JP2020096024A - ステージ装置、露光装置及び光学処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】２軸ステージにおいて、ステージを、２軸方向の一方（他方）の方向に移動するための駆動部の移動を伴うことなく、他方（一方）の方向に移動する。【解決手段】ステージ装置１０は、定盤１２上でＸ軸及びＹ軸方向に移動可能なステージ１４と、第１面にＸ軸方向に延びるＸガイドを有するＹクロスバー２２Ｙと、Ｙクロスバー２２Ｙと対向して配置され、第１面と対向する面にＹ軸方向に延びるＹガイド２６Ｙを有するＸクロスバー２２Ｘと、Ｙクロスバーを、Ｙ軸方向に移動する第１駆動部（２０Ｙ１、２０Ｙ２）と、Ｘクロスバーを、Ｘ軸方向に移動する第２駆動部（２０Ｘ１、２０Ｘ２）と、一端がステージに接続され、他端がＹガイドに係合し、Ｙガイドに沿って移動可能なＸ連結部材２４Ｘと、一端がステージに接続され、他端がＸガイドに係合し、Ｘガイドに沿って移動可能なＹ連結部材と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、ステージ装置、露光装置及び光学処理装置に係り、特に互いに直交する所定面内の２方向に移動するステージを備えたステージ装置、基板を少なくとも前記２方向に移動するステージ装置を備えた露光装置、ターゲットを少なくとも前記２方向に移動するステージ装置を備えた光学処理装置に関する。

従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するための各種露光装置、あるいは光ビームなどのエネルギームを用いてターゲットを加工する加工装置などの光学処理装置では、ターゲットを少なくとも所定面内の直交２方向に移動するためのステージ装置が用いられている。

例えば、互いに直交する２方向に移動する２軸ステージとして、ガントリー型のステージ装置、あるいはＨ型のステージ装置などが用いられている。この種のステージ装置としては、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の一方の方向に移動する第１ステージと、その第１ステージを、その駆動装置と一体でＸ軸方向及びＹ軸方向の他方の方向に移動する第２ステージ（又はこれに相当する駆動部）と、を備えたＸＹステージ装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。かかるＸＹステージ装置では、第１ステージを他方の方向に移動する際には、第１ステージ及びその駆動装置と一体で第２ステージ（又はこれに相当する駆動部）を一方の方向に移動する必要がある。このため、第２ステージを移動するモータとして出力が大きなモータが必要になり、その分コストの上昇を招いていた。

ところで、近年、乗用車などでは、開発コスト及び生産コストの削減を図るため、車を構成する基本部品の一連の組み合わせ（フレームやサスペンション、ステアリング、パワートレインといった、車にとって必要不可欠な要素を持つ車の基礎部分）であるプラットホームを共通化することが主流となっている。露光装置、加工装置などの分野でも、開発コスト及び生産コストの削減は、当然期待されている。

米国特許第７，５８９，８２３号明細書

本発明の第１の態様によれば、定盤と、前記定盤上で少なくとも所定面内で互いに直交する第１方向及び第２方向に移動可能なステージと、前記所定面に平行な第１面に前記第２方向を長手方向とする第１リニアガイドを有し、前記第１方向に移動可能な第１部材と、前記所定面に垂直な方向に関して前記第１部材の前記第１面と対向して配置され、前記第１面と対向する面に前記第１方向を長手方向とする第２リニアガイドを有し、前記第２方向に可能な第２部材と、前記第１部材を、前記第２方向を長手方向とした向きに維持し、前記第１方向に移動する第１駆動部と、前記第２部材を、前記第１方向を長手方向とした向きに維持し、前記第２方向に移動する第２駆動部と、一端が前記ステージに接続され、他端が前記第２リニアガイドに係合し、前記第２リニアガイドに沿って前記第１方向に移動可能な少なくとも１つの第１連結部材と、一端が前記ステージに接続され、他端が前記第１リニアガイドに係合し、前記第１リニアガイドに沿って前記第２方向に移動可能な少なくとも１つの第２連結部材と、を備えるステージ装置が、提供される。

本発明の第２の態様によれば、基板を露光する露光装置であって、ベースフレームと、前記ベースフレーム上に三角形の各頂点位置に配置され、それぞれエアマウント及びアクチュエータを有する３つのアクティブ防振ユニットと、前記３つのアクティブ防振ユニットを介して３点支持されたメトロロジーフレームと、投影光学系を有し、前記メトロロジーフレームに支持された投影ユニットと、前記ベースフレームにより、防振ユニットを介することなく支持されたマスクステージ定盤と、前記マスクステージ定盤に少なくとも一部が支持された照明系ユニットと、前記マスクステージ定盤上で、パターンが形成されたマスクを前記投影光学系の光軸に垂直な所定面内の３自由度方向に移動するマスクステージと、前記基板を少なくとも前記３自由度方向に移動するステージ装置と、を備え、前記３つのアクティブ防振ユニットは、前記メトロロジーフレームを少なくとも前記光軸に平行な方向に駆動し、前記マスクと前記投影光学系との前記光軸に平行な方向の離間距離を調整可能である露光装置が、提供される。

本発明の第３の態様によれば、光学系を介してエネルギビームを照射してターゲットに所定の処理を施す光学処理装置であって、ベースフレームと、前記ベースフレーム上の同一直上にない３点に配置され、それぞれエアマウント及びアクチュエータを有する３つのアクティブ防振ユニットと、前記３つのアクティブ防振ユニットを介して３点支持され、少なくとも前記光学系を支持するためのメトロロジーフレームと、を含むプラットホームを、基本構成部品として有し、前記ターゲットを少なくとも前記光学系の光軸と垂直な所定面内で互いに直交する第１及び第２方向に移動するステージ装置と、前記ベースフレーム上に、防振部材を介することなく搭載され、パターニングデバイスを支持するための支持フレームと、を備え、前記３つのアクティブ防振ユニットによって、前記光学系と前記パターニングデバイスとの前記光軸と平行な方向の位置関係を調整可能である光学処理装置が、提供される。

第１の実施形態に係るステージ装置の構成を概略的に示す図である。 図１のステージ装置が備えるＸクロスバー、Ｙクロスバーとステージとを取り出して模式的に示す平面図である。 図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、ステージがＹ軸方向に移動する場合の各部の動作について説明するための図である。 図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、ステージがＸ軸方向に移動する場合の各部の動作について説明するための図である。 第２の実施形態に係る露光装置の全体構成を概略的に示す図である。 図５の露光装置の一部を概略的に示す斜視図であって、アダプタより上の構成部分及び第２照明系ユニット、並びにメトロロジーフレームを取り去った図である。 図５の露光装置の一部を概略的に示す斜視図であって、図６に示される構成にメトロロジーフレームを搭載した状態を示す図である。 防振ユニット４２_２の構成を概略的に示す図である。

《第１の実施形態》
以下、第１の実施形態に係るステージ装置について、図１〜図４に基づいて説明する。図１には、第１の実施形態に係るステージ装置１０の構成が概略的に示されている。ステージ装置１０では、所定面内で互いに直交する２方向に移動するステージ１４が設けられているので、以下、ステージ１４の移動する２方向を、それぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向とし、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向を、それぞれθｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向として、説明を行う。

ステージ装置１０は、定盤１２と、定盤１２上に配置されたステージ１４と、ステージ１４を、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動するステージ駆動系１６と、を備えている。

定盤１２は、ＸＹ平面（水平面）に平行な床面Ｆ上に設置された直方体部材から成る土台部１８上に載置されている。土台部１８の上面は、ＸＹ平面（水平面）に平行となっている。

定盤１２は、平面視でほぼ正方形で互いに平行な上面及び下面を有する直方体部材から成り、上面がＸＹ平面に平行となり、上面及び下面に垂直な方向がＺ軸方向と一致し、上面の互いに平行な２辺が延びる方向がＸ軸方向に一致し、残りの２辺が延びる方向がＹ軸方向に一致している。

ステージ駆動系１６は、一対のＹ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２と、一対のＸ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２と、一対のＹ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって駆動され、Ｙ軸方向に所定ストローク範囲で往復移動するＹクロスバー２２Ｙと、一対のＸ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２によって駆動され、Ｘ軸方向に所定ストローク範囲で往復移動するＸクロスバー２２Ｘと、ステージ１４をＹクロスバー２２Ｙ及びＸクロスバー２２Ｘに対してキネマティックに連結する（結合する）連結機構３０と、を備えている。

一対のＹ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２のそれぞれは、例えば一軸アクチュエータ及びＹ軸方向に関する（１自由度）の反力処理機構（これについては後述する）を備えている。Ｙ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２のそれぞれは、Ｘ軸方向に関して定盤１２を挟んで土台部１８上に配置され、Ｙ軸方向を長手方向とする磁石ユニット（又はコイルユニット）から成る固定子２３ａと、固定子２３ａに係合するコイルユニット（又は磁石ユニット）から成る可動子２３ｂと、を有し、Ｙ軸方向の駆動力（電磁力）を発生するＹリニアモータを備えている。Ｙクロスバー２２Ｙは、Ｘ軸方向を長手方向とし、長手方向の一端部と他端部にＹリニアモータの可動子２３ｂが、それぞれ設けられている。以下では、Ｙ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２をそれぞれ構成するＹリニアモータを、便宜上、Ｙ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２と同一の符号を用いてＹリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２と称する。Ｙリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって駆動され、Ｙクロスバー２２ＹはＹ軸方向に移動する。すなわち、本実施形態では、一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって、Ｙクロスバー２２ＹをＹ軸方向に移動するＹ駆動部（第１駆動部）が構成されている。

Ｘ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２のそれぞれは、Ｙ軸方向に関して定盤１２を挟んで配置され、Ｘ軸方向を長手方向として土台部１８上に配置された断面Ｕ状の磁石ユニット（又はコイルユニット）から成る固定子２３ｃと、固定子２３ｃに係合するコイルユニット（又は磁石ユニット）から成る可動子２３ｄと、を有するＸリニアモータを、一軸アクチュエータとして有する。

Ｘクロスバー２２Ｘは、Ｙ軸方向を長手方向とし、長手方向の一端部と他端部にＸリニアモータの可動子２３ｄが、それぞれ設けられている。以下では、Ｘ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２がそれぞれ有するＸリニアモータを、便宜上、Ｘ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２と同一の符号を用いてＸリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２と称する。Ｘリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２により駆動され、Ｘクロスバー２２ＸはＸ軸方向に移動する。すなわち、本実施形態では、一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２によって、Ｘクロスバー２２ＸをＸ軸方向に移動するＸ駆動部（第２駆動部）が構成されている。

Ｘクロスバー２２Ｘの上面（＋Ｚ側の面）には、図２に示されるように、Ｘ軸方向の中央より幾分−Ｘ側の位置に、所定幅で所定深さを有しＹ軸方向に延びる凹溝２７ａが全長にわたって形成されている。凹溝２７ａの内部には、Ｘクロスバー２２Ｘの長手方向の全長にわたりＹリニアガイド２６Ｙが配置されている。Ｙリニアガイド２６Ｙに、Ｙ軸方向に離れて配置された一対のＸ連結部材２４Ｘを介してステージ１４（より正確には、後述する粗動ステージ）が係合している。さらに詳述すると、一対のＸ連結部材２４Ｘのそれぞれは、一端（−Ｘ端）がステージ１４に接続された屈曲自在の弾性部材、例えば板ばね２９ａと、板ばね２９ａの他端部（＋Ｘ端部）の下面（−Ｚ側の面）に固定されたスライダ部材２８ａとを有する。スライダ部材２８ａは、Ｙリニアガイド２６Ｙに係合し、Ｙリニアガイド２６ＹとともにＹ軸方向の一軸ガイド装置を構成するもので、凹溝２７ａ内でＹリニアガイド２６Ｙに沿って移動可能である。したがって、ステージ１４は、一対のＸ連結部材２４Ｘを介してＹリニアガイド２６Ｙに係合し、一対のＸ連結部材２４Ｘと一体でＹリニアガイド２６Ｙに沿って移動可能になっている。

一対のＸ連結部材２４Ｘ、２４Ｘは、図２に示されるように、ステージ１４の重心位置ＣＧを通るＸ軸方向の直線からＹ軸方向の一側と他側にほぼ同一距離離れた位置に設けられている。

Ｘクロスバー２２Ｘの上方（＋Ｚ側）に、これと対向する状態で、Ｙクロスバー２２Ｙが、配置されている。Ｙクロスバー２２Ｙの下面（Ｘクロスバー２２Ｘに対向する−Ｚ側の面）には、図２に示されるように、Ｙ軸方向の中央より幾分＋Ｙ側の位置に、所定幅で所定深さを有しＸ軸方向に延びる凹溝２７ｂが全長にわたって形成されている。凹溝２７ｂの内部には、Ｙクロスバー２２Ｙの長手方向の全長にわたりＸリニアガイド２６Ｘが配置されている。Ｘリニアガイド２６Ｘに、Ｙ連結部材２４Ｙを介してステージ１４（より正確には、後述する粗動ステージ）が係合している。さらに詳述すると、Ｙ連結部材２４Ｙは、一端（＋Ｙ端）がステージ１４に接続された屈曲自在の弾性部材、例えば板ばね２９ｂと、板ばね２９ｂの他端部（＋Ｘ端部）の下面（−Ｚ側の面）に固定されたスライダ部材２８ｂとを有する。スライダ部材２８ｂは、Ｘリニアガイド２６Ｘに係合し、Ｘリニアガイド２６ＸとともにＸ軸方向の一軸ガイド装置を構成するもので、凹溝２７ｂ内でＸリニアガイド２６Ｘに沿って移動可能である。したがって、ステージ１４は、Ｙ連結部材２４Ｙを介してＸリニアガイド２６Ｘに係合し、Ｙ連結部材２４Ｙと一体でＸリニアガイド２６Ｘに沿って移動可能になっている。

Ｙ連結部材２４Ｙは、図２に示されるように、ステージ１４の重心位置ＣＧを通るＹ軸方向の直線上に設けられている。

なお、図２では、図示の便宜上及び構成を視覚的にわかり易くするため、Ｙクロスバー２２Ｙ及びＹ連結部材２４Ｙが、上下反転して図示されているが、実際には、Ｘクロスバー２２Ｘに対向するＹクロスバー２２Ｙの下面に凹溝２７ｂ及びＸリニアガイド２６Ｘが設けられ、Ｘリニアガイド２６ＸにＹ連結部材２４Ｙの−Ｙ側の端部に固定されたスライダ部材２８ｂが、下方から係合している。

このため、ステージ１４は、Ｘリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２及びＹリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２が駆動力を発生していないＸクロスバー２２Ｘ及びＹクロスバー２２Ｙの停止時には、Ｙ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の位置の変化が２つ（一対の）のＸ連結部材２４Ｘによって防止され、Ｘ軸方向の位置の変化がＹ連結部材２４Ｙによって防止され、さらに２つのＸ連結部材２４ＸとＹ連結部材２４Ｙとによって、Ｚ軸方向及びθｘ方向及びθｙ方向の位置の変化が実質的に防止されている。すなわち、ステージ１４は、Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚの各方向、すなわち６自由度方向に関して、過拘束なく、拘束されている。このように、本実施形態では、一対のＸ連結部材２４ＸとＹ連結部材２４Ｙとを含んで、ステージ１４をＹクロスバー２２Ｙ及びＸクロスバー２２Ｘに対してキネマティックに連結する（結合する）前述の連結機構３０が構成されている。

ステージ１４は、定盤１２上に非接触で支持され、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能な粗動ステージ３２と、粗動ステージ３２上でＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＸＹ平面に垂直なＺ軸方向を含む６自由度方向に可動な微動ステージ３４と、を有する。

粗動ステージ３２の底面には、不図示のエアベアリング（エアパッド）が複数設けられており、この複数のエアベアリングから定盤１２の上面に向けて噴出される、加圧空気の静圧によって粗動ステージ３２は定盤１２の上面に対して例えば数ミクロン程度のクリアランス（ギャップ、間隙）を隔てて浮上支持されている。なお、粗動ステージ３２は、必ずしも定盤の上面に対して浮上支持される必要はなく、例えばエアベアリング以外の軸受によって移動自在に支持されていても良い。

粗動ステージ３２の上に、複数のアクチュエータ、例えばボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等を含む６自由度駆動機構から成る微動ステージ駆動系を介して微動ステージ３４が搭載されている。例えば、微動ステージ３４を下方から３点で支持するとともにその支持点をＺ軸方向に駆動する３つのＺＶＣＭと、微動ステージ３４をＸ軸方向に駆動する１つ（又は２つ）のＸＶＣＭと、微動ステージ３４をＸ軸方向に駆動する２つ（又は１つ）のＹＶＣＭと、を含んで６自由度駆動機構を構成することができるが、６自由度駆動機構（微動ステージ駆動系）の具体的構成は、特に限定されない。例えば、粗動ステージの浮上方式として、前述のエア浮上方式に代えて磁気浮上方式を採用しても良い。この場合、平面モータとして、例えば磁気浮上方式の平面モータを採用することができる。磁気浮上方式の平面モータを採用する場合、粗動ステージを、平面モータのみで６自由度方向に駆動することが可能になるので、粗動ステージと微動ステージとの両方を必ず用いる必要がなくなる。すなわち、ステージ１４として、磁気浮上方式の単一の６ＤＯＦステージを用いても良い。

微動ステージ３４には、図１に示されるように、Ｘ軸に垂直な反射面を有するＸ移動鏡（Ｘミラーとも呼ばれる）３６Ｘが、上面の−Ｘ端部に固定され、Ｙ軸に垂直な反射面を有するＹ移動鏡（Ｙミラーとも呼ばれる）３６Ｙが、上面の＋Ｙ端部に固定されている。

微動ステージ３４のＸ軸方向及びＹ軸方向に関する位置情報は、Ｘ移動鏡３６Ｘ、Ｙ移動鏡３６Ｙに、それぞれ複数の測長ビームを照射し、Ｚ軸方向を除く、５自由度方向に関する微動ステージ３４の位置情報を計測可能な不図示の干渉計システムによって、計測されている。

また、微動ステージ３４には、その中央にウエハを真空吸着又は静電吸着により保持するためのウエハホルダＷＨが設けられている。

ここで、ステージ１４が、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動する場合の各部の動作について説明する。

まず、ステージ１４が、例えば図３（Ａ）に示される位置から図３（Ｂ）に示される位置まで移動する場合を例にとり、ステージ１４がＹ軸方向に移動する場合について説明する。

一対のＹリニアモータ（Ｙ駆動ユニット）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって駆動され、図３（Ａ）中に白抜き矢印で示されるように、Ｙクロスバー２２Ｙが−Ｙ方向に移動する。このＹクロスバー２２Ｙの移動に伴い、Ｙ連結部材２４Ｙを介してＹクロスバー２２Ｙに係合されたステージ１４が、Ｙクロスバー２２Ｙと一体で−Ｙ方向に移動し、２つのＸ連結部材２４Ｘが、Ｙリニアガイド２６Ｙに沿ってステージ１４と一体で−Ｙ方向に移動する。このようにして、Ｙクロスバー２２Ｙが、図３（Ｂ）の位置まで駆動されることで、Ｙクロスバー２２Ｙと一体で、ステージ１４及び２つのＸ連結部材２４Ｘが、図３（Ｂ）の位置まで移動する。

反対に、図３（Ｂ）に示される位置から、Ｙクロスバー２２Ｙが、図３（Ｂ）中に白抜き矢印で示されるように、一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって＋Ｙ方向に駆動されることで、Ｙクロスバー２２Ｙと一体で、ステージ１４及び２つのＸ連結部材２４Ｘが、図３（Ａ）の位置まで移動する。

ここで、Ｙクロスバー２２ＹからＹ連結部材２４Ｙを介してステージ１４に与えられる力の作用点は、重心位置ＣＧを通る直線上に位置するので、ステージ１４をＹ軸方向に駆動する力の作用点は、重心位置に一致する。すなわち、ステージ１４は、重心駆動にてＹ軸方向に駆動される。

図３（Ａ）及び図３（Ｂ）、並びに上記の説明から明らかなように、ステージ１４のＹ軸方向の移動中は、Ｘクロスバー２２Ｘは停止したままである。

次に、ステージ１４が、例えば図４（Ａ）に示される位置から図４（Ｂ）に移動する場合を例にとり、ステージ１４がＸ軸方向に移動する場合について説明する。

一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって駆動され、図４（Ａ）中に白抜き矢印で示されるように、Ｘクロスバー２２Ｘが＋Ｘ方向に移動する。このＸクロスバー２２Ｘの移動に伴い、一対のＸ連結部材２４Ｘを介してＸリニアガイド２６Ｘに係合された（Ｘクロスバー２２Ｘに連結された）ステージ１４が、一対のＸ連結部材２４Ｘと一体的に＋Ｘ方向に移動し、Ｙ連結部材２４Ｙが、Ｘリニアガイド２６Ｘに沿ってステージ１４と一体で＋Ｘ方向に移動する。このようにして、Ｘクロスバー２２Ｘが、図４（Ｂ）に示される位置まで移動することで、Ｘクロスバー２２Ｘと一体的に、ステージ１４及びＹ連結部材２４Ｙが、図４（Ｂ）に示される位置まで移動する。

一方、ステージ１４に一対のＸ連結部材２４Ｘを介して連結されたＸクロスバー２２Ｘが、図４（Ｂ）中に白抜き矢印で示されるように、一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２によって−Ｘ方向に駆動されることで、Ｘクロスバー２２Ｘと一体的に、ステージ１４及びＹ連結部材２４Ｙが、図４（Ｂ）に示される位置から図４（Ａ）に示される位置まで移動する。ここで、Ｘクロスバー２２Ｘから一対のＸ連結部材２４Ｘをそれぞれ介してステージ１４に与えられる力の作用点は、重心位置ＣＧからＸ軸方向に関して等距離にある直線上に位置するので、ステージ１４をＸ軸方向に駆動する力の作用点は、重心位置に一致する。すなわち、ステージ１４は、重心駆動にてＸ軸方向に駆動される。

図４（Ａ）及び図４（Ｂ）、並びに上記の説明から明らかなように、ステージ１４のＸ軸方向の移動中は、Ｙクロスバー２２Ｙは停止したままである。

以上説明したように、本実施形態に係るステージ装置１０によると、ステージ１４をＹ軸方向に駆動する際には、一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によって、Ｙクロスバー２２Ｙと一体的にステージ１４及び一対のＸ連結部材２４Ｘを駆動するのみで足り、ステージ１４をＸ軸方向に駆動するための駆動装置（具体的には、Ｘクロスバー２２Ｘ及び一対のＸ駆動ユニット２０Ｘ_１、２０Ｘ_２）を駆動する必要がない。また、ステージ装置１０によると、ステージ１４をＸ軸方向に駆動する際には、一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２によって、Ｘクロスバー２２Ｘと一体的にステージ１４及びＹ連結部材２４Ｙを駆動するのみで足り、ステージ１４をＹ軸方向に駆動するための駆動装置（具体的には、Ｙクロスバー２２Ｙ及び一対のＹ駆動ユニット２０Ｙ_１、２０Ｙ_２）を駆動する必要がない。

Ｙクロスバー２２Ｙ及びＸクロスバー２２Ｘには、いずれもリニアモータの固定子は設けられてなく、リニアモータの固定子に比べて格段軽量なリニアガイドが設けられているのみである。したがって、ステージ１４を駆動するＸリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２及びＹリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２として、従来のガントリーステージで用いられていたような出力の大きなモータは不要であり、出力が小さな低コストかつ小型のモータを用いることが可能となる。

なお、上記実施形態では、ステージ１４をＹリニアガイド２６Ｙに係合する一対のＸ連結部材２４Ｘを、ステージ１４の重心位置ＣＧを通るＸ軸方向の直線に関して対称に配置することで、ステージ１４を重心位置にてＸ軸方向に駆動する場合を例示したが、これに限らず、一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２それぞれから１つ又は２つ以上のＸ連結部材２４Ｘを介してステージ１４に与えられる駆動力に起因するステージ１４の重心位置ＣＧを中心とする負（−）のモーメント（時計回りモーメント）と正（＋）のモーメント（反時計回りのモーメント）との和が零となる（換言すれば時計回りモーメントと反時計回りのモーメントとが釣り合う）ように設定するのであれば、Ｘ連結部材２４Ｘの数は、一対でなくても良く、その配置も特に限定されない。かかる場合には、ステージ１４をＸＹ平面内で回転させることなく、重心位置にてＸ軸方向に駆動することが可能になる。

また、上記実施形態では、ステージ１４をＸリニアガイド２６Ｘに係合するＹ連結部材２４Ｙを、ステージ１４の重心位置ＣＧを通るＹ軸方向の直線上に配置することで、ステージ１４を重心位置にてＹ軸方向に駆動する場合を例示したが、これに限らず、一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２それぞれから２つ以上のＹ連結部材２４Ｘを介してステージ１４与えられる駆動力に起因するステージ１４の重心位置ＣＧを中心とする負（−）のモーメント（時計回りモーメント）と正（＋）のモーメント（反時計回りのモーメント）との和が零となる（換言すれば時計回りモーメントと反時計回りのモーメントとが釣り合う）ように設定するのであれば、Ｙ連結部材２４Ｙを２つ以上設けても良く、その配置も特に限定されない。かかる場合には、ステージ１４をＸＹ平面内で回転させることなく、重心位置ＣＧにてＹ軸方向に駆動することが可能になる。

これまでは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のいずれの方向に関しても、ステージ１４の重心位置で駆動が可能な構成のステージ装置について説明したが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方の方向に関しては、ステージ１４の重心位置以外の位置で駆動する構成を採用しても良い。

また、上記実施形態では、一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によってＹクロスバー２２ＹをＹ軸方向に移動するＹ駆動部が構成され、この一対のＹ駆動ユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２によってＹクロスバー２２Ｙを移動することで一対のＸ連結部材２４Ｘを介してＹクロスバー２２Ｙに係合されたステージ１４をＹ軸方向に移動する場合について説明した。しかし、これに限らず、Ｙクロスバー２２ＹをＹ軸方向に移動するＹ駆動部（第１駆動部）は、一対でなく、単一の駆動装置によって構成しても良い。ただし、この単一の駆動装置は、その移動中のＹクロスバー２２Ｙの向きをＸ軸方向に平行な向きに維持できることが要求される。

同様に、Ｘクロスバー２２ＸをＸ軸方向に移動するＸ駆動部（第２駆動部）も、一対のＸ駆動ユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２によって必ずしも構成する必要はない。移動中のＸクロスバー２２Ｘの向きをＹ軸方向に平行な向きに維持できるのであれば、単一の駆動装置によって構成しても良い。

また、上記実施形態では、Ｙ駆動部（第１駆動部）を構成するＹ駆動ユニット、Ｘ駆動部（第２駆動部）を構成するＸ駆動ユニット、がそれぞれ備える一軸アクチュエータとして、リニアモータを用いる場合について説明した。しかし、これに限らず、Ｙ駆動部（第１駆動部）及びＸ駆動部（第２駆動部）の少なくとも一方が、リニアモータの代わりに他の一軸アクチュエータを含んで構成されていても良い。一軸アクチュエータの種類は、特に限定されず、例えば送りねじ装置、ラックアンドピニオン装置、ベルト式（あるいはチェーン式、ワイヤ式など）駆動装置などの他の方式の装置を用いても良い。

また、Ｘリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２、Ｙリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２の固定子を、定盤１２上で移動可能に浮上支持して、１自由度の反力処理機構としてのカウンタマスを構成しても良いし、定盤１２に凸部を設け、この凸部の上に厚さを薄く形成した固定子を、浮上支持して１自由度の反力処理機構（すなわち、カウンタマス）を構成しても良い。あるいは、定盤１２上に固定される固定部と、この固定部の内側に配置され、固定部に対して移動可能なコイルユニット（又は磁石ユニット）を有する移動部と、移動部に係合する磁石ユニット（又はコイルユニット）と、を有するリニアモータを、Ｘリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２、Ｙリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２として採用しても良い。かかる構成のリニアモータでは、移動部がカウンタマスとして機能する。

この他、反力処理機構として、定盤１２を、土台部１８上で移動可能に支持し、ステージ１４の移動時の駆動力の反力でステージ１４とは反対向きに移動可能とする反力処理機構（カウンタマス）を用いても良い。この反力処理機構は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のいずれの方向に関しても、ステージ１４の移動時の反力処理機構として機能する。

《第２の実施形態》
次に、第２の実施形態について、図５〜図８に基づいて説明する。図５には、第２の実施形態に係る露光装置１００の全体構成が概略的に示されている。

本第２の実施形態に係る露光装置１００は、後述するように、前述したステージ装置１０を備えているので、以下では、前述した第１の実施形態と同様、ステージ１４の移動する２方向を、それぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向とし、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向を、投影光学系ＰＬの光軸とＡＸと平行なＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向を、それぞれθｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向として、説明を行う。ただし、露光装置１００では、後述するように走査露光方式でレチクルＲのパターンがステージ１４に保持されたウエハＷ上に転写されるので、ステージ１４の移動方向のうち、走査露光におけるレチクルとウエハの移動方向（図５における紙面内左右方向）をＹ軸方向としている。

露光装置１００は、図５に示されるように、床（又はフレームキャスタ）Ｆ上に設置された側面視（＋Ｘ方向から見て）門型のベースフレーム４０と、ベースフレーム４０上に配置された複数、例えば３つのアクティブ防振ユニット４２（図１では、２つのアクティブ防振ユニットのみ図示）と、３つのアクティブ防振ユニット（以下、防止ユニットと略記する）４２を介して複数点、例えば３点で支持されたメトロロジーフレーム４４と、メトロロジーフレーム４４に支持された投影ユニットＰＵと、ベースフレーム４０上に防振ユニットを介することなく、複数のアダプタ４６を介して載置されたレチクルステージ定盤（マスクステージ定盤）４８と、レチクルステージ定盤４８に複数、例えば２つの支持部材４９Ａ、４９Ｂを介して下方から支持された第１部分照明系ユニット５０Ａと、レチクルステージ定盤４８上に搭載されたレチクルステージ装置６０と、第１部分照明系ユニット５０Ａとともに照明系ユニット５０を構成する第２部分照明系ユニット５０Ｂと、ベースフレーム４０とは物理的に（機械的に）分離して床Ｆ上に設置された前述のステージ装置１０と、を備えている。第２部分照明系ユニット５０Ｂは、床Ｆ上に設置されている。図示していないが、ステージ装置１０は、複数（例えば３つ）のアクティブ防振ユニットを介して床Ｆ上に支持されている。第２部分照明系ユニット５０Ｂについても複数の防振ユニットを介して床Ｆ上に配置しても良い。なお、上述の防振ユニットはアクティブ型に限定されず、パッシプ型を用いても良い。

以下、露光装置１００の構成について、さらに詳述する。

図６には、アダプタ４６より上の構成部分及び第２照明系ユニット５０Ｂ、並びにメトロロジーフレーム４４を取り去った、露光装置１００の残りの部分が概略的に斜視図にて示されている。この図６に示されるように、ベースフレーム４０は、Ｙ軸方向に離れて配置されたＹ軸方向に垂直な一対の側壁部４０ａ、４０ｂと、この一対の側壁部４０ａ、４０ｂの＋Ｘ端部同士、−Ｘ端部同士を、それぞれの上端部で接続する、Ｙ軸方向にそれぞれ延びる一対の水平部４０ｃ，４０ｄと、を有している。一対の側壁部４０ａ、４０ｂは、中央に矩形の開口が形成された矩形状（矩形枠状）である。本実施形態では、−Ｙ側が装置の正面であり、＋Ｙ側が装置の背面であるので、以下では−Ｙ側の側壁部４０ａを前壁と呼び、＋Ｙ側の側壁部４０ｂを後壁と呼ぶ。すなわち、ベースフレーム４０は、側面視（＋Ｘ方向から見て）門型、正面視（−Ｙ方向から見て）矩形枠状の形状を有している。また、ベースフレーム４０は、中央に矩形開口４０ｅを有する平面視矩形枠状である。

前壁４０ａには、上端部のＸ軸方向の中央の位置に上端面から所定深さの位置まで切除された切除部４１_１が形成されている。また、後壁４０ｂには、上端部のＸ軸方向の中心から＋Ｘ軸方向の一側（＋Ｘ側）及び他側（−Ｘ側）に同一距離離れた位置に上端面から所定深さ（切除部４１_１とほぼ同じ深さ）の位置まで切除された切除部４１_２、４１_３がそれぞれ形成されている。切除部４１_１、４１_２、４１_３は、Ｙ軸方向から見て凹状である。

３つの切除部４１_１、４１_２、４１_３のそれぞれには、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３が、配置されている。防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３のそれぞれは、エアマウント及びアクチュエータを有する。防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３の構成等については、後にさらに詳述する。

３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３は、それぞれベースフレーム４０の切除部４１_１、４１_２、４１_３の内部に配置されている。すなわち、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３は、ベースフレーム４０上の三角形（本実施形態二等辺三角形）の各頂点位置に配置されている。

３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３によって、メトロロジーフレーム４４が、ベースフレーム４０上で３点支持されている。さらに詳述すると、メトロロジーフレーム４４は、図７に示されるように、前方の等脚台形状部分と後方の矩形状部分とが一体化された平面視六角形の所定厚さの部材から成り、その長手方向（図７のＹ軸方向）の中央より前方側の位置に投影ユニットＰＵの下端部を挿入するための平面視円形の開口４４ａが形成されている。メトロロジーフレーム４４には、断面Ｌ字部材から成るブラケット４５が、前面に１つ、両側面の後端部に各１つ取り付けられている。識別のため、以下では、前面側のブラケット４５を、ブラケット４５_１、両側面側のブラケット４５をブラケット４５_２，４５_３と表記する。ブラケット４５_１、４５_２、４５_３のそれぞれは、上面がメトロロジーフレーム４４の上面とほぼ同一面となるようにメトロロジーフレーム４４に取り付けられ、メトロロジーフレーム４４と一体で、ベースフレーム４０の開口４０ｅの内部に配置されている。また、ブラケット４５_１、４５_２、４５_３のそれぞれは、ベースフレーム４０の切除部４１_１、４１_２、４１_３それぞれの内部に配置された防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３の上にそれぞれ配置されている。すなわち、メトロロジーフレーム４４は、３つのブラケット４５_１、４５_２、４５_３を介して防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３によって３点支持されている。ただし、かかる支持が可能となるように、ブラケット４５_２、４５_３のそれぞれは、メトロロジーフレーム４４に固定された側壁部分には上壁部の後半分の部分に対応する部分が存在しない。

図５に戻り、メトロロジーフレーム４４には、投影ユニットＰＵ、及び種々の計測系が取り付けられている。このうち、投影ユニットＰＵは、鏡筒４３と、鏡筒４３内に配置された投影光学系ＰＬとを有する。投影光学系ＰＬとしては、例えば共通のＺ軸に平行な光軸ＡＸを有する複数の光学素子（レンズ）を有する屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、一例として１／４又は１／５の投影倍率を有し、倒立像を投影する両側テレセントリックな光学系である。

投影ユニットＰＵは、前述の開口４４ａ内に上方から挿入され、鏡筒４３の下端部近傍の周囲に設けられたフランジ部ＦＬＧを介して、メトロロジーフレーム４４によって下方から支持されている。メトロロジーフレーム４４に取り付けられた種々の計測系については後述する。

本第２の実施形態に係る露光装置１００では、後述するように、投影ユニットＰＵとレチクルＲとの投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行な方向（Ｚ軸方向）の間隔の調整のため、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３によってメトロロジーフレーム４４がＺ軸方向に駆動される。

アダプタ４６は、互いに平行な上面及び下面を有し、下面に凹部が形成されたＹ軸方向から見て逆Ｕ字状の部材から成り、本実施形態では、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３に対応して、３つのアダプタ４６_１、４６_２、４６_３が設けられている。アダプタ４６_１、４６_２、４６_３のそれぞれは、対応する防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３及びブラケット４５_１、４５_２、４５_３を、所定の隙間を介してそれぞれ覆うように、ベースフレーム４０上にそれぞれ配置されている。

アダプタ４６_１、４６_２、４６_３により、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３によるメトロロジーフレーム４４の駆動を妨げることがないように、ベースフレーム４０に載置される他の構成部分が支持される。本第２の実施形態に係る露光装置１００では、アダプタ４６_１、４６_２、４６_３により、レチクルステージ定盤４８が支持されている。

アダプタ４６_１、４６_２、４６_３それぞれは、上述した役割を果たすことができれば良く、その形状等は、特に限定されない。

レチクルステージ定盤４８には、図５に示されるように、Ｙ軸方向の中央より幾分−Ｙ側の位置に、上下方向に貫通した所定形状、例えば円形の開口４８ａが形成されている。レチクルＲに照射される露光光（照明光）は開口４８ａを通って投影光学系ＰＬに入射する。

レチクルステージ定盤４８の上方には、照明系ユニット５０の一部を構成する第１部分照明系ユニット５０Ａが、その長手方向がＹ軸と平行となる状態で配置されている。照明系ユニット５０は、床Ｆ上に配置された第２部分照明系ユニット５０Ｂと、第２部分照明系ユニット５０Ｂの上部に配置された第１部分照明ユニット５０Ａとを備えている。

第１部分照明系ユニット５０Ａは、複数、例えば２つの支持部材４９Ａ、４９Ｂを介してレチクルステージ定盤４８上に支持されている。第１部分照明系ユニット５０Ａは、筐体５２と、筐体５２内に配置された複数の第１光学部材から成る照明光学系（図示省略）の第１部分と、を備えている。第２部分照明系ユニット５０Ｂは、筐体５４と、筐体５４内に配置される複数の第２光学部材から成る照明光学系の第２部分と、例えばビームマッチングユニットを介して第２部分に光学的に接続される光源と、を備えている。一例として、第１部分は、レチクルＲ上で露光光が照射される照明領域を規定するマスキングシステム（レチクルブラインド系）、照明領域内での露光光の照度分布をほぼ均一にする照度均一化部材（例えばフライアイレンズ）などを含み、第２部分は、レチクルＲのパターン面（下面）が配置される投影光学系ＰＬの物体面と実質的に光学的なフーリエ変換の関係となる、照明光学系の瞳面での露光光の照度分布を可変とする分布可変部材（例えばマイクロミラーアレイなどの空間光変調器）などを含む。照明光学系はその瞳面での露光光の偏光方向を設定する偏光設定部材を含んでも良く、偏光設定部材は第１部分と第２部分のどちらに設けても良い。偏光設定部材は、第１部分に設けられる場合、フライアイレンズに対してその入射面側に配置され、第２部分に設けられる場合、空間光変調器に対して上流側（入射側）に配置される。偏光設定部材によって、照明光学系の瞳面での露光光の偏光方向を周方向（接線方向）にする、すなわちレチクルＲに照射される露光光をＳ偏光にすることができる。光源としては、一例としてＫｒＦエキシマレーザ光源が用いられている。光源として、ＫｒＦエキシマレーザ光源に限らず、ＡｒＦエキシマレーザ光源その他のレーザ光源は勿論、ｉ線、ｇ線などの紫外光を発する超高圧水銀ランプなどを用いても良い。なお、ＫｒＦエキシマレーザ光源、ＡｒＦエキシマレーザ光源などを用いる場合、光源そのものは、床下のユーティリティスペースに配置しても良い。この場合、第２部分照明系ユニット５０Ｂの一端に配置される前述のビームマッチングユニットと光源との間に光学系を配置し、この光学系を介して、光源から射出されるレーザ光（露光光）をビームマッチングユニットに導いても良い。

第１部分照明系ユニット５０Ａの筐体５２は、前端部にＸＹ平面に対して４５度を成す第１面５２ａを有し、後端部にＸＹ平面に対して−４５度を成す第２面５２ｂを有する。第２面５２ｂの内面側には、第２部分光学系の光路に沿って＋Ｚ方向に進行する照明光（波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光）を反射して、その光路を９０度折り曲げ、その進行方向を−Ｙ方向に偏向する第１折り曲げミラーが設けられている。また、第１面５２ａの内側面には、第１部分光学系の光路に沿って−Ｙ方向に進行する照明光（波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光）を反射して、その光路を９０度折り曲げ、その進行方向を−Ｚ方向に偏向する第２折り曲げミラーが設けられている。

レチクルステージ装置６０は、レチクルステージ定盤４８上に配置された所定高さを有する平面視矩形枠状の枠状部材６２と、枠状部材６２の内部に配置され、少なくとも３自由度方向、すなわちＹ軸方向に所定ストロークで移動可能かつＸ軸方向及びＺ軸周りの回転方向（θｚ方向）に微小移動可能なスライダ部材から成るレチクルステージＲＳＴと、レチクルステージＲＳＴをＸ軸、Ｙ軸及びθｚ方向に駆動するレチクルステージ駆動系（図示省略）と、を備えている。レチクルステージＲＳＴはその凹部（開口）内でレチクルＲを保持する。例えば、ウエハに対する走査露光時には、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動によって、上述した第２折り曲げミラーによって進行方向を−Ｚ方向に変更された照明光によってレチクルＲのパターン領域の全面が照明される。

レチクルステージ駆動系は、例えば一対のリニアモータ（あるいは平面モータ）などの電磁モータによって構成することができる。レチクルステージ駆動系を構成する電磁モータは、可動子がレチクルステージＲＳＴに設けられるとともに、固定子が枠状部材６２に設けられる。

レチクルステージのＸＹ平面内の位置情報（Ｘ、Ｙ、θｚ）は、不図示の計測装置、例えばレーザ干渉計システム又はエンコーダシステムから成るレチクルステージ位置計測系によって計測されている。レチクルステージ位置計測系の計測情報は、ステージ制御系に供給されるとともに、ステージ制御系を介して露光装置１００の構成各部を統括的に制御する主制御装置に供給されている。レチクルステージ位置計測系によって、３自由度方向の位置情報（Ｘ、Ｙ、θｚ）に加え、Ｚ、θｘ、θｙ方向の位置情報を計測しても良い。

枠状部材６２は、レチクルステージ定盤４８上に、その底面に設けられた複数のエアベアリング（図示省略）を介して数ミクロン程度のクリアランス（隙間、ギャップ）を介して、浮上支持されている。このため、レチクルステージＲＳＴがレチクルステージ駆動系によってＹ軸方向に駆動されると、その駆動力の反力が枠状部材６２に作用し、運動量保存の法則に従った距離だけ枠状部材６２がレチクルステージＲＳＴとは反対方向に移動する。すなわち、枠状部材６２がカウンタマスとして機能する。したがって、レチクルステージ装置６０では、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向に関する移動によって、重心移動が生じず、レチクルステージ定盤４８に偏荷重が作用することがない。

枠状部材の質量は、レチクルステージＲＳＴの質量に比べて格段大きいので、枠状部材６２が運動量保存の法則に従って移動する距離は、非常に小さい。また、レチクルステージＲＳＴが、Ｘ軸方向、又はθｚ方向に微小移動する際にも、その駆動力の反力が枠状部材６２に作用するが、その反力の作用によって枠状部材６２が移動する距離は、無視できるほど小さい。なお、枠状部材６２を、Ｙ軸方向に移動可能なトリムモータが設けられていても良い。

ステージ装置１０は、例えば図６に示されるように、ベースフレーム４０の内側に、一対のＹドライブユニット（Ｙリニアモータ）２０Ｙ_１、２０Ｙ_２それぞれの固定子２３ａの長手方向が、前壁４０ａと後壁４０ｂとに直交し、一対のＸドライブユニット（Ｘリニアモータ）２０Ｘ_１、２０Ｘ_２それぞれの固定子２３ｃの長手方向が、前壁４０ａと後壁４０ｂと平行となる向きで、床Ｆ上に設置されている。また、微動ステージ３４には、ウエハホルダＷＨを介してウエハＷ（図６では不図示、図５参照）が吸着保持されている。本実施形態では、ウエハＷが微動ステージ３４に保持されるので、ステージ１４を、ウエハステージと呼んでも良い。

メトロロジーフレーム４４には、ウエハＷを保持する微動ステージ３４の５自由度方向（Ｚ軸方向を除く各方向）に関する位置情報を計測するウエハレーザ干渉計システム（以下、ウエハ干渉計システムと略記する）７０が取り付けられている。ウエハ干渉計システム７０は、微動ステージ３４に設けられた前述のＸミラー（Ｘ移動鏡）３６Ｘ、Ｙミラー（Ｙ移動鏡）３６Ｙに計測ビームを照射する、複数の干渉計によって構成され、各干渉計は、メトロロジーフレーム４４に吊り下げ状態で取り付けられている。複数の干渉計は、例えば微動ステージ３４のＸ軸方向及びθｙ方向の位置情報を計測する多軸干渉計から成るＸ干渉計、微動ステージのＹ軸方向、θｚ方向及びθｘ方向の位置情報を計測する多軸干渉計から成るＹ干渉計を含む。図１では、複数の干渉計のうち、Ｙ移動鏡３６Ｙに計測ビームを照射する干渉計が、代表的に、干渉計システム７０として示されている。ウエハ干渉計システム７０の各干渉計は、投影ユニットＰＵの側面に固定された固定鏡（参照鏡）３８の位置を基準として、それぞれの測長軸について、微動ステージ３４のＸ軸方向、Ｙ軸方向の位置情報を計測する。ウエハ干渉計システム７０は、Ｚ軸方向の位置を計測するＺ干渉計を含んでいても良い。ウエハ干渉計システム７０の代わりにエンコーダシステムを用いて６自由度方向の微動ステージ３４の位置情報を計測しても良い。

ウエハ干渉計システム７０では、各干渉計が、メトロロジーフレーム４４に取り付けられているので、各干渉計からは、Ｘ駆動ユニット、Ｙドライブユニットなどに遮られることなく、計測ビームがＸミラー３６Ｘ、Ｙミラー３６Ｙに照射される。

ウエハ干渉計システム７０の計測情報は、ステージ制御系に供給されるとともに、ステージ制御系を介して主制御装置に供給される。

メトロロジーフレーム４４には、微動ステージ３４に保持されたウエハＷ上に形成されたアライメントマークのＸＹ平面内の位置情報を計測するオフアクシス方式のアライメント系（図示省略）、及び微動ステージ３４に保持されたウエハＷの光軸ＡＸに平行なＺ軸方向の位置情報を計測する焦点位置検出系（図示省略）などが、取り付けられている。アライメント系及び焦点位置検出系は、投影光学系ＰＬからＹ軸方向の一側に離れてメトロロジーフレーム４４に設けられる

アライメント系は、メトロロジーフレーム４４に吊り下げ状態で支持されている。アライメント系ＡＬＧとしては、例えば、画像処理方式のアライメントセンサ、いわゆるＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。このアライメント系は、指標中心を基準とするマークの位置情報を、主制御装置に供給する。主制御装置は、供給されたマークの位置情報と、ウエハ干渉計システム７０からの計測情報とに基づいて、検出対象のマークの位置情報を計測する。

焦点位置検出系として、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応する米国特許第５，４４８，３３２号明細書）等に開示されるものと同様の照射系と受光系とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が設けられている。

この他、露光装置１００では、レチクルステージＲＳＴの上方には、投影光学系ＰＬを介してステージ１４（微動ステージ３４）上の一対の基準マークとこれに対応するレチクル上の一対のレチクルマークとを同時に検出するための露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）方式のアライメント系から成る一対のレチクルアライメント系（図示省略）が設けられている。この一対のレチクルアライメント系としては、例えば特開平７−１７６４６８号公報（対応する米国特許第５，６４６，４１３号明細書）などに開示されるものと同様の構成のものを用いることができる。レチクルアライメント系を設けず、投影光学系ＰＬを介してステージ１４（微動ステージ３４）の上面に配置されるスリットパターン上に投影される、レチクルＲのマーク又はレチクルステージＲＳＴの基準マークの像を検出する空間像検出装置を用いても良い。

ここで、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３の構成について説明する。防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３のそれぞれは、内圧が調整可能なエアマウントと、アクチュエータ、例えばボイスコイルモータとが、並列（若しくは直列）に配置された構成になっている。防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３のそれぞれによって、ベースフレーム４０を介して床Ｆ等からメトロロジーフレーム４４（ひいては投影ユニットＰＵ）に伝わる微振動が、マイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。なお、Ｇは重力加速度である。

さらに詳述すると、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３（以下、総称として防振ユニット４２と表記する）は、所定圧力の気体（例えば空気）が充填され、この空気の圧力によりメトロロジーフレーム４４を介して投影ユニットＰＵを支持するエアマウント４２Ａ（図８参照）と、エアマウントが投影ユニットＰＵを支持するＺ軸方向（Ｚ方向）に電磁力で投影ユニットＰＵを駆動するボイスコイルモータ（駆動装置）４２Ｂ（図８参照）とを主体に構成されている。本第２の実施形態に係る露光装置１００で用いられる防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３と同様の構成の防振ユニットについては、例えば米国特許出願公開第２００４／００８３９６６号明細書等に詳細に開示されている。

図８には、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３を代表して、防振ユニット４２_２の構成が、概略的に示されている。図８に示されるように、エアマウント４２Ａは、例えば第１気体室（第１空気室）７２と、第１空気室７２に配管（接続部）７４を介して連通する第２気体室（第２空気室）７６と、第１空気室７２の内部空間の空気圧を検出する圧力センサ（検出装置）７８と、第１空気室７２の内部空間を加圧・減圧する空気圧調整装置（不図示）に接続され、その加圧・減圧を切り替えるサーボバルブ８０と、圧力センサ７８の検出結果に基づいてサーボバルブ８０を制御する制御装置８２とから概略構成される。制御装置８２は、前述した主制御装置に接続されている。

第１空気室７２は、ベースフレーム４０の切除部４１_２の内部底面上に配置された上部が開口した例えば有底円筒状の筐体７１と、筐体７１の内部に配置されたピストン７３と、ピストン７３を筐体７１に対してＺ軸方向に移動自在に支持するダイヤフラム７５とによって区画されている。ピストン７３は、メトロロジーフレーム４４に固定されたブラケット４５_２の下面に支持部材６９を介して吊り下げ状態で設けられている。ピストン７３は、第１空気室７２の内部空間の空気圧に応じて支持部材７１及びブラケット４５_２を介してメトロロジーフレーム４４（投影ユニットＰＵ）を、Ｚ軸方向に支持している。

第２空気室７６は、ベースフレーム４０、具体的には、側壁部４０ｂの内部に設けられ、側壁部４０ｂに形成された貫通孔内に配置された配管７４を介して第１空気室７２の内部空間と連通している。

ここで、エアマウントの空気ばねとしてのばね定数は、空気室の内圧Ｐ、ピストンの有効受圧面積Ａの自乗に比例し、空気室の容積（ここでは第１空気室と第２空気室との合計の容積）に反比例することが知られている。ここで、第１空気室の容積をＶ_１、第２空気室の容積をＶ_２とすると、比例定数をαとして、ばね定数Ｋは、次式で表せる。

Ｋ＝αＰＡ^２／（Ｖ_１＋Ｖ_２） ……（１）
式（１）から明らかなように、エアマウントの空気室の容積が大きいほど低剛性のばねとなる。

式（１）を変形すると、次式が得られる。
Ｋ／Ｖ_１＝αＰＡ^２／（１＋Ｖ_２/Ｖ_１） ……（１）’
ここで、第１空気室の容積Ｖ_１が一定だとすると、式（１）’から、ばね定数Ｋは、第１空気室の容積に対する第２空気室の容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）にほぼ反比例することがわかる。ただし、式（１）’の関数形から明らかなように、ばね定数Ｋは、（Ｖ_２/Ｖ_１）の増加とともに、直線的に減少するわけではない。容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）が大きくなるに従ってばね定数も小さくなり、空気ばねとしての剛性が低くなるが、容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）がある値（Ｂ１とする）を超えると第２空気室の容積増加分に比べてばね定数の減少分が微小となり剛性低下に対する効果が少なくなる。一方、容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）が小さい範囲では、第２空気室の容積増加分に比べてばね定数の減少分が大きく、剛性低下に対する効果は大きいものの、容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）がある値（Ｂ２とする）未満ではばね定数の絶対値が大きくなり、空気ばねとして許容される剛性を超える。そこで、本第２の実施形態では、容積の比（Ｖ_２/Ｖ_１）を、Ｂ２≦（Ｖ_２/Ｖ_１）≦Ｂ１の範囲に設定してある。

ボイスコイルモータ４２Ｂは、電磁力によりメトロロジーフレーム４４（投影ユニットＰＵ）をＺ軸方向に駆動するものであって、ベースフレーム４０の切除部４１_２の内部底面に突設された架台８４とブラケット４５_２との間に、エアマウント４２Ａとは独立して、且つ並列に配設されている。ボイスコイルモータを、エアマウントに対して直列に配設しても良い。図５においては、上で説明したエアマウント４２Ａ、ボイスコイルモータ４２Ｂ等に加え、架台８４を含んで、防振ユニット４２_２として示されている。

残りの防振ユニット４２_１、４２_３は、それぞれベースフレーム４０の切除部４１_１、４１_３内に配置される、すなわち防振ユニット４２_２と異なる位置に配置されているが、上述した防振ユニット４２_２と同様に構成されている。

本第２の実施形態に係る露光装置１００では、レチクルステージ装置６０を支持するレチクルステージ定盤４８とは振動的に分離して、投影ユニットＰＵを支持するメトロロジーフレーム４４が、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３によって下方から３点支持されている。このため、レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）と投影ユニットＰＵとの特にＸＹ平面内の３自由度方向を除く、残りの３自由度方向の位置関係を所望の位置関係に保てなくなるおそれがある。

このため、露光装置１００では、レチクルＲと投影ユニットＰＵとのＺ軸、θｘ、θｙの各方向の位置関係（相対位置）が、計測装置によって計測され、その計測情報が制御装置に供給されるようになっている。計測装置としては、一例として例えばレチクルステージＲＳＴに固定された移動鏡の上面と、投影ユニットＰＵの鏡筒の側面に固定された参照鏡の上面との間隔の変動量を３点で計測する干渉計システムを用いることができる。制御装置は、干渉計システムの計測結果よりレチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）と投影ユニットＰＵ（投影光学系ＰＬ）との間隔の変動量、及びレチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の２軸（例えばＸ軸、Ｙ軸）の回りの傾斜角を求め、この結果に基づいて、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３を介して、メトロロジーフレーム４４の高さ及び傾斜角を制御することで、結果的に、レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）と投影ユニットＰＵ（投影光学系ＰＬ）とのＸＹ平面内の３自由度方向を除く、残りの３自由度方向（Ｚ軸、θｘ、θｙの各方向）に関する位置関係を所望の位置関係に維持する。ここで説明した、計測装置の計測情報に基づく、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３の駆動制御（サーボ制御）は、レチクルアライメント時、露光時などレチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）と投影ユニットＰＵ（投影光学系ＰＬ）との３自由度方向（Ｚ軸、θｘ、θｙの各方向）に関する位置関係を所望の位置関係に維持する必要があるときに行われる。

次に、露光装置１００における露光動作について説明する。ここでは、予め、ウエハＷ上のショット領域を適正露光量（目標露光量）で走査露光するための各種の露光条件が設定されているものとする。そして、アライメント系によるウエハＷのマーク及びウエハステージ（ステージ１４）の基準マークの検出や、焦点位置検出系によるウエハＷの検出が行われた後、ウエハステージがＹ方向の一側から他側に移動されてウエハステージの基準マーク又はスリットパターンが投影光学系ＰＬの下に配置され、レチクルアライメント系又は空間像検出装置によるレチクルＲのマークの検出が行われる。これらの検出情報に基づき、例えばエンハンスト・グローバル・アライメントによってウエハ上で露光すべきショット領域毎にその位置情報が算出されるとともに、ショット領域の面情報（凹凸情報）も求められる。

このようにして、ウエハＷの露光のための準備動作が完了すると、アライメント結果に基づいてウエハ干渉計システム７０の計測値をモニタしつつ、粗動ステージ駆動系（Ｙリニアモータ２０Ｙ_１、２０Ｙ_２、及びＸリニアモータ２０Ｘ_１、２０Ｘ_２）及び微動ステージ駆動系を制御してウエハＷの第１ショットの露光のための走査開始位置にステージ１４を移動する。

そして、レチクルステージ駆動系、粗動ステージ駆動系（及び微動ステージ駆動系）を介してレチクルステージＲＳＴとステージ１４とのＹ軸方向の走査を開始し、両ステージ（ＲＳＴ、１４）がそれぞれの目標走査速度に達すると、照明系ユニット５０からの照明光により、レチクルＲ上の所定の矩形状の照明領域が均一な照度で照明される。この照明領域に対してレチクルＲがＹ軸方向に走査されるのに同期して、この照明領域と投影光学系ＰＬに関して共役な露光領域に対してウエハＷを走査する。

そして、レチクルＲのパターン領域を透過した照明光が投影光学系ＰＬにより１／５倍あるいは１／４倍に縮小され、レジストが塗布されたウエハＷ上に照射される。そして、ウエハＷ上の露光領域には、レチクルＲのパターンが逐次転写され、１回の走査でレチクルＲ上のパターン領域の全面がウエハＷ上のショット領域に転写される。この走査露光時には、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動速度と、ステージ１４のＹ軸方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、レチクルステージ駆動系及び粗動ステージ駆動系（及び微動ステージ駆動系）を介してレチクルステージＲＳＴ及びステージ１４が同期制御される。また、ショット領域毎にその走査露光中、先に算出したショット領域の位置情報に基づき、レチクルＲのパターン像とショット領域とのアライメントが行われるとともに、ショット領域の面情報に基づき、パターン像とショット領域とのフォーカス・レベリング制御が行われる。

レチクルステージＲＳＴの走査方向の加減速時の反力は、枠状部材６２の移動により吸収され、レチクルステージ装置６０における重心の位置がＹ軸方向において実質的に固定される。また、電磁モータの固定子が設けられた枠部材６２とレチクルステージ定盤４８との間の摩擦が零でない、あるいはレチクルステージＲＳＴと枠部材６２との移動方向が僅かに異なる等の理由で、レチクルステージ定盤４８に微少な振動が残留した場合には、その残留振動はアダプタ４６_１、４６_２、４６_３及びベースフレーム４０を介して床Ｆに逃される。すなわち、ベースフレーム４０は、リアクションフレームとしても機能する。

また、メトロロジーフレーム４４においては、上述したように、レチクルステージＲＳＴ、ステージの移動による微振動が発生しても、６自由度方向の振動を求め、エアマウント及びボイスコイルモータをフィードバック制御することによりこの微振動をキャンセルして、メトロロジーフレーム４４（投影ユニットＰＵ）を定常的に安定した位置に維持することができる。

また、上述したように、本第２の実施形態に係る露光装置１００では、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３のそれぞれにおいて、エアマウントを構成する第１空気室に接続された第２空気室がベースフレーム４０に設けられているので、装置を大型化することなく容積の大きな低剛性の空気ばねを得ることができる。しかも、防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３のそれぞれでは、第１空気室の容積に基づいて第２空気室の容積を設定することで、空気ばねとして許容される剛性で、且つ容積増加に見合う剛性低下が得られる適切な容積設定が可能となっている。

なお、上記第２の実施形態では、第１空気室のみに圧力センサ及びサーボバルブを設ける構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば第２空気室のみに設ける構成や、第１、第２空気室の双方に設ける構成としても良い。

また、上記第２の実施形態では、露光装置１００が、ＸＹ平面内の３自由度方向に可動なレチクルステージＲＳＴを備えている場合について例示したが、これに限らず、レチクルステージを６自由度方向に可動な構成としても良い。この場合には、レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）と投影ユニットＰＵ（投影光学系ＰＬ）との３自由度方向（Ｚ軸、θｘ、θｙの各方向）に関する位置関係を所望の位置関係に維持するために、３つの防振ユニット４２_１、４２_２、４２_３の駆動（サーボ制御）とレチクルステージＲＳＴの上記３自由度方向（Ｚ軸、θｘ、θｙの各方向）に関する駆動（サーボ制御）とを併用しても良い。

上記第２の実施形態に係る露光装置１００の構成部分のうち、第２部分照明ユニット５０Ｂと、アダプタ４６_１、４６_２、４６_３より上の構成部分は、適宜、取り替えることができる。例えば、照明系ユニット５０に代えて、光源に超高圧水銀ランプを用い、波長選択フィルタによりｉ線を取り出す光源系を備えた照明系ユニットを用いれば、ｉ線スキャナを構成することができる。また、さらに、レチクルステージ装置６０に代えて、レチクルをＸＹ平面内で微小駆動のみが可能なレチクルステージ（レチクルホルダとも呼ばれる）を有するレチクルステージ装置を、用いればｉ線ステッパを構成することができる。

同様に、照明系ユニット５０に代えて、ＡｒＦエキシマレーザ光源（出力波長１９３ｎｍ）を光源とし、これに適した照明系ユニットを用いれば、ＡｒＦスキャナを構成することができる。

あるいは、照明系ユニット５０及びレチクルステージ装置６０に代えて、例えば固体レーザを光源とする光源系と、例えばレーザ光を選択的に透過して投影光学系に入射させる、あるいは選択的に反射して投影光学系に入射させることで、任意の明暗パターンの像を生成可能なプログラマブルな空間光変調器から成る可変成形マスクを備えた光学系ユニットを用いれば、マスクレス方式の走査型露光装置（デジタルスキャナーとも呼ばれる）を構成することができる。

この他、照明系ユニット５０及びレチクルステージ装置６０に代えて、例えば国際公開ＷＯ２０１８／２０３５０８Ａ１に開示されるようなビーム照射システム（５００）と、マスク（Ｍ）を保持したマスクステージ（１５）とを、用いるとともに、ステージ装置１０の微動ステージ３４に加工対象のワークを搭載すれば、上記国際公開に開示されるように、加工対象物に対する除去加工として、表面加工（研削、切削など）、溝加工（溝形成時の切削、形成後の表面研削など）、及び任意形状の切断、微細加工パターンの形成などあらゆる加工に１台で対応可能なレーザ加工装置を構成することができる。

上述した各種の露光装置、レーザ加工装置では、いずれの装置でも、レチクル、可変成形マスク、あるいは、マスク（Ｍ）と、投影光学系との光軸方向の離間距離の調整が必要なので、前述した３つのアクティブ防振ユニットによってメトロロジーフレームのＺ軸、θｘ、θｙの各方向の位置を調整可能な、前述のアダプタ４６より下の構成部分（アダプタ４６を含まない）を、これらの装置（光を用いて、基板（ウエハなど）あるいはワークなどのターゲットに対して目的に応じた所定の処理（露光又は加工など）を施すので光学処理装置と総称することができる）に共通のプラットホーム（光学処理装置を構成する基本部品の一連の組み合わせ（光学処理装置にとって必要不可欠な要素を持つ光学処理装置の基礎部分））と観念することができる。プラットホームは、基本構成部品とも言い換えることができる。

なお、ステージ装置として、ステージ装置１０に代えて、他のステージ装置を用いることができるので、ステージ装置１０の少なくとも一部を、プラットホームに含めても良いし、ステージ装置１０の全部をプラットホームに含めなくても良い。あるいは、粗動ステージ３２上には、微動ステージ３４に代えて、その他の６ＤＯＦステージ（６ＤＯＦテーブル）を搭載することも可能なので、ステージ装置１０から微動ステージ３４を取り去った残りの構成部分を、プラットホームに含めても良い。

いずれにしても、プラットホームとして観念できる光学処理装置を構成する基本部品の一連の組み合わせは、上述した意味での光学処理装置に共通のプラットホームとして製品化することも可能である。かかるプラットホームの製品化により、露光装置、加工装置などの光学処理装置の分野で、開発コスト及び生産コストの削減を図ることができる。

１０…ステージ装置、１２…定盤、１４…ステージ、２０Ｘ_１、２０Ｘ_２…Ｘ駆動ユニット、２０Ｙ_１、２０Ｙ_２…Ｙ駆動ユニット、２２Ｘ…Ｘクロスバー、２２Ｙ…Ｙクロスバー、２４Ｘ…Ｘ連結部材、２４Ｙ…Ｙ連結部材、２６Ｘ…Ｘリニアガイド、２６Ｙ…Ｙリニアガイド、３２…粗動ステージ、３４…微動ステージ、Ｗ…ウエハ、１００…露光装置、４０…ベースフレーム、４２_１、４２_２、４２_３…アクティブ防振ユニット、４２Ａ…エアマウント、４２Ｂ…ボイスコイルモータ、４４…メトロロジーフレーム、４６_１、４６_２、４６_３…アダプタ、４８…レチクルステージ定盤、５０…照明系ユニット、７２…第１空気室、７６…第２空気室、ＩＬ…照明光、ＰＬ…投影光学系、ＰＵ…投影ユニット、ＲＳＴ…レチクルステージ。

Claims (20)

1. 定盤と、
   前記定盤上で少なくとも所定面内で互いに直交する第１方向及び第２方向に移動可能なステージと、
   前記所定面に平行な第１面に前記第２方向を長手方向とする第１リニアガイドを有し、前記第１方向に移動可能な第１部材と、
   前記所定面に垂直な方向に関して前記第１部材の前記第１面と対向して配置され、前記第１面と対向する面に前記第１方向を長手方向とする第２リニアガイドを有し、前記第２方向に可能な第２部材と、
   前記第１部材を、前記第２方向を長手方向とした向きに維持し、前記第１方向に移動する第１駆動部と、
   前記第２部材を、前記第１方向を長手方向とした向きに維持し、前記第２方向に移動する第２駆動部と、
   一端が前記ステージに接続され、他端が前記第２リニアガイドに係合し、前記第２リニアガイドに沿って前記第１方向に移動可能な少なくとも１つの第１連結部材と、
   一端が前記ステージに接続され、他端が前記第１リニアガイドに係合し、前記第１リニアガイドに沿って前記第２方向に移動可能な少なくとも１つの第２連結部材と、を備えるステージ装置。
2. 請求項１に記載のステージ装置において、
   前記第１駆動部は、前記第２方向に関して前記定盤を挟んで配置され、それぞれ前記第１部材の前記第２方向の一端部と他端部に前記第１方向の駆動力を与える一対の第１駆動ユニットを含み、
   前記第２駆動部は、前記第１方向に関して前記定盤を挟んで配置され、それぞれ前記第２部材の前記第１方向の一端部と他端部に前記第２方向の駆動力を与える一対の第２駆動ユニットを含むステージ装置。
3. 請求項２に記載のステージ装置において、
   前記一対の第２駆動ユニットそれぞれから前記第１連結部材を介して前記ステージに与えられる駆動力による、前記ステージの前記所定面内における重心位置を中心とするモーメントの和は、零であるステージ装置。
4. 請求項２又は３に記載のステージ装置において、
   前記一対の第１駆動ユニットそれぞれから前記第２連結部材を介して前記ステージに与えられる駆動力による、前記ステージの前記所定面内における重心位置を中心とするモーメントの和は、零であるステージ装置。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載のステージ装置において、
   前記第１連結部材は、一対設けられ、
   前記一対の第１連結部材は、前記ステージの重心位置を通る前記第２方向の直線に関して対称に配置されているステージ装置。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載のステージ装置において、
   前記第２連結部材は、１つ設けられ、前記ステージの重心位置を通る前記第１方向の直線上に配置されているステージ装置。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のステージ装置において、
   前記ステージは、少なくとも前記第１及び第２方向に移動可能な第１ステージと、前記第１ステージ上に搭載された前記第１、第２方向及び前記所定面に直交する第３方向を含む６自由度方向に可動な第２ステージと、を有するステージ装置。
8. 基板を露光する露光装置であって、
   ベースフレームと、
   前記ベースフレーム上に三角形の各頂点位置に配置され、それぞれエアマウント及びアクチュエータを有する３つのアクティブ防振ユニットと、
   前記３つのアクティブ防振ユニットを介して３点支持されたメトロロジーフレームと、
   投影光学系を有し、前記メトロロジーフレームに支持された投影ユニットと、
   前記ベースフレームにより、防振ユニットを介することなく支持されたマスクステージ定盤と、
   前記マスクステージ定盤に少なくとも一部が支持された照明系ユニットと、
   前記マスクステージ定盤上で、パターンが形成されたマスクを前記投影光学系の光軸に垂直な所定面内の３自由度方向に移動するマスクステージと、
   前記基板を少なくとも前記３自由度方向に移動するステージ装置と、を備え、
   前記３つのアクティブ防振ユニットは、前記メトロロジーフレームを少なくとも前記光軸に平行な方向に駆動し、前記マスクと前記投影光学系との前記光軸に平行な方向の離間距離を調整可能である露光装置。
9. 請求項８に記載の露光装置において、
   前記３つのアクティブ防振ユニットは、前記メトロロジーフレームを前記光軸に平行な方向に独立に駆動し、前記マスクと前記影光学系との前記光軸に平行な方向及び前記所定面内の直交二軸回りの回転方向の位置関係を調整可能である露光装置。
10. 請求項８又は９に記載の露光装置において、
    前記ベースフレーム上に搭載され、前記メトロロジーフレームの一部と非接触で係合した状態で前記マスクステージ定盤を支持し、前記３つのアクティブ防振ユニットによる前記メトロロジーフレームの前記光軸に平行な方向の駆動を許容するアダプタを、さらに備える露光装置。
11. 請求項８〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記３つのアクティブ防振ユニットのそれぞれは、一部が前記ベースフレームの内部に配置された気体室を有する前記エアマウントを有する露光装置。
12. 請求項１１に記載の露光装置において、
    前記気体室は、前記ベースフレーム上に配置された第１気体室と、該第１気体室に連通し前記ベースフレームの内部に配置された第２気体室と、を含む露光装置。
13. 請求項８〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
    請求項７に記載のステージ装置を、前記ステージ装置として備え、
    前記第２ステージ上に前記基板が保持される露光装置、
14. 光学系を介してエネルギビームを照射してターゲットに所定の処理を施す光学処理装置であって、
    ベースフレームと、
    前記ベースフレーム上の同一直上にない３点に配置され、それぞれエアマウント及びアクチュエータを有する３つのアクティブ防振ユニットと、
    前記３つのアクティブ防振ユニットを介して３点支持され、少なくとも前記光学系を支持するためのメトロロジーフレームと、を含むプラットホームを、基本構成部品として有し、
    前記ターゲットを少なくとも前記光学系の光軸と垂直な所定面内で互いに直交する第１及び第２方向に移動するステージ装置と、
    前記ベースフレーム上に、防振部材を介することなく搭載され、パターニングデバイスを支持するための支持フレームと、を備え、
    前記３つのアクティブ防振ユニットによって、前記光学系と前記パターニングデバイスとの前記光軸と平行な方向の位置関係を調整可能である光学処理装置。
15. 請求項１４に記載の光学処理装置において、
    前記３つのアクティブ防振ユニットによって、前記光学系と前記パターニングデバイスとの前記所定面内の直交二軸回りの回転方向に関する位置関係をさらに調整可能である光学処理装置。
16. 請求項１４又は１５に記載の光学処理装置において、
    前記３つのアクティブ防振ユニットのそれぞれは、一部が前記ベースフレームの内部に配置された気体室を有する前記エアマウントを有する光学処理装置。
17. 請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の光学処理装置において、
    前記ステージ上に前記ターゲットが保持される請求項１〜６のいずれか一項に記載のステージ装置を、前記ステージ装置として備える光学処理装置。
18. 請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の光学処理装置において、
    前記第２ステージ上に前記ターゲットが保持される請求項７に記載のステージ装置を、前記ステージ装置として備える光学処理装置。
19. 請求項１７又は１８に記載の光学処理装置において、
    前記ステージ装置は、少なくとも一部が前記プラットホームの一部を兼ねる光学処理装置。
20. 請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の光学処理装置が備えるプラットホーム。

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