JP2020095284A - 形状記憶合金アクチュエータを備える構成要素シフト器具 - Google Patents

形状記憶合金アクチュエータを備える構成要素シフト器具 Download PDF

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Abstract

【課題】形状記憶合金アクチュエータを備えるシステムを提供すること。【解決手段】システムは、第1のチャンバを画定する外側ハウジングと、第2のチャンバを画定する内側ハウジングと、少なくとも1つの非線形結晶であって、入射光を受け取り、前記入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを制限するために、前記外側ハウジングと前記内側ハウジングとの間に配された少なくとも1つのピストンであって、前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを可能にするために作動されるように構成されている、ピストンと、前記内側ハウジングと機械的に接触している少なくとも1つの形状記憶合金要素であって、前記形状記憶合金要素に加えられた熱または電気エネルギーが、前記内側ハウジングの動きを引き起こす、形状記憶合金要素と、を含む。【選択図】図9

Description

開示の内容
〔技術分野〕
本特許の開示は、概して構成要素シフト器具に関し、さらに具体的には、形状記憶合金(SMA)アクチュエータを備えた結晶シフターに関する。
〔背景〕
非線形光学結晶を中に組み込んだレーザーシステムおよび装置が、現在、広範な適用に使用されている。例えば、非線形光学結晶は、第1の波長を有するレーザー光を、第2の波長を有するレーザー光に変換するのにしばしば使用される。非線形結晶の寿命は限られているので、(入射レーザー光に対する)非線形結晶の位置を新しい位置にシフトさせることがしばしば必要である。従来は、モータ(例えば、ステッパモータ、リニアモータ)を有する並進ステージなどのアクチュエータが、結晶の位置をシフトさせるのに使用される。
従来のアクチュエータの使用で、いくつかの非線形光学結晶の寿命が延びてきたが、いくつかの欠点が特定されている。例えば、多くの従来のアクチュエータが、アクチュエータの使用中または経時的に脱ガスされ得る有機および/または無機材料を含有する。レーザーで誘起された脱ガスは、レーザー空洞を汚染し、レーザー空洞内もしくは隣接する光学スイート(optical suite)内の1つ以上の光学器械上に沈殿する場合があり、かつ/またはレーザーシステムの性能を損なうおそれがある。
これに応じて、いくつかの適用では、アクチュエータは、結晶区画および/またはレーザー空洞の外側に設置され得、これにより、機械的フィードスルーが、アクチュエータと結晶との間の接点をもたらす。結晶区画および/またはレーザー空洞の外側にアクチュエータを位置づけることで、レーザーで誘起された脱ガスに伴う問題は軽減または排除され得るが、いくつかの欠点が、このアプローチでは特定されている。例えば、時間と共に、このようなフィードスルーが漏れる場合があり、これにより、望ましくない有機および/または無機材料が結晶区画に入り込むことを可能にしてしまう。さらに、これらのアクチュエータは、レーザーシステムおよび/または空洞の外側の空間が極端に限られたところで使用され得る。したがって、レーザーシステムおよび/または空洞の外側にアクチュエータを位置づけることは、不可能ではないにしても、困難になり得る。
前記を鑑みると、上に位置付けられた光学結晶の制御された動きを可能にすると共に、脱ガスを軽減または排除する、アクチュエータが引き続き必要とされている。
〔概要〕
一態様では、本開示は、内部に形成されたチャンバを有するハウジングと;チャンバの中に配された非線形結晶であって、非線形結晶が、少なくとも1つの入射信号(例えば光)を受け取り、入射信号の少なくとも一部の波長(および周波数)を変換するように構成されている、非線形結晶と;形状記憶合金要素であって、形状記憶合金に加えられた熱または電気エネルギーが非線形結晶の動きを引き起こすように配されている、形状記憶合金要素と、を含む、システムを記載する。
別の態様では、本開示は、第1のチャンバを画定する外側ハウジングと;第1のチャンバの中に配された内側ハウジングであって、第2のチャンバを画定する、内側ハウジングと;第2のチャンバの中に配された非線形結晶であって、入射光を受け取り、入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と;外側ハウジングに対する内側ハウジングの動きを制限するために外側ハウジングと内側ハウジングとの間に配されたピストンであって、外側ハウジングに対する内側ハウジングの動きを可能にするために作動されるように構成されている、ピストンと;内側ハウジングと機械的に接触している形状記憶合金要素であって、形状記憶合金に加えられた熱または電気エネルギーが、内側ハウジングの動きを引き起こす、形状記憶合金要素と、を含む、システムを記載する。
さらに別の態様では、本開示は、ハウジングを有する第1のシフト器具と;第1のシフト器具のハウジングの中に配された1つ以上の第1の形状記憶合金要素と;1つ以上の第1の形状記憶合金要素と機械的に連絡している少なくとも1つの第1のプランジャと;少なくとも1つの並進ステージ上に配された少なくとも1つの非線形結晶であって、並進ステージは、第1のプランジャによって係合されて非線形結晶を動かすように構成され、非線形結晶は、入射光を受け取り、入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、を含む、システムを記載する。
本開示のこれらおよび他の態様および特徴は、添付図面と共に解する場合、以下の説明を読めばさらに容易に理解されるであろう。
〔詳細な説明〕
同様の参照符号が同様の要素を指す、図面を参照すると、図1〜図4では、一実施形態において、本出願が、少なくとも1つの光学結晶、構成要素、および/または光学要素もしくは装置を制御可能に支持し位置づけるように構成された、結晶シフターまたは構成要素シフター100(以下、結晶シフター100とする)を開示することが例示されている。例えば、一実施形態では、結晶シフター100は、第1の波長の、光(例えばレーザー光)などの少なくとも1つの入射信号の少なくとも一部を変換して、少なくとも第2の波長を有する少なくとも1つの出力信号を生成するように構成された非線形光学結晶を支持するように構成されている。周期分極材料などの他の光学材料が、結晶シフター100によって支持され位置づけられ得る。別の実施形態では、結晶シフター100は、少なくとも1つの光導波管を支持し位置づけるように構成されている。さらに、結晶シフター100は、光学レンズ、ミラー、グレーティング、導波管、減衰器、フィルタ、非線形光学材料、光学結晶、ビームスプリッタ、バルク光学材料、利得媒質および装置、検出器などを含むがこれらに制限されない、任意のさまざまな光学構成要素、または装置を支持し、選択的に位置づけるように構成され得る。
再び図1〜図4を参照すると、例示されるように、結晶シフター100は、結晶オーブン102または温度制御機構などの、少なくとも1つのハウジングを含む。図示のとおり、結晶オーブン102は、その中に形成された少なくとも第1のチャンバ104を含むが、任意の数のチャンバ104が結晶オーブン102内に形成され得ることを、当業者は認識するであろう。例示された実施形態では、結晶オーブン102は、第1の壁106と、第2の壁108と、第1の壁106を第2の壁108に連結するトラフ部分110とによって画定された、ほぼ「U」字型の構成を有する。オプションとして、他の構成および形状も使用され得る。結晶オーブン102は、第1のチャンバ104に隣接して配された第2のチャンバ105を含み得る。図示のとおり、第2のチャンバ105は、結晶オーブン102のトラフ部分110および第1のチャンバ104内に形成され得、第1の壁106と第2の壁108との間に画定され得る。ある態様では、熱電クーラー(TEC)などの、少なくとも1つの温度調節器109が、結晶オーブン102および/または結晶オーブン102の中もしくはその周囲に配された構成要素と熱連通(thermal communication)(例えば、直接接触、間接接触など)していてよい。一例として、温度調節器109は、結晶オーブン102の第1の(下)端部111に隣接して配されて示されている。抵抗加熱器および/または誘導加熱器など、他のエネルギー源(例えば熱源)が含まれてもよい。
少なくとも1つの非線形結晶112は、第1のチャンバ104の中に配され得る。非線形結晶112は、例えば高調波変換を用いて、入射光の波長を変換することが可能であってよい。一例として、非線形結晶112は、第3の高調波発生結晶として構成され得るが、波長変換が任意のさまざまな技術を用いて達成され得ることを、当業者は認識するであろう。例えば、代替的な実施形態では、非線形結晶112は、第2の高調波発生結晶、第4の高調波発生結晶、またはn+1個の高調波発生結晶を含む。少なくとも1つの付勢要素113(例えば、バネ、押しバネ、有機発泡材料など)が、非線形結晶112に隣接して配されて、非線形結晶112に対して付勢力を提供することができる。一例として、付勢要素113は、非線形結晶112と第1の壁106との間に配されて、非線形結晶112を第2の壁108に向かって付勢することができる。他の構成を使用することもできる。
少なくとも1つの形状記憶合金(SMA)要素114が、非線形結晶112に隣接して配され得る。図示のとおり、SMA要素114は、第2のチャンバ105の中に配され得る。SMA要素114の一部は、SMA要素114の動きが非線形結晶112の動きを引き起こし得るように、非線形結晶112に当接し得る。SMA要素114は、立方形の形状を有して図示されている。しかしながら、他の形状および大きさを使用することもできる。
1つ以上のセンサ116が、結晶オーブン102の一部(例えば第2の壁108)に隣接して配されて、結晶オーブン102、SMA要素114、およびそれらに隣接する環境のうちの1つ以上の熱的性質(例えば温度)を測定することができる。一例として、センサ116は、負温度係数センサなどのサーミスターであるか、またはそれを含むことができる。しかしながら、他のセンサおよび構成を使用することもできる。
動作中、電圧(または熱)がSMA要素114に加えられて、SMA要素114の形状変化(例えば、拡張、収縮など)を引き起こすことができる。SMA要素114が形状を変化させると、非線形結晶112は動かされる。図1〜図4に示す実施例では、SMA要素114の拡張により、非線形結晶112が第1の端部111から遠ざかり、付勢要素113と第2の壁108との間の摩擦を克服する。SMA要素114の拡張の制御により、脱ガス有機物を有する従来のアクチュエータ(convention actuators)を必要とせずに、非線形結晶112の位置シフトが可能となり得る。
図5〜図6は、結晶シフター200の別の実施形態を示す。図示のとおり、結晶シフター200は、少なくとも1つの結晶オーブン202または温度制御機構などのハウジングを含む。さらに、結晶オーブン202は、その中に形成された少なくとも第1のチャンバ204を含む。結晶オーブン202は、第1の壁206と、第2の壁208と、第1の壁206を第2の壁208に連結するトラフ部分210とによって画定された、ほぼ「U」字型の構成を有する。他の構成および形状を使用することもできる。
少なくとも1つの非線形結晶212は、第1のチャンバ204の中に配され得る。非線形結晶212は、第1の波長の入射光を変換して、少なくとも第2の波長の少なくとも1つの出力信号を生成するように構成され得る。一例として、非線形結晶212は、高調波発生結晶を含み得る。例えば、非線形結晶212は、第2の高調波発生結晶、第3の高調波発生結晶、第4の高調波発生結晶などを含み得るが、これらに制限されない。
金属シート材料などの少なくとも1つの付勢装置または部材213が、非線形結晶212の少なくとも一部の周りで、非線形結晶212と結晶オーブン202との間に形成され得る。付勢装置213は、セラミクス、ガラス、無機発泡材料などを含むか、またはこれらから形成され得る。付勢装置213は、非線形結晶212に対して、1つ以上の所定の方向に付勢力を提供するように構成され得る。例えば、付勢装置213は、板バネとして構成された部分を有し得る。図示のとおり、付勢装置213の一部は、結晶オーブン202の一部を通って延びてよく、また、結晶オーブン202の周縁部を越えて延びてよい。他の構成を使用することもできる。
少なくとも1つの形状記憶合金(SMA)要素214が、結晶オーブン202に隣接して配され得る。図示のとおり、SMA要素214は、第1のチャンバ204に隣接して配されてよく、また、結晶オーブン202の一部に連結されてよい。SMA要素214の一部は、SMA要素214の動きが付勢装置213の動きを引き起こし、それによって、付勢装置213の中またはそれに近接して位置づけられた非線形結晶212の動きを引き起こし得るように、付勢装置213に連結され得る。SMA要素214は、弧状の形状を有して図示されている。しかしながら、他の形状および大きさを使用することもできる。
少なくとも1つの位置付け本体215(例えば、中空のシリンダー、弧状体など)が、第1のチャンバ204に隣接して、SMA要素214と結晶オーブン202のトラフ部分210との間に配され得る。一例として、位置付け本体215は、シリンダー215の一部が第1のチャンバ204内に延びている状態で、結晶オーブン202の第1の壁206および第2の壁208に当接するような大きさにされ得る。位置付け本体215は、ガラス、セラミック、または金属から形成され得る。しかしながら、他の材料を使用することもできる。特定の実施形態では、位置付け本体215は、誘導加熱器または抵抗素子など、加熱器(例えば、熱エネルギー源)として動作するように構成され得る。
動作中、電圧(または熱)がSMA要素214に加えられて、SMA要素214の形状変化(例えば、狭窄(straitening)、収縮など)を引き起こすことができる。SMA要素214が形状を変化させると、SMA要素214との連結により、付勢装置213に力が加えられる。シリンダー215が結晶オーブン212に当接しているので、SMA要素214のさらなる収縮が、位置付け本体215によって付勢されて、付勢装置213への力のさらなる移動をもたらす。したがって、付勢装置213は、結晶オーブン202のトラフ部分210から離れて上昇し(raise)、非線形結晶212に位置変化を引き起こし得る。付勢装置213のこのような持ち上げは、約0.5mm〜約1mmであってよい。しかしながら、他の構成および移動距離を使用することもできる。
図7〜図8は、結晶シフター300の別の実施形態を示し、結晶シフター300は、その中に形成されるか、またはこれに取り付けられた、結晶オーブン302または温度制御機構などの少なくとも1つのハウジングを含む。図示のとおり、結晶オーブン302は、その中に形成された少なくとも第1のチャンバ304を含む。結晶オーブン302は、第1の壁306と、第2の壁308と、第1の壁306を第2の壁308に連結するトラフ部分310とによって画定された、ほぼ「U」字型の構成を有する。他の構成および形状を使用することもできる。結晶オーブン302は、第1のチャンバ304に隣接して配された第2のチャンバ305を含み得る。図示のとおり、第2のチャンバ305は、結晶オーブン302のトラフ部分310に形成され、第1のチャンバ304は、第1の壁306と第2の壁308との間に画定されている。
ある態様では、少なくとも1つのオーブン蓋307が、第1のチャンバ304の少なくとも一部を囲むように構成され得る。一例として、オーブン蓋307は、結晶オーブン302の第1の壁306および第2の壁308のうちの1つ以上に連結され得る。例示されるように、1つ以上のカプラー318(例えばボルト)が、オーブン蓋307を通って延び、結晶オーブン302、例えば第2の壁308に固定され得る。さらなる例として、1つ以上のガスケット320(例えばワッシャ、シールなど)が、カプラー318の少なくとも一部とオーブン蓋307との間に配され得る。
少なくとも1つの非線形結晶312が、第1のチャンバ304の中に配され得る。非線形結晶312は、第1の波長の入射光を変換して、少なくとも第2の波長の少なくとも1つの出力信号を生成することが可能であってよい。一例として、非線形結晶312は、第2の高調波発生結晶、第3の高調波発生結晶、第4の高調波発生結晶、和周波結晶(sum frequency crystal)などといった高調波発生結晶を含み得る。バネなどの少なくとも1つの付勢要素313が、非線形結晶312に隣接して配されて、付勢力を非線形結晶312に提供することができる。一例として、付勢要素313は、非線形結晶312と第2の壁308との間に配されて、非線形結晶312を第1の壁306に向かって付勢することができる。ある態様では、付勢要素313は、オーブン蓋307に形成された空洞322内に延びてよく、この空洞322は、オーブン蓋307が結晶オーブン302に連結されている間、第1のチャンバ304の一部と整列され得る。他の構成を使用することもできる。
少なくとも1つの形状記憶合金(SMA)要素314が、非線形結晶312に隣接して配され得る。図示のとおり、SMA要素314は、第2のチャンバ305の中に配され得る。SMA要素314の一部は、SMA要素314の動きが非線形結晶312の動きを引き起こし得るように、非線形結晶312に当接し得る。SMA要素314は、コイル形状を有して示されており、圧力バネとして動作するように構成されている。しかしながら、他の形状および大きさを使用することもできる。例えば、SMA要素314は、コイルバネなどの付勢要素の対向する付勢に対して非線形結晶312を付勢する板バネ(例えば、湾曲したシート)として構成され得る。したがって、SMA要素314は、形状を変化させて、コイルバネに対する多少の付勢を与え、それにより、それらの間に配される非線形結晶312の位置を制御することができる。
動作中、電圧(または熱)がSMA要素314に加えられて、SMA要素314の形状変化(例えば、拡張、伸長、狭窄など)を引き起こすことができる。SMA要素314が形状を変化させると、非線形結晶312が動かされる。図7〜図8に示す実施例では、SMA要素314の拡張により、非線形結晶312が第1の(下)端部311から遠ざかり、付勢要素313と第1の壁306との間の摩擦を克服する。SMA要素314の拡張の制御により、脱ガス有機物を有する従来のアクチュエータを必要とせずに、非線形結晶312の位置シフトが可能となり得る。
図9〜図10は、外側ハウジング401と、結晶オーブンまたは温度制御機構などの少なくとも1つの内側ハウジング402と、を含む結晶シフター400の別の実施形態を示す。内側ハウジング402は、外側ハウジング401内部に配されている。内側ハウジング402は、外側ハウジング401によって画定された空洞405内部を可動であってよい。一例として、1つ以上の付勢要素403(例えば、引きバネ、テンション装置など)が、内側ハウジング402と外側ハウジング401との間に連結されて、外側ハウジング401に対する内側ハウジング402の動きを抑止することができる。
少なくとも1つのピストン422が、外側ハウジング401の空洞405の中に配され得、また、内側ハウジング402に選択的に当接するように構成され得る。ピストン422は、ピストンヘッド424およびピストン本体426を含み得る。ピストン本体426は、押しバネ427であるか、または押しバネ427を含んでよく、外側ハウジング401に当接して、ピストンヘッド424を内側ハウジング402に対して付勢し、内側ハウジング402の運動を制限または阻害するように構成され得る。ピストン本体426は、少なくとも第1の形状記憶合金(SMA)要素414も含み得る。第1のSMA要素414は、ほぼ線形の形状を有して示されている。しかしながら、他の形状および大きさを使用することもできる。例えば、第1のSMA要素414は、一端部が外側ハウジング401に連結され、反対側の端部がピストンヘッド424に連結されていてよい。特定の電圧を第1のSMA要素414に加えることによって、第1のSMA要素414が加熱され、収縮し、ピストンヘッド424を持ち上げ、それによって、内側ハウジング402を外側ハウジング401に対して動かすことができる。
図示のとおり、内側ハウジング402は、その中に形成された少なくとも第1のチャンバ404を含む。内側ハウジング402は、第1の壁406と、第2の壁408と、第1の壁406を第2の壁408に連結するトラフ部分410とによって画定された、ほぼ「U」字型の構成を有する。他の構成および形状を使用することもできる。ある態様では、オーブン蓋407が、第1のチャンバ404の少なくとも一部を囲むように構成され得る。一例として、オーブン蓋407は、内側ハウジング402の第1の壁406および第2の壁408のうちの1つ以上に連結され得る。
少なくとも1つの非線形結晶412が、第1のチャンバ404の中に配され得る。非線形結晶412は、入射光の少なくとも一部の波長を変換することが可能であってよい。一例として、非線形結晶412は、第2の高調波発生結晶、第3の高調波発生結晶、第4の高調波発生結晶、和周波結晶などとして構成され得る。バネなどの少なくとも1つの付勢要素413が、非線形結晶412に隣接して配されて、付勢力を非線形結晶412に提供することができる。一例として、付勢要素413は、非線形結晶412と第1の壁406との間に配されて、非線形結晶412を第2の壁408に向かって付勢することができる。他の構成を使用することもできる。
内側ハウジング402の第2の壁408の外表面415が、1つ以上のタペット417によって係合されるように構成された1つ以上のスライド特徴部416を含み得る。図示のとおり、スライド特徴部416は、鋸歯形状を有する。しかしながら、他の形状を使用することもできる。第2の壁408の外表面415は、外側ハウジング401の内表面418に隣接して配され、内表面418にスライド可能に係合するように構成され得る。タペット417は、スライド特徴部416に隣接して配されてよく、それによって、タペット417は、スライド特徴部416にスライド可能に係合し得る。第2のSMA要素419が、タペット417および外側ハウジング401に連結され得る。引きバネなどの少なくとも1つの付勢要素420が、タペット417および外側ハウジング401に連結されて、第2のSMA要素419に対する付勢を提供することができる。特定の電圧を第2のSMA要素419に加えることによって、第2のSMA要素419は加熱され、収縮し、タペット417を動かす。タペット417は、スライド特徴部416に係合して、内側ハウジング402を動かす。第1のSMA要素414に加えられた電圧を除去することによって、ピストン422は、内側ハウジング402に対して付勢されて、内側ハウジング402を所定の位置に固定する。第2のSMA要素419に加えられた電圧を除去することによって、タペット417は、スライド特徴部416の鋸歯状外形により、付勢要素420に向かって付勢される。反復により、内側ハウジング402は、他の位置にシフトされ得る。SMAアクチュエータおよび反力バネ(counterforce springs)のさまざまな組み合わせが、内側ハウジング402のさらなる制御をもたらすのに使用され得る。さらに、内側ハウジング402は、本明細書に記載されるような、結晶オーブン102、202、302と同じように構成され得る。
図11〜図14は、第1のシフト器具501および少なくとも第2のシフト器具502を含む結晶シフター500の別の実施形態を示す。第1のシフト器具501は、ハウジング503と、ハウジングの中に配された1つ以上のSMA要素504と、を含み得る。SMA要素504は、複数のプランジャ505、例えばセラミックプランジャによって、ハウジング503から、また互いから、熱的および電気的に絶縁され得る。スペーサおよびプレートなど、他の要素が、SMA要素504を絶縁するのに使用されてもよい。このような絶縁要素は、ガラス、無機材料、および/または他の絶縁材料を含み得る。プランジャ505のうちの1つは、ハウジング503の外側に延びてよく、また少なくとも1つのスライダ512に係合して、ベースプレート506に対するスライダ512の運動を引き起こすことができ、これによって、スライダ512およびベースプレート506は、並進ステージ(translation stage)の少なくとも一部を形成する。
動作中、SMA要素504のうちの1つ以上が、外部加熱器によって、または、特定の電圧および電流をSMA要素504に加えることによって、加熱され得る。一例として、拡張距離「x」は、SMA要素504のうちの第1のSMA要素が、「x」mm(例えば0.5mm)だけシフトし、SMA要素504のうちの第2のSMA要素が、2x mm(例えば1mm)だけシフトし、SMA要素504のうちの第3のSMA要素が、4x mm(例えば2mm)だけシフトするなどとなるように、機械的に制限され得る。さらなる例として、第1のシフト器具501は、第nのSMA要素について2(n−1)xというシフト公式(shift formula)に従い、SMA要素504の数「n」に基づいてシフトするように構成され得る。すべてのSMA要素504が一緒になって、0mm〜(2−1)x mmの2個のステップを可能にすることができ、nはアクチュエータの数であり、xはステップの大きさである(例えば、0.5mmステップで、0mm〜7.5mm)。他の構成を使用することもできる。
第2のシフト器具502は、ハウジング507と、ハウジングの中に配された1つ以上のSMA要素508と、を含み得る。SMA要素508は、複数のプランジャ509、例えばセラミックプランジャによって、ハウジング507のベースから、また互いから熱的および電気的に絶縁され得る。スペーサおよびプレートなど、他の要素が、SMA要素508を絶縁するのに使用されてもよい。プランジャ509のうちの1つは、ハウジング507の外側に延びてよく、またスライダ512に係合して、第1のシフト器具501のプランジャ505により引き起こされる運動への対抗運動としてベースプレート506に対するスライダ512の運動を引き起こすことができる。
動作中、SMA要素508のうちの1つ以上が、外部加熱器によって、または、特定の電圧および電流をSMA要素508に加えることによって、加熱され得る。一例として、拡張距離「x」は、SMA要素508のうちの第1のSMA要素が、「x」mm(例えば0.5mm)だけシフトし、SMA要素508のうちの第2のSMA要素が、2x mm(例えば1mm)だけシフトし、SMA要素508のうちの第3のSMA要素が、4x mm(例えば2mm)だけシフトするなどとなるように、機械的に制限され得る。さらなる例として、第2のシフト器具502は、2(n−1)x mmというシフト公式に従い、SMA要素508の数「n」に基づいてシフトするように構成され得る。すべてのSMA要素508が一緒になって、0mm〜(2−1)x mmの2個のステップを可能にすることができ、nはアクチュエータの数であり、xはステップの大きさである(例えば、0.5mmステップで、0mm〜7.5mm)。一例として、シフト器具501は、0.5mmステップで0.5mm〜7.5mmの位置を設定し、シフト器具502は、任意の位置から0mmの位置を設定する(ゼロに合わせる(zeroing))ように構成され得る。しかしながら、他の構成を使用することもできる。したがって、SMA要素504、508は、双方向に段階的シフトを制御するために、選択的に作動され得る。他の構成を使用することもできる。さらに、プランジャ505、509は、光学要素が配されたスライダ512に係合するように構成され得る。したがって、スライダ512の動きは、非線形結晶などの光学要素の動きを生じる。さらなる例として、スライダ512上に配された光学要素は、二次元の結晶シフトを容易にするため、結晶シフター100、200、300に類似の1つ以上の結晶シフターであるか、またはそれを含むことができる。
〔産業上の利用可能性〕
本開示は、レーザー光の少なくとも一部の波長変換(周波数変換)を引き起こすために光学要素(例えば非線形結晶)を用いるレーザーシステムに適用可能である。具体的には、本明細書に開示される結晶シフター100、200、300、400、500は、1つ以上の光学要素を支持し位置づけるのに使用され得る。特に、本明細書に開示される結晶シフター100、200、300、400、500は、無機の非脱ガス材料を含み、よって、非線形結晶に近接して使用され得る、SMAアクチュエータを含み得る。SMAアクチュエータは、強い力を加え、あまり空間を必要としない、強力なアクチュエータである。SMAアクチュエータは、外部熱源によって、または電圧および電流をアクチュエータのSMA要素に加えることによって、加熱され得る。さらに、SMAアクチュエータを用いる結晶シフターは、低コストであってよい。結晶シフターという用語は、本明細書では、さまざまなシフト器具に言及する(reference)ために使用されているが、他の光学要素が同じように支持され位置づけられ得ることが、理解される。このような光学要素は、光学材料(例えば結晶、周期分極材料(例えば、周期分極ニオブ酸リチウム)および/または、導波管、光学レンズ、ミラー、グレーティング、導波管、減衰器、フィルタ、非線形光学材料、光学結晶、ビームスプリッタ、バルク光学材料、利得媒質および装置、検出器などを含むがこれらに制限されない、光学構成要素、もしくは装置を含み得る。
前記の説明は、開示されたシステムおよび技術の実施例を提供することが、認識されるであろう。しかしながら、開示の他の実施は、前述した実施例と詳細が異なっていてよいことが、企図されている。開示またはその実施例に対するすべての言及は、その時点で論じられている特定の実施例に言及することが意図されており、より広く本開示の範囲に関して何らかの制限を示唆することは意図していない。ある特徴に関する区別および軽視的(disparagement)な語はすべて、それらの特徴に優先性がないことを意図しているが、別段の指示がない限り本開示の範囲から完全にそれらを排除するものではない。
本明細書における値の範囲の記載は、本明細書中に別段の指示がない限り、その範囲に該当するそれぞれの別個の値に個々に言及する省略表現法として役立つことが単に意図されており、それぞれの別個の値は、本明細書に個々に記載されたかのように明細書に組み込まれる。本明細書に記載した方法はすべて、本明細書中に別段の指示がない限り、または別様に文脈が明らかに矛盾していない限り、任意の適切な順序で実施され得る。
〔実施の態様〕
(1) システムにおいて、
内部に形成されたチャンバを有するハウジングと、
前記チャンバの中に配された少なくとも1つの光学要素であって、前記光学要素は、少なくとも1つの入射信号を受け取り、前記入射信号の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、光学要素と、
少なくとも1つの形状記憶合金要素であって、前記形状記憶合金に加えられた熱または電気エネルギーが前記光学要素の動きを引き起こすように配されている、形状記憶合金要素と、
を含む、システム。
(2) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記ハウジングは、前記光学要素の熱環境を制御するように構成された結晶オーブンである、システム。
(3) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記形状記憶合金要素は、立方形またはコイルの形状を有する、システム。
(4) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記光学要素と前記チャンバの少なくとも一部を画定する壁との間に配された少なくとも1つの付勢要素をさらに含む、システム。
(5) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記チャンバの中またはそれに隣接して温度を測定するように構成された少なくとも1つのセンサをさらに含む、システム。
(6) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記光学要素と前記ハウジングの一部との間に配された少なくとも1つの付勢装置をさらに含み、
前記付勢装置は、前記形状記憶合金要素に連結されて、前記形状記憶合金要素と前記光学要素との間に機械的連絡をもたらす、システム。
(7) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記チャンバに隣接して配された位置付け本体をさらに含み、
前記形状記憶合金要素は、前記位置付け本体の一部に当接する、システム。
(8) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記チャンバの少なくとも一部を囲むように構成されたオーブン蓋をさらに含む、システム。
(9) 実施態様1に記載のシステムにおいて、
前記形状記憶合金要素は、前記ハウジングの中に形成された第2のチャンバの中に配されている、システム。
(10) システムにおいて、
第1のチャンバを画定する外側ハウジングと、
前記第1のチャンバの中に配され、第2のチャンバを画定する内側ハウジングと、
前記第2のチャンバの中に配された少なくとも1つの非線形結晶であって、入射光を受け取り、前記入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、
前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを制限するために、前記外側ハウジングと前記内側ハウジングとの間に配された少なくとも1つのピストンであって、前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを可能にするために作動されるように構成されている、ピストンと、
前記内側ハウジングと機械的に接触している少なくとも1つの形状記憶合金要素であって、前記形状記憶合金に加えられた熱または電気エネルギーが、前記内側ハウジングの動きを引き起こす、形状記憶合金要素と、
を含む、システム。
(11) 実施態様10に記載のシステムにおいて、
前記内側ハウジングは、前記非線形結晶の熱環境を制御するように構成された結晶オーブンである、システム。
(12) 実施態様10に記載のシステムにおいて、
前記ピストンは、ピストンヘッドに連結されたピストン本体を含み、
前記ピストン本体の少なくとも一部が、形状記憶合金から形成されている、システム。
(13) 実施態様12に記載のシステムにおいて、
前記ピストン本体は、前記ピストンヘッドを前記内側ハウジングに向かって付勢するように構成されたバネを含む、システム。
(14) 実施態様10に記載のシステムにおいて、
前記内側ハウジングの表面は、タペットによって係合されるように構成された少なくとも1つのスライド特徴部を含み、
前記タペットは、前記形状記憶合金要素と前記内側ハウジングとの間の機械的接触を容易にする、システム。
(15) 実施態様14に記載のシステムにおいて、
スライド特徴部は、鋸歯形状を有する、システム。
(16) システムにおいて、
ハウジングを有する第1のシフト器具と、
前記第1のシフト器具の前記ハウジングの中に配された1つ以上の第1の形状記憶合金要素と、
前記1つ以上の第1の形状記憶合金要素と機械的に連絡している少なくとも1つの第1のプランジャと、
少なくとも1つの並進ステージ上に配された少なくとも1つの非線形結晶であって、前記並進ステージは、前記第1のプランジャによって係合されて前記非線形結晶を動かすように構成されており、前記非線形結晶は、入射光を受け取り、前記入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、
を含む、システム。
(17) 実施態様16に記載のシステムにおいて、
前記1つ以上の第1の形状記憶合金要素は、前記第1のシフト器具の前記ハウジングから熱的および電気的に絶縁されている、システム。
(18) 実施態様16に記載のシステムにおいて、
前記プランジャは、セラミックから形成されている、システム。
(19) 実施態様16に記載のシステムにおいて、
ハウジングを有する第2のシフト器具と、
前記第2のシフト器具の前記ハウジングの中に配された1つ以上の第2の形状記憶合金要素と、
前記1つ以上の第2の形状記憶合金要素と機械的に接触している第2のプランジャであって、前記第2のプランジャは、前記並進ステージに係合するように構成されている、第2のプランジャと、
をさらに含む、システム。
(20) 実施態様19に記載のシステムにおいて、
前記第1のプランジャは、前記第2のプランジャの動く方向に対向するように構成されている、システム。
非線形結晶と共に示された、本開示のある態様による、結晶シフターの断面図である。 非線形結晶と共に示された、図1の結晶シフターの斜視図である。 非線形結晶なしで示された、図1の結晶シフターの断面図である。 非線形結晶なしで示された、図1の結晶シフターの斜視図である。 本開示の別の態様による、結晶シフターの斜視図である。 図5の結晶シフターの断面図である。 本開示の別の態様による、結晶シフターの断面図である。 図7の結晶シフターの斜視図である。 本開示の別の態様による、結晶シフターの概略図である。 図9の結晶シフターのピストンの拡大図である。 第1の位置で示された、本開示の別の態様による、結晶シフターの断面図である。 第1の位置で示された、図11の結晶シフターの斜視図である。 第2の位置で示された、図11の結晶シフターの断面図である。 第2の位置で示された、図11の結晶シフターの斜視図である。

Claims (11)

  1. システムにおいて、
    第1のチャンバを画定する外側ハウジングと、
    前記第1のチャンバの中に配され、第2のチャンバを画定する内側ハウジングと、
    前記第2のチャンバの中に配された少なくとも1つの非線形結晶であって、入射光を受け取り、前記入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、
    前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを制限するために、前記外側ハウジングと前記内側ハウジングとの間に配された少なくとも1つのピストンであって、前記外側ハウジングに対する前記内側ハウジングの動きを可能にするために作動されるように構成されている、ピストンと、
    前記内側ハウジングと機械的に接触している少なくとも1つの形状記憶合金要素であって、前記形状記憶合金要素に加えられた熱または電気エネルギーが、前記内側ハウジングの動きを引き起こす、形状記憶合金要素と、
    を含む、システム。
  2. 請求項1に記載のシステムにおいて、
    前記内側ハウジングは、前記非線形結晶の熱環境を制御するように構成された結晶オーブンである、システム。
  3. 請求項1に記載のシステムにおいて、
    前記ピストンは、ピストンヘッドに連結されたピストン本体を含み、
    前記ピストン本体の少なくとも一部が、形状記憶合金から形成されている、システム。
  4. 請求項3に記載のシステムにおいて、
    前記ピストン本体は、前記ピストンヘッドを前記内側ハウジングに向かって付勢するように構成されたバネを含む、システム。
  5. 請求項1に記載のシステムにおいて、
    前記内側ハウジングの表面は、タペットによって係合されるように構成された少なくとも1つのスライド特徴部を含み、
    前記タペットは、前記形状記憶合金要素と前記内側ハウジングとの間の機械的接触を容易にする、システム。
  6. 請求項5に記載のシステムにおいて、
    前記スライド特徴部は、鋸歯形状を有する、システム。
  7. システムにおいて、
    ハウジングを有する第1のシフト器具と、
    前記第1のシフト器具の前記ハウジングの中に配された1つ以上の第1の形状記憶合金要素と、
    前記1つ以上の第1の形状記憶合金要素と機械的に連絡している少なくとも1つの第1のプランジャと、
    少なくとも1つの並進ステージ上に配された少なくとも1つの非線形結晶であって、前記並進ステージは、前記第1のプランジャによって係合されて前記非線形結晶を動かすように構成されており、前記非線形結晶は、入射光を受け取り、前記入射光の少なくとも一部の波長を変換するように構成されている、非線形結晶と、
    を含む、システム。
  8. 請求項7に記載のシステムにおいて、
    前記1つ以上の第1の形状記憶合金要素は、前記第1のシフト器具の前記ハウジングから熱的および電気的に絶縁されている、システム。
  9. 請求項7に記載のシステムにおいて、
    前記プランジャは、セラミックから形成されている、システム。
  10. 請求項7に記載のシステムにおいて、
    ハウジングを有する第2のシフト器具と、
    前記第2のシフト器具の前記ハウジングの中に配された1つ以上の第2の形状記憶合金要素と、
    前記1つ以上の第2の形状記憶合金要素と機械的に接触している第2のプランジャであって、前記第2のプランジャは、前記並進ステージに係合するように構成されている、第2のプランジャと、
    をさらに含む、システム。
  11. 請求項10に記載のシステムにおいて、
    前記第1のプランジャは、前記第2のプランジャの動く方向に対向するように構成されている、システム。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04330426A (ja) * 1991-03-01 1992-11-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光波長変換装置
JP2005122094A (ja) * 2003-09-26 2005-05-12 Mitsubishi Electric Corp 波長変換レーザ装置
US20070091943A1 (en) * 2005-10-20 2007-04-26 Brocklin Andrew L V Light source module
JP2008250308A (ja) * 2007-03-07 2008-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高調波発生装置、及びそれを用いた画像表示装置
WO2011032294A1 (en) * 2009-09-21 2011-03-24 Phasoptx Inc. Q-switched dfb fiber laser with switchable polarization output
US20140268307A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Quantel USA, Inc. Apparatus for facilitating micro-rotational calibration for an nlo crystal enabled laser system
JP2015155933A (ja) * 2014-02-19 2015-08-27 スペクトロニクス株式会社 波長変換装置、収容容器及び位相整合方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0768941B2 (ja) * 1987-10-12 1995-07-26 富士電機株式会社 アクチュエータ
JPH02101077U (ja) * 1989-01-30 1990-08-10
JP2000110709A (ja) * 1998-10-01 2000-04-18 Seiko Epson Corp アクチュエータ及びこれを備えた駆動システム
JP3885183B2 (ja) * 2000-01-17 2007-02-21 独立行政法人産業技術総合研究所 光学装置、光学装置の調整方法、およびその調整方法で実行する処理プログラムを記録した記録媒体
JP2004022946A (ja) * 2002-06-19 2004-01-22 Yaskawa Electric Corp 高調波レーザ装置およびレーザ波長変換方法
KR100826436B1 (ko) * 2006-11-03 2008-04-29 삼성전기주식회사 파장변환 레이저 장치

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04330426A (ja) * 1991-03-01 1992-11-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光波長変換装置
JP2005122094A (ja) * 2003-09-26 2005-05-12 Mitsubishi Electric Corp 波長変換レーザ装置
US20070091943A1 (en) * 2005-10-20 2007-04-26 Brocklin Andrew L V Light source module
JP2008250308A (ja) * 2007-03-07 2008-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高調波発生装置、及びそれを用いた画像表示装置
WO2011032294A1 (en) * 2009-09-21 2011-03-24 Phasoptx Inc. Q-switched dfb fiber laser with switchable polarization output
US20140268307A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Quantel USA, Inc. Apparatus for facilitating micro-rotational calibration for an nlo crystal enabled laser system
JP2015155933A (ja) * 2014-02-19 2015-08-27 スペクトロニクス株式会社 波長変換装置、収容容器及び位相整合方法

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