JP2020092104A - 光学部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】形状の異なる複数の凹部が形成された光学部材を効率よく製造することのできる光学部材の製造方法を提供すること。【解決手段】第1工程ST1において基材11上に第1マスク26を形成した後、第2工程ST2において基材11上に第2マスク27を形成する。第3工程ST3では、第1マスク26に第1開口部260を形成し、第2マスク27に第2開口部270を形成する。第4工程ST4では、第1開口部260および第2開口部270を介して基材11にウェットエッチングを行い、第1凹部16および第2凹部17を形成する。第4工程ST4における第1マスク26に対するエッチングレートが第2マスク27に対するエッチングレートと異なるため、第1凹部16および第2凹部17では側面の傾斜角度が異なる。【選択図】図4
Description
本発明は、光の拡散作用を備えた光学部材の製造方法に関するものである。
光の拡散作用を備えた光学部材は、マスクの開口部から基材にエッチングを行って拡散用の凹部を複数、形成する。この場合、複数の凹部において、側面の傾斜角度が一定となるため、光学部材からの出射角度と光強度との関係において、半値幅が狭いピークが出現してしまう。すなわち、光学部材からの出射光は、特定の角度を中心に強くなってしまう。
そこで、基材に対してエッチングを複数回行うことによって、複数の凹部において側面の傾斜角度等を相違させることが提案されている(特許文献1参照)。より具体的には、特許文献1に記載の技術では、1回目のエッチングによって深さの異なる複数の凹部をエッチングした後、2回目のエッチングによって複数の凹部の形状をレンズ形状とする。
しかしながら、特許文献1に記載の技術のように、基材に対してエッチングを複数回行うことにより、形状の異なる複数の凹部を形成する方法では生産効率が低いという課題がある。
上記課題を解決するために、本発明の光学部材の製造方法では、基材上に第1マスクを形成する第1工程と、前記基材上の前記第1マスクが形成された領域と異なる領域に第2マスクを形成する第2工程と、前記第1マスクのうち、前記第2マスクが形成されていない領域に第1開口部を形成し、前記第2マスクのうち、前記第1マスクが形成されていない領域に第2開口部を形成する第3工程と、前記第1開口部および前記第2開口部を介して前記基材をエッチングする第4工程と、を備え、前記第4工程における前記第1マスクに対するエッチングレートが前記第2マスクに対するエッチングレートと異なることを特徴とする。
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
(光学部材10の構成)
図1は、本発明が適用される光学部材10の一態様の断面図である。図2は、本発明の参考例に係る光学部材の拡散特性を示す説明図である。図3は、図1に示す光学部材10の拡散特性を示す説明図である。
図1は、本発明が適用される光学部材10の一態様の断面図である。図2は、本発明の参考例に係る光学部材の拡散特性を示す説明図である。図3は、図1に示す光学部材10の拡散特性を示す説明図である。
図1に示す光学部材10は、基材11の一方面11sに複数の第1凹部16と複数の第2凹部17とが形成されており、第1凹部16および第2凹部17はレンズとして機能する。複数の第1凹部16および複数の第2凹部17は、例えば、基材11の一方面11sの略全面に略等密度で分布するように形成されている。基材11は、石英基板またはガラス基板等の透光性基板である。また、光学部材10では、基材11の一方面11sに、基材11と屈折率が異なる透光膜(図示せず)を形成した後、平坦化し、第1凹部16および第2凹部17に透光膜を充填した態様とすることもある。
本形態において、複数の第1凹部16は各々、第1底部160と、第1底部160の端部161と第1開口縁162とを繋ぐ第1側面163とを備えている。複数の第2凹部17は各々、第2底部170と、第2底部170の端部171と第2開口縁172とを繋ぐ第2側面173とを備えている。
図1には、本願発明の特徴が分かりやすいように、第1底部160、第2底部170、第1側面163および第2側面173を平面として示してある。但し、第1底部160および第2底部170は各々、平面として構成される場合がある他、凹曲面として構成される場合がある。また、第1底部160および第2底部170は、一点鎖線で示すように、略全体が凹曲面であるが、中央部分が平面となっている場合もある。第1側面163および第2側面173は各々、平面として構成される場合がある他、一点鎖線で示すように、凹曲面として構成される場合がある。
複数の第1凹部16において、第1側面163が基材11の一方面11sと成す角度θ1(第1側面163の傾斜角度)は同一である。複数の第2凹部17において、第2側面173が基材11の一方面11sと成す角度θ2(第2側面173の傾斜角度)は同一である。これに対して、角度θ1と角度θ2とは異なる。本形態において、角度θ1は、角度θ2より大きい。
かかる光学部材10に対し、例えば、一方面11s側から平行光を入射させると、光は、複数の第1凹部16および複数の第2凹部17によって拡散されて他方面11t側から出射される。その際、第1凹部16からは、角度θ1に対応する拡散特性の光が出射され、第2凹部17からは、角度θ2に対応する拡散特性の光が出射される。
従って、凹部の側面が基材11の一方面11sと成す角度(側面の傾斜角度)が全ての凹部において同一であると、図2に模式的に示すように、光学部材からの出射角度と光強度との関係を示す拡散特性において、半値幅が狭いピークが出現してしまう。すなわち、光学部材からの出射光は、特定の角度を中心に強くなってしまう。
これに対して、本形態のように、凹部の側面が基材11の一方面11sと成す角度(側面の傾斜角度)が複数の凹部において異なっていると、各凹部から出射される光が合成される結果、図3に模式的に示すように、光学部材10からの出射角度と光強度との関係を示す拡散特性において、半値幅が広いピークが出現することになる。すなわち、光学部材10からの出射光は、広い角度範囲において強い光を出射することができる。
(光学部材の製造方法)
図4は、図1に示す光学部材10の製造方法を示す工程断面図である。図1に示す光学部材10の製造工程では、まず、図4に示す第1工程ST1において、基材11上に第1マスク26を形成する。次に、第2工程ST2において、基材11上の第1マスク26が形成された領域と異なる領域に第2マスク27を形成する。例えば、第1工程ST1では、第1マスク26を構成する膜を成膜した後、パターニングし、第1マスク26を形成する。次に、第2工程ST2では、第2マスク27を構成する膜を成膜した後、パターニングし、第2マスク27を形成する。本形態において、第1マスク26と第2マスク27とは部分的に重なっている。
図4は、図1に示す光学部材10の製造方法を示す工程断面図である。図1に示す光学部材10の製造工程では、まず、図4に示す第1工程ST1において、基材11上に第1マスク26を形成する。次に、第2工程ST2において、基材11上の第1マスク26が形成された領域と異なる領域に第2マスク27を形成する。例えば、第1工程ST1では、第1マスク26を構成する膜を成膜した後、パターニングし、第1マスク26を形成する。次に、第2工程ST2では、第2マスク27を構成する膜を成膜した後、パターニングし、第2マスク27を形成する。本形態において、第1マスク26と第2マスク27とは部分的に重なっている。
本形態では、後述する第4工程ST4でのエッチングの際の基材11に対するエッチングレートは、第1マスク26に対するエッチングレート、および第2マスク27に対するエッチングレートと異なっている。例えば、第1マスク26および第2マスク27は、例えば、ボロン−リン含有シリケートガラス、酸窒化シリコン、300℃以下の条件で成膜した酸化シリコン等からなり、エッチングレートが高い。従って、後述する第4工程ST4でのエッチングの際の基材11に対するエッチングレートは、第1マスク26に対するエッチングレート、および第2マスク27に対するエッチングレートより低い。
次に、第3工程ST3では、第1マスク26のうち、第2マスク27が形成されていない領域に第1開口部260を形成し、第2マスク27のうち、第1マスク26が形成されていない領域に第2開口部270を形成する。本形態において、第3工程ST3では、ハードマスク形成工程ST31において、第1マスク26および第2マスク27を覆うハードマスク30を形成する。ハードマスク30には、第1開口部260を形成すべき位置に第1貫通穴36が形成され、第2開口部270を形成すべき位置に第2貫通穴37が形成されている。従って、エッチング工程ST32において、第1貫通穴36および第2貫通穴37から第1マスク26および第2マスク27に例えばドライエッチングを行い、第1開口部260および第2開口部270を形成する。
次に、第4工程ST4では、第1開口部260および第2開口部270を介して基材11をエッチングする。その際、ふっ酸を含有するエッチング液を用いたウェットエッチングを利用して、等方性エッチングを行う。その結果、第1開口部260に対応する領域には、第1凹部16が形成され、第2開口部270に対応する領域に第2凹部17が形成される。
ここで、第4工程ST4における第1マスク26に対するエッチングレートが第2マスク27に対するエッチングレートと相違している。本形態では、第4工程ST4における第1マスク26に対するエッチングレートが第2マスク27に対するエッチングレートより低い。例えば、第1マスク26および第2マスク27を300℃以下の条件で成膜した酸化シリコンによって構成する場合、第1マスク26の形成する際の成膜温度を、第2マスク27を形成する際の成膜温度より高くする。従って、第1マスク26は、第2マスク27よりエッチングレートが低くなる。また、第1マスク26および第2マスク27のうち、先に形成する第1マスク26を高い温度で成膜するため、第2マスク27は、高い温度に晒されない。従って、第2マスク27が第1マスク26よりエッチングレートが高い状態を維持することができる。
このような条件下で第4工程ST4を行うと、第1凹部16において第1側面163が基材11の一方面11sと成す角度θ1は、第2凹部17において、第2側面173が基材11の一方面11sと成す角度θ2より大きくなる。
すなわち、第4工程ST4においてエッチングを開始すると、基材11の一方面11sが第1開口部260および第2開口部270から深さ方向にエッチングされるとともに、第1マスク26および第2マスク27が横方向にエッチングされる結果、エッチング中、第1凹部16および第2凹部17の開口径が時間経過とともに拡大する。
ここで、第1開口部260から基材11の一方面11sが深さ方向にエッチングされる速度をv1とし、第2開口部270から基材11の一方面11sが深さ方向にエッチングされる速度をv2とし、第1マスク26が横方向にエッチングされる速度をh1とし、第2マスク27が横方向にエッチングされる速度をh2とすると、速度v1、v2、h1、h2は以下の関係にある。
v1=v2
h1<h2
v1=v2
h1<h2
また、第4工程ST4における基材11に対するエッチング深さは、第1マスク26の厚さ、および第2マスク27の厚さより大きい。例えば、第1マスク26の厚さ、および第2マスク27の厚さは、50nm程度であるのに対し、第4工程ST4における基材11に対するエッチング深さは0.5〜1.5μm程度である。従って、第1マスク26および第2マスク27が厚さ方向にエッチングされるのに要する時間を無視することができる。また、第4工程ST4における基材11に対するエッチングレートは、第1マスク26に対するエッチングレート、および第2マスク27に対するエッチングレートより低いため、第4工程ST4において、第1マスク26および第2マスク27が厚さ方向にエッチングされるのに要する時間を無視することができる。
それ故、第1凹部16において第1側面163が基材11の一方面11sと成す度θ1、および第2凹部17において第2側面173が基材11の一方面11sと成す角度θ2は、以下のように近似される。
θ1≒tan(v1/h1)
θ2≒tan(v2/h2)
θ1≒tan(v1/h1)
θ2≒tan(v2/h2)
よって、角度θ1は、第1開口部260および第2開口部270の開口径にかかわらず、角度θ2より大きくなる。
しかる後に、第1マスク26、第2マスク27およびハードマスク30を除去すると、図1に示す光学部材10が得られる。
このように、本形態では、第4工程ST4において、第1マスク26の第1開口部260、および第2マスク27の第2開口部270から同時に基材11をエッチングして第1凹部16および第2凹部17を形成する際、第1マスク26および第2マスク27に対する横方向のエッチング速度の差を利用して、第1凹部16と第2凹部17とにおいて、側面と基材11の一方面11sとが成す角度を異ならせる。従って、基材11に対する1回のエッチングによって側面と基材11の一方面11sとが成す角度が異なる凹部を形成できるので、光学部材10を効率よく形成することができる。なお、本形態では2つのマスクを用いて説明したが、3つ以上のマスクを用いて3つ以上の異なる形状の凹部を形成することも可能である。
[投射型表示装置への搭載例]
図5は、図1に示す光学部材10を備えた投射型表示装置100の説明図である。図5に示すように、投射型表示装置100は、レーザー光源111、112、113と、レンズ121、122、123と、光学部材131、132、133と、レンズ141、142、143と、透過型の電気光学装置151、152、153と、光路合成プリズム106と、投射光学系107とを有している。ここで、光学部材131、132、133は各々、本発明を適用した光学部材10である。電気光学装置151、152、153は、例えば、透過型液晶装置等の透過型電気光学装置である。
図5は、図1に示す光学部材10を備えた投射型表示装置100の説明図である。図5に示すように、投射型表示装置100は、レーザー光源111、112、113と、レンズ121、122、123と、光学部材131、132、133と、レンズ141、142、143と、透過型の電気光学装置151、152、153と、光路合成プリズム106と、投射光学系107とを有している。ここで、光学部材131、132、133は各々、本発明を適用した光学部材10である。電気光学装置151、152、153は、例えば、透過型液晶装置等の透過型電気光学装置である。
レーザー光源111は、例えば、赤色の波長域におけるレーザー光L(R)を出射する。レーザー光源111より出射されたレーザー光L(R)は、レンズ121によってレーザー光の発散角度が調整された後、光学部材131によって拡散される。次に、レーザー光L(R)は、レンズ141によって発散角度が調整された後、電気光学装置151を介して光路合成プリズム106に入射する。電気光学装置151では、画素ごとにレーザー光L(R)の透過および非透過の制御が行われ、赤色に対応する像が形成される。
レーザー光源112は、例えば、緑色の波長域におけるレーザー光L(G)を出射する。レーザー光源112より出射されたレーザー光L(G)は、レンズ122によってレーザー光の発散角度が調整された後、光学部材132によって拡散される。次に、レーザー光L(G)は、レンズ142によって発散角度が調整された後、電気光学装置152を介して光路合成プリズム106に入射する。電気光学装置152では、画素ごとにレーザー光L(G)の透過および非透過の制御が行われ、緑色に対応する像が形成される。
レーザー光源113は、例えば、青色の波長域におけるレーザー光L(B)を出射する。レーザー光源113より出射されたレーザー光L(B)は、レンズ123によってレーザー光の発散角度が調整された後、光学部材133によって拡散される。次に、レーザー光L(B)は、レンズ143によって発散角度が調整された後、電気光学装置153を介して光路合成プリズム106に入射する。電気光学装置153では、画素ごとにレーザー光L(B)の透過および非透過の制御が行われ、青色に対応する像が形成される。
光路合成プリズム106では、電気光学装置151で変調されたレーザー光L(R)、電気光学装置152で変調されたレーザー光L(G)、および電気光学装置153で変調されたレーザー光(B)が入射し、合波された後、出射される。光路合成プリズム106より合成されたレーザー光L(R)、L(G)、L(B)の光束は、投射光学系107を介して、スクリーン108に投射される。
図5に示す態様では、光学部材131、132、133が赤、緑、青のレーザー光L(R)、L(G)、L(B)の全てに設けられているが、いずれか1つのレーザー光に対して設けられた態様であってもよい。また、図5に示す態様では、赤、緑、および青のレーザー光源111、112、113を設けてあるが、少なくとも1つのレーザー光源を備えていればよい。また、電気光学装置151、152、153として透過型電気光学装置を用いたが、デジタルミラーデバイス等の反射型電気光学装置を用いてもよく、この場合、反射型電気光学装置に対する入射光路と反射光路とを合成する光路合成素子を設ける。
なお、本発明を適用した光学部材10は、投射型表示装置に限定されず、例えば、投射型のHUD(ヘッドアップディスプレイ)や直視型のHMD(ヘッドマウントディスプレイ)、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ等に用いてもよい。
10…光学部材、11…基材、11s…一方面、16…第1凹部、17…第2凹部、26…第1マスク、27…第2マスク、30…ハードマスク、36…第1貫通穴、37…第2貫通穴、100…投射型表示装置、160…第1底部、162…第1開口縁、163…第1側面、170…第2底部、172…第2開口縁、173…第2側面、260…第1開口部、270…第2開口部、ST1…第1工程、ST2…第2工程、ST3…第3工程、ST4…第4工程、ST31…ハードマスク形成工程、ST32…エッチング工程。
Claims (7)
- 基材上に第1マスクを形成する第1工程と、
前記基材上の前記第1マスクが形成された領域と異なる領域に第2マスクを形成する第2工程と、
前記第1マスクのうち、前記第2マスクが形成されていない領域に第1開口部を形成し、前記第2マスクのうち、前記第1マスクが形成されていない領域に第2開口部を形成する第3工程と、
前記第1開口部および前記第2開口部を介して前記基材をエッチングする第4工程と、
を備え、
前記第4工程における前記第1マスクに対するエッチングレートが前記第2マスクに対するエッチングレートと異なることを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項1に記載の光学部材の製造方法において、
前記第4工程における前記基材に対するエッチング深さは、前記第1マスクの厚さ、および前記第2マスクの厚さより大きいことを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項1または2に記載の光学部材の製造方法において、
前記第4工程における前記基材に対するエッチングレートが、前記第1マスクに対するエッチングレート、および前記第2マスクに対するエッチングレートと異なることを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項3に記載の光学部材の製造方法において、
前記第4工程における前記基材に対するエッチングレートが、前記第1マスクに対するエッチングレート、および前記第2マスクに対するエッチングレートより低いことを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項1から4までの何れか一項の光学部材の製造方法において、
前記第1マスクを形成する際の成膜温度が、前記第2マスクを形成する際の成膜温度より高く、
前記第4工程における前記第1マスクに対するエッチングレートが、前記第2マスクに対するエッチングレートより低いことを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項1から5までの何れか一項に記載の光学部材の製造方法において、
前記第4工程ではウェットエッチングを行うことを特徴とする光学部材の製造方法。 - 請求項1から6までの何れか一項に記載の光学部材の製造方法において、
前記基材は、透光性基板であることを特徴とする光学部材の製造方法。
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