JP2020108910A - Water jet processing device and water jet processing method - Google Patents

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Abstract

To inhibit deterioration of processing accuracy caused by mist adhering thereto.SOLUTION: A water jet processing device 1 includes: a chuck table 10 including a holding surface 11 which holds a workpiece 200; a working fluid injection nozzle 30 including an injection port which injects a working fluid 300 to the workpiece 200 held by the chuck table 10; and a water wall formation unit 40 which includes a water wall formation liquid injection part 60 disposed so as to enclose the injection port and discharges a water wall formation liquid 301 from the water wall formation liquid injection part 60 to the workpiece 200 to form a water wall 302.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本発明は、ウォータージェット加工装置及びウォータージェット加工方法に関する。 The present invention relates to a water jet processing device and a water jet processing method.

被加工物として、電極が配線された樹脂や金属製の基板に半導体デバイスなどが搭載され、半導体デバイスをモールド樹脂によって被覆されたパッケージ基板が知られている。パッケージ基板は、加工予定ラインに沿って個々のデバイスチップに分割されると、CSP(Chip Size Package)やQFN(Quad Flat Non-Leaded Package)等と呼ばれるパッケージチップとなる。 As a work piece, a package substrate is known in which a semiconductor device or the like is mounted on a resin or metal substrate on which electrodes are wired, and the semiconductor device is covered with a mold resin. When the package substrate is divided into individual device chips along the line to be processed, it becomes a package chip called CSP (Chip Size Package) or QFN (Quad Flat Non-Leaded Package).

前述したパッケージチップは、加工予定ラインに沿って金属の電極が露出している事が多い。このために、パッケージ基板の加工予定ラインを切削ブレードで切断すると金属のバリが発生し、電極同士が電気的に繋がってショートする恐れがある。そこで、バリの発生を抑制する目的で、加圧された加工液(ウォータジェットともいう)を加工予定ラインに向けて噴射して、電極を切断する分割方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In the package chip described above, the metal electrode is often exposed along the planned processing line. For this reason, when the line to be processed on the package substrate is cut with a cutting blade, metal burrs are generated, and the electrodes may be electrically connected to each other to cause a short circuit. Therefore, for the purpose of suppressing the occurrence of burrs, a dividing method has been proposed in which a pressurized machining fluid (also referred to as water jet) is jetted toward a machining scheduled line to cut the electrode (for example, Patent Document 1). 1).

特開2012−109327号公報JP 2012-109327 A

しかしながら、特許文献1に示す分割方法は、ノズルから被加工物に向かって噴射された加工液が被加工物上を伝って周囲に流出するとともに、被加工物への衝突等や流出時の摩擦等の影響によりミストになる。前述した分割方法は、ミストとなった加工液が加工装置の各部、例えば、測定用のゲージや電装部品等に付着すると加工精度の低下等の問題を招くおそれがある。 However, in the dividing method shown in Patent Document 1, the machining fluid jetted from the nozzle toward the workpiece flows along the workpiece and flows out to the surroundings, and also the collision on the workpiece and the friction at the time of outflow. It becomes a mist due to the influence of the above. The above-described division method may cause a problem such as a decrease in processing accuracy when the working fluid that becomes mist adheres to various parts of the processing device, for example, a gauge for measurement, electrical components, and the like.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ミストの付着による加工精度の低下を抑制することができるウォータージェット加工装置及びウォータージェット加工方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a water jet processing device and a water jet processing method capable of suppressing a decrease in processing accuracy due to adhesion of mist.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のウォータージェット加工装置は、被加工物を保持する保持面を含む保持手段と、該保持手段で保持された被加工物に加工液を噴射する噴射口を含む加工液噴射ノズルと、該噴射口を囲繞するよう配置された水壁形成液噴射部を含み、該水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する水壁形成手段と、を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, a water jet processing apparatus of the present invention has a holding means including a holding surface for holding a work piece, and a working liquid for the work piece held by the holding means. Forming a water wall from the water wall forming liquid ejecting part toward the workpiece, and including a machining liquid ejecting nozzle including an ejecting port for ejecting the water, and a water wall forming liquid ejecting part arranged so as to surround the ejecting port. And a water wall forming means for forming the water wall.

本発明のウォータージェット加工方法は、加工予定ラインを有した被加工物を保持手段で保持する保持ステップと、該保持ステップを実施した後、被加工物の該加工予定ラインに沿って加工液噴射ノズルの噴射口から加工液を噴射するとともに、該噴射口を囲繞する水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する加工ステップと、を備えたことを特徴とする。 The water jet processing method of the present invention includes a holding step of holding a work piece having a working line with a holding means, and, after performing the holding step, ejecting a working liquid along the working line of the work piece. And a machining step of ejecting the machining liquid from the ejection port of the nozzle and forming a water wall from the water wall forming liquid ejection unit surrounding the ejection port toward the workpiece.

本願発明のウォータージェット加工装置は、ミストの付着による加工精度の低下を抑制することができるという効果を奏する。 The water jet processing apparatus of the present invention has the effect of suppressing a decrease in processing accuracy due to the attachment of mist.

図1は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a water jet processing device according to the first embodiment. 図2は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物が分割されて得られたデバイスチップを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a device chip obtained by dividing a workpiece to be processed by the water jet processing apparatus according to the first embodiment. 図3は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物のハーフカット溝が形成された要部の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part in which a half-cut groove of a workpiece to be processed by the water jet processing device according to the first embodiment is formed. 図4は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工液噴射ユニットの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the working fluid jetting unit of the water jet working apparatus according to the first embodiment. 図5は、図4に示された加工液噴射ユニットの平面図である。FIG. 5 is a plan view of the machining fluid injection unit shown in FIG. 図6は、実施形態1に係るウォータージェット加工方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart showing the flow of the water jet processing method according to the first embodiment. 図7は、図6に示されたウォータージェット加工方法の保持ステップを示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a holding step of the water jet processing method shown in FIG. 図8は、図6に示されたウォータージェット加工方法の加工ステップを示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing processing steps of the water jet processing method shown in FIG.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 Modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the embodiments below. Further, the components described below include those that can be easily conceived by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be appropriately combined. In addition, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るウォータージェット加工装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の構成例を示す斜視図である。図2は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物が分割されて得られたデバイスチップを示す斜視図である。図3は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工対象の被加工物のハーフカット溝が形成された要部の断面図である。
[Embodiment 1]
A water jet processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a water jet processing device according to the first embodiment. FIG. 2 is a perspective view showing a device chip obtained by dividing a workpiece to be processed by the water jet processing apparatus according to the first embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part in which a half-cut groove of a workpiece to be processed by the water jet processing device according to the first embodiment is formed.

(被加工物)
実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、被加工物200を加工する装置である。実施形態1では、被加工物200は、図1に示すように、CSP(Chip Size Package)、又はQFN(Quad Flat Non-leaded Package)等を含むパッケージ基板である。被加工物200は、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等の回路が作り込まれた複数の半導体デバイス201(図2に示す)を所定のパターンに形成された金属プレート202上に配列し、金属プレート202上の複数の半導体デバイス201をモールド樹脂203等で封止して略長方形の板状に形成されている。また、被加工物200は、モールド樹脂203が図1に示す格子状の加工予定ライン204によって複数の領域に区画され、各領域内に前述した半導体デバイス201が配設されている。
(Workpiece)
The water jet processing device 1 according to the first embodiment is a device that processes the workpiece 200. In the first embodiment, the workpiece 200 is a package substrate including a CSP (Chip Size Package), a QFN (Quad Flat Non-leaded Package), or the like, as shown in FIG. The work piece 200 has a plurality of semiconductor devices 201 (shown in FIG. 2) in which circuits such as ICs (Integrated Circuits) or LSIs (Large Scale Integrations) are formed on a metal plate 202 formed in a predetermined pattern. A plurality of semiconductor devices 201 arranged on the metal plate 202 are sealed with a mold resin 203 or the like to form a substantially rectangular plate shape. Further, in the workpiece 200, the mold resin 203 is divided into a plurality of regions by the grid-shaped planned processing lines 204 shown in FIG. 1, and the semiconductor device 201 described above is arranged in each region.

被加工物200は、加工予定ライン204に沿って分割されて、図2に示す個々のデバイスチップ205に分割される。また、被加工物200は、半導体デバイス201と図示しないワイヤにより接続されかつ銅合金等の金属で構成された図3に示す電極部206を加工予定ライン204に設けている。被加工物200の電極部206は、中央部で切断されて、デバイスチップ205の外側面に露出して、デバイスチップ205の電極207(図2に示す)として機能する。 The workpiece 200 is divided along the planned processing line 204 and divided into individual device chips 205 shown in FIG. Further, the workpiece 200 is provided with an electrode portion 206 shown in FIG. 3 which is connected to the semiconductor device 201 by a wire (not shown) and which is made of a metal such as a copper alloy in the processing scheduled line 204. The electrode portion 206 of the work piece 200 is cut at the central portion, exposed on the outer surface of the device chip 205, and functions as the electrode 207 (shown in FIG. 2) of the device chip 205.

被加工物200は、図1に示すように、モールド樹脂203側に粘着テープ210が貼着され、粘着テープ210の外周に環状フレーム211が貼着されることで、環状フレーム211と一体となった状態でウォータージェット加工装置1に搬入される。また、実施形態1において、被加工物200は、図3に示すように、金属プレート202側から加工予定ライン204に沿って切削加工によりハーフカット溝208が形成された状態でウォータージェット加工装置1に搬入される。被加工物200は、ハーフカット溝208が切削加工により形成されるために、図3に示すように、電極部206のハーフカット溝208の縁に金属プレート202の表面から突出したバリ209が発生することがある。被加工物200は、ハーフカット溝208が形成された後にバリ209が除去される。 As shown in FIG. 1, the workpiece 200 is integrated with the annular frame 211 by attaching the adhesive tape 210 on the mold resin 203 side and the annular frame 211 on the outer periphery of the adhesive tape 210. It is carried into the water jet processing apparatus 1 in the closed state. Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 3, the workpiece 200 has the water jet machining apparatus 1 in which the half-cut groove 208 is formed by cutting along the machining planned line 204 from the metal plate 202 side. Be delivered to. Since the half cut groove 208 is formed in the workpiece 200 by cutting, a burr 209 protruding from the surface of the metal plate 202 is generated at the edge of the half cut groove 208 of the electrode portion 206, as shown in FIG. There is something to do. The burr 209 is removed from the workpiece 200 after the half-cut groove 208 is formed.

また、被加工物200は、ハーフカット溝208が形成され、バリ209が除去された後、ハーフカット溝208の底に切削加工が施されて、図2に示す個々のデバイスチップ205に分割される。 Further, in the workpiece 200, after the half-cut groove 208 is formed and the burrs 209 are removed, the bottom of the half-cut groove 208 is cut to be divided into individual device chips 205 shown in FIG. It

(ウォータージェット加工装置)
実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、被加工物200のハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を除去する装置である。図4は、実施形態1に係るウォータージェット加工装置の加工液噴射ユニットの断面図である。図5は、図4に示された加工液噴射ユニットの平面図である。
(Water jet processing equipment)
The water jet processing apparatus 1 according to the first embodiment is an apparatus for removing the burr 209 formed on the cut surface of the half-cut groove 208 of the workpiece 200. FIG. 4 is a cross-sectional view of a machining fluid jet unit of the water jet machining apparatus according to the first embodiment. FIG. 5 is a plan view of the machining fluid injection unit shown in FIG.

ウォータージェット加工装置1は、図1に示すように、被加工物200を吸引保持する保持面11を含む保持手段であるチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持された被加工物200の加工予定ライン204に沿って図8に示す加圧された加工液399を噴射する加工液噴射ユニット20と、チャックテーブル10に保持された被加工物200を撮像して加工予定ライン204を検出するアライメントユニット50と、制御ユニット100と、を備える。 As shown in FIG. 1, the water jet processing apparatus 1 is a chuck table 10 that is a holding unit including a holding surface 11 that sucks and holds the workpiece 200, and a machining plan of the workpiece 200 held by the chuck table 10. A machining liquid ejecting unit 20 for ejecting the pressurized machining liquid 399 shown in FIG. 8 along the line 204, and an alignment unit for imaging the workpiece 200 held on the chuck table 10 and detecting the machining scheduled line 204. 50 and a control unit 100.

また、ウォータージェット加工装置1は、図1に示すように、チャックテーブル10を保持面11と平行なX方向に加工送りする加工送りユニット70と、加工液噴射ユニット20を保持面11と平行でかつX方向に直交するY方向に割り出し送りする割り出し送りユニット80と、加工液噴射ユニット20を保持面11と接近または離間する鉛直方向に平行なZ方向に移動させる移動ユニット90と、を少なくとも備える。 As shown in FIG. 1, the water jet machining apparatus 1 includes a machining feed unit 70 for machining and feeding the chuck table 10 in the X direction parallel to the holding surface 11, and a machining liquid ejecting unit 20 for parallel to the holding surface 11. In addition, at least the indexing and feeding unit 80 for indexing and feeding in the Y direction orthogonal to the X direction, and the moving unit 90 for moving the machining liquid ejecting unit 20 in the Z direction parallel to the vertical direction approaching or separating from the holding surface 11 are provided. ..

チャックテーブル10は、被加工物200を保持する保持面11がポーラスセラミック等から形成された円盤形状である。また、チャックテーブル10は、加工送りユニット70によりX方向に移動自在で回転駆動源12によりZ方向と平行な軸心回りに回転自在に設けられている。チャックテーブル10は、図示しない真空吸引源と接続され、真空吸引源により吸引されることで、被加工物200を吸引、保持する。チャックテーブル10の周囲には、環状フレーム211をクランプするクランプ部14が複数設けられている。また、チャックテーブル10は、加工送りユニット70によってX方向に移動される移動テーブル15上に配置されている。 The chuck table 10 has a disk shape in which the holding surface 11 that holds the workpiece 200 is made of porous ceramic or the like. The chuck table 10 is provided so as to be movable in the X direction by the machining feed unit 70 and rotatable about the axis parallel to the Z direction by the rotary drive source 12. The chuck table 10 is connected to a vacuum suction source (not shown) and sucks and holds the workpiece 200 by being sucked by the vacuum suction source. Around the chuck table 10, a plurality of clamp portions 14 that clamp the annular frame 211 are provided. Further, the chuck table 10 is arranged on the moving table 15 which is moved in the X direction by the processing feeding unit 70.

加工送りユニット70は、装置本体2上に設けられ、かつ移動テーブル15をX方向に移動させることで、チャックテーブル10をX方向に加工送りする。割り出し送りユニット80は、装置本体2上に設けられ、支持柱81をY方向に移動させることで、加工液噴射ユニット20をY方向に割り出し送りする。移動ユニット90は、支持柱81に設けられ、加工液噴射ユニット20を先端に支持したZ方向移動部材91をZ方向に移動させることで、加工液噴射ユニット20をZ方向に移動する。 The processing feed unit 70 is provided on the apparatus body 2 and moves the moving table 15 in the X direction to feed the chuck table 10 in the X direction. The indexing feed unit 80 is provided on the apparatus main body 2, and moves the support column 81 in the Y direction to index and feed the machining liquid jetting unit 20 in the Y direction. The moving unit 90 moves the machining liquid ejecting unit 20 in the Z direction by moving the Z direction moving member 91 provided on the support column 81 and supporting the machining liquid ejecting unit 20 at the tip in the Z direction.

加工送りユニット70、割り出し送りユニット80及び移動ユニット90は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじと、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のパルスモータと、チャックテーブル10又は加工液噴射ユニット20をX方向、Y方向又はZ方向に移動自在に支持する周知のガイドレールを備える。 The processing feed unit 70, the indexing feed unit 80, and the moving unit 90 are a well-known ball screw that is rotatably provided around the axis, a well-known pulse motor that rotates the ball screw around the axis, and the chuck table 10 or A known guide rail that movably supports the machining liquid ejecting unit 20 in the X direction, the Y direction, or the Z direction is provided.

加工液噴射ユニット20は、加圧された加工液300(図8に示す)を噴射し、被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を切断面から除去するものである。加工液噴射ユニット20は、図1及び図4に示すように、加工液噴射ノズル30と、水壁形成手段である水壁形成ユニット40とを備える。 The machining fluid ejecting unit 20 ejects the pressurized machining fluid 300 (shown in FIG. 8) to form a burr 209 on the cut surface of the half-cut groove 208 formed on the machining scheduled line 204 of the workpiece 200. Is to be removed from the cut surface. As shown in FIGS. 1 and 4, the working liquid jetting unit 20 includes a working liquid jetting nozzle 30 and a water wall forming unit 40 which is a water wall forming means.

加工液噴射ノズル30は、外観が円柱状に形成され、図4に示すように、チャックテーブル10で保持された被加工物200に加圧された加工液300を噴射する噴射口31を含む。加工液噴射ノズル30は、チャックテーブル10で保持された被加工物200に向かうにしたがって徐々に先細に形成された先端部32の先端面34に噴射口31を設けている。なお、先端面34は、チャックテーブル10に保持された被加工物200とZ方向に対向する。加工液噴射ノズル30は、Z方向移動部材91の先端に取り付けられて、噴射口31がチャックテーブル10に保持された被加工物200とZ方向に対向する。 The machining liquid ejecting nozzle 30 is formed in a cylindrical shape in appearance and includes an ejection port 31 for ejecting the pressurized machining liquid 300 onto the workpiece 200 held by the chuck table 10, as shown in FIG. The machining liquid ejection nozzle 30 is provided with an ejection port 31 on a tip end surface 34 of a tip end portion 32 which is gradually tapered toward the workpiece 200 held by the chuck table 10. The tip surface 34 faces the workpiece 200 held on the chuck table 10 in the Z direction. The machining liquid ejecting nozzle 30 is attached to the tip of the Z direction moving member 91, and the ejection port 31 faces the workpiece 200 held on the chuck table 10 in the Z direction.

加工液噴射ノズル30は、加工液供給源33から供給された加圧された加工液300をチャックテーブル10に保持された被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208に向けて噴射口31から噴射する。実施形態1において、加工液噴射ノズル30は、噴射口31の平面形状が円形でかつ内径が0.3mmであり、噴射口31が開口した先端面34が被加工物200の金属プレート202から7mm以上でかつ10mm以下の距離に位置付けられて加工液300を噴射する。また、実施形態1では、加工液噴射ノズル30は、加工液供給源33から70MPa(ゲージ圧)に加圧された加工液が供給され、噴射口31から1.4L/minの流量で加工液300を噴射する。 The machining fluid injection nozzle 30 directs the pressurized machining fluid 300 supplied from the machining fluid supply source 33 to the half-cut groove 208 formed in the machining scheduled line 204 of the workpiece 200 held on the chuck table 10. And ejects from the ejection port 31. In the first embodiment, in the machining liquid jet nozzle 30, the jet port 31 has a circular planar shape and an inner diameter of 0.3 mm, and the tip surface 34 where the jet port 31 is opened is 7 mm from the metal plate 202 of the workpiece 200. The machining fluid 300 is jetted at the distance above 10 mm. Further, in the first embodiment, the working fluid injection nozzle 30 is supplied with the working fluid pressurized to 70 MPa (gauge pressure) from the working fluid supply source 33, and the working fluid at a flow rate of 1.4 L/min from the injection port 31. Inject 300.

水壁形成ユニット40は、第1リング状部材41と、第2リング状部材51とを備えている。第1リング状部材41は、厚手の円環状に形成され、内径が加工液噴射ノズル30の外径と等しく形成され、内側に加工液噴射ノズル30を通して、加工液噴射ノズル30の外周面に取り付けられている。また、第1リング状部材41のチャックテーブル10に保持された被加工物200と対向する対向面43は、加工液噴射ノズル30の噴射口31が開口する先端面34よりもチャックテーブル10寄りに配置されている。 The water wall forming unit 40 includes a first ring-shaped member 41 and a second ring-shaped member 51. The first ring-shaped member 41 is formed in a thick annular shape and has an inner diameter equal to the outer diameter of the machining fluid injection nozzle 30 and is attached to the outer peripheral surface of the machining fluid ejection nozzle 30 by passing the machining fluid ejection nozzle 30 inside. Has been. Further, the facing surface 43 of the first ring-shaped member 41 facing the workpiece 200 held by the chuck table 10 is closer to the chuck table 10 than the tip end surface 34 where the jet port 31 of the machining liquid jet nozzle 30 is opened. It is arranged.

第1リング状部材41は、対向面43から凹でかつ第1リング状部材41の全周に亘って形成された水壁形成液301(図8に示す)を収容する収容凹部44を備えている。実施形態1において、収容凹部44は、平面視において、第1リング状部材41と同軸となる位置に配置されている。収容凹部44には、水壁形成液供給源45から水壁形成液301が供給される。実施形態1において、収容凹部44は、水壁形成液供給源45から市水が水壁形成液301として供給されるが、本発明では、水壁形成液301は、市水に限定されない。 The first ring-shaped member 41 includes a storage recess 44 that is recessed from the facing surface 43 and that stores the water wall forming liquid 301 (shown in FIG. 8) formed over the entire circumference of the first ring-shaped member 41. There is. In the first embodiment, the housing recess 44 is arranged at a position coaxial with the first ring-shaped member 41 in a plan view. The water wall forming liquid 301 is supplied from the water wall forming liquid supply source 45 to the accommodation recess 44. In the first embodiment, the accommodation recess 44 is supplied with city water as the water wall forming liquid 301 from the water wall forming liquid supply source 45, but in the present invention, the water wall forming liquid 301 is not limited to city water.

第2リング状部材51は、第1リング状部材41よりも薄手の円環状に形成され、図4及び図5に示すように、内径が加工液噴射ノズル30の先端面34よりの外径よりも大きく形成され、外径が第1リング状部材41の外径よりも大きく形成されている。第2リング状部材51は、第1リング状部材41の対向面43に取り付けられている。実施形態1において、第2リング状部材51は、加工液噴射ノズル30及び第1リング状部材41と同軸となる位置に配置されている。 The second ring-shaped member 51 is formed in an annular shape thinner than the first ring-shaped member 41, and as shown in FIGS. 4 and 5, the inner diameter is smaller than the outer diameter from the tip end surface 34 of the machining fluid injection nozzle 30. Is also formed to have a larger outer diameter than that of the first ring-shaped member 41. The second ring-shaped member 51 is attached to the facing surface 43 of the first ring-shaped member 41. In the first embodiment, the second ring-shaped member 51 is arranged at a position coaxial with the machining liquid jet nozzle 30 and the first ring-shaped member 41.

また、水壁形成ユニット40は、図4及び図5に示すように、水壁形成液噴射部60を含んでいる。実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、第2リング状部材51の収容凹部44に重なる位置を貫通して、収容凹部44内を外部と連通する貫通孔61を複数備えている。実施形態1において、貫通孔61は、噴射口31を中心とした周方向に等間隔に複数設けられ、かつ噴射口31を中心とした周方向の全周に亘って設けられて、噴射口31を囲繞するよう配置されている。このように、水壁形成液噴射部60は、噴射口31を囲繞するよう配置されている。 Further, the water wall forming unit 40 includes a water wall forming liquid ejecting section 60, as shown in FIGS. 4 and 5. In the first embodiment, the water wall forming liquid ejecting unit 60 includes a plurality of through holes 61 that penetrate the second ring-shaped member 51 at a position overlapping the housing recess 44 and communicate the interior of the housing recess 44 with the outside. In the first embodiment, the plurality of through holes 61 are provided at equal intervals in the circumferential direction around the injection port 31, and are provided over the entire circumference in the circumferential direction around the injection port 31. It is arranged to surround. In this way, the water wall forming liquid ejection unit 60 is arranged so as to surround the ejection port 31.

また、実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、噴射口31を中心とした径方向に貫通孔61を2列設けているが、本発明では、噴射口31を中心とした径方向に貫通孔61を1列設けても良い。実施形態1において、第2リング状部材51の外径は、120mmであり、貫通孔61の内径は、0.6mmであり、貫通孔61は、噴射口31の中心から貫通孔61の中心までの距離が、17mmとなる位置と、22mmとなる位置に配置されている。なお、実施形態1において、水壁形成液噴射部60は、複数の貫通孔61を構成されているが、本発明では、水壁形成液噴射部60の構成は、実施形態1のものに限定されずに、例えば、平面視がリング状に形成された第2リング状部材51を貫通したスリットでも良い。なお、水壁形成液噴射部60は、リング状のスリットである場合には、第2リング状部材51と同軸に配置されるのが望ましい。 Further, in the first embodiment, the water wall forming liquid ejecting section 60 has two rows of through holes 61 arranged in the radial direction centered on the ejection port 31, but in the present invention, the radial direction centered on the ejection port 31. The through holes 61 may be provided in one row. In the first embodiment, the outer diameter of the second ring-shaped member 51 is 120 mm, the inner diameter of the through hole 61 is 0.6 mm, and the through hole 61 extends from the center of the injection port 31 to the center of the through hole 61. Are arranged at a position where the distance is 17 mm and a position where the distance is 22 mm. In the first embodiment, the water wall forming liquid ejecting section 60 has the plurality of through holes 61, but in the present invention, the structure of the water wall forming liquid ejecting section 60 is limited to that of the first embodiment. Instead, for example, it may be a slit penetrating the second ring-shaped member 51 formed in a ring shape in plan view. When the water wall forming liquid ejecting unit 60 is a ring-shaped slit, it is desirable that the water wall-forming liquid ejecting unit 60 is arranged coaxially with the second ring-shaped member 51.

水壁形成液噴射部60は、水壁形成ユニット40がチャックテーブル10に保持された被加工物200の金属プレート202に近づけられた状態で、水壁形成液供給源45から収容凹部44に供給された水壁形成液301を水壁形成液噴射部60の貫通孔61を通して被加工物200に向けて吐出して、水壁形成液供給源45から被加工物200に向かって水壁形成液301を含む水壁302(図8に示す)を形成する。また、実施形態1では、水壁形成液噴射部60は、水壁形成液供給源45から0.4MPa(ゲージ圧)の水壁形成液301が供給され、3L/minの流量で水壁形成液301を吐出する。 The water wall forming liquid injection unit 60 supplies the water wall forming liquid supply source 45 to the accommodation recess 44 in a state in which the water wall forming unit 40 is brought close to the metal plate 202 of the workpiece 200 held on the chuck table 10. The ejected water wall forming liquid 301 is discharged toward the workpiece 200 through the through hole 61 of the water wall forming liquid jetting unit 60, and the water wall forming liquid is supplied from the water wall forming liquid supply source 45 toward the workpiece 200. A water wall 302 (shown in FIG. 8) including 301 is formed. Further, in the first embodiment, the water wall forming liquid injection unit 60 is supplied with the water wall forming liquid 301 of 0.4 MPa (gauge pressure) from the water wall forming liquid supply source 45, and forms the water wall at a flow rate of 3 L/min. The liquid 301 is discharged.

アライメントユニット50は、加工液噴射ユニット20と一体的に移動するように、Z方向移動部材91に固定されている。アライメントユニット50は、チャックテーブル10に保持された被加工物200を撮像し、被加工物200の加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208を検出するCCD(Charge Coupled Device)カメラを備えている。 The alignment unit 50 is fixed to the Z-direction moving member 91 so as to move integrally with the machining liquid ejecting unit 20. The alignment unit 50 includes a CCD (Charge Coupled Device) camera that images the workpiece 200 held on the chuck table 10 and detects the half-cut groove 208 formed in the planned machining line 204 of the workpiece 200. There is.

アライメントユニット50は、被加工物200と加工液噴射ノズル30との位置合わせを行なうアライメントを遂行するための画像を撮像し、撮像して得た画像を制御ユニット100に出力する。 The alignment unit 50 captures an image for performing alignment for aligning the workpiece 200 and the machining liquid jet nozzle 30, and outputs the captured image to the control unit 100.

制御ユニット100は、上述した構成要素をそれぞれ制御して、被加工物200に対する加工動作をウォータージェット加工装置1に実施させるものである。なお、制御ユニット100は、コンピュータである。制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、ウォータージェット加工装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してウォータージェット加工装置1の上述した構成要素に出力する。 The control unit 100 controls each of the above-described components to cause the water jet processing device 1 to perform a processing operation on the workpiece 200. The control unit 100 is a computer. The control unit 100 includes an arithmetic processing device having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as a ROM (read only memory) or a RAM (random access memory), and an input/output interface device. Have and. The arithmetic processing device of the control unit 100 performs arithmetic processing according to a computer program stored in a storage device, and outputs a control signal for controlling the water jet processing device 1 via the input/output interface device to the water jet processing. Output to the above-mentioned components of the device 1.

制御ユニット100は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される表示装置及びオペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる入力装置と接続されている。入力装置は、表示装置に設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。 The control unit 100 is connected to a display device including a liquid crystal display device that displays a processing operation state, an image, and the like, and an input device used when an operator registers processing content information and the like. The input device includes at least one of a touch panel provided on the display device and an external input device such as a keyboard.

(ウォータージェット加工方法)
次に、実施形態1に係るウォータージェット加工方法を説明する。図6は、実施形態1に係るウォータージェット加工方法の流れを示すフローチャートである。図7は、図6に示されたウォータージェット加工方法の保持ステップを示す断面図である。図8は、図6に示されたウォータージェット加工方法の加工ステップを示す断面図である。
(Water jet processing method)
Next, the water jet processing method according to the first embodiment will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the flow of the water jet processing method according to the first embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a holding step of the water jet processing method shown in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view showing processing steps of the water jet processing method shown in FIG.

実施形態1に係るウォータージェット加工方法は、被加工物200の加工方法であって、被加工物200のハーフカット溝208の切断面に形成されたバリ209を除去する装置である。実施形態1に係るウォータージェット加工方法では、まず、オペレータがハーフカット溝208が形成された被加工物200を環状フレーム211と一体としてチャックテーブル10の保持面11に載置する。また、ウォータージェット加工方法は、オペレータが加工内容情報を制御ユニット100に登録し、オペレータから加工動作の開始指示があった場合に開始する。ウォータージェット加工方法は、図6に示すように、保持ステップST1と、加工ステップST2とを備える。 The water jet processing method according to the first embodiment is a method for processing the workpiece 200, and is an apparatus for removing the burr 209 formed on the cut surface of the half-cut groove 208 of the workpiece 200. In the water jet processing method according to the first embodiment, first, the operator places the workpiece 200 having the half-cut groove 208 formed on the holding surface 11 of the chuck table 10 integrally with the annular frame 211. The water jet machining method starts when the operator registers the machining content information in the control unit 100 and the operator gives an instruction to start the machining operation. As shown in FIG. 6, the water jet processing method includes a holding step ST1 and a processing step ST2.

保持ステップST1は、加工予定ライン204を有した被加工物200をチャックテーブル10で保持するステップである。保持ステップST1では、図7に示すように、ウォータージェット加工装置1が被加工物200をチャックテーブル10の保持面11に吸引保持するとともに、クランプ部14で環状フレーム211をクランプする。保持ステップST1では、ウォータージェット加工装置1が被加工物200をチャックテーブル10の保持面11に吸引保持すると、加工ステップST2に進む。 The holding step ST1 is a step of holding the workpiece 200 having the planned machining line 204 on the chuck table 10. In the holding step ST1, as shown in FIG. 7, the water jet processing device 1 sucks and holds the workpiece 200 on the holding surface 11 of the chuck table 10, and clamps the annular frame 211 by the clamp portion 14. In the holding step ST1, when the water jet processing device 1 suction-holds the workpiece 200 on the holding surface 11 of the chuck table 10, the process proceeds to the processing step ST2.

加工ステップST2は、保持ステップST1を実施した後、被加工物200の加工予定ライン204に沿って加工液噴射ノズル30の噴射口31から加工液300を噴射するとともに、噴射口31を囲繞する水壁形成液噴射部60から被加工物200に向かって水壁形成液301を吐出して、噴射口31を囲繞する水壁302を形成するステップである。加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、加工送りユニット70によりチャックテーブル10をアライメントユニット50の下方に向かって移動して、アライメントユニット50の下方にチャックテーブル10に保持された被加工物200を位置付け、アライメントユニット50に撮像させて、アライメントを遂行する。 After performing the holding step ST1, the machining step ST2 ejects the machining liquid 300 from the ejection port 31 of the machining liquid ejection nozzle 30 along the machining planned line 204 of the workpiece 200, and water surrounding the ejection port 31. In this step, the water wall forming liquid 301 is discharged from the wall forming liquid ejecting unit 60 toward the workpiece 200 to form the water wall 302 surrounding the ejection port 31. In the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 moves the chuck table 10 toward the lower side of the alignment unit 50 by the processing feed unit 70, and the workpiece 200 held on the chuck table 10 below the alignment unit 50. Is positioned, the alignment unit 50 is made to capture an image, and alignment is performed.

そして、加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、移動ユニット90により、加工液噴射ユニット20の第2リング状部材51をチャックテーブル10に保持された被加工物200の金属プレート202に近付け、第2リング状部材51の金属プレート202からの距離400を所定の距離にする。なお、所定の距離は、予め制御ユニット100に記憶された距離であり、水壁形成液301の表面張力等によって定められている。また、所定の距離は、噴射口31の全周に亘って被加工物200の金属プレート202と第2リング状部材51との間に水壁302を形成できる距離であり、実施形態1では、例えば、1mmである。 Then, in the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 causes the moving unit 90 to bring the second ring-shaped member 51 of the processing liquid jetting unit 20 closer to the metal plate 202 of the workpiece 200 held on the chuck table 10, The distance 400 of the second ring-shaped member 51 from the metal plate 202 is set to a predetermined distance. The predetermined distance is a distance stored in advance in the control unit 100 and is determined by the surface tension of the water wall forming liquid 301 or the like. Further, the predetermined distance is a distance over which the water wall 302 can be formed between the metal plate 202 of the workpiece 200 and the second ring-shaped member 51 over the entire circumference of the injection port 31, and in the first embodiment, For example, it is 1 mm.

加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、加工液供給源33から加工液噴射ノズル30の加工液300を供給し、水壁形成液供給源45から水壁形成ユニット40に水壁形成液301を供給する。加工ステップST2では、加工液300を供給し水壁形成液301を供給しながら、加工内容情報に基づいて、加工送りユニット70と割り出し送りユニット80と移動ユニット90と回転駆動源12により、加工液噴射ユニット20の加工液噴射ノズル30を被加工物200の加工予定ライン204に沿って被加工物200に対して相対的に移動させる。 In the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 supplies the processing liquid 300 of the processing liquid jet nozzle 30 from the processing liquid supply source 33, and the water wall forming liquid 301 to the water wall forming unit 40 from the water wall forming liquid supply source 45. To supply. In the processing step ST2, the processing liquid is supplied by the processing feed unit 70, the indexing feed unit 80, the moving unit 90, and the rotary drive source 12 based on the processing content information while supplying the processing liquid 300 and the water wall forming liquid 301. The machining liquid jet nozzle 30 of the jetting unit 20 is moved relative to the workpiece 200 along the scheduled machining line 204 of the workpiece 200.

加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、水壁形成ユニット40が水壁形成液噴射部60の貫通孔61から水壁形成液301を吐出して、水壁形成液噴射部60から被加工物200に向かって噴射口31の全周に亘って水壁302を形成しながら、図8に示すように、加工液噴射ノズル30から加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の両縁に向けて加圧された加工液300を噴射して、バリ209を除去する。 In the processing step ST2, in the water jet processing apparatus 1, the water wall forming unit 40 discharges the water wall forming liquid 301 from the through hole 61 of the water wall forming liquid ejecting unit 60, and the water wall forming liquid ejecting unit 60 performs processing. As shown in FIG. 8, both edges of the half-cut groove 208 formed in the machining scheduled line 204 from the machining liquid ejecting nozzle 30 while forming the water wall 302 around the entire circumference of the ejection port 31 toward the object 200. The burr 209 is removed by injecting the working fluid 300 pressurized toward.

加工ステップST2では、ウォータージェット加工装置1は、すべての加工予定ライン204に形成されたハーフカット溝208の両縁に加圧された加工液300を噴射すると、加工液噴射ノズル30からの加圧された加工液300の噴射及び貫通孔61からの水壁形成液301の吐出を停止して、チャックテーブル10を加工液噴射ユニット20の下方から退避させた後、チャックテーブル10の吸引保持及びクランプ部14のクランプを解除して、ウォータージェット加工装置1の加工動作即ち実施形態1に係るウォータージェット加工方法を終了する。 In the processing step ST2, the water jet processing apparatus 1 injects the pressurized processing liquid 300 to both edges of the half-cut grooves 208 formed in all the planned processing lines 204, and applies the pressure from the processing liquid injection nozzle 30. After the jetting of the machining fluid 300 and the ejection of the water wall forming fluid 301 from the through holes 61 are stopped to retract the chuck table 10 from below the machining fluid jetting unit 20, the chuck table 10 is suction-held and clamped. The clamp of the portion 14 is released, and the processing operation of the water jet processing apparatus 1, that is, the water jet processing method according to the first embodiment is completed.

実施形態1に係るウォータージェット加工装置1は、加工液噴射ノズル30の噴射口31を囲繞する水壁形成液噴射部60を含む水壁形成ユニット40を備える。このために、ウォータージェット加工装置1は、噴射口31から噴射された加工液300が被加工物200に衝突して発生した加工液300からなり被加工物200上を伝って周囲に流出しようとするミストを水壁302内に閉じ込めることができる。また、ウォータージェット加工装置1は、被加工物200に衝突した加工液300が被加工物200に衝突する位置である加工点から周囲に流出する際、水壁302によって流出が阻害され流出速度が低下し、ミストの発生を抑制できる。よって、ウォータージェット加工装置1は、ミストの付着による加工精度低下や装置破損のおそれを抑制することができるという効果を奏する。 The water jet processing apparatus 1 according to the first embodiment includes a water wall forming unit 40 including a water wall forming liquid ejecting section 60 surrounding the ejection port 31 of the machining liquid ejecting nozzle 30. For this reason, the water jet machining apparatus 1 is composed of the machining fluid 300 generated by the machining fluid 300 ejected from the ejection port 31 colliding with the workpiece 200, and travels on the workpiece 200 to flow out to the surroundings. The mist to be used can be confined in the water wall 302. Further, in the water jet machining apparatus 1, when the machining fluid 300 that collides with the work piece 200 flows out to the surroundings from the machining point, which is the position where it collides with the work piece 200, the water wall 302 blocks the outflow and the outflow speed is increased. It is possible to reduce the generation of mist. Therefore, the water jet processing device 1 has an effect that it is possible to suppress a decrease in processing accuracy due to the attachment of mist and a possibility of device damage.

また、実施形態1に係るウォータージェット加工方法は、加工ステップST2において、噴射口31の全周に亘って水壁302を形成して、噴射口31から加工液300を噴射するので、ミストを水壁302に閉じ込めることができるとともに、ミストの発生を抑制できる。よって、ウォータージェット加工方法は、ウォータージェット加工装置1のミストの付着による加工精度低下や装置破損のおそれを抑制することができるという効果を奏する。 Further, in the water jet processing method according to the first embodiment, in the processing step ST2, the water wall 302 is formed over the entire circumference of the injection port 31 and the processing liquid 300 is injected from the injection port 31, so the mist is treated with water. It can be confined in the wall 302 and the generation of mist can be suppressed. Therefore, the water jet processing method has an effect that it is possible to suppress a decrease in processing accuracy due to the attachment of mist of the water jet processing device 1 and a risk of device damage.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態1から実施形態3では、被加工物200は、プリント回路板に複数の半導体デバイスを配列させ、モールド樹脂等で封止して構成されたパッケージ基板であるが、本発明では、被加工物200は、LED(Light Emitting Diode)デバイス用を配列させた金属基板を備えるパッケージ基板でもよい。また、本発明では、被加工物200は、表面に形成された複数の加工予定ライン204によって格子状に区画された領域に半導体デバイスを備え、加工予定ライン204にTEG(Test Element Group)が設けられたシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハでも良い。要するに本発明では、被加工物200は、ハーフカット溝208が形成される加工予定ライン204に金属が設けられているものであれば、如何なるものでも良い。 The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In the first to third embodiments, the workpiece 200 is a package substrate configured by arranging a plurality of semiconductor devices on a printed circuit board and sealing them with a mold resin or the like, but in the present invention, the workpiece is processed. The object 200 may be a package substrate including a metal substrate on which LEDs (Light Emitting Diode) devices are arranged. Further, in the present invention, the workpiece 200 is provided with semiconductor devices in a region partitioned in a lattice by a plurality of processing-scheduled lines 204 formed on the surface, and a processing element 204 is provided with a TEG (Test Element Group). A disk-shaped semiconductor wafer or optical device wafer having a base material such as silicon, sapphire, or gallium may also be used. In short, in the present invention, the work piece 200 may be any one as long as the metal is provided in the planned processing line 204 in which the half cut groove 208 is formed.

1 ウォータージェット加工装置
10 チャックテーブル(保持手段)
11 保持面
30 加工液噴射ノズル
31 噴射口
40 水壁形成ユニット(水壁形成手段)
60 水壁形成液噴射部
200 被加工物
204 加工予定ライン
300 加工液
301 水壁形成液
302 水壁
ST1 保持ステップ
ST2 加工ステップ
1 Water Jet Processing Device 10 Chuck Table (Holding Means)
11 Holding Surface 30 Machining Liquid Jet Nozzle 31 Jet 40 Water Wall Forming Unit (Water Wall Forming Means)
60 Water Wall Forming Liquid Injection Unit 200 Workpiece 204 Machining Line 300 Processing Liquid 301 Water Wall Forming Liquid 302 Water Wall ST1 Holding Step ST2 Processing Step

Claims (2)

ウォータージェット加工装置であって、
被加工物を保持する保持面を含む保持手段と、
該保持手段で保持された被加工物に加工液を噴射する噴射口を含む加工液噴射ノズルと、
該噴射口を囲繞するよう配置された水壁形成液噴射部を含み、該水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する水壁形成手段と、を備えたウォータージェット加工装置。
A water jet processing device,
Holding means including a holding surface for holding the workpiece,
A machining liquid jet nozzle including a jet port for jetting a machining liquid onto the workpiece held by the holding means;
Water jet processing including a water wall forming liquid ejecting section arranged to surround the ejection port, and a water wall forming means for forming a water wall from the water wall forming liquid ejecting section toward the workpiece. apparatus.
ウォータージェット加工方法であって、
加工予定ラインを有した被加工物を保持手段で保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、被加工物の該加工予定ラインに沿って加工液噴射ノズルの噴射口から加工液を噴射するとともに、該噴射口を囲繞する水壁形成液噴射部から被加工物に向かって水壁を形成する加工ステップと、を備えたウォータージェット加工方法。
A water jet processing method,
A holding step of holding a workpiece having a processing scheduled line by a holding means,
After performing the holding step, the working liquid is jetted from the jet port of the machining liquid jet nozzle along the scheduled machining line of the workpiece, and the workpiece is also jetted from the water wall forming liquid jet section surrounding the jet port. And a processing step of forming a water wall toward the water jet.
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