, as a result of determining whether or not the glass paste is applied to the work substrate 31 based on the image captured again, if it is determined that the glass paste is applied, the second glass paste is applied. Execute the coating process (S400)
That is, the glass coating unit 73 is driven again to perform the second glass paste coating so as to cover the entire surface of the first drying section Ka1 under the second glass paste coating conditions. Specifically, the height of the tip of the needle 97a is set to a predetermined height according to the second application. In the second time, the tip of the needle 97a is made higher than in the first time. Other conditions are the same as those of the first time, but may be changed appropriately.

これによって、図12Cに示すように、ワーク基板31の表面の塗布領域TRに、第1の塗布部T1よりも厚みが大きな短冊状の第2の塗布部T2が形成される。つまり、第1の乾燥部Ka1の表面上に、第2の塗布部T2が形成される。 As a result, as shown in FIG. 12C, a strip-shaped second coating portion T2 having a thickness larger than that of the first coating portion T1 is formed in the coating region TR on the surface of the work substrate 31. That is, the second coating section T2 is formed on the surface of the first drying section Ka1.

次に、第2ロボット75を駆動して、ガラス塗布ステージ47上にあるワーク基板31、即ち第2の塗布部T2を形成したワーク基板31を保持し移動させて、セッター供給部55の位置にあるセッター89上に載置する(S410)。なお、これにより、以後、ワーク基板31は、共通経路K0から、第2の経路K2に沿って搬送されることになる。 Next, the second robot 75 is driven to hold and move the work substrate 31 on the glass coating stage 47, that is, the work substrate 31 on which the second coating unit T2 is formed, to the position of the setter supply unit 55. It is placed on a setter 89 (S410). In addition, as a result, the work substrate 31 is thereafter transported from the common route K0 along the second route K2.

次に、第3ロボット77を駆動して、セッター供給部55の位置にあるセッター89を把持して、ベルトコンベア57上に載置する(S420)。
次に、ベルトコンベア57によって、セッター89を乾燥炉59内に搬送し、乾燥炉59にて、ワーク基板31の第1の塗布部T2を乾燥させる。これにより、ワーク基板31に、第2の塗布部T2が乾燥した第2の乾燥部Ka2(図12D参照)が形成される(S430)。
Next, the third robot 77 is driven to hold the setter 89 at the position of the setter supply unit 55 and place it on the belt conveyor 57 (S420).
Next, the setter 89 is conveyed into the drying furnace 59 by the belt conveyor 57, and the first coating part T2 of the work substrate 31 is dried in the drying furnace 59. As a result, the second drying portion Ka2 (see FIG. 12D) obtained by drying the second coating portion T2 is formed on the work substrate 31 (S430).

これによって、(乾燥後の)第1の塗布部T1上に(乾燥後の)第2の塗布部T2が積層されたガラスペーストの材料からなる塗布部T、詳しくは、第1の乾燥部Ka1上に第2の乾燥部Ka2が積層された乾燥部Kaが得られる(図12D参照)。 As a result, the application section T made of the material of the glass paste in which the second application section T2 (after drying) is laminated on the first application section T1 (after drying), more specifically, the first drying section Ka1. A drying section Ka having the second drying section Ka2 laminated thereon is obtained (see FIG. 12D).

次に、第4ロボット79を駆動して、乾燥炉59から排出された、ベルトコンベア57上のセッター89を把持し、セッター排出部63に搬送する。
なお、その後、セッター排出部63上のセッター89は、作業者によって、焼成炉99に搬送されて、ガラスの焼成が行われる。即ち、第1の乾燥部Ka1及び第2の乾燥部Ka2のガラスの焼成が行われる。
Next, the fourth robot 79 is driven to grip the setter 89 on the belt conveyor 57 discharged from the drying furnace 59 and convey it to the setter discharging unit 63.
In addition, after that, the setter 89 on the setter discharge part 63 is conveyed to the firing furnace 99 by the operator, and the glass is fired. That is, the glass in the first drying section Ka1 and the second drying section Ka2 is fired.

この焼成によって、ワーク基板31の表面に、短冊状のガラス層GS(図12E参照)が形成される。
その後、上述したように、ワーク基板31がカットされて、図12Eの破線で囲まれるような個々の感温素子5が完成する。
[1−6.効果]
(1)本実施形態では、カメラ95で撮影されたワーク基板31(即ち出力線9が接合されたワーク基板31)の表面の画像を解析して、ワーク基板31の表面の塗布領域TR(詳しくは画像処理領域GR)にガラスペーストが塗布された部分があるか否かを判定する。そして、塗布領域TRにガラスペーストが塗布されている場合には、その後のワーク基板31に対する処理内容を変更する。
By this firing, a strip-shaped glass layer GS (see FIG. 12E) is formed on the surface of the work substrate 31.
After that, as described above, the work substrate 31 is cut to complete the individual temperature sensitive elements 5 as surrounded by the broken line in FIG. 12E.
[1-6. effect]
(1) In the present embodiment, an image of the surface of the work substrate 31 (that is, the work substrate 31 to which the output lines 9 are joined) photographed by the camera 95 is analyzed, and the application region TR (details) Determines whether or not there is a portion to which the glass paste is applied in the image processing area GR). Then, when the glass paste is applied to the application region TR, the subsequent processing contents for the work substrate 31 are changed.

具体的には、塗布領域TRにガラスペーストが塗布されている場合には、ワーク基板31に対して、ガラスペーストを塗布する1回目の塗布条件に従って、1回目の塗布を行う(第1塗布工程)。一方、塗布領域TRにガラスペーストが塗布されている場合には、ガラスペーストを塗布する2回目の塗布条件に従って、2回目の塗布を行う(第2塗布工程)。 Specifically, when the glass paste is applied to the application region TR, the first application is performed on the work substrate 31 according to the first application condition for applying the glass paste (first application step). ). On the other hand, when the glass paste is applied to the application region TR, the second application is performed according to the second application condition for applying the glass paste (second application step).

これにより、パッド部17や出力線9の周囲を隙間なく覆うように、十分な量のガラスペーストを確実に塗布することができる。つまり、ワーク基板31の表面に、ガラス材料からなる2層構造の塗布部T、詳しくは第1の乾燥部Ka1の上に第2の乾燥部Ka2が積層された2層構造の乾燥部Kaを形成することができる。 As a result, a sufficient amount of glass paste can be surely applied so as to cover the pad portion 17 and the output line 9 with no space therebetween. That is, on the surface of the work substrate 31, a coating section T having a two-layer structure made of a glass material, more specifically, a drying section Ka having a two-layer structure in which a second drying section Ka2 is laminated on the first drying section Ka1. Can be formed.

従って、このような塗布部T(詳しくは乾燥部Ka)が形成されたワーク基板31を焼成することにより、好ましい特性を有する絶縁被覆部21を形成することができる。つまり、この絶縁被覆部21によってパッド部17や出力線9を覆うことにより、出力線9の接合強度や電気絶縁性を十分に確保することができる。 Therefore, by baking the work substrate 31 on which the coating portion T (specifically, the drying portion Ka) is formed, the insulating coating portion 21 having preferable characteristics can be formed. That is, by covering the pad portion 17 and the output line 9 with the insulating coating portion 21, it is possible to sufficiently secure the bonding strength and the electric insulation of the output line 9.

(2)本実施形態では、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されている場合と無い場合とで、ガラス塗布ユニット73のニードル97aの高さを変更している。
具体的には、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されていない場合には、第2塗布工程に比べて、ニードル97aの高さを低くしている。これにより、ガラスペーストの供給量が少なくなるので、第1塗布工程では、第2塗布工程に比べてガラスペーストの厚みが薄めとなるように塗布することができる。これにより、出力線9等の周囲に隙間なくガラスペーストを充填できる。
(2) In the present embodiment, the height of the needle 97a of the glass coating unit 73 is changed depending on whether the glass paste is applied to the work substrate 31 or not.
Specifically, when the glass paste is not applied to the work substrate 31, the height of the needle 97a is set lower than that in the second applying step. Thereby, the supply amount of the glass paste is reduced, so that the glass paste can be applied in the first application step so that the thickness of the glass paste is thinner than that in the second application step. As a result, the glass paste can be filled around the output line 9 and the like without any gap.

一方、ワーク基板31にガラスペーストが塗布されている場合には、1回目の塗布に比べて、ニードル97aの高さを高くしている。これにより、ガラスペーストの供給量が多くなるので、第1塗布工程に比べてガラスペーストを厚めに塗布することができる。これにより、出力線9等の周囲に十分にガラスペーストを供給できるので、出力線9等の接合強度を高めたり、電気絶縁性を高めることができる。 On the other hand, when the glass paste is applied to the work substrate 31, the height of the needle 97a is made higher than that of the first application. Thereby, the supply amount of the glass paste is increased, and thus the glass paste can be applied thicker than in the first application step. As a result, the glass paste can be sufficiently supplied to the periphery of the output line 9 and the like, so that the bonding strength of the output line 9 and the like and the electrical insulation can be enhanced.

(3)本実施形態では、第1塗布工程を行ったワーク基板31を、第1の経路K1にて第1の位置に搬送する。即ち、ワーク基板31をパレット81に収容し、そのパレット81をベルトコンベア57上のパレット81用の位置に載置して搬送する。 (3) In the present embodiment, the work substrate 31 that has been subjected to the first coating step is transported to the first position on the first path K1. That is, the work substrate 31 is accommodated in the pallet 81, and the pallet 81 is placed on the position for the pallet 81 on the belt conveyor 57 and conveyed.

また、第2塗布工程を行ったワーク基板31を、第2の経路K2にて第2の位置に搬送する。即ち、ワーク基板31をセッター89に載置し、そのセッター89をベルトコンベア57上のセッター89用の位置に載置して搬送する。 Further, the work substrate 31 that has been subjected to the second coating step is transported to the second position on the second path K2. That is, the work substrate 31 is placed on the setter 89, and the setter 89 is placed on the position of the setter 89 on the belt conveyor 57 and conveyed.

このように、塗布工程が異なるワーク基板31を異なる位置に搬送することにより、異なる位置にて、必要な処理(塗布や乾燥等の処理)を容易に且つ間違いなく行うことができる。
[1−7.文言の対応関係]
本実施形態の、セラミックス基板11、パッド部17、出力線9、ワーク基板31、塗布部T、カメラ95、第1の経路K1、第2の経路K2、パレット81、セッター89、塗布システム33、第1塗布制御部35a、第2塗布制御部35b、撮影制御部35c、判定部35d、後処理部35e、乾燥炉59、焼成炉99、絶縁被覆部21は、それぞれ、本開示の、絶縁基板、配線層、導電線、配線基板、塗布部、カメラ、第1の経路、第2の経路、第1の搬送用部材、第2の搬送用部材、配線基板の製造装置、第1塗布制御部、第2塗布制御部、撮影制御部、判定部、後処理部、乾燥部、焼成部、絶縁被覆部の一例に相当する。
[2.他の実施形態]
以上、本開示の一実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態に限定されるものではなく、種々変形して実施することができる。
In this way, by transporting the work substrates 31 having different coating processes to different positions, it is possible to easily and without fail perform necessary processing (processing such as coating and drying) at different positions.
[1-7. Correspondence of wording]
The ceramic substrate 11, the pad portion 17, the output line 9, the work substrate 31, the coating portion T, the camera 95, the first path K1, the second path K2, the pallet 81, the setter 89, and the coating system 33 of the present embodiment, The first coating control unit 35a, the second coating control unit 35b, the imaging control unit 35c, the determination unit 35d, the post-processing unit 35e, the drying furnace 59, the baking furnace 99, and the insulating coating unit 21 are each the insulating substrate of the present disclosure. , Wiring layer, conductive wire, wiring board, coating section, camera, first path, second path, first transport member, second transport member, wiring board manufacturing apparatus, first coating control section It corresponds to an example of the second coating control unit, the imaging control unit, the determination unit, the post-processing unit, the drying unit, the baking unit, and the insulating coating unit.
[2. Other Embodiments]
Although one embodiment of the present disclosure has been described above, the present disclosure is not limited to the above embodiment, and various modifications can be implemented.

(1)例えば、感温素子の材料(例えばガラスの材料)、感温素子やワーク基板の形状等については、前記実施形態に限定されるものではない。
(2)また、例えば、塗布装置、塗布ユニット、ガラス塗布ステージの構成や動作等については、前記実施形態に限定されるものではない。
(1) For example, the material of the temperature sensitive element (for example, the material of glass), the shape of the temperature sensitive element, the shape of the work substrate, and the like are not limited to those in the above embodiment.
(2) Further, for example, the configurations and operations of the coating device, the coating unit, the glass coating stage, etc. are not limited to those in the above embodiment.

(3)さらに、上記実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記各実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。 (3) Furthermore, the function of one component in the above-described embodiment may be shared by a plurality of components, or the function of a plurality of components may be performed by one component. Moreover, you may omit a part of structure of the said embodiment. Further, at least a part of the configuration of the above-described embodiment may be added to or replaced with the configuration of each of the other above-described embodiments. It should be noted that all aspects included in the technical idea specified by the wording recited in the claims are embodiments of the present disclosure.

1…温度センサ
9…出力線
11…セラミックス基板
17…パッド部
21…絶縁被覆部
31…ワーク基板
33…塗布システム
35…電子制御装置
35a…第1塗布制御部
35b…第2塗布制御部
35c…撮影制御部
35d…判定部
35e…後処理部
37…塗布装置
59…乾燥炉
81…パレット
89…セッター
95…カメラ
99…焼成炉
T…塗布部
K1…第1の経路
K2…第2の経路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Temperature sensor 9... Output line 11... Ceramic substrate 17... Pad part 21... Insulation coating part 31... Work substrate 33... Coating system 35... Electronic control device 35a... 1st coating control part 35b... 2nd coating control part 35c... Imaging control unit 35d... Judgment unit 35e... Post-processing unit 37... Coating device 59... Drying furnace 81... Pallet 89... Setter 95... Camera 99... Baking furnace T... Coating unit K1... First path K2... Second path

Claims (8)

絶縁基板の表面に形成された配線層に導電線を接合した配線基板に対し、前記配線層及び前記導電線を覆うように前記絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを塗布して塗布部を形成する配線基板の製造方法において、
前記絶縁基板の表面側に前記絶縁ペーストを最初に塗布する第1塗布工程と、
前記絶縁ペーストを最初に塗布した箇所に再度前記絶縁ペーストを塗布する第2塗布工程と、
カメラを用いて前記配線層及び前記導電線が設けられた前記配線基板の表面を撮影する撮影工程と、
前記撮影された画像を解析して前記配線基板の表面に前記塗布部があるか否かを判定する判定工程と、
を有し、
前記判定結果に基づいて、前記配線基板の表面に前記塗布部がある場合と無い場合とで、前記配線基板に対して行う後の処理の内容を変更する、
配線基板の製造方法。
An insulating paste is applied to the surface side of the insulating substrate so as to cover the wiring layer and the conductive lines, and a coating portion is formed on the wiring substrate in which the conductive lines are joined to the wiring layer formed on the surface of the insulating substrate. In the method of manufacturing a wiring board,
A first applying step of first applying the insulating paste to the front surface side of the insulating substrate;
A second applying step of applying the insulating paste again to the place where the insulating paste was first applied;
A photographing step of photographing the surface of the wiring board provided with the wiring layer and the conductive wire using a camera;
A determination step of analyzing the captured image to determine whether or not the coating portion is present on the surface of the wiring board;
Have
Based on the determination result, the content of the process performed on the wiring board is changed depending on whether the coating section is provided on the surface of the wiring board or not.
Wiring board manufacturing method.
前記配線基板の表面に前記塗布部がある場合と無い場合とで、前記絶縁ペーストを塗布する塗布条件を変更する、
請求項1に記載の配線基板の製造方法。
Changing the coating conditions for coating the insulating paste depending on whether the coating portion is provided on the surface of the wiring board or not.
The method for manufacturing a wiring board according to claim 1.
前記第1塗布工程を行った前記配線基板を、第1の経路にて第1の位置に搬送し、
前記第2塗布工程を行った前記配線基板を、第2の経路にて第2の位置に搬送する、
請求項1または2に記載の配線基板の製造方法。
The wiring board that has been subjected to the first coating step is conveyed to a first position through a first path,
The wiring board that has been subjected to the second coating step is conveyed to a second position through a second path,
The method for manufacturing a wiring board according to claim 1.
前記第1の経路にて前記配線基板を搬送する場合には、前記配線基板を第1の搬送用部材に載置し、前記第1の経路にて搬送して、前記絶縁ペーストの乾燥を行う第1乾燥工程と、
前記第2の経路にて前記配線基板を搬送する場合には、前記配線基板を前記第1の搬送用部材より耐熱性の高い焼成用の第2の搬送用部材に載置し、前記第2の経路にて搬送して、前記絶縁ペーストの乾燥を行う第2乾燥工程と、
前記第2乾燥工程の後に、前記絶縁ペーストを焼成して絶縁被覆部を形成する焼成工程と、を有する、
請求項3に記載の配線基板の製造方法。
When the wiring board is transported through the first path, the wiring board is placed on the first transport member, transported through the first path, and the insulating paste is dried. A first drying step,
When the wiring board is transported through the second route, the wiring board is placed on the second transporting member for firing, which has higher heat resistance than the first transporting member, A second drying step of transporting the insulating paste by the route of
And a firing step of firing the insulating paste to form an insulating coating portion after the second drying step.
The method for manufacturing a wiring board according to claim 3.
絶縁基板の表面に形成された配線層に導電線が接合された配線基板に対し、塗布装置を駆動して、前記配線層及び前記導電線を覆うように前記絶縁基板の表面側に絶縁ペーストを塗布して塗布部を形成する配線基板の製造装置において、
前記絶縁基板の表面側に前記絶縁ペーストを最初に塗布する動作を制御する第1塗布制御部と、
前記絶縁ペーストを最初に塗布した箇所に再度前記絶縁ペーストを塗布する動作を制御する第2塗布制御部と、
カメラを用いて前記配線層及び前記導電線が設けられた前記配線基板の表面を撮影する撮影制御部と、
前記撮影された画像を解析して前記配線基板の表面に前記塗布部があるか否かを判定する判定部と、
前記判定結果に基づいて、前記配線基板の表面に前記塗布部がある場合と無い場合とで、前記配線基板に対して行う後の処理の内容を変更する後処理部と、
を備えた、配線基板の製造装置。
For a wiring board in which a conductive wire is bonded to a wiring layer formed on the surface of the insulating substrate, drive an applicator to apply an insulating paste on the surface side of the insulating substrate so as to cover the wiring layer and the conductive wire. In a wiring board manufacturing apparatus for coating to form a coating portion,
A first coating control unit that controls an operation of first coating the insulating paste on the front surface side of the insulating substrate;
A second coating control unit that controls the operation of coating the insulating paste again at the location where the insulating paste was first coated;
An image capturing control unit that captures an image of the surface of the wiring board provided with the wiring layer and the conductive lines using a camera;
A determination unit that analyzes the captured image and determines whether or not the coating unit is present on the surface of the wiring board;
Based on the determination result, a post-processing unit that changes the content of post-processing performed on the wiring substrate depending on whether the coating unit is provided on the surface of the wiring substrate or not.
An apparatus for manufacturing a wiring board, comprising:
前記配線基板の表面に前記塗布部がある場合と無い場合とで、前記絶縁ペーストを塗布する塗布条件を変更する、
請求項5に記載の配線基板の製造装置。
Changing the coating conditions for coating the insulating paste depending on whether the coating portion is provided on the surface of the wiring board or not.
The wiring board manufacturing apparatus according to claim 5.
前記第1塗布制御部の動作後の前記配線基板を、第1の経路にて第1の位置に搬送し、
前記第2塗布制御部の動作後の前記配線基板を、第2の経路にて第2の位置に搬送する、
請求項5または6に記載の配線基板の製造装置。
The wiring board after the operation of the first coating control unit is conveyed to a first position on a first path,
The wiring board after the operation of the second coating controller is conveyed to a second position through a second path,
The wiring board manufacturing apparatus according to claim 5.
前記絶縁ペーストを乾燥する乾燥部と、前記乾燥した絶縁ペーストを焼成する焼成部と、を備えており、
前記第1の経路にて前記配線基板を搬送する場合には、前記配線基板を第1の搬送用部材に載置して、前記第1の経路にて前記乾燥部に搬送して、前記絶縁ペーストの乾燥を行い、
前記第2の経路にて前記配線基板を搬送する場合には、前記配線基板を前記第1の搬送用部材より耐熱性の高い焼成用の第2の搬送用部材に載置して、前記第2の経路にて前記乾燥部に搬送して、前記絶縁ペーストの乾燥を行い、
前記焼成部では、前記第2の搬送用部材上の前記配線基板における前記乾燥後の前記絶縁ペーストを焼成して絶縁被覆部を形成する、
請求項7に記載の配線基板の製造装置。
A drying unit for drying the insulating paste, and a baking unit for baking the dried insulating paste,
When the wiring board is transferred through the first path, the wiring board is placed on a first transfer member and transferred to the drying section through the first path to remove the insulation. Dry the paste,
When the wiring board is transported through the second route, the wiring board is placed on a second transporting member for firing which has higher heat resistance than the first transporting member, and It is conveyed to the drying section through the route 2 to dry the insulating paste,
In the firing unit, the insulating paste after drying on the wiring substrate on the second transport member is fired to form an insulating coating unit.
The wiring board manufacturing apparatus according to claim 7.
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