JP2020108910A - Water jet processing device and water jet processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウォータージェット加工装置及びウォータージェット加工方法に関する。 The present invention relates to a water jet processing device and a water jet processing method.
被加工物として、電極が配線された樹脂や金属製の基板に半導体デバイスなどが搭載され、半導体デバイスをモールド樹脂によって被覆されたパッケージ基板が知られている。パッケージ基板は、加工予定ラインに沿って個々のデバイスチップに分割されると、CSP(Chip Size Package)やQFN(Quad Flat Non-Leaded Package)等と呼ばれるパッケージチップとなる。 As a work piece, a package substrate is known in which a semiconductor device or the like is mounted on a resin or metal substrate on which electrodes are wired, and the semiconductor device is covered with a mold resin. When the package substrate is divided into individual device chips along the line to be processed, it becomes a package chip called CSP (Chip Size Package) or QFN (Quad Flat Non-Leaded Package).
前述したパッケージチップは、加工予定ラインに沿って金属の電極が露出している事が多い。このために、パッケージ基板の加工予定ラインを切削ブレードで切断すると金属のバリが発生し、電極同士が電気的に繋がってショートする恐れがある。そこで、バリの発生を抑制する目的で、加圧された加工液(ウォータジェットともいう)を加工予定ラインに向けて噴射して、電極を切断する分割方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In the package chip described above, the metal electrode is often exposed along the planned processing line. For this reason, when the line to be processed on the package substrate is cut with a cutting blade, metal burrs are generated, and the electrodes may be electrically connected to each other to cause a short circuit. Therefore, for the purpose of suppressing the occurrence of burrs, a dividing method has been proposed in which a pressurized machining fluid (also referred to as water jet) is jetted toward a machining scheduled line to cut the electrode (for example, Patent Document 1). 1).
しかしながら、特許文献1に示す分割方法は、ノズルから被加工物に向かって噴射された加工液が被加工物上を伝って周囲に流出するとともに、被加工物への衝突等や流出時の摩擦等の影響によりミストになる。前述した分割方法は、ミストとなった加工液が加工装置の各部、例えば、測定用のゲージや電装部品等に付着すると加工精度の低下等の問題を招くおそれがある。 However, in the dividing method shown in Patent Document 1, the machining fluid jetted from the nozzle toward the workpiece flows along the workpiece and flows out to the surroundings, and also the collision on the workpiece and the friction at the time of outflow. It becomes a mist due to the influence of the above. The above-described division method may cause a problem such as a decrease in processing accuracy when the working fluid that becomes mist adheres to various parts of the processing device, for example, a gauge for measurement, electrical components, and the like.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ミストの付着による加工精度の低下を抑制することができるウォータージェット加工装置及びウォータージェット加工方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a water jet processing device and a water jet processing method capable of suppressing a decrease in processing accuracy due to adhesion of mist.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のウォータージェット加工装置は、被加工物を保持する保持面を含む保持手段と、該保持手段で保持された被加工物に加工液を噴射する噴射口を含む加工液噴射ノズルと、該噴射口を囲繞するよう配置された水壁形成液噴射部を含み、該水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する水壁形成手段と、を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, a water jet processing apparatus of the present invention has a holding means including a holding surface for holding a work piece, and a working liquid for the work piece held by the holding means. Forming a water wall from the water wall forming liquid ejecting part toward the workpiece, and including a machining liquid ejecting nozzle including an ejecting port for ejecting the water, and a water wall forming liquid ejecting part arranged so as to surround the ejecting port. And a water wall forming means for forming the water wall.
本発明のウォータージェット加工方法は、加工予定ラインを有した被加工物を保持手段で保持する保持ステップと、該保持ステップを実施した後、被加工物の該加工予定ラインに沿って加工液噴射ノズルの噴射口から加工液を噴射するとともに、該噴射口を囲繞する水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する加工ステップと、を備えたことを特徴とする。 The water jet processing method of the present invention includes a holding step of holding a work piece having a working line with a holding means, and, after performing the holding step, ejecting a working liquid along the working line of the work piece. And a machining step of ejecting the machining liquid from the ejection port of the nozzle and forming a water wall from the water wall forming liquid ejection unit surrounding the ejection port toward the workpiece.
本願発明のウォータージェット加工装置は、ミストの付着による加工精度の低下を抑制することができるという効果を奏する。 The water jet processing apparatus of the present invention has the effect of suppressing a decrease in processing accuracy due to the attachment of mist.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 Modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the embodiments below. Further, the components described below include those that can be easily conceived by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be appropriately combined. In addition, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るウォータージェット加工装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の構成例を示す斜視図である。図2は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物が分割されて得られたデバイスチップを示す斜視図である。図3は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物のハーフカット溝が形成された要部の断面図である。
[Embodiment 1]
A water jet processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a water jet processing device according to the first embodiment. FIG. 2 is a perspective view showing a device chip obtained by dividing a workpiece to be processed by the water jet processing apparatus according to the first embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part in which a half-cut groove of a workpiece to be processed by the water jet processing device according to the first embodiment is formed.
(被加工物)
実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、被加工物200を加工する装置である。実施形態1では、被加工物200は、図1に示すように、CSP(Chip Size Package)、又はQFN(Quad Flat Non-leaded Package)等を含むパッケージ基板である。被加工物200は、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等の回路が作り込まれた複数の半導体デバイス201(図2に示す)を所定のパターンに形成された金属プレート202上に配列し、金属プレート202上の複数の半導体デバイス201をモールド樹脂203等で封止して略長方形の板状に形成されている。また、被加工物200は、モールド樹脂203が図1に示す格子状の加工予定ライン204によって複数の領域に区画され、各領域内に前述した半導体デバイス201が配設されている。
(Workpiece)
The water jet processing device 1 according to the first embodiment is a device that processes the
被加工物200は、加工予定ライン204に沿って分割されて、図2に示す個々のデバイスチップ205に分割される。また、被加工物200は、半導体デバイス201と図示しないワイヤにより接続されかつ銅合金等の金属で構成された図3に示す電極部206を加工予定ライン204に設けている。被加工物200の電極部206は、中央部で切断されて、デバイスチップ205の外側面に露出して、デバイスチップ205の電極207(図2に示す)として機能する。
The
被加工物200は、図1に示すように、モールド樹脂203側に粘着テープ210が貼着され、粘着テープ210の外周に環状フレーム211が貼着されることで、環状フレーム211と一体となった状態でウォータージェット加工装置1に搬入される。また、実施形態1において、被加工物200は、図3に示すように、金属プレート202側から加工予定ライン204に沿って切削加工によりハーフカット溝208が形成された状態でウォータージェット加工装置1に搬入される。被加工物200は、ハーフカット溝208が切削加工により形成されるために、図3に示すように、電極部206のハーフカット溝208の縁に金属プレート202の表面から突出したバリ209が発生することがある。被加工物200は、ハーフカット溝208が形成された後にバリ209が除去される。
As shown in FIG. 1, the
また、被加工物200は、ハーフカット溝208が形成され、バリ209が除去された後、ハーフカット溝208の底に切削加工が施されて、図2に示す個々のデバイスチップ205に分割される。
Further, in the
(ウォータージェット加工装置)
実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、被加工物200のハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を除去する装置である。図4は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工液噴射ユニットの断面図である。図5は、図4に示された加工液噴射ユニットの平面図である。
(Water jet processing equipment)
The water jet processing apparatus 1 according to the first embodiment is an apparatus for removing the
ウォータージェット加工装置1は、図1に示すように、被加工物200を吸引保持する保持面11を含む保持手段であるチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持された被加工物200の加工予定ライン204に沿って図8に示す加圧された加工液399を噴射する加工液噴射ユニット20と、チャックテーブル10に保持された被加工物200を撮像して加工予定ライン204を検出するアライメントユニット50と、制御ユニット100と、を備える。
As shown in FIG. 1, the water jet processing apparatus 1 is a chuck table 10 that is a holding unit including a
また、ウォータージェット加工装置1は、図1に示すように、チャックテーブル10を保持面11と平行なX方向に加工送りする加工送りユニット70と、加工液噴射ユニット20を保持面11と平行でかつX方向に直交するY方向に割り出し送りする割り出し送りユニット80と、加工液噴射ユニット20を保持面11と接近または離間する鉛直方向に平行なZ方向に移動させる移動ユニット90と、を少なくとも備える。
As shown in FIG. 1, the water jet machining apparatus 1 includes a
チャックテーブル10は、被加工物200を保持する保持面11がポーラスセラミック等から形成された円盤形状である。また、チャックテーブル10は、加工送りユニット70によりX方向に移動自在で回転駆動源12によりZ方向と平行な軸心回りに回転自在に設けられている。チャックテーブル10は、図示しない真空吸引源と接続され、真空吸引源により吸引されることで、被加工物200を吸引、保持する。チャックテーブル10の周囲には、環状フレーム211をクランプするクランプ部14が複数設けられている。また、チャックテーブル10は、加工送りユニット70によってX方向に移動される移動テーブル15上に配置されている。
The chuck table 10 has a disk shape in which the
加工送りユニット70は、装置本体2上に設けられ、かつ移動テーブル15をX方向に移動させることで、チャックテーブル10をX方向に加工送りする。割り出し送りユニット80は、装置本体2上に設けられ、支持柱81をY方向に移動させることで、加工液噴射ユニット20をY方向に割り出し送りする。移動ユニット90は、支持柱81に設けられ、加工液噴射ユニット20を先端に支持したZ方向移動部材91をZ方向に移動させることで、加工液噴射ユニット20をZ方向に移動する。
The
加工送りユニット70、割り出し送りユニット80及び移動ユニット90は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじと、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のパルスモータと、チャックテーブル10又は加工液噴射ユニット20をX方向、Y方向又はZ方向に移動自在に支持する周知のガイドレールを備える。
The
加工液噴射ユニット20は、加圧された加工液300(図8に示す)を噴射し、被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を切断面から除去するものである。加工液噴射ユニット20は、図1及び図4に示すように、加工液噴射ノズル30と、水壁形成手段である水壁形成ユニット40とを備える。
The machining
加工液噴射ノズル30は、外観が円柱状に形成され、図4に示すように、チャックテーブル10で保持された被加工物200に加圧された加工液300を噴射する噴射口31を含む。加工液噴射ノズル30は、チャックテーブル10で保持された被加工物200に向かうにしたがって徐々に先細に形成された先端部32の先端面34に噴射口31を設けている。なお、先端面34は、チャックテーブル10に保持された被加工物200とZ方向に対向する。加工液噴射ノズル30は、Z方向移動部材91の先端に取り付けられて、噴射口31がチャックテーブル10に保持された被加工物200とZ方向に対向する。
The machining
加工液噴射ノズル30は、加工液供給源33から供給された加圧された加工液300をチャックテーブル10に保持された被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208に向けて噴射口31から噴射する。実施形態1において、加工液噴射ノズル30は、噴射口31の平面形状が円形でかつ内径が0.3mmであり、噴射口31が開口した先端面34が被加工物200の金属プレート202から7mm以上でかつ10mm以下の距離に位置付けられて加工液300を噴射する。また、実施形態1では、加工液噴射ノズル30は、加工液供給源33から70MPa(ゲージ圧)に加圧された加工液が供給され、噴射口31から1.4L/minの流量で加工液300を噴射する。
The machining
水壁形成ユニット40は、第1リング状部材41と、第2リング状部材51とを備えている。第1リング状部材41は、厚手の円環状に形成され、内径が加工液噴射ノズル30の外径と等しく形成され、内側に加工液噴射ノズル30を通して、加工液噴射ノズル30の外周面に取り付けられている。また、第1リング状部材41のチャックテーブル10に保持された被加工物200と対向する対向面43は、加工液噴射ノズル30の噴射口31が開口する先端面34よりもチャックテーブル10寄りに配置されている。
The water
第1リング状部材41は、対向面43から凹でかつ第1リング状部材41の全周に亘って形成された水壁形成液301(図8に示す)を収容する収容凹部44を備えている。実施形態1において、収容凹部44は、平面視において、第1リング状部材41と同軸となる位置に配置されている。収容凹部44には、水壁形成液供給源45から水壁形成液301が供給される。実施形態1において、収容凹部44は、水壁形成液供給源45から市水が水壁形成液301として供給されるが、本発明では、水壁形成液301は、市水に限定されない。
The first ring-shaped
第2リング状部材51は、第1リング状部材41よりも薄手の円環状に形成され、図4及び図5に示すように、内径が加工液噴射ノズル30の先端面34よりの外径よりも大きく形成され、外径が第1リング状部材41の外径よりも大きく形成されている。第2リング状部材51は、第1リング状部材41の対向面43に取り付けられている。実施形態1において、第2リング状部材51は、加工液噴射ノズル30及び第1リング状部材41と同軸となる位置に配置されている。
The second ring-shaped
また、水壁形成ユニット40は、図4及び図5に示すように、水壁形成液噴射部60を含んでいる。実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、第2リング状部材51の収容凹部44に重なる位置を貫通して、収容凹部44内を外部と連通する貫通孔61を複数備えている。実施形態1において、貫通孔61は、噴射口31を中心とした周方向に等間隔に複数設けられ、かつ噴射口31を中心とした周方向の全周に亘って設けられて、噴射口31を囲繞するよう配置されている。このように、水壁形成液噴射部60は、噴射口31を囲繞するよう配置されている。
Further, the water
また、実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、噴射口31を中心とした径方向に貫通孔61を2列設けているが、本発明では、噴射口31を中心とした径方向に貫通孔61を1列設けても良い。実施形態1において、第2リング状部材51の外径は、120mmであり、貫通孔61の内径は、0.6mmであり、貫通孔61は、噴射口31の中心から貫通孔61の中心までの距離が、17mmとなる位置と、22mmとなる位置に配置されている。なお、実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、複数の貫通孔61を構成されているが、本発明では、水壁形成液噴射部60の構成は、実施形態1のものに限定されずに、例えば、平面視がリング状に形成された第2リング状部材51を貫通したスリットでも良い。なお、水壁形成液噴射部60は、リング状のスリットである場合には、第2リング状部材51と同軸に配置されるのが望ましい。
Further, in the first embodiment, the water wall forming
水壁形成液噴射部60は、水壁形成ユニット40がチャックテーブル10に保持された被加工物200の金属プレート202に近づけられた状態で、水壁形成液供給源45から収容凹部44に供給された水壁形成液301を水壁形成液噴射部60の貫通孔61を通して被加工物200に向けて吐出して、水壁形成液供給源45から被加工物200に向かって水壁形成液301を含む水壁302(図8に示す)を形成する。また、実施形態1では、水壁形成液噴射部60は、水壁形成液供給源45から0.4MPa(ゲージ圧)の水壁形成液301が供給され、3L/minの流量で水壁形成液301を吐出する。
The water wall forming
アライメントユニット50は、加工液噴射ユニット20と一体的に移動するように、Z方向移動部材91に固定されている。アライメントユニット50は、チャックテーブル10に保持された被加工物200を撮像し、被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208を検出するCCD(Charge Coupled Device)カメラを備えている。
The
アライメントユニット50は、被加工物200と加工液噴射ノズル30との位置合わせを行なうアライメントを遂行するための画像を撮像し、撮像して得た画像を制御ユニット100に出力する。
The
制御ユニット100は、上述した構成要素をそれぞれ制御して、被加工物200に対する加工動作をウォータージェット加工装置1に実施させるものである。なお、制御ユニット100は、コンピュータである。制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、ウォータージェット加工装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してウォータージェット加工装置1の上述した構成要素に出力する。
The
制御ユニット100は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される表示装置及びオペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる入力装置と接続されている。入力装置は、表示装置に設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。
The
(ウォータージェット加工方法)
次に、実施形態1に係るウォータージェット加工方法を説明する。図6は、実施形態1に係るウォータージェット加工方法の流れを示すフローチャートである。図7は、図6に示されたウォータージェット加工方法の保持ステップを示す断面図である。図8は、図6に示されたウォータージェット加工方法の加工ステップを示す断面図である。
(Water jet processing method)
Next, the water jet processing method according to the first embodiment will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the flow of the water jet processing method according to the first embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a holding step of the water jet processing method shown in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view showing processing steps of the water jet processing method shown in FIG.
実施形態1に係るウォータージェット加工方法は、被加工物200の加工方法であって、被加工物200のハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を除去する装置である。実施形態1に係るウォータージェット加工方法では、まず、オペレータがハーフカット溝208が形成された被加工物200を環状フレーム211と一体としてチャックテーブル10の保持面11に載置する。また、ウォータージェット加工方法は、オペレータが加工内容情報を制御ユニット100に登録し、オペレータから加工動作の開始指示があった場合に開始する。ウォータージェット加工方法は、図6に示すように、保持ステップST1と、加工ステップST2とを備える。
The water jet processing method according to the first embodiment is a method for processing the
保持ステップST1は、加工予定ライン204を有した被加工物200をチャックテーブル10で保持するステップである。保持ステップST1では、図7に示すように、ウォータージェット加工装置1が被加工物200をチャックテーブル10の保持面11に吸引保持するとともに、クランプ部14で環状フレーム211をクランプする。保持ステップST1では、ウォータージェット加工装置1が被加工物200をチャックテーブル10の保持面11に吸引保持すると、加工ステップST2に進む。
The holding step ST1 is a step of holding the
加工ステップST2は、保持ステップST1を実施した後、被加工物200の加工予定ライン204に沿って加工液噴射ノズル30の噴射口31から加工液300を噴射するとともに、噴射口31を囲繞する水壁形成液噴射部60から被加工物200に向かって水壁形成液301を吐出して、噴射口31を囲繞する水壁302を形成するステップである。加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、加工送りユニット70によりチャックテーブル10をアライメントユニット50の下方に向かって移動して、アライメントユニット50の下方にチャックテーブル10に保持された被加工物200を位置付け、アライメントユニット50に撮像させて、アライメントを遂行する。
After performing the holding step ST1, the machining step ST2 ejects the machining liquid 300 from the
そして、加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、移動ユニット90により、加工液噴射ユニット20の第2リング状部材51をチャックテーブル10に保持された被加工物200の金属プレート202に近付け、第2リング状部材51の金属プレート202からの距離400を所定の距離にする。なお、所定の距離は、予め制御ユニット100に記憶された距離であり、水壁形成液301の表面張力等によって定められている。また、所定の距離は、噴射口31の全周に亘って被加工物200の金属プレート202と第2リング状部材51との間に水壁302を形成できる距離であり、実施形態1では、例えば、1mmである。
Then, in the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 causes the moving
加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、加工液供給源33から加工液噴射ノズル30の加工液300を供給し、水壁形成液供給源45から水壁形成ユニット40に水壁形成液301を供給する。加工ステップST2では、加工液300を供給し水壁形成液301を供給しながら、加工内容情報に基づいて、加工送りユニット70と割り出し送りユニット80と移動ユニット90と回転駆動源12により、加工液噴射ユニット20の加工液噴射ノズル30を被加工物200の加工予定ライン204に沿って被加工物200に対して相対的に移動させる。
In the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 supplies the
加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、水壁形成ユニット40が水壁形成液噴射部60の貫通孔61から水壁形成液301を吐出して、水壁形成液噴射部60から被加工物200に向かって噴射口31の全周に亘って水壁302を形成しながら、図8に示すように、加工液噴射ノズル30から加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の両縁に向けて加圧された加工液300を噴射して、バリ209を除去する。
In the processing step ST2, in the water jet processing apparatus 1, the water
加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、すべての加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の両縁に加圧された加工液300を噴射すると、加工液噴射ノズル30からの加圧された加工液300の噴射及び貫通孔61からの水壁形成液301の吐出を停止して、チャックテーブル10を加工液噴射ユニット20の下方から退避させた後、チャックテーブル10の吸引保持及びクランプ部14のクランプを解除して、ウォータージェット加工装置1の加工動作即ち実施形態1に係るウォータージェット加工方法を終了する。
In the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 injects the
実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、加工液噴射ノズル30の噴射口31を囲繞する水壁形成液噴射部60を含む水壁形成ユニット40を備える。このために、ウォータージェット加工装置1は、噴射口31から噴射された加工液300が被加工物200に衝突して発生した加工液300からなり被加工物200上を伝って周囲に流出しようとするミストを水壁302内に閉じ込めることができる。また、ウォータージェット加工装置1は、被加工物200に衝突した加工液300が被加工物200に衝突する位置である加工点から周囲に流出する際、水壁302によって流出が阻害され流出速度が低下し、ミストの発生を抑制できる。よって、ウォータージェット加工装置1は、ミストの付着による加工精度低下や装置破損のおそれを抑制することができるという効果を奏する。
The water jet processing apparatus 1 according to the first embodiment includes a water
また、実施形態1に係るウォータージェット加工方法は、加工ステップST2において、噴射口31の全周に亘って水壁302を形成して、噴射口31から加工液300を噴射するので、ミストを水壁302に閉じ込めることができるとともに、ミストの発生を抑制できる。よって、ウォータージェット加工方法は、ウォータージェット加工装置1のミストの付着による加工精度低下や装置破損のおそれを抑制することができるという効果を奏する。
Further, in the water jet processing method according to the first embodiment, in the processing step ST2, the
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態1から実施形態3では、被加工物200は、プリント回路板に複数の半導体デバイスを配列させ、モールド樹脂等で封止して構成されたパッケージ基板であるが、本発明では、被加工物200は、LED(Light Emitting Diode)デバイス用を配列させた金属基板を備えるパッケージ基板でもよい。また、本発明では、被加工物200は、表面に形成された複数の加工予定ライン204によって格子状に区画された領域に半導体デバイスを備え、加工予定ライン204にTEG(Test Element Group)が設けられたシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハでも良い。要するに本発明では、被加工物200は、ハーフカット溝208が形成される加工予定ライン204に金属が設けられているものであれば、如何なるものでも良い。
The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In the first to third embodiments, the
1 ウォータージェット加工装置
10 チャックテーブル(保持手段)
11 保持面
30 加工液噴射ノズル
31 噴射口
40 水壁形成ユニット(水壁形成手段)
60 水壁形成液噴射部
200 被加工物
204 加工予定ライン
300 加工液
301 水壁形成液
302 水壁
ST1 保持ステップ
ST2 加工ステップ
1 Water
11
60 Water Wall Forming
Claims (2)
被加工物を保持する保持面を含む保持手段と、
該保持手段で保持された被加工物に加工液を噴射する噴射口を含む加工液噴射ノズルと、
該噴射口を囲繞するよう配置された水壁形成液噴射部を含み、該水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する水壁形成手段と、を備えたウォータージェット加工装置。 A water jet processing device,
Holding means including a holding surface for holding the workpiece,
A machining liquid jet nozzle including a jet port for jetting a machining liquid onto the workpiece held by the holding means;
Water jet processing including a water wall forming liquid ejecting section arranged to surround the ejection port, and a water wall forming means for forming a water wall from the water wall forming liquid ejecting section toward the workpiece. apparatus.
加工予定ラインを有した被加工物を保持手段で保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、被加工物の該加工予定ラインに沿って加工液噴射ノズルの噴射口から加工液を噴射するとともに、該噴射口を囲繞する水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する加工ステップと、を備えたウォータージェット加工方法。 A water jet processing method,
A holding step of holding a workpiece having a processing scheduled line by a holding means,
After performing the holding step, the working liquid is jetted from the jet port of the machining liquid jet nozzle along the scheduled machining line of the workpiece, and the workpiece is also jetted from the water wall forming liquid jet section surrounding the jet port. And a processing step of forming a water wall toward the water jet.
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